JPS58122927A - プリプレグの製造方法 - Google Patents
プリプレグの製造方法Info
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- JPS58122927A JPS58122927A JP651082A JP651082A JPS58122927A JP S58122927 A JPS58122927 A JP S58122927A JP 651082 A JP651082 A JP 651082A JP 651082 A JP651082 A JP 651082A JP S58122927 A JPS58122927 A JP S58122927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- dicyandiamide
- bisphenol
- organic solvent
- prepreg
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0326—Organic insulating material consisting of one material containing O
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硬化の速いプリプレグの簡易的な製造方法に関
するものである。本発明の実施により製造されたプリプ
レグは民生用のプリント基板材料として好適である@ プリント配線基板(PC)はプリプレグの複数枚、例え
ば8枚と接着剤付き銅箔を重ね、これを高温、高圧下に
プレス成形してプリプレグの樹脂を硬化させて得られる
銅張積層板で、これは通常、銅板上に回路をプリント印
刷後、フォトレジスト層を設け、光を照射してフォトレ
ジストを硬化させ、弱アルカリ溶液で未硬化の7オトレ
ジストを流し去り、更に酸エツチングによりフォトレジ
スト膜で被覆されていない銅部分を溶解し、水洗後、塩
化メチレン等で硬化したフオトレジス) IIEを除去
することにより製造される。この樹脂積層板の表面に銅
線回路が施こされたPCは電卓、マイコンの分野に広く
使用されている。
するものである。本発明の実施により製造されたプリプ
レグは民生用のプリント基板材料として好適である@ プリント配線基板(PC)はプリプレグの複数枚、例え
ば8枚と接着剤付き銅箔を重ね、これを高温、高圧下に
プレス成形してプリプレグの樹脂を硬化させて得られる
銅張積層板で、これは通常、銅板上に回路をプリント印
刷後、フォトレジスト層を設け、光を照射してフォトレ
ジストを硬化させ、弱アルカリ溶液で未硬化の7オトレ
ジストを流し去り、更に酸エツチングによりフォトレジ
スト膜で被覆されていない銅部分を溶解し、水洗後、塩
化メチレン等で硬化したフオトレジス) IIEを除去
することにより製造される。この樹脂積層板の表面に銅
線回路が施こされたPCは電卓、マイコンの分野に広く
使用されている。
かかるプリプレグ製造用樹脂としてはフェノール樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
が使用され、特にエポキシ樹脂は耐トラツキング性、耐
熱性に優れることから高級品に使用される。
不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
が使用され、特にエポキシ樹脂は耐トラツキング性、耐
熱性に優れることから高級品に使用される。
かかるエポキシ樹脂のプリプレグは、例えば予じめエポ
キシ当量187の液状のビスフェノールAのグリシジル
エーテルにテトラブロモジフェニロールプロパンを反応
させて高分子化した樹脂、例えば油化シェルエポキシ@
製エピコート] 045(商品名)をメチルエチルケト
ンで溶解し、この溶解液100iljii部に、硬化剤
のジシアンジアミドと硬化促進剤であるベンジルジメチ
ルアミンをの割合で混合して調製されたワニスをガラス
繊維布に含浸し、次いで140〜170℃で樹脂含浸布
を2〜10分乾燥させ有機溶剤を除去するとともに高分
子化樹脂と硬化剤とをある程度反応させる(B−ステー
ジ化)ことにより指触によりべとつかないプリプレグが
得られる。
キシ当量187の液状のビスフェノールAのグリシジル
エーテルにテトラブロモジフェニロールプロパンを反応
させて高分子化した樹脂、例えば油化シェルエポキシ@
製エピコート] 045(商品名)をメチルエチルケト
ンで溶解し、この溶解液100iljii部に、硬化剤
のジシアンジアミドと硬化促進剤であるベンジルジメチ
ルアミンをの割合で混合して調製されたワニスをガラス
繊維布に含浸し、次いで140〜170℃で樹脂含浸布
を2〜10分乾燥させ有機溶剤を除去するとともに高分
子化樹脂と硬化剤とをある程度反応させる(B−ステー
ジ化)ことにより指触によりべとつかないプリプレグが
得られる。
近時、このB−ステージ化の乾燥熱を高分子化樹脂の製
造に利用することが提案された。
造に利用することが提案された。
この方法は、ワニス中の高分子化樹脂の代りにビスフェ
ノールAのジグリシジルエーテルとテトラブロモジフェ
ニロールプロパンとこの反応触媒、例えばベンジルジメ
チルアミンを用い、B−ステージの乾燥工程において両
者を反応させて高分子化樹脂を調製するとともに、該樹
脂と硬化剤であるジシアンジアミドを反応させてB−ス
テージ化の反応を行う方法(1n−situ法)である
。
ノールAのジグリシジルエーテルとテトラブロモジフェ
ニロールプロパンとこの反応触媒、例えばベンジルジメ
チルアミンを用い、B−ステージの乾燥工程において両
者を反応させて高分子化樹脂を調製するとともに、該樹
脂と硬化剤であるジシアンジアミドを反応させてB−ス
テージ化の反応を行う方法(1n−situ法)である
。
この1n−situ法は、ワニス中に占める樹脂分が7
0〜80重t%と高くても低粘度であり、補強剤への含
浸が容易である利点を有する。
0〜80重t%と高くても低粘度であり、補強剤への含
浸が容易である利点を有する。
近年、電子、電気機器の小型化によりプリント配線板の
高密度配線化が計られるにともない配線間隔が非常に狭
くなり、ま、た部品挿入穴間隔も狭く々るに従い、25
0〜260℃に溶融された半田により部品を半田付けす
るときの熱ショックも増大し、それがためプリプレグ材
料により厳しい耐熱性が要求されている。
高密度配線化が計られるにともない配線間隔が非常に狭
くなり、ま、た部品挿入穴間隔も狭く々るに従い、25
0〜260℃に溶融された半田により部品を半田付けす
るときの熱ショックも増大し、それがためプリプレグ材
料により厳しい耐熱性が要求されている。
また、電気積層板の加工においても半田付は後 5−
の回路間のブリッジを取−ため210〜230℃の温度
で処理するハイドロスキージ−や半田メッキされた回路
のヒゲ欧りのため210〜230℃のオイルの中に浸漬
するオイル・フュージング法が導入され、ますます材料
が受ける熱ショックは増大した。かかる配線板に要求さ
れる耐熱性を考慮してエポキシ樹脂銅張り積層板のJ
I 5−C6482〜4の規格においては、基材として
ガラス繊維布を用いたときは260℃の半田浴で20秒
以上、紙を用いたときは260℃の温度の半田浴に10
秒以上耐えうる(半田耐熱性)こととしている。
で処理するハイドロスキージ−や半田メッキされた回路
のヒゲ欧りのため210〜230℃のオイルの中に浸漬
するオイル・フュージング法が導入され、ますます材料
が受ける熱ショックは増大した。かかる配線板に要求さ
れる耐熱性を考慮してエポキシ樹脂銅張り積層板のJ
I 5−C6482〜4の規格においては、基材として
ガラス繊維布を用いたときは260℃の半田浴で20秒
以上、紙を用いたときは260℃の温度の半田浴に10
秒以上耐えうる(半田耐熱性)こととしている。
この半田耐熱性試験はエポキシ樹脂/ガラス積層プリン
ト回路配線基板に各種の処理を施すときに表面欠陥とし
て現われるミーズリングの発生の有無を予測するのに役
立つ。
ト回路配線基板に各種の処理を施すときに表面欠陥とし
て現われるミーズリングの発生の有無を予測するのに役
立つ。
このミーズリングは積層板の表面を250 ℃’でロー
ラー・テイニングあるいはウェーブ・ソルダリングした
後に、積層板の表面に白い斑点が現われることをいい、
顕微鏡で観察するとこれらの斑 6− 点は織られたガラスクロスの最表面層の縦糸と横糸が交
差しているところで樹脂がガラスクロスより浮き上って
形成されていることが理解される。
ラー・テイニングあるいはウェーブ・ソルダリングした
後に、積層板の表面に白い斑点が現われることをいい、
顕微鏡で観察するとこれらの斑 6− 点は織られたガラスクロスの最表面層の縦糸と横糸が交
差しているところで樹脂がガラスクロスより浮き上って
形成されていることが理解される。
このミーズリングは従来よりジシアンジアミド硬化の場
合に時おり発生することが指摘されており、ガラス繊維
とエポキシ樹脂との密着性を向上させることにより解決
を計ろうと各種の異った処理のなされたガラスクロス、
例えばメタクリレート・クロミル・クロライド(通常ボ
ランA)処理、エポキシシラン処理、アミノシラン処理
等がなされたガラスクロスの使用が提案されている。
合に時おり発生することが指摘されており、ガラス繊維
とエポキシ樹脂との密着性を向上させることにより解決
を計ろうと各種の異った処理のなされたガラスクロス、
例えばメタクリレート・クロミル・クロライド(通常ボ
ランA)処理、エポキシシラン処理、アミノシラン処理
等がなされたガラスクロスの使用が提案されている。
しかしながらこれら処理のされたガラスクロスを用いて
も乾燥塔内でポリエポキシ化合物とポリフェノールの反
応を行う1n−situ法によってプリプレグを製造す
る場合はミーズリングが発生する機会が多いことが判明
した。
も乾燥塔内でポリエポキシ化合物とポリフェノールの反
応を行う1n−situ法によってプリプレグを製造す
る場合はミーズリングが発生する機会が多いことが判明
した。
通常、アミン系硬化剤の添加量は
÷
添加量(PHR)=(アミンザ相【ボキシ当量)X10
0アミン当量=アミンの分子Vアミンの活性水素の数上
式より算出された数値としている(即ち、エポキシ基の
数とアミンの活性水素の数が同一と々るように配合され
ている)。
0アミン当量=アミンの分子Vアミンの活性水素の数上
式より算出された数値としている(即ち、エポキシ基の
数とアミンの活性水素の数が同一と々るように配合され
ている)。
従って、1n−situ法においてはポリエポキシ化合
物とポリフェノールとが十分に反応したと仮定して、こ
の反応物のエポキシ当量とジシアンジアミドの活性水素
当量の比が1当量となるようにジシアンジアミドの配合
が行われてきた。即ち、ジシアンジアミドはビスフェノ
ールのジグリシジルエーテルとビスフェノールAおよび
/″!、たけテトラブロモビスフェニロールプロパンと
の和100重量部に対し、4〜5重量部の割合で通常、
使用されていた。
物とポリフェノールとが十分に反応したと仮定して、こ
の反応物のエポキシ当量とジシアンジアミドの活性水素
当量の比が1当量となるようにジシアンジアミドの配合
が行われてきた。即ち、ジシアンジアミドはビスフェノ
ールのジグリシジルエーテルとビスフェノールAおよび
/″!、たけテトラブロモビスフェニロールプロパンと
の和100重量部に対し、4〜5重量部の割合で通常、
使用されていた。
本発明者等はジシアンジアミドを硬化剤として用い、1
n−situ法によりプリプレグを製造する際のかかる
ミーズリングの発生を防ぐことをワニスの組成を変える
ことにより可能か否か検討したところ、驚くべきことに
ジシアンジアミドの配合量をエポキシ当量よりも少くす
ることによりミーズリングの発生が防げることを見い出
し、本発明に到達した。
n−situ法によりプリプレグを製造する際のかかる
ミーズリングの発生を防ぐことをワニスの組成を変える
ことにより可能か否か検討したところ、驚くべきことに
ジシアンジアミドの配合量をエポキシ当量よりも少くす
ることによりミーズリングの発生が防げることを見い出
し、本発明に到達した。
即ち、本発明はポリエポキシ化合物40〜95重量%と
ポリフェノール60〜5重ii!−%よりなる樹脂成分
に、硬化剤のジシアンジアミド、硬化促進□剤および有
機溶剤が配合されているクロスを、ガラス繊維布、紙等
のシート状補強材に含浸後、加熱により有機溶剤を除去
すると同時にポリエポキシ化合物とポリフェノールとを
反応させてプリプレグを製造する方法において、前記ク
ロスは樹脂成分100重量部に対し、硬化促進剤が0.
05〜3重量部、有機溶剤が15〜150重量部および
ジシアンジアミドが活性水素に対するエポキシ基の数(
R)が1.35〜30となる割合で配合されていること
を特徴とするプリプレグの製造方法を提供するものであ
る 但し、Rは次式 ポリエポキシ化合物重量 ポリフェノール電歇ジ
シアンジアミド重量 1 で計算されるものである。
ポリフェノール60〜5重ii!−%よりなる樹脂成分
に、硬化剤のジシアンジアミド、硬化促進□剤および有
機溶剤が配合されているクロスを、ガラス繊維布、紙等
のシート状補強材に含浸後、加熱により有機溶剤を除去
すると同時にポリエポキシ化合物とポリフェノールとを
反応させてプリプレグを製造する方法において、前記ク
ロスは樹脂成分100重量部に対し、硬化促進剤が0.
05〜3重量部、有機溶剤が15〜150重量部および
ジシアンジアミドが活性水素に対するエポキシ基の数(
R)が1.35〜30となる割合で配合されていること
を特徴とするプリプレグの製造方法を提供するものであ
る 但し、Rは次式 ポリエポキシ化合物重量 ポリフェノール電歇ジ
シアンジアミド重量 1 で計算されるものである。
=9一
本発明の実施において用いられるポリエポキシ化合物と
しては、分子内に少くとも2個以上のエポキシ基を含む
反応性のポリエポキシ或いはポリグリシジル化合物であ
り、例えばビスフェノール類又はハロゲン化ビスフェノ
ール類から誘導されるジグリシジルエーテル、環状脂肪
族ポリエポキシ化合物、ノボラック樹脂、ポリフェノー
ル又はポリヒドロキシフェノールのグリシジルエーテル
、芳香族オキシカルボン酸又は芳香族ジカルボン酸から
誘導されるグリシジルエーテル又はエステルダイマー酸
のジグリシジルエステル、ポリアルキレングリコールの
ジグリシジルエーテル、トリグリシジル・インシアヌレ
ート、N、N−ジグリシジル−5,5−ジメチル・ヒダ
ントイン等のN−グリシジル誘導体類、又はこれらのゴ
ム及びウレタン変性化物等のエポキシ当量が120〜1
200のポリエポキシ化合物の1種又は2種以上の化合
物を用いることができる。又、必要により低分子量のモ
ノエポキシ化合物の少量を併用することも差し支え表い
。
しては、分子内に少くとも2個以上のエポキシ基を含む
反応性のポリエポキシ或いはポリグリシジル化合物であ
り、例えばビスフェノール類又はハロゲン化ビスフェノ
ール類から誘導されるジグリシジルエーテル、環状脂肪
族ポリエポキシ化合物、ノボラック樹脂、ポリフェノー
ル又はポリヒドロキシフェノールのグリシジルエーテル
、芳香族オキシカルボン酸又は芳香族ジカルボン酸から
誘導されるグリシジルエーテル又はエステルダイマー酸
のジグリシジルエステル、ポリアルキレングリコールの
ジグリシジルエーテル、トリグリシジル・インシアヌレ
ート、N、N−ジグリシジル−5,5−ジメチル・ヒダ
ントイン等のN−グリシジル誘導体類、又はこれらのゴ
ム及びウレタン変性化物等のエポキシ当量が120〜1
200のポリエポキシ化合物の1種又は2種以上の化合
物を用いることができる。又、必要により低分子量のモ
ノエポキシ化合物の少量を併用することも差し支え表い
。
=10−
これらの中でも常温で液体であり、エポキシ当tが16
0〜200のビスフェノールへのジグリシジルエーテル
、ビスフェノールFのジグリシジルエーテルが安価であ
り、ガラス繊維への含浸性もよく取扱いやすいので好適
である。かかるものハ、例えば油化シェルエポキシ■よ
りエピコート828同807または同827の商品名で
販売されている。
0〜200のビスフェノールへのジグリシジルエーテル
、ビスフェノールFのジグリシジルエーテルが安価であ
り、ガラス繊維への含浸性もよく取扱いやすいので好適
である。かかるものハ、例えば油化シェルエポキシ■よ
りエピコート828同807または同827の商品名で
販売されている。
ポリフェノールとしてはテトラブロモジフェニロールプ
ロパン、テトラブロモジフェニロールメタン、臭素化ノ
ボラック、臭素化タレゾールノボラック等のハロゲン化
ポリフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、 ビスフェノールS1フエノールノボラツク、クレ
ゾールノボラック、カテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、テトラフェニルエタン等が単独で、または二種
以上混合して使用される。一般に・・ロゲン化ポリフェ
ノールは積層板に難燃性を付与するだめに用いられ、%
にテトラブロモジフェニロールプロパンは好適に用いら
れるが、硬化物の耐薬品性の向上をM待fるときはビス
フェノールA1ビスフエノールF1ノボラツクと併用す
る。
ロパン、テトラブロモジフェニロールメタン、臭素化ノ
ボラック、臭素化タレゾールノボラック等のハロゲン化
ポリフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、 ビスフェノールS1フエノールノボラツク、クレ
ゾールノボラック、カテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、テトラフェニルエタン等が単独で、または二種
以上混合して使用される。一般に・・ロゲン化ポリフェ
ノールは積層板に難燃性を付与するだめに用いられ、%
にテトラブロモジフェニロールプロパンは好適に用いら
れるが、硬化物の耐薬品性の向上をM待fるときはビス
フェノールA1ビスフエノールF1ノボラツクと併用す
る。
例えば、難燃性積層板用配合においてはジグリシシルエ
ーテルトテトラブロモジフェニロールプロパン、必要に
よりビスフェノールA等の多価フェノールが配合された
樹脂分中に占めるテトラブロモ)フェニロールプロパン
が25〜50重量%、最適には樹脂中に占める臭素含量
が17〜25重量%となるように配合される。テトラブ
ロモジフェニロールプロパンの量が少ないと硬化物の難
燃性が不足する。また、いたずらに多いとワニスの貯蔵
安定性が悪くなるとともに得られる硬化物の耐薬品性が
低下し、プリント配線板製造時に塩化メチレンで硬化し
たフォトレジスト膜を溶解させる際、エポキシ樹脂硬化
物が冒されることもある。
ーテルトテトラブロモジフェニロールプロパン、必要に
よりビスフェノールA等の多価フェノールが配合された
樹脂分中に占めるテトラブロモ)フェニロールプロパン
が25〜50重量%、最適には樹脂中に占める臭素含量
が17〜25重量%となるように配合される。テトラブ
ロモジフェニロールプロパンの量が少ないと硬化物の難
燃性が不足する。また、いたずらに多いとワニスの貯蔵
安定性が悪くなるとともに得られる硬化物の耐薬品性が
低下し、プリント配線板製造時に塩化メチレンで硬化し
たフォトレジスト膜を溶解させる際、エポキシ樹脂硬化
物が冒されることもある。
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、メ
チルn・グロビルケトン、メチルn・ブチルケトン、ジ
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn・ア
ミルケトン、エチルブチルケトン等のケトン類;メチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、n・ブチルアルコール等のアルコール類;ジオキサ
ン、ジメチルジオキサン、エチレンクリコールモノエチ
ルエーテル、エチレンクリコールモノエチルエーテル、
エチレンクリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類;ジメチルホルムアミド、トルエン
等々、沸点が50〜200℃の有機溶剤が単独で、また
は二種以上混合して使用される。
チルn・グロビルケトン、メチルn・ブチルケトン、ジ
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn・ア
ミルケトン、エチルブチルケトン等のケトン類;メチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、n・ブチルアルコール等のアルコール類;ジオキサ
ン、ジメチルジオキサン、エチレンクリコールモノエチ
ルエーテル、エチレンクリコールモノエチルエーテル、
エチレンクリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類;ジメチルホルムアミド、トルエン
等々、沸点が50〜200℃の有機溶剤が単独で、また
は二種以上混合して使用される。
これらの中でもポリエポキシ化合物とポリオールの良溶
媒であり、ジシアンジアミドを非常に溶解するジメチル
ホルムアミドはワニスの貯蔵性の面から好適であるが、
他の有機溶剤と比較して高価でめり、かつ、沸点が15
3℃と高くプリプレグ中に残存するおそれがあるので全
量の使用は避けるべきであり、アセトン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール等の溶剤と併用すべき
であるO アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロンルフ、メ
チルアルコール、エチルアルコール等ノ13− 極性溶媒は安価であり、沸点も低くプリプレグに残存し
ないので有利である。従来のジシアンジアミドの4〜5
重量部という配合量においてはこれらアルコール、ケト
ンの極性溶媒はワニスの粘度を低下させるが、いたずら
に多量に配合されるとワニス貯蔵中にポリフェノールや
、ジンアンジアミドが沈殿するので好ましくないとして
ジメチルホルムアミドを溶剤の全量もしくは大半をしめ
る割合で使用することが提案されていた(ジシアンジア
ミドの沈殿または結晶化析出はプリントやエツチングの
後のプリント回路基板表面に発生することが時おりある
窒素性ブラウン・スポツティングに関係があるとされて
いる)。
媒であり、ジシアンジアミドを非常に溶解するジメチル
ホルムアミドはワニスの貯蔵性の面から好適であるが、
他の有機溶剤と比較して高価でめり、かつ、沸点が15
3℃と高くプリプレグ中に残存するおそれがあるので全
量の使用は避けるべきであり、アセトン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール等の溶剤と併用すべき
であるO アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロンルフ、メ
チルアルコール、エチルアルコール等ノ13− 極性溶媒は安価であり、沸点も低くプリプレグに残存し
ないので有利である。従来のジシアンジアミドの4〜5
重量部という配合量においてはこれらアルコール、ケト
ンの極性溶媒はワニスの粘度を低下させるが、いたずら
に多量に配合されるとワニス貯蔵中にポリフェノールや
、ジンアンジアミドが沈殿するので好ましくないとして
ジメチルホルムアミドを溶剤の全量もしくは大半をしめ
る割合で使用することが提案されていた(ジシアンジア
ミドの沈殿または結晶化析出はプリントやエツチングの
後のプリント回路基板表面に発生することが時おりある
窒素性ブラウン・スポツティングに関係があるとされて
いる)。
しかしながらジメチルホルムアミドを多量に用いてジシ
アンジアミドの結晶析出を防いでもジメチルホルムアミ
ドは沸点が高いため乾燥塔では一番最後に除去される溶
剤であり、溶剤の蒸気が硬化物にまきこまれてパッド・
センター・ブラウン・スポツティングの発生をおこすこ
とが時お!7あるO 14− このパッド・センター・ブラウン・スポツティングの発
生を防ぐ方法としては溶剤として低沸点のものを用いて
プリプレグに揮発成分ができるだけ残らないようにする
方法と、ワニス中の樹脂成分含量を高める方法が考えら
れる。
アンジアミドの結晶析出を防いでもジメチルホルムアミ
ドは沸点が高いため乾燥塔では一番最後に除去される溶
剤であり、溶剤の蒸気が硬化物にまきこまれてパッド・
センター・ブラウン・スポツティングの発生をおこすこ
とが時お!7あるO 14− このパッド・センター・ブラウン・スポツティングの発
生を防ぐ方法としては溶剤として低沸点のものを用いて
プリプレグに揮発成分ができるだけ残らないようにする
方法と、ワニス中の樹脂成分含量を高める方法が考えら
れる。
本発明においては、ジンアンジアミドの配合量を理論当
量より少なく、■1ち、ポリエポキシ化合物とポリオー
ルの和100重量部に対して約0.2〜3.5重量部、
好ましくは1〜3重量部の割合で用いろので従来の配合
量(4〜5重量部)の場合と比較して溶剤の量を少くす
ることもできるし、ジメチルホルムアミドの使用量も少
なく、または全く使用せず低沸点のアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルセロソルブを多量または全量用いて
もジシアンジアミドの結晶析出を防ぐことができ、これ
らパッド・センターおよび窒素性ブラウン・スポツティ
ングより解放される利点がある。
量より少なく、■1ち、ポリエポキシ化合物とポリオー
ルの和100重量部に対して約0.2〜3.5重量部、
好ましくは1〜3重量部の割合で用いろので従来の配合
量(4〜5重量部)の場合と比較して溶剤の量を少くす
ることもできるし、ジメチルホルムアミドの使用量も少
なく、または全く使用せず低沸点のアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルセロソルブを多量または全量用いて
もジシアンジアミドの結晶析出を防ぐことができ、これ
らパッド・センターおよび窒素性ブラウン・スポツティ
ングより解放される利点がある。
次に、硬化剤としてはジシアンジアミドが使用されるが
、これを他の硬化剤、例えば、4,4′−ジアミノジフ
ェニルスルホン、3.3’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、m−フェニレンジアミン、2.4−トルエンジアミ
ン、ジアミノジトリルスルボン、4−メトキシ−6−メ
チル−m−フェニレンシアミン、4−クロロ−0−フェ
ニレンジアミン、ビス(3,4−シ7ミ/フェニル)ス
ルホン、O−フェニレンジアミン、4.4’−ビス(0
−)ルイジン)、ジアニシジン、ジクロロジアミノジフ
ェニルメタン、テトラクロロジアミノジフェニルメタン
、4゜4′−ジアミノジフェニルメタン等のポリアミン
化合物との併用も可能である〇 促進剤としては、ベンジルジメチルアミン、α−メチル
ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミンメチル
)フェノール、21416 F ’) ス(ジメチル
アミノメチル)フェノール、2,4.6−トリス(ジメ
チルアミノメチル)フェノールのトリー2−エチルヘキ
シル酸塩、ピリジン、ピペラジン、キノリン、ヘキサメ
チレンテトラミン、N−メチルモルホリン、N、N’−
ジメチルピペラジン、トリエタノールアミン、N−メチ
ルビペラジン、ピペリジン、モルホリン% BF3・ピ
ペリジン、BFa・イミダゾール、BFs・2メチルイ
ミダゾール、ピペリジン・アセテート、イミダゾールア
セテート、2−メチルイミダールール・アセテート、2
−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベン
ジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2
−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾリウム・イ
ンシアヌレート、1−シアンエチル−2−エチル−4−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾリウム・イ
ンシアヌレート、1−シアンエチル−2−ウンデシルト
リメリテートイミダゾリウム等の活性水素を有するアミ
ン系化合物があげられる。
、これを他の硬化剤、例えば、4,4′−ジアミノジフ
ェニルスルホン、3.3’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、m−フェニレンジアミン、2.4−トルエンジアミ
ン、ジアミノジトリルスルボン、4−メトキシ−6−メ
チル−m−フェニレンシアミン、4−クロロ−0−フェ
ニレンジアミン、ビス(3,4−シ7ミ/フェニル)ス
ルホン、O−フェニレンジアミン、4.4’−ビス(0
−)ルイジン)、ジアニシジン、ジクロロジアミノジフ
ェニルメタン、テトラクロロジアミノジフェニルメタン
、4゜4′−ジアミノジフェニルメタン等のポリアミン
化合物との併用も可能である〇 促進剤としては、ベンジルジメチルアミン、α−メチル
ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミンメチル
)フェノール、21416 F ’) ス(ジメチル
アミノメチル)フェノール、2,4.6−トリス(ジメ
チルアミノメチル)フェノールのトリー2−エチルヘキ
シル酸塩、ピリジン、ピペラジン、キノリン、ヘキサメ
チレンテトラミン、N−メチルモルホリン、N、N’−
ジメチルピペラジン、トリエタノールアミン、N−メチ
ルビペラジン、ピペリジン、モルホリン% BF3・ピ
ペリジン、BFa・イミダゾール、BFs・2メチルイ
ミダゾール、ピペリジン・アセテート、イミダゾールア
セテート、2−メチルイミダールール・アセテート、2
−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベン
ジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2
−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾリウム・イ
ンシアヌレート、1−シアンエチル−2−エチル−4−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾリウム・イ
ンシアヌレート、1−シアンエチル−2−ウンデシルト
リメリテートイミダゾリウム等の活性水素を有するアミ
ン系化合物があげられる。
更に補強基材としてはボラン処理ガラスクロス、エポキ
シシラン処理ガラスクロス、アミノシラン処理ガラスク
ロス等のガラスクロス、リンター紙、クラフト紙等があ
げられる〇 次にワニス成分の組成比について説明する。ワニス中の
樹脂成分に占めるポリエポキシ化合物と17− ポリフェノールの割合は前者が40〜95重量%、好ま
しくは50〜85重量%で、後者が60〜5重量%、好
捷しくけ50〜15重量%である。ポリエポキシ化合物
とポリフェノールの量比は用いるポリエポキシ化合物の
当量比によって左右される・一般にエポキシ当量が低い
ポリエポキシ化合物を用いる場合、ワニスの粘度が低い
利点を有するが、B−ステージ化でポリフェノールと反
応させて高分子化して得られる樹脂の架橋密度を一定に
するにはエポキシ当量が高いポリエポキシ化合物を用い
る場合よりもポリフェノールを多く使用する必要がある
。
シシラン処理ガラスクロス、アミノシラン処理ガラスク
ロス等のガラスクロス、リンター紙、クラフト紙等があ
げられる〇 次にワニス成分の組成比について説明する。ワニス中の
樹脂成分に占めるポリエポキシ化合物と17− ポリフェノールの割合は前者が40〜95重量%、好ま
しくは50〜85重量%で、後者が60〜5重量%、好
捷しくけ50〜15重量%である。ポリエポキシ化合物
とポリフェノールの量比は用いるポリエポキシ化合物の
当量比によって左右される・一般にエポキシ当量が低い
ポリエポキシ化合物を用いる場合、ワニスの粘度が低い
利点を有するが、B−ステージ化でポリフェノールと反
応させて高分子化して得られる樹脂の架橋密度を一定に
するにはエポキシ当量が高いポリエポキシ化合物を用い
る場合よりもポリフェノールを多く使用する必要がある
。
ポリフェノールを多く使用すると溶剤の使用量が多くな
り経済的でないし、ミーズリングの発生の機会を多くす
る。従って、樹脂成分中のポリエポキシ化合物の使用量
を40重量%以上とすべきである0また、ポリエポキシ
化合物を多量に用いるときは溶剤は少なくて済むが高分
子化した樹脂るとともに、鋼箔に対する接着力が低下す
るので18− ポリエポキシ化合物の使用量は95重量%以下とすべき
である。
り経済的でないし、ミーズリングの発生の機会を多くす
る。従って、樹脂成分中のポリエポキシ化合物の使用量
を40重量%以上とすべきである0また、ポリエポキシ
化合物を多量に用いるときは溶剤は少なくて済むが高分
子化した樹脂るとともに、鋼箔に対する接着力が低下す
るので18− ポリエポキシ化合物の使用量は95重量%以下とすべき
である。
一般に樹脂成分はワニス中の40〜80重V%となるよ
うに用いられる。
うに用いられる。
ジシアンジアミドは、次式で算出されるアミンの活性水
素に対するポリエポキシ化合物のエボギシ基の数■が1
.35〜30となるように、好ましくは1.5〜lOと
なるように配合されるジシアンジアミド重量 1 即ち、本発明においては従来法(R=1)に比較してジ
シアンジアミドは少なく使用される。
素に対するポリエポキシ化合物のエボギシ基の数■が1
.35〜30となるように、好ましくは1.5〜lOと
なるように配合されるジシアンジアミド重量 1 即ち、本発明においては従来法(R=1)に比較してジ
シアンジアミドは少なく使用される。
本発明においてジシアンジアミドの量を理論当fl(R
=1)より少なく用いても硬化物の機械的強度が低下し
ないのはベンジルジメチルアミン、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール等の硬化促進剤の一部が硬化剤の機能
をなし、硬化剤であるジシアンジアミドの活性水素の不
足量を補っているからと推測される。
=1)より少なく用いても硬化物の機械的強度が低下し
ないのはベンジルジメチルアミン、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール等の硬化促進剤の一部が硬化剤の機能
をなし、硬化剤であるジシアンジアミドの活性水素の不
足量を補っているからと推測される。
の値が大きい程増加する。硬化促進剤の弼が0.05重
量部未満では硬化反応速度が遅く好ましくない。
量部未満では硬化反応速度が遅く好ましくない。
また、3重量部を越えても硬化促進機能のより向上は望
めないので経済的に不利である。
めないので経済的に不利である。
有機溶剤は主にワニスの粘度を低下させてガラスクロス
等への含浸を容易とするため、およびジシアンジアミド
の結晶析出防止のために用いられるが多量の使用はB−
ステージ化における加熱時間が長く要することと、パッ
ド・センター・ブラウン・スポツティングの発生の原因
となるので好ましくない。一般に、樹脂成分]00]i
量部に対して15〜150重量部、好ましくは25〜1
00重量部の割合で用いるべきである。
等への含浸を容易とするため、およびジシアンジアミド
の結晶析出防止のために用いられるが多量の使用はB−
ステージ化における加熱時間が長く要することと、パッ
ド・センター・ブラウン・スポツティングの発生の原因
となるので好ましくない。一般に、樹脂成分]00]i
量部に対して15〜150重量部、好ましくは25〜1
00重量部の割合で用いるべきである。
このような組成のワニスの25℃における粘度はガラス
クロス等の基材への含浸性を容易とするため20℃で5
センチボイズ以下であることが好ましい。
クロス等の基材への含浸性を容易とするため20℃で5
センチボイズ以下であることが好ましい。
これら成分よりなるワニスは、常温でガラス繊維布、リ
ンター紙、クラフト紙等の補強材に樹脂楚が30〜75
重t%、好ましくは40〜60重間%となる割合の欝含
浸され、次いで120〜170℃に設定された乾燥室に
2〜10分間導かれ、補強材より有機溶剤が除去される
とともにポリエポキシ化合物とポリフェノールとの反応
が行われる(B−ステージ化)。
ンター紙、クラフト紙等の補強材に樹脂楚が30〜75
重t%、好ましくは40〜60重間%となる割合の欝含
浸され、次いで120〜170℃に設定された乾燥室に
2〜10分間導かれ、補強材より有機溶剤が除去される
とともにポリエポキシ化合物とポリフェノールとの反応
が行われる(B−ステージ化)。
有機溶剤が除去されることにより指触してべとつかない
ように調製されたグリプレグは切断によりシート状にさ
れ、この複数枚が接着剤付銅箔と重ねられ、次いで14
0〜180℃の温度で10〜100〜/dの圧力で1〜
2時間プレス成形され、樹脂が3次元に架橋されること
によりPCが製造される。
ように調製されたグリプレグは切断によりシート状にさ
れ、この複数枚が接着剤付銅箔と重ねられ、次いで14
0〜180℃の温度で10〜100〜/dの圧力で1〜
2時間プレス成形され、樹脂が3次元に架橋されること
によりPCが製造される。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。例中
の部および%は重量基準である。
の部および%は重量基準である。
実施例1
エポキシ当量186のビスフェノールAのジグリシジル
エーテル6エピコート 8282l− (E−828)” 50部 テトラブロモジフェニロールプロパン (分子量544、TBBA) 50部ジシアンジアミ
ド(D I CY ) 0.5部2−エチル−
4−メチルイミダゾール (2部4MZ) 1.0部 ジメチルホルムアミド(DMF) 34m上記成
分のワニス(樹脂成分75%、樹脂中のブロム含量29
.0%、20℃)中に、メタクリレート・クロミル・ク
ロライド処W −Marglas 5 XO,005イ
ンチ平織ガラス布を含浸後、160℃に設定された乾燥
室にワニス含浸布を2分間導き、溶剤を除去するととも
にエピコート828とテトラゾlffモジフェニロール
プロパンを反応させプリプレグを得た。
エーテル6エピコート 8282l− (E−828)” 50部 テトラブロモジフェニロールプロパン (分子量544、TBBA) 50部ジシアンジアミ
ド(D I CY ) 0.5部2−エチル−
4−メチルイミダゾール (2部4MZ) 1.0部 ジメチルホルムアミド(DMF) 34m上記成
分のワニス(樹脂成分75%、樹脂中のブロム含量29
.0%、20℃)中に、メタクリレート・クロミル・ク
ロライド処W −Marglas 5 XO,005イ
ンチ平織ガラス布を含浸後、160℃に設定された乾燥
室にワニス含浸布を2分間導き、溶剤を除去するととも
にエピコート828とテトラゾlffモジフェニロール
プロパンを反応させプリプレグを得た。
このグリプレグを切断し、得たプリプレグシート8枚と
接着剤付銅箔1枚を重ね、160℃で無圧下で10分間
予熱後、同温度で70に9/i、1時間の条件で積層成
形し、プリント配線基板を得た0 22− この樹脂硬化物のガラス転移点(Tg) は124℃
であった。
接着剤付銅箔1枚を重ね、160℃で無圧下で10分間
予熱後、同温度で70に9/i、1時間の条件で積層成
形し、プリント配線基板を得た0 22− この樹脂硬化物のガラス転移点(Tg) は124℃
であった。
上記配合において、Rは
50 50
0.5
1
プリント配線基板の半田耐熱性試験。
上記プリント配線基板を縦75won、横25關の長方
形に切断して試料片を作製した。この試料片を沸騰水中
に4時間浸漬した後、表面に付着している水分を布で拭
き取り2分間放置し、白化の有無を調べた。
形に切断して試料片を作製した。この試料片を沸騰水中
に4時間浸漬した後、表面に付着している水分を布で拭
き取り2分間放置し、白化の有無を調べた。
白化なし ○ ; 白化有 ×
次いで、この試料を260℃に維持された半田浴に30
秒間浸漬した後、試料片のガラス繊維と樹脂の・・ガレ
(ミーズリング)の有無を観察した。
秒間浸漬した後、試料片のガラス繊維と樹脂の・・ガレ
(ミーズリング)の有無を観察した。
水腫れがあるものを×とし、ガいものを○とした0
耐塩化メチレン性試験:
上記と同じ寸法の試料片(但し、銅張箔なし)を25℃
の塩化メチレン溶液に4時間浸漬した後、これを50℃
の熱風循環乾燥器内に1時間保存し、試料片のガラスク
ロスの浮き上りの有無を観察し上記試験結果を表1に示
す・ 実施例2〜10、比較例1〜5 表1に示す組成のワニスを用いて実施例1と同様にして
プリント配線基板を得た。このものの物性を表1に示す
。
の塩化メチレン溶液に4時間浸漬した後、これを50℃
の熱風循環乾燥器内に1時間保存し、試料片のガラスク
ロスの浮き上りの有無を観察し上記試験結果を表1に示
す・ 実施例2〜10、比較例1〜5 表1に示す組成のワニスを用いて実施例1と同様にして
プリント配線基板を得た。このものの物性を表1に示す
。
なお、表中の略記号は次の通りである。
El 001−B−80:
油化シェルエポキシ製ビスフェノールAのジグリシジル
エーテル(エポキシ当量475、固体、分子量約910
) E−80’7: 油化シェルエポキシ製ビスフェノールFのジグリシジル
エーテル(エポキシ当量167、液体、分子量約334
) E−154: 油化シェルエポキシ製フェノールノボラックのポリグリ
シジルエーテル(エポキシ当量176、半固体、分子量
約600) DPP : ビスフェノールA(分子量228) フェノールノボラック: 分子量約383、軟化魚釣72℃ BDMA: ベンジルジメチルアミン ゲル時間: 160℃のホットプレートにて測定。
エーテル(エポキシ当量475、固体、分子量約910
) E−80’7: 油化シェルエポキシ製ビスフェノールFのジグリシジル
エーテル(エポキシ当量167、液体、分子量約334
) E−154: 油化シェルエポキシ製フェノールノボラックのポリグリ
シジルエーテル(エポキシ当量176、半固体、分子量
約600) DPP : ビスフェノールA(分子量228) フェノールノボラック: 分子量約383、軟化魚釣72℃ BDMA: ベンジルジメチルアミン ゲル時間: 160℃のホットプレートにて測定。
(以下余白)
25−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、ポリエポキシ化合物40〜95重量%とポリフェ
ノール60〜5重量%よりなる樹脂成分に、硬化剤のジ
シアンジアミド、硬化促進剤および有機溶剤が配合され
ているワニスを、ガラス繊維布、紙等のシート状補強材
に含浸後、加熱により有機溶剤を除去すると同時にポリ
エポキシ化合物とポリフェノールとを反応させてプリプ
レグを製造する方法において、前記ワニスは樹脂成分1
00重量部に対し、硬化促進剤が帆05〜3重量部、有
機溶剤が15〜150重量部およびジシアンジアミドが
その活性水素に対するエポキシ基の数(R)が1.35
〜30となる割合で配合されていることを特徴とするプ
リプレグの製造方法但し、Rは次式 ホリエホキシイヒ刊麺1計 ポリフェノールttジ
シアンジアミド重量 I で計算されるものである。 2)、ポリエポキシ化合物がビスフェノールAのジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールFのジグリシジルエー
テルより選ばれたものであることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の製造方法。 3)、 ホ+) 7 工)−ルがテトラブロモジフェニ
ロールプロパン、ビスフェノールA1ビスフエノールF
1フエノールノボラツクより選ばれたものであることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 4)、有機溶剤がアセトン、メチルエチルケトン、ジメ
チルホルムアミド、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、メチルセロソルブよす選ばれたものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP651082A JPS58122927A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | プリプレグの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP651082A JPS58122927A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | プリプレグの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58122927A true JPS58122927A (ja) | 1983-07-21 |
Family
ID=11640409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP651082A Pending JPS58122927A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | プリプレグの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58122927A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61287966A (ja) * | 1985-06-15 | 1986-12-18 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂ワニス |
JPS62285958A (ja) * | 1986-06-03 | 1987-12-11 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂ワニス |
JPS63305124A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPS63305126A (ja) * | 1987-06-05 | 1988-12-13 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
WO1990006334A1 (en) * | 1987-06-02 | 1990-06-14 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Epoxy resin composition |
JPH02283715A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPH02283716A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPH02283713A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
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US5053475A (en) * | 1988-11-30 | 1991-10-01 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Epoxy resin composition |
JP2013018804A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Nagase Chemtex Corp | エポキシ樹脂組成物 |
-
1982
- 1982-01-19 JP JP651082A patent/JPS58122927A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH02283715A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPH02283716A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPH02283713A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-21 | Matsushita Electric Works Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
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JP2013018804A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Nagase Chemtex Corp | エポキシ樹脂組成物 |
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