JPH1012538A - 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置 - Google Patents
走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置Info
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- JPH1012538A JPH1012538A JP17741296A JP17741296A JPH1012538A JP H1012538 A JPH1012538 A JP H1012538A JP 17741296 A JP17741296 A JP 17741296A JP 17741296 A JP17741296 A JP 17741296A JP H1012538 A JPH1012538 A JP H1012538A
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レチクルステージのガイドの磁気的ヒステリ
シスによるトラブルを回避する。 【解決手段】 レチクルステージ３は、セラミック製の
ガイド２上を、リニアモータ固定子４，５と、リニアモ
ータ可動子６，７からなるリニアモータによってＹ軸方
向に走査される。レチクルステージ３の裏面には、一対
のエアパッド２１，２２とその間に配設された予圧ユニ
ット２３からなる下向きのエアパッドユニット１３等が
設けられ、予圧ユニット２３は、ガイド２と別体である
磁性体２４に対向し磁気吸引力によってエアパッド２
１，２２の軸受剛性を強化する。ガイド２全体を焼き入
れ鋼のような磁気的ヒステリシスのある磁性材料によっ
て形成する必要はない。
シスによるトラブルを回避する。 【解決手段】 レチクルステージ３は、セラミック製の
ガイド２上を、リニアモータ固定子４，５と、リニアモ
ータ可動子６，７からなるリニアモータによってＹ軸方
向に走査される。レチクルステージ３の裏面には、一対
のエアパッド２１，２２とその間に配設された予圧ユニ
ット２３からなる下向きのエアパッドユニット１３等が
設けられ、予圧ユニット２３は、ガイド２と別体である
磁性体２４に対向し磁気吸引力によってエアパッド２
１，２２の軸受剛性を強化する。ガイド２全体を焼き入
れ鋼のような磁気的ヒステリシスのある磁性材料によっ
て形成する必要はない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置の
なかで、特に、レチクルパターンを円弧状あるいは矩形
状の帯状領域に限定してウエハ等基板（以下、「基板」
という。）に結像させ、レチクルと基板を同期的に走査
させることによって、レチクルパターン全体を露光して
基板に転写するいわゆる走査型の露光装置の走査ステー
ジ装置およびこれを用いた露光装置に関するものであ
る。
なかで、特に、レチクルパターンを円弧状あるいは矩形
状の帯状領域に限定してウエハ等基板（以下、「基板」
という。）に結像させ、レチクルと基板を同期的に走査
させることによって、レチクルパターン全体を露光して
基板に転写するいわゆる走査型の露光装置の走査ステー
ジ装置およびこれを用いた露光装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】原版であるレチクルと基板を同期的に走
査させてレチクルパターン全体を基板に転写するいわゆ
る走査型の露光装置においては、レチクルや基板の走査
速度を極めて高精度で安定して制御することのできる走
査ステージ装置が必要であり、このような走査ステージ
装置の駆動部には、リニアモータを用いるのが一般的で
ある。
査させてレチクルパターン全体を基板に転写するいわゆ
る走査型の露光装置においては、レチクルや基板の走査
速度を極めて高精度で安定して制御することのできる走
査ステージ装置が必要であり、このような走査ステージ
装置の駆動部には、リニアモータを用いるのが一般的で
ある。
【０００３】図５は、一従来例による走査ステージ装置
を示すもので、これは、図示しないベース上に固定され
た平板状のガイド１０２と、ガイド１０２に沿って所定
の走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動自在であるレチクル
ステージ１０３と、レチクルステージ１０３の走行路に
沿ってその両側にベースと一体的に配設された一対のリ
ニアモータ固定子１０４，１０５と、レチクルステージ
１０３の両側面とそれぞれ一体的に設けられた一対のリ
ニアモータ可動子１０６，１０７を有し、リニアモータ
固定子１０４，１０５とリニアモータ可動子１０６，１
０７はそれぞれレチクルステージ１０３を走査方向に加
速減速する一対のリニアモータＲ1 ，Ｒ2 を構成する。
レチクルステージ１０３は図６に示すエアスライド（静
圧軸受装置）Ｅ0 によってガイド１０２に非接触で案内
される。
を示すもので、これは、図示しないベース上に固定され
た平板状のガイド１０２と、ガイド１０２に沿って所定
の走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動自在であるレチクル
ステージ１０３と、レチクルステージ１０３の走行路に
沿ってその両側にベースと一体的に配設された一対のリ
ニアモータ固定子１０４，１０５と、レチクルステージ
１０３の両側面とそれぞれ一体的に設けられた一対のリ
ニアモータ可動子１０６，１０７を有し、リニアモータ
固定子１０４，１０５とリニアモータ可動子１０６，１
０７はそれぞれレチクルステージ１０３を走査方向に加
速減速する一対のリニアモータＲ1 ，Ｒ2 を構成する。
レチクルステージ１０３は図６に示すエアスライド（静
圧軸受装置）Ｅ0 によってガイド１０２に非接触で案内
される。
【０００４】各リニアモータ固定子１０４，１０５は、
ガイド１０２に沿って直列に配設された複数のコイル１
０４ａ，１０５ａとこれを支持するコイル台１０４ｂ，
１０５ｂからなる多相コイル切り換え方式のリニアモー
タ固定子であって、各コイル列はリニアモータ可動子１
０６，１０７の開口１０６ａ，１０７ａを貫通する。コ
イル１０４ａ，１０５ａに図示しない電源から逐次駆動
電流が供給されてこれらが励磁されると、リニアモータ
可動子１０６，１０７との間に推力が発生し、これによ
ってレチクルステージ１０３が加速あるいは減速され
る。
ガイド１０２に沿って直列に配設された複数のコイル１
０４ａ，１０５ａとこれを支持するコイル台１０４ｂ，
１０５ｂからなる多相コイル切り換え方式のリニアモー
タ固定子であって、各コイル列はリニアモータ可動子１
０６，１０７の開口１０６ａ，１０７ａを貫通する。コ
イル１０４ａ，１０５ａに図示しない電源から逐次駆動
電流が供給されてこれらが励磁されると、リニアモータ
可動子１０６，１０７との間に推力が発生し、これによ
ってレチクルステージ１０３が加速あるいは減速され
る。
【０００５】レチクルステージ１０３上にはレチクル１
４０が吸着され、その下方にはウエハステージ２０３
（図７参照）によってウエハが保持されており、ウエハ
ステージ２０３もレチクルステージ１０３と同様の駆動
部を有し、同様に制御される。レチクル１４０の一部分
に照射された帯状の露光光Ｌ0 （断面を図８に破線で示
す）は、フレーム２０４に支持された投影光学系２０５
によってウエハに結像し、その帯状領域を露光して、レ
チクルパターンの一部分を転写する。走査型の露光装置
の各露光サイクルは、帯状の露光光Ｌ0 に対してレチク
ルステージ１０３とウエハステージ２０３を同期的に走
行させることでレチクルパターン全体をウエハに転写す
るものであり、レチクルステージ１０３とウエハステー
ジ２０３の走行中はその位置をレーザ干渉計１０８，２
０８によってそれぞれ検出して駆動部にフィードバック
する。リニアモータＲ1 ，Ｒ2 によるレチクルステージ
１０３の加速減速および露光中の速度制御は以下のよう
に行なわれる。
４０が吸着され、その下方にはウエハステージ２０３
（図７参照）によってウエハが保持されており、ウエハ
ステージ２０３もレチクルステージ１０３と同様の駆動
部を有し、同様に制御される。レチクル１４０の一部分
に照射された帯状の露光光Ｌ0 （断面を図８に破線で示
す）は、フレーム２０４に支持された投影光学系２０５
によってウエハに結像し、その帯状領域を露光して、レ
チクルパターンの一部分を転写する。走査型の露光装置
の各露光サイクルは、帯状の露光光Ｌ0 に対してレチク
ルステージ１０３とウエハステージ２０３を同期的に走
行させることでレチクルパターン全体をウエハに転写す
るものであり、レチクルステージ１０３とウエハステー
ジ２０３の走行中はその位置をレーザ干渉計１０８，２
０８によってそれぞれ検出して駆動部にフィードバック
する。リニアモータＲ1 ，Ｒ2 によるレチクルステージ
１０３の加速減速および露光中の速度制御は以下のよう
に行なわれる。
【０００６】図８に平面図で示すように、例えば、レチ
クルステージ１０３が走査方向の図示左端にありレチク
ルの走査方向の幅の中心Ｏ0 が加速開始位置Ｐ1 に位置
しているときにリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示右向きの
推力による加速が開始され、レチクル１４０の前記中心
Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達したときに加速が停止さ
れ、以後はリニアモータＲ1 ，Ｒ2 がレチクルステージ
１０３の走査速度を一定に制御する働きのみをする。レ
チクル１４０の中心Ｏ0 が減速開始位置Ｐ3 に到達する
とリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示左向きの推力による減
速が開始され、レチクル１４０の中心Ｏ0 が減速終了位
置Ｐ4 に到達したときにレチクルステージ１０３の走行
が停止される。
クルステージ１０３が走査方向の図示左端にありレチク
ルの走査方向の幅の中心Ｏ0 が加速開始位置Ｐ1 に位置
しているときにリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示右向きの
推力による加速が開始され、レチクル１４０の前記中心
Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達したときに加速が停止さ
れ、以後はリニアモータＲ1 ，Ｒ2 がレチクルステージ
１０３の走査速度を一定に制御する働きのみをする。レ
チクル１４０の中心Ｏ0 が減速開始位置Ｐ3 に到達する
とリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示左向きの推力による減
速が開始され、レチクル１４０の中心Ｏ0 が減速終了位
置Ｐ4 に到達したときにレチクルステージ１０３の走行
が停止される。
【０００７】このような加速減速サイクルにおいて、レ
チクルステージ１０３が図示右向きに走行して、レチク
ル１４０の中心Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達すると同
時に露光光Ｌ0 がレチクルパターンの図示右端に入射し
て露光が開始され、レチクル１４０の中心Ｏ0 が減速開
始位置Ｐ3 に到達したときにレチクルパターンの全面の
露光が完了する。レチクル１４０の露光中すなわち、レ
チクルパターンが露光光Ｌ0 を横切って走行する間はレ
チクルステージ１０３が一定の走査速度に制御され、こ
れと同期して、ウエハステージ２０３の走査速度も同様
に制御される。なお、露光開始時のウエハとレチクル１
４０の相対位置は厳密に管理され、露光中のウエハとレ
チクル１４０の速度比は、両者の間の投影光学系２０５
の縮小倍率に正確に一致するように制御され、露光終了
後は両者を適当に減速させる。
チクルステージ１０３が図示右向きに走行して、レチク
ル１４０の中心Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達すると同
時に露光光Ｌ0 がレチクルパターンの図示右端に入射し
て露光が開始され、レチクル１４０の中心Ｏ0 が減速開
始位置Ｐ3 に到達したときにレチクルパターンの全面の
露光が完了する。レチクル１４０の露光中すなわち、レ
チクルパターンが露光光Ｌ0 を横切って走行する間はレ
チクルステージ１０３が一定の走査速度に制御され、こ
れと同期して、ウエハステージ２０３の走査速度も同様
に制御される。なお、露光開始時のウエハとレチクル１
４０の相対位置は厳密に管理され、露光中のウエハとレ
チクル１４０の速度比は、両者の間の投影光学系２０５
の縮小倍率に正確に一致するように制御され、露光終了
後は両者を適当に減速させる。
【０００８】次に、ガイド１０２上のレチクルステージ
１０３を非接触で支持するエアスライドＥ0 について説
明する。図６はレチクルステージ１０３の裏面に設けら
れたエアスライドＥ0 をレチクルステージ１０３から分
離してガイド１０２上に残し、レチクルステージ１０３
とリニアモータ可動子１０６，１０７およびリニアモー
タ固定子１０４，１０５のコイル１０４ａ，１０５ａを
上昇させることで、エアスライドＥ0 を露出させた状態
を示すものである。
１０３を非接触で支持するエアスライドＥ0 について説
明する。図６はレチクルステージ１０３の裏面に設けら
れたエアスライドＥ0 をレチクルステージ１０３から分
離してガイド１０２上に残し、レチクルステージ１０３
とリニアモータ可動子１０６，１０７およびリニアモー
タ固定子１０４，１０５のコイル１０４ａ，１０５ａを
上昇させることで、エアスライドＥ0 を露出させた状態
を示すものである。
【０００９】エアスライドＥ0 は、４個のエアパッド１
１１〜１１４を有し、そのうちの３個は、ガイド１０２
の上面に対向する下向きパッド１１１〜１１３であり、
残りの１つは、ガイド１０２の一側面に対向して配設さ
れる側面パッド１１４である。各下向きパッド１１１〜
１１３は、ガイド１０２の上面に加圧空気を噴出し、そ
の静圧によってレチクルステージ１０３をガイド１０２
の上面から浮上させる。また、側面パッド１１４は、ガ
イド１０２の側面に向かって加圧空気を噴出し、その静
圧によってレチクルステージ１０３の側板１０３ａをガ
イド１０２の側面から浮上させる。
１１〜１１４を有し、そのうちの３個は、ガイド１０２
の上面に対向する下向きパッド１１１〜１１３であり、
残りの１つは、ガイド１０２の一側面に対向して配設さ
れる側面パッド１１４である。各下向きパッド１１１〜
１１３は、ガイド１０２の上面に加圧空気を噴出し、そ
の静圧によってレチクルステージ１０３をガイド１０２
の上面から浮上させる。また、側面パッド１１４は、ガ
イド１０２の側面に向かって加圧空気を噴出し、その静
圧によってレチクルステージ１０３の側板１０３ａをガ
イド１０２の側面から浮上させる。
【００１０】３個の下向きパッド１１１〜１１３は、そ
れぞれレチクルステージ１０３を露光光の光軸（Ｚ軸）
に垂直な平面（ＸＹ平面）内で３点支持するように配設
され、各下向きパッド１１１〜１１３に供給される加圧
空気の圧力を制御することで、レチクルステージ１０３
のＺ軸方向の位置（高さ）と、ωＸ，ωＹ軸方向の位置
（傾斜）すなわちピッチング等を制御することができ
る。また、側面パッド１１４は、レチクルステージ１０
３のＸ軸方向の位置を制御することができる。
れぞれレチクルステージ１０３を露光光の光軸（Ｚ軸）
に垂直な平面（ＸＹ平面）内で３点支持するように配設
され、各下向きパッド１１１〜１１３に供給される加圧
空気の圧力を制御することで、レチクルステージ１０３
のＺ軸方向の位置（高さ）と、ωＸ，ωＹ軸方向の位置
（傾斜）すなわちピッチング等を制御することができ
る。また、側面パッド１１４は、レチクルステージ１０
３のＸ軸方向の位置を制御することができる。
【００１１】エアスライドＥ0 はこのように、合計４個
のエアパッド１１１〜１１４によって、ガイド１０２上
のレチクルステージ１０３を非接触で支持し、その高さ
や姿勢（４軸方向の位置）を厳密に管理しながら走査方
向に案内するように構成されている。
のエアパッド１１１〜１１４によって、ガイド１０２上
のレチクルステージ１０３を非接触で支持し、その高さ
や姿勢（４軸方向の位置）を厳密に管理しながら走査方
向に案内するように構成されている。
【００１２】なお、各エアパット１１１〜１１４はレチ
クルステージ１０３の裏面に固着され、各エアパッド１
１１〜１１４の両側には、一対の予圧ユニット１２１ａ
〜１２４ａが配設される。各予圧ユニット１２１ａ〜１
２４ａは、互に逆向きの磁極を有する一対の磁石１３
１，１３２と、これらの背面に接合されたバックヨーク
１３３からなり、第１の磁石１３１のＮ極から出た磁束
が、ガイド１０２を経て第２の磁石１３２に入り、バッ
クヨーク１３３を通って第１の磁石１３１に戻る磁気回
路によって、レチクルステージ１０３とガイド１０２の
間に磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力は各
エアパッド１１１〜１１４の静圧と逆向きに作用して軸
受剛性を強化し、レチクルステージ１０３とガイド１０
２の間に５ミクロン程度のエアギャップを維持する。
クルステージ１０３の裏面に固着され、各エアパッド１
１１〜１１４の両側には、一対の予圧ユニット１２１ａ
〜１２４ａが配設される。各予圧ユニット１２１ａ〜１
２４ａは、互に逆向きの磁極を有する一対の磁石１３
１，１３２と、これらの背面に接合されたバックヨーク
１３３からなり、第１の磁石１３１のＮ極から出た磁束
が、ガイド１０２を経て第２の磁石１３２に入り、バッ
クヨーク１３３を通って第１の磁石１３１に戻る磁気回
路によって、レチクルステージ１０３とガイド１０２の
間に磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力は各
エアパッド１１１〜１１４の静圧と逆向きに作用して軸
受剛性を強化し、レチクルステージ１０３とガイド１０
２の間に５ミクロン程度のエアギャップを維持する。
【００１３】ガイド１０２の材質は、各予圧ユニット１
２１ａ〜１２４ａの磁束を通すために強磁性体であるこ
とが必要であり、しかもレチクルステージ１０３に対向
する上面や側面には高い面精度が要求され、このために
加工時に硬さが必要であるから、焼き入れ処理を施した
鉄を用いるのが一般的である。
２１ａ〜１２４ａの磁束を通すために強磁性体であるこ
とが必要であり、しかもレチクルステージ１０３に対向
する上面や側面には高い面精度が要求され、このために
加工時に硬さが必要であるから、焼き入れ処理を施した
鉄を用いるのが一般的である。
【００１４】ウエハステージ２０３のエアスライドやガ
イドも上記と同様に構成され、同様のリニアモータによ
って走査される。
イドも上記と同様に構成され、同様のリニアモータによ
って走査される。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、レチクルステージ等の
ガイドの材質が焼き入れ処理をした鉄であるために、焼
き入れ処理によって増加した磁気的ヒステリシスが、走
行中のレチクルステージ等に大きな抵抗力を発生され
る。
の技術によれば、前述のように、レチクルステージ等の
ガイドの材質が焼き入れ処理をした鉄であるために、焼
き入れ処理によって増加した磁気的ヒステリシスが、走
行中のレチクルステージ等に大きな抵抗力を発生され
る。
【００１６】レチクルステージを所定の走査速度まで加
速したのちは、加速を停止してもエアスライド等の抵抗
はわずかであるから、レチクルステージの走査速度はほ
とんど減速することなく、逆向きの加速力による減速が
開始されるまでわずかな推力によって前記走査速度を保
つことができるはずである。ところが、ガイドの磁気的
ヒステリシスによる抵抗が大きいと、これに打ち勝つだ
けの推力を付加しなければならず、露光中にリニアモー
タに供給する電流量が大きくなり、リニアモータの発熱
等によってレチクルステージに熱歪を発生する等のトラ
ブルを誘発する。
速したのちは、加速を停止してもエアスライド等の抵抗
はわずかであるから、レチクルステージの走査速度はほ
とんど減速することなく、逆向きの加速力による減速が
開始されるまでわずかな推力によって前記走査速度を保
つことができるはずである。ところが、ガイドの磁気的
ヒステリシスによる抵抗が大きいと、これに打ち勝つだ
けの推力を付加しなければならず、露光中にリニアモー
タに供給する電流量が大きくなり、リニアモータの発熱
等によってレチクルステージに熱歪を発生する等のトラ
ブルを誘発する。
【００１７】特に、前述のように多相コイル切り換え方
式のリニアモータを用いた場合は、コイル切り換えのた
めにこれと同じ周期で数％の推力むらを発生するため、
ガイドの磁気的ヒステリシスにうち勝つようにリニアモ
ータの駆動量を大きくすると、上記の推力むらが外乱と
なって露光中のレチクルステージの走査速度に影響し、
露光装置の転写精度を悪化させる。
式のリニアモータを用いた場合は、コイル切り換えのた
めにこれと同じ周期で数％の推力むらを発生するため、
ガイドの磁気的ヒステリシスにうち勝つようにリニアモ
ータの駆動量を大きくすると、上記の推力むらが外乱と
なって露光中のレチクルステージの走査速度に影響し、
露光装置の転写精度を悪化させる。
【００１８】この傾向は、レチクルステージ等の走査速
度が大きくなるほど顕著であるため、露光装置を高速化
して生産性を向上させるうえでの大きな障害となってい
る。
度が大きくなるほど顕著であるため、露光装置を高速化
して生産性を向上させるうえでの大きな障害となってい
る。
【００１９】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、ガイド等の案内手
段の磁気的ヒステリシスによるトラブルを回避して、露
光装置の高速化と転写精度の向上に大きく貢献できる走
査ステージ装置およびこれを用いた露光装置を提供する
ものである。
の課題に鑑みてなされたものであり、ガイド等の案内手
段の磁気的ヒステリシスによるトラブルを回避して、露
光装置の高速化と転写精度の向上に大きく貢献できる走
査ステージ装置およびこれを用いた露光装置を提供する
ものである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の走査ステージ装置は、案内手段に沿って移
動自在である走査ステージと、これを移動させる駆動手
段と、前記走査ステージと前記案内手段の間を非接触に
保つための静圧軸受手段と、前記案内手段と別体である
第１の磁気手段とこれに対向するように前記走査ステー
ジに保持された第２の磁気手段からなる予圧手段を有す
ることを特徴とする。
め、本発明の走査ステージ装置は、案内手段に沿って移
動自在である走査ステージと、これを移動させる駆動手
段と、前記走査ステージと前記案内手段の間を非接触に
保つための静圧軸受手段と、前記案内手段と別体である
第１の磁気手段とこれに対向するように前記走査ステー
ジに保持された第２の磁気手段からなる予圧手段を有す
ることを特徴とする。
【００２１】案内手段が、セラミックで作られていると
よい。
よい。
【００２２】第１の磁気手段が棒状の磁性体であるとよ
い。
い。
【００２３】案内手段に、第１の磁気手段を嵌合させる
凹所が設けられているとよい。
凹所が設けられているとよい。
【００２４】
【作用】第１の磁気手段と第２の磁気手段の間の磁気的
吸引力によって走査ステージを案内手段に向かって吸引
（付勢）し、静圧軸受手段の軸受剛性を強化する。
吸引力によって走査ステージを案内手段に向かって吸引
（付勢）し、静圧軸受手段の軸受剛性を強化する。
【００２５】第１の磁気手段が案内手段と独立して設け
られているため、案内手段の材質を磁気的ヒステリシス
のある磁性材料にする必要はない。また、第１の磁気手
段には、高度の表面加工等を必要とせず、従って、焼き
入れ処理等を施す必要がないから、磁気的ヒステリシス
のない純鉄等の磁性体を用いることができる。
られているため、案内手段の材質を磁気的ヒステリシス
のある磁性材料にする必要はない。また、第１の磁気手
段には、高度の表面加工等を必要とせず、従って、焼き
入れ処理等を施す必要がないから、磁気的ヒステリシス
のない純鉄等の磁性体を用いることができる。
【００２６】このようにして、磁気的ヒステリしスを有
する材料を案内手段等に用いる必要性を排除すること
で、走査ステージの定速走査中に必要な推力を低減し、
露光中の駆動手段の発熱や推力むらによるトラブルを防
ぐ。
する材料を案内手段等に用いる必要性を排除すること
で、走査ステージの定速走査中に必要な推力を低減し、
露光中の駆動手段の発熱や推力むらによるトラブルを防
ぐ。
【００２７】これによって露光装置の転写精度を大幅に
改善し、高速化による生産性の向上にも大きく貢献でき
る。
改善し、高速化による生産性の向上にも大きく貢献でき
る。
【００２８】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２９】図１は、一実施例による走査ステージ装置
を示すもので、これは、支持手段である防振ベース１上
に固定された案内手段である平板状のガイド２と、ガイ
ド２に沿って走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動自在な走
査ステージであるレチクルステージ３と、レチクルステ
ージ３の走行路に沿ってその両側に防振ベース１と一体
的に配設された一対のリニアモータ固定子４，５と、レ
チクルステージ３の両側面とそれぞれ一体的に設けられ
た一対のリニアモータ可動子６，７を有し、リニアモー
タ固定子４，５とリニアモータ可動子６，７はそれぞれ
レチクルステージ３を走査方向に加速減速する駆動手段
である一対のリニアモータを構成する。レチクルステー
ジ３は、図２に示すエアスライドＥ1 によってガイド２
に非接触で案内される。
を示すもので、これは、支持手段である防振ベース１上
に固定された案内手段である平板状のガイド２と、ガイ
ド２に沿って走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動自在な走
査ステージであるレチクルステージ３と、レチクルステ
ージ３の走行路に沿ってその両側に防振ベース１と一体
的に配設された一対のリニアモータ固定子４，５と、レ
チクルステージ３の両側面とそれぞれ一体的に設けられ
た一対のリニアモータ可動子６，７を有し、リニアモー
タ固定子４，５とリニアモータ可動子６，７はそれぞれ
レチクルステージ３を走査方向に加速減速する駆動手段
である一対のリニアモータを構成する。レチクルステー
ジ３は、図２に示すエアスライドＥ1 によってガイド２
に非接触で案内される。
【００３０】各リニアモータ固定子４，５は、ガイド２
に沿って直列に配設された複数のコイル４ａ，５ａとこ
れを支持するコイル台４ｂ，５ｂからなる多層コイル切
り換え方式のリニアモータ固定子であり、リニアモータ
可動子６，７の開口６ａ，７ａを貫通する。コイル４
ａ，５ａに図示しない電源から逐次駆動電流が供給され
てこれらが励磁されると、リニアモータ可動子６，７と
の間に推力が発生し、これによってレチクルステージ３
が加速あるいは減速される。
に沿って直列に配設された複数のコイル４ａ，５ａとこ
れを支持するコイル台４ｂ，５ｂからなる多層コイル切
り換え方式のリニアモータ固定子であり、リニアモータ
可動子６，７の開口６ａ，７ａを貫通する。コイル４
ａ，５ａに図示しない電源から逐次駆動電流が供給され
てこれらが励磁されると、リニアモータ可動子６，７と
の間に推力が発生し、これによってレチクルステージ３
が加速あるいは減速される。
【００３１】レチクルステージ３上にはレチクル３０が
吸着され、その下方には、ウエハステージによって被露
光体であるウエハが保持されており、ウエハステージも
レチクルステージ３と同様の駆動部を有し、同様に制御
される。露光手段である図示しない光源からレチクル３
０の一部分に照射された帯状の露光光は、従来例と同様
に投影光学系によってウエハに結像し、その帯状領域を
露光して、レチクルパターンの一部分を転写する。
吸着され、その下方には、ウエハステージによって被露
光体であるウエハが保持されており、ウエハステージも
レチクルステージ３と同様の駆動部を有し、同様に制御
される。露光手段である図示しない光源からレチクル３
０の一部分に照射された帯状の露光光は、従来例と同様
に投影光学系によってウエハに結像し、その帯状領域を
露光して、レチクルパターンの一部分を転写する。
【００３２】レチクルステージ３とウエハステージを同
期的に走行させることでレチクルパターン全体をウエハ
に転写する。この間、レチクルステージ３とウエハステ
ージの位置をレーザ干渉計によってそれぞれ検出して駆
動部にフィードバックする。前記リニアモータによるレ
チクルステージ３の加速、減速および露光中の速度制御
は従来例と同様である。次にエアスライドＥ1 について
説明する。
期的に走行させることでレチクルパターン全体をウエハ
に転写する。この間、レチクルステージ３とウエハステ
ージの位置をレーザ干渉計によってそれぞれ検出して駆
動部にフィードバックする。前記リニアモータによるレ
チクルステージ３の加速、減速および露光中の速度制御
は従来例と同様である。次にエアスライドＥ1 について
説明する。
【００３３】図２に示すように、エアスライドＥ1 は、
４個のエアパッドユニット１１〜１４を有し、そのうち
の３個はガイド２の上面に対向する下向きパッドユニッ
ト１１〜１３であり、残りの１個は、ガイド２の一側面
に対向して配設される側面パッドユニット１４である。
各下向きパットユニット１１〜１３は、ガイド２の上面
に加圧空気を噴出し、その静圧によってレチクルステー
ジ３をガイド２の上面から浮上させる。また、側面パッ
ドユニット１４は、ガイド２の側面に向かって加圧空気
を噴出し、その静圧によってレチクルステージ３の側板
３ａをガイド２の側面から浮上させる。
４個のエアパッドユニット１１〜１４を有し、そのうち
の３個はガイド２の上面に対向する下向きパッドユニッ
ト１１〜１３であり、残りの１個は、ガイド２の一側面
に対向して配設される側面パッドユニット１４である。
各下向きパットユニット１１〜１３は、ガイド２の上面
に加圧空気を噴出し、その静圧によってレチクルステー
ジ３をガイド２の上面から浮上させる。また、側面パッ
ドユニット１４は、ガイド２の側面に向かって加圧空気
を噴出し、その静圧によってレチクルステージ３の側板
３ａをガイド２の側面から浮上させる。
【００３４】各エアパッドユニット１１〜１４は、Ｙ軸
方向に長尺な静圧軸受手段である一対のエアパッド２
１，２２と、その間に配設された第２の磁気手段である
予圧ユニット２３を有する。予圧ユニット２３は、ガイ
ド２に沿ってＹ軸方向にのびる第１の磁気手段である棒
状の磁性体２４に対向して配設され、予圧ユニット２３
と磁性体２４はエアパッド２１，２２の軸受剛性を強化
する予圧手段を構成するものであり、予圧ユニット２３
と磁性体２５の間には０．５ｍｍ程度の隙間が形成され
る。予圧ユニット２３は、互に逆向きの磁極を有する一
対の磁石２３ａ，２３ｂと、これらの背面に接合された
バックヨーク２３ｃからなり、第１の磁石２３ａのＮ極
から出た磁束が、磁性体２４を経て第２の磁石２３ｂに
入り、バックヨーク２３ｃを通って第１の磁石２３ａに
戻る磁気回路によって、レチクルステージ３とガイド２
の間に磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力
は、エアパッド２１，２２の静圧と逆向きに作用する予
圧として軸受剛性を強化し、レチクルステージ３とガイ
ド２の間に５ミクロン程度のエアギャップを維持する。
方向に長尺な静圧軸受手段である一対のエアパッド２
１，２２と、その間に配設された第２の磁気手段である
予圧ユニット２３を有する。予圧ユニット２３は、ガイ
ド２に沿ってＹ軸方向にのびる第１の磁気手段である棒
状の磁性体２４に対向して配設され、予圧ユニット２３
と磁性体２４はエアパッド２１，２２の軸受剛性を強化
する予圧手段を構成するものであり、予圧ユニット２３
と磁性体２５の間には０．５ｍｍ程度の隙間が形成され
る。予圧ユニット２３は、互に逆向きの磁極を有する一
対の磁石２３ａ，２３ｂと、これらの背面に接合された
バックヨーク２３ｃからなり、第１の磁石２３ａのＮ極
から出た磁束が、磁性体２４を経て第２の磁石２３ｂに
入り、バックヨーク２３ｃを通って第１の磁石２３ａに
戻る磁気回路によって、レチクルステージ３とガイド２
の間に磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力
は、エアパッド２１，２２の静圧と逆向きに作用する予
圧として軸受剛性を強化し、レチクルステージ３とガイ
ド２の間に５ミクロン程度のエアギャップを維持する。
【００３５】磁性体２４は、ガイド２の上面に２本、ガ
イド２の側面に１本、合計３本設けられる。ガイド２の
上面の２本の磁性体２４は、それぞれガイド２の上面に
形成された溝２ａに収容されてＹ軸方向にのびており、
その両端のそれぞれを支持体２５によって支持され、各
支持体２５は、ガイド２やコイル台４ｂとともに防振ベ
ース１に固定されている。ガイド２の側面の磁性体２４
も同様に、ガイド２の側面に設けられた溝２ａに収容さ
れてＹ軸方向にのびており、その両端を支持体２５によ
って支持されている。
イド２の側面に１本、合計３本設けられる。ガイド２の
上面の２本の磁性体２４は、それぞれガイド２の上面に
形成された溝２ａに収容されてＹ軸方向にのびており、
その両端のそれぞれを支持体２５によって支持され、各
支持体２５は、ガイド２やコイル台４ｂとともに防振ベ
ース１に固定されている。ガイド２の側面の磁性体２４
も同様に、ガイド２の側面に設けられた溝２ａに収容さ
れてＹ軸方向にのびており、その両端を支持体２５によ
って支持されている。
【００３６】各溝２ａの断面寸法は、これに収容される
磁性体２４に接触しないように充分大きく設定される。
また、前述のように、各エアパッドユニット１１〜１４
のエアパッド２１，２２とガイド２の上面、側面との間
の隙間（エアギャップ）は５ミクロン程度であり、エア
パッド２１，２２が対向するガイド２の上面および側面
は極めて高い面精度に加工することが必要であるが、磁
性体２４と磁石２３ａ，２３ｂの間は０．５ｍｍ程度の
隙間でよい。従って、磁性体２４にはガイド２のような
高精度の仕上げを必要としない。
磁性体２４に接触しないように充分大きく設定される。
また、前述のように、各エアパッドユニット１１〜１４
のエアパッド２１，２２とガイド２の上面、側面との間
の隙間（エアギャップ）は５ミクロン程度であり、エア
パッド２１，２２が対向するガイド２の上面および側面
は極めて高い面精度に加工することが必要であるが、磁
性体２４と磁石２３ａ，２３ｂの間は０．５ｍｍ程度の
隙間でよい。従って、磁性体２４にはガイド２のような
高精度の仕上げを必要としない。
【００３７】ガイド２の材質は、非鉄材料でしかも加工
が比較的容易であるセラミックであり、各磁性体２４に
は純鉄等の磁気的ヒステリシスのない磁性材料を用い
る。
が比較的容易であるセラミックであり、各磁性体２４に
は純鉄等の磁気的ヒステリシスのない磁性材料を用い
る。
【００３８】このように、ガイド２と各磁性体２４にセ
ラミックや純鉄等の磁気的ヒステリシスのない材料を用
いることで、磁気的ヒステリシスによる抵抗力のために
レチクルステージ３の走査速度が低下するのを回避す
る。
ラミックや純鉄等の磁気的ヒステリシスのない材料を用
いることで、磁気的ヒステリシスによる抵抗力のために
レチクルステージ３の走査速度が低下するのを回避す
る。
【００３９】本実施例によれば、従来例のようにガイド
の上面や側面を予圧ユニットの磁気回路に利用すること
なく、予圧ユニットの磁気回路を構成する磁性体をガイ
ドと個別に配設し、ガイドの上面や側面はエアパッドに
対向するスライド面としてのみ利用するものである。ガ
イドの材質が焼き入れした鉄である場合のように磁気的
ヒステリシスによる抵抗力に打ち勝つ推力をレチクルス
テージ３に付加する必要がないため、露光中のリニアモ
ータの駆動電流は極くわずかですみ、リニアモータの発
熱等によって転写精度が劣化するおそれはない。また、
リニアモータに推力むら等があっても、露光中のリニア
モータの推力自体が微小であるから、転写精度に影響を
与えるような外乱となるおそれもない。
の上面や側面を予圧ユニットの磁気回路に利用すること
なく、予圧ユニットの磁気回路を構成する磁性体をガイ
ドと個別に配設し、ガイドの上面や側面はエアパッドに
対向するスライド面としてのみ利用するものである。ガ
イドの材質が焼き入れした鉄である場合のように磁気的
ヒステリシスによる抵抗力に打ち勝つ推力をレチクルス
テージ３に付加する必要がないため、露光中のリニアモ
ータの駆動電流は極くわずかですみ、リニアモータの発
熱等によって転写精度が劣化するおそれはない。また、
リニアモータに推力むら等があっても、露光中のリニア
モータの推力自体が微小であるから、転写精度に影響を
与えるような外乱となるおそれもない。
【００４０】その結果、走査型の露光装置の転写精度を
大幅に向上できる。
大幅に向上できる。
【００４１】また、ガイドの磁気的ヒステリシスによる
抵抗力は、レチクルステージ等の走査速度が大きくなる
ほど増大するため、ガイドの材質が磁気的ヒステリシス
のある焼き入れ鋼等である場合は、レチクルやウエハの
走査速度を充分に速くすることができず、露光工程の高
速化の大きな障害となっていたが、本実施例は、このよ
うな磁気的ヒステリシスに起因するトラブルを回避する
ことで、レチクルステージ等の走査速度を速くして、露
光装置の生産性の向上に大きく貢献できる。
抵抗力は、レチクルステージ等の走査速度が大きくなる
ほど増大するため、ガイドの材質が磁気的ヒステリシス
のある焼き入れ鋼等である場合は、レチクルやウエハの
走査速度を充分に速くすることができず、露光工程の高
速化の大きな障害となっていたが、本実施例は、このよ
うな磁気的ヒステリシスに起因するトラブルを回避する
ことで、レチクルステージ等の走査速度を速くして、露
光装置の生産性の向上に大きく貢献できる。
【００４２】なお、ウエハステージは通常、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向の双方に移動自在なＸＹステージであり、Ｘス
テージ上にＹステージが載置された状態となっている。
Ｙステージのみに本実施例と同様の走査ステージ装置を
用いてもよいし、ＸステージとＹステージの双方に本実
施例の走査ステージ装置を採用してもよい。
Ｙ軸方向の双方に移動自在なＸＹステージであり、Ｘス
テージ上にＹステージが載置された状態となっている。
Ｙステージのみに本実施例と同様の走査ステージ装置を
用いてもよいし、ＸステージとＹステージの双方に本実
施例の走査ステージ装置を採用してもよい。
【００４３】また、本実施例においては、予圧ユニット
の両側に一対のエアパッドを設けたエアパッドユニット
を用いているが、一対の予圧ユニットの間にエアパッド
を配設したものでもよい。さらに、予圧ユニットとエア
パッドをＹ軸方向にずらして配設することもできる。
の両側に一対のエアパッドを設けたエアパッドユニット
を用いているが、一対の予圧ユニットの間にエアパッド
を配設したものでもよい。さらに、予圧ユニットとエア
パッドをＹ軸方向にずらして配設することもできる。
【００４４】次に上記説明した露光装置を利用した半導
体ディバイスの製造方法の実施例を説明する。図３は半
導体ディバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、ある
いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フローを示す。ステ
ップ１（回路設計）では半導体ディバイスの回路設計を
行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パ
ターンを形成したマスクを製作する。ステップ３（ウエ
ハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ
５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
ィバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行
なう。こうした工程を経て半導体ディバイスが完成し、
これが出荷（ステップＳ７）される。
体ディバイスの製造方法の実施例を説明する。図３は半
導体ディバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、ある
いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フローを示す。ステ
ップ１（回路設計）では半導体ディバイスの回路設計を
行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パ
ターンを形成したマスクを製作する。ステップ３（ウエ
ハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ
５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
ィバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行
なう。こうした工程を経て半導体ディバイスが完成し、
これが出荷（ステップＳ７）される。
【００４５】図４は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方法
を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体
ディバイスを製造することができる。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方法
を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体
ディバイスを製造することができる。
【００４６】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００４７】レチクルステージのガイド等の案内手段の
磁気的ヒステリシスによるトラブルを回避して、露光装
置の高速化による生産性の向上と転写精度の改善に大き
く貢献できる。
磁気的ヒステリシスによるトラブルを回避して、露光装
置の高速化による生産性の向上と転写精度の改善に大き
く貢献できる。
【図１】一実施例による走査ステージ装置を示す斜視図
である。
である。
【図２】図１の装置を分解して示す分解斜視図である。
【図３】微小ディバイスの製造工程を示すフローチャー
トである。
トである。
【図４】ウエハプロセスを示すフローチャートである。
【図５】一従来例を示す斜視図である。
【図６】図５の装置を分解して示す分解斜視図である。
【図７】露光装置全体を説明する図である。
【図８】レチクルステージの走査を説明する図である。
１ 防振ベース ２ ガイド ３ レチクルステージ ４，５ リニアモータ固定子 ６，７ リニアモータ可動子 １１〜１３ 下向きパッドユニット（エアパッドユニ
ット） １４ 側面パッドユニット（エアパッドユニット） ２１，２２ エアパッド ２３ 予圧ユニット ２３ａ，２３ｂ 磁石 ２３ｃ バックヨーク ２４ 磁性体 ２５ 支持体 ３０ レチクル
ット） １４ 側面パッドユニット（エアパッドユニット） ２１，２２ エアパッド ２３ 予圧ユニット ２３ａ，２３ｂ 磁石 ２３ｃ バックヨーク ２４ 磁性体 ２５ 支持体 ３０ レチクル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０２Ｋ 41/02 Ｈ０２Ｋ 41/02 Ｃ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｆ ５１５Ｇ
Claims (6)
- 【請求項１】 案内手段に沿って移動自在である走査ス
テージと、これを移動させる駆動手段と、前記走査ステ
ージと前記案内手段の間を非接触に保つための静圧軸受
手段と、前記案内手段と別体である第１の磁気手段とこ
れに対向するように前記走査ステージに保持された第２
の磁気手段からなる予圧手段を有する走査ステージ装
置。 - 【請求項２】 案内手段が、セラミックで作られている
ことを特徴とする請求項１記載の走査ステージ装置。 - 【請求項３】 第１の磁気手段が棒状の磁性体であるこ
とを特徴とする請求項１または２記載の走査ステージ装
置。 - 【請求項４】 案内手段に、第１の磁気手段を嵌合させ
る凹所が設けられていることを特徴とする請求項１ない
し３いずれか１項記載の走査ステージ装置。 - 【請求項５】 第１の磁気手段が、案内手段を支持する
支持手段によって支持されていることを特徴とする請求
項１ないし４いずれか１項記載の走査ステージ装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし５いずれか１項記載の走
査ステージ装置と、これに保持された被露光体を露光す
る露光手段を有する露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17741296A JPH1012538A (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17741296A JPH1012538A (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1012538A true JPH1012538A (ja) | 1998-01-16 |
Family
ID=16030481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17741296A Pending JPH1012538A (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1012538A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6795154B2 (en) | 2002-02-19 | 2004-09-21 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for cutting liquid crystal display panels and cutting method using the same |
| US8035805B2 (en) | 2007-10-17 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method |
| WO2013155947A1 (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 清华大学 | 一种直线电机单自由度隔振装置及其运动控制方法 |
| CN104049472A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-09-17 | 清华大学 | 一种电磁弹射启动式掩模台系统 |
-
1996
- 1996-06-18 JP JP17741296A patent/JPH1012538A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6795154B2 (en) | 2002-02-19 | 2004-09-21 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Apparatus for cutting liquid crystal display panels and cutting method using the same |
| US8035805B2 (en) | 2007-10-17 | 2011-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus and exposure apparatus, and device fabrication method |
| WO2013155947A1 (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 清华大学 | 一种直线电机单自由度隔振装置及其运动控制方法 |
| US9310797B2 (en) | 2012-04-19 | 2016-04-12 | Tsinghua University | Single degree of freedom vibration isolating device of linear motor and motion control method thereof |
| CN104049472A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-09-17 | 清华大学 | 一种电磁弹射启动式掩模台系统 |
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