JPH10212276A - 酸塩化物化合物の製造方法 - Google Patents
酸塩化物化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH10212276A JPH10212276A JP9236442A JP23644297A JPH10212276A JP H10212276 A JPH10212276 A JP H10212276A JP 9236442 A JP9236442 A JP 9236442A JP 23644297 A JP23644297 A JP 23644297A JP H10212276 A JPH10212276 A JP H10212276A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- acid
- group
- chloride
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/26—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
- C07D213/63—One oxygen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/81—Amides; Imides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アジニル酸塩化物の効率のよい製造方法の提
供。 【解決手段】 式Ｉ 【化１】 （環Ａｚは場合によって置換されていてもよいアジニル
基である）のアジニル酸塩化物化合物の製造のための有
効かつ効率的な方法であって、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) のトリクロロメチルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧
下に、反応経過の間に留去され得る酸塩化物を形成する
ことが可能である酸で処理する。こうして得られるアジ
ニル酸塩化物の（ヘテロ）アリールオキシアジニルカル
ボキサミドの製造のための使用。
供。 【解決手段】 式Ｉ 【化１】 （環Ａｚは場合によって置換されていてもよいアジニル
基である）のアジニル酸塩化物化合物の製造のための有
効かつ効率的な方法であって、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) のトリクロロメチルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧
下に、反応経過の間に留去され得る酸塩化物を形成する
ことが可能である酸で処理する。こうして得られるアジ
ニル酸塩化物の（ヘテロ）アリールオキシアジニルカル
ボキサミドの製造のための使用。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トリクロロメチル
アジンからのアジニル酸塩化物化合物の製造方法に関す
る。この中で、トリクロロメチルアジンは、酸性触媒の
存在下、反応経過中に減圧下に蒸留され得る酸塩化物を
形成することが可能である酸で処理される。
アジンからのアジニル酸塩化物化合物の製造方法に関す
る。この中で、トリクロロメチルアジンは、酸性触媒の
存在下、反応経過中に減圧下に蒸留され得る酸塩化物を
形成することが可能である酸で処理される。
【０００２】
【従来の技術】アジニル酸塩化物化合物は、農薬、医
薬、もしくは液晶として有用である幅広い多様性の化合
物の製造に適する中間体である。とりわけ、それらは、
例えば欧州特許出願第EP 0 447 004 A号に記述される除
草剤のピリジンカルボキサミドの製造で重要な中間体で
ある。
薬、もしくは液晶として有用である幅広い多様性の化合
物の製造に適する中間体である。とりわけ、それらは、
例えば欧州特許出願第EP 0 447 004 A号に記述される除
草剤のピリジンカルボキサミドの製造で重要な中間体で
ある。
【０００３】米国特許第3,875,226号は、トリクロロメ
チル化合物がルイス酸の存在下に二酸化イオウで処理さ
れて酸塩化物化合物および塩化スルフィニルを形成する
方法を開示する。
チル化合物がルイス酸の存在下に二酸化イオウで処理さ
れて酸塩化物化合物および塩化スルフィニルを形成する
方法を開示する。
【０００４】しかしながら、この方法は技術的スケール
でほとんど適用できない。なぜなら、二酸化イオウは通
常の条件下で気体であり、かつ、冷却下におよび／もし
くは高圧下に取り扱われなくてはならず、これらの条件
は大スケールの製造で適用できない。
でほとんど適用できない。なぜなら、二酸化イオウは通
常の条件下で気体であり、かつ、冷却下におよび／もし
くは高圧下に取り扱われなくてはならず、これらの条件
は大スケールの製造で適用できない。
【０００５】欧州特許出願第EP 0 646 666 A号は、トリ
クロロメチルアジンを、塩素化炭化水素およびルイス酸
の存在下に水で加水分解することを示唆する。
クロロメチルアジンを、塩素化炭化水素およびルイス酸
の存在下に水で加水分解することを示唆する。
【０００６】しかしながら、この方法は供給速度および
水の正確に等モルの供給に関して問題を引き起こす。水
のいかなる過剰も所望の酸塩化物化合物の加水分解を引
き起こすであろうし、従って収量を低下させるであろ
う。
水の正確に等モルの供給に関して問題を引き起こす。水
のいかなる過剰も所望の酸塩化物化合物の加水分解を引
き起こすであろうし、従って収量を低下させるであろ
う。
【０００７】さらに、最近では塩素化炭化水素を使用す
ることは環境的問題のため望まれず、また、従来技術の
処置で使用される溶媒の量は多い。さらに、水／１,２-
ジクロロエタンを使用する場合に必要とされる反応時間
は非常に長い（24時間）。
ることは環境的問題のため望まれず、また、従来技術の
処置で使用される溶媒の量は多い。さらに、水／１,２-
ジクロロエタンを使用する場合に必要とされる反応時間
は非常に長い（24時間）。
【０００８】欧州特許第EP 0 091 022号は、トリクロロ
酢酸およびルイス酸として五塩化アンチモンもしくは塩
化鉄(III)を使用する５-トリクロロメチルイソキサゾー
ルからのイソキサゾール-５-カルボン酸の製造を開示す
る。
酢酸およびルイス酸として五塩化アンチモンもしくは塩
化鉄(III)を使用する５-トリクロロメチルイソキサゾー
ルからのイソキサゾール-５-カルボン酸の製造を開示す
る。
【０００９】しかしながら、この方法が他のトリクロロ
メチラジンおよび他のカルボン酸に適用し得るであろう
というヒントは存在しない。五塩化アンチモンを使用す
る反応は２時間以内に完了した一方、塩化鉄(III)は８
時間かかった。この方法の欠点のひとつは、高価な五塩
化アンチモンが有毒であり、そして従ってこの方法が技
術的スケールで使用され得ないということである。さら
に、五塩化アンチモンが塩化アジノイルの製造に使用さ
れる場合は低い収量のみが達成される。
メチラジンおよび他のカルボン酸に適用し得るであろう
というヒントは存在しない。五塩化アンチモンを使用す
る反応は２時間以内に完了した一方、塩化鉄(III)は８
時間かかった。この方法の欠点のひとつは、高価な五塩
化アンチモンが有毒であり、そして従ってこの方法が技
術的スケールで使用され得ないということである。さら
に、五塩化アンチモンが塩化アジノイルの製造に使用さ
れる場合は低い収量のみが達成される。
【００１０】ドイツ特許出願第DE 30 04 693号は、芳香
族スルホン酸のトリクロロメチル芳香族炭化水素との反
応による芳香族のハロゲン化スルホニルおよびハロゲン
化ベンゾイルの同時製造方法を開示する。
族スルホン酸のトリクロロメチル芳香族炭化水素との反
応による芳香族のハロゲン化スルホニルおよびハロゲン
化ベンゾイルの同時製造方法を開示する。
【００１１】しかしながら、これらの生成物の分離は高
度に洗練された蒸留技術を必要とする。
度に洗練された蒸留技術を必要とする。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】解決されるべき問題
は、溶媒が引き起こす環境的問題および長い反応時間を
避ける、高収量でのアジニル酸塩化物の製造方法を提供
することにある。
は、溶媒が引き起こす環境的問題および長い反応時間を
避ける、高収量でのアジニル酸塩化物の製造方法を提供
することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、式Ｉ
【００１４】
【化３】
【００１５】式中Ａｚは場合によっては置換されるアジ
ニル基を表す、のアジニル酸塩化物化合物が、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) 式中Ａｚは与えられた意味を有する、のトリクロロメチ
ルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に反応の間に蒸
留され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱すること
を含む方法の助けを借りて、好ましくは、式IIの前述の
トリクロロメチルアジンを、減圧下に酸性触媒の存在
下、式III Ｒ1−Ｘ−ＯＨ (III) 式中Ｒ1はＣ1-6アルキル基もしくはＣ1-6ハロアルキル
基を表し、そしてＸはＣＯもしくはＳＯ2を表す、の酸
とともに加熱することにより、高収量で容易に製造され
得ることが見出された。
ニル基を表す、のアジニル酸塩化物化合物が、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) 式中Ａｚは与えられた意味を有する、のトリクロロメチ
ルアジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に反応の間に蒸
留され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱すること
を含む方法の助けを借りて、好ましくは、式IIの前述の
トリクロロメチルアジンを、減圧下に酸性触媒の存在
下、式III Ｒ1−Ｘ−ＯＨ (III) 式中Ｒ1はＣ1-6アルキル基もしくはＣ1-6ハロアルキル
基を表し、そしてＸはＣＯもしくはＳＯ2を表す、の酸
とともに加熱することにより、高収量で容易に製造され
得ることが見出された。
【００１６】従って、本発明の一目的は、塩化アジノイ
ル化合物の製造の効率的な新規の方法を提供することで
ある。
ル化合物の製造の効率的な新規の方法を提供することで
ある。
【００１７】本発明の別の態様は、（ヘテロ）アリール
オキシアジニルカルボキサミドの調製のための、本発明
の方法により得られる塩化アジノイルの使用である。
オキシアジニルカルボキサミドの調製のための、本発明
の方法により得られる塩化アジノイルの使用である。
【００１８】本発明の他の目的および利点は以下の記述
から当業者に明らかであろう。
から当業者に明らかであろう。
【００１９】一般的な状況では、本明細書に別に述べら
れない限り、本明細書でＡｚに関して使用されるよう
な、場合によっては置換されるアジニル基という用語
は、最低１個の窒素原子をもつ６員ヘテロ環基、とりわ
け、場合によっては１個もしくはそれ以上のハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基好ましくはＣ1-6
アルキル基、アルコキシ基好ましくはＣ1-6アルコキシ
基、４-アルキルシクロヘキシル基好ましくは４-Ｃ1-6
アルキルシクロヘキシル基、もしくはハロアルキル基好
ましくはＣ1-6ハロアルキル基により置換されるピリジ
ン基もしくはピリミジン基を指す。
れない限り、本明細書でＡｚに関して使用されるよう
な、場合によっては置換されるアジニル基という用語
は、最低１個の窒素原子をもつ６員ヘテロ環基、とりわ
け、場合によっては１個もしくはそれ以上のハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基好ましくはＣ1-6
アルキル基、アルコキシ基好ましくはＣ1-6アルコキシ
基、４-アルキルシクロヘキシル基好ましくは４-Ｃ1-6
アルキルシクロヘキシル基、もしくはハロアルキル基好
ましくはＣ1-6ハロアルキル基により置換されるピリジ
ン基もしくはピリミジン基を指す。
【００２０】概して、ヘテロ芳香族基が好まれ、これは
最低１個の電子吸引基により、とりわけ１個もしくはそ
れ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基もしくはハ
ロアルキル基により置換される。
最低１個の電子吸引基により、とりわけ１個もしくはそ
れ以上のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基もしくはハ
ロアルキル基により置換される。
【００２１】とりわけ好ましい態様において、Ａｚは、
式Ｖ
式Ｖ
【００２２】
【化４】
【００２３】式中Ｒ2は水素原子もしくはハロゲン原子
またはアルキル基もしくはハロアルキル基を表し、そし
てＺはハロゲン原子を表す、の、場合によっては置換さ
れるピリジル基を表す。
またはアルキル基もしくはハロアルキル基を表し、そし
てＺはハロゲン原子を表す、の、場合によっては置換さ
れるピリジル基を表す。
【００２４】一般的に、本明細書に別に述べられない限
り、基もしくは部分に関して本明細書で使用されるよう
な、アルキルもしくはハロアルキルという用語は、直線
のもしくは分枝の鎖状の基もしくは部分を指す。概し
て、そうした基は10個まで、とりわけ６個までの炭素原
子を有する。適当に、アルキルもしくはハロアルキル部
分は、１から６個までの炭素原子、好ましくは１から３
個までの炭素原子を有する。好ましいアルキル部分はエ
チル基もしくはとりわけメチル基である。
り、基もしくは部分に関して本明細書で使用されるよう
な、アルキルもしくはハロアルキルという用語は、直線
のもしくは分枝の鎖状の基もしくは部分を指す。概し
て、そうした基は10個まで、とりわけ６個までの炭素原
子を有する。適当に、アルキルもしくはハロアルキル部
分は、１から６個までの炭素原子、好ましくは１から３
個までの炭素原子を有する。好ましいアルキル部分はエ
チル基もしくはとりわけメチル基である。
【００２５】好ましいハロアルキル基は式-(ＣＸ2)n-Ｙ
のポリハロゲン化もしくはペルハロゲン化アルキル基で
ある。式中ｎは１ないし10、好ましくは１ないし６、と
りわけ１ないし３の整数であり、Ｘはフッ素もしくは塩
素を表し、そしてＹは水素もしくはＸである。好ましい
ポリハロゲン化アルキル部分はペンタフルオロエチル
基、ペンタクロロエチル基あるいはとりわけジフルオロ
-もしくはトリフルオロメチル基、またはジクロロ-もし
くはトリクロロメチル基である。
のポリハロゲン化もしくはペルハロゲン化アルキル基で
ある。式中ｎは１ないし10、好ましくは１ないし６、と
りわけ１ないし３の整数であり、Ｘはフッ素もしくは塩
素を表し、そしてＹは水素もしくはＸである。好ましい
ポリハロゲン化アルキル部分はペンタフルオロエチル
基、ペンタクロロエチル基あるいはとりわけジフルオロ
-もしくはトリフルオロメチル基、またはジクロロ-もし
くはトリクロロメチル基である。
【００２６】場合によっては置換される部分は、置換さ
れないこともあるか、もしくは１から最大限の可能な数
までの置換基を有する。典型的には、０ないし２個の置
換基が存在する。
れないこともあるか、もしくは１から最大限の可能な数
までの置換基を有する。典型的には、０ないし２個の置
換基が存在する。
【００２７】本発明の方法のさらに好ましい態様は、
（ａ）Ａｚが、１個のハロゲン原子により置換され、か
つ、場合によっては１個のアルキル基もしくはハロアル
キル基により置換されたアジニル基、好ましくは式Ｖ
（ａ）Ａｚが、１個のハロゲン原子により置換され、か
つ、場合によっては１個のアルキル基もしくはハロアル
キル基により置換されたアジニル基、好ましくは式Ｖ
【００２８】
【化５】
【００２９】式中Ｒ2は水素原子またはアルキル基もし
くはハロアルキル基を表し、また、Ｚはハロゲン原子を
表す、の置換されたピリジル基、とりわけ６-ハロピリ
ド-２-イル基を表す方法、（ｂ）Ｒ1が場合によっては
１個もしくはそれ以上の塩素原子により置換されるメチ
ル基を表す方法、（ｃ）酸性触媒が硫酸、塩化鉄(III)
および塩化亜鉛から選択される方法、（ｄ）本質的に、
式IIのトリクロロメチラジン、式IIIの酸および酸性触
媒から成る反応混合物が加熱され、かつ、反応経過中に
形成される式IV Ｒ1−Ｘ−Ｃｌ (IV) 式中Ｒ1およびＸは上に定義されるようである、の酸塩
化物が減圧下に蒸留される方法、（ｅ）式IIのトリクロ
ロメチラジン１モルが式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処
理される方法、（ｆ）ＸがＳＯ2を表し、かつ、酸性触
媒が水の５重量％より小さな含量をもつ硫酸である方
法、（ｇ）式IIのトリクロロメチル芳香族炭化水素１モ
ルが酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式IIIの酸
で処理される方法、の方法である。
くはハロアルキル基を表し、また、Ｚはハロゲン原子を
表す、の置換されたピリジル基、とりわけ６-ハロピリ
ド-２-イル基を表す方法、（ｂ）Ｒ1が場合によっては
１個もしくはそれ以上の塩素原子により置換されるメチ
ル基を表す方法、（ｃ）酸性触媒が硫酸、塩化鉄(III)
および塩化亜鉛から選択される方法、（ｄ）本質的に、
式IIのトリクロロメチラジン、式IIIの酸および酸性触
媒から成る反応混合物が加熱され、かつ、反応経過中に
形成される式IV Ｒ1−Ｘ−Ｃｌ (IV) 式中Ｒ1およびＸは上に定義されるようである、の酸塩
化物が減圧下に蒸留される方法、（ｅ）式IIのトリクロ
ロメチラジン１モルが式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処
理される方法、（ｆ）ＸがＳＯ2を表し、かつ、酸性触
媒が水の５重量％より小さな含量をもつ硫酸である方
法、（ｇ）式IIのトリクロロメチル芳香族炭化水素１モ
ルが酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式IIIの酸
で処理される方法、の方法である。
【００３０】当該反応は周囲温度と反応混合物の還流温
度との間の温度で、好ましくは上昇された温度で、とり
わけ還流温度で、好ましくは75と160℃との間、とりわ
け85と130℃との間で実施される。
度との間の温度で、好ましくは上昇された温度で、とり
わけ還流温度で、好ましくは75と160℃との間、とりわ
け85と130℃との間で実施される。
【００３１】本発明の別の態様は、式VI
【００３２】
【化６】
【００３３】式中Ａｚは場合よっては１個のアルキル基
もしくはハロアルキル基により置換されるアジニル基、
好ましくは場合によっては置換されるピリジル基を表
し、Ａｒは場合によっては置換されるアリール基もしく
はヘテロアリール基、好ましくは最低１個のハロゲン原
子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基によ
り置換されるフェニル基、とりわけピリジン-２,６-ジ
イル基、とりわけ３-トリフルオロメチルフェニル基を
表し、Ｒ3は水素原子もしくはアルキル基、好ましくは
水素原子を表し、そしてＲ4は場合によっては置換され
るアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくは
シクロアルキル基、好ましくは最低１個のハロゲン原子
またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基により
置換されるフェニル基、とりわけ４-フルオロフェニル
基を表す、の（ヘテロ）アリールオキシヘテロアリール
カルボキサミドの製造のための式Ｉの化合物の使用であ
って、その中で （ａ）上記のいずれかに従う式IIのモノハロゲン化アジ
ニルトリクロロメタンから製造される式Ｉのモノハロゲ
ン化塩化アジノイルが、（ｂ）場合によっては不活性溶
媒および／もしくは塩基の存在下に、式VII ＨＮＲ3Ｒ4 (VII) 式中Ｒ3およびＲ4は上に定義されるようである、のアミ
ンと反応され、（ｃ）得られるモノハロゲン化アジニル
カルボキサミドが、塩基の存在下に、式VIII Ａｒ−ＯＨ (VIII) 式中Ａｒは上記の意味を有する、の芳香族もしくはヘテ
ロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応され、とりわけ、
後述する特徴もしくは態様の１ないし１０のいずれかに
より得られる式Ｉのハロゲン化アジニル酸塩化物がさら
なる精製なしに式VIIのアミンと反応される。
もしくはハロアルキル基により置換されるアジニル基、
好ましくは場合によっては置換されるピリジル基を表
し、Ａｒは場合によっては置換されるアリール基もしく
はヘテロアリール基、好ましくは最低１個のハロゲン原
子またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基によ
り置換されるフェニル基、とりわけピリジン-２,６-ジ
イル基、とりわけ３-トリフルオロメチルフェニル基を
表し、Ｒ3は水素原子もしくはアルキル基、好ましくは
水素原子を表し、そしてＲ4は場合によっては置換され
るアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくは
シクロアルキル基、好ましくは最低１個のハロゲン原子
またはハロアルキル基もしくはハロアルコキシ基により
置換されるフェニル基、とりわけ４-フルオロフェニル
基を表す、の（ヘテロ）アリールオキシヘテロアリール
カルボキサミドの製造のための式Ｉの化合物の使用であ
って、その中で （ａ）上記のいずれかに従う式IIのモノハロゲン化アジ
ニルトリクロロメタンから製造される式Ｉのモノハロゲ
ン化塩化アジノイルが、（ｂ）場合によっては不活性溶
媒および／もしくは塩基の存在下に、式VII ＨＮＲ3Ｒ4 (VII) 式中Ｒ3およびＲ4は上に定義されるようである、のアミ
ンと反応され、（ｃ）得られるモノハロゲン化アジニル
カルボキサミドが、塩基の存在下に、式VIII Ａｒ−ＯＨ (VIII) 式中Ａｒは上記の意味を有する、の芳香族もしくはヘテ
ロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応され、とりわけ、
後述する特徴もしくは態様の１ないし１０のいずれかに
より得られる式Ｉのハロゲン化アジニル酸塩化物がさら
なる精製なしに式VIIのアミンと反応される。
【００３４】概して、当該反応は、反応の間に形成され
る式IVの化合物の蒸留を容易するため減圧下に実施され
る。最も好ましくは、反応は20と400mbarのと間、とり
わけ25と250mbarとの間の圧で実施される。
る式IVの化合物の蒸留を容易するため減圧下に実施され
る。最も好ましくは、反応は20と400mbarのと間、とり
わけ25と250mbarとの間の圧で実施される。
【００３５】本発明の方法のとりわけ好ましい態様にお
いては、好ましくは式中Ａｚが置換されたピリジン基と
りわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチルアジ
ン１当量が、0.05ないし0.15当量の触媒、とりわけ塩化
鉄(III)と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ11
0ないし130℃に加熱される。その後、式中ＸがＣＯを表
す式IIIの酸、とりわけクロロ酢酸、ジクロロ酢酸もし
くはトリクロロ酢酸0.8ないし1.2当量がこの反応混合物
に供給され、これが減圧に保たれる。式IVの対応する酸
塩化物は反応が完了するまで蒸留される。
いては、好ましくは式中Ａｚが置換されたピリジン基と
りわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチルアジ
ン１当量が、0.05ないし0.15当量の触媒、とりわけ塩化
鉄(III)と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ11
0ないし130℃に加熱される。その後、式中ＸがＣＯを表
す式IIIの酸、とりわけクロロ酢酸、ジクロロ酢酸もし
くはトリクロロ酢酸0.8ないし1.2当量がこの反応混合物
に供給され、これが減圧に保たれる。式IVの対応する酸
塩化物は反応が完了するまで蒸留される。
【００３６】この好ましい反応条件下で、当該反応は概
して１ないし５、とりわけ1.5ないし４時間以内に完了
する。
して１ないし５、とりわけ1.5ないし４時間以内に完了
する。
【００３７】本発明の方法の別のとりわけ好ましい態様
においては、好ましくは式中Ａｚが置換されたピリジン
基とりわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチル
アジン１当量が、0.01ないし0.05当量の触媒、とりわけ
硫酸と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ110な
いし130℃に加熱される。その後、式中ＸがＳＯ2である
式IIIの酸、とりわけメタンスルホン酸0.2ないし0.8等
量がこの反応混合物に供給され、これが減圧に保たれ
る。対応するアルカン塩化スルホニルは反応が完了する
まで蒸留される。
においては、好ましくは式中Ａｚが置換されたピリジン
基とりわけニトラピリンである式IIのトリクロロメチル
アジン１当量が、0.01ないし0.05当量の触媒、とりわけ
硫酸と混合され、そして80ないし150℃、とりわけ110な
いし130℃に加熱される。その後、式中ＸがＳＯ2である
式IIIの酸、とりわけメタンスルホン酸0.2ないし0.8等
量がこの反応混合物に供給され、これが減圧に保たれ
る。対応するアルカン塩化スルホニルは反応が完了する
まで蒸留される。
【００３８】当該反応が式IIのヘテロ環トリクロロメチ
ルアジンおよび式IIIのアルカンスルホン酸の等モル量
で実施される場合、達成可能な収量を低下させかつ精製
処置の間に困難を引き起こすタール様の副生成物が得ら
れうる。従って、トリクロロメチルアジンの過剰量を使
用することが有利であり得る。なぜなら、これはこれら
の副生成物の形成を避けるからである。
ルアジンおよび式IIIのアルカンスルホン酸の等モル量
で実施される場合、達成可能な収量を低下させかつ精製
処置の間に困難を引き起こすタール様の副生成物が得ら
れうる。従って、トリクロロメチルアジンの過剰量を使
用することが有利であり得る。なぜなら、これはこれら
の副生成物の形成を避けるからである。
【００３９】この発明のとりわけ好ましい態様において
は、ニトラピリン１ないし４等量の過剰量が硫酸（96な
いし99重量％）0.01ないし0.05モルの存在下にメタンス
ルホン酸１モルと反応される。
は、ニトラピリン１ないし４等量の過剰量が硫酸（96な
いし99重量％）0.01ないし0.05モルの存在下にメタンス
ルホン酸１モルと反応される。
【００４０】この好ましい反応条件下では、当該反応は
概して0.25ないし５、とりわけ0.3ないし３時間以内に
完了する。
概して0.25ないし５、とりわけ0.3ないし３時間以内に
完了する。
【００４１】残存する塩化アジノイルはさらなる精製な
しに所望の最終生成物の製造の中間体として使用され得
る。例えば結晶化もしくは蒸留のような標準的処置を使
用して、とりわけ減圧下、とりわけ１と100mbarとの間
の圧での蒸留により、それらを精製することもまた可能
である。
しに所望の最終生成物の製造の中間体として使用され得
る。例えば結晶化もしくは蒸留のような標準的処置を使
用して、とりわけ減圧下、とりわけ１と100mbarとの間
の圧での蒸留により、それらを精製することもまた可能
である。
【００４２】この新規の方法は、安価な、容易に入手可
能な抽出物を使用して、技術的スケールおよび高収量で
アジニル酸塩化物の産生を実施することを可能にする。
さらに、この新規の処置で試薬として使用される式III
の酸は、反応の間に形成される対応する酸塩化物への水
の添加により再生利用され得る。かように、少量の試薬
のみが新規の処置に必要とされる。
能な抽出物を使用して、技術的スケールおよび高収量で
アジニル酸塩化物の産生を実施することを可能にする。
さらに、この新規の処置で試薬として使用される式III
の酸は、反応の間に形成される対応する酸塩化物への水
の添加により再生利用され得る。かように、少量の試薬
のみが新規の処置に必要とされる。
【００４３】
【実施例】本発明のさらなる理解を容易にするために、
以下の例証的実施例が呈示される。本発明は記述された
もしくは例証された特定の態様に制限されない。
以下の例証的実施例が呈示される。本発明は記述された
もしくは例証された特定の態様に制限されない。
【００４４】実施例１ ２-クロロ-６-ピリジン塩化カルボニルの製造 ［式Ｉの化合物においてＡｚ＝２-クロロ-６-ピリジニ
ル］200mmolのニトラピリン（２-クロロ-６-トリクロロ
メチルピリジン）と与えられた量の触媒との混合物を90
と130℃との間の温度に加熱する。有機酸200mmolを減圧
下に混合物に供給した。当該反応により形成される有機
酸塩化物を反応時間の間蒸留した。反応はＧＣ分析によ
りモニターした。生成物は、慣習的な操作(work up)お
よび減圧下の蒸留により無色結晶として得られ、かつ、
以下の物理的特性を示す： 融点 74〜75℃、沸点 80℃／2.6Pa1 Ｈ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，300ＭＨｚ）：δ（ppm）＝8.11
（ｍ、２Ｈ、３-、５-ＣＨ）、7.80（ｍ、１Ｈ、４-Ｃ
Ｈ）13 Ｃ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ppm）＝164.7（ｑ、Ｃ
ＯＣｌ）、150.2（ｑ、６-Ｃ）、148.8（ｑ、２-Ｃ）、
141.0（ｔ、４-Ｃ）、127.9（ｔ、３-Ｃ）、124.0
（ｔ、５-Ｃ） 実験の結果は以下の表に与えられ、表中、以下の略語が
使用されている： ＣＰＡ ６-クロロピリジル-２-カルボン酸 ＡＡ 酢酸 ＤＣＡＡ ジクロロ酢酸 ＣＡＡ クロロ酢酸 ＴＣＡＡ トリクロロ酢酸 ＰＡ プロピオン酸
ル］200mmolのニトラピリン（２-クロロ-６-トリクロロ
メチルピリジン）と与えられた量の触媒との混合物を90
と130℃との間の温度に加熱する。有機酸200mmolを減圧
下に混合物に供給した。当該反応により形成される有機
酸塩化物を反応時間の間蒸留した。反応はＧＣ分析によ
りモニターした。生成物は、慣習的な操作(work up)お
よび減圧下の蒸留により無色結晶として得られ、かつ、
以下の物理的特性を示す： 融点 74〜75℃、沸点 80℃／2.6Pa1 Ｈ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，300ＭＨｚ）：δ（ppm）＝8.11
（ｍ、２Ｈ、３-、５-ＣＨ）、7.80（ｍ、１Ｈ、４-Ｃ
Ｈ）13 Ｃ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ppm）＝164.7（ｑ、Ｃ
ＯＣｌ）、150.2（ｑ、６-Ｃ）、148.8（ｑ、２-Ｃ）、
141.0（ｔ、４-Ｃ）、127.9（ｔ、３-Ｃ）、124.0
（ｔ、５-Ｃ） 実験の結果は以下の表に与えられ、表中、以下の略語が
使用されている： ＣＰＡ ６-クロロピリジル-２-カルボン酸 ＡＡ 酢酸 ＤＣＡＡ ジクロロ酢酸 ＣＡＡ クロロ酢酸 ＴＣＡＡ トリクロロ酢酸 ＰＡ プロピオン酸
【００４５】
【表１】
【００４６】実施例２ ２-クロロ-６-ピリジン塩化カルボニルの製造 ［式Ｉの化合物においてＡｚ＝２-クロロ-６-ピリジニ
ル］与えられた量のニトラピリン（ＮＰ、２-クロロ-６
-トリクロロメチルピリジン）と0.005モルの触媒との混
合物を125と140℃との間の温度に加熱する。メタンスル
ホン酸0.1モルを減圧下に混合物に供給した。当該反応
により形成されるメタン塩化スルホニルを0.5ないし２
時間の間蒸留した。反応はＧＣ分析によりモニターし
た。生成物は過剰に使用されている反応されないＮＰと
所望の生成物との混合物として得られる。この混合物は
さらなる精製なしに除草剤のピリジンカルボキサミドの
製造に使用され得る。生成物は蒸留により無色結晶とし
て得られ、また、以下の物理的特性を示す： 融点 74〜75℃、沸点 80℃／2.6Pa1 Ｈ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，300ＭＨｚ）：δ（ppm）＝8.11
（ｍ、２Ｈ、３-、５-ＣＨ）、7.80（ｍ、１Ｈ、４-Ｃ
Ｈ）13 Ｃ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ppm）＝164.7（ｑ、Ｃ
ＯＣｌ）、150.2（ｑ、６-Ｃ）、148.8（ｑ、２-Ｃ）、
141.0（ｔ、４-Ｃ）、127.9（ｔ、３-Ｃ）、124.0
（ｔ、５-Ｃ） 実験の結果は以下の表に与えられ、表中、収量はＮＰお
よび生成物から成る得られた混合物から決定されてい
る：
ル］与えられた量のニトラピリン（ＮＰ、２-クロロ-６
-トリクロロメチルピリジン）と0.005モルの触媒との混
合物を125と140℃との間の温度に加熱する。メタンスル
ホン酸0.1モルを減圧下に混合物に供給した。当該反応
により形成されるメタン塩化スルホニルを0.5ないし２
時間の間蒸留した。反応はＧＣ分析によりモニターし
た。生成物は過剰に使用されている反応されないＮＰと
所望の生成物との混合物として得られる。この混合物は
さらなる精製なしに除草剤のピリジンカルボキサミドの
製造に使用され得る。生成物は蒸留により無色結晶とし
て得られ、また、以下の物理的特性を示す： 融点 74〜75℃、沸点 80℃／2.6Pa1 Ｈ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，300ＭＨｚ）：δ（ppm）＝8.11
（ｍ、２Ｈ、３-、５-ＣＨ）、7.80（ｍ、１Ｈ、４-Ｃ
Ｈ）13 Ｃ-ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ppm）＝164.7（ｑ、Ｃ
ＯＣｌ）、150.2（ｑ、６-Ｃ）、148.8（ｑ、２-Ｃ）、
141.0（ｔ、４-Ｃ）、127.9（ｔ、３-Ｃ）、124.0
（ｔ、５-Ｃ） 実験の結果は以下の表に与えられ、表中、収量はＮＰお
よび生成物から成る得られた混合物から決定されてい
る：
【００４７】
【表２】
【００４８】比較実施例 ２-クロロ-６-ピリジン塩化カルボニルの製造 200mmolのニトラピリンと10mmolの五塩化アンチモンの
混合物を120℃に加熱する。トリクロロ酢酸200mmolを周
囲圧下に混合物に供給した。当該反応により形成された
塩化トリクロロアセチルを15時間の間蒸留した。反応は
ＧＣ分析によりモニターした。ＧＣは９％の生成物およ
び４％の６-クロロピリド-２-イルカルボン酸を示し
た。
混合物を120℃に加熱する。トリクロロ酢酸200mmolを周
囲圧下に混合物に供給した。当該反応により形成された
塩化トリクロロアセチルを15時間の間蒸留した。反応は
ＧＣ分析によりモニターした。ＧＣは９％の生成物およ
び４％の６-クロロピリド-２-イルカルボン酸を示し
た。
【００４９】使用実施例 ６-(３-トリフルオロメチルフェノキシ)-ピリド-２-イ
ルカルボキサミドＮ-(４-フルオロフェニル)の製造 実施例２ｅ）により得られた粗生成物をトルエン（200m
l）で希釈し、そして65℃で４-フルオロアニリン（250m
mol）に添加する。その後、混合物を１時間100℃に加熱
する。混合物をその後20℃に冷却し、希塩酸で洗浄しそ
してストリッピングして、本質的に６-クロロピリド-２
-イルカルボキサミドＮ-(４-フルオロフェニル)および
反応されないニトラピリンから成る油を与える。反応さ
れないニトラピリンを減圧下に蒸留する。得られた粗生
成物（49.5g、87％）をトルエン（200ml）で希釈し、そ
してさらなる精製なしに炭酸カリウム（210mmol）、３-
トリフルオロメチルフェノール（200mmol）およびジメ
チルアセタミド（120ml）の混合物に添加する。トルエ
ンを蒸留し、そして反応混合物を160℃に４時間加熱す
る。溶媒を蒸留し、そして残渣をトルエンで希釈する。
混合物を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、乾燥しそして濃
縮する。残渣をメタノールから再結晶して、表題の化合
物（58.2g、85％）、融点105〜107℃、を与える。
ルカルボキサミドＮ-(４-フルオロフェニル)の製造 実施例２ｅ）により得られた粗生成物をトルエン（200m
l）で希釈し、そして65℃で４-フルオロアニリン（250m
mol）に添加する。その後、混合物を１時間100℃に加熱
する。混合物をその後20℃に冷却し、希塩酸で洗浄しそ
してストリッピングして、本質的に６-クロロピリド-２
-イルカルボキサミドＮ-(４-フルオロフェニル)および
反応されないニトラピリンから成る油を与える。反応さ
れないニトラピリンを減圧下に蒸留する。得られた粗生
成物（49.5g、87％）をトルエン（200ml）で希釈し、そ
してさらなる精製なしに炭酸カリウム（210mmol）、３-
トリフルオロメチルフェノール（200mmol）およびジメ
チルアセタミド（120ml）の混合物に添加する。トルエ
ンを蒸留し、そして反応混合物を160℃に４時間加熱す
る。溶媒を蒸留し、そして残渣をトルエンで希釈する。
混合物を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、乾燥しそして濃
縮する。残渣をメタノールから再結晶して、表題の化合
物（58.2g、85％）、融点105〜107℃、を与える。
【００５０】なお、本発明の主要な特徴もしくは態様を
以下に挙げる。
以下に挙げる。
【００５１】１．式Ｉ
【００５２】
【化７】
【００５３】式中、Ａｚは場合によっては置換されるア
ジニル基を表す、のアジニル酸塩化物化合物の製造方法
であって、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) 式中Ａｚは上記の意味を有する、のトリクロロメチルア
ジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に、反応の間に留去
され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱することを
含む方法。
ジニル基を表す、のアジニル酸塩化物化合物の製造方法
であって、式II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) 式中Ａｚは上記の意味を有する、のトリクロロメチルア
ジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に、反応の間に留去
され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱することを
含む方法。
【００５４】２．前述の酸が、式III Ｒ1−Ｘ−ＯＨ (III) 式中Ｒ'はＣ1-6アルキル基もしくはＣ1-6ハロアルキル
基を表し、また、ＸはＣＯもしくはＳＯ2を表す、の化
合物である、前記１の方法。
基を表し、また、ＸはＣＯもしくはＳＯ2を表す、の化
合物である、前記１の方法。
【００５５】３．Ａｚが１個のハロゲン原子により置換
され、および場合によっては１個のアルキル基もしくは
ハロアルキル基により置換されたアジニル基を表す、前
記１の方法。
され、および場合によっては１個のアルキル基もしくは
ハロアルキル基により置換されたアジニル基を表す、前
記１の方法。
【００５６】４．酸性触媒が硫酸、塩化鉄(III)および
塩化亜鉛から選択される、前記１の方法。
塩化亜鉛から選択される、前記１の方法。
【００５７】５．Ａｚが式Ｖ
【００５８】
【化８】
【００５９】式中Ｒ2は水素原子またはアルキル基もし
くはハロアルキル基を表し、また、Ｚはハロゲン原子を
表す、の置換されたピリジル基を表す、前記１の方法。
くはハロアルキル基を表し、また、Ｚはハロゲン原子を
表す、の置換されたピリジル基を表す、前記１の方法。
【００６０】６．Ａｚが６-ハロピリド-２-イル基であ
る、前記５の方法。
る、前記５の方法。
【００６１】７．式IIのトリクロロメチルアジン１モル
が式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処理される、前記５の
方法。
が式IIIの酸0.4ないし1.2モルで処理される、前記５の
方法。
【００６２】８．式IIのトリクロロメチル芳香族炭化水
素１モルが、酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式
IIIの酸で処理される、前記５の方法。
素１モルが、酸性触媒0.01ないし0.10モルの存在下に式
IIIの酸で処理される、前記５の方法。
【００６３】９．（ａ）前記１ないし８のいずれかによ
り式IIのモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから
製造される式Ｉのモノハロゲン化アジニル酸塩化物が、
（ｂ）式VII ＨＮＲ3Ｒ4 (VII) のアミンと、場合によっては不活性溶媒および／もしく
は塩基の存在下に反応され、そして（ｃ）得られるモノ
ハロゲン化アジニルカルボキサミドが、塩基の存在下
で、式VIII Ａｒ−ＯＨ (VIII) 式中Ａｒは下記の意味を有する、の芳香族もしくはヘテ
ロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応される、ことを特
徴とする、式VI
り式IIのモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから
製造される式Ｉのモノハロゲン化アジニル酸塩化物が、
（ｂ）式VII ＨＮＲ3Ｒ4 (VII) のアミンと、場合によっては不活性溶媒および／もしく
は塩基の存在下に反応され、そして（ｃ）得られるモノ
ハロゲン化アジニルカルボキサミドが、塩基の存在下
で、式VIII Ａｒ−ＯＨ (VIII) 式中Ａｒは下記の意味を有する、の芳香族もしくはヘテ
ロ芳香族のヒドロキシル化合物と反応される、ことを特
徴とする、式VI
【００６４】
【化９】
【００６５】式中、Ａｚは上記の意味を有し、また、Ａ
ｒは場合によっては置換されるアリール基もしくはヘテ
ロアリール基を表し、Ｒ3は水素原子もしくはアルキル
基を表し、そしてＲ4は場合によっては置換されるアル
キル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくはシクロ
アルキル基を表す、の（ヘテロ）アリールオキシヘテロ
アリールカルボキサミドの製造のための式Ｉの化合物の
使用。
ｒは場合によっては置換されるアリール基もしくはヘテ
ロアリール基を表し、Ｒ3は水素原子もしくはアルキル
基を表し、そしてＲ4は場合によっては置換されるアル
キル基、アリール基、ヘテロアリール基もしくはシクロ
アルキル基を表す、の（ヘテロ）アリールオキシヘテロ
アリールカルボキサミドの製造のための式Ｉの化合物の
使用。
【００６６】１０．式Ｉのハロゲン化アジニル酸塩化物
がさらなる精製なしに式VIIのアミンと反応される、前
記３の使用。
がさらなる精製なしに式VIIのアミンと反応される、前
記３の使用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 モニカ・ブリンク ドイツ・デー−55218インゲルハイム・ア ルベルト−シユバイツアー−シユトラーセ ３
Claims (3)
- 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 式中、Ａｚは場合によっては置換されるアジニル基を表
す、のアジニル酸塩化物化合物の製造方法であって、式
II Ａｚ−ＣＣｌ3 (II) 式中Ａｚは上記の意味を有する、のトリクロロメチルア
ジンを、酸性触媒の存在下、減圧下に、反応の間に留去
され得る酸塩化物を形成する酸とともに加熱することを
含む方法。 - 【請求項２】 前述の酸が、式III Ｒ1−Ｘ−ＯＨ (III) 式中Ｒ'はＣ1-6アルキル基もしくはＣ1-6ハロアルキル
基を表し、また、ＸはＣＯもしくはＳＯ2を表す、の化
合物である、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 （ａ）請求項１もしくは２に記載の式II
のモノハロゲン化アジニルトリクロロメタンから製造さ
れる式Ｉのモノハロゲン化アジニル酸塩化物を、（ｂ）
式VII ＨＮＲ3Ｒ4 (VII) のアミンと、場合によっては不活性溶媒および／もしく
は塩基の存在下に反応させ、そして（ｃ）得られるモノ
ハロゲン化アジニルカルボキサミドを、塩基の存在下、
式VIII Ａｒ−ＯＨ (VIII) 式中Ａｒは場合によっては置換されるアリール基もしく
はヘテロアリール基を表す、の芳香族もしくはヘテロ芳
香族ヒドロキシル化合物と反応される、ことを特徴とす
る、式VI 【化２】 式中、Ａｚは上記の意味を有し、Ａｒは上記の意味を有
し、Ｒ3は水素原子もしくはアルキル基を表し、そして
Ｒ4は場合によっては置換されるアルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基もしくはシクロアルキル基を表
す、の（ヘテロ）アリールオキシヘテロアリールカルボ
キサミドの製造に使用するための式Ｉの化合物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP96113531 | 1996-08-23 | ||
| DE96117863.9 | 1996-11-07 | ||
| EP96117863 | 1996-11-07 | ||
| DE96113531.6 | 1996-11-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10212276A true JPH10212276A (ja) | 1998-08-11 |
| JP4251508B2 JP4251508B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=26142143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23644297A Expired - Fee Related JP4251508B2 (ja) | 1996-08-23 | 1997-08-19 | 酸塩化物化合物の製造方法 |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0826672B1 (ja) |
| JP (1) | JP4251508B2 (ja) |
| KR (1) | KR100495349B1 (ja) |
| CN (1) | CN1188397C (ja) |
| AR (1) | AR008308A1 (ja) |
| AT (1) | ATE297896T1 (ja) |
| AU (2) | AU3524897A (ja) |
| BR (1) | BR9704485A (ja) |
| CA (1) | CA2213584A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ294098B6 (ja) |
| DE (1) | DE69733521T2 (ja) |
| DK (1) | DK0826672T3 (ja) |
| EE (1) | EE04549B1 (ja) |
| ES (1) | ES2243970T3 (ja) |
| GE (1) | GEP20001914B (ja) |
| HU (1) | HUP9701426A1 (ja) |
| IL (1) | IL121588A (ja) |
| MD (1) | MD1811C2 (ja) |
| NZ (1) | NZ328593A (ja) |
| RU (1) | RU2207336C2 (ja) |
| SK (1) | SK283406B6 (ja) |
| TR (1) | TR199700846A2 (ja) |
| TW (1) | TW430655B (ja) |
| UA (1) | UA51641C2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5312031B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2013-10-09 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | ピリジルカルボン酸アミドおよびエステルを製造する方法 |
| JP5574509B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2014-08-20 | テイジン・アラミド・ビー．ブイ． | 芳香族アルデヒドの芳香族アシルハライドへの変換方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1921767A (en) * | 1929-05-20 | 1933-08-08 | Dow Chemical Co | Method of making acid halides |
| US1965556A (en) * | 1930-03-06 | 1934-07-03 | Dow Chemical Co | Method for the preparation of acid halides |
| US2856425A (en) * | 1956-04-06 | 1958-10-14 | Du Pont | Production of aromatic acid halides |
| US3875226A (en) * | 1969-10-17 | 1975-04-01 | Dow Chemical Co | Preparation of acid halides |
| DE3004693A1 (de) * | 1980-02-08 | 1981-08-13 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von aromatischen sulfonsaeurehalogeniden |
| IL68187A0 (en) * | 1982-04-01 | 1983-06-15 | Basf Ag | 5-trichloromethylisoxazole,its preparation and its use for the preparation of 5-isoxazolecarboxylic acid |
| GB9005965D0 (en) * | 1990-03-16 | 1990-05-09 | Shell Int Research | Herbicidal carboxamide derivatives |
| US5166352A (en) * | 1991-09-12 | 1992-11-24 | Dowelanco | Pyridinecarboxylic acid chlorides from (trichloromethyl)pyridines |
| ATE160337T1 (de) * | 1993-10-05 | 1997-12-15 | Shell Int Research | Verfahren zur herstellung von säurechloriden |
| JPH07291891A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-07 | Tokuyama Corp | カルボン酸クロライドの製造方法 |
-
1997
- 1997-08-15 CZ CZ19972609A patent/CZ294098B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-08-19 JP JP23644297A patent/JP4251508B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-20 SK SK1127-97A patent/SK283406B6/sk unknown
- 1997-08-20 IL IL12158897A patent/IL121588A/en not_active IP Right Cessation
- 1997-08-21 ES ES97306380T patent/ES2243970T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-21 DE DE69733521T patent/DE69733521T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-21 CA CA002213584A patent/CA2213584A1/en not_active Abandoned
- 1997-08-21 EP EP97306380A patent/EP0826672B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-21 DK DK97306380T patent/DK0826672T3/da active
- 1997-08-21 AT AT97306380T patent/ATE297896T1/de active
- 1997-08-22 BR BR9704485A patent/BR9704485A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-08-22 UA UA97084347A patent/UA51641C2/uk unknown
- 1997-08-22 TR TR97/00846A patent/TR199700846A2/xx unknown
- 1997-08-22 EE EE9700203A patent/EE04549B1/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 RU RU97114455/04A patent/RU2207336C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 MD MD97-0270A patent/MD1811C2/ro not_active IP Right Cessation
- 1997-08-22 NZ NZ328593A patent/NZ328593A/xx unknown
- 1997-08-22 CN CNB971178356A patent/CN1188397C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-22 HU HU9701426A patent/HUP9701426A1/hu unknown
- 1997-08-22 AR ARP970103834A patent/AR008308A1/es unknown
- 1997-08-22 AU AU35248/97A patent/AU3524897A/en not_active Abandoned
- 1997-08-22 KR KR1019970040082A patent/KR100495349B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-08-25 GE GEAP19973856A patent/GEP20001914B/en unknown
- 1997-11-11 TW TW086116823A patent/TW430655B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-08-16 AU AU59908/01A patent/AU765659B2/en not_active Ceased
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR940001774B1 (ko) | 치환 및 이치환 피리딘-2,3-디카르복실레이트의 제조방법과 치환된 니코티네이트의 제조방법 | |
| KR102595410B1 (ko) | 3-클로로-2-비닐페닐설포네이트의 제조 방법 | |
| KR100198041B1 (ko) | 치환된 2-클로로피리딘의 제조방법 | |
| US20240132459A1 (en) | Process and intermediates for the preparation of certain nematicidal sulfonamides | |
| KR100585407B1 (ko) | 피리딘-2,3-디카복실레이트 화합물의 제조를 위한 방법 및중간체 | |
| JP4251508B2 (ja) | 酸塩化物化合物の製造方法 | |
| EP2982673B1 (en) | Process for manufacturing 5-chloromethyl-2,3-dicarboxylic anhydride | |
| KR100519420B1 (ko) | 헤테로아릴카복실아미드및에스테르의제조방법 | |
| JP5619761B2 (ja) | ２−［（１−シアノプロピル）カルバモイル］−５−クロロメチルニコチン酸及びイミダゾリノン系除草剤の製造におけるその使用 | |
| JPH0770037A (ja) | シアノアシルシクロプロパン化合物の製造方法とそれに用いる２−シアノアシル−４−ブタノリド化合物 | |
| JPH08259539A (ja) | クロロメチルピリジン類の製造方法 | |
| WO2021193786A1 (ja) | ６－（フルオロアルキル）－３，４－ジヒドロ－２ｈ－ピラン－５－カルボン酸エステル誘導体、および当該誘導体の製造方法、並びに２－（フルオロアルキル）ニコチン酸エステル誘導体の製造方法、および２－（フルオロアルキル）ニコチン酸誘導体の製造方法 | |
| JPH0625169A (ja) | ２−アミノ−５−メチル−ピリジンの製造方法 | |
| JP2816855B2 (ja) | ピリジン―２，３―ジカルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JP3325139B2 (ja) | チエニルエーテル誘導体の製造方法 | |
| US6706917B1 (en) | Preparing method of 2-phenylalkanoic acid derivatives | |
| JP4425373B2 (ja) | ヒドロキシ−２−ハロゲノピリジン誘導体の製造方法 | |
| MXPA97006422A (en) | Process for preparation of acid chloride compounds | |
| JP4172931B2 (ja) | １−アルキル−５−ハイドロキシピラゾールの製造法 | |
| JPH1112253A (ja) | ４−アミノ−５−クロロ−６−（１−フルオロエチル）ピリミジン誘導体の製法 | |
| JPS62106082A (ja) | ２−ピリジンカルボン酸誘導体及び１−アミノ−１、４−ジヒドロピリジン−２−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| KR20000052892A (ko) | 나프티리딘 화합물의 제조 방법 및 신규 중간 생성물 | |
| JPH11140053A (ja) | ３−ジクロロメチルピリジンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040818 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080509 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080513 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080811 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080814 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081111 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090113 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090116 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |