JPH10268512A - ポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法 - Google Patents
ポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法Info
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- JPH10268512A JPH10268512A JP9205789A JP20578997A JPH10268512A JP H10268512 A JPH10268512 A JP H10268512A JP 9205789 A JP9205789 A JP 9205789A JP 20578997 A JP20578997 A JP 20578997A JP H10268512 A JPH10268512 A JP H10268512A
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 85
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 64
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 55
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 21
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 19
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 claims description 3
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims description 3
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 2
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 20
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 17
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 2,5-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1 NKTOLZVEWDHZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 5
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 101100309761 Aedes aegypti SDR-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 102100038434 Neuroplastin Human genes 0.000 description 4
- 108700038050 Neuroplastin Proteins 0.000 description 4
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVPPUZPZPFOFPK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCCC1=CC=CC=C1 CVPPUZPZPFOFPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 3-Ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=CC(O)=C1 HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1 HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N ortho-butylphenol Natural products CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 2
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- MEFKFJOEVLUFAY-UHFFFAOYSA-N (2,2,2-trichloroacetyl) 2,2,2-trichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl MEFKFJOEVLUFAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(C)=O FUWDFGKRNIDKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUZDYPLAQQGJEA-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC)=CC=C21 LUZDYPLAQQGJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHIXFTVGHROZHD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCC(CC)CS(O)(=O)=O DHIXFTVGHROZHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCSGHNKDXGYELG-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethoxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCCOC1=CC=CC=C1 XCSGHNKDXGYELG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVAVWJHMTPWHSU-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl benzenesulfonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)OCCC1=CC=CC=C1 LVAVWJHMTPWHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDKQPSBVLANVAD-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1S(=O)(=O)OCCC1=CC=CC=C1 SDKQPSBVLANVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=C)=C1 YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFKMLFDDYWABF-UHFFFAOYSA-N 3-phenyloxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CC1C1=CC=CC=C1 HDFKMLFDDYWABF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=C(C=O)C=C1 AVPYQKSLYISFPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-M 4-hydroxybutyrate Chemical compound OCCCC([O-])=O SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical group CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010057040 Temperature intolerance Diseases 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N Tris(2-ethylhexyl) phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(=O)(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- CXJVMJWCNFOERL-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylsulfonylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CXJVMJWCNFOERL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- JOKYYJPVAFRMIT-UHFFFAOYSA-N benzyl benzenesulfonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)OCC1=CC=CC=C1 JOKYYJPVAFRMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZLBAMQINIRRJEN-UHFFFAOYSA-N benzyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1S(=O)(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZLBAMQINIRRJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical class OC1CC=CC=C1 MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940061607 dibasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 1
- XDRMBCMMABGNMM-UHFFFAOYSA-N ethyl benzenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 XDRMBCMMABGNMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- YBUDLKSSDICFNP-UHFFFAOYSA-N ethyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OCC)=CC=CC2=C1 YBUDLKSSDICFNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000008543 heat sensitivity Effects 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N methyl methanesulfonate Chemical compound COS(C)(=O)=O MBABOKRGFJTBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- FGGAOQTXQHKQOW-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=CC=C1 FGGAOQTXQHKQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIZUZWMMBRRP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dione sulfuryl dichloride diazide Chemical compound S(=O)(=O)(Cl)Cl.[N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1(C(C=CC2=CC=CC=C12)=O)=O VQVIZUZWMMBRRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYQJBZLAANNIER-UHFFFAOYSA-N octyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 LYQJBZLAANNIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229960003742 phenol Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KZQFPRKQBWRRHQ-UHFFFAOYSA-N phenyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1 KZQFPRKQBWRRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGEXUOTXYSGBLV-UHFFFAOYSA-N phenyl benzenesulfonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CGEXUOTXYSGBLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMZOVRCWZOIZHH-UHFFFAOYSA-N phenyl naphthalene-2-sulfonate Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1S(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1 AMZOVRCWZOIZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- DLRDEMODNIPHMU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)OC(C)(C)C)C=C1 DLRDEMODNIPHMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
接記録に適した、高感度で、かつ露光後の加熱処理を必
要としないポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷
版、及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法を提供す
る。 【解決手段】 露光部と非露光部においてアルカリ現像
液に対する溶解性に差異を生ずるポジ型感光性組成物に
おいて、該溶解性に差異を生ぜしめる本質的成分とし
て、(a)光熱変換物質、及び(b)主として化学変化
以外の変化によってアルカリ現像液に対する溶解性が変
化し得る高分子化合物を含有することを特徴とするポジ
型感光性組成物、それを用いたポジ型感光性平版印刷
版、及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法。
Description
nmの波長域の光線に対する新規なポジ型感光性組成物
に関する。更に詳しくは、半導体レーザーやYAGレー
ザー等を用いた直接製版に好適なポジ型感光性組成物、
それを用いたポジ型感光性平版印刷版、及びポジ型感光
性平版印刷版の製版方法に関する。
い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出
力を行わずに、レーザー光あるいはサーマルヘッド等に
より、直接レジスト画像を形成する感光または感熱ダイ
レクト製版システムが注目されている。特に、高出力の
半導体レーザーやYAGレーザーを用いる、高解像度の
レーザー感光ダイレクト製版システムは、小型化、製版
作業時の環境光や版材コストの面から、その実現が強く
望まれていた。
を利用した画像形成方法としては、昇華転写色素を利用
し色材画像を形成する方法ならびに平版を作成する方法
などが知られている。後者においては、例えば、ジアゾ
化合物の架橋反応を利用し、平版印刷版を作成する方法
(例えば、特開昭52−151024号、特公平2−5
1732号、特開昭50−15603号、特公平3−3
4051号、特公昭61−21831号、特公昭60−
12939号、米国特許第3664737号の公報また
は明細書等参照)、ニトロセルロースの分解反応を利用
し、平版印刷版を作製する方法(例えば、特開昭50−
102403号、特開昭50−102401号等の公報
参照)等が知られている。
長光線吸収色素を組み合せた技術が散見される様になっ
た。例えば特開平6−43633号明細書には特定なス
クアリリウム色素に光酸発生剤およびバインダー等を組
合せた感光材料が開示されている。また、更にこれに類
する技法として赤外線吸収色素、潜伏性ブレンステッド
酸、レゾール樹脂およびノボラック樹脂を含む感光層を
半導体レーザー等により像状に露光し平版印刷版を作製
する技術が提案されており(特開平7−20629号明
細書)、更に、前記潜伏性ブレンステッド酸に代えs−
トリアジン化合物を用いる技術も開示されている(特開
平7−271029号明細書)。
必ずしも充分ではなかった。更に、大きな問題点とし
て、通常、このような化学増幅型感光版の場合は露光後
の加熱処理工程が必須であり、この後、加熱処理条件等
の振れに起因して、得られる画像の品質安定性は必ずし
も充分でなく、従ってこの工程を含まない技術が望まれ
ていた。前述の特開平7−20629号、7−2710
29号各明細書には、前記の後加熱処理を経ずにポジ画
像を得る手法が提案されているが具体的な実施例は示さ
れておらず、ポジ画像を得た事実及びその具体的手法は
全く示されていない。また、これらの技術は、感材が紫
外光に対しても感光するため、紫外光を含まない黄色灯
の下で作業する必要があり、作業性の点で問題があっ
た。
細書には、それらの組成物に対する製版方法、特に露光
方法が示されているが、やはりポジ作用の実施例は示さ
れていない。又、特開昭60−175046号には、ア
ルカリ可溶性フェノール樹脂と輻射線感光性オニウム塩
とからなり、組成物が光可溶化性である輻射線感光性組
成物が開示され、該組成物は、オニウム塩の光分解的分
解が樹脂に溶解度を回復させ、光可溶化系の基本的要請
を満たすこと、更に、オニウム塩はUVから可視へそし
て赤外の中に至る広範囲の電磁スペクトルに対して増感
されうることが示されている。
は露光部と非露光部とで現像液に対する溶解性の差異を
生ずることによって得られるものであるが、その差異を
生ずるためには組成物中の成分の何れかが化学変化を起
こすことが通常であり、そのような化学変化を起こすた
めに、例えば光酸発生剤、ラジカル開始剤、架橋剤さら
には増感剤等の添加剤がしばしば必要とされ、そのため
系が複雑になるという問題もあった。
題に鑑みなされたものであり、即ち、本発明の目的は、
その成分構成が極めて単純であり、半導体レーザーやY
AGレーザー等による直接記録に適し、しかも高感度で
保存性も良好なポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平
版印刷版を提供することにある。更に別の目的は赤外線
に高感度で露光後、後加熱処理を必要としない新規なポ
ジ型感光材料及びポジ型感光性平版印刷版を提供するも
のである。更に、本発明の他の目的は、黄色灯下での作
業を必要とせず、紫外光を含む通常の白色灯下での作業
が可能な感光材料及びポジ型感光性平版印刷版を提供す
ることにある。更に、本発明の他の目的は平版印刷版と
してのバーニング適性の優れたポジ型感光性平版印刷版
を提供することにある。更に、本発明の他の目的は該ポ
ジ型感光性平版印刷版を高感度で露光し得る製版方法を
提供することにある。
記の本発明の構成、即ち、露光部と非露光部においてア
ルカリ現像液に対する溶解性に差異を生ずるポジ型感光
性組成物において、該溶解性に差異を生ぜしめる本質的
成分として、(a)光熱変換物質、及び(b)主として
化学変化以外の変化によってアルカリ現像液に対する溶
解性が変化し得る高分子化合物を含有することを特徴と
するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を支持
体上に設けてなるポジ型感光性平版印刷版、及び該ポジ
型感光性平版印刷版を、波長域650〜1300nmに
属しかつ前記高分子を画像形成可能ならしめるほど十分
な光強度の光線を用いて走査露光する工程を含むことを
特徴とするポジ型感光性平版印刷版の製版方法により達
成し得る。又、本発明の目的は、光熱変換物質及びアル
カリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物であっ
て、該組成物の露光部に於けるアルカリ現像液に対する
溶解性(A)と、該露光部の加熱後のアルカリ現像液に
対する溶解性(B)とがB<Aなる性質を有することを
特徴とするポジ型感光性組成物により達成し得る。
する。従来より、ポジ型感光性組成物としては、アルカ
リ可溶性樹脂及び感光性付与成分としてo−キノンジア
ジド基含有化合物を含んだ系が知られている。この系で
は、o−キノンジアジド基含有化合物が吸収可能な紫外
光を照射することにより、ジアゾ部分が分解し最終的に
カルボン酸が生成することによって、樹脂のアルカリ可
溶性が増加し、即ち露光部分のみがアルカリ現像液に溶
解することによって画像が形成するものと考えられてい
る。又、前述の特開昭60−175046号に記載の組
成物は、オニウム塩の光分解的分解が樹脂の溶解性に関
与している。従って、これらの系は感光性組成物中の成
分が化学変化を伴うものである。
物質とアルカリ可溶性樹脂という化学変化を期待し得な
い極めて単純な系で、ポジ画像を形成することができる
感光性組成物を提供するものである。本発明の感光性組
成物がこのような優れた効果を奏する理由は必ずしも明
らかではないが、光熱変換分解物質によって吸収された
光エネルギーが、熱に変換され、その熱を受けた部分の
アルカリ可溶性樹脂がコンフォメーション変化等の何ら
かの化学変化以外の変化を起こし、その部分のアルカリ
可溶性が高まることによって、アルカリ現像液により画
像が形成されるものと考えられる。
変化によっておこることは、例えば一旦光照射を行った
本発明の感光性組成物を50℃付近で24時間加温した
場合、露光直後には増加した露光部のアルカリ可溶性
が、しばしば露光前に近い状態へ戻るという可逆現象が
みられることからも推察できる。従って、本発明は、光
熱変換物質及びアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感
光性組成物であって、該組成物の露光部に於けるアルカ
リ現像液に対する溶解性(A)と、該露光部の加熱後の
アルカリ現像液に対する溶解性(B)とがB<Aなる性
質を有することを特徴とするポジ型感光性組成物をも提
供するものである。尚、該感光性組成物自体のガラス転
移温度(又は軟化点)と該可逆現象の難易度との関係を
調べた結果、前記転移温度が低い程、同可逆現象が起こ
り易い傾向が認められたことも前述の機構を裏付けるも
のである。
須構成成分としては成分(a)の光熱変換物質、及び成
分(b)の高分子化合物のみであり、活性放射線の作用
によりアルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性を増加させ
るような物質、例えば前記したo−キノンジアジド基含
有化合物や、特開昭61−143747号公報に記載さ
れている活性放射線により酸を発生する化合物(光酸発
生剤)と酸の作用により現像液に対する溶解度が増加す
る化合物との組み合わせ等の物質は実質的に不必要なも
のであることを理解すべきである。また、本発明のポジ
型感光性組成物はもっぱらポジ画像の形成に供されるも
のであって、ネガ型感光性組成物の成分として用いられ
る、活性放射線の作用により現像液に不溶となる物質、
例えばジアゾ樹脂や、架橋剤、エチレン性単量体と重合
開始剤との組み合わせ、及びこれらを活性化する増感剤
等もまた、実質的に不必要なものである。従って、ポジ
型及びネガ型のいずれにも使用できる感光性組成物とも
明らかに区別されるものである。又、本発明の組成物
は、オニウム塩のような光熱変換物質により光化学的増
感作用を受ける化合物を含まず、特開昭60−1750
46号の組成物とも明らかに区別されるものである。
後述するように露光前の感光性層のアルカリ溶解性を低
下させる作用を有する溶解抑止剤を含んでいてもよい。
先ず、本発明のポジ型感光性組成物に用いられる第1成
分である、光熱変換物質(以下、光吸収色素と称す)に
ついて説明する。該物質としては、吸収した光を熱に変
換しうる化合物であれば特に限定されないが、波長域6
50〜1300nmの一部又は全部に吸収帯を有する光
吸収色素(a)が特に有効である。本発明に用いられる
光吸収色素は、650〜1300nmの波長域の光を効
率よく吸収する一方、紫外領域の光は、ほとんど吸収し
ないか、吸収しても実質的に感応せず、白色灯に含まれ
るような弱い紫外線によっては、感光性組成物を変成さ
せる作用のない化合物である。これらの光吸収色素の具
体例を第1表に示す。
これらの内、シアニン色素、ポリメチン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニウム色素、ピリリウム色素、チオ
ピリリウム色素が好ましい。更に、シアニン色素、ポリ
メチン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素がよ
り好ましい。これらの内、特に好ましい色素は、波長域
650〜900nmにおいては下記一般式[I]で表さ
れるシアニン色素または一般式[II]で表されるポリメ
チン色素であり、波長域800〜1300nmにおいて
は下記一般式[III]表されるピリリウム色素またはチオ
ピリリウム色素である。
も良いC8 以下のアルキル基であり、該置換基は、フェ
ニル基、フェノキシ基、アルコキシ基、スルホン酸基、
カルボキシル基であり;Q1 は置換基を有していても良
いヘプタメチン基であり、該置換基は、C8 以下のアル
キル基、ハロゲン原子、アミノ基であるか、該ヘプタメ
チン基がその2つのメチン炭素上の置換基が相互に結合
して形成された置換基を有していても良いシクロヘキセ
ン環またはシクロペンテン環を含むものであっても良
く、該置換基はC6 以下のアルキル基またはハロゲン原
子であり;m1 、m 2 は各々が0または1であり;
Z1 、Z2 は含窒素複素環を形成するに必要な原子群で
あり;X- は対アニオンを示す。]
基であり;Z4 、Z5 は置換基を有していても良いアリ
ール基であり、該アリール基は、フェニル基、ナフチル
基、フリル基またはチエニル基であり、該置換基はC4
以下のアルキル基、C8 以下のアルキル基を有するジア
ルキルアミノ基、C8 以下のアルコキシ基およびハロゲ
ン原子である。Q2 はトリメチン基またはペンタメチン
基を示し;X- は対アニオンを示す。]
子;R7 、R8 、R15およびR16は置換基を有していて
も良いフェニル基またはナフチル基であり、該置換基は
C8 以下のアルキル基もしくはC8 以下のアルコキシ基
であり;l1 とl2 は各々独立に0または1を示し;R
9 〜R14は水素原子またはC8 以下のアルキル基を示す
かあるいは各々独立にR9 とR10、R11とR12またはR
13とR14とが相互に結合して
下のアルキル基であり、nは0または1を示す。)の連
結基を形成しても良く;Z3 はハロゲン原子または水素
原子;X- は対アニオンを示す。] 以上の[I]、[II]および[III]式における対アニオ
ンX- を具体的に示すに、例えば、Cl- 、Br- 、I
- 、ClO4 -、BF4 -、PF6 - 等の無機酸アニオン、
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタ
レン−1−スルホン酸、酢酸の様な有機酸アニオンを挙
げることができる。これらの光吸収色素の本発明のポジ
型感光性組成物中における使用割合は、重量比で好まし
くは0.1〜30%、より好ましくは1〜20%であ
る。
られる第2成分である主として化学変化以外の変化によ
って、アルカリ現像液に対する溶解性が変化し得る高分
子化合物(以下、高分子または樹脂と称す)(b)につ
いて説明する。このような高分子としては、ノボラック
樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アク
リル酸誘導体の共重合体等のアルカリ可溶性樹脂等が挙
げられるが、これらのうちノボラック樹脂またはポリビ
ニルフェノール樹脂が好ましい。
−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾール、2,
5−キシレノール、3,5−キシレノール、レゾルシ
ン、ピロガロール、ビスフェノール、ビスフェノール−
A、トリスフェノール、o−エチルフェノール、m−エ
チルフェノール、p−エチルフェノール、プロピルフェ
ノール、n−ブチルフェノール、t−ブチルフェノー
ル、1−ナフトール、2−ナフトール等の芳香族炭化水
素類の少なくとも1種を酸性触媒下、ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類及び、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのケトン類から選ばれた少なくとも1種のアルデヒド
類又はケトン類と重縮合させたものが挙げられる。
代わりに、それぞれパラホルムアルデヒド及びパラアル
デヒドを使用してもよい。ノボラック樹脂のゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略
す)測定によるポリスチレン検算重量平均分子量(以
下、GPC測定による重量平均分子量をMwと略す)が
好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは
1,500〜10,000のものが用いられる。
は、より好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m
−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノー
ル、及び3,5−キシレノール、レゾルシンから選ばれ
る少なくとも1種のフェノール類をホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドなどのアルデ
ヒド類の中から選ばれる少なくとも1種と重縮合したノ
ボラック樹脂が挙げられる。
ル:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:レ
ゾルシンの混合割合がモル比で40〜100:0〜5
0:0〜20:0〜20:0〜20のフェノール類また
は、フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混
合割合がモル比で1〜100:0〜70:0〜60のフ
ェノール類とアルデヒド類との重縮合物であるノボラッ
ク樹脂が好ましい。アルデヒド類の中でも、特にホルム
アルデヒドが好ましい。尚、後述する如く、本発明の感
光性組成物は、更に溶解抑止剤を含んでいても良く、そ
の場合、m−クレゾール:p−クレゾール:2,5−キ
シレノール:3,5−キシレノール:レゾルシンの混合
割合がモル比で70〜100:0〜30:0〜20:0
〜20のフェノール類または、フェノール:m−クレゾ
ール:p−クレゾールの混合割合がモル比で10〜10
0:0〜60:0〜40のフェノール類とアルデヒド類
との重縮合物であるノボラック樹脂が好ましい。
ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒ
ドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフェニル)プ
ロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレンなどの
ヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の重合体が
挙げられる。ヒドロキシスチレン類は芳香環に塩素、臭
素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいはC1 〜C4 の
アルキル置換基等の置換基を有していてもよく、従って
ポリビニルフェノール類としては、芳香環にハロゲン又
はC1 〜C4 のアルキル置換基を有していても良いポリ
ビニルフェノールが挙げられる。
基を有していてもよいヒドロキシスチレン類を単独で又
は2種以上をラジカル重合開始剤またはカチオン重合開
始剤の存在下で重合することにより得られる。かかるポ
リビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なったも
のでもよい。又、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル
基、フラニル基などでポリビニルフェノール類の一部の
OH基を保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール
樹脂のMwは、好ましくは1,000〜100,00
0、特に好ましくは1,500〜50,000のものが
用いられる。
好ましくは、芳香環にC1 〜C4 のアルキル置換基を有
していてもよいポリビニルフェノールが挙げられ、未置
換のポリビニルフェノールが特に好ましい。以上のノボ
ラック樹脂またはポリビニルフェノール樹脂のMwが、
上記範囲よりも小さいと十分な塗膜が得られず、この範
囲よりも大きいと未露光部分のアルカリ現像液に対する
溶解性が小さくなり、パターンが得られない傾向にあ
る。
が好ましい。本発明で用いられる前記の成分(a)及び
成分(b)から成るポジ型感光性組成物中におけるこれ
ら樹脂の使用割合は重量比で好ましくは70%〜99.
9%であり、特に好ましくは80%〜99%である。本
発明の感光性組成物は、その成分として、光吸収色素
(a)と、前記アルカリ可溶性樹脂(b)から成る配合
物のアルカリ性現像液に対する溶解速度を低減し得る溶
解抑止剤(c)(以下、単に溶解抑止剤と称す)を更に
含んでいてもよい。
剤を含有させた場合、感光性組成物がしばしば良好なポ
ジ型感光特性を示すことがある。本組成物において、該
溶解抑止剤の作用については必ずしも明らかでないが、
少なくとも、本組成物による感光材料は非露光部におい
て該溶解抑止剤の添加による現像液に対する溶解抑止特
性を示す一方、露光部においてはその効果が解消するば
かりではなく、しばしば溶解促進効果を示し、即ち、露
光部と未露光部とのコントラストを増大させる効果を示
し、その結果、良好なポジ画像をもたらすものと考えら
れる。但し、本発明の組成物は、化学変化以外の変化に
よってアルカリ現像液に対する溶解性が変化するもので
あるため、溶解抑止剤も露光による化学変化をうけない
化合物であるべきであり、換言すれば光熱変換物質によ
り、実質的に光化学的増感作用を受けない化合物であ
る。
カリ可溶性樹脂(b)と光吸収色素(a)が必須成分と
して含まれているので、溶解抑止剤(c)は上述の通
り、成分(a)及び(b)の配合物の溶解を抑止する作
用を示すものであるが、実質的には、アルカリ可溶性樹
脂(b)の溶解を抑止しているものと考えられる。該溶
解抑止剤は、少なくとも、それの添加により前記成分
(a)及び(b)からなる配合物のアルカリ現像液に対
する溶解速度を80%以下に抑制する化合物でなければ
ならないが、好ましくは、該溶解速度が50%以下に、
更に好ましくは30%以下に抑制する化合物である。
例えば、先ず、支持体上に前記成分(a)及び成分
(b)の所定量の配合物を塗布し、それを当該アルカリ
性現像液に浸漬し、その浸漬時間と膜厚減少量との相関
性を求める。次に溶解抑止剤、試料の所定量を前記の配
合物に添加した後、前と同一膜厚にて塗布し、同様にし
て浸漬時間と膜厚減少量との関係を求める。これらの測
定値から両者の溶解速度比を求めることができるから、
用いた溶解抑止剤の試料の溶解速度低減効果をその相対
速度として測定し得る。具体例として、ノボラック樹脂
の20重量相当%の量、抑止剤を付加的に添加した場合
のそれらの事例を実施例中に記載した。
ては広範な化合物が適用し得ることが分った。しかし該
溶解抑止剤は感光層中に安定して残留しなければならな
いから、常温、常圧で固体、もしくは常圧で沸点180
℃以上の液体であることが好ましい。有効なこれらの化
合物を例示するに、スルホン酸エステル、リン酸エステ
ル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カ
ルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳
香族アミン及び芳香族エーテル化合物を挙げることがで
き、これらは単独で又は2種以上混合して使用できる。
ば、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸−
n−ヘキシル、ベンゼンスルホン酸フェニル、ベンゼン
スルホン酸ベンジル、ベンゼンスルホン酸フェニルエチ
ル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエンスル
ホン酸−t−ブチル、p−トルエンスルホン酸−n−オ
クチル、p−トルエンスルホン酸−2−エチルヘキシ
ル、p−トルエンスルホン酸フェニル、p−トルエンス
ルホン酸フェニルエチル、1−ナフタレンスルホン酸エ
チル、2−ナフタレンスルホン酸フェニル、1−ナフタ
レンスルホン酸ベンジル、1−ナフタレンスルホン酸フ
ェニルエチル、ビスフェノールAジメチルスルホネート
等のスルホン酸エステル類;リン酸トリメチル、リン酸
トリエチル、リン酸トリ(2−エチルヘキシル)、リン
酸トリフェニル、リン酸トリトリル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリ−(1−ナフチル)等のリン酸エステル
類;安息香酸メチル、安息香酸n−ヘプチル、安息香酸
フェニル、安息香酸1−ナフチル、1−ピリジンカルボ
ン酸n−オクチル、トリス(n−ブトキシカルボニル)
−s−トリアジン等の芳香族カルボン酸エステル類;モ
ノ、ジまたはトリクロル酢酸無水物、フェニルコハク酸
無水物、マレイン酸無水物、無水フタル酸、無水安息香
酸等のカルボン酸無水物;ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ベンジル、4,4′−ジメチルアミノベンゾフェ
ノン等の芳香族ケトン類;p−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド、p−メトキシベンズアルデヒド、p−クロロ
ベンズアルデヒド、1−ナフトアルデヒド等の芳香族ア
ルデヒド類;トリフェニルアミン、ジフェニルアミン、
トリトリルアミン、ジフェニルナフチルアミン等の芳香
族アミン類;エチレングリコールジフェニルエーテル、
2−メトキシナフタレン、ジフェニルエーテル、4,
4′−ジエトキシビスフェノールA等の芳香族エーテル
類を挙げることができる。これらの化合物には本発明の
効果を損なわない種類の置換基、例えばアルキル基、ア
ルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基等で置換されて
いても良い。更に、また、ポリマーや樹脂等に組み込ま
れた構造を有していても良く、例えば、ノボラック樹脂
やポリビニルフェノールの水酸基へエステル結合により
担持させたスルホン酸エステル等が挙げられ、これらは
しばしば良好な抑止効果を与える。
に紫外光に対し感光性を有する種類のもの、例えば、o
−キノンジアジドスルホン酸エステル等のo−キノンジ
アジド基含有化合物やジフェニルジスルホン等の芳香族
ジスルホン類等を含んでいても良好な画像を得ることが
できる。但し、この場合は、通常、黄色灯下で作業を行
う必要がある。従って、より好ましい本発明の具体的態
様は紫外光に対し実質的な感光性を有しない溶解抑止剤
を用いた技術である。それらは本明細書の実施例に於て
例示した様に、白色灯の環境下での長時間作業に耐えら
れる感光材料であって、実技上、更に、大きな利点をも
たらす。所望により用いられるこれら溶解抑止剤(c)
は前述の成分(a)、成分(b)の合計重量に対し、好
ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以
下の量、付加的に添加しても良い。
ド基含有化合物を用いた場合、感光性組成物を紫外線照
射すれば従来と同様の作用でポジ型画像が得られること
となるが、本発明の感光性組成物は、有利には、波長域
650〜1300nmの光によって画像を形成すること
が特徴であり、この波長域では、o−キノンジアジド基
含有化合物の光分解反応は実質的に起こり得ないと考え
られる。このことは、例えば特開昭60−175046
に「あるとしてもほんのわずかに増感されうるにすぎな
いキノンジアジド及びジアゾニウム塩と対照的にオニウ
ム塩は電磁スペクトルの可視及び赤外領域の全体にわた
って広範な種類の化合物によって容易に増感されうる」
と記載されていることからもわかる。しかし、o−キノ
ンジアジド基含有化合物のような1,2−ジアゾケトン
類は熱によっても分解反応を起こすことが知られている
ので、波長域650〜1300nmの光を照射した場合
には、光吸収色素によって変換された熱によって分解
し、その結果として露光部分のアルカリ可溶性の増大作
用を併発していることも考えられる。
との現像液に対する現像性の差異は本質的にはあく迄光
吸収色素と、その光吸収によってアルカリ現像液による
溶解性に差異を生じ得る高分子化合物の組合せによっ
て、達成されることが理解されるべきである。尚、o−
キノンジアジド基含有化合物は、紫外〜可視領域に吸収
を有するため、溶解抑止剤としてo−キノンジアジド基
含有化合物を用いる場合には、通常、黄色灯下での作業
を必要とする。しかしながら、該化合物はしばしば望ま
しいバーニング適性をもたらす。これらのo−キノンジ
アジド基含有化合物としては、例えば、o−キノンジア
ジド化合物と、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物、或
いはフェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮合
樹脂とのエステル化合物が好ましい。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンゾアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。かか
る重縮合樹脂の分子量(Mw)は好ましくは1000〜
10000、特に好ましくは1500〜5000であ
る。
ル類のOH基に対するo−キノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、5〜80%が
好ましく、より好ましいのは10〜45%である。上記
o−キノンジアジド化合物のうち、1,2−ナフトキノ
ンジアジドスルホニルクロリドをピロガロールアセトン
樹脂と反応させて得られるo−キノンジアジド化合物が
特に好ましい。
上記各成分を適当な溶媒に溶解して用いられる。溶媒と
しては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な
塗膜性を与える溶媒であれば特に制限はないが、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ
系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール
ジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶媒、
酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジ
エチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−2−
ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸
メチル、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル
などのエステル系溶媒、ヘプタノール、ヘキサノール、
ジアセトンアルコール、フルフリルアルコールなどのア
ルコール系溶媒、シクロヘキサノン、メチルアミルケト
ンなどのケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどの高極性溶
媒、あるいはこれらの混合溶媒、さらにはこれらに芳香
族炭化水素を添加したものなどが挙げられる。溶媒の使
用割合は、感光性組成物の総量に対して通常重量比とし
て1〜20倍程度の範囲である。
を損なわない範囲で種々の添加剤、例えば染料、顔料、
塗布性改良剤、現像改良剤、密着性改良剤、感度改良
剤、感脂化剤等を含有することも可能である。本発明に
使用する感光性組成物を支持体表面に設ける際に用いる
塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等を用
いることが可能である。塗布量は用途により異なるが、
例えば0.1〜10.0g/m2(固形分として)が好
ましい。また乾燥温度としては、例えば20〜150
℃、好ましくは30〜120℃が採用される。
光層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。こ
のうち好ましいのはアルミニウム板である。本発明の感
光性平版印刷版の支持体としては、塩酸または硝酸溶液
中での電解エッチングまたはブラシ研磨による砂目立て
処理、硫酸溶媒中での陽極酸化処理および必要に応じて
封孔処理等の表面処理が施されているアルミニウム板を
用いることがより好ましい。
光源としては650〜1300nmの近赤外レーザー等
の光線を発生する光源が好ましく、例えばYAGレーザ
ー、半導体レーザー、LED等を挙げることが出来、特
に小型で長寿命な半導体レーザーやYAGレーザーが好
ましい。これらのレーザー光源により、通常、走査露光
後、現像液にて現像し画像を有する平版印刷版を得るこ
とができる。
り集光された高強度の光線(ビーム)として感光材表面
を走査するが、それに感応する本発明のポジ型平版印刷
版の感度特性(mJ/cm2 )は感光材表面で受光する
レーザービームの光強度(mJ/s・cm2 )に依存す
ることがある。ここで、レーザービームの光強度(mJ
/s・cm2 )は、版面上でのレーザービームの単位時
間当たりのエネルギー量(mJ/s)を光パワーメータ
ーにより測定し、また感光材表面におけるビーム径(照
射面積;cm2 )を測定し、単位時間当たりのエネルギ
ー量を照射面積で除することにより求めることができ
る。レーザービームの照射面積は、通常、レーザーピー
ク強度の1/e2 強度を超える部分の面積で定義される
が、簡易的には相反則を示す感光材を感光させて測定す
ることもできる。
は、2.0×106 mJ/s・cm2以上であることが
好ましく、1.0×107 mJ/s・cm2 以上である
ことが更に好ましい。光強度が上記の範囲であれば、本
発明のポジ型平版印刷版の感度特性が向上し、走査露光
時間が短くすることができ実用的に大きな利点が得られ
る。
現像液としては特にアルカリ水溶液を主体とするアルカ
リ現像液が好ましい。上記アルカリ現像液としては、例
えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリ
ウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカ
リ金属塩の濃度は0.1〜20重量%が好ましい。又、
該現像液中に必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界
面活性剤等やアルコール等の有機溶媒を加えることがで
きる。
ルミニウム板(材質1050、調質H16)を、5重量
%の水酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処
理を行なった後、0.5モル/リットルの濃度の塩酸水
溶液中において、温度25℃、電流密度60A/d
m2 、処理時間30秒の条件で電解エッチング処理を行
なった。次いで5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で6
0℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20重量
%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度3A/dm2 、
処理時間1分の条件で陽極酸化処理を行なった。更に、
80℃の熱水で20秒間熱水封孔処理を行ない、平版印
刷版用支持体のアルミニウム板(1)を作製した。
ニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85℃にて
2分間乾燥させた後、55℃のオーブン中で安定させ、
膜厚24mg/dm2 の感光性層を設け、感光性平版印
刷版を得た。 〔感光液〕 高分子化合物:第2表記載のノボラック樹脂 0.9g 光吸収色素:第2表記載の化合物 第2表記載の配合量 色材:ビクトリアピュアーブルーBOH 0.008g 溶媒:シクロヘキサノン 9g
上に取り付け、黄色灯下で半導体レーザー(アプライド
テクノ社製、830nm)をレンズで25μmのビーム
径に絞ったレーザー光(40mW)により走査露光を行
った。次いでアルカリ性現像液SDR−1 (コニカ社
製、ポジ型平版用)を第2表記載の倍率に希釈し、25
℃、30秒間現像を行った。得られたポジ画線が25μ
m幅を与える最大ドラム回転数より、感度をエネルギー
値として求めた。結果を第2表に示した。
よりレーザー光の光強度の影響を調べた。即ち、感光材
表面での前記半導体レーザー(830nm)の受光エネ
ルギーを40mwに固定し、光強度はレンズによる集光
度を調節し適宜変化させ、それぞれに対応した感度を求
めた。感度は露光ビーム径を再現する画線(ポジ)を与
えるドラム回転数より求めた。なおレーザー受光エネル
ギーは光パワーメーターTQ8210(アドバンテスト
社製)を用いて測定した。得られた感度mJ/cm2 の
結果を第3表に示した。
ミニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85℃に
て2分間乾燥させた後、55℃のオープン中で安定さ
せ、膜厚20mg/dm2 の感光性層を設け、感光性平
版印刷版を得た。
に示す。
施例1と同様な方法により、感度をエネルギー値として
求めた。但し、アルカリ性現像液SDR−1を標準倍率
(6倍)で希釈し使用した。
アルカリ性現像液に浸漬し、感光性層が全て溶解するま
での時間(秒)を計測した。溶解抑止効果の値を下記式
により求めた。
る時間が長く、即ち溶解抑止効果が高いことを表す。
2500(エステル化率20%) 尚、第4表中、光吸収色素の欄の略号は、それぞれ第1
表に挙げた化合物を表す。また、感度の欄に「画像形成
せず」とあるのは、感光層が全面溶解したことを示す。
光性平版印刷版を作成、同例と同条件の半導体レーザー
を用いて150mJ/cm2 の露光量で印刷用パターン
を焼き付け、印刷版を作成した。これを用いて4万枚の
印刷を行なった結果、良好な印刷画像を得ることができ
た。
(FLR40SW、三菱電機社製)の光源から2mの距
離において2時間全面暴露した後実施例20と同様な方
法により画像露光を行なった。その結果、実施例20と
同様な良好なポジ画像が得られ特に異状は認められなか
った。
下で評価し同様な良好なポジ画像を得た。実施例46 実施例25と同一の感光材料を実施例44と同様な条件
下で評価し、同様に良好なポジ画像を得た。
る感光液を用いて同様に塗布、乾燥し化学増幅型のネガ
型感光材料を作成した。 高分子化合物;実施例20と同一のもの 0.5g 光吸収色素;実施例20と同一のもの 0.015g 架橋剤サイメル300 (三井サイアナミッド社製) 0.1g トリス−(トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.015g 得られた感光材料を実施例44と同様な条件で全面暴露
の後同様に画像露光し、100℃3分間加熱後、同様な
現像液で現像した。その結果全面に強いカブリが生じネ
ガ画像は得られなかった。
例44と同一の条件で全面暴露し同様な現像液で現像し
た。その結果、画像は全面溶解しポジ画像は全く得られ
なかった。
ミニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85℃に
て2分間乾燥させた後、55℃のオープン中で安定さ
せ、膜厚24mg/dm2 の感光性層を設け、第5表に
記載の感光性平版印刷版(A〜F)を得た。
例11と同様の方法により同一の半導体レーザーを用い
光強度の影響を調べた。光強度は第6表に示す通り、4
段階に変化させ、それぞれに対応した感度を求めた。得
られた結果を第6表に示す。
ニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85℃にて
2分間乾燥させた後、55℃のオーブン中で安定させ、
膜厚24mg/dm2 の感光性層を設け、感光性平版印
刷版を得た。 [感光液] 高分子化合物:ノボラック樹脂SK−135 0.9g 光吸収色素:第7表記載の化合物 0.027g 色材:ビクトリアピュアーブルーBOH 0.008g 溶媒:シクロヘキサノン/クロロホルム(=3V/1V) 12g
上に取り付け、黄色灯下でYAGレーザー(アプライド
テクノ社製、1064nm)をレンズで30μmのビー
ム径に絞ったレーザー光(480mW)により走査露光
を行った。次いでアルカリ性現像液SDR−1(コニカ
社製、ポジ型平版用)を6倍に希釈し、25℃、30秒
間現像を行った。得られたポジ画線が30μm幅を与え
る最大ドラム回転数より、感度をエネルギー値として求
めた。結果を第7表に示した。
よりYAGレーザー光の光強度の影響を調べた。即ち、
実施例11において半導体レーザー(830nm、40
mw)を前記のYAGレーザー(1064nm、480
mw)に変更した以外は同様の方法、即ち、光強度はレ
ンズによる集光度を調節し、適宜変化させ、それぞれの
ビーム径に対応した感度を実施例11と同様の方法によ
り感度を求めた。得られた感度の結果を第8表に示し
た。
8,000mJ/cm2 ではポジ画線が形成されなかっ
た(画線部の抜けなし)事を意味する。
以下の参考例に示される様に従来の光化学変化を伴うポ
ジ画像のそれとは顕著に異なる。即ち、本発明の感光層
に於いてはレーザー露光部分に生じた溶解性の増加現象
が加温処理することにより容易に減退もしくは消失する
挙動を示す。以下、それを具体的に例示する。
24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H1
6)を、5重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で60℃
で1分間脱脂処理を行なった後、0.5モル/リットル
の濃度の塩酸水溶液中において、温度28℃、電流密度
55A/dm2 、処理時間40秒の条件で電解エッチン
グ処理を行なった。次いで4重量%水酸化ナトリウム水
溶液中で60℃、12秒間のデスマット処理を施した
後、20重量%硫酸溶液中で、温度20℃、電流密度
3.5A/dm2 、処理時間1分の条件で陽極酸化処理
を行なった。更に、80℃の熱水で20秒間熱水封孔処
理を行ない、平版印刷版用支持体のアルミニウム板
(2)を作製した。
ニウム板(2)上にワイヤーバーで塗布し、85℃にて
2時間、乾燥した。感光層の塗膜量は2.5g/m2 で
あった。得られた感光性印刷版の試料に関し、以下の手
順に従って、露光部の溶解特性の変化挙動を調べた。
水銀燈で露光、現像した。前者の場合、実施例1同様の
方法で露光量200mJ/cm2 にて行ない、後者の場
合、ステップタブレットを介し、クリヤー段数1段を与
える光量で行なった。次いで、それら試料を実施例1同
様に現像した。か様にして得られたポジ画像の露光部に
於ける感光層残存率は当然0%であるが、次に、これと
同一で他の感光性印刷版を同様の条件で露光した後、現
像工程前に55℃にて20時間保持する加温処理工程を
挿入した場合、露光部の可溶化特性は減退し、得られる
ポジ画像部分は、もはや、必ずしも感光層が充分除去さ
れず、通常、残膜が観察される。この場合の露光部に於
ける感光層残存率[X]はそれら露光部、未露光部の溶
解速度を測定することにより求める事ができ、この値は
可逆性の度合いを示す目安となる。得られた結果を第9
表に示す。
Rは実施例1で用いたものと同一の半導体レーザー、U
Vは高圧水銀燈を示す。第9表中、溶解抑止剤の欄の略
号(NQD)は、ペンタヒドロキシベンゾフェノンナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステル(エステル化率8
5%)を表す。 *1,*2:住友デュレス社製
推定される。先ず、参考例17および18で用いている
感光層はナフトキノンジアジドならびに赤外吸収色素を
含む同一のものであるが、UV露光を行なった参考例1
8の場合は公知の光化学変化を生じ加温処理を介しても
露光による可溶化特性を保持している。一方、参考例1
7に示された様に赤外線レーザー露光を行なった場合は
可溶化特性が可成り減退して露光部の感光層は部分的に
残存する。これは後者においては主として光化学変化以
外の何らかの熱物性変化の機構に基づく為と考えられ
る。更に、参考例19〜23に示された種々の感光層に
対して赤外レーザーを適用した場合も参考例17と類似
の挙動を示しており、同例と同様な機構に基づくものと
推察される。
ニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85度にて
2分間乾燥させた後、55度のオーブンで安定させ、膜
厚20mg/dm2 の感光層を設け、感光性平版印刷版
を得た。 [感光液] 光吸収色素;第10表記載の化合物 0.02g アルカリ可溶樹脂;m−クレゾール/p−クレゾール/ フェノールノボラック樹脂(SK−188)0.5g 溶解抑止剤;第10表記載の化合物 第10表に記載の量 溶媒;シクロヘキサノン 5.5g 尚、続いて以下の項目について評価した。その結果を第
10表に示す。
を40W2本の白色灯下1.5mの位置にて5時間曝露
し、コニカ社製ポジ現像液SDR−1の6倍希釈現像液
にて現像し、マクベス社製反射濃度計にて反射濃度を測
定し残膜率に換算した。
ナフチルスルホン酸エステル(エステル化率20%) 2;ピロガロール−アセトン樹脂(Mw=2500)の
p−トルエンスルホン酸エステル(エステル化率20
%) 3;p−トルエンスルホン酸2−フェニルエチル 4;ジフェニルヨードニウムp−トルエンスルホネート 5;トリフェニルスルホニウム−トリフルオロメタンス
ルホネート
ニウム板(1)上にワイヤーバーで塗布し、85度にて
2分間乾燥させた後、55度のオーブンで安定させ、膜
厚20mg/dm2 の感光層を設け、感光性平版印刷版
を得た。 [感光液] 光吸収色素;第11表記載の化合物 0.02g アルカリ可溶樹脂;m−クレゾール/p−クレゾール/ フェノールノボラック樹脂(SK−188)0.5g 溶解抑止剤;第11表記載の化合物 第11表に記載の量 溶媒;シクロヘキサノン 5.5g 続いて以下の項目について評価した。その結果を第11
表に示す。
を200度、6分オーブンにて加熱し、松井洗浄剤(印
刷用洗い油)に5分間浸漬した後マクベス社製反射濃度
計にて反射濃度を測定し、残膜率を評価した。
ホネート 6;ピロガロール−アセトン樹脂(Mw=2500)の
ナフトキノンジアジド5−スルホン酸エステル(エステ
ル化率20%) なお、溶解抑止剤の内、オニウム塩類はそれ自体感光性
を有するため、同波長における吸収度が過大にならぬ量
添加した。
対し、優れた感度特性を有し、後加熱処理を必要とせ
ず、更に白色灯下での作業が可能であり、しかもその構
成が極めて単純なポジ型感光性組成物、それを用いたポ
ジ型感光性平版印刷版、及びポジ型感光性平版印刷版の
製版方法を提供することができる。
Claims (19)
- 【請求項1】 露光部と非露光部においてアルカリ現像
液に対する溶解性に差異を生ずるポジ型感光性組成物に
おいて、該溶解性に差異を生ぜしめる本質的成分とし
て、(a)光熱変換物質、及び(b)主として化学変化
以外の変化によってアルカリ現像液に対する溶解性が変
化し得る高分子化合物を含有することを特徴とするポジ
型感光性組成物。 - 【請求項2】 光熱変換物質が波長域650〜1300
nmの一部又は全部に吸収帯を有する光吸収色素である
請求項1のポジ型感光性組成物。 - 【請求項3】 前記光吸収色素が、シアニン色素、ポリ
メチン色素、スクアリリウム色素、クロコニウム色素、
ピリリウム色素及びチオピリリウム色素より選ばれた少
なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1
又は2に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項4】 前記高分子化合物がノボラック樹脂及び
/又はポリビニルフェノール樹脂であることを特徴とす
る請求項1〜3に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項5】 前記高分子化合物がノボラック樹脂であ
ることを特徴とする請求項4に記載のポジ型感光性組成
物。 - 【請求項6】 該組成物が、光熱変換物質により光化学
的増感作用を受ける化合物を含有しないことを特徴とす
る請求項1〜5に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項7】 ポジ型感光性組成物の成分として更に、
(c)本質的に(a)成分の赤外吸収色素及び(b)成
分の高分子化合物からなる配合物のアルカリ性現像液に
対する溶解速度を低減し得る溶解抑止剤を含有すること
を特徴とする請求項1〜6に記載のポジ型感光性組成
物。 - 【請求項8】 溶解抑止剤が、光熱変換物質により実質
的に光化学的増感作用を受けない化合物であることを特
徴とする請求項7に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項9】 前記溶解抑止剤が(a)成分の赤外吸収
色素及び(b)成分の高分子化合物からなる配合物のア
ルカリ性現像液に対する溶解速度を50%以下に低減し
得る化合物であることを特徴とする請求項7又は8に記
載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項10】 前記溶解抑止剤が、スルホン酸エステ
ル類、リン酸エステル類、芳香族カルボン酸エステル
類、カルボン酸無水物類、芳香族ケトン類、芳香族アル
デヒド類、芳香族アミン類及び芳香族エーテル類から選
ばれた少なくとも1つであることを特徴とする請求項7
〜9に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項11】 前記溶解抑止剤が、紫外光に対し実質
的に感光性を有さない化合物であることを特徴とする請
求項7〜10に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項12】 前記溶解抑止剤が、o−キノンジアジ
ド化合物であることを特徴とする請求項7〜10に記載
のポジ型感光性組成物。 - 【請求項13】 溶解抑止剤がノボラック樹脂のo−キ
ノンジアジド化合物であることを特徴とする請求項12
のポジ型感光性組成物。 - 【請求項14】 感光性組成物の成分として、光酸発生
剤を実質的に含有しないことを特徴とする請求項1〜1
3に記載のポジ型感光性組成物。 - 【請求項15】 光熱変換物質及びアルカリ可溶性樹脂
を含有するポジ型感光性組成物であって、該組成物の露
光部に於けるアルカリ現像液に対する溶解性(A)と、
該露光部の加熱後のアルカリ現像液に対する溶解性
(B)とがB<Aなる性質を有することを特徴とするポ
ジ型感光性組成物。 - 【請求項16】 請求項1〜15に記載のポジ型感光性
組成物を支持体上に設けてなるポジ型感光性平版印刷
版。 - 【請求項17】 請求項16に記載のポジ型感光性平版
印刷版を、波長域650〜1300nmに属しかつ前記
高分子化合物を画像形成可能ならしめるほど十分な光強
度の光線を用いて走査露光する工程を含むことを特徴と
するポジ型感光性平版印刷版の製版方法。 - 【請求項18】 請求項16に記載のポジ型感光性平版
印刷版を、波長域650〜1300nmに属しかつ光強
度が2×106 mJ/s・cm2 以上の光線を用いて走
査露光する工程を含むことを特徴とするポジ型感光性平
版印刷版の製版方法。 - 【請求項19】 前記光線の光源が半導体レーザー又は
YAGレーザーである請求項17又は18に記載のポジ
型感光性平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20578997A JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-31 | ポジ型感光性印刷版 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-207013 | 1996-08-06 | ||
JP20701396 | 1996-08-06 | ||
JP8-302722 | 1996-11-14 | ||
JP30272296 | 1996-11-14 | ||
JP9-9264 | 1997-01-22 | ||
JP926497 | 1997-01-22 | ||
JP20578997A JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-31 | ポジ型感光性印刷版 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002089424A Division JP3726766B2 (ja) | 1996-08-06 | 2002-03-27 | 画像形成方法 |
JP2005084185A Division JP3797381B2 (ja) | 1996-08-06 | 2005-03-23 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10268512A true JPH10268512A (ja) | 1998-10-09 |
JP3814961B2 JP3814961B2 (ja) | 2006-08-30 |
Family
ID=27278408
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20578997A Expired - Fee Related JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 1997-07-31 | ポジ型感光性印刷版 |
JP2002089424A Expired - Fee Related JP3726766B2 (ja) | 1996-08-06 | 2002-03-27 | 画像形成方法 |
JP2005084185A Expired - Fee Related JP3797381B2 (ja) | 1996-08-06 | 2005-03-23 | ポジ型感光性組成物 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002089424A Expired - Fee Related JP3726766B2 (ja) | 1996-08-06 | 2002-03-27 | 画像形成方法 |
JP2005084185A Expired - Fee Related JP3797381B2 (ja) | 1996-08-06 | 2005-03-23 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6326122B1 (ja) |
EP (4) | EP1747884B2 (ja) |
JP (3) | JP3814961B2 (ja) |
AT (3) | ATE281932T1 (ja) |
DE (3) | DE69731513T2 (ja) |
DK (3) | DK1655132T3 (ja) |
ES (4) | ES2289977T3 (ja) |
PT (3) | PT1747884E (ja) |
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PL324248A1 (en) | 1996-04-23 | 1998-05-11 | Horsell Graphic Ind Ltd | Composition sensitive to heat and method of making lithographic formes incorporating such compositions |
JP3814961B2 (ja) † | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
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- 1997-08-05 DK DK04016020.2T patent/DK1464487T4/en active
- 1997-08-05 EP EP06022316.1A patent/EP1747884B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 EP EP05024849.1A patent/EP1655132B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 EP EP97113521A patent/EP0823327B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 PT PT06022316T patent/PT1747884E/pt unknown
- 1997-08-05 PT PT05024849T patent/PT1655132E/pt unknown
- 1997-08-05 AT AT97113521T patent/ATE281932T1/de active
- 1997-08-05 DK DK06022316.1T patent/DK1747884T3/da active
- 1997-08-05 PT PT40160202T patent/PT1464487E/pt unknown
- 1997-08-05 DE DE69731513T patent/DE69731513T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 US US08/906,258 patent/US6326122B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 ES ES06022316T patent/ES2289977T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 AT AT06022316T patent/ATE528134T1/de active
- 1997-08-05 ES ES04016020.2T patent/ES2536563T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 EP EP04016020.2A patent/EP1464487B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-05 DE DE05024849T patent/DE05024849T1/de active Pending
- 1997-08-05 DE DE06022316T patent/DE06022316T1/de active Pending
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EP2042305A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor |
EP2105690A2 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for drying |
EP2161129A2 (en) | 2008-09-09 | 2010-03-10 | Fujifilm Corporation | Photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser |
WO2011125913A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法 |
EP2471654A2 (en) | 2010-12-28 | 2012-07-04 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and lithographic printing method thereof |
WO2014141781A1 (ja) | 2013-03-14 | 2014-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液の濃縮方法及びリサイクル方法 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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