JPH09167792A - ステージ装置およびリニアモータ、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス生産方法 - Google Patents
ステージ装置およびリニアモータ、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス生産方法Info
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Abstract
る。 【解決手段】 ステージを所定の方向に移動させるステ
ージ装置において、前記移動方向に沿って配置されたス
テージ加減速用推力発生手段9と、これらの推力発生手
段と並列に設けられたステージ速度制御用推力発生手段
8と、前記加減速用推力発生手段のうちステージ加速区
間に位置する部分にステージ加速用推力を発生させる加
速手段29a,Sと、前記加減速用推力発生手段のうち
ステージ減速区間に位置する部分にステージ減速用推力
を発生させる減速手段29b,Sと、少なくとも前記加
速区間と減速区間との間において前記速度制御用推力発
生手段によるステージ推力を制御する速度制御手段28
を設ける。
Description
て、特に半導体ウエハやレチクル等の工作物を所定位置
に位置決めしたり、所定速度で走査したりするステージ
装置に関する。さらに、このようなステージ装置に用い
られるリニアモータ、ならびにこのようなステージ装置
を用いた露光装置およびデバイス生産方法に関する。
対象の一例でもある半導体露光装置のを示す。この露光
装置は、原版たるレチクルのパターンを円弧状または矩
形状領域に限定して被露光物であるウエハ上に結像し、
レチクルとウエハの両方を機械的に走査することにより
レチクルパターン全体を露光するいわゆる走査型露光装
置である。図32および図33は、レチクル走査系の詳
細を示す。図32は、駆動系をレチクルステージの片側
に設けたもので、図33は、駆動系を光軸を挟んでレチ
クルステージの両側に設けたものである。
振手段101を介して本体定盤102が支持されてい
る。本体定盤102上にはXY平面(水平面)内に移動
可能なウエハステージ103が設けられ、その上方には
本体支持部材105を介して投影光学系106が固定さ
れている。支持部材105の上方にはレチクルステージ
ベース80が設けられ、レチクルステージベース80上
を不図示のガイドに沿って1軸方向に走査可能なレチク
ルステージ82が設けられている。104は、ウエハス
テージ103の位置を計測するための干渉計第2基準、
107はレチクルステージ82の位置を計測するための
干渉計第1基準、108はレチクルステージ82上のレ
チクル(不図示)を通してウエハステージ103上のウ
エハ(不図示)に露光エネルギーを与えるための照明系
である。
80上にガイド81が固定され、ガイド81上に上に空
気膜等の潤滑手段を介してレチクルステージ82が走査
方向に滑動自在に支持されている。ステージ82上には
工作物であるレチクル83が保持されている。またレチ
クルステージ82の両側には駆動コイル85が固定さ
れ、レチクルステージ82の全ストロークにわたり駆動
コイル85の一部に巻線に垂直な一定の磁場を与えるた
め、ヨーク86と永久磁石87で構成されるリニアモー
タ固定子が設けられている。リニアモータ固定子はレチ
クルステージベース80上に固定され、駆動コイル85
には不図示の電力増幅器が接続されている。電力増幅器
としては、指令値に応じた電流を連続的に流すリニア方
式が用いられ、高い周波数まで電流指令に応答するよう
になっている。ウエハステージ103もレチクルステー
ジ82と同様に構成することができる。XYステージ
は、上述の駆動機構(ステージ装置)を2段重ねること
により構成される。
向に着磁されている。つまり、ヨーク86に接する面が
S極に、その裏側の駆動コイル85の一部に対向する面
がN極に着磁されている。駆動コイル85はレチクルス
テージ82の全ストロークにわたり、リニアモータ固定
子であるヨーク86および磁石87と非接触を保つよう
になっている。
工作物83を移動するときは、リニア方式の電力増幅器
が不図示の位置・速度制御回路から指令を受けて加速電
流、または減速電流を駆動コイル85に流し、位置決め
するときもリニア方式の電力増幅器がステージ82を不
図示の制御回路の指令で時々刻々と位置偏差を無くすよ
うに、微小な電流を時々刻々と駆動コイル85に流し続
ける。つまり、加減速においても位置決めにおいても同
じ電力増幅器と同じ駆動コイル85が用いられる。
ルステージ82上のレチクルに照明光が当たるのは、そ
のレチクルのうちレチクルステージ82の走査方向に垂
直な細長い矩形または円弧領域のみなので、そのレチク
ルのパターン全体をウエハ上に露光するにはレチクルス
テージ82とウエハステージ103の双方を走査する必
要がある。走査は一定速度で行なわれ、走査中のレチク
ルステージ82とウエハステージ103の速度比は、投
影光学系108の縮小倍率に正確に一致させる。レチク
ルステージ82の位置は干渉計第1基準107を介し
て、ウエハステージ103の位置は干渉計第2基準10
4を介して、不図示のレーザ干渉計で計測され不図示の
制御系に帰還されるようになっている。
およびレチクルステージ82を初期位置に移動し、ウエ
ハステージ103およびレチクルステージ82を加速す
る。両者が照明光の当たる領域に入る前に位置関係が所
定の位置関係となり、速度比が投影光学系108の縮小
倍率に等しくなる状態に収束させる。この状態を保って
露光し、照明光の当たる領域から外れたら両者を適当に
減速する。
とは、単相リニアモータの構成が異なる。すなわち、図
35のリニアモータは、可動部がコイル98と単極で対
面する短い磁石95と、可動磁石95のストローク全体
にわたって配置されて磁石95の磁束を循環させる固定
ヨーク96と、そのストローク全体にわたって固定ヨー
ク96の一部に巻き回された単相コイルとにより構成さ
れている。
ターンの微細化、生産性向上および工作物の大口径化に
対する要求が年々高まっている。生産性を向上させるた
めには露光時間を短縮したり、工作物の移動、位置決め
をより高速に行なう必要があり、このためには移動の加
速度、減速度を大きくする必要がある。また同時に、工
作物の大口径化を達成するためにステージは大型化し、
搬送重量が増加する。したがって、より重いものをより
大きな加速度で動かすことが必要となり、推力の大きい
アクチュエータと大出力の電力増幅器が必要となる。
駆動機構では、走査ステージのストローク全域にわたり
一定の磁場を発生するようなリニアモータ固定子が設け
られている。そして推力の大きくするためには、上記一
定の磁場の強さを例えば5000ガウス程度以上の強磁
場にする設計が行なわれている。ところが、図34に示
すように磁場はヨーク86を循環するので、ヨークの両
端部にはストローク全域分の磁束が集中する。ヨークは
鉄などの飽和磁束密度の高い材質で構成されるが、集中
した磁束を飽和させないためには大きな断面積が必要に
なる。この結果、ヨークの体積および質量が増大し、装
置全体の大きさ矢重さを増大させるという欠点があっ
た。
り一定の磁場を発生させるためには、走査ステージの全
ストロークにわたり、一定の厚さの磁石を設ける必要が
ある。一定磁場は上記のように強磁場が要求されるた
め、磁石材料としては高価な希土類磁石を用いる必要が
ある。したがって、駆動部のコストがかさむという欠点
もあった。
で、走査型露光装置のレチクルステージ用として特に好
適なリニアモータ型駆動機構(ステージ装置)を提供す
ることにある。
増幅器に関し、従来は電力増幅器にリニア方式のものを
用いていた。これは電流の応答性は良いが増幅器自身の
発熱が大きく大出力化することが困難である。
定の不連続な矩形電圧を出力するPWM増幅器がある。
このPWM増幅器は、矩形電圧の幅を変えることによ
り、結果的に流れる電流量を変えるものである。このP
WM増幅器を用いる方式では、基本となる矩形波の周波
数が20KHz程度であり、高い周波数まで電流を応答
させることが困難である。したがって、位置決め時や定
速制御時の制御周波数を高く設定することができずサー
ボゲインも高くできない。つまり、従来のように、加減
速や位置決めにおいても同じ電力増幅器と駆動コイルを
用いる方式では、大出力と高精度を両立することができ
ないという問題があった。
術の問題点に鑑み、大出力と高精度を兼ね備えた駆動機
構(ステージ装置)を提供することにある。
2および図33のものも、図35のものも、いずれの場
合も可動コイル85または可動磁石95はガイド81上
で一次元方向に、滑動自在に設けられた可動部に固定さ
れ、可動コイル85または固定コイル98に電流を流し
て可動部を前記一次元方向に動かすようになっていた。
いずれの場合も、固定ヨーク86,96の厚さは、最低
限永久磁石87,95が発生する磁束を飽和させないよ
うな厚みが必要である。しかしながら、固定ヨーク8
6,96の厚さを永久磁石87,95が発生する磁束を
飽和させない最低限の厚さに設定した場合、可動部の移
動を高速化するために加減速時の推力を大きく取ろうと
してコイル85,98に大電流を流しても、電流による
磁束でヨークが飽和してしまい、大きな推力が得られな
い。一方、コイル電流による磁束でヨークが飽和しない
ようにヨークの厚さを厚くすると、全体の厚さが厚くな
ってしまう。つまり、従来の構成ではヨークの厚さを薄
くすることと、大きな推力を得ることは両立しないとい
う問題点があった。
くすることと、大きな推力を得ることを両立させたリニ
アモータを提供することにある。
するため、本発明の第1の局面に係るステージ装置は、
所定の方向に移動可能なステージと、前記移動方向に沿
って配置されたステージ加減速用推力発生手段と、該推
力発生手段と並列に設けられたステージ速度制御用推力
発生手段と、前記加減速用推力発生手段のうちステージ
加速区間に位置する部分でステージ加速用推力を発生さ
せる加速手段と、前記加減速用推力発生手段のうちステ
ージ減速区間に位置する部分でステージ減速用推力を発
生させる減速手段と、少なくとも前記加速区間と減速区
間との間の所定範囲において前記速度制御用推力発生手
段によるステージ推力を制御する速度制御手段とを具備
することを特徴とする。
前記加減速用推力発生手段および速度制御用推力発生手
段はリニアモータであり、その可動部がその固定部のコ
イルに対して単極で対面する磁石を有し、前記固定部が
前記ステージの全ストロークにわたり前記磁石の位置に
応じて前記コイルの一部に前記磁石による一定の磁場を
与えるためのヨークを備え、さらに前記固定部は前記コ
イルとして、前記ヨークの周囲に巻き回された単相の速
度制御用コイルとおよび複数個の多相の加減速用コイル
を具備することを特徴とする。
び速度制御用推力発生手段は、リニアモータであり、そ
の可動部がその固定部のコイルに対して2極で対面し、
かつこれらの2極が少なくとも前記ステージの最大スト
ローク距離だけ離れて設けられた磁石を有し、前記固定
部が前記ステージの全ストロークにわたり前記磁石の位
置に応じて前記コイルの一部に一定の磁場を与えるため
のヨーク、ならびに前記コイルとして、このヨークの周
囲に巻き回された単相の速度制御用コイルおよび複数個
の多相の加減速用コイルを各2組とを具備し、前記各2
組のコイルは前記磁石の2極間距離と実質的に同一の距
離だけ離れて設けられていることを特徴とする。
記単相の速度制御用コイルの外側に巻き回してもよい。
あるいは、前記ヨークを、前記ステージの移動方向に平
行で少なくとも該ステージの全ストロークにわたる直線
部分を有するメインヨークと、このメインヨークの直線
部分と少なくとも前記ステージの全ストロークにわたり
平行な直線部分を有し、かつ該ストローク外で前記メイ
ンヨークに磁気的に接続されたサイドヨークとで構成
し、速度制御用コイルおよび加減速用コイルの一方を前
記メインヨークに、他方をサイドヨークに巻き回しても
よい。さらに、サイドヨークをメインヨークの両側に配
置し、メインヨークに速度制御用コイルを巻き回し、両
サイドヨークに前記複数個の多相の加減速用コイルを1
組ずつ都合2組を巻き回してもよい。
部は、前記ステージの片側に1組だけ、または両側に1
組ずつ計2組が配置される。
制御手段は、前記ステージの位置を検出する位置検出手
段と、前記位置検出手段により検出される前記ステージ
の現在位置および目標位置に基づき電流指令を出力する
指令手段と、この電流指令に応じた電流を出力するPW
M方式の加速用電力増幅器および減速用電力増幅器と、
前記加速用電力増幅器の出力を前記ステージ加速区間に
位置する加減速用推力発生手段に、前記減速用電力増幅
器の出力を前記ステージ減速区間に位置する加減速用推
力発生手段に接続するスイッチ手段と、前記電流指令に
応じた電流を出力して前記速度制御用推力発生手段を駆
動するリニア方式の速度制御用電力増幅器とを具備する
ことを特徴とする。
の第2の局面においては、ステージの位置を検出する位
置検出手段、位置検出手段により検出されるステージの
現在位置および目標位置に基づき電流指令を出力する指
令手段、この電流指令に応じた電流を出力する電力増幅
器、およびこの電流によりステージを駆動する駆動手段
を有するステージ装置において、電力増幅器および駆動
手段は、PWM方式の第1の電力増幅器およびその出力
電流によりステージを駆動する第1の駆動手段と、リニ
ア方式の第2の電力増幅器およびその出力電流によりス
テージを駆動する第2の駆動手段とを並列に具備するこ
とを特徴とする。
において、ステージの加減速時には第1の電力増幅器を
介してステージを駆動し、ステージの位置決め・速度制
御時には第2の電力増幅器を介してステージを駆動する
ように第1または第2の電力増幅器を選択する手段を具
備することを特徴とする。
モータであり、その可動部は、第1の電力増幅器に接続
した加減速用コイル、および第2の電力増幅器に接続し
た位置決め・速度制御用コイルを具備することを特徴と
する。
モータであり、その可動部がその固定部のコイルに対し
て単極で対面する磁石を有し、固定部がステージの全ス
トロークにわたり磁石の位置に応じてコイルの一部に一
定の磁場を与えるためのヨーク、ならびにコイルとし
て、このヨークの周囲に巻き回された単相の速度制御コ
イルおよび複数個の多相の加減速コイルとを具備するこ
とを特徴とする。この場合、速度制御コイルおよび加減
速コイルは前記第1の局面におけると同様に巻き回せば
よい。
れたコイルと、このコイルに磁場を与えるための磁石お
よびヨークとを有するリニアモータであり、第1駆動手
段は送りねじ機構と、この送りねじ機構の力をステージ
に伝達する力伝達部とを有することを特徴とする。
モータであり、その可動部が多極の磁石ユニットを有
し、固定部が複数個の偏平コイルユニットを有し、偏平
コイルユニットは第1の電力増幅器に接続される加減速
コイルと、第2電力増幅器に接続される位置決め・速度
制御コイルとを有することを特徴とする。
の第3の局面における単相リニアモータは、単相コイル
と、この単相コイルの軸方向にこの単相コイルとの相対
移動が自在な第1の永久磁石と、強磁性体からなり前記
単相コイルを軸方向に貫通する第1のヨークと、前記単
相コイルの外側に前記第1のヨークと平行に配置された
部分を有し前記第1の永久磁石からの磁束を前記単相コ
イルの巻線を横切って循環させる閉磁路を前記第1のヨ
ークおよび第1の永久磁石とともに形成する強磁性体か
らなる第2のヨークと、前記第1のヨークと第2のヨー
クを接続する第2の永久磁石を具備することを特徴とす
る。
において、前記単相コイルは可動であり、前記第1およ
び第2のヨークは前記単相コイルのストローク全体にわ
たる直線部分を有する固定ヨークであり、前記第1の永
久磁石は前記第1または第2のヨークの直線部分に固定
されて前記単相コイルのストローク全体にわたり前記単
相コイルと単極で対面する磁石であり、前記第2の磁石
は前記ストロークの外で前記第1のヨークと第2のヨー
クを接続することを特徴とする。
コイルと単極で対面する可動磁石であり、前記第1およ
び第2のヨークは前記可動磁石のストローク全体にわた
る直線部分を有する固定ヨークであり、前記単相コイル
は前記可動磁石のストローク全体にわたって前記第1の
ヨークに巻き回されており、前記第2の磁石は前記スト
ロークの外で前記第1のヨークと第2のヨークを接続す
ることを特徴とする。
り、さらにこの単相コイルよりも短い加減速用コイルが
複数個、多相でこの速度制御用単相コイルと並列に巻き
回されていることを特徴とする。
発生手段と、速度制御用推力発生手段を並列に設け、例
えばステージの加速、定速走行および減速の各区間に対
応して、ステージを、先ず前記加減速用推力発生手段の
うち前記加速区間に位置する部分で所望速度まで加速
し、前記速度制御用推力発生手段により所望速度に保ち
ながら前記定速走行区間を走行させ、次いで前記加減速
用推力発生手段のうち前記減速区間に位置する部分で減
速し停止させる。これにより、例えば、この駆動機構を
レチクルステージに用いた走査型露光装置においては、
露光画角に対応して加速、定速走行および減速の各区間
を設定すれば、必要最小限の距離で走査露光することが
できる。また、前記推力発生手段を、加減速用推力発生
用の複数個、複数相のコイルと、速度制御用推力発生用
の単相のコイルを有するリニアモータとして構成し、加
減速時は前記加減速用推力発生用の複数個のコイルの一
部を選択して駆動するようにすれば、加減速用推力発生
手段としてのリニアモータにおけるステージの推力に寄
与しない電流およびそれによる磁束を減らすことがで
き、ヨークの体積および重量を減らし、リニアモータ自
体、延てはこのリニアモータを用いた装置全体の大きさ
および重さを減らすことができる。また、磁石は走査ス
テージの全ストロークにわたり一定である必要はなく、
定速走行区間でのみ一定であれば足りるため、高価な希
土類磁石材料を減らしコストを下げることができる。特
に固定ヨーク側に加減速用推力発生手段としてのコイル
および速度制御用推力発生手段としてのコイルを並列に
巻き回し、これらのコイルに単極で対面する磁石を可動
部とする構成によれば磁石を大幅に小型化することがで
きる。
露光装置等のステージの各駆動軸ごとに加減速用推力発
生手段(第1の駆動手段)と位置決め・速度制御用推力
発生手段(第2の駆動手段)とを並列に設け、加減速用
推力発生手段にはPWM方式の電力増幅器を接続し、位
置決め・速度制御用推力発生手段にはリニア方式の電力
増幅器を接続し、加減速時はPWM方式増幅器により大
出力を発生して高速な移動を行ない、位置決め・速度制
御時はリニア増幅器により高精度な位置決めおよび定速
走行を行なわせることができる。
第1の永久磁石と単相コイルと該永久磁石の磁束を循環
させる強磁性体でできた固定ヨークとで構成される単相
リニアモータにおいて、該磁石の磁束を循環させるため
の固定ヨークの一部に該磁石の磁束を通す磁気回路に直
列に第2の永久磁石を配置し、この第2の永久磁石は、
前記第1の永久磁石の磁束を妨げないように着磁するこ
とにより、この第2の永久磁石によって前記単相コイル
に流す電流による磁束のみを遮断することができる。し
たがって、この単相リニアモータによれば、ヨークの厚
みを薄くして、なおかつ大きな推力を得ることができ
る。
用推力発生手段および速度制御用推力発生手段として、
または第1および第2の駆動手段として、用いることが
できる。
図31に示すような走査型露光装置のレチクルステージ
として好適に用いることができる。
る。 [実施例1]図1〜3は、本発明の第1の実施例に係る
駆動機構を用いたレチクルステージの構成を示す斜視図
であり、図1は全体図、図2はヨークおよびコイル部分
破断図、図3は可動部と固定部とをずらして示した分解
図である。図1〜3に示すレチクルステージでは、不図
示の除振ベース上にステージガイド1が固定され、ステ
ージガイド1上に空気膜等の潤滑手段を介してステージ
2が走査方向に滑動自在に支持されている。ステージ2
上にはレチクル3が保持されている。またステージ2の
両側にはコの字形断面を持つ磁石保持板4が固定され、
磁石保持板4の水平部分4aに図に示すように磁石の入
る矩形穴が設けられ、その矩形穴に磁石5が嵌め込まれ
固定されている。ステージ2、レチクル3、磁石保持板
4および磁石5が一体となって可動部を構成する。
ヨーク・コイルユニット10により構成される。各ユニ
ット10は、センターヨーク6、2個のサイドヨーク
7、1相の速度制御用コイル8および複数個の加減速用
コイル9により形成される。各ユニットを作成する際
は、例えば、先ずセンターヨーク6の周りに長手方向の
長さがセンターヨーク6のほぼ全長に相当する速度制御
用コイル8が巻き回される。速度制御用コイル8は電気
的に単相になるように構成される。速度制御用コイル8
の周りにはさらに長手方向の長さが速度制御用コイル8
に比べて十分短い加減速用コイル9が巻き回され、この
加減速用コイル9が複数個センターヨーク6の長手方向
に沿って設けられる。これらの複数個の加減速用コイル
9は電気的に独立、つまり各相ごとに電流が制御できる
ように構成される。次に、センターヨーク6を上下から
挟み込むようにサイドヨーク7が固定される。固定部と
可動部は前述の磁石保持板4の磁石5部分がヨーク・コ
イルユニット10における加減速用コイル9とサイドヨ
ーク7との間にこれらとは非接触ではまるような位置関
係で組み立てられる。
印で示すように厚み方向(鉛直方向)に着磁されてい
る。すなわち、1つの磁石保持板4に取り付けられた2
枚の磁石5はN極が互いに向き合うように、したがって
センターヨーク6に向かうように着磁されている。これ
により、各磁石5から発生した磁束がセンターヨーク6
に入って長手方向前後に分岐し、センターヨーク6の両
端部(前後端部)に達し、そこで上下に分岐してサイド
ヨーク7に入り、各上下のサイドヨーク7では前後端部
からの磁束が磁石5と対面する位置(図4ではサイドヨ
ーク7の中央部)に向かって流れ、そこから対面する磁
石のS極に達するというような磁気回路が構成される。
したがって、この状態で速度制御用コイル8に電流を流
すと、フレミングの法則により磁石5は走査方向(ヨー
ク6,7の長手方向)に力を受ける。また、磁石5と対
面している部分の加減速用コイル9に電流を流しても同
様に磁石5は走査方向に力を受ける。
気系回路の接続の様子を示す図であり、アクチュエータ
(可動部および固定部)部分は可動部の一部および固定
部の片側のみが示してある。図4(a)はアクチュエー
タの片側部分の一部破断平面図、図4(b)はアクチュ
エータ部分の縦断面および電気系の接続を示す図、そし
て図4(c)はその磁石5部分における横断面図であ
る。図4(b)に示すように、駆動用ドライバとして4
つの加速用ドライバ29a、4つの減速用ドライバ29
b、および速度制御用ドライバ28が設けられる。加減
速用ドライバを複数個に分割するのは、ドライバの容量
に余裕を持たせるためであり、余裕があれば各々1個ず
つでよい。各加減速用コイル9にはスイッチ手段Sを介
して加速用ドライバ29aの1つ、減速用ドライバ29
bの1つが並列に接続されている。
コイルを加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ2
9bのいずれとも接続しないようにするか、いずれか一
方とのみ接続するように作用する。つまり各コイルが加
速用ドライバ29aおよび減速用ドライバ29bの両方
と接続されることはない。
を4相ずつの4組とし、これらの組に対し、それぞれ4
個の加速用ドライバ29aまたは4個の減速用ドライバ
29bをスイッチ手段Sによってそれぞれ接続するよう
になっている。すなわち、各コイルを順に各組に割り当
て、4個ずつ離れた同じ組のコイルが同じ加速用ドライ
バ29aまたは減速用ドライバ29bと接続できるよう
になっている。このようにすれば、連続して隣り合う4
個の加減速用コイル9を、どんな位置であっても、4個
の加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ29bに
それぞれ接続することができる。
ストローク端まで加速、定速走行および減速する場合の
始動位置P1および停止位置P2の例が示してある。こ
のときは左端の4相のコイル9が加速用ドライバ29a
のみと接続されるようスイッチSが閉じられる。また右
端の4相のコイル9が減速用ドライバ29bとのみ接続
されるようにスイッチSが閉じられる。他の加減速用コ
イル9はいずれのドライバとも接続されない。各4相の
コイル9の走査方向の合計長さは(磁石寸法+加速スト
ローク+減速ストローク)よりは長くなるように設計さ
れている。つまり、4相のコイルのみで加速が終了する
ようになっている。換言すると加速中にコイルの切り替
えがないように構成されている。
型露光装置のレチクルステージ82として用いた場合の
作用を、ウエハステージ103とレチクルステージ82
は同期して動くものとして、以下にレチクルステージ8
2(図1〜図4においては符号「2」で示す)の作用の
みを説明する。図1〜図4を参照して、先ず、レチクル
ステージ2の初期位置出しを行なう。これは速度制御用
コイル8に所定方向の電流を流して可動部を一方向に送
り、不図示の原点スイッチを切ったタイミングで、不図
示のレチクルステージ位置計測用の干渉計をリセットす
る。さらに、干渉計の計測値を参照しながら速度制御用
コイル8に電流を流すことにより、図4の始動位置P1
まで可動部(ステージ2、磁石保持板4および磁石5
等)を移動させ、始動位置P1で速度制御用コイル8に
より位置決め制御を行なう。
速用ドライバ29aにより加速用に接続された4相のコ
イル9に電流を流してレチクルステージ2を加速する。
露光領域に入ったら加速を止め、一定速度になるように
不図示の制御回路により速度制御する。このとき可動磁
石5は加速用ドライバ29aに接続されたコイル9とは
対面しておらず、速度制御の補正力は速度制御ドライバ
28で駆動される速度制御用コイル8の電流との相互作
用によるものとなる。一定速度で露光を行ない、露光領
域を外れるころには可動部の磁石5は今度は減速用ドラ
イバ29bに接続された4相のコイル9と対面するよう
になっているので、この4相のコイル9で可動部を減速
し停止位置P2に停止させる。
で可動部が移動する例を説明したが、走査型露光装置に
おいて露光画角を小さくとったときはレチクルステージ
を端から端まで移動させず途中の位置から途中の位置ま
で移動させた方がレチクルステージの移動時間すなわち
露光時間を短縮でき、生産性が向上する。このような場
合は途中の始動位置、途中の停止位置に対応した加減速
用コイル9が加速または減速用ドライバ29a,29b
と接続されるようスイッチ手段Sを切り替え、図4の場
合と同様に速度制御用コイル8で前記「途中の始動位
置」まで初期位置出しを行なってから走査露光を行なえ
ば良い。
ッチ手段Sの切り替えは露光画角に対応して発生するの
みである。どのコイル9をドライバ29a,29bと接
続するかは画角が決まればそれに対応して決まるので、
一般的な多相コイル駆動リニアモータのように可動部の
位置をセンシングしながら駆動コイルを選択するような
複雑な駆動シーケンスを必要としない。
さは従来例におけるコイル85(図32)の走査方向長
さに相当し、その長さ分の磁束だけを通せば良いのでヨ
ーク6,7の断面積は小さくて済む。また、加減速用コ
イル9は走査方向全体に配置しながらも、加減速時は露
光画角に対応したコイル9のみを駆動しているので加減
速時に無駄な発熱がない。速度制御時は走査方向全長に
わたる速度制御用コイル8を駆動しており無駄がある
が、速度制御時は駆動電流が加減速電流に比べて十分小
さい、つまり無駄の絶対値が十分小さいので問題にはな
らない。さらに露光画角に応じて加速減速コイルが選択
できるので露光画角の変化に柔軟に対応できる。
例に係るレチクルステージアクチュエータを示す。図5
(a)は、その縦断面および電気系の接続を示す図、図
5(b)はその磁石5部分における横断面図である。本
実施例では、第1実施例でセンターヨーク6の周りに巻
き回した複数の加減速用コイル9を上下各々のサイドヨ
ーク7の周りに巻き回すようにした。これに伴い加速ド
ライバ群が2組、減速ドライバ群が2組の構成となる。
なお、ステージ2、磁石保持板4および磁石5等からな
る可動部は、磁石5の位置を加減速用コイル9の厚み分
だけセンターヨーク6に寄せた以外は第1実施例のもの
と同様に構成されている。
動きのみを説明する。レチクルステージ2を初期位置出
しした後、駆動コイルに電流を流してレチクルステージ
を加速する。レチクルステージの重心と加速のための駆
動力のかかる位置とのずれをΔ、加速のための推力をF
とすると、F*Δだけのモーメントがレチクルステージ
ベース、延ては本体に作用して本体を揺らしたり、本体
を変形させたりしようとするが、本実施例では加速に同
期してドライバ29aに流す電流の量を上下の加速用コ
イル9で違う値にし、その結果、上記F*Δだけのモー
メントを打ち消すモーメントを可動部に与えるようにし
ている。
する加速度を計測してこれを上下のドライバの電流差に
比例させてもよいし、予め定められた電流差で上下ドラ
イバを駆動してオープン制御的に付加しても良い。
になるように不図示の制御回路により速度制御する。こ
のとき可動磁石5は加速用ドライバ29aに接続された
コイル9とは対面しておらず、速度制御の補正力は速度
制御ドライバ28で駆動される速度制御用コイル8の電
流との相互作用によるものとなる。
により減速し、停止させる。このときは必ずしも上下の
ドライバ29bに電流差を与えてモーメントを打ち消す
必要はない。ここで本体が揺れても次の同期までに制定
すればよいからである。上記加減速および一定速度に制
御中の位置情報は不図示のレーザ干渉計等の位置計測手
段により得るようになっている。
加速に伴って発生する、レチクルステージ2の重心と駆
動力のかかる位置とのずれに起因する光軸回りのモーメ
ントも打ち消すことができる。この結果さらに本体の変
形や、レチクルとウエハの同期に対する外乱を少なくす
ることができる。
ク7に巻き回す加減速用コイル9のターン数が同じとし
て、上下の加減速用コイル9に電流差を与えて加速時の
反モーメントを打ち消す説明をしたが、力の作用点と可
動部重心の光軸位置に対するずれΔは分かっていて不変
であることが多いので、予めこのΔに相当する分だけ上
下のサイドヨーク7に巻き回す加減速用コイル9のター
ン数に差をつけておいてもよい。こうすると上下の加減
速用コイル9に同じ電流を与えて反モーメントを打ち消
すことができるので加速用ドライバ29aと減速用ドラ
イバ29bを第1実施例と同様、各1群ずつで構成で
き、構成を簡略化することができる。
実施例に係るレチクルステージの構成を示す斜視図であ
り、図6は全体図、図7はヨークおよびコイル部分破断
図、図8は可動部と固定部とをずらして示した分解図で
ある。図6〜8に示すレチクルステージでは、不図示の
除振ベース上に不図示のステージガイドが固定され、そ
のステージガイド上に空気膜等の潤滑手段を介してステ
ージ2が走査方向に滑動自在に支持されている。ステー
ジ2上にはレチクル3が保持されている。またステージ
2の両側にはコの字形断面を持つ中央部のくびれた磁石
保持板4が固定され、磁石保持板4の前後端の都合4つ
の水平部分4aに図6〜8に示すようにそれぞれ磁石の
入る矩形穴が設けられ、4つの磁石5がその矩形穴のそ
れぞれに嵌め込まれ固定されている。各磁石保持板4の
前後方向の磁石5と磁石5の距離は少なくともステージ
2の最大ストロークより大きくなるように設定されてい
る。ステージ2、レチクル3、磁石保持板4および磁石
5が一体となって可動部を構成する。
ヨーク・コイルユニット10により構成される。各ユニ
ット10は、センターヨーク6、2個のサイドヨーク
7、1相の速度制御用コイル8および複数個の加減速用
コイル9により形成される。各ユニットを作成する際
は、例えば、先ずセンターヨーク6の周りに長手方向の
長さがセンターヨーク6のほぼ全長に相当する速度制御
用コイル8が巻き回される。速度制御用コイル8は電気
的に単相になるように構成されるが、機械的には中央を
境にして2つのコイルから構成され、この2つの部分に
はセンターヨーク6の回りに逆方向の電流が流れるよう
に構成される。例えば2つの部分の巻き回し方向を逆に
したものを直列に接続すればよい。速度制御用コイル8
の周りにはさらに長手方向の長さが速度制御用コイル8
に比べて十分短い加減速用コイル9が巻き回され、この
加減速用コイル9が複数個センターヨーク6の長手方向
に沿って設けられる。これらの複数個の加減速用コイル
9は電気的に独立、つまり各相ごとに電流が制御できる
ように構成され、かつ磁石保持板4に設けた4つの磁石
5の前2個の磁石5と後2個の磁石5の間隔だけ離れた
2個の加減速用コイル9が直列に接続され、これらの2
個のコイルはセンターヨーク6回りに逆方向の電流が流
れるように構成される。
むようにサイドヨーク7が固定される。固定部と可動部
は前述の磁石保持板4の磁石5部分がヨーク・コイルユ
ニット10における加減速用コイル9とサイドヨーク7
との間にこれらとは非接触ではまるような位置関係で組
み立てられる。
印で示すように厚み方向(鉛直方向)に着磁されてい
る。すなわち、1つの磁石保持板4に取り付けられた前
2個の磁石5はN極が互いに向き合うように、したがっ
てN極がセンターヨーク6に向かうように、そして後2
個の磁石5はS極が互いに向き合うように、したがって
S極がセンターヨーク6に向かうように着磁されてい
る。
た磁束がセンターヨーク6に入って後方の後部磁石5に
対面する位置に向かい、そこから対面する後部磁石5の
S極に達し、後部磁石5のN極から発生した磁束はサイ
ドヨーク7に入って前方の前部磁石5に対面する位置に
向かい、そこから対面する前部磁石5のS極に達すると
いうような磁気回路が構成される。したがって、この状
態で速度制御用コイル8に電流を流すと、フレミングの
法則により前部および後部磁石5は走査方向(ヨーク
6,7の長手方向)に同じ向きの力を受ける。また、磁
石5と対面している部分の加減速用コイル9に電流を流
しても同様に前部および後部磁石5は走査方向に同じ向
きの力を受ける。
気系回路の接続の様子を示す図であり、アクチュエータ
(可動部および固定部)部分は可動部の一部および固定
部の片側のみが示してある。図9(a)はその縦断面お
よび電気系の接続を示す図、そして図9(b)はその磁
石5部分における横断面図である。図9(a)に示すよ
うに、駆動用ドライバとして4つの加速用ドライバ29
a、4つの減速用ドライバ29b、および1個の速度制
御用ドライバ28が設けられる。加減速用ドライバを複
数個に分割するのは、ドライバの容量に余裕を持たせる
ためであり、余裕があれば各々1個ずつでよい。各加減
速用コイル9にはスイッチ手段Sを介して加速用ドライ
バ29aの1つ、減速用ドライバ29bの1つが並列に
接続されている。
流が流れるように構成された一対の各加減速用コイル9
のスイッチ手段Sは、各コイルを加速用ドライバ29a
または減速用ドライバ29bのいずれとも接続しないよ
うにするか、いずれか一方とのみ接続するように作用す
る。つまり各コイルが加速用ドライバ29aおよび減速
用ドライバ29bの両方と接続されることはない。
よび減速用コイルを4相ずつ選択してそれぞれ4個の加
速用ドライバ29aまたは4個の減速用ドライバ29b
にスイッチ手段Sによって接続するようになっている。
加速用ドライバ29aおよび減速用ドライバ29b側か
ら見れば、各ドライバには4個ずつ離れたコイル9が加
速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ29bとスイ
ッチ手段Sを介して接続できるようになっている。この
ようにすれば、連続して隣り合う4個の加減速用コイル
9を、どんな位置においても、4個の加速用ドライバ2
9aまたは減速用ドライバ29bにそれぞれ接続するこ
とができる。
ストローク端まで加速、定速走行および減速する場合の
始動位置P1および停止位置P2の例が示してある。こ
のときは左端の4相のコイル9が加速用ドライバ29a
とのみ接続されるようスイッチSが閉じられる。また右
端の4相のコイル9が減速用ドライバ29bとのみ接続
されるようにスイッチSが閉じられる。他の加減速用コ
イル9はいずれのドライバとも接続されない。各4相の
コイル9の走査方向の合計長さは(磁石寸法+加速スト
ローク+減速ストローク)よりは長くなるように設計さ
れている。つまり、4相のコイルのみで加速が終了する
ようになっている。換言すると加速中にコイルの切り替
えがないように構成されている。
型露光装置のレチクルステージ82として用いた場合の
作用を、ウエハステージ103とレチクルステージ82
は同期して動くものとして、以下にレチクルステージ8
2(図6〜図8においては符号「2」で示す)の作用の
みを説明する。図6〜図9を参照して、先ず、レチクル
ステージ2の初期位置出しを行なう。これは速度制御用
コイル8に所定方向の電流を流して可動部を一方向に送
り、不図示の原点スイッチを切ったタイミングで、不図
示のレチクルステージ位置計測用の干渉計をリセットす
る。さらに、干渉計の計測値を参照しながら速度制御用
コイル8に電流を流すことにより、図9の始動位置P1
まで可動部(ステージ2、磁石保持板4および磁石5
等)を移動させ、始動位置P1で速度制御用コイル8に
より位置決め制御を行なう。
速用ドライバ29aにより加速用に接続されている4相
のコイル9に電流を流してレチクルステージ2を加速す
る。露光領域に入ったら加速を止め、一定速度になるよ
うに不図示の制御回路により速度制御する。このとき可
動磁石5は加速用ドライバ29aに接続されたコイル9
とは対面しておらず、速度制御の補正力は速度制御ドラ
イバ28で駆動される速度制御用コイル8の電流との相
互作用によるものとなる。一定速度で露光を行ない、露
光領域を外れるころには可動部の磁石5は今度は減速用
ドライバ29bに接続された4相のコイル9と対面する
ようになっているので、この4相のコイル9で可動部を
減速し停止位置P2に停止させる。
で可動部が移動する例を説明したが、走査型露光装置に
おいて露光画角を小さくとったときはレチクルステージ
を端から端まで移動させず途中の位置から途中の位置ま
で移動させた方がレチクルステージの走行時間すなわち
露光時間を短縮でき、生産性が向上する。このような場
合は途中の始動位置、途中の停止位置に対応した加減速
用コイル9が加速または減速用ドライバ29a,29b
と接続されるようスイッチ手段Sを切り替え、図9の場
合と同様に速度制御用コイル8で前記「途中の始動位
置」まで初期位置出しを行なってから走査露光を行なえ
ば良い。
ッチ手段Sの切り替えは露光画角に対応して発生するの
みである。どのコイル9をドライバ29a,29bと接
続するかは画角が決まればそれに対応して決まるので、
一般的な多相コイル駆動リニアモータのように可動部の
位置をセンシングしながら駆動コイルを選択するような
複雑な駆動シーケンスを必要としない。
さは従来例におけるコイル85(図32)の走査方向長
さに相当し、その長さ分の磁束だけを通せば良いのでヨ
ーク6,7の断面積は小さくて済む。また、加減速用コ
イル9は走査方向全体に配置しながらも、加減速時は露
光画角に対応したコイル9のみを駆動しているので加減
速時に無駄な発熱がない。速度制御時は走査方向全長に
わたる速度制御用コイル8を駆動しており無駄がある
が、速度制御時は駆動電流が加減速電流に比べて十分小
さい、つまり無駄の絶対値が十分小さいので問題にはな
らない。さらに露光画角に応じて加速減速コイルが選択
できるので露光画角の変化に柔軟に対応できる。
施例に係るレチクルステージアクチュエータを示す。図
10(a)は、その縦断面および電気系の接続を示す
図、図10(b)はその磁石5部分における横断面図で
ある。本実施例では、第3実施例でセンターヨーク6の
周りに巻き回した複数の加減速用コイル9を上下各々の
サイドヨーク7の周りに巻き回すようにした。これに伴
い加速ドライバ群が2組、減速ドライバ群が2組の構成
となる。また、ステージ2、磁石保持板4および磁石5
等からなる可動部は、磁石5の位置を加減速用コイル9
の厚み分だけセンターヨーク6に寄せた以外は第3実施
例のものと同様に構成されている。
動きのみを説明する。レチクルステージ2を初期位置出
しした後、駆動コイル9に電流を流してレチクルステー
ジ2を加速する。レチクルステージ2の重心と加速のた
めの駆動力のかかる位置とのずれをΔ、加速のための推
力をFとすると、F*Δだけのモーメントがレチクルス
テージベース、延ては本体に作用して本体を揺らした
り、本体を変形させたりしようとするが、本実施例では
加速に同期してドライバ29aに流す電流の量を上下の
加速用コイル9で違う値にし、その結果、上記F*Δだ
けのモーメントを打ち消すモーメントを可動部に与える
ようにしている。
する加速度を計測してこれを上下のドライバの電流差に
比例させてもよいし、予め定められた電流差で上下ドラ
イバを駆動してオープン制御的に付加しても良い。
になるように不図示の制御回路により速度制御する。こ
のとき可動磁石5は加速用ドライバ29aに接続された
コイル9とは対面しておらず、速度制御の補正力は速度
制御ドライバ28で駆動される速度制御用コイル8の電
流との相互作用によるものとなる。
により減速し、停止させる。このときは必ずしも上下の
ドライバ29bに電流差を与えてモーメントを打ち消す
必要はない。ここで本体が揺れても次の同期までに制定
すればよいからである。上記加減速および一定速度に制
御中の位置情報は不図示のレーザ干渉計等の位置計測手
段により得るようになっている。
加速に伴って発生する、レチクルステージ2の重心と駆
動力のかかる位置とのずれに起因する光軸回りのモーメ
ントも打ち消すことができる。この結果さらに本体の変
形や、レチクルとウエハの同期に対する外乱を少なくす
ることができる。
ク7に巻き回す加減速用コイル9のターン数が同じとし
て、上下の加減速用コイル9に電流差を与えて加速時の
反モーメントを打ち消す説明をしたが、力の作用点と可
動部重心の光軸位置に対するずれΔは分かっていて不変
であることが多いので、予めこのΔに相当する分だけ上
下のサイドヨーク7に巻き回す加減速用コイル9のター
ン数に差をつけておいてもよい。こうすると上下の加減
速用コイル9に同じ電流を与えて反モーメントを打ち消
すことができるので加速用ドライバ29aと減速用ドラ
イバ29bを第1実施例と同様、各1群ずつで構成で
き、構成を簡略化することができる。
施例に係る駆動機構の構成を示す斜視図である。この機
構においては、同図に示すように、不図示のベース上に
ガイド1が固定され、ガイド1上に空気膜等の潤滑手段
を介してステージ2が走査方向に滑動自在に支持されて
いる。ステージ2上には工作物3が保持されている。ま
たステージ2の両側には駆動用コイルが固定される。各
駆動コイルは前後に配置される位置決め・速度制御用コ
イル8とそれらの間に配置される加減速用コイル9とか
ら構成される。前後の位置決め・速度制御用コイル8は
電気的に同相に接続され、各駆動コイルは都合2相の構
成となる。また、ステージ2の全ストロークにわたり駆
動コイルの一部に一定の磁場を与えるため、ヨーク26
と磁石27で構成されるリニアモータ固定子が設けられ
る。磁石27は、ヨーク26と接する面がS極となるよ
うに、その裏側の駆動コイル8,9に対向する面がN極
となるように着磁されている。リニアモータ固定子は不
図示のベース上に固定される。駆動コイルには電力増幅
器が接続されているが、加減速用コイル9にはPWM方
式の増幅器29が接続され、大出力が発生できるように
なっており、位置決め・速度制御用コイル8にはリニア
方式の増幅器28が接続され、高い周波数まで電流指令
に応答するようになっている。ステージ2の位置は、不
図示のレーザ干渉計により測定され、不図示の位置・速
度制御回路に帰還されるようになっている。
ック図を用いて説明する。制御装置31から位置指令が
出力されると、その位置指令とレーザ干渉計で計測され
た位置信号との誤差が求められ、その誤差が演算回路3
2に時系列で入力される。演算回路32はこの位置誤差
信号に種々のフィルタ演算を施して電流指令を出力す
る。電流指令はPWM増幅器29とリニア増幅器28の
両方に入力される。加減速時は電流指令として大きな値
が与えられるが、リニア増幅器28は前段に挿入された
クランプ回路34のため入力が一定値以下に制限され、
制限された最大値分の電流しか流さないようになってい
る。一方、PWM増幅器29は指令値分の電流を流す。
つまり加減速時は主にPWM増幅器29により推力が与
えられる。
に入ったときは、電流指令値は小さく、周波数の比較的
高い信号となる。すなわち、高精度を得るために演算回
路32のサーボゲインが高く設定されており、位置決め
動作に入る頃はステージ2はサーボ系が構成する電気的
なばねにより、比較的高い周波数で微小変位の振動をし
ながら目標位置に向かう。この電流指令もPWM増幅器
29とリニア増幅器28の両方に入るが、PWM増幅器
29は上述の比較的高い周波数の入力に応答しきれず、
所望の制御電流をコイルに流すことができない。最悪の
場合、入力波形に対して歪んだ波形の電流を流して無用
の外乱を発生することもあるので、本実施例ではPWM
増幅器29の前段にローパスフィルタ33を挿入して位
置決め時の比較的高い電流指令を遮断するようにしてい
る。
が小さいので、電流指令値はクランプ回路34にクラン
プされずそのまま通過し、リニア増幅器28に入力され
る。リニア増幅器28により電流指令の波形通りの電流
波形が位置決め・速度制御用コイル8に流される。つま
り位置決め・速度制御時は主にリニア増幅器28により
位置決めのための推力が与えられ、高精度の位置決めが
達成される。
施例に係る駆動機構の外観を示す斜視図であり、図14
は図13の駆動機構の構成を示す斜視図である。この駆
動機構は、工作物3を1軸方向に走査露光するためのも
のである。図13および図14に示すように、この装置
では不図示の除振ベース上にステージガイド1が固定さ
れ、ステージガイド1上に空気膜等の潤滑手段を介して
ステージ2が走査方向に滑動自在に支持されている。ス
テージ2上には工作物3が保持されている。また、ステ
ージ2の両側にはコの字形断面を持つ磁石保持板4が固
定され、磁石保持板4の水平部分4aには、磁石5の入
る矩形穴が設けられ、その矩形穴に磁石5が嵌め込まれ
固定されている。ステージ2、工作物3、磁石保持板4
および磁石5が一体となって可動部を構成する。
ヨーク・コイルユニットにより構成される。各ヨーク・
コイルユニットは1個のセンターヨーク6、2個のサイ
ドヨーク7、1相の速度制御用コイル8および複数個の
加減速用コイル9から形成される。センターヨーク6の
周りに長手方向に長さがセンターヨーク6のほぼ全長に
相当する速度制御用コイル8が巻き回され、電気的に単
相になるよう構成される。
手方向に長さが速度制御用コイル8に比べて十分短い加
減速用コイル9が巻き回され、この加減速用コイル9が
複数個センターヨーク6の長手方向に沿って設けられ
る。これら複数個の加減速用コイル9は電気的に独立、
つまり各相ごとに電流が制御できるように構成される。
そしてセンターヨーク6を上下から挟み込むようにサイ
ドヨーク7が固定される。
磁石5がヨーク・コイルユニットにおける加減速用コイ
ル9とサイドヨーク7の間に非接触ではまるような位置
関係で固定される。
うに、固定部に対して厚み方向(鉛直方向)に配置され
る。さらに詳しく言うと、1つの磁石保持板4に含まれ
る2枚の磁石5はN極がセンターヨーク6に向かうよう
に配置される。
ク6に入ってその長手方向の前後に分岐し、センターヨ
ーク6の両端部(前後端部)に達し、前後端部で上下に
分岐して上下のサイドヨーク7に入り、上下のサイドヨ
ーク7では前後端部からの磁束が磁石5に対面する位置
に向かって流れ、そこから対面する磁石5のS極に達す
るような磁気回路を構成する。したがって、この状態で
速度制御用コイル8に電流を流すとフレミングの法則に
より、磁石5は走査方向(センターヨーク6、サイドヨ
ーク7の長手方向)に力を受ける。また磁石5と対面し
ている部分の加減速用コイル9に電流を流した場合にも
同様に磁石5は走査方向に力を受ける。
における電気系回路の接続の様子を示す図であり、可動
部の一部および固定部の片側のみが示してある。図15
(a)はその片側部分の一部破断平面図、図15(b)
はその縦断面および電気系の接続を示す図、そして図1
5(c)はその磁石5部分における横断面図である。図
15(b)に示すように、駆動用ドライバとして4つの
加速用ドライバ29a、4つの減速用ドライバ29b、
および速度制御用ドライバ28が設けられる。加減速用
ドライバを複数個に分割するのは、ドライバの容量に余
裕を持たせるためであり、余裕があれば各々1個ずつで
よい。各加減速用コイル9にはスイッチ手段Sを介して
加速用ドライバ29aの1つ、減速用ドライバ29bの
1つが並列に接続されている。
コイルを加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ2
9bのいずれとも接続しないようにするか、いずれか一
方とのみ接続するように作用する。つまり各コイルが加
速用ドライバ29aおよび減速用ドライバ29bの両方
と接続されることはないように作用する。
を4相ずつの4組とし、これらの組に対し、それぞれ4
個の加速用ドライバ29aまたは4個の減速用ドライバ
29bをスイッチ手段Sによってそれぞれ接続するよう
になっている。すなわち、各コイルを順に各組に割り当
て、4個ずつ離れた同じ組のコイルが同じ加速用ドライ
バ29aまたは減速用ドライバ29bと接続できるよう
になっている。このようにすれば、連続して隣り合う4
個の加減速コイル9を、どんな位置であっても、4個の
加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ29bにそ
れぞれ接続することができる。
用ドライバ29aおよび減速用ドライバ29bにはPW
M増幅器が用いられ、速度制御用ドライバ28にはリニ
ア増幅器が用いられている。
のストローク端まで加速、定速走行および減速する場合
の始動位置P1および停止位置P2の例が示してある。
このときは左端の4相の加減速用コイル9が加速用ドラ
イバ29aのみと接続されるようスイッチSが閉じられ
る。また右端の4相のコイル9が減速用ドライバ29b
とのみ接続されるようにスイッチSが閉じられる。他の
加減速用コイル9はいずれのドライバとも接続されな
い。各4相のコイル9の走査方向の合計長さは(磁石寸
法+加速減速ストローク)よりは長くなるように設計さ
れている。つまり、4相のコイルのみで加速が終了する
ようになっている。すなわち、加速中にコイルの切り替
えがないように構成されている。
る。上記構成における作用を図12の制御ブロック図を
用いて説明する。制御装置31から位置指令が出力され
ると、その位置指令とレーザ干渉計で計測された位置信
号との誤差が求められ、その誤差が演算回路32に入力
される。演算回路32は時系列で入力される位置誤差信
号に種々のフィルタ演算を施して電流指令を出力する。
電流指令はPWM増幅器29とリニア増幅器28の両方
に入力される。加減速時は電流指令として大きな値が与
えられるが、リニア増幅器28は前段に挿入されたクラ
ンプ回路34のため入力が一定値以下に制限され、この
最大値分の電流しか流さないようになっている。
を4相の加速用コイル9に流す。つまり加速時には、主
に加速用PWM増幅器29とそれに接続された4相のコ
イル9により推力が与えられる。
ると、一定速度になるように速度制御を行う。このとき
可動磁石5は加速用コイル9とは対面しておらず、速度
制御の補正力は速度制御ドライバ28で駆動される速度
制御用コイル8の電流との相互作用によるものとなる。
また、定速なので、電気的にも電流指令値は小さく、周
波数の比較的高い信号となる。高精度を得るため演算回
路32の速度ループのサーボゲインが高く設定されてお
り、ステージ2はサーボ系が構成する電気的なばねによ
り比較的高い周波数で微小変位の振動をしながら時々刻
々と目標位置が制御される。この電流指令もPWM増幅
器29とリニア増幅器28の両方に入るが、PWM増幅
器29は上述の比較的高い入力に応答しきれず、所望の
制御電流をコイルに流すことができない。最悪の場合、
入力波形に対して歪んだ波形の電流を流して無用の外乱
を発生することもあるので、本実施例ではPWM増幅器
29の前段にローパスフィルタ33を挿入して位置決め
時の比較的高い周波数の電流指令を遮断するようにして
いる。
が小さいので、クランプ回路34にクランプされずその
まま通過し、リニア増幅器28により電流指令の波形通
りの電流波形が速度制御用コイル8に流される。つまり
速度制御時は、主にリニア増幅器28により速度制御の
ための推力が与えられ、高精度の速度制御が達成でき
る。
PWMドライバ29に接続された4相の減速用コイル9
と可動部の磁石5が対面するようなっているので、この
4相の減速用コイル9で可動部を減速し、停止させる。
減速動作におけるPWM増幅器29とリニア増幅器28
の役割、作用は加速時と同じである。
施例に係る駆動機構の構成を示す斜視図であり、図17
は図16のA−A断面図である。図16に示すように、
不図示のベース上にガイド1が固定され、ガイド1上に
空気膜等の潤滑を介してステージ2が走査方向に滑動自
在に支持されている。ステージ2上には工作物3が保持
されている。またステージ2の両側には駆動用コイル4
4が固定される。また、ステージ2の全ストロークにわ
たり、駆動コイル44の一部に一定の磁場を与えるた
め、ヨーク26と磁石27で構成されるリニアモータ固
定子が設けられる。リニアモータ固定子は不図示のベー
ス上に固定される。
に、送りねじ51による駆動機構が設けられる。送りね
じ駆動機構は、図17に示すように、不図示のベース上
に配置された2個の軸受けユニット50、軸受けユニッ
ト50で支持される送りねじ51、軸受けユニット50
の一つに固定され、送りねじ51を回転させるモータ4
5、送りねじ51によって送られるボールナット52、
ボールナット52を収納するハウジング53、ハウジン
グ53からステージ2に力を伝達する力伝達部56から
構成される。
向に滑動自在に支持するハウジングスライダ55とハウ
ジング53の滑動範囲を制限するハウジングストッパ5
4から構成され、ハウジング53がハウジングストッパ
54に突き当たることにより、ハウジング53からステ
ージ2に力が伝達されるようになっている。
ニア方式の増幅器28が接続され、高い周波数まで電流
指令に応答するようになっており、送りねじ51を回転
させるモータ45にはPWM方式の増幅器29が接続さ
れ、大出力が発生できるようになっている。つまり送り
ねじ機構で加減速を行い、駆動コイル44で位置決めを
行うようになっている。ステージ2の位置は、不図示の
レーザ干渉計により測定され、不図示の位置・速度制御
回路に帰還されるようになっている。
示す。図12と共通または対応する部分には同一の符号
を付してある。図16〜図18の駆動機構は、構成、動
作とも図11〜図12のものとほぼ同じであるが、位置
決め時に送りねじ機構の力伝達を遮断する方法が異な
る。つまり位置決め時には電流波形の周波数で信号を遮
断するのではなく、ボールナット52を収納したハウジ
ング53を両側のハウジングストッパ54との間で非接
触になるようにして送りねじ51からの力の伝達を遮断
し、位置決めコイル44のみで高精度な位置制御を実現
している。
それぞれ本発明の第8の実施例に係る駆動機構の外観お
よび構成を示す斜視図である。同図に示すように、不図
示のベース上にガイド1が固定され、ガイド1上に空気
膜等の潤滑手段を介してステージ2が走査方向に滑動自
在に支持されている。ステージ2上には工作物3が保持
され、ステージ2の両側にはリニアモータ可動子70で
あるところのヨーク66と4極の磁石67が固定され
る。また、リニアモータ固定子としては、固定子枠71
および固定子枠71に固定される片側6個のコイルユニ
ットが設けられている。固定子枠71は不図示のベース
上に固定される。各コイルユニットは上部の位置決め・
速度制御用コイル8と下部の加減速コイル9とから構成
される。各加減速コイル9はPWM増幅器29に接続さ
れ、各位置決め・速度制御用コイル8はリニア増幅器2
8に接続される。図20は、図19の駆動機構の電気系
接続図である。
に動かすときの6個のコイルユニット(片側のみ)の駆
動シーケンスは図21に示す通りである。つまり、不図
示のエンコーダによってコイル8,9と磁石67との相
対位置を検出し、これに基づいて駆動コイルおよびその
電流を流す方向を選択する。図21において、
向に流れる電流、および紙面に垂直で下方向に流れる電
流を示す。
に、6個のコイルユニットを選択的に使用すること以外
は第5の実施例の場合と同じであり、1個のコイルユニ
ットあたりの制御は図12の場合と同じである。
施例に係る駆動機構の構成を示す。同図において、ベー
ス80上にガイド1が固定され、ガイド1上に一次元方
向に滑動自在に可動ステージ2が設けられる。ベース8
0上にスペーサ71を介して第1ヨーク6が固定され、
第1ヨーク6には図34に示す磁石87と同様に厚み方
向に着磁され可動ステージ2のストローク全体に渡って
配置される単極磁石27が固定されている。ベース80
上には、また、スペーサ71を介して第2ヨーク7が第
1ヨーク6と長手方向が略平行になるように空隙を介し
て固定される。さらに、第1ヨーク6と第2ヨーク7の
両端付近には第1ヨーク6と第2ヨーク7を橋渡しする
形で前記単極磁石とは別に永久磁石72が配置されてい
る。これらの2個の永久磁石72は、前記単極磁石27
と平行で向きは反対になるように着磁される。つまり、
単極磁石27は第1ヨーク6とS極で、第2ヨーク7と
N極で対面しているが、2個の永久磁石72は、いずれ
も第1ヨーク6とN極で対面し、第2ヨーク7とS極で
対面するようになっている。以後これらのヨーク6,7
の両端に配置される永久磁石72を電流磁束規制磁石と
称する。
7,72を配置した結果、ストローク全体にわたる単極
磁石27のN極から発生した磁束は単極磁石27と第2
ヨーク7との間の空隙を通って第2ヨーク7に入り、第
2ヨーク7の両端へ流れ、第2ヨーク7の両端で電流磁
束規制磁石72のS極に入る。一方、第1ヨーク6の両
端で電流磁束規制磁石72のN極から発生した磁束は第
1ヨーク6に入って中央に向かい、ストローク全体にわ
たる単極磁石27のS極に入る。
極磁石27の周りを巻き回すように、両者に非接触で可
動コイル44が配置され、可動コイル44は、前記一次
元方向に滑動自在の可動ステージ2に固定される。
を流すと、図32に示した従来例と同様に可動ステージ
2はガイドされた方向に力を受ける。このとき従来例で
はヨークが一体で構成されていたので、コイル電流によ
る磁束はヨーク86内を循環したが、本実施例ではヨー
クが電流磁束規制磁石72で第1ヨーク6と第2ヨーク
7に分離されているので、コイル電流による磁束は強磁
性体の循環経路を失う。この結果、コイル電流によって
第1ヨーク6および第2ヨーク7に発生する磁束は僅か
なものとなる。したがって、ヨーク6,7の厚さをスト
ローク全体にわたる単極磁石27の磁束を循環できる最
低限の厚さ程度にしても、可動コイル44に大きな電流
を流して可動ステージ2に大きな推力を発生させること
が可能となる。
の実施例に係る駆動機構の構成を示す。同図の機構で
は、不図示のベース上にガイド1が固定され、ガイド1
上に一次元方向に滑動自在に可動ステージ2が設けられ
ている。また、第1ヨーク6が前記ベース上に固定さ
れ、第1ヨーク6の両端部の上部には電流磁束規制磁石
72が固定されている。電流磁束規制磁石72の上には
第2ヨーク7が固定されている。第2ヨーク7の周りに
は可動ステージ2のストローク全体に渡って配置される
単相コイル8が巻き回され固定されている。単相コイル
8と第1ヨーク6との空隙には単相コイル8と単極で対
面する可動磁石5が配置され、枠4によって可動ステー
ジ2に固定される。可動磁石5は本実施例ではN極が上
になるよう厚み方向に着磁され、両端に配置される2個
の電流磁束規制磁石72は、可動磁石5と平行で向きは
反対になるように着磁される。つまり、可動磁石5は第
1ヨーク6とN極で対面し、第2ヨーク7とS極で対面
するようになっている。
を通って第2ヨーク7に入り、第2ヨーク7の両端へ流
れ、この第2ヨーク7の両端で電流磁束規制磁石72の
S極に入る。一方、第1ヨーク6の両端で電流磁束規制
磁石72のN極から発生した磁束は第1ヨーク6に入っ
て中央に向かい、単相コイル8の巻線の一部および空隙
を通って可動磁石5のS極に入る。
流すと、図35に示した従来例と同様に可動ステージ2
はガイドされた方向に力を受ける。このとき従来例では
ヨークが一体で構成されていたので、コイル電流による
磁束はヨーク96内を循環したが、本実施例ではヨーク
が電流磁束規制磁石72で第1ヨーク6と第2ヨーク7
に分離されているので、コイル電流による磁束は強磁性
体の循環経路を失う。この結果、コイル電流によって第
1ヨーク6および第2ヨーク7に発生する磁束は僅かな
ものとなる。したがって、ヨーク6,7の厚さをストロ
ーク全体にわたる可動磁石5の磁束を循環できる最低限
の厚さ程度にしても、可動コイル44に大きな電流を流
して可動ステージ2に大きな推力を発生させることが可
能となる。
の第11の実施例に係る駆動機構を用いたレチクルステ
ージの構成を示す斜視図であり、図24は全体図、図2
5はヨークおよびコイル部分破断図、図26は可動部と
固定部とをずらして示した分解図である。図24〜図2
6に示すレチクルステージでは、不図示の除振ベース上
にステージガイド1が固定され、ステージガイド1上に
空気膜等の潤滑手段を介してステージ2が走査方向に滑
動自在に支持されている。ステージ2上にはレチクル3
が保持されている。またステージ2の両側にはコの字形
断面を持つ磁石保持板4が固定され、磁石保持板4の水
平部分4aに図に示すように磁石の入る矩形穴が設けら
れ、その矩形穴に磁石5が嵌め込まれ固定されている。
ステージ2、レチクル3、磁石保持板4および磁石5が
一体となって可動部を構成する。
ヨーク・コイルユニット10により構成される。各ユニ
ット10は、センターヨーク6、2個のサイドヨーク
7、4個の電流磁束規制磁石72、1相の速度制御用コ
イル8および複数個の加減速用コイル9により形成され
る。ユニット10を作成する際は、例えば、先ずセンタ
ーヨーク6の周りに長手方向の長さがセンターヨーク6
のほぼ全長に相当する速度制御用コイル8が巻き回され
る。速度制御用コイル8は電気的に単相になるように構
成される。速度制御用コイル8の周りにはさらに長手方
向の長さが速度制御用コイル8に比べて十分短い加減速
用コイル9が巻き回され、この加減速用コイル9が複数
個センターヨーク6の長手方向に沿って設けられる。こ
れらの複数個の加減速用コイル9は電気的に独立、つま
り各相ごとに電流が制御できるように構成される。次
に、センターヨーク6を上下から挟み込むように4個の
電流磁束規制磁石72を介して2個のサイドヨーク7が
固定される。
石5部分がヨーク・コイルユニット10における加減速
用コイル9とサイドヨーク7との間にこれらとは非接触
ではまるような位置関係で組み立てられる。
矢印で示すように厚み方向(鉛直方向)に着磁されてい
る。すなわち、1つの磁石保持板4に取り付けられた2
枚の磁石5はN極が互いに向き合うように着磁されてい
る。
規制磁石72も鉛直方向に着磁されている。各電流磁束
規制磁石72は、S極がセンターヨーク6と対面し、N
極がサイドヨーク7と対面するように配置される。
した磁束は空隙およびコイル8,9の巻線の一部を通っ
てセンターヨーク6に入り、センターヨーク6で長手方
向前後に分岐し、センターヨーク6の両端部(前後端
部)に達し、そこで電流磁束規制磁石72のS極に入
る。一方、磁石5のS極から発生した磁束は空隙を通っ
てサイドヨーク7に入り、そこで長手方向前後に分岐
し、サイドヨーク7の両端部(前後端部)に達し、そこ
で電流磁束規制磁石72のN極に入る。以上のように可
動部の磁石5と固定部の磁石72との間で互いに循環す
るような磁気回路を構成している。
すと、フレミングの法則により磁石5は走査方向(ヨー
ク6,7の長手方向)に力を受ける。また、磁石5と対
面している部分の加減速用コイル9に電流を流しても同
様に磁石5は走査方向に力を受ける。
制御用コイル8に電流を流すと、電流による磁束がセン
ターヨーク6に発生する。従来であれば、この磁束はサ
イドヨーク7を通って循環しようとするところである。
ところが、本実施例においては、センターヨーク6とサ
イドヨーク7との間に電流磁束規制磁石72が設けられ
ており、コイル8,9の電流によってセンターヨーク6
に発生した磁束がサイドヨーク7を通って循環するのを
妨げる役目を果たす。電流を起磁力とする磁気回路にお
いて、磁石は磁気抵抗の大きな材質だからである。この
結果、電流による磁束はヨーク内に発生しにくくなる。
したがって、ヨーク断面積の設計において電流による磁
束の飽和を余り考慮する必要がなくなり、ヨーク断面積
をより小さくすることができる。また、電流の過渡特性
も向上させることができる。
ける電気系回路の接続の様子を示す図であり、アクチュ
エータ(可動部および固定部)部分は可動部の一部およ
び固定部の片側のみが示してある。図27(a)はアク
チュエータの片側部分の一部破断平面図、図27(b)
はアクチュエータ部分の縦断面および電気系の接続を示
す図、そして図27(c)はアクチュエータの磁石5部
分における横断面図である。図27(b)に示すよう
に、駆動用ドライバとして4個の加速用ドライバ29
a、4個の減速用ドライバ29b、および1個の速度制
御用ドライバ28が設けられている。加減速用ドライバ
を複数個に分割するのは、ドライバの容量に余裕を持た
せるためであり、余裕があれば各々1個ずつでよい。各
加減速用コイル9にはスイッチ手段Sを介して加速用ド
ライバ29aの1つ、減速用ドライバ29bの1つが並
列に接続されている。
コイルを加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ2
9bのいずれとも接続しないようにするか、いずれか一
方とのみ接続するように作用する。つまり各コイル9が
加速用ドライバ29aおよび減速用ドライバ29bの両
方と接続されることはない。
を4相ずつの4組とし、これらの組に対し、それぞれ4
個の加速用ドライバ29aまたは4個の減速用ドライバ
29bをスイッチ手段Sによってそれぞれ接続するよう
になっている。すなわち、各コイルを順に各組に割り当
て、4個ずつ離れた同じ組のコイルが同じ加速用ドライ
バ29aまたは減速用ドライバ29bと接続できるよう
になっている。このようにすれば、連続して隣り合う4
個の加減速用コイル9を、どんな位置であっても、4個
の加速用ドライバ29aまたは減速用ドライバ29bに
それぞれ接続することができる。
のストローク端まで加速、定速走行および減速する場合
の始動位置P1および停止位置P2の例が示してある。
このときは左端の4相のコイル9が加速用ドライバ29
aのみと接続されるようスイッチSが閉じられる。また
右端の4相のコイル9が減速用ドライバ29bとのみ接
続されるようにスイッチSが閉じられる。他の加減速用
コイル9はいずれのドライバとも接続されない。各4相
のコイル9の走査方向の合計長さは(磁石寸法+加速ス
トローク+減速ストローク)よりは長くなるように設計
されている。つまり、4相のコイルのみで加速が終了す
るようになっている。換言すると加速中にコイルの切り
替えがないように構成されている。
型露光装置のレチクルステージ82として用いた場合の
作用を、ウエハステージ103とレチクルステージ82
は同期して動くものとして、以下にレチクルステージ8
2(図24〜図27においては符号「2」で示す)の作
用のみを説明する。図24〜図27を参照して、先ず、
レチクルステージ2の初期位置出しを行なう。これは速
度制御用コイル8に所定方向の電流を流して可動部を一
方向に送り、不図示の原点スイッチを切ったタイミング
で、不図示のレチクルステージ位置計測用の干渉計をリ
セットする。さらに、干渉計の計測値を参照しながら速
度制御用コイル8に電流を流すことにより、図27の始
動位置P1まで可動部(ステージ2、磁石保持板4およ
び磁石5等)を移動させ、始動位置P1で速度制御用コ
イル8により位置決め制御を行なう。
速用ドライバ29aにより加速用に接続された4相のコ
イル9に電流を流してレチクルステージ2を加速する。
露光領域に入ったら加速を止め、一定速度になるように
不図示の制御回路により速度制御する。このとき可動磁
石5は加速用ドライバ29aに接続されたコイル9とは
対面しておらず、速度制御の補正力は速度制御ドライバ
28で駆動される速度制御用コイル8の電流との相互作
用によるものとなる。一定速度で露光を行ない、露光領
域を外れるころには可動部の磁石5は今度は減速用ドラ
イバ29bに接続された4相のコイル9と対面するよう
になっているので、この4相のコイル9で可動部を減速
し停止位置P2に停止させる。
まで可動部が移動する例を説明したが、走査型露光装置
において露光画角を小さくとったときはレチクルステー
ジを端から端まで移動させず途中の位置から途中の位置
まで移動させた方がレチクルステージの移動時間すなわ
ち露光時間を短縮でき、生産性が向上する。このような
場合は途中の始動位置、途中の停止位置に対応した加減
速用コイル9が加速または減速用ドライバ29a,29
bと接続されるようスイッチ手段Sを切り替え、図27
の場合と同様に速度制御用コイル8で前記「途中の始動
位置」まで初期位置出しを行なってから走査露光を行な
えば良い。
ッチ手段Sの切り替えは露光画角に対応して発生するの
みである。どのコイル9をドライバ29a,29bと接
続するかは画角が決まればそれに対応して決まるので、
一般的な多相コイル駆動リニアモータのように可動部の
位置をセンシングしながら駆動コイルを選択するような
複雑な駆動シーケンスを必要としない。
さは従来例におけるコイル85(図262)の走査方向
長さに相当し、その長さ分の磁束だけを通せば良いので
ヨーク6,7の断面積は小さくて済む。また、加減速用
コイル9は走査方向全体に配置しながらも、加減速時は
露光画角に対応したコイル9のみを駆動しているので加
減速時に無駄な発熱がない。速度制御時は走査方向全長
にわたる速度制御用コイル8を駆動しており無駄がある
が、速度制御時は駆動電流が加減速電流に比べて十分小
さい、つまり無駄の絶対値が十分小さいので問題にはな
らない。さらに露光画角に応じて加速減速コイルが選択
できるので露光画角の変化に柔軟に対応できる。
の実施例に係るレチクルステージアクチュエータを示
す。図28(a)は、その縦断面および電気系の接続を
示す図、図28(b)はその磁石5部分における横断面
図である。本実施例では、第11実施例でセンターヨー
ク6の周りに巻き回した複数の加減速用コイル9を上下
各々のサイドヨーク7の周りに巻き回すようにした。こ
れに伴い加速ドライバ群が2組、減速ドライバ群が2組
の構成となる。なお、ステージ2、磁石保持板4および
磁石5等からなる可動部は、磁石5の位置を加減速用コ
イル9の厚み分だけセンターヨーク6に寄せた以外は第
11実施例のものと同様に構成されている。
の動きのみを説明する。レチクルステージ2を初期位置
出しした後、駆動コイルに電流を流してレチクルステー
ジを加速する。レチクルステージの重心と加速のための
駆動力のかかる位置とのずれをΔ、加速のための推力を
Fとすると、F*Δだけのモーメントがレチクルステー
ジベース、延ては本体に作用して本体を揺らしたり、本
体を変形させたりしようとするが、本実施例では加速に
同期してドライバ29aに流す電流の量を上下の加速用
コイル9で違う値にし、その結果、上記F*Δだけのモ
ーメントを打ち消すモーメントを可動部に与えるように
している。
する加速度を計測してこれを上下のドライバの電流差に
比例させてもよいし、予め定められた電流差で上下ドラ
イバを駆動してオープン制御的に付加しても良い。
になるように不図示の制御回路により速度制御する。こ
のとき可動磁石5は加速用ドライバ29aに接続された
コイル9とは対面しておらず、速度制御の補正力は速度
制御ドライバ28で駆動される速度制御用コイル8の電
流との相互作用によるものとなる。
により減速し、停止させる。このときは必ずしも上下の
ドライバ29bに電流差を与えてモーメントを打ち消す
必要はない。ここで本体が揺れても次の同期までに制定
すればよいからである。上記加減速および一定速度に制
御中の位置情報は不図示のレーザ干渉計等の位置計測手
段により得るようになっている。
加速に伴って発生する、レチクルステージ2の重心と駆
動力のかかる位置とのずれに起因する光軸回りのモーメ
ントも打ち消すことができる。この結果さらに本体の変
形や、レチクルとウエハの同期に対する外乱を少なくす
ることができる。
ク7に巻き回す加減速用コイル9のターン数が同じとし
て、上下の加減速用コイル9に電流差を与えて加速時の
反モーメントを打ち消す説明をしたが、力の作用点と可
動部重心の光軸位置に対するずれΔは分かっていて不変
であることが多いので、予めこのΔに相当する分だけ上
下のサイドヨーク7に巻き回す加減速用コイル9のター
ン数に差をつけておいてもよい。こうすると上下の加減
速用コイル9に同じ電流を与えて反モーメントを打ち消
すことができるので加速用ドライバ29aと減速用ドラ
イバ29bを第1実施例と同様、各1群ずつで構成で
き、構成を簡略化することができる。
示した駆動機構またはレチクルステージは、いずれも図
31の走査型露光装置のレチクルステージ82として適
用することができる。
振手段101を介して本体定盤102が支持されてい
る。本体定盤102上にはXY平面(水平面)内に移動
可能なウエハステージ103が設けられ、また本体支持
部材105を介して投影光学系106が固定されてい
る。支持部材105の上方にはレチクルステージベース
80が設けられ、レチクルステージベース80上を不図
示のガイドに沿って1軸方向に走査可能なレチクルステ
ージ82が設けられている。104は、ウエハステージ
103の位置を計測するための干渉計第2基準、107
はレチクルステージ82の位置を計測するための干渉計
第1基準、108はレチクルステージ82上のレチクル
(不図示)を通してウエハステージ103上のウエハ
(不図示)に露光エネルギーを与えるための照明系であ
る。
レチクルステージ82上のレチクルのうちレチクルステ
ージ82の走査方向に垂直な細長い矩形または円弧領域
のみなので、そのレチクルのパターン全体をウエハ上に
露光するにはレチクルステージ82とウエハステージ1
03の双方を走査する必要がある。走査は一定速度で行
なわれ、走査中のレチクルステージ82とウエハステー
ジ103の速度比は、投影光学系108の縮小倍率に正
確に一致させる。レチクルステージ82の位置は干渉計
第1基準107を介して、ウエハステージ103の位置
は干渉計第2基準104を介して、不図示のレーザ干渉
計で計測され不図示の制御系に帰還されるようになって
いる。
およびレチクルステージ82を初期位置に移動し、ウエ
ハステージ103およびレチクルステージ82を加速す
る。両者が照明光の当たる領域に入る前に位置関係が所
定の位置関係となり、速度比が投影光学系108の縮小
倍率に等しくなる状態に収束させる。この状態を保って
露光し、照明光の当たる領域から外れたら両者を適当に
減速する。
たデバイスの生産方法の実施例を説明する。
半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷(ステップ7)する。
4)の詳細なフローを示す。ステップ11(酸化)では
ウエハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)で
はウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極
形成)ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ス
テップ14(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち
込む。ステップ15(レジスト処理)ではウエハに感光
剤を塗布する。ステップ16(露光)では上記説明した
露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付
露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハを
現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレ
ジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジス
ト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストに
製造することができる。
駆動軸に、加減速用推力発生手段と、速度制御用推力発
生手段を並列に設け、加減速の際は、前記加減速用推力
発生手段の加減速区間に位置する部分で駆動するように
したため、加減速用推力を落とすことなく、駆動機構お
よびこのような駆動機構を組み込んだ装置の小型軽量化
およびコストダウンを図ることができる。
幅器、およびリニア増幅方式の電力増幅器を平行して設
けるようにした場合、大きな加減速力を出しながら、高
精度な位置決め・速度制御が可能となる。
単相リニアモータにおいて、ヨークの一部を永久磁石で
構成することにより、ヨークの断面積(特に厚み)を減
少することが可能となり、駆動機構の小型軽量化を図る
ことができる。
を示す斜視図である。
である。
ブロック図および断面構成図である。
を示す斜視図である。
である。
御ブロック図および断面構成図である。
成を示す斜視図である。
る。
観を示す斜視図である。
る。
路を示す接続図である。
成を示す斜視図である。
ック図である。
観および構成を示す斜視図である。
である。
示す図である。
観および構成を示す斜視図である。
外観および構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
視図である。
る。
制御ブロック図および断面構成図である。
装置の動作を示すフローチャートである。
装置の動作を示すフローチャートである。
型露光装置の全体構成を示す図である。
る。
ある。
ーク内の磁束の流れを示す図である。
視図である。
ル)、4:磁石保持板、4a:磁石固定枠、5:磁石、
6:センタ−ヨーク、7:サイドヨーク、8:位置決め
・速度制御用コイル、9:加減速用コイル、10:固定
子(ヨーク・コイルユニット)、26:ヨーク、27:
磁石、28:リニア増幅器(速度制御ドライバ)、2
9:PWM増幅器、29a:加速用ドライバ、29b:
減速用ドライバ、31:制御装置、32:演算回路、3
3:ローパスフィルタ、34:クランプ回路、44:駆
動コイル、45:モータ、50:軸受けユニット、5
1:送りねじ、52:ボールナット、53:ハウジン
グ、54:ハウジングストッパ、55:ハウジングスラ
イダ、56:力伝達部、57:エアパッド、64:駆動
コイル、67:磁石、70:可動子、71:固定子枠、
72:電流磁束規制磁石、80:レチクルステージベー
ス、81:ガイド、82:レチクルステージ、83:レ
チクル、85:可動コイル、86:ヨーク、87:永久
磁石、100:基準ベース、101:除振手段、10
2:本体定盤、103:ウエハステージ、104:干渉
計第2基準、105:本体支持部材、106:投影光学
系、107:干渉計第1基準、108:照明系。
Claims (27)
- 【請求項1】 所定の方向に移動可能なステージと、該
移動方向に沿って配置されたステージ加減速用推力発生
手段と、該推力発生手段と並列に設けられたステージ速
度制御用推力発生手段と、前記加減速用推力発生手段の
うちステージ加速区間に位置する部分でステージ加速用
推力を発生させる加速手段と、前記加減速用推力発生手
段のうちステージ減速区間に位置する部分でステージ減
速用推力を発生させる減速手段と、少なくとも前記加速
区間と減速区間との間の所定範囲において前記速度制御
用推力発生手段によるステージ推力を制御する速度制御
手段とを具備することを特徴とするステージ装置。 - 【請求項2】 前記加減速用推力発生手段および速度制
御用推力発生手段は、リニアモータであり、その可動部
がその固定部のコイルに対して単極で対面する磁石を有
し、前記固定部が前記ステージの全ストロークにわたり
前記磁石の位置に応じて前記コイルの一部に一定の磁場
を与えるためのヨーク、ならびに前記コイルとして、こ
のヨークの周囲に巻き回された単相の速度制御用コイル
および複数個の多相の加減速用コイルを具備することを
特徴とする請求項1記載のステージ装置。 - 【請求項3】 前記加減速用推力発生手段および速度制
御用推力発生手段は、リニアモータであり、その可動部
がその固定部のコイルに対して2極で対面し、かつこれ
らの2極が少なくとも前記ステージの最大ストローク距
離だけ離れて設けられた磁石を有し、前記固定部が前記
ステージの全ストロークにわたり前記磁石の位置に応じ
て前記コイルの一部に一定の磁場を与えるためのヨー
ク、ならびに前記コイルとして、このヨークの周囲に巻
き回された単相の速度制御用コイルおよび複数個の多相
の加減速用コイルを各2組を具備し、前記各2組のコイ
ルは前記磁石の2極間距離と実質的に同一の距離だけ離
れて設けられていることを特徴とする請求項1記載のス
テージ装置。 - 【請求項4】 前記ヨークが、前記ステージの移動方向
に平行で少なくとも該ステージの全ストロークにわたる
直線部分を有するメインヨークと、このメインヨークの
直線部分と少なくとも前記ステージの全ストロークにわ
たり平行な直線部分を有し、かつ該ストローク外で前記
メインヨークに磁気的に接続されたサイドヨークとから
なることを特徴とする請求項2または3記載のステージ
装置。 - 【請求項5】 前記複数個の多相の加減速用コイルが前
記単相の速度制御用コイルの外側に巻き回されているこ
とを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載のステー
ジ装置。 - 【請求項6】 前記単相の速度制御用コイルが前記メイ
ンヨークに、前記複数個の多相の加減速用コイルが前記
サイドヨークに、巻き回されていることを特徴とする請
求項4記載のステージ装置。 - 【請求項7】 前記サイドヨークが、前記メインヨーク
の両側に配置され、前記単相の速度制御用コイルが前記
メインヨークに1組、前記複数個の多相の加減速用コイ
ルが前記2個のサイドヨークに1組ずつ2組、巻き回さ
れていることを特徴とする請求項4記載のステージ装
置。 - 【請求項8】 前記リニアモータの可動部および固定部
を前記ステージの両側に1組ずつ配置したことを特徴と
する請求項2〜7のいずれかに記載のステージ装置。 - 【請求項9】 前記加速手段、減速手段および速度制御
手段は、前記ステージの位置を検出する位置検出手段
と、前記位置検出手段により検出される前記ステージの
現在位置および目標位置に基づき電流指令を出力する指
令手段と、この電流指令に応じた電流を出力するPWM
方式の加速用電力増幅器および減速用電力増幅器と、前
記加速用電力増幅器の出力を前記ステージ加速区間に位
置する加減速用推力発生手段に、前記減速用電力増幅器
の出力を前記ステージ減速区間に位置する加減速用推力
発生手段に接続するスイッチ手段と、前記電流指令に応
じた電流を出力して前記速度制御用推力発生手段を駆動
するリニア方式の速度制御用電力増幅器とを具備するこ
とを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のステー
ジ装置。 - 【請求項10】 ステージの位置を検出する位置検出手
段、前記位置検出手段により検出される前記ステージの
現在位置および目標位置に基づき電流指令を出力する指
令手段、この電流指令に応じた電流を出力する電力増幅
器、およびこの電流により前記ステージを駆動する駆動
手段を有するステージ装置において、前記電力増幅器お
よび前記駆動手段は、PWM方式の第1の電力増幅器お
よびその出力電流により前記ステージを駆動する第1の
駆動手段と、リニア方式の第2の電力増幅器およびその
出力電流により前記ステージを駆動する第2の駆動手段
とを並列に具備することを特徴とするステージ装置。 - 【請求項11】 前記ステージの加減速時には前記第1
の電力増幅器を介して前記ステージを駆動し、前記ステ
ージの位置決め・速度制御時には前記第2の電力増幅器
を介して前記ステージを駆動するように前記第1または
第2の電力増幅器を選択する手段を具備することを特徴
とする請求項10記載のステージ装置。 - 【請求項12】 前記第1および第2駆動手段は、リニ
アモータであり、その可動部は、前記第1の電力増幅器
に接続した加減速用コイル、および前記第2の電力増幅
器に接続した位置決め・速度制御用コイルを具備するこ
とを特徴とする請求項10または11記載のステージ装
置。 - 【請求項13】 前記第1および第2駆動手段は、リニ
アモータであり、その可動部がその固定部のコイルに対
して単極で対面する磁石を有し、前記固定部が前記ステ
ージの全ストロークにわたり前記磁石の位置に応じて前
記コイルの一部に一定の磁場を与えるためのヨーク、な
らびに前記コイルとして、このヨークの周囲に巻き回さ
れた単相の速度制御コイルおよび複数個の多相の加減速
コイルを具備することを特徴とする請求項10または1
1記載のステージ装置。 - 【請求項14】 前記複数個の多相の加減速用コイルが
前記単相の速度制御用コイルの外側に巻き回されている
ことを特徴とする請求項13記載のステージ装置。 - 【請求項15】 前記ヨークが、前記ステージの移動方
向に平行で少なくとも該ステージの全ストロークにわた
る直線部分を有するメインヨークと、このメインヨーク
の直線部分と少なくとも前記ステージの全ストロークに
わたり平行な直線部分を有し、かつ該ストローク外で前
記メインヨークに磁気的に接続されたサイドヨークとか
らなることを特徴とする請求項13記載のステージ装
置。 - 【請求項16】 前記単相の速度制御用コイルが前記メ
インヨークに、前記複数個の多相の加減速用コイルが前
記サイドヨークに、巻き回されていることを特徴とする
請求項13記載のステージ装置。 - 【請求項17】 前記サイドヨークが、前記メインヨー
クの両側に配置され、前記単相の速度制御用コイルが前
記メインヨークに1組、前記複数個の多相の加減速用コ
イルが前記2個のサイドヨークに1組ずつ2組、巻き回
されていることを特徴とする請求項13に記載のステー
ジ装置。 - 【請求項18】 前記リニアモータの可動部および固定
部を前記ステージの両側に1組ずつ配置したことを特徴
とする請求項12〜17のいずれかに記載のステージ装
置。 - 【請求項19】 前記第2駆動手段は、前記ステージに
固定されたコイルと、このコイルに磁場を与えるための
磁石およびヨークとを有するリニアモータであり、前記
第1駆動手段は送りねじ機構と、この送りねじ機構の力
を前記ステージに伝達する力伝達部とを有することを特
徴とする請求項10または11記載のステージ装置。 - 【請求項20】 前記第1および第2駆動手段は、リニ
アモータであり、その可動部が多極の磁石ユニットを有
し、固定部が複数個の偏平コイルユニットを有し、前記
偏平コイルユニットは前記第1の電力増幅器に接続され
る加減速コイルと、前記第2電力増幅器に接続される位
置決め・速度制御コイルとを有することを特徴とする請
求項10または11記載のステージ装置。 - 【請求項21】 単相コイルと、この単相コイルの軸方
向にこの単相コイルとの相対移動が自在な第1の永久磁
石と、強磁性体からなり前記単相コイルを軸方向に貫通
する第1のヨークと、前記単相コイルの外側に前記第1
のヨークと平行に配置された部分を有し前記第1の永久
磁石からの磁束を前記単相コイルの巻線を横切って循環
させる閉磁路を前記第1のヨークおよび第1の永久磁石
とともに形成する強磁性体からなる第2のヨークと、前
記第1のヨークと第2のヨークを接続する第2の永久磁
石を具備することを特徴とするリニアモータ。 - 【請求項22】 前記単相コイルが可動であり、前記第
1および第2のヨー1クは、前記単相コイルのストロー
ク全体にわたる直線部分を有する固定ヨークであり、前
記第1の永久磁石は、前記第1または第2のヨークの直
線部分に固定されて前記単相コイルのストローク全体に
わたり前記単相コイルと単極で対面する磁石であり、前
記第2の磁石は前記ストロークの外で前記第1のヨーク
と第2のヨークを接続することを特徴とする請求項21
記載のリニアモータ。 - 【請求項23】 前記第1の永久磁石は、前記単相コイ
ルと単極で対面する可動磁石であり、前記第1および第
2のヨークは、前記可動磁石のストローク全体にわたる
直線部分を有する固定ヨークであり、前記単相コイルは
前記可動磁石のストローク全体にわたって前記第1のヨ
ークに巻き回されており、前記第2の磁石は前記ストロ
ークの外で前記第1のヨークと第2のヨークを接続する
ことを特徴とする請求項21記載のリニアモータ。 - 【請求項24】 前記単相コイルは速度制御用であり、
さらにこの単相コイルよりも短い加減速用コイルが複数
個、多相でこの速度制御用単相コイルと並列に巻き回さ
れていることを特徴とする請求項23記載のリニアモー
タ。 - 【請求項25】 請求項1記載の前記加減速用推力発生
手段および速度制御用推力発生手段として、または請求
項10記載の第1および第2の駆動手段として、前記請
求項21〜24のいずれかに記載のリニアモータを用い
たことを特徴とするステージ装置。 - 【請求項26】 前記請求項1〜20のいずれかに記載
のステージ装置をレチクルステージとして用いたことを
特徴とする走査露光装置。 - 【請求項27】 前記請求項26に記載の走査露光装置
を用いてデバイスを生産することを特徴とするデバイス
生産方法。
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EP96307275A EP0768705B1 (en) | 1995-10-09 | 1996-10-04 | Stage position control apparatus, and stage apparatus, exposure apparatus and device production method using the stage postion control apparatus |
DE69634768T DE69634768T8 (de) | 1995-10-09 | 1996-10-04 | Vorrichtung zur Steuerung der Position eines Trägertisches, sowie Trägertischvorrichtung, Belichtungsgerät und Herstellungsverfahren unter Verwendung derselben |
KR1019960044664A KR100242923B1 (ko) | 1995-10-09 | 1996-10-09 | 스테이지장치 및 리니어모터와, 상기 스테이지장치를사용한 노광장치 및 디바이스생산방법 |
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---|---|
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6891599B2 (en) | 2001-11-28 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage apparatus and exposure apparatus |
US7193493B2 (en) | 2002-09-30 | 2007-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
CN107925336A (zh) * | 2015-07-20 | 2018-04-17 | 默托特洛尼克斯有限公司 | 横向磁通线性电机 |
CN113474267A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-10-01 | 村田机械株式会社 | 盖开闭装置 |
Families Citing this family (69)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3501559B2 (ja) * | 1995-06-27 | 2004-03-02 | キヤノン株式会社 | リニア・モータ装置 |
US6128069A (en) * | 1997-03-13 | 2000-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage mechanism for exposure apparatus |
JP3890136B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2007-03-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置 |
JP3155936B2 (ja) | 1997-06-26 | 2001-04-16 | キヤノン株式会社 | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 |
JPH1198811A (ja) * | 1997-09-24 | 1999-04-09 | Canon Inc | リニアモータ、これを用いたステージ装置や露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JP3630964B2 (ja) | 1997-12-26 | 2005-03-23 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JPH11191585A (ja) | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JP3526202B2 (ja) * | 1998-02-03 | 2004-05-10 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
JPH11287880A (ja) * | 1998-04-01 | 1999-10-19 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP3869938B2 (ja) | 1998-06-05 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP3745167B2 (ja) * | 1998-07-29 | 2006-02-15 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ駆動方法 |
JP3907357B2 (ja) | 1998-11-12 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 段差付きコイル製造方法 |
US20040222708A1 (en) * | 1998-11-13 | 2004-11-11 | Barry Reginald Hobson | Electric oscillatory machine |
US6590355B1 (en) * | 1999-06-07 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Linear motor device, stage device, and exposure apparatus |
JP2001230305A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Canon Inc | 支持装置 |
US6405659B1 (en) | 2000-05-01 | 2002-06-18 | Nikon Corporation | Monolithic stage |
US6496060B2 (en) * | 2000-06-15 | 2002-12-17 | Nikon Corporation | Hybridized, high performance PWM amplifier |
TW475314B (en) * | 2000-07-11 | 2002-02-01 | Hiwin Mikrosystem Corp | Coreless type linear motor |
KR100416791B1 (ko) * | 2001-03-19 | 2004-01-31 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 검사용 현미경장치 및 그 검사방법 |
US6989887B2 (en) * | 2001-06-06 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Dual force mode fine stage apparatus |
JP2003022960A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Canon Inc | ステージ装置及びその駆動方法 |
EP1300932B1 (en) * | 2001-10-05 | 2013-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor, stage apparatus, and exposure apparatus |
JP2003189589A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-04 | Canon Inc | 可動磁石型リニアモータ、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3977086B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | ステージシステム |
US7813634B2 (en) | 2005-02-28 | 2010-10-12 | Tessera MEMS Technologies, Inc. | Autofocus camera |
JP4323759B2 (ja) * | 2002-05-27 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP3849932B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2006-11-22 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
JP3826087B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2006-09-27 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、荷電粒子線露光装置 |
JP2004172557A (ja) | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法 |
JP4227452B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2009-02-18 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置 |
JP4194383B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2008-12-10 | キヤノン株式会社 | リニアモータ |
JP4143438B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2008-09-03 | キヤノン株式会社 | 支持装置、露光装置、デバイス製造方法 |
JP4539045B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2010-09-08 | 株式会社安川電機 | ムービングマグネット形リニアアクチュエータ |
JP2005142501A (ja) * | 2003-11-10 | 2005-06-02 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 |
US20050128449A1 (en) | 2003-12-12 | 2005-06-16 | Nikon Corporation, A Japanese Corporation | Utilities transfer system in a lithography system |
US7230312B2 (en) * | 2003-12-31 | 2007-06-12 | Micron Technology, Inc. | Transistor having vertical junction edge and method of manufacturing the same |
US20050174551A1 (en) * | 2004-02-11 | 2005-08-11 | Nikon Corporation | Position control and heat dissipation for photolithography systems |
US7319374B2 (en) * | 2004-04-14 | 2008-01-15 | Immersion Corporation | Moving magnet actuator |
WO2005122369A1 (ja) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | ムービングマグネット形リニアスライダ |
US20060193620A1 (en) * | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Darrell Harrington | Lorentz actuator for miniature camera |
DE102005013349A1 (de) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Bosch Rexroth Aktiengesellschaft | Linearmotor und Verfahren zum Betrieb eines Linearmotors |
US7468589B2 (en) * | 2006-01-13 | 2008-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having a controlled motor, and motor control system and method |
JP2007312516A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Canon Inc | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2008010643A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Canon Inc | ステージ装置 |
NL1032371C2 (nl) * | 2006-08-28 | 2008-02-29 | Assembleon Bv | Verplaatsingsinrichting alsmede componentplaatsingsinrichting. |
SG182982A1 (en) * | 2006-08-31 | 2012-08-30 | Nikon Corp | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
US7847919B2 (en) * | 2007-03-29 | 2010-12-07 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having feedthrough control system |
WO2009060460A2 (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Given Imaging Ltd. | Apparatus and methods for capsule endoscopy of the esophagus |
JP2009253090A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Canon Inc | 位置決めステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
KR100917499B1 (ko) * | 2008-09-09 | 2009-09-16 | 충주대학교 산학협력단 | 비접촉 평면 스테이지 및 이의 제어방법 |
JP5641772B2 (ja) * | 2009-06-04 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、及びそれを用いたリソグラフィ装置並びにデバイス製造方法 |
KR101494493B1 (ko) * | 2009-08-07 | 2015-02-17 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
US9081307B2 (en) | 2010-07-09 | 2015-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Variable reluctance device, stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101318211B1 (ko) | 2011-05-31 | 2013-10-15 | 한국기계연구원 | 5 자유도 운동 오차 보정 기능을 갖는 능동 보정형 스테이지 및 그 운동 오차 보정 방법 |
NL2009827A (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Asml Netherlands Bv | A stage system and a lithographic apparatus. |
CN103066894B (zh) * | 2012-12-12 | 2015-05-20 | 清华大学 | 一种六自由度磁悬浮工件台 |
CN105324323B (zh) * | 2013-06-27 | 2018-04-10 | 奥的斯电梯公司 | 具有与轿厢速度成比例的绕组的自推进电梯系统 |
CN103454864B (zh) * | 2013-08-30 | 2016-02-03 | 清华大学 | 一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统 |
CN104122759A (zh) * | 2014-04-28 | 2014-10-29 | 清华大学 | 一种平面电动机驱动的磁悬浮粗微动一体掩模台 |
CN104259869B (zh) * | 2014-05-20 | 2017-03-22 | 大连日佳电子有限公司 | 一种双层双相反应式线性精密调整滑台 |
EP3029723B1 (en) * | 2014-12-05 | 2020-09-16 | Robert Bosch GmbH | Transport device and transport method for transporting a fragile object |
CN105827034A (zh) * | 2015-01-08 | 2016-08-03 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 电机 |
CN104578681B (zh) * | 2015-01-21 | 2017-03-22 | 朱福善 | 一种触发式无刷直流直线电动机的构成及驱动方法 |
US9892837B2 (en) * | 2015-05-21 | 2018-02-13 | Adicep Technologies, Inc | Energy efficient actuator |
WO2019051409A1 (en) * | 2017-09-08 | 2019-03-14 | Velocity Magnetics, Inc. | NON-CAPTIVE OPTICAL SENSING LOCATION MONITORING SYSTEMS AND METHODS OF USING THE SAME |
CN107845476A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-03-27 | 江苏昊昱科技咨询有限公司 | 一种便于安装的超声波磁杆 |
NL2022467B1 (en) * | 2019-01-28 | 2020-08-18 | Prodrive Tech Bv | Position sensor for long stroke linear permanent magnet motor |
CN113328653B (zh) * | 2021-05-31 | 2022-08-05 | 南京航空航天大学 | 一种新型抗磁悬浮电压感应式微驱动器及其控制方法 |
CN113885298B (zh) * | 2021-09-22 | 2022-06-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种磁悬浮式光刻机掩模台 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2052021A5 (ja) * | 1969-07-02 | 1971-04-09 | Merlin Gerin | |
US3736880A (en) * | 1971-04-19 | 1973-06-05 | Rohr Industries Inc | Feedback control circuit for magnetic suspension and propulsion system |
US3803466A (en) * | 1972-02-28 | 1974-04-09 | Rockwell International Corp | Linear motor propulsion system |
US3958166A (en) * | 1972-03-16 | 1976-05-18 | National Research Development Corporation | Speed adjusting apparatus |
US3816777A (en) * | 1972-12-27 | 1974-06-11 | K Metzgar | Electrodynamic force generator |
US4059775A (en) * | 1976-11-22 | 1977-11-22 | Control Data Corporation | Linear motor |
JPS5827749B2 (ja) * | 1978-04-20 | 1983-06-11 | パイオニア株式会社 | リニアモ−タ |
JPS55166496A (en) * | 1979-06-08 | 1980-12-25 | Canon Inc | Linear motor control method |
JPS5911764A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Nippon Soken Inc | 電磁駆動装置 |
JP2631485B2 (ja) * | 1988-01-28 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
GB8805420D0 (en) * | 1988-03-08 | 1988-04-07 | Framo Dev Ltd | Electrically powered pump unit |
EP0346815A3 (en) * | 1988-06-13 | 1990-12-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Vacuum processing apparatus and transportation system thereof |
US4857781A (en) * | 1988-07-13 | 1989-08-15 | Eastman Kodak Company | High-speed non-contact linear motor with magnetic levitation |
JPH0260451A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Canon Inc | リニアモータ装置 |
JP2777915B2 (ja) * | 1989-08-30 | 1998-07-23 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ機構 |
DE69116918T2 (de) * | 1990-04-09 | 1996-07-25 | Nippon Conlux Co Ltd | Linearmotor |
JP3182158B2 (ja) * | 1991-02-25 | 2001-07-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置用のステージ支持装置 |
US5196745A (en) * | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
JP2714502B2 (ja) * | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
US5684856A (en) * | 1991-09-18 | 1997-11-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device and pattern transfer system using the same |
US5402680A (en) * | 1991-12-10 | 1995-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Velocity sensor and semiconductor exposing apparatus using such a sensor |
JP2908127B2 (ja) * | 1992-07-29 | 1999-06-21 | 富士通株式会社 | シャトル型プリンタ装置 |
DE69412719T2 (de) * | 1993-06-24 | 1999-02-18 | Canon Kk | Steuerung für einen mehrphasigen Motor |
KR0139039B1 (ko) * | 1993-06-30 | 1998-06-01 | 미타라이 하지메 | 노광장치와 이것을 이용한 디바이스 제조방법 |
JP3282751B2 (ja) * | 1993-07-14 | 2002-05-20 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 |
JPH07115056A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Canon Inc | 縦型基板ステージ装置 |
JP3363662B2 (ja) * | 1994-05-19 | 2003-01-08 | キヤノン株式会社 | 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
US5808381A (en) * | 1994-08-09 | 1998-09-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Linear motor |
-
1996
- 1996-07-09 JP JP19692496A patent/JP3815750B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-03 US US08/725,401 patent/US5841250A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-04 EP EP05075302A patent/EP1536290A3/en not_active Withdrawn
- 1996-10-04 EP EP96307275A patent/EP0768705B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-04 DE DE69634768T patent/DE69634768T8/de active Active
- 1996-10-09 KR KR1019960044664A patent/KR100242923B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-07-23 US US09/121,112 patent/US6037680A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6891599B2 (en) | 2001-11-28 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage apparatus and exposure apparatus |
US7193493B2 (en) | 2002-09-30 | 2007-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US7330093B2 (en) | 2002-09-30 | 2008-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
CN107925336A (zh) * | 2015-07-20 | 2018-04-17 | 默托特洛尼克斯有限公司 | 横向磁通线性电机 |
CN113474267A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-10-01 | 村田机械株式会社 | 盖开闭装置 |
CN113474267B (zh) * | 2019-02-22 | 2022-09-20 | 村田机械株式会社 | 盖开闭装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100242923B1 (ko) | 2000-03-02 |
EP0768705A2 (en) | 1997-04-16 |
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