JP6138607B2 - エポキシ樹脂及び該エポキシ樹脂の製造方法 - Google Patents

エポキシ樹脂及び該エポキシ樹脂の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、塩素含有量が少なく、高耐熱性、低吸湿性に優れたエポキシ樹脂、その製造方法に関するものであり、半導体封止材、プリント配線板等の電気電子分野の絶縁材料等に好適に使用される。
エポキシ樹脂は、耐熱性、電気特性、力学特性等に優れているため、各種の電気、電子部品用に使用されている。特に、トランジスター、IC、LSI、VLSI等の半導体素子の封止材料としては、大部分エポキシ樹脂が使用されている。近年半導体素子の高集積化に伴う配線の微細化により、配線の腐食がより起こり易くなり、その原因となる腐食性イオン、とりわけ塩素量を低減したエポキシ樹脂が望まれている。さらに、近年の半導体構成部材のトレンドとして半導体素子を電気的に接合するための金属線が従来より使用されてきた金線から銅線へ移行しつつある。金線と比較し銅線は化学的に不安定であることからエポキシ樹脂組成物に含まれる塩素が銅線の酸化の原因となり、半導体製品の耐湿信頼性を著しく低下させる事例が報告されている(例えば特許文献1)このため、全塩素を低減するための方法が多く提案されている。
例えば、特許文献2にはジフェニルエーテル構造を持ったエポキシ樹脂又はジフェニルスルフィド構造を有するエポキシ樹脂において、加水分解性塩素の含有量が少ない高純度低粘性エポキシ樹脂が提案されている。しかし、特許文献2に開示された方法においてはグリシジル基数が多く、加水分解性塩素及び全塩素を十分に低減することが不完全であった。また、特許文献3にはヒドロキシ化合物と、グリシジル基とビニルエーテル基を有する化合物との反応により得られることを特徴とするエポキシ基含有化合物が提案されているが、グリシジル基とビニルエーテル基を有する化合物はエピクロルヒドリンを原料として用いているため(例えば特許文献4)、加水分解性塩素及び全塩素を低減することが困難であった。
特開2009−152561号公報 特開2001−139658号公報 特開2011−157460号公報 WO2008/035515号公報
本発明は、耐熱性と低吸湿性を有し、且つ全塩素を低減し耐湿信頼性も改善されるエポキシ樹脂、更には電気・電子部品類の封止、回路基板材料等として使用することにより優れた信頼性を与えることができる、該エポキシ樹脂を提供することを目的とするものである。
すなわち、本発明は、
(1)下記一般式(1)
Figure 0006138607
(上記式(1)中、mは繰り返し数であり、平均値は0.1<m<10である。nは繰り返し数であり、平均値は0<n<10である。Xは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Yは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Gはグリシジル基である。)
Figure 0006138607
(式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは、単結合又は二価の基である。)
で表されるエポキシ樹脂であり、
(2)下記一般式(3)で表されるジヒドロキシ化合物(a)1モルに対し、下記一般式(4)で表されるハロゲン化メチル基含有化合物(b)0.1〜1.0モルを反応させて得られた一般式(5)で表されるジヒドロキシ化合物(c)とエピクロルヒドリンとを更に反応させ、ジヒドロキシ化合物(c)のヒドロキシ基をグリシジルエーテル化することを特徴とする前記(1)に記載のエポキシ樹脂の製造方法であり、
Figure 0006138607
(式中、Yは上記一般式(1)のYと同義である。)
Figure 0006138607
(式中、Zはハロゲン原子を示し、Xは上記一般式(1)のXと同義である。)
Figure 0006138607
(式中、X、Y、mは上記一般式(1)のX、Y、mとそれぞれ同義である。)
(3)全塩素が600mg/kg以下である、前記(1)に記載のエポキシ樹脂であり、
(4)全塩素が600mg/kg以下である、前記(2)に記載の製造方法により得られるエポキシ樹脂、
である。
本発明のエポキシ樹脂は、耐熱性、低吸湿性に優れるとともに、全塩素を低減し耐湿信頼性にも優れた硬化物を与え、電気・電子部品類の封止、プリント配線板材料等の用途に好適に使用することが可能である。
実施例1で得られたエポキシ樹脂のGPCチャートである。 実施例1で得られたエポキシ樹脂のIRスペクトル図である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式(1)で表されるエポキシ樹脂において、mは繰り返し数であり、平均値は0.1<m<10であることが必要であり、好ましくは0.5<m<5であり、より好ましくは0.5<m<3である。mが0.1未満では全塩素が多くなり、10以上では分子量が大きくなるために高粘度となる恐れがある。また、nは繰り返し数であり、平均値は特に規定がないが、0<n<10が好ましい。より好ましくは0<n<5であり、さらに好ましくは0<n<3である。また、エポキシ当量は特に規定がないが、2000g/eq.以下が好ましく、1000g/eq.以下がより好ましい。エポキシ当量が2000g/eq.より大きいと分子量が大きくなるために高粘度となる恐れがある。また、全塩素は600mg/kg以下であり、好ましくは500mg/kg以下、より好ましくは400mg/kg以下である。
また、一般式(1)のXは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Yは置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。置換基を有する場合、置換基としては炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、これらの炭化水素基、ハロゲン原子の具体例としては、後記する一般式(2)中のRと同じものが挙げられる。
一般式(2)中、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。炭素数1〜10の炭化水素基の具体的な例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基や、シクロヘキシル基等の炭素数4〜10の環状アルキル基や、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、インデニル基等の炭素数6〜10の置換基を有していてもよいアリール基や、ベンジル基、フェネチル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2,6−ジメチルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、α−メチルベンジル基等の炭素数7〜10の置換基を有していてもよいアラルキル基等の置換基が挙げられ、好ましい置換基はメチル基、エチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、α−メチルベンジル基である。
は、単結合又は二価の基から選ばれる少なくとも1種であり、ハロゲン原子又は硫黄原子、窒素原子、酸素原子等のヘテロ原子を含んでいても含んでいなくともよい。二価の基としては、−CH−、−C(CH−、−CH(CH)−、−C(CF−、−CO−、−O−、−S−、−SO−、ベンジリデン基、α−メチルベンジリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、9H−フルオレン−9−イリデン基、又はシクロヘキセニル基等が挙げられ、これらの基の芳香族骨格にはさらにRと同義の置換基を含有していても良い。好ましい二価の基としては、−C(CH−、−CO−、−O−、−SO−、9H−フルオレン−9−イリデン基である。また、一般式(1)〜(5)において、同一の記号は、特段の断りがない限り、同一の意味を有する。
また、一般式(3)で表されるジヒドロキシ化合物(a)において、Yは一般式(1)のYと同義であり、置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。一般式(4)で表されるハロゲン化メチル基含有化合物(b)において、Zはハロゲン原子を示し、Xは一般式(1)のXと同義であり、置換基を有してもよいナフチレン基又は一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。一般式(5)で表されるジヒドロキシ化合物(c)において、X,Y,mは一般式(1)のX,Y,mとそれぞれ同義であり、mは繰り返し数であり、平均値は0.1<m<10であり、Xは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Yは置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。
本発明のエポキシ樹脂は一般式(3)で表されるジヒドロキシ化合物(a)と一般式(4)で表されるハロゲン化メチル基含有化合物(b)を反応させて一般式(5)で表されるジヒドロキシ化合物(c)を得た後、そのジヒドロキシ化合物(c)とエピクロルヒドリンとを更に反応させ、ジヒドロキシ化合物(c)のヒドロキシ基をグリシジルエーテル化することによって得られる。なお、ジヒドロキシ化合物(c)をエピクロルヒドリンと反応させてエポキシ樹脂とする際、エポキシ基が開環して重合した構造の成分が少量生成することがあるが、このような成分が混入していても差し支えない。
従来より、ヒドロキシ基をアルカリ金属塩としハロゲン化物との反応によるポリエーテル合成が知られており、本発明のジヒドロキシ化合物(c)を得るためのジヒドロキシ化合物(a)とハロゲン化メチル基含有化合物(b)との反応ではこのポリエーテル合成法を用いることが出来る。なお、一般式(1)と(5)のmは同義であるが、mはジヒドロキシ化合物(a)とハロゲン化メチル基含有化合物(b)のモル比からおよその計算が可能であり、モル比が1に近いほどmが大きくなる。しかし、両末端がヒドロキシ基となる必要があることから、(a)/(b)比は1より大きい。
一般式(3)で表されるジヒドロキシ化合物(a)を具体的に例示すれば、ハイドロキノンやレゾルシンやカテコール、4−ヘキシルレゾルシノール等のフェニレン基含有ジヒドロキシ化合物、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6―ジヒドロキシナフタレン等のナフタレンジオール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ビスフェノールフルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、テトラメチルビフェノール等の2価フェノール類が挙げられる。好ましくは、4−ヘキシルレゾルシノール、1,6−ジヒドロキシナフタレン、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、テトラメチルビフェノール、4,4’−オキシビスフェノール、4,4’−カルボニルビスフェノール、ビスフェノールフルオレン、テトラブロモビスフェノールAが挙げられ、より好ましくは、テトラメチルビスフェノールS、ビスフェノールフルオレン、テトラブロモビスフェノールAが挙げられる。これらのジヒドロキシ化合物は単独でも、又は2種以上混合しても使用することができる。なお、結晶性の高い4,4−ビフェノールやメソゲン骨格を有するジヒドロキシ化合物等は、エポキシ化の際に結晶として析出しやすく、全塩素の低減が難しいので、単独での使用は好ましくない。
一般式(4)で表されるハロゲン化メチル基含有化合物(b)を具体的に例示すれば、ビスクロロメチルビフェニル、ビスクロロメチルナフタレン、ビスクロロメチルフルオレン等やこれらに上記一般式(2)のRと同義の炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子を有するこれらの化合物等が挙げられる。
ジヒドロキシ化合物(c)は、ジヒドロキシ化合物(a)とハロゲン化メチル基含有化合物(b)を、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下で反応することで得られる。この時、ジヒドロキシ化合物(a)1.0モルに対し、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)0.1〜1.0モルを反応させることが必要であり、好ましくはハロゲン化メチル基含有化合物(b)が0.2〜0.8モルであり、より好ましくは0.3〜0.7モルである。ハロゲン化メチル基含有化合物(b)が1.0モル以上では末端基の一部又は全部がハロゲンとなり、エポキシ化原料に適さない。また、0.1モル未満ではエポキシ化した際、全塩素を十分に低減させることができない。また、アルカリ金属水酸化物の使用量はジヒドロキシ化合物(a)1.0モルに対し1.8〜2.5モルが好ましく、2.0〜2.2モルがより好ましい。また、反応温度は、20〜100℃、好ましくは50〜60℃の範囲であり、反応時間は、1〜10時間が好ましい。20℃以下では反応が進行せず、100℃以上では親電子置換反応が起きる恐れがある。
本発明のエポキシ樹脂は、こうして得られた一般式(5)で表されるジヒドロキシ化合物(c)とエピクロルヒドリンを反応させることにより得ることができる。
例えば、ジヒドロキシ化合物(c)を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、20〜150℃、好ましくは、30〜80℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際のアルカリ金属水酸化物の使用量は、ジヒドロキシ化合物(c)の水酸基1モルに対して、0.8〜2.0モル、好ましくは、0.8〜1.5モル、より好ましくは、0.9〜1.2モルの範囲である。ジヒドロキシ化合物(c)の合成において中和工程を経ずに、エピクロルヒドリンと反応させる際には、ジヒドロキシ化合物(c)の合成で残存したアルカリ金属水酸化物と合計した使用量として換算する。また、エピクロルヒドリンはジヒドロキシ化合物(c)中の水酸基1モルに対して過剰に用いられるが、通常、ジヒドロキシ化合物(c)中の水酸基1モルに対して、1.5〜15モル、好ましくは、2〜10モルの範囲である。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。なお、一般式(1)のnは、エポキシ当量から計算で求めることができる。
以下、実施例及び比較例に基づき本発明を具体的に説明するが本発明の範囲がこれらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例及び比較例に於いて、特に断りがない限り「部」は「質量部」表し、「%」は「質量%」を表す。さらに本発明では以下の試験方法を使用した。
(1)エポキシ当量:JIS K 7236で測定した。
(2)加水分解性塩素:1N−KOHメタノール溶液を使用して70℃の温水中で30分反応させた後、電位差滴定法により測定し、樹脂固形分としての値に換算した。
(3)全塩素:JIS K 7243−3で測定した。
(4)軟化点:JIS K 7234(1)環球法で測定した。
実施例1
メタノール 93.2部中に水酸化カリウム 23.3部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)としてビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン(TMBPS、水酸基当量153g/eq.) 63.5部を投入しアルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)として4,4’−ビスクロロメチルビフェニル(BCMB) 36.5部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 148.2部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、TMBPSのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら65℃まで昇温させ、2時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量とビス(2−メトキシエチル)エーテルを8.3部留去した後、エピクロルヒドリン 45.9部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 3.3部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、淡黄色固形状のエポキシ樹脂 83部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は793g/eq.であった。
実施例2
メタノール 104部中に水酸化カリウム 26部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)としてTMBPS 70.9部を投入しアルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)としてBCMB 29.1部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 165.4部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、TMBPSのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら65℃まで昇温させ、2時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量とビス(2−メトキシエチル)エーテルを9.4部留去した後、エピクロルヒドリン 85.3部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 6.1部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、淡黄色固形状のエポキシ樹脂 83.1部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は470g/eq.であった。
参考例1
メタノール 100.8部中に水酸化カリウム 25.2部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)として9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(大阪ガスケミカル株式会社製、BCF、水酸基当量179g/eq.) 84.9部を投入しアルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)としてパラキシレンジクロリド(PXDC) 15.1部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 198.1部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、BCFのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら65℃まで昇温させ、4時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量とビス(2−メトキシエチル)エーテルを9.1部留去した後、エピクロルヒドリン 82.7部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 5.9部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、白色固形状のエポキシ樹脂 80.6部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は482g/eq.であった。
参考例2
メタノール 100.8部中に水酸化カリウム 25.2部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)としてBCF 84.9部を投入しアルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)としてPXDC 15.1部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 198.1部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、BCFのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら65℃まで昇温させ、4時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量を留去した後、エピクロルヒドリン 21.7部とメチルイソブチルケトン 61部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 5.9部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とメチルイソブチルケトンを分離槽で分離しメチルイソブチルケトンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのち溶剤を留去し、白色固形状のエポキシ樹脂 76部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は910g/eq.であった。
実施例5
メタノール 103部中に水酸化カリウム 25.5部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)として4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルフェノール)(TMBPF、水酸基当量128g/eq.)69.4部を投入しアルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)として1,4−ビス(クロロメチル)ナフタレンと1,5−ビス(クロロメチル)ナフタレンの混合物(BCMN)30.6部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 122部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、TMBPFのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら75℃まで昇温させ、4時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量とビス(2−メトキシエチル)エーテル 60部を留去した後、エピクロルヒドリン 87部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 6.2部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。滴下終了後、同条件でさらに1時間反応を継続した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、白色固形状のエポキシ樹脂 85部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は396g/eq.であった。
参考例3
メタノール 200部中に水酸化カリウム 45部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに仕込み攪拌し、これにジヒドロキシ化合物(a)としてBPA(ビスフェノールA、水酸基当量114g/eq.)を92.7部アルカリ金属塩とした。これとは別の、撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、ハロゲン化メチル基含有化合物(b)としてPXDC 7.3部と溶剤としてビス(2−メトキシエチル)エーテル 100部を仕込んだ。10分間撹拌した後に、BPAのアルカリ金属塩全量を一括投入し、攪拌しながら75℃まで昇温させ、4時間攪拌した。反応終了後、50mmHgの減圧下100℃まで昇温し、メタノール全量とビス(2−メトキシエチル)エーテルを50部留去した後、エピクロルヒドリン 270部を入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 3.2部を1時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。滴下終了後、同条件でさらに1時間反応を継続した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、淡黄色粘ちょう状のエポキシ樹脂 88部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は219g/eq.であった。
比較例1
BCF 100部、エピクロルヒドリン 195.7部、ビス(2−メトキシエチル)エーテル 48.9部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 47.6部を3時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、白色固形状のエポキシ樹脂 117部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は262g/eq.であった。
比較例2
TMBPS 100部、エピクロルヒドリン 241.8部、ビス(2−メトキシエチル)エーテル 60.4部を撹拌装置、温度計、冷却管、窒素ガス導入装置を備えた4つ口のガラス製セパラブルフラスコに、入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、180mmHgの減圧下75℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液 58.8部を3時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンと溶剤を留去し、淡黄色固形状のエポキシ樹脂 123部を得た。得られた樹脂のエポキシ当量は224g/eq.であった。
エポキシ当量、加水分解性塩素、全塩素、軟化点は樹脂の測定結果を表1に示す。
Figure 0006138607

Claims (4)

  1. 下記一般式(1)
    Figure 0006138607
    (式中、mは繰り返し数であり、平均値は0.1<m<10である。nは繰り返し数であり、平均値は0<n<10である。Xは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Yは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Gはグリシジル基である。)
    Figure 0006138607
    (式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは、単結合又は二価の基である。)
    で表されるエポキシ樹脂。
  2. 下記一般式(3)で表されるジヒドロキシ化合物(a)1モルに対し、下記一般式(4)で表されるハロゲン化メチル基含有化合物(b)0.1〜1.0モルを反応させて得られた一般式(5)で表わさせるジヒドロキシ化合物(c)とエピクロルヒドリンとを更に反応させ、ジヒドロキシ化合物(c)のヒドロキシ基をグリシジルエーテル化することを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂の製造方法。
    Figure 0006138607
    (式中、Yは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。)
    Figure 0006138607
    (式中、Zはハロゲン原子を示し、Xは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。)
    Figure 0006138607
    (式中、mは繰り返し数であり、平均値は0.1<m<10である。nは繰り返し数であり、平均値は0<n<10である。Xは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。Yは置換基として炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基又は下記一般式(2)で表される基から選ばれる少なくとも1種であり、同一であってもよく異なっていてもよい。)
    Figure 0006138607
    (式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又はハロゲン原子であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは、単結合又は二価の基である。
  3. 全塩素が600mg/kg以下である、請求項1に記載のエポキシ樹脂。
  4. 全塩素が600mg/kg以下である、請求項2に記載の製造方法により得られるエポキシ樹脂。
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