JPH0926828A - 位置制御方法及び装置並びにそれを使用した半導体製造装置 - Google Patents
位置制御方法及び装置並びにそれを使用した半導体製造装置Info
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 位置計測器の応答遅れにより発生する位置検
出誤差を補正し、実質的な移動体の相対位置合わせ性能
を向上させる。 【解決手段】 移動体１５（２５）を一定周期で発生す
る目標位置に制御する位置制御方法において、該移動体
の現在位置を位置計測器１６（２６）で計測し、前記位
置計測器の検出遅れによる前記移動体の現在位置の検出
誤差に応じた値を前記移動体の現在位置の補正量Ｏ
W（ＯR）として目標指令信号ＸW（ＸR）に減算する。
出誤差を補正し、実質的な移動体の相対位置合わせ性能
を向上させる。 【解決手段】 移動体１５（２５）を一定周期で発生す
る目標位置に制御する位置制御方法において、該移動体
の現在位置を位置計測器１６（２６）で計測し、前記位
置計測器の検出遅れによる前記移動体の現在位置の検出
誤差に応じた値を前記移動体の現在位置の補正量Ｏ
W（ＯR）として目標指令信号ＸW（ＸR）に減算する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は位置制御方法及び装
置並びにそれを使用した半導体製造装置に関し、特に半
導体製造工程でレチクルやマスクのパターンを半導体ウ
エハ等の基板に露光転写する露光装置等の半導体製造装
置や、高速で加工物や検査物を移動する必要のある高精
度ＮＣマシンや、高精度検査装置等の位置制御に適用さ
れる位置制御方法及び装置装置に関するものである。
置並びにそれを使用した半導体製造装置に関し、特に半
導体製造工程でレチクルやマスクのパターンを半導体ウ
エハ等の基板に露光転写する露光装置等の半導体製造装
置や、高速で加工物や検査物を移動する必要のある高精
度ＮＣマシンや、高精度検査装置等の位置制御に適用さ
れる位置制御方法及び装置装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、図５に示すような所謂ステップア
ンドスキャンタイプの半導体製造用露光装置のウエハス
テージ１５、レチクルステージ２５の位置制御は図６に
示す様な位置制御装置により制御されていた。
ンドスキャンタイプの半導体製造用露光装置のウエハス
テージ１５、レチクルステージ２５の位置制御は図６に
示す様な位置制御装置により制御されていた。
【０００３】これらの図において、１０はウエハステー
ジ位置制御部、１５はＸ及び／またはＹ方向に移動する
ウエハステージで、その上部にはウエハ５０を保持する
ウエハチャック５１が載置されている。ウエハステージ
位置制御部１０はウエハステージ１５を移動させるため
のモータ１４と、ウエハステージ１５の上部に固定され
たミラー５３を用いてウエハステージ１５の現在位置を
計測し、ウエハステージ１５の現在位置信号Ｐwを出力
するレーザー測長器等の位置計測器１６を有している。
ジ位置制御部、１５はＸ及び／またはＹ方向に移動する
ウエハステージで、その上部にはウエハ５０を保持する
ウエハチャック５１が載置されている。ウエハステージ
位置制御部１０はウエハステージ１５を移動させるため
のモータ１４と、ウエハステージ１５の上部に固定され
たミラー５３を用いてウエハステージ１５の現在位置を
計測し、ウエハステージ１５の現在位置信号Ｐwを出力
するレーザー測長器等の位置計測器１６を有している。
【０００４】ウエハステージ位置制御部１０は、ウエハ
ステージ１５の現在位置信号Ｐwと一定周期で発生する
目標位置指令信号Ｘwが入力され、位置偏差信号Ｅwを出
力する減算器１１と、位置偏差信号Ｅwを入力しフィル
タ演算やＰＩＤ演算や各種のゲイン補償及び位相補償演
算を行い電流指令信号Ｃwを出力する位置アンプ１２
と、電流指令信号Ｃwを入力し電流増幅を行いモータ１
４にモータ電流Ｉwを出力するドライバアンプ１３を有
している。
ステージ１５の現在位置信号Ｐwと一定周期で発生する
目標位置指令信号Ｘwが入力され、位置偏差信号Ｅwを出
力する減算器１１と、位置偏差信号Ｅwを入力しフィル
タ演算やＰＩＤ演算や各種のゲイン補償及び位相補償演
算を行い電流指令信号Ｃwを出力する位置アンプ１２
と、電流指令信号Ｃwを入力し電流増幅を行いモータ１
４にモータ電流Ｉwを出力するドライバアンプ１３を有
している。
【０００５】また同図において、２０はレチクルステー
ジ位置制御部、２５はＸ及び／またはＹ方向に移動する
レチクルステージで、その上部にはレチクル４８が保持
される。レチクルステージ位置制御部２０はレチクルス
テージ２５を移動させるためのモータ２４と、レチクル
ステージ２５に固定されたミラー５２を用いてレチクル
ステージ２５の現在位置を測りレチクルステージ２５の
現在位置信号Ｐrを出力するレーザー測長器等の位置計
測器２６を有している。
ジ位置制御部、２５はＸ及び／またはＹ方向に移動する
レチクルステージで、その上部にはレチクル４８が保持
される。レチクルステージ位置制御部２０はレチクルス
テージ２５を移動させるためのモータ２４と、レチクル
ステージ２５に固定されたミラー５２を用いてレチクル
ステージ２５の現在位置を測りレチクルステージ２５の
現在位置信号Ｐrを出力するレーザー測長器等の位置計
測器２６を有している。
【０００６】レチクルステージ位置制御部２０は、レチ
クルステージ２５の現在位置信号Ｐrと一定周期で発生
する目標位置指令信号Ｘrが入力され、位置偏差信号Ｅr
を出力する減算器２１と、位置偏差信号Ｅrを入力しフ
ィルタ演算やＰＩＤ演算や各種のゲイン補償及び位相補
償演算を行い電流指令信号Ｃrを出力する位置アンプ２
２と、電流指令信号Ｃrを入力し電流増幅を行いモータ
２４にモータ電流Ｉrを出力するドライバアンプ２３を
有している。
クルステージ２５の現在位置信号Ｐrと一定周期で発生
する目標位置指令信号Ｘrが入力され、位置偏差信号Ｅr
を出力する減算器２１と、位置偏差信号Ｅrを入力しフ
ィルタ演算やＰＩＤ演算や各種のゲイン補償及び位相補
償演算を行い電流指令信号Ｃrを出力する位置アンプ２
２と、電流指令信号Ｃrを入力し電流増幅を行いモータ
２４にモータ電流Ｉrを出力するドライバアンプ２３を
有している。
【０００７】なお、図５において、４１はレチクル４８
のパターンをウエハ５０に露光転写するための露光光を
発生する露光光源、４２はモータ４３によって回動され
て露光の開始と終了を制御するシャッター、４４は光学
エレメント、４５は露光光反射用のミラー、４６は露光
光の強度監視用のフォトセンサー、４７はレチクル４８
の所定領域に露光光を照射するためのコンデンサーレン
ズである。
のパターンをウエハ５０に露光転写するための露光光を
発生する露光光源、４２はモータ４３によって回動され
て露光の開始と終了を制御するシャッター、４４は光学
エレメント、４５は露光光反射用のミラー、４６は露光
光の強度監視用のフォトセンサー、４７はレチクル４８
の所定領域に露光光を照射するためのコンデンサーレン
ズである。
【０００８】図６の位置指令出力部２には不図示の上位
のコンピューターからウエハステージ１５とレチクルス
テージ２５の時系列目標位置指令信号Ｘw〔ｉ〕（ｉ＝
１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，
…，ｎ）が設定され、位置指令出力部２はクロック発生
器１が発生する一定周期のクロック信号Δｔに従ってウ
エハステージ１５の目標位置指令信号Ｘw〔ｉ〕とレチ
クルステージ２５の目標位置指令信号Ｘr〔ｉ〕をステ
ージ位置制御部１０とレチクルステージ位置制御部２０
にそれぞれ出力する。
のコンピューターからウエハステージ１５とレチクルス
テージ２５の時系列目標位置指令信号Ｘw〔ｉ〕（ｉ＝
１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，
…，ｎ）が設定され、位置指令出力部２はクロック発生
器１が発生する一定周期のクロック信号Δｔに従ってウ
エハステージ１５の目標位置指令信号Ｘw〔ｉ〕とレチ
クルステージ２５の目標位置指令信号Ｘr〔ｉ〕をステ
ージ位置制御部１０とレチクルステージ位置制御部２０
にそれぞれ出力する。
【０００９】レチクルステージ２５の目標位置指令信号
Ｘr〔ｉ〕はレチクル４８の露光領域をＸ方向にスキャ
ンする座標であり、ウエハステージ１５の目標位置指令
信号Ｘw〔ｉ〕は１つの露光ショットの露光領域をレチ
クルステージ２５と同期してＸ方向にスキャンする座標
が設定されている。
Ｘr〔ｉ〕はレチクル４８の露光領域をＸ方向にスキャ
ンする座標であり、ウエハステージ１５の目標位置指令
信号Ｘw〔ｉ〕は１つの露光ショットの露光領域をレチ
クルステージ２５と同期してＸ方向にスキャンする座標
が設定されている。
【００１０】これらの目標位置を順次出力することによ
りレチクルステージ２５とウエハステージ１５は半導体
露光装置の縮小投影レンズ４９の縮小倍率である４対１
の倍率で同期して移動することになる。
りレチクルステージ２５とウエハステージ１５は半導体
露光装置の縮小投影レンズ４９の縮小倍率である４対１
の倍率で同期して移動することになる。
【００１１】また、この例では、ウエハステージ１５と
レチクルステージ２５の相対位置誤差を最小とするた
め、ウエハステージ１５の位置偏差信号Ｅwを倍率補正
演算部３でＫ1倍の倍率変換を行った位置偏差信号Ｅrw
としてレチクルステージ位置制御部２０内の加算器４に
入力している。
レチクルステージ２５の相対位置誤差を最小とするた
め、ウエハステージ１５の位置偏差信号Ｅwを倍率補正
演算部３でＫ1倍の倍率変換を行った位置偏差信号Ｅrw
としてレチクルステージ位置制御部２０内の加算器４に
入力している。
【００１２】この制御手法はごく一般的な同期制御方式
であり「マスター／スレーブ制御」と呼ばれていて、上
記の位置偏差信号は単純な加減則演算式で、以下のよう
に表せられる。
であり「マスター／スレーブ制御」と呼ばれていて、上
記の位置偏差信号は単純な加減則演算式で、以下のよう
に表せられる。
【００１３】Ｅw＝Ｘw−Ｐw Ｅr＝Ｘr−Ｐr−Ｅrw＝Ｘr−Ｐr−Ｋ1×Ｅw
【００１４】ここでＫ1は倍率補正演算部３で補正され
る倍率で、縮小露光レンズ４９の縮小比の逆数である。
る倍率で、縮小露光レンズ４９の縮小比の逆数である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】この例では、先ず始め
にウエハステージ１５とレチクルステージ２５はウエハ
５０とレチクル４８のそれぞれのアライメントマーク位
置に移動し停止した後、不図示のアライメント検出系に
よってウエハ５０とレチクル４８の相対位置合わせを行
い、次にウエハステージ１５とレチクルステージ２５は
ウエハ５０とレチクル４８のそれぞれの露光領域を先程
の相対位置合わせ工程で補正された目標位置指令列Ｘw
〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕（ｉ＝
１，２，３，…，ｎ）で縮小投影レンズ４９の縮小倍率
で同期しながら移動し露光することになる。
にウエハステージ１５とレチクルステージ２５はウエハ
５０とレチクル４８のそれぞれのアライメントマーク位
置に移動し停止した後、不図示のアライメント検出系に
よってウエハ５０とレチクル４８の相対位置合わせを行
い、次にウエハステージ１５とレチクルステージ２５は
ウエハ５０とレチクル４８のそれぞれの露光領域を先程
の相対位置合わせ工程で補正された目標位置指令列Ｘw
〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕（ｉ＝
１，２，３，…，ｎ）で縮小投影レンズ４９の縮小倍率
で同期しながら移動し露光することになる。
【００１６】しかしながら上記従来例では例えばレーザ
ー干渉計のように高速に応答する位置計測器を用いて
も、その位置検出にかかる応答時間は通常数百ｎｓｅｃ
（ナノ秒）であり、特に半導体露光装置のウエハステー
ジ１５の様に１００ｍｍ／ｓｅｃ程度の速度で移動する
移動体では、その位置計測器の応答時間遅れによって位
置検出誤差が発生することになる。
ー干渉計のように高速に応答する位置計測器を用いて
も、その位置検出にかかる応答時間は通常数百ｎｓｅｃ
（ナノ秒）であり、特に半導体露光装置のウエハステー
ジ１５の様に１００ｍｍ／ｓｅｃ程度の速度で移動する
移動体では、その位置計測器の応答時間遅れによって位
置検出誤差が発生することになる。
【００１７】この位置検出誤差は数十ｎｍ（ナノメー
タ）と微小であるが、近年の半導体露光パターンの微細
化にともない無視できない量となってきた。また近年の
スループット向上の要求によりステージの移動速度は益
々増加する傾向にあり、従ってこの位置検出誤差量も増
加する傾向にある。
タ）と微小であるが、近年の半導体露光パターンの微細
化にともない無視できない量となってきた。また近年の
スループット向上の要求によりステージの移動速度は益
々増加する傾向にあり、従ってこの位置検出誤差量も増
加する傾向にある。
【００１８】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、その目的は位置計測器の応答遅れにより発生する
位置検出誤差を補正し、実質的な移動体の相対位置合わ
せ性能を向上させる位置制御方法及び装置を提供するこ
とにある。
ので、その目的は位置計測器の応答遅れにより発生する
位置検出誤差を補正し、実質的な移動体の相対位置合わ
せ性能を向上させる位置制御方法及び装置を提供するこ
とにある。
【００１９】本発明の他の目的はステージの移動速度を
増加させることを可能とし、処理時間の短縮を可能とす
る半導体製造装置を提供することにある。
増加させることを可能とし、処理時間の短縮を可能とす
る半導体製造装置を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は、移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御方法において、前記移動体の現在位置
を位置計測器で計測し、前記位置計測器の検出遅れによ
る前記移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を前記移
動体の現在位置の補正量として目標指令信号に減算もし
くは現在位置信号に加算することを特徴としている。な
お、移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を目標指令
信号に減算することと、該値を現在位置信号に加算する
ことは結果的に等価なことである。
め、本発明は、移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御方法において、前記移動体の現在位置
を位置計測器で計測し、前記位置計測器の検出遅れによ
る前記移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を前記移
動体の現在位置の補正量として目標指令信号に減算もし
くは現在位置信号に加算することを特徴としている。な
お、移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を目標指令
信号に減算することと、該値を現在位置信号に加算する
ことは結果的に等価なことである。
【００２１】また、本発明は、移動体を一定周期で発生
する目標位置に制御する位置制御装置において、前記移
動体の現在位置を位置計測器で計測し、前記位置計測器
の検出遅れによる現在位置の検出誤差量を前記一定周期
で発生する目標位置から予め求め、前記移動体を一定周
期で発生する目標位置に制御する際、補正後の目標位置
で制御することによって前記位置計測器の検出遅れをキ
ャンセルすることを特徴としている。
する目標位置に制御する位置制御装置において、前記移
動体の現在位置を位置計測器で計測し、前記位置計測器
の検出遅れによる現在位置の検出誤差量を前記一定周期
で発生する目標位置から予め求め、前記移動体を一定周
期で発生する目標位置に制御する際、補正後の目標位置
で制御することによって前記位置計測器の検出遅れをキ
ャンセルすることを特徴としている。
【００２２】これらの発明において、前記補正量を前記
移動体の移動速度から求たり、前記補正量を前記一定周
期で発生する目標位置の移動速度から求めたりしても良
い。また、前記移動体は複数であり、前記移動体のそれ
ぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一方は前
記補正量が加算された目標指令信号に応じて移動制御さ
れるものであっても良く、更に前記移動体の一方は半導
体製造用のレチクルを保持するレチクルステージであ
り、他方は半導体ウエハを保持するウエハステージであ
っても良い。
移動体の移動速度から求たり、前記補正量を前記一定周
期で発生する目標位置の移動速度から求めたりしても良
い。また、前記移動体は複数であり、前記移動体のそれ
ぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一方は前
記補正量が加算された目標指令信号に応じて移動制御さ
れるものであっても良く、更に前記移動体の一方は半導
体製造用のレチクルを保持するレチクルステージであ
り、他方は半導体ウエハを保持するウエハステージであ
っても良い。
【００２３】また本発明の位置制御装置は、移動体を一
定周期で発生する目標位置に制御する位置制御装置にお
いて、前記移動体の現在位置を計測する位置計測器と、
前記位置計測器の検出遅れによる前記移動体の現在位置
の検出誤差に応じた値を前記移動体の現在位置の補正量
として目標指令信号に減算もしくは現在位置信号に加算
する手段を有することを特徴としている。
定周期で発生する目標位置に制御する位置制御装置にお
いて、前記移動体の現在位置を計測する位置計測器と、
前記位置計測器の検出遅れによる前記移動体の現在位置
の検出誤差に応じた値を前記移動体の現在位置の補正量
として目標指令信号に減算もしくは現在位置信号に加算
する手段を有することを特徴としている。
【００２４】更に本発明の位置制御装置は、移動体を一
定周期で発生する目標位置に制御する位置制御装置にお
いて、前記移動体の現在位置を計測する位置計測器と、
前記位置計測器の検出遅れによる現在位置の検出誤差量
を前記一定周期で発生する目標位置から予め求め、前記
移動体を一定周期で発生する目標位置に制御する際、補
正後の目標位置で制御することによって前記位置計測器
の検出遅れをキャンセルする制御手段を有することを特
徴としている。
定周期で発生する目標位置に制御する位置制御装置にお
いて、前記移動体の現在位置を計測する位置計測器と、
前記位置計測器の検出遅れによる現在位置の検出誤差量
を前記一定周期で発生する目標位置から予め求め、前記
移動体を一定周期で発生する目標位置に制御する際、補
正後の目標位置で制御することによって前記位置計測器
の検出遅れをキャンセルする制御手段を有することを特
徴としている。
【００２５】これらの発明において、前記補正量を前記
移動体の移動速度から求めたり、前記補正量を前記一定
周期で発生する目標位置の移動速度から求めるようにし
ても良い。なお、前記移動体は複数であり、前記移動体
のそれぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一
方は前記補正量が加算された目標指令信号に応じて移動
が制御されるものでも良く、この場合には、前記移動体
の一方は半導体製造用のレチクルを保持するレチクルス
テージであり、他方は半導体ウエハを保持するウエハス
テージであってもよい。
移動体の移動速度から求めたり、前記補正量を前記一定
周期で発生する目標位置の移動速度から求めるようにし
ても良い。なお、前記移動体は複数であり、前記移動体
のそれぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一
方は前記補正量が加算された目標指令信号に応じて移動
が制御されるものでも良く、この場合には、前記移動体
の一方は半導体製造用のレチクルを保持するレチクルス
テージであり、他方は半導体ウエハを保持するウエハス
テージであってもよい。
【００２６】また本発明に係わる半導体製造装置は、レ
チクルステージ上に保持されているレチクルのパターン
をウエハステージ上に保持されているウエハに露光転写
する半導体製造装置において、前記レチクルステージの
現在位置を計測するレチクル側計測器と、前記ウエハス
テージの現在位置を計測するウエハ側計測器と、前記レ
チクル側計測器の検出遅れによる前記レチクルステージ
の現在位置の検出誤差に応じた値を前記レチクルステー
ジの現在位置の補正量としてレチクル側目標指令信号に
減算もしくはレチクル側現在位置信号に加算する第１手
段と、前記ウエハ側計測器の検出遅れによる前記ウエハ
ステージの現在位置の検出誤差に応じた値を前記ウエハ
ステージの現在位置の補正量としてウエハ側目標指令信
号に減算もしくはウエハ側現在位置信号に加算する第２
手段と、前記レチクル側目標指令信号と前記ウエハ側目
標指令信号を出力して前記レチクルステージと前記ウエ
ハステージを同期駆動する制御手段を有することを特徴
としている。
チクルステージ上に保持されているレチクルのパターン
をウエハステージ上に保持されているウエハに露光転写
する半導体製造装置において、前記レチクルステージの
現在位置を計測するレチクル側計測器と、前記ウエハス
テージの現在位置を計測するウエハ側計測器と、前記レ
チクル側計測器の検出遅れによる前記レチクルステージ
の現在位置の検出誤差に応じた値を前記レチクルステー
ジの現在位置の補正量としてレチクル側目標指令信号に
減算もしくはレチクル側現在位置信号に加算する第１手
段と、前記ウエハ側計測器の検出遅れによる前記ウエハ
ステージの現在位置の検出誤差に応じた値を前記ウエハ
ステージの現在位置の補正量としてウエハ側目標指令信
号に減算もしくはウエハ側現在位置信号に加算する第２
手段と、前記レチクル側目標指令信号と前記ウエハ側目
標指令信号を出力して前記レチクルステージと前記ウエ
ハステージを同期駆動する制御手段を有することを特徴
としている。
【００２７】位置計測器の検出遅れによる現在位置の検
出誤差量を移動体の現在位置の補正量として加算するこ
とにより、移動体の移動速度に影響されず移動体の現在
位置を正しく求めることが可能となる。従って位置合わ
せ精度が高く、且つ高速度の同期制御を可能にできる。
出誤差量を移動体の現在位置の補正量として加算するこ
とにより、移動体の移動速度に影響されず移動体の現在
位置を正しく求めることが可能となる。従って位置合わ
せ精度が高く、且つ高速度の同期制御を可能にできる。
【００２８】また、現在位置の補正量を移動体の移動速
度から求めるようにすれば、実際の移動体の移動速度が
指令値からはずれた場合でも現在位置の検出誤差量を正
確に検出し補正することが可能である。
度から求めるようにすれば、実際の移動体の移動速度が
指令値からはずれた場合でも現在位置の検出誤差量を正
確に検出し補正することが可能である。
【００２９】現在位置の補正量を目標位置指令列の移動
速度から求めるようにすれば、移動体の移動速度が位置
計測器の高周波ノイズ成分によって誤検知される場合で
も現在位置の検出誤差量を正確に検出し補正することが
可能である。このため、この場合には安定した同期制御
を行える。
速度から求めるようにすれば、移動体の移動速度が位置
計測器の高周波ノイズ成分によって誤検知される場合で
も現在位置の検出誤差量を正確に検出し補正することが
可能である。このため、この場合には安定した同期制御
を行える。
【００３０】ただし、位置計測器の位置検出信号に高周
波成分のノイズが多く含まれる場合は、現在位置の補正
量を目標位置指令列の移動速度から求めた方が安定した
制御となって好ましく、実際の移動体の移動速度が指令
値から大きくはずれる場合は現在位置の補正量を移動体
の移動速度から求めた方が正確な制御になる。
波成分のノイズが多く含まれる場合は、現在位置の補正
量を目標位置指令列の移動速度から求めた方が安定した
制御となって好ましく、実際の移動体の移動速度が指令
値から大きくはずれる場合は現在位置の補正量を移動体
の移動速度から求めた方が正確な制御になる。
【００３１】現在位置の補正量を一定周期で発生する目
標位置指令列から予め求めておき、補正後の目標位置で
制御するようにすれば、微分器や高速で演算するオフセ
ット演算部を不要にでき、従来のハードウエアをそのま
ま使用することが可能となり構成を簡単にできる。
標位置指令列から予め求めておき、補正後の目標位置で
制御するようにすれば、微分器や高速で演算するオフセ
ット演算部を不要にでき、従来のハードウエアをそのま
ま使用することが可能となり構成を簡単にできる。
【００３２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例に係る移
動体の位置制御装置の構成を示すブロック図である。図
１において、図６と同一の符号を付したものは、図６の
例と同一の構成要素を示す。本実施例は、図６の構成に
対して、微分器１７，２７、位置オフセット演算部１
８，２８、及び減算器１９，２９を付加したものとなっ
ている。
動体の位置制御装置の構成を示すブロック図である。図
１において、図６と同一の符号を付したものは、図６の
例と同一の構成要素を示す。本実施例は、図６の構成に
対して、微分器１７，２７、位置オフセット演算部１
８，２８、及び減算器１９，２９を付加したものとなっ
ている。
【００３３】先ず、不図示の上位のコンピュータから位
置指令列出力部２を通してウエハステージ位置制御部１
０とレチクルステージ位置制御部２０にウエハステージ
１５とレチクルステージ２５のアライメントマーク位置
である位置指令ＸwとＸrが入力される。
置指令列出力部２を通してウエハステージ位置制御部１
０とレチクルステージ位置制御部２０にウエハステージ
１５とレチクルステージ２５のアライメントマーク位置
である位置指令ＸwとＸrが入力される。
【００３４】ここでウエハステージ位置制御部１０はウ
エハステージ１５をウエハ５０（図５参照）のアライメ
ントマーク位置に移動して停止する。同じくレチクルス
テージ位置制御部２０はレチクルステージ２５をレチク
ル４８（図５参照）のアライメントマーク位置に移動し
て停止する。
エハステージ１５をウエハ５０（図５参照）のアライメ
ントマーク位置に移動して停止する。同じくレチクルス
テージ位置制御部２０はレチクルステージ２５をレチク
ル４８（図５参照）のアライメントマーク位置に移動し
て停止する。
【００３５】位置指令列出力部２、位置アンプ１２，２
２、ドライバアンプ１３，２３、及びモータ１４，２４
の動作は前述した図６の例と同じなので、ここではその
説明を省略する。
２、ドライバアンプ１３，２３、及びモータ１４，２４
の動作は前述した図６の例と同じなので、ここではその
説明を省略する。
【００３６】ウエハステージ１５とレチクルステージ２
５がそれぞれのアライメントマーク位置に停止した時、
位置計測器１６，２６のそれぞれが出力するステージ位
置信号はＰwとＰrであり、微分器１７，２７のそれぞれ
が出力するステージ速度信号ＶwとＶrは０であり、そし
てオフセット演算部１８，２８のそれぞれが出力するオ
フセット信号ＯwとＯrは０である。
５がそれぞれのアライメントマーク位置に停止した時、
位置計測器１６，２６のそれぞれが出力するステージ位
置信号はＰwとＰrであり、微分器１７，２７のそれぞれ
が出力するステージ速度信号ＶwとＶrは０であり、そし
てオフセット演算部１８，２８のそれぞれが出力するオ
フセット信号ＯwとＯrは０である。
【００３７】不図示のアライメント検出系でレチクル４
８とウエハ５０のそれぞれのアライメントマークが検出
され、これによりウエハステージ１５とレチクルステー
ジ２５の相対位置ずれが検出され、上位のコンピュータ
により位置合わせされた露光領域の位置指令列Ｘ
w〔ｉ〕（ｉ＝０，１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕
（ｉ＝０，１，２，３，…，ｎ）が演算される。
８とウエハ５０のそれぞれのアライメントマークが検出
され、これによりウエハステージ１５とレチクルステー
ジ２５の相対位置ずれが検出され、上位のコンピュータ
により位置合わせされた露光領域の位置指令列Ｘ
w〔ｉ〕（ｉ＝０，１，２，３，…，ｎ）とＸr〔ｉ〕
（ｉ＝０，１，２，３，…，ｎ）が演算される。
【００３８】次にウエハステージ１５とレチクルステー
ジ２５はウエハ５０とレチクル４８の露光開始位置Ｘw
ジ２５はウエハ５０とレチクル４８の露光開始位置Ｘw
〔０〕とＸr
〔０〕に移動する。位置指令列出力部２に
は上位のコンピュータで演算されたウエハ５０の露光領
域の目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，
ｎ）と、レチクル４８のＸr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，
…，ｎ）が設定され、クロック発生器１が一定時間Δｔ
毎に周期的に発生するクロック信号に従って位置指令信
号Ｘw〔ｉ〕とＸr〔ｉ〕をウエハ位置制御部１０とレチ
クル位置制御部２０にそれぞれ出力する。
は上位のコンピュータで演算されたウエハ５０の露光領
域の目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，
ｎ）と、レチクル４８のＸr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，
…，ｎ）が設定され、クロック発生器１が一定時間Δｔ
毎に周期的に発生するクロック信号に従って位置指令信
号Ｘw〔ｉ〕とＸr〔ｉ〕をウエハ位置制御部１０とレチ
クル位置制御部２０にそれぞれ出力する。
【００３９】位置計測器１６，２６ではウエハステージ
１５とレチクルステージ２５の現在位置信号Ｐw〔ｉ〕
とＰr〔ｉ〕がそれぞれ検出される。この時微分器１
７，２７はウエハステージ位置信号Ｐw〔ｉ〕とレチク
ルステージ位置信号Ｐr〔ｉ〕から例えば以下の演算で
速度信号Ｖr〔ｉ〕とＶr〔ｉ〕をそれぞれ演算し、位置
オフセット演算部１８，２８にそれぞれ出力する。
１５とレチクルステージ２５の現在位置信号Ｐw〔ｉ〕
とＰr〔ｉ〕がそれぞれ検出される。この時微分器１
７，２７はウエハステージ位置信号Ｐw〔ｉ〕とレチク
ルステージ位置信号Ｐr〔ｉ〕から例えば以下の演算で
速度信号Ｖr〔ｉ〕とＶr〔ｉ〕をそれぞれ演算し、位置
オフセット演算部１８，２８にそれぞれ出力する。
【００４０】 Ｖw〔ｉ〕＝（Ｐw〔ｉ〕−Ｐw〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｖr〔ｉ〕＝（Ｐr〔ｉ〕−Ｐr〔ｉ−１〕）／Δｔ
【００４１】位置オフセット演算部１８，２８ではステ
ージ速度信号Ｖw〔ｉ〕，Ｖr〔ｉ〕から例えば以下の演
算で位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕をそれぞれ演
算し加算器１９，２９にそれぞれ出力する。
ージ速度信号Ｖw〔ｉ〕，Ｖr〔ｉ〕から例えば以下の演
算で位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕をそれぞれ演
算し加算器１９，２９にそれぞれ出力する。
【００４２】Ｏw〔ｉ〕＝Ｖw〔ｉ〕×Ｔ（Ｖw〔ｉ〕） Ｏr〔ｉ〕＝Ｖr〔ｉ〕×Ｔ（Ｖr〔ｉ〕）
【００４３】ここでＴ（Ｖ）は位置計測器１６，２６の
検出遅れ時間であり、ステージ速度Ｖの関数である。も
し、位置検出遅れ時間Ｔ（Ｖ）がステージ速度Ｖに依存
しない一定時間Ｔpである位置計測器を用いた場合は上
記の式は以下の様に書き換えられる。
検出遅れ時間であり、ステージ速度Ｖの関数である。も
し、位置検出遅れ時間Ｔ（Ｖ）がステージ速度Ｖに依存
しない一定時間Ｔpである位置計測器を用いた場合は上
記の式は以下の様に書き換えられる。
【００４４】Ｏw〔ｉ〕＝Ｖw〔ｉ〕×Ｔp Ｏr〔ｉ〕＝Ｖr〔ｉ〕×Ｔp
【００４５】従って、ウエハステージ側の位置アンプ１
２とレチクルステージ側の位置アンプ２２のそれぞれに
入力される位置誤差信号Ｅw〔ｉ〕，Ｅr〔ｉ〕は、目標
位置Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕、現在位置Ｐw〔ｉ〕，Ｐ
r〔ｉ〕、および位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕
を加減算演算し、以下の式で表される。
２とレチクルステージ側の位置アンプ２２のそれぞれに
入力される位置誤差信号Ｅw〔ｉ〕，Ｅr〔ｉ〕は、目標
位置Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕、現在位置Ｐw〔ｉ〕，Ｐ
r〔ｉ〕、および位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕
を加減算演算し、以下の式で表される。
【００４６】 Ｅw〔ｉ〕＝Ｘw〔ｉ〕−Ｐw〔ｉ〕−Ｏw〔ｉ〕 Ｅr〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｐr〔ｉ〕−Ｏr〔ｉ〕−Ｋ1×
Ｅw〔ｉ〕
Ｅw〔ｉ〕
【００４７】ここでＫ1は倍率補正演算部３で補正され
る倍率で、縮小露光レンズ４９（図５参照）の縮小比の
逆数である。位置アンプ１２，２２、ドライバアンプ１
３，２３、及びモータ１４，２４の動作は従来例と同じ
であるのでここでは説明を省略する。なお、上記の式で
明らかなように目標位置Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕から位置
オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を減算することは、現
在位置Ｐw〔ｉ〕，Ｐr〔ｉ〕に位置オフセットＯ
w〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を加算することと同等の意味であ
る。
る倍率で、縮小露光レンズ４９（図５参照）の縮小比の
逆数である。位置アンプ１２，２２、ドライバアンプ１
３，２３、及びモータ１４，２４の動作は従来例と同じ
であるのでここでは説明を省略する。なお、上記の式で
明らかなように目標位置Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕から位置
オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を減算することは、現
在位置Ｐw〔ｉ〕，Ｐr〔ｉ〕に位置オフセットＯ
w〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を加算することと同等の意味であ
る。
【００４８】図２は本発明の他の実施例に係る移動体の
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図２にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例は、図６の構成に対し
て、微分器１７，２７、位置オフセット演算部１８，２
８、及び減算器１９，２９を付加したものである。
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図２にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例は、図６の構成に対し
て、微分器１７，２７、位置オフセット演算部１８，２
８、及び減算器１９，２９を付加したものである。
【００４９】位置指令列出力部２には上位のコンピュー
タで演算された露光領域の目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕
（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）と、Ｘr〔ｉ〕（ｉ＝１，
２，３，…，ｎ）が設定され、クロック発生器１が一定
時間Δｔ毎に周期的に発生するクロック信号に従って位
置指令信号Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕をウエハ位置制御部１
０とレチクル位置制御部２０にそれぞれ出力する。
タで演算された露光領域の目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕
（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）と、Ｘr〔ｉ〕（ｉ＝１，
２，３，…，ｎ）が設定され、クロック発生器１が一定
時間Δｔ毎に周期的に発生するクロック信号に従って位
置指令信号Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕をウエハ位置制御部１
０とレチクル位置制御部２０にそれぞれ出力する。
【００５０】微分器１７，２７は目標位置Ｘw〔ｉ〕，
Ｘr〔ｉ〕から例えば以下の演算式でステージ速度Ｖ
w〔ｉ〕とＶr〔ｉ〕をそれぞれ演算し、位置オフセット
演算部１８，２８へそれぞれ出力する。
Ｘr〔ｉ〕から例えば以下の演算式でステージ速度Ｖ
w〔ｉ〕とＶr〔ｉ〕をそれぞれ演算し、位置オフセット
演算部１８，２８へそれぞれ出力する。
【００５１】 Ｖw〔ｉ〕＝（Ｘw〔ｉ〕−Ｘw〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｖr〔ｉ〕＝（Ｘr〔ｉ〕−Ｘr〔ｉ−１〕）／Δｔ
【００５２】その他の構成、機能、及び信号は図１の実
施例と同じであるので、ここでは説明を省略する。
施例と同じであるので、ここでは説明を省略する。
【００５３】図３は本発明の他の実施例に係る移動体の
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図３にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例では、図６の構成に対し
て、位置オフセット出力部３１，３２、及び減算器１
９，２９を付加したものとなっている。
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図３にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例では、図６の構成に対し
て、位置オフセット出力部３１，３２、及び減算器１
９，２９を付加したものとなっている。
【００５４】位置指令列出力部２には、上位のコンピュ
ーターで演算された露光領域の目標位置指令列Ｘ
w〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）と、Ｘr〔ｉ〕（ｉ
＝１，２，３，…，ｎ）が設定される。
ーターで演算された露光領域の目標位置指令列Ｘ
w〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，ｎ）と、Ｘr〔ｉ〕（ｉ
＝１，２，３，…，ｎ）が設定される。
【００５５】露光領域の目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕，Ｘr
〔ｉ〕が一定の移動速度Ｖw，Ｖrであれば、位置オフセ
ットＯw，Ｏrも一定値となるので、オフセット出力部３
１，３２には上位のコンピューターで例えば以下の演算
式で演算した位置オフセットＯw，Ｏrが設定される。
〔ｉ〕が一定の移動速度Ｖw，Ｖrであれば、位置オフセ
ットＯw，Ｏrも一定値となるので、オフセット出力部３
１，３２には上位のコンピューターで例えば以下の演算
式で演算した位置オフセットＯw，Ｏrが設定される。
【００５６】 Ｖw〔ｉ〕＝（Ｘw〔ｉ〕−Ｘw〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｖr〔ｉ〕＝（Ｘr〔ｉ〕−Ｘr〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｏw＝Ｖw×Ｔ（Ｖw） Ｏr＝Ｖr×Ｔ（Ｖr）
【００５７】もし、位置検出遅れ時間Ｔ（Ｖ）がステー
ジ速度Ｖに依存しない一定時間Ｔpである位置計測器を
用いた場合は上記の式は以下の様に書き換えられる。
ジ速度Ｖに依存しない一定時間Ｔpである位置計測器を
用いた場合は上記の式は以下の様に書き換えられる。
【００５８】Ｏw＝Ｖw×Ｔp Ｏr＝Ｖr×Ｔｐ
【００５９】図４は本発明の他の実施例に係る移動体の
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図４にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例では、その構成は図６の
ものと同じであるが、位置指令出力部２から出力される
目標位置指令がＸｗ’，Ｘr'に補正されたものになって
いる点が図６の例と異なっている。
位置制御装置の構成を示すブロック図である。図４にお
いて、図６と同一の符号を付したものは、図６の例と同
一の構成要素を示す。本実施例では、その構成は図６の
ものと同じであるが、位置指令出力部２から出力される
目標位置指令がＸｗ’，Ｘr'に補正されたものになって
いる点が図６の例と異なっている。
【００６０】不図示の上位のコンピューターで演算され
る露光領域の目標位置指令列をＸw〔ｉ〕（ｉ＝１，
２，３，…，ｎ），Ｘr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，
ｎ）とすると、移動速度Ｖw〔ｉ〕，Ｖr〔ｉ〕、および
位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を例えば以下の演
算式で演算し、目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕を
補正した目標位置指令列Ｘw'〔ｉ〕，Ｘr'〔ｉ〕に書き
換えている。
る露光領域の目標位置指令列をＸw〔ｉ〕（ｉ＝１，
２，３，…，ｎ），Ｘr〔ｉ〕（ｉ＝１，２，３，…，
ｎ）とすると、移動速度Ｖw〔ｉ〕，Ｖr〔ｉ〕、および
位置オフセットＯw〔ｉ〕，Ｏr〔ｉ〕を例えば以下の演
算式で演算し、目標位置指令列Ｘw〔ｉ〕，Ｘr〔ｉ〕を
補正した目標位置指令列Ｘw'〔ｉ〕，Ｘr'〔ｉ〕に書き
換えている。
【００６１】 Ｖw〔ｉ〕＝（Ｘw〔ｉ〕−Ｘw〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｖr〔ｉ〕＝（Ｘr〔ｉ〕−Ｘr〔ｉ−１〕）／Δｔ Ｏw＝Ｖw×Ｔ（Ｖw） Ｏr＝Ｖr×Ｔ（Ｖr） Ｘw'〔ｉ〕＝Ｘw〔ｉ〕−Ｏw〔ｉ〕＝Ｘw〔ｉ〕−Ｖ
w〔ｉ〕×Ｔ（Ｖw） Ｘr'〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｏr〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｖ
r〔ｉ〕×Ｔ（Ｖr）
w〔ｉ〕×Ｔ（Ｖw） Ｘr'〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｏr〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｖ
r〔ｉ〕×Ｔ（Ｖr）
【００６２】もし、位置検出遅れ時間Ｔ（Ｖ）がステー
ジ速度Ｖに依存しない一定時間Ｔpである位置計測器を
用いた場合は上記の式は以下の様に書き換えられる。
ジ速度Ｖに依存しない一定時間Ｔpである位置計測器を
用いた場合は上記の式は以下の様に書き換えられる。
【００６３】Ｘw'〔ｉ〕＝Ｘw〔ｉ〕−Ｏw〔ｉ〕＝Ｘw
〔ｉ〕−Ｖw〔ｉ〕×Ｔp Ｘr'〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｏr〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｖ
r〔ｉ〕×Ｔp
〔ｉ〕−Ｖw〔ｉ〕×Ｔp Ｘr'〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｏr〔ｉ〕＝Ｘr〔ｉ〕−Ｖ
r〔ｉ〕×Ｔp
【００６４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
位置計測器の応答遅れによって発生する位置検出誤差量
を求め、これを移動体の目標位置の補正量として与える
ことによって、移動中の移動体の位置制御性能を向上す
ることが可能となる。従って、本発明によれば、所謂ス
テップアンドスキャンタイプの半導体露光装置のスキャ
ン露光等で、複数の移動体の位置の同期制御性能を向上
することが可能になり、半導体露光装置の露光性能の向
上を計ることが可能となる。
位置計測器の応答遅れによって発生する位置検出誤差量
を求め、これを移動体の目標位置の補正量として与える
ことによって、移動中の移動体の位置制御性能を向上す
ることが可能となる。従って、本発明によれば、所謂ス
テップアンドスキャンタイプの半導体露光装置のスキャ
ン露光等で、複数の移動体の位置の同期制御性能を向上
することが可能になり、半導体露光装置の露光性能の向
上を計ることが可能となる。
【図１】本発明の一実施例に係る位置制御装置の構成を
示すブロック図。
示すブロック図。
【図２】本発明の他の実施例に係る位置制御装置の構成
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図３】本発明の更に他の実施例に係る位置制御装置の
構成を示すブロック図。
構成を示すブロック図。
【図４】本発明の更に他の実施例に係る位置制御装置の
構成を示すブロック図。
構成を示すブロック図。
【図５】本発明が適用可能な半導体製造用露光装置の構
成を表す概念図。
成を表す概念図。
【図６】従来の位置制御装置の構成を示すブロック図。
１ クロック発生器 ２ 位置指令列出力部 ３ 倍率補正演算部 ４，１１，２１ 減算器 １０ ウエハステージ位置制御部 ２０ レチクルステージ位置制御部 １２，２２ 位置アンプ １３，２３ ドライバアンプ １４，２４，４３ モータ １５ ウエハステージ ２５ レチクルステージ １６，２６ 位置計測器 １７，２７ 微分器 １８，２８ 位置オフセット演算部 １９，２９ 減算器 ３１，３２ 位置オフセット出力部 ４１ 露光光源 ４２ シャッター ４４ 光学エレメント ４５ 平面ミラー ４６ フォトセンサ ４７ コンデンサレンズ ４８ レチクル ４９ 縮小投影レンズ ５０ ウエハ ５１ ウエハチャック ５２，５３ バーミラー ５４，５５ レーザー干渉計 Δt クロック信号 Ｘw ウエハステージ目標位置指令信号 Ｘr レチクルステージ目標位置指令信号 Ｐw ウエハステージ現在位置信号 Ｐr レチクルステージ現在位置信号 Ｖw ウエハステージ現在速度信号 Ｖr レチクルステージ現在速度信号 Ｏw ウエハステージ位置オフセット信号 Ｏr レチクルステージ位置オフセット信号 Ｅw ウエハステージ位置エラー信号 Ｅr レチクルステージ位置エラー信号 Ｃw ウエハステージ電流指令信号 Ｃr レチクルステージ電流指令信号 Ｉw ウエハステージモータ電流 Ｉr レチクルステージモータ電流 Ｔw ウエハステージモータトルク Ｔr レチクルステージモータトルク
Claims (13)
- 【請求項１】 移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御方法において、前記移動体の現在位置
を位置計測器で計測し、前記位置計測器の検出遅れによ
る前記移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を前記移
動体の現在位置の補正量として目標指令信号に減算もし
くは現在位置信号に加算することを特徴とする位置制御
方法。 - 【請求項２】 移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御方法において、前記移動体の現在位置
を位置計測器で計測し、前記位置計測器の検出遅れによ
る現在位置の検出誤差量を前記一定周期で発生する目標
位置から予め求め、前記移動体を一定周期で発生する目
標位置に制御する際、補正後の目標位置で制御すること
によって前記位置計測器の検出遅れをキャンセルするこ
とを特徴とする位置制御方法。 - 【請求項３】 前記補正量を前記移動体の移動速度から
求めることを特徴とする請求項１または２に記載の位置
制御方法。 - 【請求項４】 前記補正量を前記一定周期で発生する目
標位置の移動速度から求めることを特徴とする請求項１
または２に記載の位置制御方法。 - 【請求項５】 前記移動体は複数であり、前記移動体の
それぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一方
は前記補正量が減算された目標指令信号に応じて移動制
御されることを特徴とする請求項１または２に記載の位
置制御方法。 - 【請求項６】 前記移動体の一方は半導体製造用のレチ
クルを保持するレチクルステージであり、他方は半導体
ウエハを保持するウエハステージであることを特徴とす
る請求項５に記載の位置制御方法。 - 【請求項７】 移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御装置において、前記移動体の現在位置
を計測する位置計測器と、前記位置計測器の検出遅れに
よる前記移動体の現在位置の検出誤差に応じた値を前記
移動体の現在位置の補正量として目標指令信号に減算も
しくは現在位置信号に加算する手段を有することを特徴
とする位置制御装置。 - 【請求項８】 移動体を一定周期で発生する目標位置に
制御する位置制御装置において、前記移動体の現在位置
を計測する位置計測器と、前記位置計測器の検出遅れに
よる現在位置の検出誤差量を前記一定周期で発生する目
標位置から予め求め、前記移動体を一定周期で発生する
目標位置に制御する際、補正後の目標位置で制御するこ
とによって前記位置計測器の検出遅れをキャンセルする
制御手段を有することを特徴とする位置制御装置。 - 【請求項９】 前記補正量を前記移動体の移動速度から
求めることを特徴とする請求項７または８に記載の位置
制御装置。 - 【請求項１０】 前記補正量を前記一定周期で発生する
目標位置の移動速度から求めることを特徴とする請求項
７または８に記載の位置制御装置。 - 【請求項１１】 前記移動体は複数であり、前記移動体
のそれぞれは同期駆動され、前記移動体の少なくとも一
方は前記補正量が減算された目標指令信号に応じて移動
が制御されることを特徴とする請求項７または８に記載
の位置制御装置。 - 【請求項１２】 前記移動体の一方は半導体製造用のレ
チクルを保持するレチクルステージであり、他方は半導
体ウエハを保持するウエハステージであることを特徴と
する請求項１１に記載の位置制御装置。 - 【請求項１３】 レチクルステージ上に保持されている
レチクルのパターンをウエハステージ上に保持されてい
るウエハに露光転写する半導体製造装置において、前記
レチクルステージの現在位置を計測するレチクル側計測
器と、前記ウエハステージの現在位置を計測するウエハ
側計測器と、前記レチクル側計測器の検出遅れによる前
記レチクルステージの現在位置の検出誤差に応じた値を
前記レチクルステージの現在位置の補正量としてレチク
ル側目標指令信号に減算もしくはレチクル側現在位置信
号に加算する第１手段と、前記ウエハ側計測器の検出遅
れによる前記ウエハステージの現在位置の検出誤差に応
じた値を前記ウエハステージの現在位置の補正量として
ウエハ側目標指令信号に減算もしくはウエハ側現在位置
信号に加算する第２手段と、前記レチクル側目標指令信
号と前記ウエハ側目標指令信号を出力して前記レチクル
ステージと前記ウエハステージを同期駆動する制御手段
を有することを特徴とする半導体製造装置。
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