JPH11171543A - 金属酸化物微粒子の製造方法 - Google Patents

金属酸化物微粒子の製造方法

Info

Publication number
JPH11171543A
JPH11171543A JP10212702A JP21270298A JPH11171543A JP H11171543 A JPH11171543 A JP H11171543A JP 10212702 A JP10212702 A JP 10212702A JP 21270298 A JP21270298 A JP 21270298A JP H11171543 A JPH11171543 A JP H11171543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
fine particles
metal oxide
organic solvent
particle size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10212702A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4184487B2 (ja
Inventor
Ryuji Kadota
隆二 門田
Kasumi Nakamura
佳澄 中村
Osami Inoue
長三 井上
Masahiro Omori
将弘 大森
Atsushi Tanaka
淳 田中
Takashi Yamashita
任 山下
Mayumi Miyazawa
真弓 宮澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP21270298A priority Critical patent/JP4184487B2/ja
Priority to EP98937804A priority patent/EP1026125B1/en
Priority to PCT/JP1998/003604 priority patent/WO1999008963A1/ja
Priority to TW087113328A priority patent/TW460406B/zh
Priority to US09/134,732 priority patent/US6328947B1/en
Publication of JPH11171543A publication Critical patent/JPH11171543A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4184487B2 publication Critical patent/JP4184487B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G1/00—Methods of preparing compounds of metals not covered by subclasses C01B, C01C, C01D, or C01F, in general
    • C01G1/02—Oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
    • C01B13/32—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by oxidation or hydrolysis of elements or compounds in the liquid or solid state or in non-aqueous solution, e.g. sol-gel process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G17/00—Compounds of germanium
    • C01G17/02—Germanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G19/00—Compounds of tin
    • C01G19/02—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00—Compounds of titanium
    • C01G23/04—Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047—Titanium dioxide
    • C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
    • C01G23/0536—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts by hydrolysing chloride-containing salts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00—Compounds of zirconium
    • C01G25/02—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G30/00—Compounds of antimony
    • C01G30/004—Oxides; Hydroxides; Oxyacids
    • C01G30/005—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G35/00—Compounds of tantalum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/52—Particles with a specific particle size distribution highly monodisperse size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 粒子凝集が少なく平均粒径が２０ｎｍ以下の
粒径分布の狭い微粒子状金属酸化物を製造する方法を提
供し、また金属酸化物が酸化チタンである場合はその結
晶型を制御できる製造方法を提供する。 【解決手段】 水１００容量部に対し、２００〜１０．
０００容量部の有機溶媒の存在下にハロゲン化金属を加
水分解することを特徴とする。この場合、四塩化チタン
の加水分解では溶媒を親水性とすることによりアナター
ゼ型の酸化チタンを、疎水性とすることによりルチル型
の酸化チタンを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は金属酸化物微粒子の
製造方法に関し、さらに詳しくは粒径分布が狭く、しか
も粒子凝集の少ない金属酸化物微粒子の製造方法に関す
るものである。金属酸化物としては二酸化チタン（以下
酸化チタンという）が好ましい。
【０００２】
【従来の技術】近年、セラミックなどの粉体成形の分野
において、微細加工可能な高寸法精度材料として粒径分
布が狭く、粒子凝集の少ない金属酸化物の微粒子が求め
られている。特に酸化チタンは光触媒、光通信、化粧品
などの分野で有用な粉体材料として注目されている。酸
化チタンには代表的な結晶型としてルチル型とアナター
ゼ型がある。ルチル型酸化チタンは、紫外線遮蔽効果や
高屈折率などの光学的特性、あるいは絶縁性や高誘電特
性といった電気的特性の他に、塩基性抗生物質や海水中
の炭酸ウラニルなどの吸着剤としての性能にも優れてい
ることが知られている。アナターゼ型酸化チタンは、強
い光触媒作用として、微生物などに抗菌作用を示し、Ｏ
−１５７やＭＲＳＡ（メチシリン耐性黄色ぶどう球菌）
への効果が優れていることが知られている。また照明器
具等に塗布して、その触媒作用により照明器具等の防汚
剤として用いられる。電気特性に関しては、高温で安定
なルチル型が低温で生成しやすいアナターゼ型よりも優
れている。屈折率や吸着特性もルチル型の方が高いこと
が知られている。一方、光触媒活性では、ルチル型より
もアナターゼ型の方が高いことが知られている。このよ
うに、結晶型により、特性が異なることから、個々の結
晶型を高純度に製造することが望まれている。
【０００３】通常、非晶質の酸化チタンは３００℃でア
ナターゼ型、６００℃でルチル型となることが知られ、
高温での結晶型の制御を行っている。金属酸化物の微粒
子を製造する方法としては、有機溶媒の金属アルコキシ
ドの加水分解により製造する方法が、例えば特開昭６１
−２６６３０８号公報（金属としてアンチモン）に提案
されている。また、有機金属化合物の加水分解により製
造する方法が特開平１−２３０４０７号公報に提案され
ている。ここでは各種の金属が挙げられている。その他
有機チタン化合物と水混和有機溶媒とを混合した溶液
に、無機酸水溶液を添加して加水分解を行い、ルチル型
酸化チタンを製造する方法（特開平６−３０５７３０
号）が提案されている。しかし、これらの方法において
生成する粒子は、粒径分布が広く、また凝集しやすいと
いう問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
技術的課題を背景になされたもので、粒径制御が容易で
あり、粒子凝集が少なく粒径分布の狭い金属酸化物微粒
子、好ましくは酸化チタン微粒子を製造する方法を提供
することを目的とする。さらに他の目的は、金属酸化物
が酸化チタンの場合は溶媒の選択により所望の結晶型の
酸化チタンとすることができる製造方法を提供すること
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
すべく鋭意研究した結果到達したもので、以下の各発明
からなる。 （１） 有機溶媒の存在下にハロゲン化金属を加水分解
することを特徴とする金属酸化物微粒子の製造方法、
（２） 有機溶媒の量が水１００容量部に対し、２００
〜１０，０００容量部である上記（１）記載の金属酸化
物微粒子の製造方法、（３） 金属酸化物微粒子の平均
粒径が２０ｎｍ以下である上記（１）または（２）に記
載の金属酸化物微粒子の製造方法、（４） ハロゲン化
金属が四塩化チタンであり、金属酸化物が二酸化チタン
である上記（１）乃至（３）に記載の金属酸化物微粒子
の製造方法、（５） 有機溶媒が親水性であり、二酸化
チタンがアナターゼ型である上記（４）に記載の金属酸
化物微粒子の製造方法、（６） 有機溶媒が疎水性であ
り、二酸化チタンがルチル型である上記（４）に記載の
金属酸化物微粒子の製造方法。
【０００６】上記の方法により平均粒径が２０ｎｍ以下
で粒径分布が狭く、粒子凝集の少ない金属酸化物微粒子
を得ることができる。
【０００７】
【発明の実施の態様】以下本発明を詳しく説明する。本
発明の金属酸化物微粒子の製造方法は、基本的にはハロ
ゲン化金属の加水分解法であるが、その際に有機溶媒を
好ましくは多量に添加することにより前記目的を達成し
たものである。本発明で対象とする金属酸化物は、その
ハロゲン化金属の加水分解により金属酸化物となるもの
が挙げられ、周期律表第 III、IV及びＶ族などの金属の
酸化物、例えば酸化珪素、酸化ゲルマニウム、酸化錫、
酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化硼素、酸化ガリウ
ム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化スカンジウ
ム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化アンチモ
ン、酸化ビスマス、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化
タンタル、酸化ランタノイド、酸化アクチノイドなどの
金属酸化物が挙げられ、好ましくは酸化珪素、酸化ゲル
マニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸
化タンタルなどであり、さらに好ましくは酸化チタンで
ある。これらの金属酸化物を加水分解により得るための
ハロゲン化金属は一般式としてＭＸn （Ｍは金属元素、
Ｘはハロゲン、ｎはＭの原子価に相当する整数）で表わ
される。
【０００８】このようなハロゲン化金属の具体例として
は、塩化珪素、塩化ゲルマニウム、塩化錫、塩化チタ
ン、塩化ジルコニウム、塩化硼素、塩化ガリウム、塩化
インジウム、塩化タリウム、塩化スカンジウム、塩化イ
ットリウム、塩化ランタン、塩化アンチモン、塩化ビス
マス、塩化バナジウム、塩化ニオブ、塩化タンタル、塩
化ランタノイド、塩化アクチノイド、臭化珪素、臭化ゲ
ルマニウム、臭化錫、臭化チタン、臭化ジルコニウム、
臭化硼素、臭化ガリウム、臭化インジウム、臭化タリウ
ム、臭化スカンジウム、臭化イットリウム、臭化ランタ
ン、臭化アンチモン、臭化ビスマス、臭化バナジウム、
臭化ニオブ、臭化タンタル、臭化ランタノイド、臭化ア
クチノイドなどの金属原子が挙げられ、好ましくは塩化
珪素、塩化ゲルマニウム、塩化チタン、塩化ジルコニウ
ム、臭化珪素、臭化ゲルマニウム、臭化チタン、臭化ジ
ルコニウムなどであり、さらに好ましくは塩化チタン
（四塩化チタン）である。
【０００９】これらのハロゲン化金属化合物は、単独あ
るいは２種以上組み合わせて使用できる。これらのハロ
ゲン化金属の加水分解は前記一般式を用いると ＭＸn ＋ １／２ｎＨ2 ０ → Ｍ０n/2 ＋ ｎＨ
Ｃ１ （Ｍ０n/2 はＭＸn のｎが３または５のときＭ2 ０3 ま
たはＭ2 ０5 となる） 上式から加水分解に要する水の理論量が定まる。本発明
においては水の量はこの理論量の１〜１００倍、好まし
くは１〜１０倍の範囲が適する。水の量が多すぎると生
成する粒子の凝集が激しくなる。本発明で用いる水とし
ては、一般水道水、蒸留水、イオン交換水などを用いる
ことができる。これらのうち、蒸留水またはイオン交換
水が好ましく、特に電気伝導度が２×１０-6／Ωｃｍ以
下のイオン交換水が好ましい。
【００１０】本発明で用いられる有機溶媒としては、ハ
ロゲン化金属に水を加えても加水分解しない温度以下の
凝固点を有するもの、好ましくは凝固点が０℃以下、特
に−１０℃以下のものがよい。この有機溶媒としては、
ハロゲン化金属との反応性を有しないもの、例えばアル
コール類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素、ケトン類、エステル類、エーテル類、
アミド類、スルオキシド類、スルホン類、スルホン酸エ
ステル類などを挙げることができる。
【００１１】これらの有機溶媒の具体例としては、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペン
タノール、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、
ベンジルアルコール、メチルシクロヘキサノール、エタ
ンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペン
タンジオール、ヘキシレンジオール、オクチレンジオー
ル、ヘキサントリオール、蟻酸ブチル、蟻酸ペンチル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ベンジル、３−メト
キシブチルアセテート、２−エチルブチルアセテート、
２−エチルヘキシルアセテート、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン
酸ペンチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、
ジメチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘ
キサノン、メチルイソブチルケトン、ヘプタノン、ジイ
ソブチルケトン、アセトニトリル、ジエチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、テトラ
ヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジメトキシエタ
ン、ジエトキシエタン、ジブトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、メチラール、
【００１２】セタール、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、トルエン、
キシレン、エチルベンゼン、クメン、ミシチレン、テト
ラリン、ブチルベンゼン、シメン、ジエチルベンゼン、
ペンチルベンゼン、ジペンチルベンゼン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、デカリン、クロロメタン、ジクロロメタ
ン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、クロロエ
タン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロ
ロエタン、ペンタクロロエタン、クロロプロパン、ジク
ロロプロパン、トリクロロプロパン、クロロブタン、ジ
クロロブタン、トリクロロブタン、クロロペンタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン、ジ
クロロトルエン、ブロモメタン、ブロモエタン、ブロモ
プロパン、ブロモベンゼン、クロロブロモエタンなどが
挙げられる。これらのうち、アルコール類、アミド類及
び炭化水素類が好ましく、特にエタノール、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、トルエンなどが好
ましい。また前記有機溶媒は、単独でまたは２種以上組
み合わせて使用することができる。
【００１３】上記のハロゲン化金属、水及び有機溶媒の
混合方法は特に制限はない。例えば初めに水と有機溶媒
を混合し、これにハロゲン化金属を添加してもよい。そ
の際水と有機溶媒とが均一に溶解混合する場合には、混
合物をそのまま使用する。また、水と有機溶媒とが均一
に混合しない場合には、例えばｌ，２−ビス−（２−エ
チルヘキシルオキシカルボニル）−１−エタンスルホン
酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテルなどの界面活性剤を使用したり、撹拌処理、超音
波処理などの方法で均一に分散させる。界面活性剤を使
用して分散させると本発明の組成は有機溶媒が多いので
通常はＷ／Ｏ型のエマルジョンとなる。また水にハロゲ
ン化金属を加え、その後有機溶媒を加えてもよい。この
場合は水とハロゲン化金属とは有機溶媒を加えるまでは
加水分解しないような温度条件にしておく必要がある。
本発明はハロゲン化金属の加水分解を有機溶媒の存在下
で行なうことを不可欠としているからである。
【００１４】ハロゲン化金属に対する水の添加量は前記
した範囲であるが、本発明はこの水に対して有機溶媒を
使用、好ましくは多量に使用することを特徴とする。即
ち、水１００容量部に対して好ましくは有機溶媒２００
〜１０，０００容量部、さらにくは１，０００〜７，０
００容量部である。有機溶媒の量が少ないと生成する微
粒子が結合した状態で成長し、粒径制御が困難になる
が、２００容量部以上とすることにより、これらを効果
的に防止でき、一方１０，０００容量部を越えると溶液
が希薄すぎて、微粒子の生成後の遠心分離、濾過等の操
作が厄介となり、また経済的にも不利である。上記の混
合物を加熱して加水分解を行なうが、加水分解温度はハ
ロゲン化金属の加水分解が進行する温度であれば特に制
限はないが、反応速度を早める等から混合溶液あるいは
分散液の沸点近傍が好ましい。
【００１５】次に金属酸化物が酸化チタンである場合に
ついて特に説明する。ハロゲン化チタンを有機溶媒の存
在下で加水分解すると有機溶媒の種類により生成する酸
化チタンの結晶型を変えることができる。即ち有機溶媒
として親水性のものを用いると生成する酸化チタンがア
ナターゼ型となり、疎水性ではルチル型となる。これに
よって夫々の用途に適した所望する結晶型の酸化チタン
を得ることが可能となる。
【００１６】親水性有機溶媒は水と常温で混和するもの
を言うが、特に本発明において好ましく用いられるもの
は、メタノール、エタノール、ブタノール、などのアル
コール類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ドなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトンなど
のケトン類である。疎水性有機溶媒は水と混和しないも
のを云い、特に好ましい例を挙げれば、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類である。加水
分解に用いられるハロゲン化チタンとしては、ＴｉＣｌ
4 などの塩素化チタン、ＴｉＢｒ4 などの臭素化チタ
ン、ＴｉＩ4 などのヨウ素化チタンを挙げることができ
る。これらの中ではＴｉＣｌ4 がもっとも好ましい。そ
の他ハロゲン化チタンと水、有機溶媒の混合割合、加水
分解条件等については先に説明したものと同じである。
【００１７】加水分解によって生成する金属酸化物の微
粒子は、濾過、遠心分離などによって反応生成液から分
離し、洗浄、熱風乾燥、赤外線乾燥、噴霧乾燥、真空乾
燥などにより乾燥する。このようにして得られた金属酸
化物の微粒子は平均粒径で２０ｎｍ以下であり、保存に
よる凝集が起こりにくく、そのままセラミックス、その
他の材料として使用してもよく、あるいは仮焼して使用
してもよい。
【００１８】
【実施例】次に、本発明を実施例により詳しく説明す
る。ただし、本発明は、下記実施例に何ら制限を受ける
ものではない。 （実施例１）１００ｍｌのフラスコに四塩化チタン３ｇ
と水２ｍｌを入れ、これにジメチルホルムアミド４０ｍ
ｌを加え、還流冷却器をつけて、１００℃にて１時間加
熱して四塩化チタンを加水分解した。得られたゾルを遠
心分離し、エタノール及び水で洗浄後減圧乾燥して微粒
子を得た。この微粒子をＸ線回折したところアナターゼ
型の結晶性酸化チタンであった。Ｘ線回折図を図１に示
す。また透過型電子顕微鏡により、粒径は２〜３ｎｍで
あり、粒径分布が狭いことが判明した。
【００１９】（実施例２）１００ｍｌのフラスコに四塩
化チタン３ｇと水２ｍｌを入れ、これにエタノール４０
ｍｌを加え、還流冷却器を付けて１時間加熱還流して四
塩化チタンを加水分解した。水洗後得られたゾルから実
施例１と同様（但し洗浄は水のみ）にして微粒子を得
た。これをＸ線回折したところアナターゼ型の結晶性酸
化チタンであった。また透過型電子顕微鏡により、粒径
は２〜６ｎｍであり、粒径分布は狭いことが判明した。
【００２０】（実施例３）１００ｍｌのフラスコに四塩
化チタン３ｇと水２ｍｌを入れ、これにトルエン４０ｍ
ｌを加え、還流冷却器を付けて１００℃にて１時間加熱
して四塩化チタンを加水分解した。以下、実施例１と同
様にして微粒子を得た。これをＸ線回折したところルチ
ル型の結晶性酸化チタンであった。Ｘ線回折図を図２に
示す。また透過型電子顕微鏡により、粒径は２〜７ｎｍ
であり、粒径分布が狭いことが判明した。
【００２１】（実施例４）四塩化チタン３．７ｇを約１
０℃でジメチルホルムアミド４０ｍｌに溶解して１００
ｍｌのフラスコに入れ、さらに、０．７ｍｌの水を温度
上昇しないように滴下し、つぎに１００℃で１時間加熱
して四塩化チタンを加水分解した。以下、実施例１と同
様にして微粒子を得た。この微粒子はＸ線回折の結果、
アナターゼ型の結晶性酸化チタンであった。また透過型
電子顕微鏡により、粒径は２〜４ｎｍであり、粒径分布
が狭いことが判明した。
【００２２】（実施例５）１００ｍｌのフラスコに塩化
珪素（ＳｉＣｌ4 ）３ｇと水２ｍｌを入れ、これにジメ
チルアセトアミド４０ｍ１を加えて、還流冷却管をつ
け、１００℃にて１時間加熱、加水分解した。以下実施
例１と同様にして微粒子１．２ｇを得た。この微粒子は
Ｘ線回折により結晶性の酸化珪素（ＳｉＯ2 ）であっ
た。その粒径は透過型電子顕微鏡により、３〜５ｎｍで
あり、粒径分布は狭いものであった。
【００２３】（実施例６）１００ｍｌのフラスコを用
い、塩化アンチモン（ＳｂＣｌ3 ）５．８ｇを約１０℃
でジメチルアセトアミド４０ｍｌに溶解し、さらに０．
９ｍｌの水を温度が上昇しないように滴下し、還流冷却
管をつけ、１００℃にて１時間、加水分解した。以下実
施例１と同様にして微粒子２ｇを得た。この微粒子はＸ
線回折により結晶性の酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ3 ）で
あった。その粒径は透過型電子顕微鏡により、２〜５ｎ
ｍであり、粒径分布は狭いものであった。
【００２４】（実施例７）１００ｍｌのフラスコを用
い、塩化錫（ＳｎＣｌ4 ）５．１ｇを約１０℃でジメチ
ルアセトアミド４０ｍｌに溶解し、さらに０．７ｍｌの
水を温度が上昇しないように滴下し、還流冷却管をつ
け、１００℃にて１時間、加水分解した。以下実施例１
と同様にして微粒子２．５ｇを得た。この微粒子はＸ線
回折により結晶性の酸化錫（ＳｎＯ2 ）であった。その
粒径は透過型電子顕微鏡により、２〜４ｎｍであり、粒
径分布は狭いものであった。
【００２５】（実施例８）１００ｍｌのフラスコを用
い、塩化ジルコニウム（ＺｒＣｌ4 ）４．５ｇを約１０
℃でジメチルアセトアミド４０ｍｌに溶解し、さらに
０．７ｍｌの水を温度が上昇しないように滴下し、還流
冷却管をつけ、１００℃にて１時間、加水分解した。以
下実施例１と同様にして微粒子２．１ｇを得た。この微
粒子はＸ線回折により結晶性の酸化ジルコニウム（Ｚｒ
Ｏ2 ）であった。その粒径は透過型電子顕微鏡により、
３〜５ｎｍであり、粒径分布は狭いものであった。
【００２６】（実施例９）ｌ００ｍｌのフラスコを用
い、塩化タンタル（ＴａＣｌ5 ）７ｇを約１０℃でジメ
チルアセトアミド４０ｍｌに溶解し、さらに０．９ｍｌ
の水を温度が上昇しないように滴下し、還流冷却管をつ
け、１００℃にて１時間、加水分解した。以下実施例１
と同様にして微粒子２．５ｇを得た。この粒子はＸ線回
折により結晶性の酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）であっ
た。その粒径は透過型電子顕微鏡により、２〜３ｎｍで
あり、粒径分布は狭いものであった。
【００２７】（実施例１０）１００ｍ１のフラスコを用
い、塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ4 ）４．２ｇを約１０
℃でジメチルアセトアミド４０ｍ１に溶解し、さらに
０．７ｍｌの水を温度が上昇しないように滴下し、還流
冷却管をつけ、１００℃にて１時間、加水分解した。以
下実施例１と同様にして微粒子１．８ｇを得た。この微
粒子はＸ線回折により結晶性の酸化ゲルマニウム（Ｇｅ
Ｏ2 ）であった。その粒径は透過型電子顕微鏡により、
２〜３ｎｍであり、粒径分布は狭いものであった。以上
の各実施例で得られた微粒子は殆ど凝集がないか凝集の
少ない分散性のよいものであった。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、有機溶媒の存在下でハ
ロゲン化金属を水で加水分解することにより凝集が少な
く分散性のよい金属酸化物微粒子を得ることができる。
特に有機溶媒量が水に対して２００〜１０，０００容量
倍の条件で用いる場合は、この効果は顕著である。また
その粒径分布はかなり狭い範囲とすることができる。ハ
ロゲン化金属が四塩化チタンであり、金属酸化物が酸化
チタンである場合には、有機溶媒を親水性か疎水性かに
することにより酸化チタンの結晶型をアナターゼ型かル
チル型にすることができ、用途に応じて選択適用すれば
よく、結晶性を任意に制御できる製造方法を提供するこ
とができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によって得られたアナターゼ型の結晶性
酸化チタンのＸ線回折図である。
【図２】本発明によって得られたルチル型の結晶性酸化
チタンのＸ線回折図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｂ 33/24 33/24 (72)発明者 大森 将弘 千葉県千葉市緑区大野台１丁目１番１号 昭和電工株式会社総合研究所内 (72)発明者 田中 淳 富山県富山市西宮３番１号 昭和タイタニ ウム株式会社内 (72)発明者 山下 任 千葉県千葉市緑区大野台１丁目１番１号 昭和電工株式会社総合研究所内 (72)発明者 宮澤 真弓 千葉県千葉市緑区大野台１丁目１番１号 昭和電工株式会社総合研究所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 有機溶媒の存在下にハロゲン化金属を加
    水分解することを特徴とする金属酸化物微粒子の製造方
    法。
  2. 【請求項２】 有機溶媒の量が水１００容量部に対し、
    ２００〜１０，０００容量部である請求項１記載の金属
    酸化物微粒子の製造方法。
  3. 【請求項３】 金属酸化物微粒子の平均粒径が２０ｎｍ
    以下である請求項１または２に記載の金属酸化物微粒子
    の製造方法。
  4. 【請求項４】 ハロゲン化金属が四塩化チタンであり、
    金属酸化物が二酸化チタンである請求項１乃至３に記載
    の金属酸化物微粒子の製造方法。
  5. 【請求項５】 有機溶媒が親水性であり、二酸化チタン
    がアナターゼ型である請求項４に記載の金属酸化物微粒
    子の製造方法。
  6. 【請求項６】 有機溶媒が疎水性であり、二酸化チタン
    がルチル型である請求項４に記載の金属酸化物微粒子の
    製造方法。
JP21270298A 1997-08-15 1998-07-28 二酸化チタン微粒子の製造方法 Expired - Lifetime JP4184487B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21270298A JP4184487B2 (ja) 1997-08-15 1998-07-28 二酸化チタン微粒子の製造方法
EP98937804A EP1026125B1 (en) 1997-08-15 1998-08-12 Process for producing fine metal oxide particles
PCT/JP1998/003604 WO1999008963A1 (fr) 1997-08-15 1998-08-12 Procede de production de fines particules d'oxyde metallique
TW087113328A TW460406B (en) 1997-08-15 1998-08-13 A method for producing fine particles of metal oxide
US09/134,732 US6328947B1 (en) 1997-08-15 1998-08-14 Method for producing fine particles of metal oxide

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23542097 1997-08-15
JP9-235420 1997-08-15
JP29337697 1997-10-08
JP9-293376 1997-10-08
JP21270298A JP4184487B2 (ja) 1997-08-15 1998-07-28 二酸化チタン微粒子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11171543A true JPH11171543A (ja) 1999-06-29
JP4184487B2 JP4184487B2 (ja) 2008-11-19

Family

ID=27329400

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21270298A Expired - Lifetime JP4184487B2 (ja) 1997-08-15 1998-07-28 二酸化チタン微粒子の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6328947B1 (ja)
EP (1) EP1026125B1 (ja)
JP (1) JP4184487B2 (ja)
TW (1) TW460406B (ja)
WO (1) WO1999008963A1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073122A (ja) * 2001-09-04 2003-03-12 Mitsui Chemicals Inc 無機微粒子分散液及びそれを用いて製造される複合材料組成物
WO2008056744A1 (fr) * 2006-11-10 2008-05-15 Yuka Collaboration Corporation Procédé de fabrication d'un agent de revêtement présentant une activité photocatalytique et agent de revêtement obtenu par ce procédé
JP2008518873A (ja) * 2004-11-02 2008-06-05 ナノゲート エージー 二酸化チタンナノ粒子の合成
JP2010538107A (ja) * 2007-08-31 2010-12-09 キャボット コーポレイション 変性された金属酸化物のナノ粒子分散液の調製方法
JP2012224587A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Nippon Menaade Keshohin Kk 固形粉末化粧料
JP2013059741A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Toyota Motor Corp 触媒担持担体とその製作方法
CN103360854A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 厦门纳诺泰克科技有限公司 一种高透明、低辐射、节能的玻璃用组合材料及其制备方法
WO2015033421A1 (ja) * 2013-09-05 2015-03-12 昭和電工株式会社 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法
RU2724243C1 (ru) * 2020-02-03 2020-06-22 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Трудового Красного Знамени Институт химии силикатов им. И.В. Гребенщикова Российской академии наук (ИХС РАН) Способ получения фотокаталитически активного нанокристаллического диоксида титана в кристаллической модификации анатаз

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2789602B1 (fr) * 1999-02-17 2001-05-11 Rhodia Chimie Sa Sol organique et compose solide a base d'oxyde de titane et d'un compose amphiphile et procedes de preparation
US6752979B1 (en) * 2000-11-21 2004-06-22 Very Small Particle Company Pty Ltd Production of metal oxide particles with nano-sized grains
US7087100B2 (en) * 2001-01-31 2006-08-08 General Electric Company Preparation of nanosized copper and copper compounds
US6808696B2 (en) * 2001-03-28 2004-10-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Method of preparing nanosized spherical vanadium oxide particle
US6962946B2 (en) * 2001-11-21 2005-11-08 3M Innovative Properties Company Nanoparticles having a rutile-like crystalline phase and method of preparing same
US6919029B2 (en) * 2002-02-14 2005-07-19 Trustees Of Stevens Institute Of Technology Methods of preparing a surface-activated titanium oxide product and of using same in water treatment processes
ITFI20020052A1 (it) * 2002-03-28 2003-09-29 Consorzio Interuniversitario P Processo per la preparazione di nano - e micro-particelle di ossidi eidrossidi di metalli del secondo gruppo e di transizione, nano-e micro
CA2494787A1 (en) * 2002-08-07 2004-03-25 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Titanium dioxide pigments,method for production thereof and resin composition comprising the same
US7030042B2 (en) 2002-08-28 2006-04-18 Micron Technology, Inc. Systems and methods for forming tantalum oxide layers and tantalum precursor compounds
US6784049B2 (en) * 2002-08-28 2004-08-31 Micron Technology, Inc. Method for forming refractory metal oxide layers with tetramethyldisiloxane
US7223441B2 (en) * 2004-03-10 2007-05-29 Pilkington North America, Inc. Method for depositing gallium oxide coatings on flat glass
US20060194910A1 (en) * 2004-05-19 2006-08-31 Nobuo Miyatake Stabilization of polymers with zinc oxide nanoparticles
US20070004840A1 (en) * 2004-05-19 2007-01-04 Texas A&M University Zinc oxide polymer nanocomposites and methods of producing zinc oxide polymer nanocomposites
US7482382B2 (en) * 2004-05-19 2009-01-27 The Texas A&M University System Process for preparing nano-sized metal oxide particles
MY143356A (en) 2004-06-25 2011-04-29 Very Small Particle Company Pty Ltd Method for producing fine-grained particles
EP1785398A4 (en) 2004-08-26 2010-10-06 Mitsui Chemicals Inc ULTRAFINE TITANIUM OXIDE PARTICLES RUTILE
CN1325577C (zh) * 2004-12-03 2007-07-11 中国科学院长春应用化学研究所 合成有机包覆剂包覆的二氧化钛纳米粒子的方法
JP4306599B2 (ja) 2004-12-15 2009-08-05 セイコーエプソン株式会社 パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法
US7468175B2 (en) * 2006-12-13 2008-12-23 Worthington Technologies, Llc Highly photosensitive titanium dioxide and process for forming the same
US8344054B2 (en) * 2007-07-24 2013-01-01 The Texas A & M University System Polymer nanocomposites including dispersed nanoparticles and inorganic nanoplatelets
CN101560695B (zh) * 2008-04-18 2012-01-11 浙江师范大学 二元磁性氧化物单晶纳米片的制备方法
CN102442699A (zh) * 2011-09-28 2012-05-09 苏州大学 一种纳米氧化锆的制备方法
KR101141725B1 (ko) * 2011-11-11 2012-05-03 한국기초과학지원연구원 자외선 및 가시광 영역에서 광활성이 우수한 불순물이 도핑된 이산화티탄 광촉매의 대량 제조방법
KR101135920B1 (ko) * 2012-01-27 2012-04-13 한국과학기술원 탄화수소 제조용 다공성 산화갈륨 광촉매의 제조방법
CN109233362B (zh) * 2017-05-25 2021-07-16 香港理工大学 一种基于铯钨青铜的自清洁纳米隔热涂料及其制备方法
CN108675283B (zh) * 2018-04-04 2019-07-16 朱晶晶 一种利用石墨烯制备的复合纳米电磁波吸收材料及其制备方法
CN112239224A (zh) * 2019-07-16 2021-01-19 中国石油化工股份有限公司 一种四氯化钛的回收方法
US11130152B2 (en) * 2019-11-28 2021-09-28 National Chung-Shan Institute Of Science And Technology Method for the formation of tantalum carbides on graphite substrate

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49125299A (ja) * 1973-04-06 1974-11-30
JPS59223231A (ja) * 1983-05-31 1984-12-15 Teikoku Kako Kk 疎水性ルチル型微粒子酸化チタンの製造法
JPS61266308A (ja) * 1985-05-22 1986-11-26 Nippon Seiko Kk 微粉末状三酸化アンチモン―五酸化アンチモン無定形複合酸化物の製造方法
JPH01230407A (ja) * 1987-11-17 1989-09-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 微粒子状金属化合物の製造方法
JPH0570130A (ja) * 1991-03-21 1993-03-23 Tioxide Group Services Ltd 顔料の製造方法
JPH06305730A (ja) * 1993-04-19 1994-11-01 Pola Chem Ind Inc ルチル型酸化チタン（ｉｖ）の製造法
JPH07223815A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Canon Inc 酸化チタン系微粉体及び疎水性酸化チタン系微粉体
JPH07232924A (ja) * 1994-02-18 1995-09-05 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化チタン微粒子およびその製造方法
JPH0824666A (ja) * 1994-07-13 1996-01-30 Kurita Water Ind Ltd 固定化光触媒
JPH0957113A (ja) * 1995-06-15 1997-03-04 Toshiba Lighting & Technol Corp 光触媒体、白熱電球、放電ランプおよび照明器具
JPH09165218A (ja) * 1995-11-20 1997-06-24 Bayer Ag ナノ分散性二酸化チタン、それの製造方法およびそれの使用
JPH09188518A (ja) * 1996-01-05 1997-07-22 Tioxide Group Services Ltd アナターゼ型二酸化チタンの製法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3068068A (en) * 1960-11-14 1962-12-11 Glidden Co Rutile seed
US3105743A (en) * 1961-12-04 1963-10-01 Nat Lead Co Preparation of substantially pure titanium dioxide
GB995859A (en) * 1962-02-05 1965-06-23 British Titan Products Pigmentary titanium dioxide
US3178264A (en) * 1962-09-28 1965-04-13 American Cyanamid Co Production of tio2 pigments of improved color by sulfate process
US3208866A (en) * 1963-07-15 1965-09-28 Du Pont Tio2 manufacture
US3709984A (en) * 1967-06-26 1973-01-09 Nl Industries Inc Photoreactive titanium dioxide material
FR2002099A1 (ja) * 1968-02-17 1969-10-03 Titan Gmbh
US4067954A (en) * 1971-05-11 1978-01-10 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler Process for the production of finely divided silicon dioxide having a large specific surface
GB1489927A (en) * 1974-08-10 1977-10-26 Tioxide Group Ltd Titanium dioxide carrier
US4241042A (en) * 1978-06-19 1980-12-23 Montedison S.P.A. Spherical titanium dioxide particles and process of manufacture
EP0214308B1 (en) * 1985-03-05 1993-07-28 Idemitsu Kosan Company Limited Method for preparing super-fine spherical particles of metal oxide
US4741894A (en) * 1986-06-03 1988-05-03 Morton Thiokol, Inc. Method of producing halide-free metal and hydroxides
IT1197794B (it) * 1986-07-31 1988-12-06 Montedison Spa Procedimento per la preparazione di panticelle fini di ossidi metallici
DE3736686A1 (de) * 1987-10-29 1989-05-11 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur herstellung von monodispersen keramischen pulvern
GB8812759D0 (en) * 1988-05-28 1988-06-29 Tioxide Group Plc Fine particulate material
US5169619A (en) * 1988-05-28 1992-12-08 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Method of producing titanium oxides
US4923682A (en) * 1989-03-30 1990-05-08 Kemira, Inc. Preparation of pure titanium dioxide with anatase crystal structure from titanium oxychloride solution
DK0395912T3 (da) * 1989-05-02 1993-12-06 Lonza Ag Sintringsdygtigt zirconiumoxidpulver og fremgangsmåde til dets fremstilling
US5030439A (en) * 1989-10-17 1991-07-09 Kerr-Mcgee Chemical Corporation Method for producing particulate titanium oxides
GB9302559D0 (en) * 1993-02-10 1993-03-24 Tioxide Specialties Dioxide Preparation of titanium dioxide
US5635326A (en) 1994-02-10 1997-06-03 Canon Kabushiki Kaisha Electrostatic image-developing toner, fine powdery titanium oxide, and hydrophobic fine powdery titanium oxide
CN1032585C (zh) * 1994-04-28 1996-08-21 雷亚林 特种二氧化钛超细粉体的制造方法
KR0139437B1 (ko) * 1995-06-19 1998-06-01 윤덕용 물-알콜의 혼합 용매 중의 티탄염 용액으로부터 결정질 티타니아 분말의 제조 방법

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49125299A (ja) * 1973-04-06 1974-11-30
JPS59223231A (ja) * 1983-05-31 1984-12-15 Teikoku Kako Kk 疎水性ルチル型微粒子酸化チタンの製造法
JPS61266308A (ja) * 1985-05-22 1986-11-26 Nippon Seiko Kk 微粉末状三酸化アンチモン―五酸化アンチモン無定形複合酸化物の製造方法
JPH01230407A (ja) * 1987-11-17 1989-09-13 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 微粒子状金属化合物の製造方法
JPH0570130A (ja) * 1991-03-21 1993-03-23 Tioxide Group Services Ltd 顔料の製造方法
JPH06305730A (ja) * 1993-04-19 1994-11-01 Pola Chem Ind Inc ルチル型酸化チタン（ｉｖ）の製造法
JPH07223815A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Canon Inc 酸化チタン系微粉体及び疎水性酸化チタン系微粉体
JPH07232924A (ja) * 1994-02-18 1995-09-05 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化チタン微粒子およびその製造方法
JPH0824666A (ja) * 1994-07-13 1996-01-30 Kurita Water Ind Ltd 固定化光触媒
JPH0957113A (ja) * 1995-06-15 1997-03-04 Toshiba Lighting & Technol Corp 光触媒体、白熱電球、放電ランプおよび照明器具
JPH09165218A (ja) * 1995-11-20 1997-06-24 Bayer Ag ナノ分散性二酸化チタン、それの製造方法およびそれの使用
JPH09188518A (ja) * 1996-01-05 1997-07-22 Tioxide Group Services Ltd アナターゼ型二酸化チタンの製法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073122A (ja) * 2001-09-04 2003-03-12 Mitsui Chemicals Inc 無機微粒子分散液及びそれを用いて製造される複合材料組成物
JP2008518873A (ja) * 2004-11-02 2008-06-05 ナノゲート エージー 二酸化チタンナノ粒子の合成
WO2008056744A1 (fr) * 2006-11-10 2008-05-15 Yuka Collaboration Corporation Procédé de fabrication d'un agent de revêtement présentant une activité photocatalytique et agent de revêtement obtenu par ce procédé
JPWO2008056744A1 (ja) * 2006-11-10 2010-02-25 ゆかコラボレーション株式会社 光触媒活性を示すコーティング剤の製造方法およびこれにより得られるコーティング剤
JP2010538107A (ja) * 2007-08-31 2010-12-09 キャボット コーポレイション 変性された金属酸化物のナノ粒子分散液の調製方法
JP2012224587A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Nippon Menaade Keshohin Kk 固形粉末化粧料
JP2013059741A (ja) * 2011-09-14 2013-04-04 Toyota Motor Corp 触媒担持担体とその製作方法
CN103360854A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 厦门纳诺泰克科技有限公司 一种高透明、低辐射、节能的玻璃用组合材料及其制备方法
WO2015033421A1 (ja) * 2013-09-05 2015-03-12 昭和電工株式会社 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法
JPWO2015033421A1 (ja) * 2013-09-05 2017-03-02 昭和電工株式会社 超微粒子二酸化チタンおよびその製造方法
RU2724243C1 (ru) * 2020-02-03 2020-06-22 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Трудового Красного Знамени Институт химии силикатов им. И.В. Гребенщикова Российской академии наук (ИХС РАН) Способ получения фотокаталитически активного нанокристаллического диоксида титана в кристаллической модификации анатаз

Also Published As

Publication number Publication date
EP1026125A1 (en) 2000-08-09
TW460406B (en) 2001-10-21
US6328947B1 (en) 2001-12-11
WO1999008963A1 (fr) 1999-02-25
EP1026125A4 (en) 2008-04-09
JP4184487B2 (ja) 2008-11-19
EP1026125B1 (en) 2012-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11171543A (ja) 金属酸化物微粒子の製造方法
JP2783417B2 (ja) ルチル型酸化チタンゾルの製造法
JP4126788B2 (ja) シリカ−フッ化マグネシウム水和物複合ゾル及びその製造法
JP4093744B2 (ja) 管状酸化チタン粒子の製造方法および管状酸化チタン粒子
JP6401612B2 (ja) 高純度金属酸化物粒子の製造方法およびそのために製造される材料
US20080031806A1 (en) Continuous process for making nanocrystalline metal dioxide
JP3609262B2 (ja) 酸化チタンゾルおよびその製造方法
CN103360854A (zh) 一种高透明、低辐射、节能的玻璃用组合材料及其制备方法
JP4698981B2 (ja) 繊維状酸化チタン粒子とその製造方法ならびに該粒子の用途
CN108706597B (zh) 一种硅酸锆粉体及其制备方法与应用
JP2008031023A (ja) ジルコニアゾル及びその製造方法
JP2009227519A (ja) ルチル型酸化チタン微粒子の製造方法
JP2009298614A (ja) 酸化チタン系粒子およびその製造方法
JP4851685B2 (ja) ルチル型酸化チタン超微粒子の製造方法
JPH0977503A (ja) 金属酸化物または水酸化物ゾルの製造方法
JP2006312730A (ja) 酸化チタン光触媒塗膜形成用組成物、その製造方法、光触媒用塗膜および光触媒用塗布物
JP2006016236A (ja) 金属酸化物ナノ粒子の製造方法
CN103691472A (zh) 一种氮掺杂二氧化钛介孔可见光光催化剂的制备方法
KR100840855B1 (ko) 티탄 수용액으로부터 루틸 안료를 제조하는 방법
JP4631013B2 (ja) 針状酸化チタン微粒子、その製造方法及びその用途
JP2009179521A (ja) ルチル型酸化チタン微粒子の製造方法
CN113979471B (zh) 一种金红石型二氧化钛纳米复合物的合成方法
JP3616927B1 (ja) 酸化チタン系細線状生成物の製造方法
CN109734327B (zh) 改性pta法制备二氧化钛超亲水自清洁光催化薄膜
Siwińska-Stefańska et al. Advanced hybrid materials based on titanium dioxide for environmental and electrochemical applications

Legal Events

Date Code Title Description
RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

Effective date: 20050324

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050627

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050627

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080527

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080725

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080725

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080902

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080904

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140912

Year of fee payment: 6

EXPY Cancellation because of completion of term