JP2003224059A - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
- Publication number
- JP2003224059A JP2003224059A JP2002021887A JP2002021887A JP2003224059A JP 2003224059 A JP2003224059 A JP 2003224059A JP 2002021887 A JP2002021887 A JP 2002021887A JP 2002021887 A JP2002021887 A JP 2002021887A JP 2003224059 A JP2003224059 A JP 2003224059A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser interferometer
- stage
- position measuring
- measuring means
- error
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02021—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different faces of object, e.g. opposite faces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
- G01B9/02072—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 バーミラーの表面加工精度のばらつき等の確
定的な要素による誤差を取り除き、レーザ干渉計の切り
換えの際の空気のゆらぎ等の不確定な要素による誤差蓄
積を防ぐ、高速、広範囲かつ高精度な位置決めステージ
装置を提供する。 【解決手段】 第１の位置計測手段であるＸ１レーザ干
渉計５ａと第２の位置計測手段であるＸ２レーザ干渉計
５ｂを切り換える際、少なくとも２つの位置計測手段が
有効になる場所において、今まで有効であったＸ１レー
ザ干渉計５ａから、これから有効になるＸ２レーザ干渉
計５ｂに値を引き継ぐときに、Ｘバーミラー３の平面度
の影響による誤差および／または空気のゆらぎによる誤
差を、Ｘバーミラー３の補正関数および／またはテーブ
ル、計測値の平均値等から求め、これから有効になるＸ
２レーザ干渉計５ｂの値を演算装置９等による補正手段
により補正する。
定的な要素による誤差を取り除き、レーザ干渉計の切り
換えの際の空気のゆらぎ等の不確定な要素による誤差蓄
積を防ぐ、高速、広範囲かつ高精度な位置決めステージ
装置を提供する。 【解決手段】 第１の位置計測手段であるＸ１レーザ干
渉計５ａと第２の位置計測手段であるＸ２レーザ干渉計
５ｂを切り換える際、少なくとも２つの位置計測手段が
有効になる場所において、今まで有効であったＸ１レー
ザ干渉計５ａから、これから有効になるＸ２レーザ干渉
計５ｂに値を引き継ぐときに、Ｘバーミラー３の平面度
の影響による誤差および／または空気のゆらぎによる誤
差を、Ｘバーミラー３の補正関数および／またはテーブ
ル、計測値の平均値等から求め、これから有効になるＸ
２レーザ干渉計５ｂの値を演算装置９等による補正手段
により補正する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置等
にて用いることが可能な非常に高精度で広範囲に渡って
駆動が可能な位置決めステージ装置に関するものであ
る。
にて用いることが可能な非常に高精度で広範囲に渡って
駆動が可能な位置決めステージ装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置において、現在主流であ
るステップ・アンド・リピート方式露光装置（ステッ
パ）においては、被露光資材である基板（以下、ウエハ
と称す）を所定の場所に位置決めし、静止させた状態で
露光したいパターンの描画された原版（以下、レチクル
と称す）を通った光（露光光）を、投影光学系（レン
ズ）にて一定の比率で縮小し、ウエハ上に塗られた感光
剤（フォトレジスト）を感光させ、レチクルのパターン
をウエハに転写する。これを、ウエハ全面に渡って繰り
返し行うものである。また、ステップ・アンド・スキャ
ン方式露光装置（スキャナ）は、ウエハを静止して一括
露光するステッパに対し、ウエハおよびレチクルを同期
走査（スキャン）させながら、より広い領域を露光する
ものである。
るステップ・アンド・リピート方式露光装置（ステッ
パ）においては、被露光資材である基板（以下、ウエハ
と称す）を所定の場所に位置決めし、静止させた状態で
露光したいパターンの描画された原版（以下、レチクル
と称す）を通った光（露光光）を、投影光学系（レン
ズ）にて一定の比率で縮小し、ウエハ上に塗られた感光
剤（フォトレジスト）を感光させ、レチクルのパターン
をウエハに転写する。これを、ウエハ全面に渡って繰り
返し行うものである。また、ステップ・アンド・スキャ
ン方式露光装置（スキャナ）は、ウエハを静止して一括
露光するステッパに対し、ウエハおよびレチクルを同期
走査（スキャン）させながら、より広い領域を露光する
ものである。
【０００３】このとき、ウエハを搬送する位置決めステ
ージ装置（以下、ウエハステージと称す）は、２次元平
面（ＸＹ平面）を任意の場所に、高精度かつ広範囲に渡
って駆動されることが要求される。それは、半導体回路
の微細化が進むにつれ、必要とされる精度はますます厳
しいものとなっていることによる。同時に、ウエハの大
口径化や、ウエハを交換するための交換位置への駆動、
ウエハに露光されたマークを露光位置以外で計測する場
合におけるステージ駆動等、ウエハステージが駆動を行
う領域も非常に広範囲に渡る必要があるためである。
ージ装置（以下、ウエハステージと称す）は、２次元平
面（ＸＹ平面）を任意の場所に、高精度かつ広範囲に渡
って駆動されることが要求される。それは、半導体回路
の微細化が進むにつれ、必要とされる精度はますます厳
しいものとなっていることによる。同時に、ウエハの大
口径化や、ウエハを交換するための交換位置への駆動、
ウエハに露光されたマークを露光位置以外で計測する場
合におけるステージ駆動等、ウエハステージが駆動を行
う領域も非常に広範囲に渡る必要があるためである。
【０００４】ウエハステージの位置検出には、レーザ干
渉計が一般的に用いられている。このレーザ干渉計を２
次元に配置することにより、ウエハステージの２次元位
置を常に計測することができる。つまり、図２のよう
に、ウエハステージ１には、Ｘ軸計測用の平面鏡（以
下、バーミラーと称す）が、Ｙ軸方向に長く搭載されて
いる。ここで、図２は従来例に係る２次元平面移動可能
なウエハステージ装置の要部概略図である。Ｘ軸方向の
ウエハステージ１の位置を計測するＸレーザ干渉計５
は、Ｘ軸に平行にレーザ光をＸバーミラー３に当て、返
ってきた反射光と基準光を干渉させることによりウエハ
ステージ１の相対的な駆動量を検出している。Ｙ軸方向
のウエハステージ１の位置計測も同様である。また、Ｘ
軸またはＹ軸のどちらか、または、両方のレーザ干渉計
５，４を２つ用意することで、ウエハステージ１のＺ軸
周りの回転角（θ）も検出することができる。
渉計が一般的に用いられている。このレーザ干渉計を２
次元に配置することにより、ウエハステージの２次元位
置を常に計測することができる。つまり、図２のよう
に、ウエハステージ１には、Ｘ軸計測用の平面鏡（以
下、バーミラーと称す）が、Ｙ軸方向に長く搭載されて
いる。ここで、図２は従来例に係る２次元平面移動可能
なウエハステージ装置の要部概略図である。Ｘ軸方向の
ウエハステージ１の位置を計測するＸレーザ干渉計５
は、Ｘ軸に平行にレーザ光をＸバーミラー３に当て、返
ってきた反射光と基準光を干渉させることによりウエハ
ステージ１の相対的な駆動量を検出している。Ｙ軸方向
のウエハステージ１の位置計測も同様である。また、Ｘ
軸またはＹ軸のどちらか、または、両方のレーザ干渉計
５，４を２つ用意することで、ウエハステージ１のＺ軸
周りの回転角（θ）も検出することができる。
【０００５】これらのレーザ干渉計５，４から得られた
位置情報を元に、リニアモータ等のアクチュエータ（不
図示）を２次元に配置することによって、ウエハステー
ジ１を所定の場所に駆動することができる。
位置情報を元に、リニアモータ等のアクチュエータ（不
図示）を２次元に配置することによって、ウエハステー
ジ１を所定の場所に駆動することができる。
【０００６】ウエハステージ１がＸ方向に駆動される場
合は、Ｘレーザ干渉計５によってＸ軸への駆動量を常に
計測すると同時に、Ｙレーザ干渉計４はＹバーミラー２
の別の場所を計測することで、やはりＹ軸の位置も常に
計測することが可能である。よって、ウエハステージ１
のＸＹ位置が計測可能な範囲は、ＸＹ軸のバーミラー
３，２の長さによって決定され、また計測の精度は、バ
ーミラー３，２の平面加工精度の影響を受けてしまう問
題が存在する。
合は、Ｘレーザ干渉計５によってＸ軸への駆動量を常に
計測すると同時に、Ｙレーザ干渉計４はＹバーミラー２
の別の場所を計測することで、やはりＹ軸の位置も常に
計測することが可能である。よって、ウエハステージ１
のＸＹ位置が計測可能な範囲は、ＸＹ軸のバーミラー
３，２の長さによって決定され、また計測の精度は、バ
ーミラー３，２の平面加工精度の影響を受けてしまう問
題が存在する。
【０００７】ウエハステージの位置決め精度を向上させ
るには、これらのバーミラーの加工精度を非常に高精度
に行う必要がある。しかし、前述のように、ウエハステ
ージの駆動範囲も広範囲になるにつれ、バーミラーに必
要とされる長さも長くなってしまう。これだけの長いバ
ーミラーの全面に渡るｎｍオーダの加工を行うのは、非
常に困難である。
るには、これらのバーミラーの加工精度を非常に高精度
に行う必要がある。しかし、前述のように、ウエハステ
ージの駆動範囲も広範囲になるにつれ、バーミラーに必
要とされる長さも長くなってしまう。これだけの長いバ
ーミラーの全面に渡るｎｍオーダの加工を行うのは、非
常に困難である。
【０００８】そこで、ウエハ交換位置やウエハマーク計
測位置のように、ウエハステージを長距離駆動する必要
が生じた場合、その位置を計測するために、別のレーザ
干渉計を用意する方法が提案されている。
測位置のように、ウエハステージを長距離駆動する必要
が生じた場合、その位置を計測するために、別のレーザ
干渉計を用意する方法が提案されている。
【０００９】図３は、従来例に係る同一方向に複数のス
テージ位置計測用レーザ干渉計を設置して切り換え可能
にしたウエハステージ装置の要部概略図である。図３に
おいて、図２と同一の符号は図２と同様の構成要素を示
す。図３を用いて説明すると、ウエハステージ１は、通
常はＸ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計４によ
って２次元に位置計測されている。ウエハステージ１が
ウエハ交換のため、Ｙ方向に長距離移動しなければなら
ない場合、Ｘ１レーザ干渉計５ａに平行かつ距離Ｌだけ
離れた場所に設置されたＸ２レーザ干渉計５ｂにて位置
計測することが可能である。このように、レーザ干渉計
をある距離だけ離れて設置することで、Ｘバーミラー３
よりも長い距離をウエハステージ１は駆動することがで
きる。
テージ位置計測用レーザ干渉計を設置して切り換え可能
にしたウエハステージ装置の要部概略図である。図３に
おいて、図２と同一の符号は図２と同様の構成要素を示
す。図３を用いて説明すると、ウエハステージ１は、通
常はＸ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計４によ
って２次元に位置計測されている。ウエハステージ１が
ウエハ交換のため、Ｙ方向に長距離移動しなければなら
ない場合、Ｘ１レーザ干渉計５ａに平行かつ距離Ｌだけ
離れた場所に設置されたＸ２レーザ干渉計５ｂにて位置
計測することが可能である。このように、レーザ干渉計
をある距離だけ離れて設置することで、Ｘバーミラー３
よりも長い距離をウエハステージ１は駆動することがで
きる。
【００１０】レーザ干渉計は、相対移動距離を計測する
ためのものであるため、常に反射光が戻ってくる状態で
ないと、正しい位置計測は行われない。つまり、一度レ
ーザ光がバーミラーから外れて反射光が戻ってこない状
態になると、それ以降は計測不能となってしまう。そし
て、次にバーミラーに当たって反射光が戻ってきた状態
になった場合、レーザ干渉計をリセットする必要があ
り、Ｘ軸およびＹ軸のレーザ干渉計は、絶対的なセンサ
を用いてリセットを行う。
ためのものであるため、常に反射光が戻ってくる状態で
ないと、正しい位置計測は行われない。つまり、一度レ
ーザ光がバーミラーから外れて反射光が戻ってこない状
態になると、それ以降は計測不能となってしまう。そし
て、次にバーミラーに当たって反射光が戻ってきた状態
になった場合、レーザ干渉計をリセットする必要があ
り、Ｘ軸およびＹ軸のレーザ干渉計は、絶対的なセンサ
を用いてリセットを行う。
【００１１】図３より、例えば、ウエハステージ１の位
置をＸ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計４が計
測できる範囲内の所定の位置に、フォトスイッチ等をＸ
軸およびＹ軸に配置し、これをウエハステージ１が横切
った瞬間、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計
４をリセットする。この後は、レーザ干渉計５ａ，４に
反射光が戻ってくる間は、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよび
Ｙレーザ干渉計４によりウエハステージ１の２次元の位
置を計測する。
置をＸ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計４が計
測できる範囲内の所定の位置に、フォトスイッチ等をＸ
軸およびＹ軸に配置し、これをウエハステージ１が横切
った瞬間、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＹレーザ干渉計
４をリセットする。この後は、レーザ干渉計５ａ，４に
反射光が戻ってくる間は、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよび
Ｙレーザ干渉計４によりウエハステージ１の２次元の位
置を計測する。
【００１２】ウエハステージ１がウエハ交換位置等に駆
動される際に、Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測範囲を外れ
る場合は、ウエハステージ１のＸ位置計測をＸ２レーザ
干渉計５ｂで行う必要がある。このとき、Ｘ１レーザ干
渉計５ａとＸ２レーザ干渉計５ｂの間隔ＬをＸバーミラ
ー３よりも短くすることにより、Ｘ１レーザ干渉計５ａ
とＸ２レーザ干渉計５ｂが同時に位置計測できる場所を
確保しておく。Ｘ位置計測用のレーザ干渉計５ａ，５ｂ
を切り換えるとき、一度、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよび
Ｘ２レーザ干渉計５ｂがどちらも計測可能な位置にウエ
ハステージ１を駆動する。これは、Ｙレーザ干渉計４の
計測値が予め規定した値になったときでもよいし、別
途、別のセンサを設けてもよい。ここで、Ｘ２レーザ干
渉計５ｂをリセットするのだが、このときＸ１レーザ干
渉計５ａの値をＸ２レーザ干渉計５ｂに引き継ぐこと
で、ウエハステージ１のＸ位置がどこであっても、Ｘ１
レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干渉計５ｂへ切り換え
を行うことができる。以降、Ｘ１レーザ干渉計５ａが計
測不能になっても、Ｘ２レーザ干渉計５ｂによりウエハ
ステージ１のＸ位置を計測することができ、あたかも、
Ｘバーミラー３よりも長い距離を自由にウエハステージ
１が駆動しているように振る舞うことができる。なお、
レーザ干渉計をＸ２レーザ干渉計５ｂからＸ１レーザ干
渉計５ａに切り換えるときも、同様に行えばよい。
動される際に、Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測範囲を外れ
る場合は、ウエハステージ１のＸ位置計測をＸ２レーザ
干渉計５ｂで行う必要がある。このとき、Ｘ１レーザ干
渉計５ａとＸ２レーザ干渉計５ｂの間隔ＬをＸバーミラ
ー３よりも短くすることにより、Ｘ１レーザ干渉計５ａ
とＸ２レーザ干渉計５ｂが同時に位置計測できる場所を
確保しておく。Ｘ位置計測用のレーザ干渉計５ａ，５ｂ
を切り換えるとき、一度、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよび
Ｘ２レーザ干渉計５ｂがどちらも計測可能な位置にウエ
ハステージ１を駆動する。これは、Ｙレーザ干渉計４の
計測値が予め規定した値になったときでもよいし、別
途、別のセンサを設けてもよい。ここで、Ｘ２レーザ干
渉計５ｂをリセットするのだが、このときＸ１レーザ干
渉計５ａの値をＸ２レーザ干渉計５ｂに引き継ぐこと
で、ウエハステージ１のＸ位置がどこであっても、Ｘ１
レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干渉計５ｂへ切り換え
を行うことができる。以降、Ｘ１レーザ干渉計５ａが計
測不能になっても、Ｘ２レーザ干渉計５ｂによりウエハ
ステージ１のＸ位置を計測することができ、あたかも、
Ｘバーミラー３よりも長い距離を自由にウエハステージ
１が駆動しているように振る舞うことができる。なお、
レーザ干渉計をＸ２レーザ干渉計５ｂからＸ１レーザ干
渉計５ａに切り換えるときも、同様に行えばよい。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従来例にて説明したよ
うに、Ｙ方向に長距離駆動が必要なウエハステージにお
いて、Ｘレーザ干渉計を複数設置（Ｘ１およびＸ２レー
ザ干渉計）し、これらを切り換えて使用することでバー
ミラーよりも長い距離を駆動させることが可能となる。
ここで、Ｘ軸の位置計測を、Ｘ１レーザ干渉計からＸ２
レーザ干渉計に切り換えるときは、Ｘ１およびＸ２レー
ザ干渉計が同時に計測可能な位置にウエハステージを駆
動し、Ｘ２レーザ干渉計をリセットすると同時に、Ｘ１
レーザ干渉計の計測値をＸ２レーザ干渉計に引き継げば
よかった。
うに、Ｙ方向に長距離駆動が必要なウエハステージにお
いて、Ｘレーザ干渉計を複数設置（Ｘ１およびＸ２レー
ザ干渉計）し、これらを切り換えて使用することでバー
ミラーよりも長い距離を駆動させることが可能となる。
ここで、Ｘ軸の位置計測を、Ｘ１レーザ干渉計からＸ２
レーザ干渉計に切り換えるときは、Ｘ１およびＸ２レー
ザ干渉計が同時に計測可能な位置にウエハステージを駆
動し、Ｘ２レーザ干渉計をリセットすると同時に、Ｘ１
レーザ干渉計の計測値をＸ２レーザ干渉計に引き継げば
よかった。
【００１４】しかし、実際にはバーミラーは全くの平面
ではなく、ある程度の表面の加工精度によるばらつきが
ある（確定的な要素）。よって、レーザ光が当たる場所
によって、その誤差は異なる。図４は、従来例に係る複
数のレーザ干渉計の切り換えに伴うウエハステージ装置
の位置計測の誤差を説明する図である。図４において、
Ｘバーミラー３の平面形状によって生じる誤差は、Ｙ位
置に依存した関数となり、数１によって表される。
ではなく、ある程度の表面の加工精度によるばらつきが
ある（確定的な要素）。よって、レーザ光が当たる場所
によって、その誤差は異なる。図４は、従来例に係る複
数のレーザ干渉計の切り換えに伴うウエハステージ装置
の位置計測の誤差を説明する図である。図４において、
Ｘバーミラー３の平面形状によって生じる誤差は、Ｙ位
置に依存した関数となり、数１によって表される。
【００１５】
【数１】
ここで、ΔｘはＸ方向の誤差、ｙはステージのＹ位置を
それぞれ示す。
それぞれ示す。
【００１６】仮に、Ｘ１レーザ干渉計５ａはＹ＝０位置
を計測しているものとし、Ｘ２レーザ干渉計５ｂはＸ１
レーザ干渉計５ａから距離Ｌだけ離れているとすれば、
Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干渉計５ｂの誤
差はそれぞれ数２のように表される。
を計測しているものとし、Ｘ２レーザ干渉計５ｂはＸ１
レーザ干渉計５ａから距離Ｌだけ離れているとすれば、
Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干渉計５ｂの誤
差はそれぞれ数２のように表される。
【００１７】
【数２】
【００１８】従って、Ｘ１レーザ干渉計５ａとＸ２レー
ザ干渉計５ｂとによる位置計測では、（Δｘ１−Δｘ
２）だけ誤差が異なることになり、Ｘ１レーザ干渉計５
ａからＸ２レーザ干渉計５ｂへ計測値をそのまま引き継
ぐと、この量だけ誤差となる。これがウエハ交換のとき
のように、精度に余裕があるときならよいが、露光領域
内でレーザ干渉計の切り換えを行う場合、あるいは、オ
フ・アクシス・スコープ等を用いて露光領域外で高精度
なマーク計測（アライメント）を行う場合等は、この切
り換えに伴う誤差（Δｘ１−Δｘ２）は、無視できなく
なってくる。
ザ干渉計５ｂとによる位置計測では、（Δｘ１−Δｘ
２）だけ誤差が異なることになり、Ｘ１レーザ干渉計５
ａからＸ２レーザ干渉計５ｂへ計測値をそのまま引き継
ぐと、この量だけ誤差となる。これがウエハ交換のとき
のように、精度に余裕があるときならよいが、露光領域
内でレーザ干渉計の切り換えを行う場合、あるいは、オ
フ・アクシス・スコープ等を用いて露光領域外で高精度
なマーク計測（アライメント）を行う場合等は、この切
り換えに伴う誤差（Δｘ１−Δｘ２）は、無視できなく
なってくる。
【００１９】また、空気のゆらぎの影響等を受け、レー
ザ干渉計の値そのものがだまされている（誤差を含んで
いる）場合、これは不確定な要素であるため予測ができ
ない。さらに、Ｘ１レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干
渉計５ｂに切り換える瞬間に、Δｘ（１）だけＸ１レー
ザ干渉計５ａが誤差を有したとする。この場合、このＸ
１レーザ干渉計５ａの誤差量がＸ２レーザ干渉計５ｂに
引き継がれてしまう。逆に、Ｘ２レーザ干渉計５ｂから
Ｘ１レーザ干渉計５ａへ切り換える時もΔｘ（２）だけ
誤差を有するとすると、Ｘ１レーザ干渉計５ａの誤差は
Δｘ（１）＋Δｘ（２）となり、レーザ干渉計の切り換
えを行う度に誤差が蓄積してしまう。
ザ干渉計の値そのものがだまされている（誤差を含んで
いる）場合、これは不確定な要素であるため予測ができ
ない。さらに、Ｘ１レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干
渉計５ｂに切り換える瞬間に、Δｘ（１）だけＸ１レー
ザ干渉計５ａが誤差を有したとする。この場合、このＸ
１レーザ干渉計５ａの誤差量がＸ２レーザ干渉計５ｂに
引き継がれてしまう。逆に、Ｘ２レーザ干渉計５ｂから
Ｘ１レーザ干渉計５ａへ切り換える時もΔｘ（２）だけ
誤差を有するとすると、Ｘ１レーザ干渉計５ａの誤差は
Δｘ（１）＋Δｘ（２）となり、レーザ干渉計の切り換
えを行う度に誤差が蓄積してしまう。
【００２０】本発明は、上記問題に鑑みてなされたもの
であり、バーミラーの表面加工精度のばらつき等の確定
的な要素による誤差を取り除き、レーザ干渉計の切り換
えの際の空気のゆらぎ等の不確定な要素による誤差蓄積
を防ぐ、高速、広範囲かつ高精度な位置決めステージ装
置を提供することを目的とする。
であり、バーミラーの表面加工精度のばらつき等の確定
的な要素による誤差を取り除き、レーザ干渉計の切り換
えの際の空気のゆらぎ等の不確定な要素による誤差蓄積
を防ぐ、高速、広範囲かつ高精度な位置決めステージ装
置を提供することを目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
達成のため試行錯誤して検討した結果、以下の手段によ
って上記目的が達成されることを見いだし、本発明を完
成せしめた。
達成のため試行錯誤して検討した結果、以下の手段によ
って上記目的が達成されることを見いだし、本発明を完
成せしめた。
【００２２】すなわち、上記目的を達成するために、本
発明の位置決めステージ装置は、２次元平面に沿って移
動自在なステージと、該ステージを駆動する複数の駆動
手段と、該ステージの位置を計測するための複数の位置
計測手段とを備えた位置決めステージ装置において、前
記位置計測手段は少なくとも前記ステージに備えられた
計測対象となる平面鏡と干渉計とからなり、前記位置計
測手段により前記ステージの位置を計測する場合、前記
平面鏡の平面度からの確定的な要素による誤差および／
または前記位置計測手段の雰囲気からの不確定な要素に
よる誤差を補正する補正手段を有することを特徴とす
る。
発明の位置決めステージ装置は、２次元平面に沿って移
動自在なステージと、該ステージを駆動する複数の駆動
手段と、該ステージの位置を計測するための複数の位置
計測手段とを備えた位置決めステージ装置において、前
記位置計測手段は少なくとも前記ステージに備えられた
計測対象となる平面鏡と干渉計とからなり、前記位置計
測手段により前記ステージの位置を計測する場合、前記
平面鏡の平面度からの確定的な要素による誤差および／
または前記位置計測手段の雰囲気からの不確定な要素に
よる誤差を補正する補正手段を有することを特徴とす
る。
【００２３】本発明においては、前記位置決めステージ
装置は、少なくとも１軸方向の前記ステージの位置を計
測する前記位置計測手段が複数用意されており、該複数
の位置計測手段を切り換えて１軸方向の前記ステージの
位置を計測する手段を有し、前記補正手段は、前記複数
の位置計測手段を切り換える際、少なくとも２つの前記
位置計測手段である第１および第２の位置計測手段が有
効になる場所であって、今まで有効であった前記第１の
位置計測手段から、これから有効になる前記第２の位置
計測手段に値を引き継ぐときに、前記確定的な要素によ
る誤差および／または前記不確定な要素による誤差を、
補正関数および／またはテーブルから求め、これから有
効になる前記第２の位置計測手段の値を補正することが
可能である。
装置は、少なくとも１軸方向の前記ステージの位置を計
測する前記位置計測手段が複数用意されており、該複数
の位置計測手段を切り換えて１軸方向の前記ステージの
位置を計測する手段を有し、前記補正手段は、前記複数
の位置計測手段を切り換える際、少なくとも２つの前記
位置計測手段である第１および第２の位置計測手段が有
効になる場所であって、今まで有効であった前記第１の
位置計測手段から、これから有効になる前記第２の位置
計測手段に値を引き継ぐときに、前記確定的な要素によ
る誤差および／または前記不確定な要素による誤差を、
補正関数および／またはテーブルから求め、これから有
効になる前記第２の位置計測手段の値を補正することが
可能である。
【００２４】また、前記位置決めステージ装置は、今ま
で有効であった前記第１の位置計測手段、および／また
は、これから有効になる前記第２の位置計測手段が計測
を行っている間、常に、前記補正関数および／または前
記テーブルにより前記確定的な要素による誤差および／
または前記不確定な要素による誤差を補正することが好
ましい。また、前記補正手段は、少なくとも前記補正関
数および／または前記テーブルを備えることが可能な演
算装置を備え、該演算装置は前記第１および第２の位置
計測手段それぞれに専用のテーブルを有することも可能
である。
で有効であった前記第１の位置計測手段、および／また
は、これから有効になる前記第２の位置計測手段が計測
を行っている間、常に、前記補正関数および／または前
記テーブルにより前記確定的な要素による誤差および／
または前記不確定な要素による誤差を補正することが好
ましい。また、前記補正手段は、少なくとも前記補正関
数および／または前記テーブルを備えることが可能な演
算装置を備え、該演算装置は前記第１および第２の位置
計測手段それぞれに専用のテーブルを有することも可能
である。
【００２５】さらに、前記補正手段は、一定の期間また
は一定の回数、前記位置計測手段の切り替えを行った場
合、前記ステージの絶対的な位置のキャリブレーション
を行うことが好ましい。この前記キャリブレーション
は、第３の位置計測手段により前記ステージの絶対的な
位置を確認するものであり、前記キャリブレーションを
行う頻度は、位置決め精度または装置のスループットの
いずれを優先させるかで決定するものであることが好ま
しい。
は一定の回数、前記位置計測手段の切り替えを行った場
合、前記ステージの絶対的な位置のキャリブレーション
を行うことが好ましい。この前記キャリブレーション
は、第３の位置計測手段により前記ステージの絶対的な
位置を確認するものであり、前記キャリブレーションを
行う頻度は、位置決め精度または装置のスループットの
いずれを優先させるかで決定するものであることが好ま
しい。
【００２６】
【作用】以上説明した通り、レーザ干渉計を切り換える
際には、確定的な要素および不確定な要素による誤差が
発生する。請求項１に記載の位置決めステージ装置は、
確定的な要素および不確定な要素による誤差を取り除く
ための補正手段を備える。これによれば、バーミラーの
表面形状等からの確定的な要素による誤差、および／ま
たは、空気のゆらぎ等の位置計測手段の雰囲気からの不
確定な要素による誤差を、予め計測して関数化（補正関
数）等、および／または、計測値の平均化等して計測値
の補正を行い、ステージを高速・広範囲・高精度に位置
決めすることができる。
際には、確定的な要素および不確定な要素による誤差が
発生する。請求項１に記載の位置決めステージ装置は、
確定的な要素および不確定な要素による誤差を取り除く
ための補正手段を備える。これによれば、バーミラーの
表面形状等からの確定的な要素による誤差、および／ま
たは、空気のゆらぎ等の位置計測手段の雰囲気からの不
確定な要素による誤差を、予め計測して関数化（補正関
数）等、および／または、計測値の平均化等して計測値
の補正を行い、ステージを高速・広範囲・高精度に位置
決めすることができる。
【００２７】請求項２に記載の位置決めステージ装置
は、第１および第２の位置計測手段の切り換え位置にお
ける誤差を、補正関数および／またはテーブルを用い
て、それぞれ補正するものである。これによれば、第１
の位置計測手段から第２の位置計測手段に切り換えると
き、第１の位置計測手段の値を第２の位置計測手段の値
へ加算して（補正して）引き継いでもよい。
は、第１および第２の位置計測手段の切り換え位置にお
ける誤差を、補正関数および／またはテーブルを用い
て、それぞれ補正するものである。これによれば、第１
の位置計測手段から第２の位置計測手段に切り換えると
き、第１の位置計測手段の値を第２の位置計測手段の値
へ加算して（補正して）引き継いでもよい。
【００２８】請求項３に記載の位置決めステージ装置
は、第１および第２の位置計測手段がそれぞれが計測可
能である状態ならば、誤差（確定的な要素および／また
は不確定な要素による誤差）を常に補正するものであ
る。これは、各位置計測手段の切り換えの時のみでな
く、通常の状態でもステージの位置を補正関数および／
またはテーブルを用いて補正すると同時に、位置計測手
段の切り換え可能な範囲を広めに確保し、ステージを停
止させることなく、駆動した状態で位置計測手段を切り
換えるときに有効である。これにより、位置計測手段が
切り替わる正確な位置やタイミングを知らなくても、切
り換えに伴う誤差を最小限に押さえることができる。
は、第１および第２の位置計測手段がそれぞれが計測可
能である状態ならば、誤差（確定的な要素および／また
は不確定な要素による誤差）を常に補正するものであ
る。これは、各位置計測手段の切り換えの時のみでな
く、通常の状態でもステージの位置を補正関数および／
またはテーブルを用いて補正すると同時に、位置計測手
段の切り換え可能な範囲を広めに確保し、ステージを停
止させることなく、駆動した状態で位置計測手段を切り
換えるときに有効である。これにより、位置計測手段が
切り替わる正確な位置やタイミングを知らなくても、切
り換えに伴う誤差を最小限に押さえることができる。
【００２９】請求項４に記載の位置決めステージ装置
は、第１および第２の位置計測手段それぞれが補正関数
および／またはテーブルを備える。これによれば、第１
および第２の位置計測手段の誤差原因が、平面鏡（バー
ミラー）の平面度のみならず、ステージ位置に起因して
起こりうる全ての誤差原因を含め、補正することができ
る。
は、第１および第２の位置計測手段それぞれが補正関数
および／またはテーブルを備える。これによれば、第１
および第２の位置計測手段の誤差原因が、平面鏡（バー
ミラー）の平面度のみならず、ステージ位置に起因して
起こりうる全ての誤差原因を含め、補正することができ
る。
【００３０】請求項５に記載の位置決めステージ装置
は、各位置計測手段の切り換えに伴う空気のゆらぎ等の
不確定な要素による小さい誤差が、複数回切り換えが繰
り返されると誤差が蓄積して無視できなくなるため、あ
る一定の回数切り換えを行ったり、あるいは、ステージ
が空いている時間（一定の期間）を利用して、現在の正
確な位置と位置計測手段の計測値とを比較し、校正する
（キャリブレーションを行う）ものである。これによれ
ば、上記作用に加えてさらに高精度な位置決めステージ
とすることができる。
は、各位置計測手段の切り換えに伴う空気のゆらぎ等の
不確定な要素による小さい誤差が、複数回切り換えが繰
り返されると誤差が蓄積して無視できなくなるため、あ
る一定の回数切り換えを行ったり、あるいは、ステージ
が空いている時間（一定の期間）を利用して、現在の正
確な位置と位置計測手段の計測値とを比較し、校正する
（キャリブレーションを行う）ものである。これによれ
ば、上記作用に加えてさらに高精度な位置決めステージ
とすることができる。
【００３１】請求項６に記載の位置決めステージ装置
は、第３の位置計測手段（センサ等）によってキャリブ
レーションを行うものであり、第３の位置計測手段に
は、絶対的な位置計測を行うセンサ（フォトスイッチ）
等を用いてもよく、スコープによってマークを計測して
もよい。また、キャリブレーションを行う頻度は、位置
決め精度または装置のスループットのいずれを優先させ
るかで決定するものである。これによれば、ユーザの要
求に合わせて高速・広範囲・高精度な位置決めステージ
装置を構成することができる。
は、第３の位置計測手段（センサ等）によってキャリブ
レーションを行うものであり、第３の位置計測手段に
は、絶対的な位置計測を行うセンサ（フォトスイッチ）
等を用いてもよく、スコープによってマークを計測して
もよい。また、キャリブレーションを行う頻度は、位置
決め精度または装置のスループットのいずれを優先させ
るかで決定するものである。これによれば、ユーザの要
求に合わせて高速・広範囲・高精度な位置決めステージ
装置を構成することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を用いて詳細に説明する。 ［第１の実施形態］図１は、本発明の好ましい一実施形
態に係る位置決めステージ装置（半導体露光装置のウエ
ハステージ等）の要部概略図である。
て図面を用いて詳細に説明する。 ［第１の実施形態］図１は、本発明の好ましい一実施形
態に係る位置決めステージ装置（半導体露光装置のウエ
ハステージ等）の要部概略図である。
【００３３】１はウエハステージ本体である。２はＹ位
置計測用のＹバーミラーであり、Ｘ軸への駆動可能な範
囲の全てにおいてＹレーザ干渉計のレーザ光がＹバーミ
ラー２（平面鏡）に当たるよう、Ｘ方向に長く設置され
ている。４はＹ位置計測用のＹレーザ干渉計である。こ
のＹレーザ干渉計４からＹバーミラー２にレーザ光を当
て、反射光と基準光との干渉からウエハステージ１のＹ
方向の移動距離を計測する（位置計測手段を構成す
る）。通常、Ｙレーザ干渉計４は、装置の基準となる剛
体に取り付けられる。また、Ｙレーザ干渉計４を２つ平
行に配置することにより、ＸＹ平面内のウエハステージ
１のＺ軸周りの回転角θを計測することも可能である。
置計測用のＹバーミラーであり、Ｘ軸への駆動可能な範
囲の全てにおいてＹレーザ干渉計のレーザ光がＹバーミ
ラー２（平面鏡）に当たるよう、Ｘ方向に長く設置され
ている。４はＹ位置計測用のＹレーザ干渉計である。こ
のＹレーザ干渉計４からＹバーミラー２にレーザ光を当
て、反射光と基準光との干渉からウエハステージ１のＹ
方向の移動距離を計測する（位置計測手段を構成す
る）。通常、Ｙレーザ干渉計４は、装置の基準となる剛
体に取り付けられる。また、Ｙレーザ干渉計４を２つ平
行に配置することにより、ＸＹ平面内のウエハステージ
１のＺ軸周りの回転角θを計測することも可能である。
【００３４】同様に、３はＸ位置計測用のＸバーミラー
（平面鏡）であり、Ｙ方向に長く設置されている。５ａ
はウエハステージ１が露光領域にある場合に、Ｘ方向の
位置計測を行うためのＸ１レーザ干渉計である。通常、
ウエハステージ１の位置の計測は、Ｘ１レーザ干渉計５
ａ（第１の位置計測手段）で行われる。このＸ１レーザ
干渉計５ａと平行に、距離Ｌだけ離れて、Ｘ２レーザ干
渉計５ｂ（第２の位置計測手段）が設置されている。こ
のＸ２レーザ干渉計５ｂは、ウエハステージ１がウエハ
交換位置やオフ・アクシス・スコープの計測位置に配置
しているとき、ウエハステージ１のＸ位置を計測するた
めのものである。
（平面鏡）であり、Ｙ方向に長く設置されている。５ａ
はウエハステージ１が露光領域にある場合に、Ｘ方向の
位置計測を行うためのＸ１レーザ干渉計である。通常、
ウエハステージ１の位置の計測は、Ｘ１レーザ干渉計５
ａ（第１の位置計測手段）で行われる。このＸ１レーザ
干渉計５ａと平行に、距離Ｌだけ離れて、Ｘ２レーザ干
渉計５ｂ（第２の位置計測手段）が設置されている。こ
のＸ２レーザ干渉計５ｂは、ウエハステージ１がウエハ
交換位置やオフ・アクシス・スコープの計測位置に配置
しているとき、ウエハステージ１のＸ位置を計測するた
めのものである。
【００３５】Ｘバーミラー３は、Ｘ１レーザ干渉計５ａ
とＸ２レーザ干渉計５ｂの間隔Ｌよりも長く設置されて
いる。このマージンを、（ステージの移動速度）×（レ
ーザ光のリセットにかかる時間）分だけとってやれば、
Ｘ１レーザ干渉計５ａとＸ２レーザ干渉計５ｂとの切り
換え時、ウエハステージ１を停止させることなく、駆動
しながら切り換えを行うことができる。また、Ｘ位置計
測用のレーザ干渉計５ａ，５ｂを切り換えて使用するこ
とで、ウエハステージ１は、Ｘバーミラー３よりも長い
距離をＹ方向に駆動可能である。
とＸ２レーザ干渉計５ｂの間隔Ｌよりも長く設置されて
いる。このマージンを、（ステージの移動速度）×（レ
ーザ光のリセットにかかる時間）分だけとってやれば、
Ｘ１レーザ干渉計５ａとＸ２レーザ干渉計５ｂとの切り
換え時、ウエハステージ１を停止させることなく、駆動
しながら切り換えを行うことができる。また、Ｘ位置計
測用のレーザ干渉計５ａ，５ｂを切り換えて使用するこ
とで、ウエハステージ１は、Ｘバーミラー３よりも長い
距離をＹ方向に駆動可能である。
【００３６】８ａ，８ｂ，８ｃは、それぞれＹレーザ干
渉計４、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干渉計
５ｂのカウンターボードである。各レーザ干渉計４，５
ａ，５ｂの計測値は、これらのカウンターボード８ａ，
８ｂ，８ｃによりそれぞれカウントされ、演算装置９に
送られる。演算装置９は、ＤＳＰ等のプロセッサ、メモ
リ等を備えた汎用的な演算装置でよい。カウンターボー
ド８ａ，８ｂ，８ｃからそれぞれ送られてきたレーザ干
渉計の計測値は、この演算装置９でウエハステージ１の
現在位置に変換される。それと同時に、演算装置９は、
ウエハステージ１の現在位置と目標位置の差を演算し、
ウエハステージ１の駆動命令をドライバ１０に出力す
る。ドライバ１０は、演算装置９からの命令に従い、Ｙ
１リニアモータ６ａ，Ｙ２リニアモータ６ｂおよびＸリ
ニアモータ７（駆動手段）に電流を流し、ウエハステー
ジ１を、ＸＹ方向（平面方向）に駆動する。ウエハステ
ージ１は、ウエハステージ定盤１１の上をエアーべアリ
ング等によって非接触で２次元に移動可能である。ここ
で、演算装置９、ドライバ１０等により本発明における
補正手段が構成される。
渉計４、Ｘ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干渉計
５ｂのカウンターボードである。各レーザ干渉計４，５
ａ，５ｂの計測値は、これらのカウンターボード８ａ，
８ｂ，８ｃによりそれぞれカウントされ、演算装置９に
送られる。演算装置９は、ＤＳＰ等のプロセッサ、メモ
リ等を備えた汎用的な演算装置でよい。カウンターボー
ド８ａ，８ｂ，８ｃからそれぞれ送られてきたレーザ干
渉計の計測値は、この演算装置９でウエハステージ１の
現在位置に変換される。それと同時に、演算装置９は、
ウエハステージ１の現在位置と目標位置の差を演算し、
ウエハステージ１の駆動命令をドライバ１０に出力す
る。ドライバ１０は、演算装置９からの命令に従い、Ｙ
１リニアモータ６ａ，Ｙ２リニアモータ６ｂおよびＸリ
ニアモータ７（駆動手段）に電流を流し、ウエハステー
ジ１を、ＸＹ方向（平面方向）に駆動する。ウエハステ
ージ１は、ウエハステージ定盤１１の上をエアーべアリ
ング等によって非接触で２次元に移動可能である。ここ
で、演算装置９、ドライバ１０等により本発明における
補正手段が構成される。
【００３７】以上、基本的なウエハステージの構成につ
いて説明した。次に、具体的なウエハステージの駆動手
法（駆動方法）について述べる。各レーザ干渉計４，５
ａ，５ｂは、相対的な対象物の移動量を計測するため、
電源をｏｎした直後は、ウエハステージ１の位置を知る
ことができない。そのため、おおよそのウエハステージ
１の位置を知るために、絶対的な位置を計測するセンサ
（不図示）を取り付けたり、また、ある一定方向に常に
力をかけ、フォトスイッチ等を横切った瞬間、各レーザ
干渉計４，５ａ，５ｂをリセットしてもよい。この各レ
ーザ干渉計４，５ａ，５ｂのリセットをＸ１レーザ干渉
計５ａの計測範囲内で行うことにより、Ｙレーザ干渉計
４とＸ１レーザ干渉計５ａが、ウエハステージ１の位置
の計測を開始する。通常の状態では、これ以降、Ｙレー
ザ干渉計４とＸ１レーザ干渉計５ａとにより、ウエハス
テージ１の位置を常に計測することになる。このとき、
ウエハステージ１の正確な位置は、Ｘバーミラー３およ
びＹバーミラー２の平面度の影響を受ける。そのため、
この誤差を予め計測しておき、補正関数として演算装置
９のメモリに蓄えておく。そして、Ｙ位置におけるＸ誤
差、Ｘ位置におけるＹ誤差を前記補正関数から演算装置
９により計算し、Ｘレーザ干渉計５ａ，５ｂおよびＹレ
ーザ干渉計４の値を補正することで、ウエハステージ１
の正確な位置を知ることができる。
いて説明した。次に、具体的なウエハステージの駆動手
法（駆動方法）について述べる。各レーザ干渉計４，５
ａ，５ｂは、相対的な対象物の移動量を計測するため、
電源をｏｎした直後は、ウエハステージ１の位置を知る
ことができない。そのため、おおよそのウエハステージ
１の位置を知るために、絶対的な位置を計測するセンサ
（不図示）を取り付けたり、また、ある一定方向に常に
力をかけ、フォトスイッチ等を横切った瞬間、各レーザ
干渉計４，５ａ，５ｂをリセットしてもよい。この各レ
ーザ干渉計４，５ａ，５ｂのリセットをＸ１レーザ干渉
計５ａの計測範囲内で行うことにより、Ｙレーザ干渉計
４とＸ１レーザ干渉計５ａが、ウエハステージ１の位置
の計測を開始する。通常の状態では、これ以降、Ｙレー
ザ干渉計４とＸ１レーザ干渉計５ａとにより、ウエハス
テージ１の位置を常に計測することになる。このとき、
ウエハステージ１の正確な位置は、Ｘバーミラー３およ
びＹバーミラー２の平面度の影響を受ける。そのため、
この誤差を予め計測しておき、補正関数として演算装置
９のメモリに蓄えておく。そして、Ｙ位置におけるＸ誤
差、Ｘ位置におけるＹ誤差を前記補正関数から演算装置
９により計算し、Ｘレーザ干渉計５ａ，５ｂおよびＹレ
ーザ干渉計４の値を補正することで、ウエハステージ１
の正確な位置を知ることができる。
【００３８】ここで、オフ・アクシス・スコープによる
計測やウエハ交換等、ウエハステージ１がＹ方向に大き
く駆動する必要があり、Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測範
囲を超えてしまう場合を考える。この場合、Ｘ１レーザ
干渉計５ａの計測範囲内で、Ｘ２レーザ干渉計５ｂも同
時に計測可能な位置に、ウエハステージ１が来たことを
知る必要がある。これは、Ｙレーザ干渉計４の値から判
断してもよいし、別途センサを設けてもよい。その段階
で、Ｘ２レーザ干渉計５ｂをリセットする。このとき、
ウエハステージ１を静止させてもよいが、高速化のた
め、駆動しながら行うことを考える。Ｘ２レーザ干渉計
５ｂはリセットされて、計測を開始しても正しいウエハ
ステージ１のＸ位置を計測できない。そこで、今までウ
エハステージ１のＸ位置を計測していたＸ１レーザ干渉
計５ａの値を、Ｘ２レーザ干渉計５ｂに与えてやればよ
い。このとき、ウエハステージ１のθの計測系を有して
いるのであれば、θ×ＬだけＸ２レーザ干渉計５ｂの初
期値を補正することで、より正確にウエハステージ１の
Ｘ位置を引き継ぐことができる。また、空気のゆらぎの
影響等によって、Ｘ１レーザ干渉計の値そのものも誤差
が含まれている可能性がある。そこで、ある一定時間の
Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測値の中心値（平均値）を、
Ｘ２レーザ干渉計５ｂに引き継いでもよい。
計測やウエハ交換等、ウエハステージ１がＹ方向に大き
く駆動する必要があり、Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測範
囲を超えてしまう場合を考える。この場合、Ｘ１レーザ
干渉計５ａの計測範囲内で、Ｘ２レーザ干渉計５ｂも同
時に計測可能な位置に、ウエハステージ１が来たことを
知る必要がある。これは、Ｙレーザ干渉計４の値から判
断してもよいし、別途センサを設けてもよい。その段階
で、Ｘ２レーザ干渉計５ｂをリセットする。このとき、
ウエハステージ１を静止させてもよいが、高速化のた
め、駆動しながら行うことを考える。Ｘ２レーザ干渉計
５ｂはリセットされて、計測を開始しても正しいウエハ
ステージ１のＸ位置を計測できない。そこで、今までウ
エハステージ１のＸ位置を計測していたＸ１レーザ干渉
計５ａの値を、Ｘ２レーザ干渉計５ｂに与えてやればよ
い。このとき、ウエハステージ１のθの計測系を有して
いるのであれば、θ×ＬだけＸ２レーザ干渉計５ｂの初
期値を補正することで、より正確にウエハステージ１の
Ｘ位置を引き継ぐことができる。また、空気のゆらぎの
影響等によって、Ｘ１レーザ干渉計の値そのものも誤差
が含まれている可能性がある。そこで、ある一定時間の
Ｘ１レーザ干渉計５ａの計測値の中心値（平均値）を、
Ｘ２レーザ干渉計５ｂに引き継いでもよい。
【００３９】しかし、それでも、バーミラー平面度の影
響によって、Ｘ１レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干渉
計５ｂに切り換えたとき、誤差が生じてしまうことは、
先に記した。そこで、Ｘ２レーザ干渉計５ｂが計測可能
になったと同時に、バーミラー平面度の補正関数から、
誤差分を補正演算する。つまり、補正関数を、Δｘ＝Ｆ
（ｙ）とした場合、上記した数２の関数による演算値
（補正量）をＸ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干
渉計５ｂの計測値から補正すればよい。
響によって、Ｘ１レーザ干渉計５ａからＸ２レーザ干渉
計５ｂに切り換えたとき、誤差が生じてしまうことは、
先に記した。そこで、Ｘ２レーザ干渉計５ｂが計測可能
になったと同時に、バーミラー平面度の補正関数から、
誤差分を補正演算する。つまり、補正関数を、Δｘ＝Ｆ
（ｙ）とした場合、上記した数２の関数による演算値
（補正量）をＸ１レーザ干渉計５ａおよびＸ２レーザ干
渉計５ｂの計測値から補正すればよい。
【００４０】つまり、ステージの正しいＸ位置をＸｔと
し、Ｘ１レーザ干渉計５Ａの計測値をＸ１、Ｘ２レーザ
干渉計５ｂの計測値をＸ２、それぞれの誤差をΔｘ１、
Δｘ２とすると、
し、Ｘ１レーザ干渉計５Ａの計測値をＸ１、Ｘ２レーザ
干渉計５ｂの計測値をＸ２、それぞれの誤差をΔｘ１、
Δｘ２とすると、
【００４１】
【数３】
で表すことができる。よって、
【００４２】
【数４】
とすることで、バーミラーの平面度の影響を受けずに、
正しいステージＸ位置をＸ１レーザ干渉計５ＡからＸ２
レーザ干渉計５ｂへ引き継ぐことができる。
正しいステージＸ位置をＸ１レーザ干渉計５ＡからＸ２
レーザ干渉計５ｂへ引き継ぐことができる。
【００４３】また、ウエハステージ１を駆動しながら、
各レーザ干渉計５ａ，５ｂの切り換えを行う場合、Ｙ方
向へのステップの速度やＸ２レーザ干渉計５ｂのリセッ
トにかかった時間の変動により、切り換えを行うときの
ウエハステージ１のＹ位置は常に一定の場所とは限らな
い。その場合、上記補正量を、Ｘ１レーザ干渉計５ａお
よびＸ２レーザ干渉計５ｂの計測値に対して常に補正し
ておくことで、レーザ干渉計５ａ，５ｂの切り換えのＹ
位置にかかわらず、正確にウエハステージ１のＸ位置を
引き継ぐことができる。つまり、Ｘ２レーザ干渉計が計
測可能になった場合などをトリガーに、Δｘ２を常に演
算しておき、数４の演算がいつ実行されてもいいよう
に、Δｘ２を準備しておくことと同じである。同様に、
ウエハステージ１を駆動しながら、Ｘ１レーザ干渉計５
ａの計測値を平均化する場合も、常に上記補正を行えば
よい。つまり、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計５ａ、５ｂ
の平均化を行うとき、Δｘ１およびΔｘ２も同じタイミ
ングで平均化すればよい。その結果、バーミラー平面度
の影響を受けずに、正しいＸ１レーザ干渉計５ａの値を
Ｘ２レーザ干渉計５ｂに引き継ぐことができる。
各レーザ干渉計５ａ，５ｂの切り換えを行う場合、Ｙ方
向へのステップの速度やＸ２レーザ干渉計５ｂのリセッ
トにかかった時間の変動により、切り換えを行うときの
ウエハステージ１のＹ位置は常に一定の場所とは限らな
い。その場合、上記補正量を、Ｘ１レーザ干渉計５ａお
よびＸ２レーザ干渉計５ｂの計測値に対して常に補正し
ておくことで、レーザ干渉計５ａ，５ｂの切り換えのＹ
位置にかかわらず、正確にウエハステージ１のＸ位置を
引き継ぐことができる。つまり、Ｘ２レーザ干渉計が計
測可能になった場合などをトリガーに、Δｘ２を常に演
算しておき、数４の演算がいつ実行されてもいいよう
に、Δｘ２を準備しておくことと同じである。同様に、
ウエハステージ１を駆動しながら、Ｘ１レーザ干渉計５
ａの計測値を平均化する場合も、常に上記補正を行えば
よい。つまり、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計５ａ、５ｂ
の平均化を行うとき、Δｘ１およびΔｘ２も同じタイミ
ングで平均化すればよい。その結果、バーミラー平面度
の影響を受けずに、正しいＸ１レーザ干渉計５ａの値を
Ｘ２レーザ干渉計５ｂに引き継ぐことができる。
【００４４】また、上記したＸ１レーザ干渉計とＸ２レ
ーザ干渉計との切り換え時における補正は一つの誤差関
数（Ｆ関数）をＸ１およびＸ２レーザ干渉計に用いてい
るが、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計それぞれが専用の誤
差関数を持たせてもよい。つまり、一つの誤差関数を用
いた場合、Δｘ１とΔｘ２の関係は、数２の通りになる
が、それぞれ専用の誤差関数を持たせるということは、
ーザ干渉計との切り換え時における補正は一つの誤差関
数（Ｆ関数）をＸ１およびＸ２レーザ干渉計に用いてい
るが、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計それぞれが専用の誤
差関数を持たせてもよい。つまり、一つの誤差関数を用
いた場合、Δｘ１とΔｘ２の関係は、数２の通りになる
が、それぞれ専用の誤差関数を持たせるということは、
【００４５】
【数５】
というように、Ｘ１とＸ２の独立した誤差関数を、それ
ぞれ計測して、例えば図１における演算装置９のメモリ
等に備えてそれぞれ補正を行ってもよい。
ぞれ計測して、例えば図１における演算装置９のメモリ
等に備えてそれぞれ補正を行ってもよい。
【００４６】ここで、バーミラーの誤差関数は、例えば
高次の多項式などで与えてもよいが、バーミラーの形状
が複雑で高次の多項式などで近似できない場合などは、
替わりに誤差テーブルを与えてやればよい。これは、ス
テージの位置（サンプル点）における誤差を列挙した表
（テーブル）である。サンプル点の間隔を小さくすれ
ば、より精密なバーミラーの形状を忠実に表現すること
ができる。サンプル点とサンプル点の間の補間は、一次
の直線でもいいし、高次関数でなめらかに補間してもよ
い。すると、ステージ位置ｙが決定すれば、対応する誤
差Δｘ１、Δｘ２が決定するため、テーブルも広い意味
で関数として捉えてもよい。
高次の多項式などで与えてもよいが、バーミラーの形状
が複雑で高次の多項式などで近似できない場合などは、
替わりに誤差テーブルを与えてやればよい。これは、ス
テージの位置（サンプル点）における誤差を列挙した表
（テーブル）である。サンプル点の間隔を小さくすれ
ば、より精密なバーミラーの形状を忠実に表現すること
ができる。サンプル点とサンプル点の間の補間は、一次
の直線でもいいし、高次関数でなめらかに補間してもよ
い。すると、ステージ位置ｙが決定すれば、対応する誤
差Δｘ１、Δｘ２が決定するため、テーブルも広い意味
で関数として捉えてもよい。
【００４７】以上までの手法で、バーミラーの平面度の
影響による、確定的な誤差要因を除去することができ
る。しかし、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計そのものが空
気のゆらぎ等、何らかの影響（位置計測手段の雰囲気
等）で誤差を有してしまった場合、レーザ干渉計の切り
換えを行う度に、不確定な要素により誤差を有すること
になることは、先に述べた。これは、先述のように、切
り換えを行う際に、平均化を行うことである程度まで押
さえることができる。しかし、この誤差は、切り換えを
行う度に蓄積するものであり、切り換え回数が多くなる
と、無視できなくなる恐れがある。そのため、ある一定
の回数レーザ干渉計の切り換えを行った場合や、ウエハ
ステージが空いている時間、ロットの開始時等（一定の
期間）、あるきっかけでウエハステージの絶対的な位置
のキャリブレーションを行うことが望ましい（第３の位
置計測手段であるセンサ等を用いることも可能）。キャ
リブレーションを行う頻度は、精度とスループットのど
ちらを優先させるかで決定すればよい。キャリブレーシ
ョンの手段としては、ウエハステージに予め用意された
マークを、スコープ等で観察することによりウエハステ
ージの絶対的なずれ量を計測してもよいし、あるいは、
絶対的な位置を計測するセンサを用意し、ウエハステー
ジをそのセンサの計測範囲に駆動し、レーザ干渉計の値
の誤差の蓄積分を計測してもよい。
影響による、確定的な誤差要因を除去することができ
る。しかし、Ｘ１およびＸ２レーザ干渉計そのものが空
気のゆらぎ等、何らかの影響（位置計測手段の雰囲気
等）で誤差を有してしまった場合、レーザ干渉計の切り
換えを行う度に、不確定な要素により誤差を有すること
になることは、先に述べた。これは、先述のように、切
り換えを行う際に、平均化を行うことである程度まで押
さえることができる。しかし、この誤差は、切り換えを
行う度に蓄積するものであり、切り換え回数が多くなる
と、無視できなくなる恐れがある。そのため、ある一定
の回数レーザ干渉計の切り換えを行った場合や、ウエハ
ステージが空いている時間、ロットの開始時等（一定の
期間）、あるきっかけでウエハステージの絶対的な位置
のキャリブレーションを行うことが望ましい（第３の位
置計測手段であるセンサ等を用いることも可能）。キャ
リブレーションを行う頻度は、精度とスループットのど
ちらを優先させるかで決定すればよい。キャリブレーシ
ョンの手段としては、ウエハステージに予め用意された
マークを、スコープ等で観察することによりウエハステ
ージの絶対的なずれ量を計測してもよいし、あるいは、
絶対的な位置を計測するセンサを用意し、ウエハステー
ジをそのセンサの計測範囲に駆動し、レーザ干渉計の値
の誤差の蓄積分を計測してもよい。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の位置決め
ステージ装置によれば、レーザ干渉計を切り換えること
でバーミラーの長さより長い距離を駆動可能なステージ
において、レーザ干渉計の切り換えに伴うバーミラー平
面度等の確定的な要素による誤差を取り除くことが可能
である。このとき、ステージを駆動した状態でも切り換
えが可能であるため、高速、広範囲かつ高精度なステー
ジ位置制御が可能な位置決めステージ装置を提供でき
る。また、上記効果に加えて、空気ゆらぎ等による不確
定な要素による誤差がレーザ干渉計の切り換えに伴って
誤差蓄積することを防ぐ位置決めステージ装置とするこ
ともできる。
ステージ装置によれば、レーザ干渉計を切り換えること
でバーミラーの長さより長い距離を駆動可能なステージ
において、レーザ干渉計の切り換えに伴うバーミラー平
面度等の確定的な要素による誤差を取り除くことが可能
である。このとき、ステージを駆動した状態でも切り換
えが可能であるため、高速、広範囲かつ高精度なステー
ジ位置制御が可能な位置決めステージ装置を提供でき
る。また、上記効果に加えて、空気ゆらぎ等による不確
定な要素による誤差がレーザ干渉計の切り換えに伴って
誤差蓄積することを防ぐ位置決めステージ装置とするこ
ともできる。
【図１】 本発明の好ましい一実施形態に係る位置決め
ステージ装置の要部概略図である。
ステージ装置の要部概略図である。
【図２】 従来例に係る２次元平面移動可能なウエハス
テージ装置の要部概略図である。
テージ装置の要部概略図である。
【図３】 従来例に係る同一方向に複数のステージ位置
計測用レーザ干渉計を設置して切り換え可能にしたウエ
ハステージ装置の要部概略図である。
計測用レーザ干渉計を設置して切り換え可能にしたウエ
ハステージ装置の要部概略図である。
【図４】 従来例に係る複数のレーザ干渉計の切り換え
に伴うウエハステージ装置の位置計測の誤差を説明する
図である。
に伴うウエハステージ装置の位置計測の誤差を説明する
図である。
１：ウエハステージ、２：Ｙバーミラー、３：Ｘバーミ
ラー、４：Ｙレーザ干渉計、５ａ：Ｘ１レーザ干渉計、
５ｂ：Ｘ２レーザ干渉計、６ａ；Ｙ１リニアモータ、６
ｂ：Ｙ２リニアモータ、７：Ｘリニアモータ、８ａ，８
ｂ，８ｃ：レーザ干渉計カウンタボード、９：演算装
置、１０：リニアモータドライバ、１１：ステージ定
盤。
ラー、４：Ｙレーザ干渉計、５ａ：Ｘ１レーザ干渉計、
５ｂ：Ｘ２レーザ干渉計、６ａ；Ｙ１リニアモータ、６
ｂ：Ｙ２リニアモータ、７：Ｘリニアモータ、８ａ，８
ｂ，８ｃ：レーザ干渉計カウンタボード、９：演算装
置、１０：リニアモータドライバ、１１：ステージ定
盤。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｂ
５０３Ｂ
Ｆターム(参考） 2F065 AA03 AA06 AA39 CC00 DD06
EE00 EE05 FF51 GG04 GG13
JJ01 JJ05 LL12 NN20 QQ17
QQ23 QQ42 QQ51
2F069 AA03 AA83 BB40 EE20 EE23
GG04 GG07 GG13 GG64 HH09
MM34 NN18 NN26
5F031 CA02 HA53 JA06 JA17 JA28
JA32 KA06 LA08 MA27 PA18
5F046 BA04 BA05 CC01 CC03 CC16
Claims (6)
- 【請求項１】 ２次元平面に沿って移動自在なステージ
と、該ステージを駆動する複数の駆動手段と、該ステー
ジの位置を計測するための複数の位置計測手段とを備え
た位置決めステージ装置において、 前記位置計測手段は少なくとも前記ステージに備えられ
た計測対象となる平面鏡と干渉計とからなり、 前記位置計測手段により前記ステージの位置を計測する
場合、前記平面鏡の平面度からの確定的な要素による誤
差および／または前記位置計測手段の雰囲気からの不確
定な要素による誤差を補正する補正手段を有することを
特徴とする位置決めステージ装置。 - 【請求項２】 前記位置決めステージ装置は、少なくと
も１軸方向の前記ステージの位置を計測する前記位置計
測手段が複数用意されており、該複数の位置計測手段を
切り換えて１軸方向の前記ステージの位置を計測する手
段を有し、 前記補正手段は、前記複数の位置計測手段を切り換える
際、少なくとも２つの前記位置計測手段である第１およ
び第２の位置計測手段が有効になる場所であって、今ま
で有効であった前記第１の位置計測手段から、これから
有効になる前記第２の位置計測手段に値を引き継ぐとき
に、前記確定的な要素による誤差および／または前記不
確定な要素による誤差を、補正関数および／またはテー
ブルから求め、これから有効になる前記第２の位置計測
手段の値を補正するものであることを特徴とする請求項
１に記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項３】 前記位置決めステージ装置は、今まで有
効であった前記第１の位置計測手段、および／または、
これから有効になる前記第２の位置計測手段が計測を行
っている間、常に、前記補正関数および／または前記テ
ーブルにより前記確定的な要素による誤差および／また
は前記不確定な要素による誤差を補正することを特徴と
する請求項２に記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項４】 前記補正手段は、少なくとも前記補正関
数および／または前記テーブルを備えることが可能な演
算装置を備え、該演算装置は前記第１および第２の位置
計測手段それぞれに専用のテーブルを有することを特徴
とする請求項２または３に記載の位置決めステージ装
置。 - 【請求項５】 前記補正手段は、一定の期間または一定
の回数、前記位置計測手段の切り替えを行った場合、前
記ステージの絶対的な位置のキャリブレーションを行う
ものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項６】 前記キャリブレーションは、第３の位置
計測手段により前記ステージの絶対的な位置を確認する
ものであり、 前記キャリブレーションを行う頻度は、位置決め精度ま
たは装置のスループットのいずれを優先させるかで決定
するものであることを特徴とする請求項５に記載の位置
決めステージ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002021887A JP3826042B2 (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | ステージ装置、それを用いた半導体露光装置および位置計測方法 |
| US10/349,108 US7042576B2 (en) | 2002-01-30 | 2003-01-23 | Positioning stage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002021887A JP3826042B2 (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | ステージ装置、それを用いた半導体露光装置および位置計測方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003224059A true JP2003224059A (ja) | 2003-08-08 |
| JP3826042B2 JP3826042B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=27606330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002021887A Expired - Fee Related JP3826042B2 (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | ステージ装置、それを用いた半導体露光装置および位置計測方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7042576B2 (ja) |
| JP (1) | JP3826042B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005244088A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法 |
| JP2006165523A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-06-22 | Nikon Corp | 測定システム、初期化、振動補償、低伝播性、及び軽量精密ステージを有するステージ装置 |
| JP2007309884A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | V Technology Co Ltd | 作業装置におけるテーブル位置決め方法およびその装置 |
| JP2015106606A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法 |
| JP2015535615A (ja) * | 2012-11-12 | 2015-12-14 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3907497B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及びその制御方法、並びに露光装置、並びにその制御方法により制御される露光装置により半導体デバイスを製造する製造方法 |
| US6864963B2 (en) * | 2002-03-19 | 2005-03-08 | Chi Mei Optoelectronics Corporation | Position measuring system with multiple bar mirrors |
| KR100546711B1 (ko) * | 2003-08-18 | 2006-01-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 실리콘 결정화 방법 |
| JP4424739B2 (ja) * | 2004-10-19 | 2010-03-03 | キヤノン株式会社 | ステージ装置 |
| US20070152391A1 (en) * | 2005-12-29 | 2007-07-05 | Chitayat Anwar K | Error corrected positioning stage |
| WO2008007838A1 (en) * | 2006-07-13 | 2008-01-17 | Pusan National University Industry University Cooperation Foundation | Stage with displacement magnification mechanism for measuring |
| KR100876912B1 (ko) * | 2006-07-13 | 2009-01-08 | 부산대학교 산학협력단 | 변위증폭측정 메카니즘을 구비한 스테이지 |
| JP2009302490A (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP4629134B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2011-02-09 | 株式会社東芝 | Ｘｙステージ装置 |
| CN102445854A (zh) * | 2010-10-15 | 2012-05-09 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台垂向位置测量系统 |
| CN103245309B (zh) * | 2013-05-21 | 2017-12-12 | 杭州鼎热科技有限公司 | 一种激光平整度测量误差补偿方法 |
| CN106767512A (zh) * | 2016-12-29 | 2017-05-31 | 哈尔滨工业大学 | 基于实时监测运动误差的光学元件高精度测量装置 |
| CN114654092B (zh) * | 2022-04-18 | 2023-03-14 | 北京理工大学 | 一种激光微结构高效加工及精密测量的方法和装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5363196A (en) * | 1992-01-10 | 1994-11-08 | Ultratech Stepper, Inc. | Apparatus for measuring a departure from flatness or straightness of a nominally-plane mirror for a precision X-Y movable-stage |
| JPH09275072A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Nikon Corp | 移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置 |
| US5991033A (en) * | 1996-09-20 | 1999-11-23 | Sparta, Inc. | Interferometer with air turbulence compensation |
| WO1999042787A1 (en) * | 1998-02-23 | 1999-08-26 | Zygo Corporation | Interferometer and method for measuring the refractive index and optical path length effects of air |
| JPH11325832A (ja) | 1998-05-19 | 1999-11-26 | Nikon Corp | 位置測定方法および位置測定装置並びに露光装置 |
| US6181420B1 (en) * | 1998-10-06 | 2001-01-30 | Zygo Corporation | Interferometry system having reduced cyclic errors |
| DE69943311D1 (de) * | 1998-12-24 | 2011-05-12 | Canon Kk | Trägerplattesteuerungsvorrichtung, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung |
| US6137574A (en) * | 1999-03-15 | 2000-10-24 | Zygo Corporation | Systems and methods for characterizing and correcting cyclic errors in distance measuring and dispersion interferometry |
-
2002
- 2002-01-30 JP JP2002021887A patent/JP3826042B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-23 US US10/349,108 patent/US7042576B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005244088A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法 |
| JP2006165523A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-06-22 | Nikon Corp | 測定システム、初期化、振動補償、低伝播性、及び軽量精密ステージを有するステージ装置 |
| JP2007309884A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | V Technology Co Ltd | 作業装置におけるテーブル位置決め方法およびその装置 |
| JP2015535615A (ja) * | 2012-11-12 | 2015-12-14 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US9772564B2 (en) | 2012-11-12 | 2017-09-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| JP2015106606A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030142321A1 (en) | 2003-07-31 |
| US7042576B2 (en) | 2006-05-09 |
| JP3826042B2 (ja) | 2006-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0756206B1 (en) | Scanning exposure apparatus and exposure method using the same | |
| KR100554258B1 (ko) | 리소그래피 투영장치 교정방법 및 상기 방법을 적용할 수있는 장치 | |
| JP3826042B2 (ja) | ステージ装置、それを用いた半導体露光装置および位置計測方法 | |
| US7941232B2 (en) | Control method, control system, and program | |
| EP1621933B1 (en) | Lithographic apparatus and method for calibrating the same | |
| US20070195296A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| JPH0845814A (ja) | 露光装置および位置決め方法 | |
| TW512428B (en) | Stage apparatus, measurement apparatus and measurement method, and exposure apparatus and exposure method | |
| JP2007250947A (ja) | 露光装置および像面検出方法 | |
| JP3531894B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP3530692B2 (ja) | 走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| US7852458B2 (en) | Exposure apparatus | |
| JPH1097969A (ja) | 走査型縮小投影露光装置及びディストーション測定方法 | |
| KR20090039641A (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
| US20090310108A1 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
| JP2000187338A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH10284396A (ja) | アライメント方法及び重ね合わせ精度計測方法 | |
| JPH1083954A (ja) | 露光装置 | |
| JP3569962B2 (ja) | 位置合わせ装置及び位置合わせ方法、それを用いた露光装置及び露光方法 | |
| JP2002190439A (ja) | 位置計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、並びにデバイス製造方法 | |
| JP3831720B2 (ja) | 多重干渉ビームを使用するレチクル焦点測定システムおよびレチクル焦点測定方法 | |
| JPH09148236A (ja) | 露光装置の基板ステージの移動制御方法及び装置 | |
| US8120750B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
| JP3531895B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH11195584A (ja) | 走査型露光装置及び走査露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20031210 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050909 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050914 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051110 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060614 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060703 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3826042 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090707 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100707 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110707 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120707 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120707 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130707 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |