ES2199119T3 - Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion. - Google Patents

Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion.

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ES2199119T3
ES2199119T3 ES00202653T ES00202653T ES2199119T3 ES 2199119 T3 ES2199119 T3 ES 2199119T3 ES 00202653 T ES00202653 T ES 00202653T ES 00202653 T ES00202653 T ES 00202653T ES 2199119 T3 ES2199119 T3 ES 2199119T3
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Abstract

Composición sensible a la radiación IR y al calor del tipo positivo que comprende un ligante polimérico y un inhibidor de solubilidad capaz de hacer insoluble la composición sensible al calor en un baño de revelado alcalino mientras la composición no se haya expuesto al calor o a la radiación IR y de hacer soluble la composición en dicho baño revelador después de la exposición al calor o a la radiación IR, en la que dicho inhibidor de solubilidad es un polímero o copolímero acrílico hidroxilado, caracterizada porque algunos grupos hidroxilos de dicho polímero o copolímero se han esterificado con un ácido carboxílico o un derivado reactivo del mismo.

Description

Composición sensible a la radiación IR y al calor y placa litográfica recubierta con dicha composición.
Campo de la invención
La presente invención se refiere a una composición sensible a la radiación IR y al calor, y una placa litográfica recubierta con dicha composición.
En particular, se refiere a una composición sensible a la radiación IR y al calor que es útil para la producción de una placa litográfica del tipo positivo.
Se refiere asimismo a una composición sensible a la radiación láser que es útil para la producción de una placa litográfica del tipo positivo.
Antecedentes de la invención
Como es bien conocido, la técnica de imprimir por medio de placas litográficas se basa en la partición diferencial entre las sustancias grasas y el agua. La sustancia grasa o tinta se retiene preferentemente por la área de imagen y el agua se retiene preferentemente por la área de no imagen. Cuando la superficie de una placa litográfica, preparada adecuadamente, se humedece con agua y a continuación se rocía con tinta, la área de no imagen retiene el agua y repele la tinta, mientras la área de imagen acepta la tinta y repele el agua. A continuación, la tinta sobre la área de imagen se transfiere sobre la superficie de un material sobre el cual se desea reproducir la imagen, tal como, por ejemplo, papel, textil y similar.
En general, las placas litográficas utilizadas en los procedimientos de impresión se forman a partir de un soporte de aluminio cubierto con una composición sensible a la luz (fotosensible). Cuando tal composición se hace soluble en un baño de revelado alcalino por la acción de calor o de radiación de longitud de onda apropiada, el procedimiento de impresión se denomina ``positivo''. A la inversa, cuando la porción expuesta al calor o a la radiación de longitud de onda apropiada se hace insoluble en un baño de revelado alcalino, el procedimiento de impresión se denomina ``negativo''. En ambos casos, el área de imagen restante es lipófila y por tanto acepta la tinta, mientras el área de no imagen es hidrófila y acepta el agua.
Los últimos desarrollos en el campo de placas litográficas se han dirigido hacia la búsqueda de composiciones sensibles a la luz láser, preferentemente en el IR cercano. En particular, hacia la luz láser controlada por un software, de tal manera como la transferencia de forma directa de la imagen creada por el ordenador sobre la superficie de la placa. Esta técnica posee la ventaja de eliminar las películas fotográficas, con la consiguiente reducción en la polución debido a las sustancias químicas utilizadas para la preparación y producción de éstas y eliminación de todos los problemas que surgen en la transferencia de la imagen sobre la placa vía películas fotográficas.
Primeramente, una composición sensible a la radiación emitida por un láser podría impartir gran fiabilidad al sistema.
Posteriormente, sería posible trabajar bajo iluminación ambiente, eliminando de este modo los sistemas de carga automática o las habitaciones oscuras.
Con el fin de conseguir este objetivo, en los últimos años se han investigado muchas composiciones que comprenden un ligante polimérico y un inhibidor de solubilidad. Tal inhibidor de solubilidad posee la capacidad de hacer el ligante polimérico insoluble en un baño de revelado alcalino adecuado mientras no se haya expuesto a una cantidad de calor suficiente y a continuación de hacerlo soluble en dicho baño de revelado después de tal exposición al calor. Además de los componentes ya mencionados, muchas de las composiciones descritas hasta ahora comprenden asimismo un denominado absorbente de IR, que consiste generalmente en un compuesto capaz de absorber radiación IR y de transformar parte de la radiación absorbida en calor, devolviéndola al entorno circundante inmediato.
El documento WO-A-99 11 458 describe un procedimiento para la formación de imagen de forma directa en una superficie de impresión litográfica utilizando radiación IR sin el requisito de la exposición previa o posterior a la luz UV, o del tratamiento de calor. La capa formadora de imagen contiene por lo menos un polímero que posee unidos grupos colgantes que son hidroxi, ácido carboxílico, terc-butil-oxicarbonilo, sulfonamida, amida, nitrito, urea, o combinaciones de los mismos; además de un compuesto absorbente en el infrarrojo. La capa formadora de imagen puede asimismo contener un segundo polímero que posee unidos grupos colgantes que son 1,2-naftoquinonadiazida, hidroxi, ácido carboxílico, sulfonamida, hidroximetilamida, alcoximetilamida, nitrilo, maleimida, urea o combinaciones de los mismos. La capa formadora de imagen puede asimismo contener un colorante de absorción en el visible, un agente inhibidor de solubilidad, o ambos. En la práctica, la capa formadora de imagen se expone en forma de imagen a radiación infrarroja para producir áreas de imagen expuestas en la capa formadora de imagen que posee solubilidad transitoria en una solución de revelado alcalino acuoso, de forma que la solubilidad se pierda gradualmente durante un periodo de tiempo hasta que las áreas de imagen lleguen a ser tan insolubles como las áreas de no imagen. Dentro de un periodo de tiempo corto de la exposición de la imagen, la capa imagen se revela con una solución de revelado alcalino acuoso para formar la superficie de impresión litográfica. En este procedimiento, la radiación infrarroja es preferentemente radiación láser que se controla digitalmente.
El documento WO-A-99 21 725 describe un precursor para una placa de impresión que posee un recubrimiento de una composición sensible al calor, cuya solubilidad se dispone en un revelador acuoso para aumentar en las áreas calentadas. La composición contiene un compuesto que incrementa la resistencia de áreas no calentadas de la composición sensible al calor a la disolución en un revelador acuoso, seleccionándose dicho compuesto de entre los grupos que comprenden: (A) compuestos que incluyen una unidad de poli(óxido de alquileno); (B) siloxanos; y (C) ésteres, éteres y amidas de alcoholes polihídricos.
El documento DE-A-19749 915 describe un elemento de trabajo positivo que es sensible a la radiación IR. El elemento comprende una capa formadora de imagen que contiene una resina reactiva soluble en álcali (tal como una resina fenólica), un compuesto que absorbe radiación infrarroja, un compuesto generador de ácido termoquímico y un inhibidor de disolución que posee grupos ácido escindibles C- -O- -C. Tras la exposición de láser, se genera un ácido de Bronsted que a continuación rompe los enlaces de los grupos C- -O- -C, permitiendo que las regiones expuestas de la resina reactiva se solubilizen en una solución de revelador alcalino.
El documento WO-A-97 39 894 describe una base litográfica recubierta con un complejo de un revelador-resina fenólica insoluble y un compuesto que forma un complejo térmicamente frágil con la resina fenólica. Este complejo es menos soluble en la solución de revelador que en la resina fenólica sin complejar. Sin embargo, cuando este complejo se calienta en forma de imagen el complejo se descompone permitiendo así que la resina fenólica no complejada se disuelva en la solución de revelado. De este modo la solubilidad diferencial entre las áreas calentadas de la resina fenólica y las áreas no calentadas se incrementa cuando se compleja la resina fenólica. Preferentemente está asimismo presente un material absorbente de radiación láser sobre la base litográfica. Ejemplos de compuestos que forman un complejo térmicamente frágil con la resina fenólica son: compuestos de quinolinio, compuestos de benzotiazolio, compuestos de piridinio y compuestos de imidazolina.
El documento EP-A-0 823 327 describe una composición fotosensible positiva que muestra una diferencia de solubilidad en un revelador alcalino como entre una porción expuesta y una porción no expuesta, que comprende, como componentes inductores de la diferencia de solubilidad, (a) un material de conversión fototérmica y (b) un compuesto de peso molecular elevado, cuya solubilidad en un revelador alcalino se varía principalmente por un cambio más que un cambio químico.
La patente US-A-5 085 972 describe los inhibidores de solubilidad para las resinas fenólicas que cuando se utilizan en construcciones de placa de impresión positiva de resina fenólica/sal de yodo resultan en una sensibilidad incrementada significativamente. Los inhibidores de solubilidad contienen una mitad de alcoxialquiléster.
El documento EP-A-0 901 902 describe una composición fotosensible positiva para utilizar con un láser IR que comprende uno o más compuestos de polímero solubles en solución acuosa alcalina (A) que poseen en una molécula por lo menos un grupo que se selecciona de entre un grupo hidróxido fenólico (a-1), un grupo sulfonamida (a-2) y un grupo imida activo (a-3); un compuesto (B) que posee un valor I/O (Y) que satisface una relación 0,05 \leq
\hbox{| X-Y |}
\leq 0,5 en la que X es un valor I/O del compuesto de polímero (A), y que es compatible con el compuesto de polímero (A), disminuyendo la solubilidad de ese modo del compuesto de polímero (A) en una solución acuosa alcalina, reduciéndose un efecto de la disminución de la solubilidad por calentamiento; y un compuesto (C) que genera calor tras la absorción de la luz. La composición fotosensible no contiene ningún compuesto que posea una temperatura de descomposición térmica de 150ºC o inferior. Alternativamente, la composición fotosensible puede comprender un compuesto que genera calor tras la absorción de luz; una resina soluble en solución acuosa alcalina que posee un grupo hidróxido fenólico; y un compuesto representado por R^{1}CO-X-R^{2} (en el que X representa O, S o NR^{3}; R^{1} representa un grupo alquilo o un grupo alquenilo que posee 6-32 átomos de carbono, R^{2} y R^{3} representan un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo, un grupo alquenilo o un grupo arilo que cada uno contiene 1-18 átomos de carbono). Objetivos de la invención
El objetivo de la presente invención es proporcionar una composición sensible al calor y una placa litográfica del tipo positivo recubierta con dicha composición en la que el inhibidor de solubilidad es un polímero acrílico hidroxilado, un copolímero acrílico hidroxilado o un derivado de los mismos.
La presente invención tiene asimismo como objetivo proporcionar una composición sensible a la radiación IR y una placa litográfica del tipo positivo recubierta con dicha composición en la que el inhibidor de solubilidad es un polímero acrílico hidroxilado, un copolímero acrílico hidroxilado o un derivado de los mismos.
La presente invención tiene asimismo como objetivo proporcionar una composición sensible a la radiación láser y una placa litográfica del tipo positivo recubierta con dicha composición en la que el inhibidor de solubilidad es un polímero acrílico hidroxilado, un copolímero acrílico hidroxilado o un derivado de los mismos.
\newpage
Definiciones
El término ``placa litográfica'' significa un soporte cubierto con un recubrimiento que, después de ser adecuadamente expuesto y revelado, se utiliza, como una matriz planográfica, en los procedimientos de impresión en los que existe una partición diferencial entre las sustancias grasas y el agua.
Los ejemplos típicos de materiales de soporte están constituidos por placas de aluminio, zinc, cobre, poliéster y papel cubierto con un polímero. Preferentemente, el soporte es una hoja de aluminio granulado, oxidado y tratado adecuadamente para recibir la composición fotosensible.
El término ``tipo positivo'' significa que la porción del recubrimiento fotosensible expuesta a la radiación o al calor llega a ser soluble de tal manera que se puede eliminar durante el procedimiento de revelado de la placa. Típicamente, el procedimiento de revelado se realiza en álcalis que poseen una conductividad de 75 a 110 mS.
El término ``ligante polimérico'' significa un polímero soluble en álcali, tal como por ejemplo una resina novolac, una resina resol, una resina vinilfenólica, derivados de las mismas o mezclas de las mismas.
Típicamente una resina novolac es un producto de policondensación obtenido por reacción en un medio ácido entre formaldehído y fenol y/o m-cresol y/o xilenol simétrico en una proporción molar menor de 1 (por ejemplo formaldehído: fenol=1:2). Opcionalmente, el compuesto obtenido de este modo se modifica de forma diversa tal como, por ejemplo, por reacción con amidas.
Ejemplos típicos de resinas novolac comerciales son los productos LB 6564™ (peso molecular ponderado promedio = 6000-10.000) y LB 744™ (peso molecular ponderado promedio = 8000-13.000) de la compañía Bakelite (Alemania), R7100™ (peso molecular ponderado promedio = 8000-10.000) de la compañía Rohner, y PN 320™ (peso molecular ponderado promedio = 3000-5000) y PN 430™ (peso molecular ponderado promedio = 5000-9500) de la compañía Clariant; 010/129/2 (peso molecular ponderado promedio = 8700-9700), 010/129/1 (peso molecular ponderado promedio = 2200-3200), y 010/127/1 (peso molecular ponderado promedio = 800-1800), 76/159 (peso molecular ponderado promedio = 2900-3900), 76/160 (peso molecular ponderado promedio = 2200-3200), 76/190 (peso molecular ponderado promedio = 7500-8500) de la compañía Rohner.
El término ``composición sensible al calor'' significa una composición que incluye un ligante polimérico y posee la propiedad de ser insoluble en un baño de revelado alcalino mientras no se haya expuesto a una cantidad de calor suficiente y a continuación de ser soluble en dicho baño después de tal exposición al calor.
El término ``inhibidor de solubilidad'' significa un compuesto capaz de hacer una composición sensible al calor, que lo contiene, insoluble en un baño de revelado alcalino adecuado mientras dicha composición no se haya expuesto a una cantidad de calor y/o de radiación láser suficiente y a continuación de hacerlo soluble en dicho baño de revelado alcalino después de tal exposición al calor y/o radiación láser.
El término ``número de hidroxilo'' significa el número de miligramos de KOH equivalente al contenido de hidroxilo de 1 gramo del compuesto bajo prueba. La determinación se realiza mediante la acetilación del compuesto en la prueba con anhídrido acético en piridina, hidrolizando con agua el exceso de anhídrido acético que no ha reaccionado y valorando el ácido acético libre con KOH (indicador de fenolftaleína).
El término ``número de acidez'' significa el número de miligramos de KOH necesarios para neutralizar el ácido libre presente en 1 gramo del compuesto bajo prueba.
El término ``absorbente de IR'' significa un compuesto capaz de absorber radiación IR y de transformar parte de la radiación absorbida en calor y devolverlo al entorno circundante inmediato. Preferentemente, tal absorbente es soluble en agua, cetonas, glicoles, glicoléteres, alcoholes, ésteres y mezclas de los mismos.
Ejemplos típicos de absorbentes son los productos comerciales KF 646™, KF 45™, KF 810™, KF 1003™, KF 1002™, IR HBB 812™ y KF 818™ de la compañía Riedel-de-Haen/Allied/Signal (Seelze, Alemania), los productos comerciales ADS 830A™ y ADS 1060A, ADS793EI™, ADS798MI™, ADS798MP™, ADS800AT™, ADS805PI™, ADS805PP™, ADS805PA™, ADS805PF™, ADS812MI™, ADS815EI™, ADS818BHI™, ADS818HT™,
ADS822MT™, ADS838MT™, ADS840MT™, ADS845BI™, ADS905AM™, ADS956BGI™, ADS1040P™,
ADS1050P™, ADS1120P™ de la compañía American Dye Source (Varennes, Québec, Canadá), los productos comerciales YKR-3070™, YKR-3082™, D99-029™ y D99-039™ de la compañía Yamamoto Chemical Inc., el producto comercial Projet 825 LDI™ de la compañía Avecia Limited (antigua Zeneca Specialties, Manchester, Inglaterra). Aquí, por conveniencia, el producto Projet 825™ se referirá de ahora en adelante mediante la abreviación ``Z''.
\newpage
Una familia particularmente interesante de absorbentes es la que se caracteriza por la fórmula estructural siguiente:
1
en la que X, Y, R, R' y R'' pueden tener muchos significados. Ejemplos típicos de estos significados son: anillo heterocíclico simple o condensado para X, anillo heterocíclico simple o unido para Z e Y junto con el átomo de carbono al cual están unidos, hidrógeno, alquilo C_{1-3}, SO_{3}^{-} o COO^{-} para R y R' independientemente uno de otro y H o Cl para R''.
Ejemplos particulares de dichos anillos heterocíclicos son:
2
Ejemplos específicos de absorbentes son:
A
3
B
4
\newpage
C
5
D
6
E
7
Z
8
El término ``radiación IR'' significa una radiación de una longitud de onda de 780 a 1400 nm.
Un ejemplo típico de un dispositivo utilizado para generar la radiación IR es un diodo de láser que emite a aprox. 830 nm.
El término ``radiación láser'' significa una radiación de una longitud de onda de 600 a 1400 nm.
El absorbente capaz de absorber radiación que posee una longitud de onda de 600 a 780 nm es bien conocido en la técnica. Ejemplos típicos de tales absorbentes son los productos comerciales ADS640PP™, AD640HI™, ADS640HI™, ADS675MT™, ADS680BP™, ADS740PP™, ADS745HT™, ADS760MP™, ADS775MI™,
ADS775MP™, ADS775HI™, ADS775PI™, ADS775PP™, ADS780MT™ y ADS780BP™, de la compañía American Dye Source (Varennes, Québec, Canadá).
El término ``longitud de onda nominal'' significa una longitud de onda de 805 a 830 nm.
El término ``colorante'' significa un compuesto o preparación de color capaz de teñir la composición fotosensible para revelar la imagen después de la exposición a la luz y/o después del revelado.
Ejemplos típicos de colorantes son Basonyl™ azul 636 (índice colorimétrico 42595) de la compañía Basf (Alemania), Sudan Amarillo 150 (índice colorimétrico 11021) de la compañía Basf (Alemania), Solvent Verde 3 (índice colorimétrico 61565), Solvent Azul 59 (índice colorimétrico 61552), Solvent Azul 35 (índice colorimétrico 61554) o mezclas de los mismos.
El término ``triazina'' tiene la intención de significar la familia entera de las triclorometil-s-triazinas sustituidas de tipo conocido.
El término ``aditivo'' significa un compuesto utilizado para mejorar o conferir una propiedad deseada sobre la composición fotosensible tal como por ejemplo un agente de revelado intensificador, un pigmento, un plastificante capaz de hacer la emulsión menos resistente al calor y por tanto más sensible, sin poseer sin embargo una función de insolubilización, o un agente capaz de modificar la tensión superficial y/o interfacial y mejorar de este modo las características de facilidad de extensión sobre el soporte y el poder de recubrimiento de la composición sensible al calor.
Ejemplos típicos de pigmentos son: Heliogen™ Azul L 6700 F (PB 15:6 índice colorimétrico 74160), Heliogen™ Azul L 6875 F (PB 15:2 índice colorimétrico 74160) de la compañía Basf (Alemania), y de las series Waxoline™: AZUL AP FW (índice colorimétrico SB 36 PART 2 61551), VIOLETA A FW (índice colorimétrico SV 13 PART 2 60725), VERDE G FW (índice colorimétrico SB 3 PART 2 61565) de la compañía Avecia Limited (antigua Zeneca Ltd.) o mezclas de los mismos.
Ejemplos típicos de agentes capaces de modificar la tensión superficial y/o interfacial son los copolímeros de dimetilpolisiloxano-poliéteres modificados, mezclas de disolventes aromáticos de elevado punto de ebullición, cetonas y ésteres y tensioactivos fluorados. Ejemplos típicos de tales agentes son los productos comerciales BYK™, 300, 302 y 341, BYKE-TOL™ OK de la compañía BYK Mallinckrodt y FC 430™ y FC 431™ de la compañía 3M.
Sumario de la invención
En un primer aspecto de la misma, la presente invención se refiere a una composición sensible a la radiación IR y al calor del tipo positivo según la reivindicación 1.
En un segundo aspecto de la misma, la presente invención se refiere asimismo a una placa litográfica del tipo positivo según la reivindicación 13.
Típicamente, dicho copolímero acrílico hidroxilado posee un número de hidroxilo de 40 a 200, preferentemente de 100 a 170.
Ventajosamente, dicho copolímero acrílico hidroxilado posee un peso molecular ponderado promedio (MW) de 3000 a 30.000 unidades de masa atómica (u.m.a) y, preferentemente, de 6000 a 20.000 u.m.a y posee un índice de polidispersidad (MW/Mn) de 1,5 a 6.
Ejemplos típicos de copolímeros acrílicos hidroxilados adecuados son las resinas Macrynal™ de Hoechst, tales como, por ejemplo, Macrynal™ SM 510 N (número de hidroxilo 135-155), SM 513, (número de hidroxilo:110-130), SM 515 (número de hidroxilo:145-160) y SM 516 (número de hidroxilo:130-150).
Ejemplos típicos de ácidos carboxílicos adecuados son los ácidos mono- y policarboxílicos alifáticos y aromáticos. De forma ventajosa, el ácido es un ácido bicarboxílico seleccionado de entre el grupo que comprende ácido maleico, fumárico, malónico y ftálico.
Ejemplos típicos de derivados reactivos de ácidos carboxílicos alifáticos son los que se seleccionan de entre el grupo que comprenden cloruro y anhídrido.
De forma ventajosa, el polímero hidroxilado según la presente invención se modifica mediante esterificación parcial con anhídrido maleico.
Preferentemente, dicha esterificación parcial se realiza utilizando de 10 a 90% de la cantidad estequiométrica del derivado del ácido carboxílico alifático reactivo requerido para esterificar todos los grupos hidroxilos del polímero hidroxilado. Más preferentemente de 20 a 60%, todavía más preferentemente de 20 a 30%.
Dicha reacción de esterificación de algunos grupos hidroxilos de un polímero hidroxilado con un ácido carboxílico alifático o un derivado reactivo del mismo se realiza fácilmente por técnicas estándar bien conocidas por el experto en la materia.
Preferentemente, dicho ligante polimérico comprende una resina novolac que posee un peso molecular ponderado promedio de 2000 a 14.000.
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Ventajosamente, dicho ligante polimérico consiste en una mezcla de dos o más novolacs. Preferentemente, un primer novolac posee un peso molecular ponderado promedio de 3000 a 5000 y un segundo novolac posee un peso molecular ponderado promedio de 6000 a 10.000.
En una forma de realización preferida de la presente invención, la composición comprende asimismo un absorbente de IR capaz de absorber una radiación IR de 780 a 1400 nm, preferentemente de 780 a 1100 nm, y de convertirla en calor.
La composición de la presente invención puede asimismo comprender un colorante.
Típicamente dicho colorante es Basonyl azul 636 (índice colorimétrico 42595) y está presente sólo en cantidades suficientes para teñir la composición.
La composición de la presente invención puede asimismo comprender un plastificante, una triazina y otros aditivos de naturaleza estándar. En particular, el plastificante posee el objetivo de modificar la resistencia y la dureza de dicha composición mediante la variación de su sensibilidad al calor sin afectar apreciablemente su sensibilidad a los reveladores.
Ventajosamente, la composición de la presente invención puede asimismo contener inhibidores de solubilidad que pertenecen a otras clases tales como, por ejemplo, compuestos organometálicos y sales orgánicas de metales que son el sujeto de otra solicitud de patente, que se incluye aquí mediante referencia, presentada en la misma fecha por el solicitante. Típicamente, dichas composiciones son derivados orgánicos de titanio. Un ejemplo típico de tales compuestos es isopropóxido de titanio trietanolaminado, conocido asimismo como Tyzor™ TE.
La presente invención se describe adicionalmente mediante los ejemplos y pruebas siguientes, proporcionados únicamente a título ilustrativo y no limitativo de la presente invención.
Experimentos Ejemplo 1 Esterificación parcial de un polímero hidroxilado
Reactivos
Macrynal™ SM 510N 32,0 kg (75,24% peso/peso)
Anhídrido maleico 2,4 kg (5,64% peso/peso)
Hidroquinona 22,5 g (0,053% peso/peso)
Trietilamina 108 g (0,25% peso/peso)
Acetato de butilo 8,0 kg (18,81% peso/peso)
Procedimiento
Se colocaron el Macrynal™ SM 510 N, que posee un número de OH de aprox. 160, y la hidroquinona en un reactor de vidrio de 50 l de carga superior, equipado con un agitador mecánico de potencia 0,45-0,5 kW con paletas rotatorias de teflón, un embudo de adición de 3 litros y un condensador de reflujo. Este reactor se equipó asimismo con una manta calefactora con doble control de par térmico: uno situado en la base del reactor y el otro en la parte superior de la manta calefactora.
Cuando se completó la adición, se encendieron el agitador y los resistores, fijando el efecto del calentamiento del primero a 78ºC y el del segundo a 80ºC.
Se disolvió separadamente el anhídrido maleico en la mitad del volumen de acetato de butilo con calentamiento (50ºC) y agitando, evitando el contacto prolongado con el aire para evitar que la humedad contenida en él transformara el anhídrido a ácido.
Cuando la temperatura del reactor alcanzó 80ºC, se añadió la solución de anhídrido maleico durante un periodo de 15 minutos.
El recipiente que había contenido la solución de anhídrido maleico se lavó con una porción del resto de acetato de butilo.
Separadamente, se preparó una solución que contenía la trietilamina y el resto del acetato de butilo, y se añadió lentamente a la mezcla de reacción durante un periodo de aprox. 1 hora.
Cuando se completó la adición, se fijó la temperatura del primer resistor a 88ºC y la del segundo resistor a 90ºC.
Se dejó reaccionar la mezcla de reacción durante 5 horas a 90ºC. A continuación se apagaron los resistores de calentamiento y se dejó enfriar la mezcla de reacción con agitación.
El producto obtenido de este modo se podría utilizar como tal para preparar la composición sensible al calor de la presente invención y estaba compuesto principalmente del producto de esterificación deseado (50-60% peso/peso) y de acetato de butilo (40-50% peso/peso).
El producto de esterificación deseado tuvo las características siguientes:
Nº de acidez 75 \pm 10 mg KOH/g
Viscosidad (con copa nº 3*) 200''
(*) La viscosidad se midió por el procedimiento de la copa FORD a 25ºC.
Ejemplo 2 Preparación de composiciones sensibles al calor y a la radiación IR
La mezcla (6 g) de los componentes indicados en la Tablas siguientes se disolvió a temperatura ambiente (aprox. 25ºC) en 94 g de una mezcla 30:70 (peso/peso) de acetona:metoxipropanol, agitando hasta la completa disolución de los componentes.
La solución obtenida se filtró por medio de papel utilizando un filtro del tipo 0860 de la compañía Schleicher & Schuell (100 mm).
TABLA 1
Composición nº 1 2 3
Componente % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso)
R7100™ 46,9 53,9 60,9
PN 320™ 20,1 23,1 26,1
Macrynal™ SM 510 N 30 20 10
``Z'' 3 3 3
TABLA 2
Composición nº 4 5 6
Componente % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso)
R7100™ 46,9 53,9 60,9
PN 320™ 20,1 23,1 26,1
Polímero del Ejemplo 1 30 20 10
``Z'' 3 3 3
TABLA 3
Composición nº 7 8 9
Componente % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso)
R7100™ 39,9 46,9 53,9
PN 320™ 17,1 20,1 23,1
Macrynal™ SM 510 N 10 10 10
Tyzor™ TE (*) 30 20 10
``Z'' 3 3 3
(*) isopropóxido de titanio trietanolaminado
TABLA 4
Composición nº 10 11 12 13
Componente % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso)
R7100™ 39,9 46,9 53,9 0
PN 320™ 17,1 20,1 23,1 0
Polímero del Ejemplo 1 10 10 10 0
Macrynal™ SM 510 N 0 0 0 10
Rohner 10/129/2 0 0 0 87
Tyzor™ TE 30 20 10 0
``Z'' 3 3 3 3
TABLA 5
Composición nº 14 15 16 17
Componente % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso) % (peso/peso)
R7100™ 56,7 56,7 56,7 56,7
PN 320™ 24,3 24,3 24,3 24,3
Macrynal™ SM 513 N 0 0 15 0
Macrynal™ SM 515 N 0 15 0 0
Macrynal™ SM 516 N 15 0 0 15
Basonyl 636™ 1 1 1 1
``Z'' 3 3 3 0
ADS 1060™ 0 0 0 3
\newpage
Las mezclas anteriores de las Tablas 1 a 5 son asimismo completamente solubles en los disolventes siguientes: metilcetona [MEK]; acetona/MEK (5/95 a 95/5 peso/peso); MEK/2-metoxiisopropanol (5/95 a 95/5 peso/peso); acetona/alcohol isopropílico [IPA] (5/95 a 95/5 peso/peso); MEK/IPA (5/95 a 95/5 peso/peso).
Ejemplo 3 Preparación de una placa litográfica del tipo positivo
Las composiciones del Ejemplo 2 anterior se extendieron sobre un soporte de aluminio que se había tratado previamente mediante las técnicas estándar. La placa recubierta de este modo se secó en un hormo de circulación forzada tal como el de sistema PID M80-VF de la compañía MPM Instruments s.r.l. (de Bernareggio, Milán, Italia) a 90ºC durante 8 minutos. El peso del recubrimiento fotosensible es 1,6-2,2 g/cm^{2}.
Después de que se dejaran en reposo durante por lo menos 24 horas, las placas obtenidas de este modo se sometieron a las Pruebas siguientes.
Prueba 1
Resistencia a la solución al 10% de metasilicato de sodio pentahidratado en agua desmineralizada
Se sumergió una tira de placa de 2 x 30 cm en sucesivas ``etapas'' de 4 cm/10 s en un cilindro graduado que contenía la solución al 10% de metasilicato de sodio pentahidratado a la temperatura de 24ºC.
De esta manera, se obtuvo una escala compuesta de seis zonas con tiempos de inmersión de 10 s para la 1ª etapa de la escala hasta un minuto para la última. Los resultados se muestran en la Tabla 6 a continuación.
TABLA 6
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
1 X
2 X
3 X
4 X
5 X
6 X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
12 X
13 X
14 X
TABLA 6 (continuación)
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
15 X
16 X
17 X
Los valores indican la primera etapa visible independientemente del espesor del resto del recubrimiento; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 10 segundos y el valor 6 es equivalente a un tiempo de 60 segundos. La resistencia de la composición a la solución utilizada es la más elevada para el valor 6 y la resistencia más pequeña o cero para el
\hbox{valor 1.}
Prueba 2
Resistencia al revelador LAP98
Se sumergió una tira de placa de 2 x 30 cm en ``etapas'' sucesivas de 4 cm/10 s en un cilindro graduado que contenía una solución de LAP98 a la temperatura de 24ºC.
El LAP98 tenía la composición siguiente: agua (85% peso/peso), metasilicato de sodio pentahidratado (13% peso/peso), tensioactivos (0,5% peso/peso) y otros aditivos (1,5% peso/peso).
De esta manera, se obtuvo una escala compuesta de seis zonas con tiempos de inmersión de 10 s para la 1ª etapa de la escala hasta un minuto para la última. Los resultados se muestran en la Tabla 7 a continuación.
TABLA 7
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
1 X
2 X
3 X
4 X
5 X
6 X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
12 X
TABLA 7 (continuación)
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
13 X
14 X
15 X
16 X
17 X
Los valores indican la etapa visible independientemente del espesor del resto del recubrimiento; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 10 segundos y el valor 6 es equivalente a un tiempo de 60 segundos. La resistencia de la composición a la solución utilizada es la más elevada para el valor 6 y la más pequeña o cero para el valor 1.
Prueba 3
Resistencia al alcohol isopropílico
Se sumergió una tira de placa de 2 x 30 cm en ``etapas'' sucesivas de 4 cm/10 s en un cilindro graduado que contenía una solución acuosa de alcohol isopropílico al 40% a una temperatura de 24ºC.
De esta manera, se obtuvo una escala compuesta de seis zonas con tiempos de inmersión de 1 minuto para la 1ª etapa de la escala hasta 6 minutos para la última. Después de la inmersión, se aplicó sobre la superficie de cada tira una banda adhesiva, que se eliminó inmediatamente por despegado, para evaluar el grado de deterioro de la capa fotosensible causado por la solución de alcohol isopropílico. Los resultados se muestran en la Tabla 8 a continuación.
TABLA 8
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
1 X
2 X X
3 X
4 X
5 X X
6 X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
TABLA 8 (continuación)
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
12 X
13 X
14 X
15 X
16 X
17 X
Los valores indican la etapa visible independientemente del espesor del resto del recubrimiento; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 1 minuto y el valor 6 es equivalente a un tiempo de 6 minutos. La resistencia de la composición a la solución utilizada es la más elevada para el valor 6 y la resistencia más pequeña o cero para el
valor 1.
Prueba 4
Exposición a la radiación IR
Se expusieron seis zonas diferentes de una placa que posee la misma distribución de peso por unidad de área utilizando un rayo láser, controlado por software y que poseía una longitud de onda nominal de 830 nm (todas las composiciones excepto la composición nº 17) y una longitud de onda nominal de 1060 nm (sólo composición nº 17), a los valores de energía/cm^{2} siguientes: 300 mJ/cm^{2}, 250 mJ/cm^{2}, 150 mJ/cm^{2}, 100 mJ/cm^{2}, 75 mJ/cm^{2} y 50 mJ/cm^{2}.
Las placas expuestas se revelaron inmediatamente en una bandeja utilizando, como referencia, LAP98 de la compañía Lastra S.p.A. como revelador a una temperatura de 24 a 25ºC durante 45 segundos de tiempo de inmersión con agitación más 15 segundos de limpieza con una almohadilla de algodón.
Los resultados de la prueba se muestran en la Tabla 9 y 9bis.
TABLA 9
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
300 300 250 250 150 150
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
1 no no no no
2
3
4 no no no
5
6
7 no no
8 no
TABLA 9 (continuación)
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
300 300 250 250 150 150
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
9
10 no
11
12
13 no no no no
14
15
16
17
TABLA 9 BIS
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
300 300 250 250 150 150
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
1 no no no no no no
2 no no no no
3
4 no no no no no no
5 no no no no
6
7 no no no no no no
8 no no no no no no
9 no no no no no
10 no no no no no no
11 no no no no no no
12 no no
13 no no no no no no
14 no no
TABLA 9 BIS (continuación)
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
300 300 250 250 150 150
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
15 no no
16 no no
17 no no
A corresponde a un peso de emulsión de 1,6-1,8 g/m^{2}.
B corresponde a un peso de emulsión de 2,0-2,2 g/m^{2}.
El término ``limpieza de la base'' se utiliza para significar que el revelador ha eliminado la composición de las regiones que se han expuesto a las radiaciones láser.
Prueba 5
Resistencia a la abrasión mecánica
Para simular la abrasión mecánica y química que una placa experimenta durante el ciclo de impresión, se fijaron muestras de placas correspondientes a las composiciones de 1 a 4, 13-16 a una superficie de nivel y se colocaron en contacto estrecho con una almohadilla de algodón empapada en una solución al 50% de alcohol isopropílico. La almohadilla se movió por un brazo, sujeto a un sistema de aire comprimido, capaz de impartir un movimiento oscilatorio con el consiguiente frotamiento de las muestras bajo examen. Para cada composición, se grabó el número máximo de pases antes de la eliminación completa de la emulsión. Los resultados expresados en número de pases se reproducen en la Tabla 10 siguiente.
TABLA 10
Composición Número de pases
1 10
2 15
3 30
4 10
13 180
14 30
15 10
16 10

Claims (13)

1. Composición sensible a la radiación IR y al calor del tipo positivo que comprende un ligante polimérico y un inhibidor de solubilidad capaz de hacer insoluble la composición sensible al calor en un baño de revelado alcalino mientras la composición no se haya expuesto al calor o a la radiación IR y de hacer soluble la composición en dicho baño revelador después de la exposición al calor o a la radiación IR, en la que dicho inhibidor de solubilidad es un polímero o copolímero acrílico hidroxilado, caracterizada porque algunos grupos hidroxilos de dicho polímero o copolímero se han esterificado con un ácido carboxílico o un derivado reactivo del mismo.
2. Composición según la reivindicación 1, caracterizada porque dicho copolímero acrílico hidroxilado presenta un número de hidroxilo de 40 a 200.
3. Composición según la reivindicación 2, caracterizada porque dicho copolímero acrílico hidroxilado presenta un número de hidroxilo de 100 a 170.
4. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizada porque dicho copolímero acrílico hidroxilado presenta un peso molecular promedio (MW) de 3.000 a 30.000 u.m.a.
5. Composición según la reivindicación 4, caracterizada porque dicho copolímero acrílico hidroxilado presenta un peso molecular ponderado promedio (MW) de 6.000 a 20.000 u.m.a.
6. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizada porque dicho ácido es un ácido bicarboxílico.
7. Composición según la reivindicación 6, caracterizada porque dicho ácido bicarboxílico se selecciona de entre el grupo que comprende ácido maleico, fumárico, malónico y ftálico.
8. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizada porque dicho derivado reactivo de un ácido carboxílico alifático se selecciona de entre el grupo que comprende cloruro y anhídrido.
9. Composición según la reivindicación 8, caracterizada porque dicho derivado reactivo de un ácido carboxílico alifático es anhídrido maleico.
10. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque dicho ligante polimérico comprende una resina novolac que presenta un peso molecular ponderado promedio de 2000 a 14.000.
11. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizada porque comprende asimismo un absorbente IR capaz de absorber radiación IR de 780 a 1400 nm.
12. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, caracterizada porque comprende asimismo un inhibidor de solubilidad que es un derivado orgánico de titanio.
13. Placa litográfica del tipo positivo recubierta con una composición sensible al calor según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12.
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