JPS5816531A - 半導体ウエハ露光装置の位置決め装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明社半導体ウェハをレチクル上の（ロ）路すなわち
デバイスのパターンに繰り返えし露光場せるための、ス
テップおよび反復直接露光装置の位置決め装置に関する
。　、 集積回路と個別半導体素子の製造においては、１枚の半
導体ウェハ上に多くの−Ｊ−テパイスすなわち四−回路
が同時に作られる。ウェハは通常はシリコンであって、
その直径は約７．６〜１２．７ａ＊（３〜５インチ）台
である。テパイスまたは回路の寸法に応じて、５０以上
、１００個かそれ以上のデバイス”ｔ１枚のウェハ上に
作ることができる。製造作業が終ったらウェハｆけがき
し、それらのけかき線に沿ってウェハを切断して、個々
のデバイスすなわち回路を含むべつぺつのチップを得る
。それらのチップはべつべつにパッケージして製造を終
る。

各ウェハについて連続する多くの工程作業が行われる。

それらの工程の数と種類は製造するデバイスの種類に応
じて異なる。たとえば、バイポーラ・トランジスタと、
金属ゲート電界効果トランジスタと、シリコンゲート電
界効果トランジスタと、Ｃ−ＭＯＳ（相補型金属−酸化
物一半導体）デバイスなどを有する回路を作るために種
々の製造工程が用いられる。しかし、これらの製法の全
てに共通なことは、製造の作業を行う各回路内の特定の
領域を写真撮影技術で定める必要があることである。製
造に際しては、少くて３回から多くて１２回も写真技術
を利用したそのような「マスキング」作業を各ウェハに
対して行う。

たとえば、非常Ｋｍ単な金属ゲート電界効果トランジス
タ（ＦＥＴ）の製造法について説明する。初めに、シリ
コン・ウェハに二酸化シリコンの比較的厚い電界酸化物
層を被覆する。この酸化物層の上に感光性ホトレジスト
物質を被覆する。このホトレジスト層に第１の写真マス
クを通じて光ｔ−あて、個々のＦＥＴを作るべき領域を
形成する。露光および現偉されたホトレジスト層は、Ｆ
ＥＴ′ｆｒ形成する領埴内の電界酸化物をエツチングに
より選択的に除去するためのし中へい層として機能する
。

次に、それらの露光され要領域内のシリコン基板上に薄
いゲート酸化物層全直接に成長させる。各ＦＥＴのソー
スとドレインの場所を定めるために第２の写真マスクを
用いる別のホトレジスト工程が用いられる。このソース
−ドレイン・マスクに工９定められた場所における薄い
ゲート酸化物層に穴があけられる。この穴を通じてドー
バン物質が拡散されてソースとドレインを形成する。こ
の拡散操作は高温度、典型的な温ｆは１１００℃台、で
行われる。それと同時に酸化物か成長してソースの穴と
ドレインの穴をふさぐ。

次に、各ＦＥＴのための金属ゲーを電極の場所と、ソー
ス領域とドレイン領績への金属接点の場所と、接合パッ
ド場所とを定めやために第３の写真マスクが用いられる
。

その後でデバイスの全面に厚い酸化物を蒸着場せて保護
被覆とする。最後に、蒸着された酸化物を除去してＦ、
ＥＴのゲート、ソースおよびドレインのだめの接合パッ
ド１ｉ−露出させる場所を定める丸めに、Ｍ４の写真マ
スクｆ！フ用いられる。金属バッド領埴ｔ−繕出さぜる
ために、それらの定められた場所で酸化物がエツチング
ＫＬシ除去される。それらの金属パッド領域には電気接
続ｍか接合される。

こやように、この簡単な例では４枚の写真マスクが用い
られる。引き続く各マスクを、以前のマスキング工程で
形成された回路すなわちデバイスのパターンに正しく位
置合わせすることが最も重要である。この位置合わせは
完成したデバイスが正しく動作するためｒｃは重要であ
る。

たとえば、先に説明したＦＥＴの製造法では、金族ゲー
ト電極の場所を定めるために用いヤれる第３のマスクの
位置ぎめが！ト常に重要である。

ゲート領域社ソースの穴とドレインの穴の間でゲート酸
化物の上に正しく位置させなければならない。位−合わ
せに狂いが生ずるとゲート電極がソースまたはドレイン
の上に重なることがあり、そのため［ＦＥＴの性−が低
下し、あるいは４つと悪くなってゲートからツーでまた
はドレインに短絡が生じ、そのためにデバイスヵｊ動作
しなくなる。

マスクの位置の狂いの問題は、各集積回路における個々
の部品の密度が高くなるにつれて一層重要となる。多数
の部品を有する集積回路を作るためＫは、各部品全極め
て小石くする必要がある。現在の集積回路でに、２ミク
ロンという狭い素子間隔が求められることがある。その
ような彼細な解像力のために、’Ａ造中の引き続く写真
マスクの位置合わせ嗅差は極めて小言いものが求められ
る。実際に、そのような連続する位置合わせを行える程
度は、大規模集積回路で達成できる１平方センチメート
ルｊりのデバイスの数すなわち密度を制限する主な要因
の１つである。

先に述べた１例は１つのＦＥＴデバイスの製造に関する
ものであったｆ、実際には、それぞれ多数の個々のデバ
イスを含む多重デバイスすなわち多重回路が１２枚のウ
ニへ上に作られる。これを作るために、従来は各写真マ
スクが、１枚のウニへの上に作られる複数のデバイスす
なわち回路に対応する場所に多数の同一パターン映像を
含むガラスＪｆ！ｉを構成していた。たとえば、５０個
の同一回路か１枚のつ二へ上に、１行に１０個の回路を
含む５行に配置されて作られるものとすると、各マスク
は対応する５行１０列のプレイ状に正確に配置逼れた５
０個の同一パターン゛を含むことになる。

処理されるウェハの実際の露光は下記のようにして行わ
れる。ウェハを双ｗ１顕倣鏡の下に設けられているホル
ダーすなわち台の上に置く。

マスク擾たはレチクル自体（すなわち、多数の写真映倫
が形成場れているガラス板）をウニへの真上で顕微値の
下となるホルダ内の位置にとりつける、作業員が顕微鏡
を通じてウェハとマスクを見ながら、両者の位ｆｉ＆が
合うまで台またはマスクホルダを動かす。次に、１個の
高輝度光湯を用いて、ウェハ全体をマスク全通じて同時
ＶＣ露光する。すなわち、ウェハをマスクに配置されて
いる全ての個々のパターンに同時に露光逼れる。

この方法にはある位置合わせ問題が本来ある。

その１つ蝶マスク自体の製作中に起る。マスクの製ｆ′
Ｆ、は、通常はウニへ上に作られる１つ（または数個）
のデバイスに対するパターンを拡大されたものを、反復
、露光して行われるゎこの個々のパターンＦｌマスク上
の各アレイ位置に順次露光逼れる−たとえば、１つかそ
れ以上の映像が列から少し外れたり、同じマスク上の他
の映像の行または列に対してねじれることがある。

もし、このようなことが起ると、デバイスの製造中に用
いられる他のマスクとウェハとの間の位置合わせが完全
に行われたとしても、この個々のマスクのあるパターン
の位置の狂いのために不良のデバイスが得られることに
なる。

マスク・アレイ内の個々の映像の完全な位置ぎめを行え
たとしても、露光作業中に位置合わせの狂いが起ること
がある。たとえば、ウヱノ１とマスクとの中心近くま、
たは縁部近くの僅かに１つまたは２つの基準点を用いる
ことにエリ、作業員はマスクをウェハに位置合わせする
ことができる。たとえば、マスクが非常に僅かだけ回さ
れてその中心線がウニへの中心線に完全に平行でなくな
っているというようにマスクがウェハに対して少しねじ
られていると、この狂いを作業員が気づかないことがあ
る。たとえば、作業員がマスクとウエノ）の中心近くだ
けを見ているとすると、顕微鏡の限られた視野内ではマ
スクとウェハの位置が合っているように見えること窄あ
る。しかし、ウニへの周縁部ではマスクは非常に小さく
はあるが、デバイスの動作をそこなうのに十分な位置の
狂いを生じさせる太き洛だけ位置がずれる。

他にも問題がある。これは製造工程の間にウェハ自体の
熱サイクルの結果として起る。たとえば、前記した方法
においては、ソースとドレインの領域の拡散が非常な高
温て行われる。通常は、ウェハは室温から高温へ、それ
から再び室温へ戻るというような工程に嘔らされる。こ
の熱サイク・ルによりウェハ自体が不規則に反ることが
ある。その結果、マスクが完全であっても、そのマスク
が反っているウェハに生ずる映倫が、ウェハが反る前に
行われた工程め間に形成場れたパターンと位置が合わな
くな為ことがある。

これらの位置合わせの狂いの多くは、多くの映ｇＩを有
するマスクが全くなくなるような装置により解消される
。その代りに、ウェハ上に形成すべき１つ、あるいれせ
いぜい数個の回路すなわちデバイスに対応する１つのパ
ターンを含むレチクルが、ウェハ自体に直接露光するた
めに用いられる。すなわち、各マスキング作業では多く
の映像を含む１つのマスクは、用いられず、むしろ１つ
のパターンを含むレチクルが、ウニへ上に形成される全
てのデバイスすなわち回路を１度ＶＣ１つずつ、繰シ返
えして順次露光するために用いられる。そのような直接
露光装置では、ウェハを保持する台の上に設けられてい
る投写カメラにレチ、クルがとりつけられる。ウェハの
１つのデバイスすなわち回路がカメラの下で位置合わせ
され、その回路に対する露光がレチクルを通じて行われ
る０次に、たとえば台を行または列の方向に適切に動か
すことＫより、ウェハが次の回路位置へ歩進させられる
。それから次の回路がレチクルを通じて霧光される。

仁の作業がウェハ上の各デバイスすなわち各回路につい
て繰り返えされる。

この直接霧光クエへ歩進技術により、多くの映倫を有す
るマスクの製作と、全ての回路を１ｗＩＬＫ同時に露光
するためにそのマスクを用いることに附随する位置合わ
せの狂いの問題は全て解消される。また、この技術によ
り、映倫を露光するのに用いられるレチクルの寸法を、
作られる回路の実際の寸法よりもはるかに大きく（たと
えば５倍または１０倍）できるという利点も得られる。

このことは、個々の映倫がウニへ上のデバイスすなわち
回路に対して１対１の寸法関係を有する多数映像マスク
技術と対照的である。ウニへ上に露光を行うために光学
的縮少技術を介してそのように拡大されたパターンを用
いることにより、１対１のマスキング作業により行うこ
とができる工９小さい寸法の映像を生ずる機会が得られ
る。

しかし、直接露光ウェハ歩進装置にもいくつかの問題が
ある。それらの問題はウェハ上に以前Ｋｊｌ１党さｔＨ
喪バタ・−ンとレチクルの映像との位置合わせに主とし
て関連するものである。従来の装置においては、どのよ
うに多くの個々のレチクル露光が行われたかとは無関係
に、各マスキング作業ごとｒｃ１回の位置合わせ作業が
行われるだけである。最初のマスキング作業を行う前、
まえは行っている間に、ウニへの両ａに一対の位置合わ
せターゲットがとりつけられる、それから、高精度の台
移動装置ｌｌこれ灯動きの制御にレーザ干渉計を用いる
のが普通である）を用いて、引き続く露光作業の間にウ
ェハを各アレイ位置へ歩進嘔せる０次のマスキング作業
、業および引き続く各マスキング作業てに、ウエノ１ｔ
−新りいレチクル−と、初めに位置合わせさゼるために
、間接オフ軸性が用いられる。

これを行うために各レチクルに一対の革皐ターゲットが
設けられる。初めＫこれらのターゲラトラ用いて、カメ
ラのオフ軸部分においてレチクルを手動で基準に位置合
わせする０次に、ウェハ台の上にウェハを置いて、カメ
ラの同じオフ軸基準に別々に位置合わせする。連数して
個々の露光を行うにつれて、台の適正な位置ぎめは機械
的なＸ−Ｙ駆動装置の１１１ｍに依存する。

カメラとレチクルに対する各回路の個々の位置合わせは
行われず、またそれら個々の位置合わせは可能で社ない
、その位置合わせは、台の位置ぎめ装置によシ台を制御
できる確度に全面的に依存する０位置ぎめ誤差が生ずる
機会は十分に存在する。

本発明は、回転方向と直交軸に沿う向きとの双方で、台
の上のウェハを正確に位置決めする装置を提供すること
を目的とする。

以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図に示す装置ｌＯは半導体ウニ／１１１（第２図）
の各部分に、レチクル１２　（第３図）または１３　（
第４図）に含まれている映像管直接かつ反復して露光す
るために用いられる。第５図を参照して後で説明するよ
うに、新しい各映像と、ウェハ１１の上に以前に形成さ
れたノ（ターンとの位置合わせか、各レチクル映像の直
接露光に用いられるのと同じカメラ光学系１４により行
われる。

装ｆｔ＃】０は３つのサポート１６により保持されてい
る大重量のグラナイト・ブロック１５の上にのせられる
。ブロック１５の＊−＊が大であるために、外部の振動
は装置１０に影響を及はさない、無光すべきウェハを含
むカセット１７が取、りつけ／取り外しモジエール１８
の中［置かれる。一度に１枚のウェハがカセット１７か
らと検出されて、１絹のＯリング・ベル）１９にのせら
れて予備位置合わせ部２０へ送られる。その予備位置合
わせ部２０においてウェハ１１はスピンドル加′上で機
械的に中心に位置屯せられる。スピンドル２Ｉ）′　に
はウェハ１１は真空にエリ保持される。その後、ウェハ
１１の平らな縁部１１ｆ（第２図）が所定の向きになる
までスピンドル２Ａ１′が回転逼ゼられる。そうすると
ウェハ１１は「予備位置合わせされた」といわれる。

次に、予備位置合わゼ嘔れたウェハ１１は送り機構２１
の真空チャックにより、スピンドル四′から引き上けら
れる。送シ機構２１は、露光作業中にウェハを支持する
ために用いられる台２３（第７図）の上にウェハ１１が
くるまでは、ウェハ１１をレール２２に沿りて動かす。

そしてウェハ１Ｈｊ：送り機構２１から台の上に降ろさ
れ、そこで真空により再びその位置に固定逼れる。

台２３は精密なＸ−Ｙ駆動装置ｌ１２４により２つの直
交軸Ｘ１Ｙに沿って動赤薔ことができる。台おの非常に
精密なＸ−Ｙ位置ぎめを行うために、通常のレーザ干渉
計５が駆動装ｆｌ１２４とともに用いられる。ウェハ１
１が完全に露光された後で、ウニへｌｉｔ台幻からとり
出して、それを０リングベルト１９まで送るために送り
機構２１が用いられる。０リングベルト１９ハウエ八１
ｌｔ−別のカセット１７′へ駆動する。この力、セット
１７′　の中では無光され九りエ・八が自動的に積み重
ねられる。

ウェハ１１が台詔の±にのせられると、段階的な直接無
光が反復して行われる。この無光は、装置１０の頂部近
くのサポート２９に枢着されているレチクル・ホルダあ
にとりつけられている適切なレチクル１２．１３に工す
行われる。レチクル・ホルダあの対応する孔四′の中に
いくつかのレチクル１２．１３’ｆｒ予め入れておき、
必要に応じてカメラ３０の中の位置まで回転させること
ができる。

カメラ３０（ツ１１，５図）は垂直にとりつけられた全
体として円筒形のカメラボデー３１ヲ含む。

このカメラボデー３１はレチクル１２．１３のパターン
の映像を、台２３にとりつけられているウェハ１１の上
に集束場せるための適切な光学系１４を含む。光学系１
４自体は知られているもので、所要の集束機能を果すた
めに１枚またはそれ以上のレンズ全オ（１用する；ウェ
ハ１１に塗布されているホトレジストｔＸ光さゼるため
に、高輝度露光灯３２、通常は４３６０＾が光源として
用いられる。

各レチクル１２．１３にカメラ位置合わせマーク３３、
：（３”ｋ設けることにエリ、レチクル全カメラの光学
系１４に自動的に位置合わせできる。へクジンク３４の
中に設けられているｍＭな機構（し１示ぜず）を用いて
マーク３：３、羽′を検出し、レチクル１２．１３１ｒ
カメラぷ）の光学系に対して正確に位＊−ｇせるように
、レチクル・ホルダ拠とサポート２９のうちの少くとも
一方の動きを制御できる。

前記したように、各ウェハ１１は一連のデバイス製造工
程を受ける。それらの工程のあるものは独立したマスキ
ング工程とパターン露光工程會必要とする。＃初のマス
キング作業の間はレチクル１２　（第３図）が用いられ
る。このレチクルだけが十字形の位置合わせターゲラ）
３５を含む。このターゲラ）３５の映像が、同じレチク
ル１２に金管れているパターン３６露光と同時に、ウェ
ハ１１の上に露光嘔れる。

段階的および反復直接露光作業を用いて、パターンあと
十字形の位置合わせターゲラ）３５との多重映像が、ウ
ェハ１１上の希望のアレイ３７（第２図）の中に発生さ
れる。そのために、台おは初めはカメラ（９）の下の任
意の場所に位置逼れる。ｉ＃初の無光は露光灯３２ヲ用
いてレチクル１２を介して行われ、レチクル・パターン
３６の映像３６−１と十字形の位置合わせターゲラ）３
５の映［３５−１？クエ八１１上に生ずる。それから駆
動装置詞がレーザ干渉計５とともに用いて、台ｎをＸ軸
とＹ軸の少くとも一方の軸に沿って、次の映像を霧光す
る新しい位ｆ１１″！である距離だけ動かす、たとえば
、パターン映倫３６−２とターゲット映像３５−２が露
光される次の暫しい位置までだけに、Ｙ軸に沿ってウニ
八ｌｌを動かすことができる。同様にして、完全なパタ
ーン・アレイ３７が完成されるまでは、ウニ八１１は繰
りかえし歩進およル露光される。これが完成されるとウ
ニ八１１は台ｎからモジュール１７′へ送られる。

適切な半導体処理工程が行われた後で、ウェハ１１は次
のマスキング作業を行う、ためｉＣ装置１０へ戻すれる
。次のマスキング作業は位置合わせパターン４０ヲ有す
るレチクル１３（第４図）を用いる。この位置合わせパ
ターン４０はレチクル１２の位置合わせターゲット３５
の形と相補的な形にすると有利である。図示の実施例で
゛は、゛パターン４０は、位置合わせターゲラ）３５の
形に対応する開かれた十字形領域和′を形成するように
配置さねた、４つのＬ形素子４０′で構成される。レチ
クル１３は新しいパターン４１も含む、このパターン４
１はパターン３６とは異なるが、第１のレチクル１２ヲ
用いて発生された各映像３６−１．３６−２などの上か
ら正しく位置が合うようにしてウニ八１１の上に露光せ
ね８ばならない。

これを行うために、レチクル１３はホルダ２８にとりつ
けられてカメラ（資）の中ＶＣ位＆’Ｇｆられる。

レチクル１３ヲカメラの光学系１４ニ位置合わせするた
めにマーク３３′が用いられる。以前に露光されたアレ
イ３７を有するウニ八１１を含む台おが、以前に露光嘔
れた１つの映像（たとえば映＊３６−１）がカメラ加の
下にくるように、位ｔ−ｇせられる。これを行うやり万
全以下に説明する。

次に、パターン４０と以Ｆｒ１Ｊに露光された位置合わ
ぜターゲット３５の映像とが、レチクル・バターｊ４１
の映像と以前に露光鴎れたパターン３６の映像とを重ね
合わせて完全に位置合わせするた□ めに用いられる。このために、ウニへ１１の位置会わせ
ターゲット３５−１の像３５−１’（第６図）がカメラ
の光学系１４を通じて直接見られる。この像３５−１’
　がレチクル１３の位置合わせパターン４０と正しく位
置が合わされるように、台２３が適切に動かされる。希
望の位置合わせが佛成爆れると、位置が合った重なり合
うパ、ターン４０と像ターゲラ）３５−１’は、カメラ
の光学系１４ｔ−通１．て見た時には第６図に示すよう
に見える。　゛この位置合わせが達成されると、露光灯
３２が点灯逼れてパターン４１の映像をウニへ１１に露
光すせる。それから台２３がＸ軸とＹ軸のうちの少くと
も一方に沿って１次の映像位置へ動か場れ、そこで露光
作業がくり返えされる。

この位置合わせ作業を容易にするために、カメラの光学
系１４を通じて位置合わせターゲット：（５−１を照射
する低輝度光源４２が設けられる（第５図）。この光源
４２はウニへ１１に塗布嘔れているホトレジストをあま
り強く霧光しないように、光源４２は十分に低輝度にす
る。光源３２と４２の波長は同じにできる。光匁４２か
らの光４３はビーム分割器４４とレチクル１３のパター
ン４０ｔｉｌｌ、ターゲット３５−１’を照明する。タ
ーゲット３５−１の像は縮少レンズ１４によりレチクル
１３０面に投写される６位置合わせターゲット３５−”
１の像；（５−１’　とパターン４ｏは光学系４９と、
ビーム分割器４４と、プリズム４５と、テレビジョンカ
メラ４６と？介して（ロ）時に見られる。テレビジョン
カメラ４６は第１ｒ！ｌＪのハウジング４７の中に含ま
れる。

テレビジョンカメラ４６ＫｉｌｔＦ＃鎗の光学系４８を
組合わせることができる０位を合わせが行われると、テ
レビｉ＞　ｉｌンカメラ４６に４１１合わされているテ
レビジョン・スクリーン（図示せず）により表示される
画像は第６図に示されているようなものとなる。

パターン４１の各映像が９前に露光されたパターン３６
−１．３６−２などの１つのパターンの上に露光されｆ
Ｃ俵で、アレイ３７中の次のパターンが真先位ｆｔにく
るようｆ１台ｎとウェハ１１を動かすために駆動ｓａｙ
とレーザ干渉計５が用いられる。ステップからステップ
へ１〈向きと距離は、最初のアレイがレチクル１２から
籐光芒れた時にウェハ１１を歩進させるために用いられ
る動く向きと距離にそれぞれ対応する。各ステップにお
いては、対応するターゲット３５−１．３５−２などの
パターンの像（たとえば僧３５−１’）は、光濡４２と
テレビジョンカメラ４６′ヲ用いて見ることができる０
作業員が台ｎの位置を精密に調整してターゲットの完全
な位置合わせ？（第６図に示すように１゜、て）行える
ようにするために、普通の操作枠その他の制御部材を駆
動装置冴とレーザ干渉計２５に組合わせて用いることが
できる。ターゲッ°トの完全な位置合わせはアレイ３７
において個々の霧光ごとに行うことができる。あるいは
、駆動ｉ置２４と干渉計５による位置ぎめの性能が十分
に正確であれば、視覚的な再位菅合わせ１各位置で行う
よりは、アレイ３７の各行または各列ごとに１［ｏｌ、
２回または数回行う必要があるだけである。各アレイ位
置に個々の位置合わせターゲット３５’　−ｔ　、　３
５−２などを設けることにより、露光ごとに位置合わせ
を個々に行う機会が与えられることになる。

通常は、カメラの光学系の焦点深度は非常に浅い、ウェ
ハ１１の厚さが一様でないと、ウェハ１１０１つの部分
にカメラ３０により発生嘔せられる映像は焦点が合りて
いるのに、他の部分に生ずる映像は焦点が合っていない
ということがある。このような場合に社、精密な位置合
わせと高い解像力とについての装置１０の充分な性能が
失われることがある。この問題はウニへｆ平らに一様に
する装置（第７図）にＬり解決される。

この間ａｈ＜さび形横断面を有するウェハ自体に起因し
たり、処理中にウェハが反ったシすることにより起きた
りするものである一 第７図金参照して、台２３は９動テーブル５０を含む、
このテーブルは駆動装置あと干渉計２５に工り、Ｘ軸と
Ｙ軸に沿って駆動される。テーブル５０と駆動装置冴と
の間の相互連結は通常のものである。テーブル（資）の
上にはプラットホーム５３用の球状空気軸受サポート５
２の静止ペース５１がのせられている。プラットホーム
５３は全体として半球状の軸受５５　Ｋボルト５４でと
シつけられる。軸９５５ＦＪ、ベース５１の半球状の凹
部上面５６の中に受けられる。

一連の環状溝５７．５８．５９　　が軸受の表面５６の
上に形成される。溝５７はペース５１の通路ωを介して
コネクタ６１ニ連絡される。コネクタ６１Ｆｉ。

真空に連結される。溝間はペース５１を貫通するガス抜
き穴６２を介して大気中に連絡される。このＬうな構成
であるから、コネクタ６１ヲ介して真空が加えられると
、その真空のために軸受５５とプラットホーム犯はペー
スに関して所定位置に保持される。真、空の通路ωも通
路８と、軸受聞およびプラットホーム５３′ｆ：介して
、ウェハ１１′の下のプラットホーム詔の上向に設けら
れている１つかそれ以上の穴にも連通する。この工うな
＠成であるから、コネクタ６１ニ加えられたのと同じ真
空がウェハ１１’　？プラットホームおの上面に保持す
る。別の実施例では、２つに分かれている空気軸受の半
分ずつを固定するために用いる真空から、ウニへ保持真
空全別々に供給することもできる。

溝□□□は通路６４ヲ介してコネクタ６へ連通してフタ
６１へ連続して与えられる。プラットホーム簡の向きを
変える必要が生じた時性、加圧ガスがコネク。り６５−
＞供給される。、溝５９ヲ通じてペース５１の内面へ加
えられるこのガスの圧力のために真空の「保持力」が破
れ、軸受邸のため°の空気サポートが形成される。その
結果、プラットホーム５３またはウェハ１１’に非常に
小さな力を加えることにより、軸受５とプラットホーム
団ケベース５１に関して位置決めすることができる。

プラットホーム８が希望の向＠罠なったら、コネクタ団
への加圧ガスの供給を断つと、真空の力により軸受団は
ペース５１に対してただちに固定嘔れる。

この空気軸受支持機構５２は、カメラボデー３１の下趨
部３１Ｌの面の↓うなめる基準面に対して、ウェハ１１
′の上面ｉｉ　’ｒ　を平行にすることを容易にするた
めに用いられる。

そのために、カメラボデー３１の中には複数（典型的に
は３つ）の空気ダク）６８．６８’　が含まれる。それ
らの空気ダクト位カメラポデー３１の周縁部に、たとえ
ば１２０度の間隔をおいて、配置すると有利である。圧
縮空気ｇ＃またはその他の圧縮ガス源（図示せず）がダ
ク）６８．６８’の上端部に連結される。空気ジェット
の、ω′　を形成するように、空気の一部がダク）６８
．６８’の開放されている下端部６８ａ％６８ａ′から
出る。

各ダクト内の空気の圧力はカメラボデー３１の中に設け
られている対応する圧力セン−！ｉ７０．７０’により
検出できる。

ウェハ１１’を平行に位置合わせするために、プラット
ホーム団とクエへ１１　’が球状空気軸受サポート犯の
上を自由に動けるように、コネクタ田へ圧縮空気が供給
嘔れる。それから、ダク）６８．６８’へ圧縮空気を供
給すると、カメラボデー３１ハウエ八１１′へ向って下
降もせられる。

ダクトから吹き出される空気ジェットω、ω′によりウ
ェハ１１’　とプラットホーム５３に力が加見られる。

ウェハ１１’の表面１１　Ｔがカメラボデ＝３１の下面
３１　Ｌ　Ｋ平行でないと、各空気ジェットω、ω′に
工り加えられる力は等しくない。

その結果、空気ジェット６９、ω′にエリ加えられる力
が等しくなる平衡状態が達成されるまで、ウェハ１１’
　とプラットホームおはその等しくない力Ｔ／ｃＬり球
状空気軸受サポート５２に対して動かされる。この平衡
状態はダクトの開放下端部６８ａＳ６８ａ’　　とつｘ
　ハ１１　’の表面１１Ｔとの間隔が等しくなった時、
すなわち、ウェハ１１　’の表面１１Ｔがカメラボデー
３１の下面３１　Ｌに平行になった時に起る。この平衡
状態はダク）６Ｂ、６８’の中の背圧が等しくなったこ
とをセンサ７０．７０’が検出することにより判明する
。この等しい背圧状ｍに応答する適切な制御回路（図示
せず）が、コネクタ６へ供給されている圧縮空気を断つ
、その結果として、空気軸受サポート団はベース５１１
Ｃ加えられる真空に↓プ直ちに固定されるから、プラッ
トホームＢとウェハ１１’は、ウェハ１１’の上面１１
Ｔとカメラボデー３１の下面３］Ｌが平行となる、希望
の位置に固定逼れる。

第７図の各部は実物の相対的な尺度関係で描かれてはお
らず、ウニ＾１１’のくさび形断面部分仲誇張しである
。また、カメラボデー３１の直径も、実際にはウェハ１
１’の直径ｚ６も十分に小さい、シ友がって、平行位置
合わせは、第７図に示されているよりも、ウェハｌｌ’
の比較的狭い面積にわ喪って行われる。平行位置合わせ
祉各震先の前に行うこともできれば、ウェハ１１の全体
にわ九る歩道移動と反復される露光の間に１回だけ、ま
たは数胞行うこともできる。

第７図に示す装置、すなわち種々の物理的場所において
同様に用いられる一連の空気ジェットは、上記の平行位
置合わせを行った後で、カメラ（９）の非常に正確な焦
点合わせを行うためにも利用できる。この焦点合わせを
行うために社空気ジェットω、ω′と背圧センサ７０．
７０’も用いられる。

カメラの光学系１４がウェハの上面１１　Ｔから正確な
距離だけ離れ走時に正確な焦点合わせが行われる。仁の
間隔では、ある背圧がセンサ７０゜７０′の所に存在す
る。焦点合わせは、背圧レベルｌ）セｙ？７０．７０’
　Ｋ工り監視しながら、カメラボデー３１をウェハ１１
　’へ向けて徐々に下降させることにより行うととがで
きる。カメラのボデーが下降さぜられるにつれてこの背
圧が上昇する。正しい焦点距離に対応する所定の背圧が
検出されると、カメラボデー３１の下降が停止場れる。

これにより正しい焦点合わせが達成される。この焦点合
わせ作業はアレイ３７で個々の露光が行われるえびに行
われる。

クエへの表面をカメラボテ−の下面に対して平行に保つ
操作と、焦点合わせとに関連して以上説明した空気ジェ
ット背圧検出器すなわち「空気ゲージ」は、ウェハｌｌ
の精密な予備位置合わせを自動的に行うために用いるこ
ともできる。

前記したように、レチクル１３を用いて最初の露光を行
う前に、クエへ１１の予備位置合わせを行って、映像４
０（第６因）がウェハ１１上の位置合わせターゲラ）３
５−１に非常に近くなる位置にウェハ１１を置く、ウェ
ハ１１が正しく予備位置合わせされると、位置合わせタ
ーゲラ）３５−１はテレビジョンカメラ４６の視野内に
現われる。しかし、この視野は非常に狭い（通常は約０
．０５１ｃｍ（０，００２インチ）平方）というように
非常に狭いから、位置合わせターゲラ）３５−１がテレ
ビジョン・−カメラ４６の視野内に確実に現われるよう
にするためには、予備位置合わせを正確に行う必要があ
る。更に、台ｎの上のウェハ１１の向きを正しくするこ
とが重要である。たとえば、位置合わせターゲラ）３５
−１，３５−２などの軌跡を駆動装置２４のＸ％　ＹＩ
ＩＩＫ平行にすることが重要である。そうする必要があ
るのは、ウェハ１１が引き続く露光の間にＹ軸とＹ軸の
うちの少くとも一力の軸に沿って歩進烙せられるにつれ
て、引き続く各ターゲット３５−２．３５−３などがテ
レビジョンカメラ４６の視野に現われるようにするため
である。

前記したように、ウェハ１１の平らな縁部１１　ｆの予
備゛位置合わせは予め位置合わせされているステージ冒
ン２１′１において行われる。したがって、ウェハ１１
が台ｎの上に置かれると、平らな縁部１１　ｆが駆動装
ｆｉ１２４の軸の一方（通常はＹ軸）にほぼ整列させら
れる０次に、カメラボデー３１の中の一方の空気ジェッ
ト（たとえば空気ジェット口と圧力センサ７０）を用い
てウェハ１］の中心を決定する。この技術を第９図に示
す。

まず、空気ジェットωが、Ｙ軸に平行でウェハｌｌの水
平中心線７６から離れている任意の直線７５に沿って置
かれるまで、台２３をＹ軸に平行に動かす０次に、ウェ
ハ１１の縁部７５Ｌ、７５Ｒが検出されるまで、駆動装
置２４を用いて台２３をＸ軸′７３に平行に動かす、た
とえば、台２３を初めに第９図で右へ動かすと、直線７
５は移動ウェハ１１に関する空気ジェットωの経路を定
める。ウェハ１１の縁部７５　Ｌに運すると１．セン−
Ｆ　７０　Ｋより検出される背圧はただちに低下する。

そうするとセンサ７０がそれに対応する信号をコンビエ
ータ（図示せず）へ送ると、そのコンピュータはレーザ
干渉計５とともに、直線７５に沿うウェハ１１の縁部の
基準位置を定める。次に台２３を逆の向きすなわち、第
９図では左へ動かす、そして、ウェハ１１の反対側の縁
部７５　Ｒの位置を検出するために空気ジェットωとセ
ンサ７０　ｆ用いる、それら２つの位置が判明したら、
直線７シの中間点７５ｃの位ａを定めるために、直線７
５に沿う対応する長さくすなわち、縁部貞７５　Ｌと７
５　Ｈの間の距離）１−（コンビエータＶｃより）２分
割する。

Ｃ（７）　ｆｆ１ｌ＋定は直！　７５　Ｋ平行な異なる
直ｉ！１１７７．７８に沿ってなるべく数回行う。その
結果、１組の点７５　ｃ　、　７７　ｃ　、　７８　ｅ
を定める。それらの点の平均位置はウェハ１１の垂直中
心線７９ヲ定める、この方法により、直線７５．７７．
７８のいずれかが交差する欠陥部がウェハ１１の縁部に
沿って存在することにＬり生ずることがある娯差もなく
なる。

次に、中心線７６を定めるために同じ操作を垂直方向に
ついて行う。そのために、空気ジェットωがウェハ１１
の平らな縁部１１　ｆに交差しない垂直線８１（第９図
）に沿う位置捷で、台２３をＸ軸７３に平行に動かす。

それから台ｚ３をＹ軸だけに平行に動かし、直＠８１が
ウェハ１１の「頂部」と「底部」に交差する点８１Ｔ、
８１Ｂを定めるために、空気ジェットのとセンサ７０を
用いる。また、コンビエータとレーザ干渉計２５を組合
わせてそれらの測定全行い、直線８１の中心８１　ｃ　
ｆ計算する。

この操ｒＦ、をもう１本かそれ以上の垂直線８２などに
ついて行って、他の中心点８２ｃ’ｉ得る。これらの点
８１ｃ、８２ｃにより水平中心線７６の位置を定める。

中心線７６．７９の交差点８３はウェハ１１の中心を定
める。すなわち、このようにしてＸ軸７３とＹ軸７４に
対する任意の基準虞に関して中心点部の正しい位置が定
められたことりこなる。

このΦ心意８３に関して駆動装置２４と干渉計５はテー
ブルおの位ｔｔ定める。

ウェハｌｌの最初のマスキング操作をレチクル１２を用
いて行っている間に、アレイ３７（第２ｔｉ！Ｊ）を定
める段階的かつ反りして行われる位置ぎめ操作が、第９
図を参照して説明り、たようにして行われた手Ｍｌに従
って定められた中心点＆と中心線７６．７９を基準ニジ
、て行われる。しかし、ウェハ１１の位置ぎめにおいて
生ずる回転誤差をなくすために、レチクル１３を用いて
後で行うマスキング作業のために、第１０．１１に不感
れている予備位置合わせを更になるべく行うようにする
とよい。

レチクル１３が所、定の位ｆＲＷこ會かれるとウェハ１
１の中心が１１１記したようにして定めらねる。回転誤
差があるとすると、定められた中心？Ｒ７６、’７９　
ｒｊ　、アレイ３７の位置合わせターゲット３５−１．
３５−２などが基準対象とするＹ軸、Ｙ軸に平行でなく
なる。この回転誤差を修正するために、ウェハ１１の中
心ｉ［近い成る位置合わせターゲット３５−Ｃ（第１０
園）がカメラ３０の直下であって、位置合わせターゲッ
ト切の像が位置合わせターゲット３５−ＣＩＣ一致する
位置にくる寸で、駆動ｇＩｒｌｉｉｉ２４がウェハ１１
　ｉ初めｒｃ駆動する。このターゲラ）　３５−　Ｃは
ウェハ１１の中心８３ニ近いから、ウェハのかなり大き
い回転位置き′め誤差があるとしても、ターゲット３５
−Ｃはテレビジョンカメラ柘の視野の中に現われるはず
である。

そうすると、作業員は適当な一作棒（図示せず）ｔ−用
いて駆動装置Ｕを操作し、位置合わせターゲラ）、３５
−Ｃがレチクル１３上のパターン４０の儂にほぼ一致す
るまで、台２３をＸ軸７３とＹ軸７４の少くとも一方の
軸に沿って動かすことができる。この時に、作業員はボ
タン（図示せず）を押してコンビエータにターゲット３
５−Ｃのこの位置全記録させることができる。

次に、ウニへの中心おから更に離れている別の位置合わ
せターゲラ）３５−Ｄの予測位置まで、台幻を４Ｘ軸ま
たはＹ軸に沿って動かす。回転誤差があるものとすると
、ターゲット４０の僧と位置合わせターゲラ）３５との
関係は第１１図に示すようなものとなる。それから作業
員は再び操作棒【操作して、ターゲット３５−Ｄがター
ゲット旬の偉の中心にくるまで、台２３ｔ−Ｘ軸とＹ＠
に沿って動かす、その時のウニへの新しい位置もコンビ
エータに入れる。

こ、の操作を反復することにより、各点においてターゲ
ラ）３５−Ｃ，３５−Ｄなどの位置合わせをするために
必要なＹ軸とＹ軸の少くとも一方の軸の修正が、ウェハ
１１の位置ぎめにおいて生ずる回転誤差θを直接示すこ
とになることが明らかであろう、誤差θを三角法にニジ
計算した後で、ベース５１と、ウェハ１１を支持するプ
ラットホーム５３をウニへの中心に関して対応する角度
θだけ回転させる九めに、Ｋ８図に示す機構を用いるこ
とができる。これにょ９ウエへの回転位置誤差がなくな
る。

この誤差０の修正を行うために、Ｙ軸とＹ軸に沿って動
くことなしに、ベース５１ヲ微小な角ｊｉｆｆけ回％１
ｆｌｌｒるｒとが’ｆｌｉｌるＩうＩｌｒ　１．−１　
、　ベース５１をテーブル（資）の上にとりつける。そ
のために、ベース５１の下側には円筒形のくほみδが設
けられ、このくぼみの中に３本の可撓性アーム８６−１
．８６−２．８６−３の端＠　８６　ａがと夛っけられ
る。それらのアーム謁の外端部は取付具Ｍによりテーブ
ル５０［連結される。各アーム％はそれぞれのスロット
８８を通り、ベース５１の円筒形下側壁とを貫通して延
びる。ベー、ス５１からは頑丈なアーム関が外側へ延び
る。

こ８ようＫ１１ｇされているから、アーム恕の外端部８
９　ｍが第８図で左または右へ動かされるト、ベース５
１ドブラツトホーム５３がベース５１の鉛直中心軸を中
心として１転する。この回転運動は、全てのアーム８６
のたわみにエル可能である。

しかし、アーム８６はベース５１がテーブル５０に対し
て横方向（すなわち、Ｙ軸またはＹ軸に平行）に動くこ
とは阻止する。したがって純粋の回転修正が行われる。

運動はモータ９１によりアーム８９へ伝えられる。

このモータはねじ部９３を有する軸９２を回転させる。

この軸の端Ｓは、テーブル（資）にとりつけられている
軸受舛にジャーナル連結される。

軸ｑ２はアーム％の一端に設けられているね見穴にねじ
込まれる。アーム９５の他端はたわみ継手％により連結
アーム９７にと９つけられる。このアーム９７は別のた
わみ継手郭によりアーム８９の外端部８９　ｍへ連結さ
れる。アーム％は、それにたわみ継手１００で枢着され
ている取付具９９により、テーブル５０に枢着される。

このような構成であるから、モータ９１が１つの向き（
たとえば時計回り）に回転させられると、その軸兇のね
じ部郭がアーム９５を継手１００を中心として回動させ
、そのためにアーム９７を介して左向きまたは右向きの
動きがアーム羽へ伝えられる、その結果、ペース５１と
プラットホームおが対応する角度の向きへ回転量せられ
る。

寸た、モータ９１が上記とは逆の向きへ回転量せられる
と、ベース５１がそれに対応して上記とは逆の向きへ回
転量せられる。軸ｎに連結されているエンコーダ１０１
がモータ９１の回転量を示す、したがってペース５１の
回、転角度を示す出力信号を発生する。

ウェハ１１の回転位置誤差θｆｔ求めるために前記し友
ようにして用いられるコンビ具−タ（図示せず）により
、モータ９１′□′ｗ自動制御できる。

モータ９１が回転させられると、エンコーダ１０１がペ
ー゛ス５１へ伝えられ丸目転量を示す信号をコンビエー
タへ４える。この信号に応じて、希望の修正角０に達し
た時に、モータ９１ｔ−適切に停止させることができる
。このようにして、ウェハ１１の位置ぎめにおける回転
角の修正を高い確度で自動的に行うことができる。

この回転位置誤差が修正されると、ウェハ１１の実効中
心線７６と７９が台２３のＸ軸７３とＹ軸７４にそれぞ
れ平行になり、全ての位置合わせターゲット３５−１．
３５−２などが台Ｘ軸、Ｙ軸に正しく整列することが明
らかであろう、したがって、を的な反復操作の間に、ア
レイπ（第２図）を作る九めのウェハ１１の最初の露光
作業中に用いられ九のと同じ距離と同じ向きにウェハ１
１が歩進させられると、各場合にパターン像４０１Ｌが
対応する位置合わせターゲラ）３５−１．３５−２など
に非常に近くなる。必要があれば操作棒を用いて小さな
修正を手動て行うことができる。

レチクル１３からのパタン４１の像と以前に露光された
像３６−１．３６−２などとの完全な位置合わせは全て
のアレイ位置ごとに行われる。

【図面の簡単な説明】

第１図は半導体ウニへの直接露光に用いる本発明の歩道
および反復装置の斜視図、第２図は第１図に示す装置を
用いて露光されるウエノ１の平面図、第３図は第２図に
示されて〜箋るようにウニへの各儂位置に露光される十
字形の位置合わせターゲットを含み、処理されるウェハ
に露光される最初の像を包含するレチクルの平面図、第
４図は第３図に示すレチクルを用いてウェハに以前に露
光されたターゲツト像に位置合わせするために用いら重
る相補形のタ　ゲｙａｒｎみ、後で行われる処理工程で
用いられるレチクルの平面図、第５図は第１図の装置に
用いられる映倫位置合わせ装置の略図、第６図は第５図
の光学系を通じて見られ本ようにレチクルの位置合わせ
パターンに重ね合わ逼れるウニへの位置合わせターゲッ
トの虚像の略図、第７図は第１図の装置に用いられるウ
ェハ支持台とクエ／％表面平行位置合わせ装置の断面図
、第８図は第７図に示す台の回転駆動機構の略図、第９
．１０図はウニへの歩進お工び反復露光前のウニへの予
備位置合わせを示す略図、第１１図は予備位置合わせの
間における状況を示す第６図と同様の略図である。 １〇一本発明の装置、１２．１３−　レチクル、１４・
・・カメラの光学系、２３−・台、Ｕ・・・Ｘ−Ｙ駆動
装置、ｎ・−・レチクルホルダ、（資）・・・カメラ、
３１・−・カメラボデー、３２・・・光源、羽、オ′−
位置合わせマーク、３５．４２・・・位置合わせターゲ
ット、４０・・・位置合わせパターン、４４−・−ビー
ム分割器、（資）・・・テーブル、５１−ベース、ψ・
−球状空気軸受サポート、団−プラットホーム。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　半導体ウェハをのせる台と、仁の台′５ｒ直
   交するＸ軸とＹ−に沿って動かすための台部動機構と、
   前記クエへの上に位置させられ、加圧空気ジェットを前
   記ウニ／・へ向けて吹きつける空気ジェット要素と、制
   御器と全備え、前記空気ジェットｌ！紫は前記吹きつけ
   られた空気の背圧を検出する第１０々ンｔを含み、前記
   制御器社前記台駆動要素罠前記直交軸のうちの一方の軸
   に平行に前記台を動かせ、かつ前記空気ジェットが前記
   ウェハの向い合う端部を横切って動く時の吹きつけられ
   た前記空気の背圧の変化を検出することＫＬ夛前記一方
   の軸に沿う前記クエへの前記向い合う縁部の位置を検出
   し、その後で前記制御器は前記ウニへの第１の中心線位
   置を決定するために検出された前配縁部を利用すること
   ’ＩＦ徴とする半導体ウェハ露光装置の位置決め装置。 （２）　　前記制御器は前記直交軸のうちの他方の軸に
   平行な線に沿う前記ウニへの向い合う縁部の位＃を検出
   するために、前記台部動機構に前記台を前記直交軸のう
   ちの他方の軸に沿って、前記空気ジェット要素を用いて
   、動かさせ、その後で前記制御器は前記ウニへの前記第
   １の中心線に直角な別の中心＃を決定するために前記検
   出嘔れた位ｔｔ−利用すること′５ｒ％徴とする特許請
   求の範囲第（１）項記載の半導体ウェハ露光装置の位置
   決め装置。 （３１前記台は前記半導体ウェハ用のとりつけ台と、こ
   の台のためのサポートとを含み、このサポートは、前記
   直交軸に沿う前記サポートの付随直線運動なしに、前記
   支持されているウェハに全体として垂直な軸線に関して
   前記サポートと前記台の角度の向きを変えるための回転
   位置決め要素を有することを特徴とする特許請求の範囲
   第（２）項記載の半導体ウェハ露光装置の位置決め装置
   。 （４）　　前記露光装置は前記ウェハに映像を露光させ
   るための力Ｊうを含み、前記空気ジェット要素は前記カ
   メラのボデー内に設けられ、前記カメラのボデーは、前
   記第１のセンサによシ検出された背圧がある値に一致す
   るまで、前記ボデーを前記ウェハに接近させたり、前記
   ウェハから遠去けたりするための焦点合わせ機構ととも
   に、前記ウェハに接近したり、前記クエへから遠去かる
   工すに動くことができ、前記ある値は前記ｆＪＪうが前
   記ウェハにおいて前記露光を正しい焦点で行うための装
   置に配＊−ｇれている時だけ生ずること１−＊徴゛とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載の半導体ウェハ露光装
   置の位置決め装置。 （５）前記露光装置は映像をウニへ上に露光嘔ゼるため
   のカメラを含み、前記空気ジェット要素は前記ウェハの
   表面へ吹きつけられる隔てられた複数の空気ジェットを
   含み、各空気ジェットは対応する背圧センナを有し、前
   記台框前記半導体つェ八をとりつけるプラットホームを
   含み、このプラットホームは空気軸９により支持され、
   前記複数の空気ジェッ）Ｋより前記ウェハに加えられる
   圧力の下に前記プラットホームと前記ウェハを前記空気
   軸受に関して動けるようにし、かつ全ての前記センサに
   より検出された背圧が等しい時に、前記プラットホーム
   と前記ウェハが更に動くことを阻止するように前記空気
   軸受を固定するための要素を含み、前記全てのセンサに
   より検出された背圧が等しい状ｍは前記つ工への表面の
   一部と前記カメラの基準面との間の平行な位置合わせｔ
   示すことｔ−Ｖ徴とする特許請求の範囲第（１）項また
   は第（４）項記載の半導体ウェハ露光装置の位置決め装
   置ｘｔ、。 （６］　　前記算出装置はレチクルからの映像を前記ウ
   ェハ上ｒｃｌ！光させるためのカメラを含み、前記制御
   器は前記台駆動要素に前記とりつけられているウェハに
   前記カメラに関して予め選択されている位置のアレイま
   で段階的に動かすように逼せ、前記カメラは前記映像を
   前記各位置においてウニへ上に露光嘔せることを特徴と
   する特許請求の範囲第（２）項記載の半導体ウェハ露光
   装置の位置決め装置。 （７）　　前記カメラは回路パターンと位置合わせター
   ゲットを含む第１のレチクルから前記ウェハを初めに露
   光し、それにエリ前記ウェハが前記位置アレイ全通って
   歩進婆せられ、そのよりな各位置において露光が反復さ
   れた後で、そのウェハはそれぞれ関連する露光された位
   置合わせターゲットを有する露光された回路パターンの
   アレイを含み、その後で前記カメラは異なる回路パター
   ンと前記位置合わせターゲットと相補的な形の位置合わ
   せパターンとを含む第２のレチクルから前記ウェハを露
   光し、各アレイ位置において、前記第２のレチクル位置
   合わせパターンと、前記ウェハ上の露光された位置合わ
   せターゲットの虚像とを、前記ウェハを露光でせるため
   に用いられる同じカメラ・レンズ系を通じて同時に見る
   ための位置合わゼビュー要素を含み、同時に見られる前
   記虚像と前記パターンとを正しく位置合わせさせるよう
   に前記台は動くことができ、前記カメラはそのような正
   しい位置合わせが行われた時に前記その後の露光を行い
   、それにより前記異なる回路パターンの露光嘔れた像が
   各アレイ位置における前記ウニへ上の前記露光された回
   路パターンに正確に重なり合う開傘にあることを特徴と
   する特許請求の範囲第（６）項記載の半導体ウニ／４光
   装置の位置決め装置。