JPH11297587A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6999162B1 (en) 1998-10-28 2006-02-14 Nikon Corporation Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device
US6686991B1 (en) 2000-11-06 2004-02-03 Nikon Corporation Wafer stage assembly, servo control system, and method for operating the same
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6987558B2 (en) * 2001-01-16 2006-01-17 Nikon Corporation Reaction mass for a stage device
US6538720B2 (en) 2001-02-28 2003-03-25 Silicon Valley Group, Inc. Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same
US6784978B2 (en) * 2002-03-12 2004-08-31 Asml Holding N.V. Method, system, and apparatus for management of reaction loads in a lithography system
US6724466B2 (en) * 2002-03-26 2004-04-20 Nikon Corporation Stage assembly including a damping assembly
US7061577B2 (en) 2002-03-26 2006-06-13 Nikon Corporation Image adjustor including damping assembly
US6844635B2 (en) * 2002-05-24 2005-01-18 Dover Instrument Corporation Reaction force transfer system
US6757110B2 (en) * 2002-05-29 2004-06-29 Asml Holding N.V. Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage
JP3977214B2 (ja) * 2002-09-17 2007-09-19 キヤノン株式会社 露光装置
JP3984898B2 (ja) * 2002-09-18 2007-10-03 キヤノン株式会社 露光装置
JP4378938B2 (ja) * 2002-11-25 2009-12-09 株式会社ニコン 露光装置、及びデバイス製造方法
US20040119964A1 (en) * 2002-12-18 2004-06-24 Nikon Corporation Double isolation fine stage
JP4458322B2 (ja) * 2003-01-14 2010-04-28 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP4517367B2 (ja) * 2003-09-03 2010-08-04 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
US7119884B2 (en) * 2003-12-24 2006-10-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005224532A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置の防振構造
JP2005227717A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成装置の固定構造
US7224432B2 (en) * 2004-05-14 2007-05-29 Canon Kabushiki Kaisha Stage device, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7126674B2 (en) * 2004-06-14 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Positioning device and device manufacturing method
JP4440031B2 (ja) * 2004-07-29 2010-03-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US7256866B2 (en) * 2004-10-12 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2006046101A1 (en) * 2004-10-27 2006-05-04 Carl Zeiss Smt Ag A six degree of freedom (dof) actuator reaction mass
US7227614B2 (en) * 2004-11-12 2007-06-05 Asml Netherlands B.V. Measurement method, device manufacturing method and lithographic apparatus
US7180571B2 (en) * 2004-12-08 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and actuator
JP2006344685A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Canon Inc 露光装置
WO2006133800A1 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
JP4130837B2 (ja) * 2006-06-16 2008-08-06 住友重機械工業株式会社 ステージ用反力処理装置
KR100876912B1 (ko) * 2006-07-13 2009-01-08 부산대학교 산학협력단 변위증폭측정 메카니즘을 구비한 스테이지
US7587946B2 (en) * 2006-08-31 2009-09-15 Tunney Timothy T Method and apparatus for testing roof edge components
JP2008098311A (ja) 2006-10-10 2008-04-24 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2008256155A (ja) * 2007-04-06 2008-10-23 Canon Inc 除振装置、演算装置、露光装置及びデバイス製造方法
SG10201502625RA (en) * 2007-07-18 2015-05-28 Nikon Corp Measuring Method, Stage Apparatus, And Exposure Apparatus
JP4485550B2 (ja) * 2007-07-30 2010-06-23 住友重機械工業株式会社 反力処理装置
JP5188135B2 (ja) 2007-10-05 2013-04-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2009164307A (ja) 2007-12-28 2009-07-23 Canon Inc 支持構造、露光装置、支持構造の形成方法、及び、デバイス製造方法
NL2002902A1 (nl) * 2008-06-18 2009-12-22 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus having a feed forward pressure pulse compensation for the metrology frame.
JP5350139B2 (ja) * 2008-10-01 2013-11-27 キヤノン株式会社 露光装置、及びデバイスの製造方法
US8235351B1 (en) * 2009-08-27 2012-08-07 Lockheed Martin Corporation Shock load isolation mounting
JP5641878B2 (ja) * 2010-10-29 2014-12-17 キヤノン株式会社 振動制御装置、リソグラフィー装置、および、物品の製造方法
JP5773761B2 (ja) * 2010-12-17 2015-09-02 キヤノン株式会社 リソグラフィーシステム、及びそれを用いた物品の製造方法
CN103472678B (zh) * 2012-06-08 2015-07-22 上海微电子装备有限公司 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统
US8899393B2 (en) * 2012-06-08 2014-12-02 Technical Manufacturing Corporation Active vibration isolation system
CN103809384B (zh) * 2012-11-12 2016-03-09 上海微电子装备有限公司 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机
US10184539B2 (en) 2014-09-30 2019-01-22 Technical Manufacturing Corporation Vibration isolation system
CN105807575B (zh) * 2014-12-30 2017-08-25 上海微电子装备有限公司 一种硅片边缘保护装置
EP3363085B1 (en) * 2015-10-16 2023-05-10 Thorlabs, Inc. Linear motor for fast tuning of a laser cavity
DE102017201598B4 (de) 2017-02-01 2019-02-14 Hiwin Mikrosystem Corp. Reaktionskraftentgegenwirkungsvorrichtung für ein metrologisches Werkzeug
JP7052197B2 (ja) * 2017-02-02 2022-04-12 ウシオ電機株式会社 露光装置
DE112018004189T5 (de) 2017-08-15 2020-04-30 Technical Manufacturing Corporation Präzisions-Schwingungsisolationssystem mit Boden-Feed-Forward-Unterstützung
US11094499B1 (en) * 2020-10-04 2021-08-17 Borries Pte. Ltd. Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising sliding specimen table within objective lens
IL295833B2 (en) * 2022-08-22 2023-09-01 Elbit Systems Electro Optics Elop Ltd A passive stabilization system with a linear copy subsystem to maintain cargo orientation

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4473292A (en) * 1982-02-09 1984-09-25 Censor Patent-Und Versuchsanstalt Dampening system
US4927119A (en) * 1986-02-24 1990-05-22 Kimball Industries, Inc. Reversible flow valve for air isolated bases
JPH01188241A (ja) 1988-01-22 1989-07-27 Canon Inc 移動案内装置
JPH01284793A (ja) 1988-05-11 1989-11-16 Canon Inc 基板支持装置
DE3917408A1 (de) * 1988-06-06 1989-12-07 Takenaka Corp Daempfungssockel
JP2728898B2 (ja) 1988-10-05 1998-03-18 キヤノン株式会社 露光装置
JP3031940B2 (ja) 1990-02-21 2000-04-10 キヤノン株式会社 移動案内装置
GB2249189B (en) 1990-10-05 1994-07-27 Canon Kk Exposure apparatus
NL9100407A (nl) 1991-03-07 1992-10-01 Philips Nv Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.
JP2714502B2 (ja) 1991-09-18 1998-02-16 キヤノン株式会社 移動ステージ装置
JP3245932B2 (ja) 1992-02-06 2002-01-15 キヤノン株式会社 光半導体装置、その駆動方法及びそれを用いた光伝送方式
US5549269A (en) * 1992-03-27 1996-08-27 Gertel; Maurice Gas spring assembly
JPH06188181A (ja) * 1992-12-21 1994-07-08 Jeol Ltd 荷電粒子ビーム描画方法
JP3277581B2 (ja) * 1993-02-01 2002-04-22 株式会社ニコン ステージ装置および露光装置
JP2974535B2 (ja) 1993-03-11 1999-11-10 キヤノン株式会社 位置決め装置
US5356110A (en) * 1993-06-08 1994-10-18 Newport Corporation Pneumatic isolation systems for damping vertical, horizontal and rotational vibrations
JP3226704B2 (ja) * 1994-03-15 2001-11-05 キヤノン株式会社 露光装置
US5874820A (en) * 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
JPH08111371A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Canon Inc 投影露光装置
KR100399812B1 (ko) * 1994-10-11 2003-12-01 가부시키가이샤 니콘 스테이지용진동방지장치
JP3500737B2 (ja) * 1994-10-21 2004-02-23 株式会社ニコン 走査型露光装置
JP3193586B2 (ja) * 1995-04-21 2001-07-30 キヤノン株式会社 半導体露光装置
DE69631362T2 (de) * 1995-10-04 2004-11-04 Ebara Corp. Vorrichtung zur Schwingungsdämpfung
US5931441A (en) * 1996-02-29 1999-08-03 Nikon Corporation Method of isolating vibration in exposure apparatus
US6002987A (en) * 1996-03-26 1999-12-14 Nikon Corporation Methods to control the environment and exposure apparatus
JP3337906B2 (ja) * 1996-04-02 2002-10-28 キヤノン株式会社 空圧式振動絶縁除去装置、投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
JPH09289155A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Nikon Corp 走査型露光装置
JP3659529B2 (ja) * 1996-06-06 2005-06-15 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
KR100483982B1 (ko) * 1996-06-07 2005-08-10 가부시키가이샤 니콘 진동절연장치및노광장치
KR980006398A (ko) * 1996-06-21 1998-03-30 마에다 시게루 진동 감쇄장치
JP3266515B2 (ja) * 1996-08-02 2002-03-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置
JPH1089403A (ja) * 1996-09-10 1998-04-07 Nikon Corp 防振装置
US6222614B1 (en) * 1996-12-06 2001-04-24 Nikon Corporation Exposure elements with a cable-relaying support
JP3825869B2 (ja) * 1997-03-19 2006-09-27 キヤノン株式会社 能動除振装置
US5959427A (en) * 1998-03-04 1999-09-28 Nikon Corporation Method and apparatus for compensating for reaction forces in a stage assembly

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