JP2007309884A - 作業装置におけるテーブル位置決め方法およびその装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
【課題】作業装置におけるテーブルの位置決めを高精度に繰り返し再現させる。
【解決手段】作業装置におけるテーブル位置決め装置は、コントローラ(制御装置)21でY軸リニアモータ(Y軸駆動手段)9を作動させてテーブル4を移動させ、その位置のレーザ測長器11による測定結果にもとづきテーブル4を所定位置に位置決めする装置であり、レーザ測長器11がテーブル4の移動方向に直角な方向の中心位置と、その両側に配置されたY軸レーザ干渉計15,15a,15bを備え、コントローラ21が、両側のY軸レーザ干渉計15a,15bで測定した測定値にもとづきテーブル4のヨーイング角を算出すると共に、中心位置のY軸レーザ干渉計15で測定したテーブル4の位置をヨーイング角にもとづいて補正し、この補正して求めた位置にテーブル4が位置決めされるようにY軸リニアモータ9を作動させる構成とされている。
【選択図】図3
Description
また、テーブルを支持する基台の角部にレーザ測長器のレーザヘッドを配置すると共に、前記基台のY軸方向の端部においてX軸方向に離間させて一対のレーザ干渉計を配置し、前記レーザヘッドから発射されたレーザを各レーザ干渉計によって前記テーブルに設けたミラーの反射面に照射することにより、各レーザ干渉計によりテーブルのY軸方向における位置を測定し、それらの測定値の平均値をテーブルの位置決めに使用し、また、一対のレーザ干渉計の測定値の差によりテーブルのヨーイング角を検出して、これによりテーブルの位置補正を行うようにしたものが知られている(例えば、特許文献2参照)。
前記作業装置におけるテーブル位置決め装置の前者においては、前記テーブルがヨーイング運動するときには、該ヨーイング運動によるテーブルのX軸方向における変位のY軸方向の成分が、Y軸方向におけるテーブルの位置の誤差として生じ、テーブルの設定位置への位置決めが正確に行えない問題がある。
また、前記作業装置におけるテーブル位置決め装置の後者においては、一対のレーザ干渉計をテーブルのX軸方向における中心から両側の対称位置に正確に設置しないと、一対のレーザ干渉計の測定値の平均値がテーブルのX軸方向の中心におけるY軸方向の正確な測定値とはならず、その位置をヨーイング角にもとづいて補正してもテーブルのY軸方向における正確な位置決めを行うことはできない。さらに、前記のように、レーザ測長器のレーザ光軸の位置で温度に差がある場合は、前記一対のレーザ干渉計において左右の温度変化が大きい方の測定値に測定誤差の影響が大きく現れ、前記測定値の平均値やヨーイング角が変動し、テーブルのY軸方向における位置決めを繰り返し精度良く行うことができない問題がある。
図1において、1は本発明の一実施の形態に係るテーブル位置決め装置2を備えた作業装置を示す。この作業装置1は、床面に設置された基台3と、該基台3の上面にY軸方向yに向けて平行に設けられた一対のY軸レール(案内レール)3a,3aに沿ってY軸方向yに往復移動するテーブル4と、前記基台3のY軸方向yにおける略中央の両端部(X軸方向xにおける両端部)に立設された一対の支柱5,5と、該支柱5,5の上端に固定されてX軸方向xに向けられたX軸ビーム6と、該X軸ビーム6に設けた図示しないX軸レール(案内レール)に支持されてX軸方向xに往復移動するX軸スライダー7と、該X軸スライダー7の前側(図1、図2で右側)に取り付けられた作業ヘッド8とを備えている。
前記X軸駆動手段10、Y軸駆動手段9およびZ軸駆動手段8zは、リニアモータに代え、サーボモータの回転をボールねじ軸にボールナットを螺合させてなるねじ機構によって直線運動に換えて駆動する形式のものとしてもよい。その場合、前記リニアエンコーダの代わりにサーボモータに付設されたロータリエンコーダが使用される。
例えば、ワークWに生じた欠陥部等の所定部位に補修のための微細加工を施すような場合には、図1に鎖線で示すようにテーブル4を基台3上の前側(図1で右側)に位置させた状態で、前記ガラス板4b上にワークWを保持させた後に、コントローラ21を介してレーザ側長器11を動作させると共に、前記X軸リニアモータ10、Y軸リニアモータ9を作動させると、前記X軸スライダー7とテーブル4とがX軸方向xとY軸方向yに相対的に移動して、前記ワークWの所定部位の上方位置に作業ヘッド8が移動して位置決めされる。
Y=Y1+Ya−Y2 ・・・・・(1)
Y2=(Ya+Yb)・X2/X1 ・・・・・(2)
ただし、X1は両側のターゲットプリズム16a,16bの位置Pa,Pb間のX軸方向における距離、X2は右側のY軸ターゲットプリズム16aの位置Paから設定位置Pxyのx座標XまでのX軸方向における距離、Yaは前記中央の位置Pから右側のY軸ターゲットプリズム16aまでのY軸方向yにおける距離、Ybは前記中央の位置Pから左側のY軸ターゲットプリズム16bまでのY軸方向yにおける距離、Y2は右側のY軸ターゲットプリズム16aの位置Paから設定位置Pxyのy座標YまでのY軸方向yにおける距離である。
そして、前記テーブル4の中央における位置Pが1つのY軸レーザ干渉計15によって固有に測定され、その測定値が、前記作業装置1(レーザ干渉計15,15a,15b)が設置されているチャンバー内に温度ムラがあっても、他のY軸レーザ干渉計15a,15bによる測定値に関係なく、テーブル4のY軸方向における位置制御の基準値として不変に得られるので、この基準値に左右のY軸レーザ干渉計15b,15aの測定値にもとづくヨーイング補正を行うことにより、前記チャンバー内(レーザ干渉計による測定環境)の温度変化が例えば±0.1℃であっても、それによる影響が少なくなり、前記テーブル4のY軸方向における位置決めが高精度に繰り返し再現される。
2 テーブル位置決め装置
3 基台
4 テーブル
6 X軸ビーム
7 X軸スライダー
8 作業ヘッド
9 Y軸リニアモータ(Y軸駆動手段)
10 X軸リニアモータ(X軸駆動手段)
11 レーザ測長器
13 レーザヘッド
14,14a ハーフミラー
14b,14c,14d 反射ミラー
15,15a,15b Y軸レーザ干渉計(レーザ干渉計)
16,16a,16b Y軸ターゲットプリズム
16c X軸ターゲットプリズム
17 ビームスプリッター
18 リファレンスプリズム
19 フォトディテクタ
20 測長演算部
21 コントローラ(制御装置)
21a 演算制御部
W ワーク
Claims (2)
- ワークを支持したテーブルを移動させ、その移動位置をレーザ測長器によって測定すると共に、その測定結果にもとづいて前記テーブル上のワークを作業ヘッドに対して所定位置に位置決めする作業装置におけるテーブル位置決め方法であって、
前記テーブルの移動方向に直角な方向における中心位置の両側に間隔をあけた2つの位置に配置された前記レーザ測長器のレーザ干渉計によってテーブルの位置を測定し、その測定値にもとづいてテーブルのヨーイング角度を算出すると共に、前記中心位置に配置されたレーザ干渉計によって測定されたテーブルの位置を前記ヨーイング角度にもとづいて補正し、この補正して求めた位置にテーブルを位置決めすることを特徴とする作業装置におけるテーブル位置決め方法。 - ワークを支持したテーブルを制御装置で駆動手段を作動させることによって移動させ、その移動位置をレーザ測長器によって測定すると共に、その測定結果にもとづいて前記テーブル上のワークを作業ヘッドに対して所定位置に位置決めする作業装置におけるテーブル位置決め装置であって、
前記レーザ測長器は、前記テーブルの移動方向に直角な方向における中心位置と、該中心位置の両側に間隔をあけた2つの位置とにそれぞれ配置されてテーブルの位置を測定するレーザ干渉計を備え、前記制御装置は、前記中心位置の両側に配置されたレーザ干渉計によって測定された測定値にもとづいてテーブルのヨーイング角度を算出すると共に、前記中心位置に配置されたレーザ干渉計によって測定されたテーブルの位置を前記ヨーイング角度にもとづいて補正し、この補正して求めた位置にテーブルが位置決めされるように前記駆動手段を作動させることを特徴とする作業装置におけるテーブル位置決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006141592A JP5613893B2 (ja) | 2006-05-22 | 2006-05-22 | 作業装置におけるテーブル位置決め装置および位置決め方法。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006141592A JP5613893B2 (ja) | 2006-05-22 | 2006-05-22 | 作業装置におけるテーブル位置決め装置および位置決め方法。 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007309884A true JP2007309884A (ja) | 2007-11-29 |
JP5613893B2 JP5613893B2 (ja) | 2014-10-29 |
Family
ID=38842861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006141592A Active JP5613893B2 (ja) | 2006-05-22 | 2006-05-22 | 作業装置におけるテーブル位置決め装置および位置決め方法。 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5613893B2 (ja) |
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JP7361166B2 (ja) | 2018-11-28 | 2023-10-13 | 株式会社東京精密 | 多軸レーザ干渉測長器、及び、変位検出方法 |
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---|---|
JP5613893B2 (ja) | 2014-10-29 |
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