JPH09302077A - ポリエステル重合体およびその成形体 - Google Patents
ポリエステル重合体およびその成形体Info
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Abstract
の溶解性が良好で有り、優れた機械特性及び成形性を有
する新規ポリエステル重合体及び該ポリエステル重合体
からなる光ディスク基盤、レンズ、有機色素等のバイン
ダー等の成形体を提供する。 【解決手段】ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘
導体とジヒドロキシ化合物からなるポリエステル重合体
であって、ジカルボン酸が脂環族ジカルボン酸を含み、
ジヒドロキシ化合物が一般式(1)で示される化合物を
含むことを特徴とするポリエステル重合体,及びそれか
らなるポリエステル成形体である。 【化1】 (R1 は炭素数2から4のアルキレン基、R2 、R3 、
R4 、及びR5 は水素または炭素数1から4のアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり同じであっても異
なっていてもよい)
Description
及びその成形体に係り、さらに詳細には、透明性、耐熱
性に優れ、光学的異方性が非常に小さく、成形性に優
れ、エンジニアリングプラスチックのみならず、特に光
学機器用の素材として好適な9,9−ビス[4−(2−
ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン類を含むポ
リエステル重合体及びその成形体に関する。
はエンジニアリングプラスチックとして光学材料として
多く用いられている。例えばポリメチルメタクリレート
(以下PMMAと略する)やポリカーボネート(以下P
Cと略する)などが、コンパクトディスク、レーザーデ
ィスク、レンズなどの光学材料として、また、自動車の
透明部品等に使用されている。PMMAは透明性に優
れ、光学的異方性も小さいのでよく使われるが、吸湿性
が高く、成形後、反り等の変形が起り易く形態安定性が
悪い。一方PCは耐熱性が高く、透明性にすぐれている
が、流動性が悪く成形品の複屈折が大きくなる等の問題
があり、光学材料として十分に満足されたものとはいえ
ない。さらに近年レーザー光を用いて音声、画像、文字
等の情報を記録、再生する光ディスクが急速に開発さ
れ、より高性能な光学特性を有する基板材料が要望され
ている。
案されている(特公昭57−20864号公報、特公平
2−98845号公報、特公平2−38428号公
報)。しかし、これらの樹脂は光学的特性が不十分であ
ったりして必ずしも満足できるものではない。
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンとテ
レフタル酸、イソフタル酸からなるポリエステルが種々
提案されている。これらの樹脂のガラス転移点は十分高
く、フィルムを延伸評価した際の光学的異方性も小さい
と報告されている。また9,9−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)フルオレンとテレフタル酸、イソフタル酸と
の重合体をその酸クロリド法から得ることが米国特許第
3、546、165号明細書に示されている。このもの
の成形性を改良するものとして、特公平4−22931
号公報には9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フ
ルオレンとテレフタル酸、イソフタル酸及び脂肪酸とを
特定の比率で混合したものを用いた耐熱性ポリエステル
が示されている。
ヒドロキシフェニル)フルオレンを用いるのであって、
その際の重合方法も特殊条件が必要である。即ち9,9
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの両端に
はフェノール性基があるために、脂肪族アルコールとは
異なり、非常に反応させにくく、その為溶融重合法では
より高温度での反応条件が必要で、得られるポリマーの
熱分解が生じやすくなり、着色し、品質低下となる。ま
た、ジカルボン酸の側の末端基を酸クロリドにした後
に、溶媒中にて脱塩酸の重合方法を用いる条件では、均
一な反応が困難で、その為分子量分布の大きいものが一
般的に得られると言われており、また大量に必要な触媒
化合物の後処理も必要となるなど、製造方法が複雑とな
り、コストアップとなる。また種々の改良にもかかわら
ず、得られる材料はガラス転移点が高すぎ、射出成形が
難しく成形性は未だ満足とは言えない。
来技術の諸欠点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、新規ポリ
エステル重合体を見いだし、本発明を完成したものであ
って、その目的とするところは、透明性、機械的、電気
的特性に優れ、さらに光学的異方性が非常に小さく、成
形性寸法安定性に優れた、エンジニアリングプラスチッ
ク、特に光学材料に適合するポリエステル共重合体を提
供するにある。さらに他の目的は、工業的生産が容易且
つ安価に製造し得るポリエステル重合体及びその成形体
を提供するにある。
ン酸またはそのエステル形成性誘導体とジヒドロキシ化
合物からなるポリエステル重合体であって、ジカルボン
酸が脂環族ジカルボン酸を含み、ジヒドロキシ化合物が
一般式(1)で示される化合物を含むことを特徴とする
ポリエステル重合体,及び該ポリエステル重合体を成形
してなるポリエステル成形体によって達成される。
R2 、R3 、R4 、及びR5 は水素または炭素数1から
4のアルキル基、アリール基、アラルキル基であり同じ
であっても異なっていてもよい)
本発明のポリエステル重合体は前述のように、ジカルボ
ン酸またはそのエステル形成性誘導体とジヒドロキシ化
合物からなるポリエステル重合体であって、ジカルボン
酸が脂環族ジカルボン酸を含み、ジヒドロキシ化合物が
一般式(1)で示される化合物を含むことを特徴とする
ポリエステル重合体である。
R2 、R3 、R4 、及びR5 は水素または炭素数1から
4のアルキル基、アリール基、アラルキル基であり、こ
れらは同じであっても異なっていてもよい)
流動性と成形体の耐熱性の点から、ガラス転移温度(T
g)が80℃〜150℃であることが好ましく、さらに
好ましくは100℃〜150℃である。
れるジヒドロキシ化合物と脂環族ジカルボン酸あるいは
芳香族ジカルボン酸とを共重合成分として使用すること
が本発明の鍵となる部分であり、この組み合わせでポリ
エチレンテレフタレ−ト樹脂の成形性を損なわずに光学
的異方性を低減させることを見いだした。
その特殊な分子構造、即ち2つのフェノール基のある主
鎖方向に対してフルオレン基が垂直面に配置された構造
と推定されており、これに起因すると考えられる。また
一般にテレフタル酸やイソフタル酸等の芳香族ジカルボ
ン酸が主鎖方向に入ると、耐熱性を向上させるが、光学
的異方性を大きくすることが知られている。そこで芳香
族ジカルボン酸成分を減らし、脂肪族ジカルボン酸ない
し脂環族ジカルボン酸に置き換えると光学的異方性を低
減させる事は可能となる。光学的異方性の大きさは、高
分子材料を用いて成形した成形体における複屈折を測定
することで知ることができる。本材料の成形品の複屈折
はほぼ零である。これは、高密度な記録媒体である光デ
ィスク基板、特に光磁気ディスクとする際に特に重要な
条件であり、記録媒体とした後のC/N比(Cはキャリ
アー:記録信号、Nはノイズ:雑音)を大きくできるこ
とになる。
転移温度が80℃〜150℃であり、好ましくは100
℃〜150℃である。ところが脂肪族部分が直鎖状の場
合は、その含有量が多くなるとガラス転移温度が低下し
て100℃以下となり、成形体が室温域でも熱変形し易
くなる。そこで構造の固い脂環族カルボン酸を少なくと
も用いる事で、ガラス転移温度を上昇させる事ができ
た。
族ジカルボン酸としては、下記一般式(2)で表される
シクロヘキサンジカルボン酸等の単環式脂環族ジカルボ
ン酸,または下記一般式(3),(4)で表されるデカ
リンジカルボン酸,下記一般式(5),(6)で表され
るノルボルナンジカルボン酸,下記一般式(7),
(8)で表されるアダマンタンジカルボン酸,下記一般
式(9),(10),(11)で表されるトリシクロデ
センジカルボン酸等の多環式脂環族ジカルボン酸等が挙
げられる。
ルキル基、アリール基、アラルキル基であり同じであっ
ても異なっていてもよい。aは1から3の自然数であ
る。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。b、cは1から7
の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。d、eは1から7
の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。f、gは1から7
の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。h、iは1から7
の自然数である。)
1から7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
であり同じであっても異なっていてもよい。j、kは1
から8の自然数で、lは1から9の自然数である。)
1から7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基
であり同じであっても異なっていてもよい。m、nは1
から8の自然数で、oは1から9の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。p、qは1から7
の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。r、sは1から7
の自然数である。)
7までのアルキル基、アリール基、アラルキル基であり
同じであっても異なっていてもよい。t、uは1から8
の自然数である。)
成性誘導体としては、通常ポリエステルに用いられるジ
カルボン酸エステル形成性誘導体が挙げられ、例えばジ
メチルエステル、ジエチルエステル等のアルキルエステ
ル等が挙げられる。
ステル形成性誘導体は、それぞれ単独で用いても良い
し、必要に応じて2種以上併用しても良い。
−デカリンジカルボン酸が、合成し易さ、成形性、光学
特性等の点で好ましいが、これに限定されるものではな
い。
ン酸またはそのエステル形成性誘導体は、ジカルボン酸
成分全体を100として1〜99モル%の間で任意に含
有させることができるが、他のジカルボン酸として脂肪
族ジカルボン酸とともに用いる場合には、耐熱性をより
高めるため、多環式芳香族ジカルボン酸やビフェニルジ
カルボン酸とともに用いる場合には、複屈折率を低下さ
せるため、各々50モル%以下が好ましい。
用いられるジカルボン酸としては、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等
の脂肪族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等
の単環式芳香族ジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカ
ルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸等のナフタ
レンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナ
ントレンジカルボン酸等の多環式芳香族ジカルボン酸、
2,2’−ビフェニルジカルボン酸等のビフェニルジカ
ルボン酸等が挙げられる。
ジヒドロキシ化合物としては、例えば、9,9−ビス
[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレ
ン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−
3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−
(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニ
ル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−3−エチルフェニル]フルオレン、9,9
−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジ
エチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2
−ヒドロキシエトキシ)−3−プロピルフェニル]フル
オレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)−3,5−ジプロピルフェニル]フルオレン、9,
9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−イソ
プロピルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−
(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジイソプロピル
フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒド
ロキシエトキシ)−3−n−ブチルフェニル]フルオレ
ン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−
3,5−ジ−n−ブチルフェニル]フルオレン、9,9
−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−イソブ
チルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−
ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジイソブチルフェニ
ル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−3−(1−メチルプロピル)フェニル]フ
ルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)−3,5−ビス(1−メチルプロピル)フェニル]
フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエト
キシ)−3−フェニルフェニル]フルオレン、9,9−
ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジフ
ェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2
−ヒドロキシエトキシ)−3−ベンジルフェニル]フル
オレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)−3,5−ジベンジルフェニル]フルオレン、9,
9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニ
ル]フルオレン 9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)フェニ
ル]フルオレン等が挙げられ、これらは単独でも2種類
以上を組み合わせて使用しても良い。これらの中でも
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル]フルオレンが光学特性、成形性の面から最も好まし
い。
キシ)フェニル]フルオレンは、例えば、9,9−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンにエチレンオキ
サイド(以下、EOと略する)を付加して得られる。こ
の際、フェノールの両水酸基にエチレンオキサイドが1
分子づつ付加した2EO付加体(9,9−ビス[4−
(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン)の
他に、さらに数分子過剰に付加した、3EO付加体、4
EO付加体等の不純物が含まれる事がある。ポリエステ
ル重合体の耐熱性を向上させるためには、2EO付加体
の純度が85%以上で有ることが好ましく、さらに好ま
しくは95%以上である。
のエステル交換法で製造するには、一般式(1)で表わ
されるジヒドロキシ化合物は、樹脂中のグリコール成分
の10から95モル%であることが好ましい。95モル
%以下の場合、溶融重合反応が進みやすく、重合時間が
短いという利点がある。尚、95モル%より多い場合
は、溶液重合法または界面重合法で製造することによっ
て短時間で重合することができる。また、10モル%以
上は、樹脂のガラス転移温度が高いという点で好まし
い。
外のジヒドロキシ化合物としては、通常プラスチックに
用いられるものが挙げられるが、例えばエチレングリコ
ール、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジ
オール、1,4−ブタンジオール、1,2−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,4−ペンタンジオール、1,3−ペンタンジ
オール等の脂肪族グリコール類、シクロヘキサンジメタ
ノール、シクロペンタンジメタノール等の脂環族グリコ
ール類、1,4−ベンゼンジメタノール、1,3−ベン
ゼンジメタノール等の芳香族ジオール等が挙げられる
が、中でもエチレングリコール、1,4−ブタンジオー
ルが好ましく、特にエチレングリコールが耐熱性の面か
ら好ましい。また、これらは単独でもよく、また2種以
上を組み合わせて用いても良い。
(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−1−フェニル
エタン等の主鎖及び側鎖に芳香環を有するジヒドロキシ
化合物、ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル]スルフォン等の主鎖に芳香環と硫黄を有する化合
物、あるいはその他のジヒドロキシ化合物を少なくとも
1種以上を全ジオール成分の10モル%を限度として併
用してもよい。
エステル交換法、直接重合法等の溶融重合法、溶液重合
法、界面重合法等の公知の方法から適宜の方法を選択し
て製造できる。またその際の重合触媒等の反応条件につ
いても従来通りで良く、公知の方法を用いる事ができ
る。
造する際に、溶液重合法、界面重合法等を採用する場合
には、一般に酸成分の活性種として酸クロライドを用い
たり、溶媒としてメチレンクロライド、クロロホルム等
を使用するが、ポリマ−中には副生成物である塩化物や
触媒化合物が残留し、このものは一般的に製品の品質上
良くないので、重合工程後に一般に残留異物を除去せね
ばならない。これらは、シート、フィルム、プレート、
繊維等の成形工程での操業性を低下させ、得られる成形
体の品質をも低下させる。例えば高温加熱時に熱分解が
多量に発生する。また光学材料等に使用する際は反射膜
や記録膜等の金属薄膜をプレートや基板に蒸着、スパッ
タリング等の方法で、固着するが、塩素分が大量にある
と、反射膜、記録膜を腐食し、製品の寿命や信頼性を低
下させるので、十分な、洗浄、ろ過等残留異物を除去す
る工程が必要である。
法を用いる場合に特に良好である。即ち、9,9−ビス
[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレ
ン類の化合物は、末端基が脂肪族グルコ−ルと良く似た
性質であり、反応性が高い。これは9,9−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)フルオレンと比べると著しく異な
るものである。この為に、酸クロリドという原料を用い
る必要もなく、従って本質的に塩素が混入しない製造方
法が可能であり、高温度での反応条件で触媒使用量を少
なくでき、残留異物が少ない方法が可能となった。
る目的により滑剤、耐熱剤、帯電防止剤、紫外線吸収
剤、顔料等を配合することができる。また、本発明のポ
リエステル重合体を光学材料に供する場合は、原料の投
入工程を初め、重合工程、重合体をペレット状にする工
程、射出成形やシート状あるいはフィルム状に成形する
工程等、塵埃が混入しないように留意する。このような
場合は、通常コンパクトディスク(以下CDと呼ぶ)用
の場合はクラス1000以下、さらに高度な情報記録用
の場合はクラス100以下が好ましい。
るので、透明性に優れ、また、優れた溶融粘弾性特性を
有するので成形加工性に優れ、成形加工時に残留応力
歪、分子配向が起こりにくい上、たとえそれらが残存し
ていても光学異方性が極めて少ないという特性を有して
いる。従って、透明性材料や光学材料が極めて有用で且
つ良く適合する樹脂である。
リエステル重合体を、従来公知の成形法、例えば、射出
成形法、射出圧縮成形法、トランスファー成形法、ブロ
ー成形法、押出成形法、加圧成形法、キャステイング成
形法等の方法により得る事ができる。成形に際してはこ
れらの成形法からより適合する成形法を選択すれば良
く、例えば光ディスク基板、レンズ、一般成形部品等
は、射出成形法及び射出圧縮成形法が良く適合し、フィ
ルム、シート、光ファイバー、繊維等は、押出成形法が
適合する。また、ボトル、袋等はブロー成形法が、型付
け成形は加圧成形法やトランスファー成形法が適合す
る。中でも本発明のポリエステル重合体の優れた特性で
ある、透明性、低光学異方性、耐熱性を要望する成形
体、即ち、光学用成形体を得るには射出圧縮成形法、押
出成形法が好ましい。
の成形には射出圧縮成形機がよく適合し、樹脂温度、金
型温度、保持圧力等の成形条件を適正に選定することに
より、ディスク基板の複屈折が小さく且つ、ディスク基
板径方向の複屈折、厚み、転写性等極めて均一でソリが
無い優れた物が得られる。このような成形条件は、組
成、重合度等によって異なり一概に規定できないが、金
型温度はガラス転移温度、即ち80℃以上150℃以下
が好ましい。また、樹脂温度は240℃以上320℃以
下が好ましい。240℃未満では、樹脂の流動性と転写
性が悪くなり、成形時に応力歪が残り複屈折を大きくす
る。また320℃を越えると樹脂の熱分解が生起し易
く、成形品の強度低下、着色の原因となり、さらに金型
鏡面やスタンパの汚染、離型性の低下を来すことがあ
る。
ックレンズ成形には射出圧縮成形、圧縮成形、真空成
形、その他の方法が用いられるが、量産性の点から射出
圧縮成形機がよく適合し、樹脂温度、金型温度、保持圧
力等の成形条件を適正に選定することにより光学歪みの
小さいプラスチックレンズが容易に得られる。このよう
な成形条件は、組成、重合度等によって異なり一概に規
定できないが、成形温度240℃以上320℃以下、金
型温度はガラス転移温度或いは、ガラス転移温度より2
0℃低い温度、即ち60℃以上150℃以下が好まし
い。成形されたプラスチックレンズの精度は、寸法精度
と表面特性によって表され、これらの精度が悪いと光学
歪みが大きくなるが、本発明の樹脂を用い、上記条件で
光学歪みの小さいプラスチックレンズが容易に得られ
る。
る。実施例における重合体のガラス転移温度、複屈折率
は以下に示す方法で測定した。
10mgを用いて、10℃/minの昇温速度で加熱し
て測定した。JIS K 7121- 1987に準拠し
て、ガラス転移温度Tgを求めた。
ク、ブレースケラー式コンペンセーターを装着し、54
6nmの単色光で測定した。測定片は樹脂を240〜3
00℃で溶融、押し出し成形し、直径30mm、厚さ1
mmの円盤状の試験片を作製し、さらにその成形試験片
を160〜240℃でプレス成形し、厚み80〜150
μのフィルムを得た。得られたフィルムを4×40mm
の短冊状に切り出し、測定試験片とした。Tg+10℃
の温度で測定試験片を20%/secで40%延伸後、
急冷し、延伸フィルムを得た。これらのフィルムの複屈
折率を測定した。
い、重水素化クロロホルムに試料を溶解し、テトラメチ
ルシランを標品として混合し、プロトンNMRスペクト
ルを測定した。
ルに対して、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]フルオレン 0.4モル、エチレング
リコール 2.2モルを原料とし、触媒として、酢酸カ
ルシウム 0.0008モル、酢酸マンガン 0.00
02モルを用い、これらを反応槽に投入し、撹拌しなが
ら常法に従って190℃から245℃に徐々に加熱して
エステル交換反応を行った。所定量のメタノールを系外
へ抜き出した後、重合触媒である酸化ゲルマニウム
0.012モルと、着色を防止するため、リン酸トリメ
チルエステル 0.0018モルとを投入して、昇温と
減圧を徐々に行い、発生するエチレングリコールを抜き
ながら、加熱槽温度を290℃、真空度を1Torr以
下に到達させた。この条件を維持し、粘度の上昇を待
ち、所定の攪拌トルクに到達後(約2時間後)反応を終
了し、反応物を水中に押し出してペレットを得た。
上のサンプルを得た後、190℃でプレスし、厚さ10
0μのフィルムを得た。131℃で延伸を行うと複屈折
率は+7×10-4であった。なお実施例1の試料のNM
Rスペクトルを図1に示した。
様な操作でペレットを製造し、同様に評価した。結果を
表1に示す。いずれも均一透明なものが得られた。
ルを2,6−デカリンジカルボン酸ジメチルエステル
0.5モルとテレフタル酸ジメチルエステル0.5モル
に変え、ジヒドロキシ成分組成比を表1に示すように変
えた他は実施例1と同様な操作でペレットを製造し、同
様に評価した。結果を表1に示す。いずれも均一透明な
ものが得られた。
様な操作でペレットを製造し、同様に評価した。結果を
表1に示す。いずれも均一透明なものが得られた。
成分1モルに対して、エチレングリコール 2.2モ
ル、酢酸カルシウム 0.0008モル、酸化ゲルマニ
ウム 0.0024モル、リン酸トリメチルエステル
0.0036モルとした他は実施例1と同様にしてペレ
ットを得た。このポリマ−の評価結果を表1に示した
が、Tgが低く、耐熱性に劣り、さらに複屈折が大き
く、光学用途には不適であることが分かった。
ングリコール 2.2モル、酢酸カルシウム 0.00
08モル、酸化ゲルマニウム 0.0024モル、リン
酸トリメチルエステル 0.0036モルとを原料組成
及び添加物として用いた他は実施例1と同様にしてペレ
ットを得た。得られたポリマーの物性を表1に示した。
同様にフィルムにして複屈折を評価しようとしたが、フ
ィルムが白濁して測定できなかった。このポリマーでも
特殊な用途には使用可能であるが、本発明の目的とする
耐熱性を有し且つ光学的に透明性を要求される用途には
適していない。
ポリカーボネート(三菱化成工業(株)製ノバレックス
AD3)を用いて実施例1と同様にしてフィルムを作成
して複屈折を評価した。結果を表1に併せ示した。これ
らの実施例と比較例との比較により本発明品が光学的に
透明で、且つ非常に複屈折が小さく、成形性などの点で
優れていることが分かった。
重合体は、透明性に優れ、光学的異方性が小さく、成形
性、寸法安定性、耐薬品性に優れた成形材料を提供で
き、光学材料用途、例えばプラスチックレンズ、光ファ
イバー、光ディスク、また繊維用途、フィルム用途、シ
ート用途等産業的に有用なものであることがわかる。
スペクトル線図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 ジカルボン酸またはそのエステル形成性
誘導体とジヒドロキシ化合物からなるポリエステル重合
体であって、ジカルボン酸が脂環族ジカルボン酸を含
み、ジヒドロキシ化合物が一般式(1)で示される化合
物を含むことを特徴とするポリエステル重合体。 【化1】 (R1 は炭素数2から4のアルキレン基、R2 、R3 、
R4 、及びR5 は水素または炭素数1から4のアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり同じであっても異
なっていてもよい) - 【請求項2】 ジカルボン酸またはそのエステル形成性
誘導体とジヒドロキシ化合物からなるポリエステル重合
体であって、ジカルボン酸が脂環族ジカルボン酸及び芳
香族ジカルボン酸を含み、ジヒドロキシ化合物が一般式
(1)で示される化合物を含むことを特徴とするポリエ
ステル重合体。 【化2】 (R1 は炭素数2から4のアルキレン基、R2 、R3 、
R4 、及びR5 は水素または炭素数1から4のアルキル
基、アリール基、アラルキル基であり同じであっても異
なっていてもよい) - 【請求項3】 脂環族ジカルボン酸が、シクロヘキサン
ジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジ
カルボン酸、アダマンタンジカルボン酸、またはトリシ
クロデセンジカルボン酸から選ばれる少なくとも1種の
化合物であることを特徴とする請求項1または2記載の
ポリエステル重合体。 - 【請求項4】 芳香族ジカルボン酸がテレフタル酸、ま
たはイソフタル酸あるいはこれらのエステル形成性誘導
体であることを特徴とする請求項2から3のいずれかに
記載のポリエステル重合体。 - 【請求項5】 一般式(1)で示されるジヒドロキシ化
合物が、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)フェニル]フルオレンであることを特徴とする請求
項1から4のいずれかに記載のポリエステル重合体。 - 【請求項6】 請求項1から5のいずれかに記載のポリ
エステル重合体をディスク基板、レンズ、シート、フィ
ルム、チューブ、又はファイバーに成形加工してなるポ
リエステル成形体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14844796A JP3331121B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | ポリエステル重合体およびその成形体 |
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14844796A JP3331121B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | ポリエステル重合体およびその成形体 |
US09/128,907 US6066711A (en) | 1996-05-17 | 1998-08-04 | Polyester polymer and its moldings |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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US (1) | US6066711A (ja) |
JP (1) | JP3331121B2 (ja) |
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