JP3215362B2 - リニアモータ、ステージ装置および露光装置 - Google Patents
リニアモータ、ステージ装置および露光装置Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
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- H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
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- Linear Motors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置、
測定装置等の超精密機器の駆動機構として利用されるリ
ニアモータ並びに該リニアモータを用いたステージ装置
および露光装置に関する。
測定装置等の超精密機器の駆動機構として利用されるリ
ニアモータ並びに該リニアモータを用いたステージ装置
および露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７に従来のリニアモータに用いられて
いる永久磁石の配列を示す。これは対向する永久磁石群
（固定子群）の片側のみを示しており、７０はヨーク、
７１（７１ａ〜７１ｃ）はヨーク７０上に配列した永久
磁石であり、各々の永久磁石７１は角部を落とした非直
体形状となっている。また、複数の永久磁石７１を極性
（Ｎ極、Ｓ極）が交互になるように配列するとともに、
対向する固定子群の間の空間に正弦波形の磁界を生じさ
せるように各永久磁石７１の厚さや幅を決定している。
いる永久磁石の配列を示す。これは対向する永久磁石群
（固定子群）の片側のみを示しており、７０はヨーク、
７１（７１ａ〜７１ｃ）はヨーク７０上に配列した永久
磁石であり、各々の永久磁石７１は角部を落とした非直
体形状となっている。また、複数の永久磁石７１を極性
（Ｎ極、Ｓ極）が交互になるように配列するとともに、
対向する固定子群の間の空間に正弦波形の磁界を生じさ
せるように各永久磁石７１の厚さや幅を決定している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、正弦波形の磁界を生じさせるために各永久磁
石の厚さや幅を位置により異ならせる必要がある上、そ
の形状も単純な直方体ではないため、永久磁石を精度良
く作製することが難しく高コストになるという課題があ
る。また、直方体形状のものに比べて磁束密度も低下す
るため、リニアモータの駆動力が低下するという課題も
ある。
来例では、正弦波形の磁界を生じさせるために各永久磁
石の厚さや幅を位置により異ならせる必要がある上、そ
の形状も単純な直方体ではないため、永久磁石を精度良
く作製することが難しく高コストになるという課題があ
る。また、直方体形状のものに比べて磁束密度も低下す
るため、リニアモータの駆動力が低下するという課題も
ある。
【０００４】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、低コストかつ高駆動力でありながら推力
リップル（推力ムラ）の小さい優れたリニアモータを提
供することを目的とする。さらに、リニアモータを構成
する永久磁石の終端部に近い領域においても磁界を正弦
波形に限りなく近づけることにより、空間を有効に利用
すること、もしくは可動子を軽量化することを目的とす
る。また、本発明はこのリニアモータを使用した優れた
位置決め精度を有するステージ装置や露光装置を提供す
ることを目的とする。
たものであり、低コストかつ高駆動力でありながら推力
リップル（推力ムラ）の小さい優れたリニアモータを提
供することを目的とする。さらに、リニアモータを構成
する永久磁石の終端部に近い領域においても磁界を正弦
波形に限りなく近づけることにより、空間を有効に利用
すること、もしくは可動子を軽量化することを目的とす
る。また、本発明はこのリニアモータを使用した優れた
位置決め精度を有するステージ装置や露光装置を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】かかる目的を達
成するため、本発明は、永久磁石とコイルとが相対移動
する構成のリニアモータにおいて、複数の永久磁石の極
性方向（磁極方向）を９０度ずつ回転させながら移動方
向に沿って配列し、その終端部に位置する複数個の永久
磁石の体積が、終端部の永久磁石と同じまたは逆の極性
方向を持つ他の永久磁石の体積よりも小さいことを特徴
とする。
成するため、本発明は、永久磁石とコイルとが相対移動
する構成のリニアモータにおいて、複数の永久磁石の極
性方向（磁極方向）を９０度ずつ回転させながら移動方
向に沿って配列し、その終端部に位置する複数個の永久
磁石の体積が、終端部の永久磁石と同じまたは逆の極性
方向を持つ他の永久磁石の体積よりも小さいことを特徴
とする。
【０００６】ここで、リニアモータを構成する永久磁石
は、通常、対向する各永久磁石の極性方向が逆向きにな
るように一対配列され、コイルがこれらの対向した一対
の永久磁石間を相対移動するように構成される。
は、通常、対向する各永久磁石の極性方向が逆向きにな
るように一対配列され、コイルがこれらの対向した一対
の永久磁石間を相対移動するように構成される。
【０００７】また、本発明のステージ装置は、上記構成
のリニアモータを駆動源としてステージを移動すること
を特徴とするものである。例えば、リニアモータの可動
子をステージの移動方向と平行に固定し、リニアモータ
の固定子をステージ装置の基体上に固定することにより
ステージの駆動を行うように構成することができる。
のリニアモータを駆動源としてステージを移動すること
を特徴とするものである。例えば、リニアモータの可動
子をステージの移動方向と平行に固定し、リニアモータ
の固定子をステージ装置の基体上に固定することにより
ステージの駆動を行うように構成することができる。
【０００８】そして、本発明の露光装置は上記構成のス
テージ装置を有することを特徴とするものである。即
ち、露光すべき基板の位置を制御しながらこの基板上に
露光を行う際に、上述のステージ装置上に基板を載せ、
このステージ位置を制御することにより基板の位置を制
御するように構成される。
テージ装置を有することを特徴とするものである。即
ち、露光すべき基板の位置を制御しながらこの基板上に
露光を行う際に、上述のステージ装置上に基板を載せ、
このステージ位置を制御することにより基板の位置を制
御するように構成される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図１を用いて本発明をより
具体的に説明する。図１は本発明のリニアモータの特徴
を最もよく表す図であり、リニアモータの終端部分を示
している。図１中、符号１０ａ〜１０ｄ、１１ａ〜１１
ｄは永久磁石を示しており、ｘ方向に極性方向（Ｓ極か
らＮ極への方向）を順番に９０度ずつ回転させながら配
置している。ここで、極性方向の回転の向きは、対向す
る永久磁石１０ａ〜１０ｄと永久磁石１１ａ〜１１ｄと
では反対であり、永久磁石１０ａ〜１０ｄが図中時計周
りに極性が変われば、永久磁石１１ａ〜１１ｄは反時計
周りに極性が変わる。また、極性方向がｘ方向を向いて
いる４つの永久磁石１０ａ、１０ｃ、１１ａ、１１ｃは
ともに同じ寸法であり、ｙ方向を向いている４つの永久
磁石１０ｂ、１０ｄ、１１ｂ、１１ｄはともに同じ寸法
である。
具体的に説明する。図１は本発明のリニアモータの特徴
を最もよく表す図であり、リニアモータの終端部分を示
している。図１中、符号１０ａ〜１０ｄ、１１ａ〜１１
ｄは永久磁石を示しており、ｘ方向に極性方向（Ｓ極か
らＮ極への方向）を順番に９０度ずつ回転させながら配
置している。ここで、極性方向の回転の向きは、対向す
る永久磁石１０ａ〜１０ｄと永久磁石１１ａ〜１１ｄと
では反対であり、永久磁石１０ａ〜１０ｄが図中時計周
りに極性が変われば、永久磁石１１ａ〜１１ｄは反時計
周りに極性が変わる。また、極性方向がｘ方向を向いて
いる４つの永久磁石１０ａ、１０ｃ、１１ａ、１１ｃは
ともに同じ寸法であり、ｙ方向を向いている４つの永久
磁石１０ｂ、１０ｄ、１１ｂ、１１ｄはともに同じ寸法
である。
【００１０】符号１２ａ〜１２ｂ、符号１３ａ〜１３ｂ
は、磁界分布を正弦波形状に近づけるために付けている
磁界を補正するための永久磁石であり、永久磁石１０ａ
〜１０ｄ、１１ａ〜１１ｄの終端部に設置している。ま
た、補正磁石１２ａ〜１２ｂおよび１３ａ〜１３ｂの極
性方向は、永久磁石１０ａ〜１０ｄ、１１ａ〜１１ｄと
同じ規則に従っている。また、補正磁石１２ａおよび１
３ａの体積は、極性方向が同じ方向を向いている永久磁
石１０ａ等の体積より小さくなっており、極性がｙ方向
を向いている補正磁石１２ｂおよび１３ｂの体積は、極
性方向が同じ方向を向いている永久磁石１０ｂ等の体積
より小さくなっている。
は、磁界分布を正弦波形状に近づけるために付けている
磁界を補正するための永久磁石であり、永久磁石１０ａ
〜１０ｄ、１１ａ〜１１ｄの終端部に設置している。ま
た、補正磁石１２ａ〜１２ｂおよび１３ａ〜１３ｂの極
性方向は、永久磁石１０ａ〜１０ｄ、１１ａ〜１１ｄと
同じ規則に従っている。また、補正磁石１２ａおよび１
３ａの体積は、極性方向が同じ方向を向いている永久磁
石１０ａ等の体積より小さくなっており、極性がｙ方向
を向いている補正磁石１２ｂおよび１３ｂの体積は、極
性方向が同じ方向を向いている永久磁石１０ｂ等の体積
より小さくなっている。
【００１１】符号１４、１５はヨークであり、永久磁石
１０ａ〜１０ｄおよび補正磁石１２ａ〜１２ｂはヨーク
１４に、永久磁石１１ａ〜１１ｄおよび補正磁石１３ａ
〜１３ｂはヨーク１５上にそれぞれ設置されている。ヨ
ーク１４とヨーク１５は互いに動かないように固定され
ている。符号１６は移動方向に複数配置された電磁コイ
ルであり、これに電流を流すことにより、永久磁石とコ
イルとが相対移動する。なお、永久磁石を可動子とする
場合には電磁コイルを固定子とし、逆に電磁コイルを可
動子とする場合には、永久磁石を固定子にすることがで
きる。
１０ａ〜１０ｄおよび補正磁石１２ａ〜１２ｂはヨーク
１４に、永久磁石１１ａ〜１１ｄおよび補正磁石１３ａ
〜１３ｂはヨーク１５上にそれぞれ設置されている。ヨ
ーク１４とヨーク１５は互いに動かないように固定され
ている。符号１６は移動方向に複数配置された電磁コイ
ルであり、これに電流を流すことにより、永久磁石とコ
イルとが相対移動する。なお、永久磁石を可動子とする
場合には電磁コイルを固定子とし、逆に電磁コイルを可
動子とする場合には、永久磁石を固定子にすることがで
きる。
【００１２】このような磁石の配置にすることにより、
対向している永久磁石１０ａ〜１０ｄと１１ａ〜１１
ｄ、および補正磁石１２ａ〜１２ｂと１３ａ〜１３ｂの
間の空間には、固定した磁界が生じる。特に、永久磁石
に対して上記のように補正磁石を設置した構成をとるこ
とにより、永久磁石間の空間に存在する磁界のｙ成分
を、永久磁石の終端部近傍にいたるまで、ｘ軸方向に対
して正弦波形に近づけることができる。
対向している永久磁石１０ａ〜１０ｄと１１ａ〜１１
ｄ、および補正磁石１２ａ〜１２ｂと１３ａ〜１３ｂの
間の空間には、固定した磁界が生じる。特に、永久磁石
に対して上記のように補正磁石を設置した構成をとるこ
とにより、永久磁石間の空間に存在する磁界のｙ成分
を、永久磁石の終端部近傍にいたるまで、ｘ軸方向に対
して正弦波形に近づけることができる。
【００１３】ここで、同図に示されるように、終端部に
設けている永久磁石の数は２つであることが望ましい。
さらには、これらの２つの永久磁石のうち、リニアモー
タの中心側に位置する永久磁石１３ａにおける相対移動
方向の寸法（Ｌ13a ）は、下記数１式で示すように、こ
の永久磁石１３ａと同じ極性方向を持つリニアモータを
構成する他の永久磁石１１ａの寸法（Ｌ11a ）の１／２
より大きく、
設けている永久磁石の数は２つであることが望ましい。
さらには、これらの２つの永久磁石のうち、リニアモー
タの中心側に位置する永久磁石１３ａにおける相対移動
方向の寸法（Ｌ13a ）は、下記数１式で示すように、こ
の永久磁石１３ａと同じ極性方向を持つリニアモータを
構成する他の永久磁石１１ａの寸法（Ｌ11a ）の１／２
より大きく、
【００１４】
【数１】 かつ、リニアモータの終端側に位置する永久磁石１３ｂ
の相対移動方向の寸法（Ｌ13b ）は、下記数２式で示す
ように、中心側の永久磁石１３ａの寸法から、他の永久
磁石１１ａの寸法の１／２を引いた値に、終端側の永久
磁石１３ｂと同じ極性方向を持つ永久磁石１１ｂの寸法
（Ｌ11b ）を、中心側に位置する永久磁石１３ａと同じ
極性方向を持つリニアモータを構成する永久磁石１１ａ
の寸法の１／２で割った値を乗じた値より小さいことが
より望ましい。
の相対移動方向の寸法（Ｌ13b ）は、下記数２式で示す
ように、中心側の永久磁石１３ａの寸法から、他の永久
磁石１１ａの寸法の１／２を引いた値に、終端側の永久
磁石１３ｂと同じ極性方向を持つ永久磁石１１ｂの寸法
（Ｌ11b ）を、中心側に位置する永久磁石１３ａと同じ
極性方向を持つリニアモータを構成する永久磁石１１ａ
の寸法の１／２で割った値を乗じた値より小さいことが
より望ましい。
【００１５】
【数２】 このように、終端部に設ける永久磁石が２つである場合
は、中心側の永久磁石１３ａの極性方向は相対移動方向
に平行であり、終端側の永久磁石１３ｂの極性方向は相
対移動方向に垂直であることが望ましい。また、後に詳
述するように、この場合は、永久磁石を可動子とし、コ
イルを固定子とするのに好適であり、通常、相対移動時
のコイルの最外位置は、終端部に設けている２つの永久
磁石のうちの中心側の永久磁石１３ａの中心側の端か
ら、他の永久磁石１１ａの寸法の１／２だけ終端側にず
れた位置で設定される。
は、中心側の永久磁石１３ａの極性方向は相対移動方向
に平行であり、終端側の永久磁石１３ｂの極性方向は相
対移動方向に垂直であることが望ましい。また、後に詳
述するように、この場合は、永久磁石を可動子とし、コ
イルを固定子とするのに好適であり、通常、相対移動時
のコイルの最外位置は、終端部に設けている２つの永久
磁石のうちの中心側の永久磁石１３ａの中心側の端か
ら、他の永久磁石１１ａの寸法の１／２だけ終端側にず
れた位置で設定される。
【００１６】
（第１の実施例）図２に本例に係る永久磁石の具体的な
配置設計を示す。なお、ここでは永久磁石を可動子、コ
イルを固定子としている。
配置設計を示す。なお、ここでは永久磁石を可動子、コ
イルを固定子としている。
【００１７】図２において、コイルと永久磁石の相対運
動方向（ｘ方向）の長さを、磁石磁極がｘ方向の永久磁
石１１ａ、１１ｃは１８ｍｍ、磁石磁極がｘ方向に垂直
なｙ方向の永久磁石１１ｂ、１１ｄは１８ｍｍとしてい
る。ここでは、両者は同寸法であるが、異なる場合もあ
る。また、補正するための永久磁石において、磁石磁極
がｘ方向の補正磁石１３ａのｘ方向の長さは１５ｍｍ、
磁石磁極がｙ方向の補正磁石１３ｂのｘ方向の長さは５
ｍｍとしている。また、永久磁石の厚さ（ｙ方向）を１
０ｍｍとし、幅（ｚ方向）を８０ｍｍとしている。
動方向（ｘ方向）の長さを、磁石磁極がｘ方向の永久磁
石１１ａ、１１ｃは１８ｍｍ、磁石磁極がｘ方向に垂直
なｙ方向の永久磁石１１ｂ、１１ｄは１８ｍｍとしてい
る。ここでは、両者は同寸法であるが、異なる場合もあ
る。また、補正するための永久磁石において、磁石磁極
がｘ方向の補正磁石１３ａのｘ方向の長さは１５ｍｍ、
磁石磁極がｙ方向の補正磁石１３ｂのｘ方向の長さは５
ｍｍとしている。また、永久磁石の厚さ（ｙ方向）を１
０ｍｍとし、幅（ｚ方向）を８０ｍｍとしている。
【００１８】 このような構成のリニアモータの可動子
において、永久磁石間の空間に存在する理想的な磁界の
ｙ成分は、半波長が磁極方向の異なる磁石のｘ方向の寸
法の和（３６ｍｍ）の正弦波形となり、リニアモータを
駆動するために電流を流すコイルの最外位置は図中のＰ
（永久磁石１１ｄの９ｍｍ外側の位置）となる。このた
め、推力リップルを小さくするためには、少なくとも図
中Ｐより内側の領域にて、永久磁石間の空間に存在する
磁界のｙ成分をｘ軸方向に対して正弦波形に近づけなけ
ればならない。
において、永久磁石間の空間に存在する理想的な磁界の
ｙ成分は、半波長が磁極方向の異なる磁石のｘ方向の寸
法の和（３６ｍｍ）の正弦波形となり、リニアモータを
駆動するために電流を流すコイルの最外位置は図中のＰ
（永久磁石１１ｄの９ｍｍ外側の位置）となる。このた
め、推力リップルを小さくするためには、少なくとも図
中Ｐより内側の領域にて、永久磁石間の空間に存在する
磁界のｙ成分をｘ軸方向に対して正弦波形に近づけなけ
ればならない。
【００１９】対向する永久磁石の間に形成される図２に
示したリニアモータの終端部において、磁界のｙ方向成
分の２分の１周期（図２中のＱとＰの間）の波形を図３
に示す。破線が理想正弦波形、実線が本例での磁束密度
波形であるが、両者はほぼ一致している。特に、終端部
において、理想正弦波形に対する誤差を正弦波振幅の１
％以下と非常に小さくすることができる。
示したリニアモータの終端部において、磁界のｙ方向成
分の２分の１周期（図２中のＱとＰの間）の波形を図３
に示す。破線が理想正弦波形、実線が本例での磁束密度
波形であるが、両者はほぼ一致している。特に、終端部
において、理想正弦波形に対する誤差を正弦波振幅の１
％以下と非常に小さくすることができる。
【００２０】このリニアモータにおいて、終端部分の空
間の磁束密度分布を図４に矢印図として示している。終
端部分（領域Ａ）の磁束密度分布は、中央部分の磁束密
度分布に近づけることができ、その結果磁界のｙ方向成
分を正弦波形に近づけることができる。
間の磁束密度分布を図４に矢印図として示している。終
端部分（領域Ａ）の磁束密度分布は、中央部分の磁束密
度分布に近づけることができ、その結果磁界のｙ方向成
分を正弦波形に近づけることができる。
【００２１】 本例のように、永久磁石を、磁極方向を
９０度ずつ回転させながら配置することにより、永久磁
石間の空間につくられる磁界は、時計周りの磁束の流れ
と反時計周りの磁束の流れがｘ方向に対して交互に現れ
る。例えば、図４では、永久磁石１１ｂ〜１１ｄおよび
図示していないｙ方向に対向している３つの磁石（図１
における永久磁石１０ｂ〜１０ｄ）によって、時計回り
の磁路が形成される（図では、典型的な磁束の方向を白
抜きの矢印で示している）。
９０度ずつ回転させながら配置することにより、永久磁
石間の空間につくられる磁界は、時計周りの磁束の流れ
と反時計周りの磁束の流れがｘ方向に対して交互に現れ
る。例えば、図４では、永久磁石１１ｂ〜１１ｄおよび
図示していないｙ方向に対向している３つの磁石（図１
における永久磁石１０ｂ〜１０ｄ）によって、時計回り
の磁路が形成される（図では、典型的な磁束の方向を白
抜きの矢印で示している）。
【００２２】そこで、永久磁石の終端部においても、他
と同じような磁束の流れをつくるように補正磁石を配置
することによって、終端部近傍の磁束のｙ成分を正弦波
形に近づけることができる。本実施例では、極性方向が
９０度異なる２つの補正磁石を同じ規則に従って付ける
ことにより、他の領域とほぼ同じ分布の磁束の流れをつ
くっている。
と同じような磁束の流れをつくるように補正磁石を配置
することによって、終端部近傍の磁束のｙ成分を正弦波
形に近づけることができる。本実施例では、極性方向が
９０度異なる２つの補正磁石を同じ規則に従って付ける
ことにより、他の領域とほぼ同じ分布の磁束の流れをつ
くっている。
【００２３】 図４では、永久磁石１１ｄの外側に、磁
極方向がｘ方向を向いている補正磁石１３ａと、ｙ方向
を向いている１３ｂを組み合わせて配置することによ
り、中央部に形成された磁束の流れとほぼ同じ反時計回
りの磁束の流れを実現することができる。例えば、補正
磁石１３ａのみを設置した場合、磁極方向がｙ方向を向
いた補正磁石１３ｂがないために、補正磁石１３ａの端
部においてｘ方向へのもれ磁界が大きくなり、理想的な
磁束の流れからずれた分布となる。このため、終端部に
は、磁極方向がｘ方向を向いた補正磁石と、ｙ方向を向
いた補正磁石を組み合わせて設置することが重要であ
る。
極方向がｘ方向を向いている補正磁石１３ａと、ｙ方向
を向いている１３ｂを組み合わせて配置することによ
り、中央部に形成された磁束の流れとほぼ同じ反時計回
りの磁束の流れを実現することができる。例えば、補正
磁石１３ａのみを設置した場合、磁極方向がｙ方向を向
いた補正磁石１３ｂがないために、補正磁石１３ａの端
部においてｘ方向へのもれ磁界が大きくなり、理想的な
磁束の流れからずれた分布となる。このため、終端部に
は、磁極方向がｘ方向を向いた補正磁石と、ｙ方向を向
いた補正磁石を組み合わせて設置することが重要であ
る。
【００２４】なお、このように、効率よく磁束の流れを
制御し、中央部と同様の磁束の流れを作るためには、補
正磁石の数は２つ以上であることが望ましい。特に、永
久磁石が可動子の場合、可動子を軽くすることによりリ
ニアモータの駆動力をできるだけ大きくしたいという設
計上の理由等から、補正磁石の数は２つがより望まし
い。
制御し、中央部と同様の磁束の流れを作るためには、補
正磁石の数は２つ以上であることが望ましい。特に、永
久磁石が可動子の場合、可動子を軽くすることによりリ
ニアモータの駆動力をできるだけ大きくしたいという設
計上の理由等から、補正磁石の数は２つがより望まし
い。
【００２５】ここで、磁界を補正するための永久磁石の
ｘ方向の寸法が、推力リップルに与える影響として、終
端部に設けた磁界を補正するための永久磁石のｘ方向の
長さを変えた場合において、可動子が受ける推力の最大
値と最小値の差（推力の平均値で規格化した値）をＦｌ
ｕｃｔｕａｔｉｏｎと定義し、この値の等高線表示を図
５に示している。用いたリニアモータの寸法は、補正磁
石以外については図２と同じであり、補正磁石１３ａの
ｘ方向の長さをα、補正磁石１３ｂのｘ方向の長さをβ
としている。
ｘ方向の寸法が、推力リップルに与える影響として、終
端部に設けた磁界を補正するための永久磁石のｘ方向の
長さを変えた場合において、可動子が受ける推力の最大
値と最小値の差（推力の平均値で規格化した値）をＦｌ
ｕｃｔｕａｔｉｏｎと定義し、この値の等高線表示を図
５に示している。用いたリニアモータの寸法は、補正磁
石以外については図２と同じであり、補正磁石１３ａの
ｘ方向の長さをα、補正磁石１３ｂのｘ方向の長さをβ
としている。
【００２６】図５に示したように、αとβの組み合わせ
を変えるとＦｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの値は変化し、両者
の長さを調整することによりＦｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの
値を減らす、すなわち推力リップルを減らすことができ
る。例えば、Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの値を１％以下に
するためには、同図において１％を表す等高線の内側に
位置するαとβの組み合わせを用いることによって実現
できる。
を変えるとＦｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの値は変化し、両者
の長さを調整することによりＦｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの
値を減らす、すなわち推力リップルを減らすことができ
る。例えば、Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎの値を１％以下に
するためには、同図において１％を表す等高線の内側に
位置するαとβの組み合わせを用いることによって実現
できる。
【００２７】特に、永久磁石が可動子の場合、推力をあ
げるためにはできるだけ永久磁石の重量を少なくする必
要がある。図５を用いることにより、Ｆｌｕｃｔｕａｔ
ｉｏｎの値がある値以下を実現し、補正磁石の総長、も
しくは総体積を小さくするαとβの組み合わせを求める
ことができる。
げるためにはできるだけ永久磁石の重量を少なくする必
要がある。図５を用いることにより、Ｆｌｕｃｔｕａｔ
ｉｏｎの値がある値以下を実現し、補正磁石の総長、も
しくは総体積を小さくするαとβの組み合わせを求める
ことができる。
【００２８】なお、上記の最適なαとβの組み合わせ
は、αとβの値が永久磁石１１ａと１１ｂの長さ（１８
ｍｍ）より小さな値の範囲に含まれることが図５よりわ
かる。このことから、少なくとも終端部に設けた補正磁
石の長さもしくは体積を、他の永久磁石に比べ同じ、も
しくは小さくすることにより、推力リップルを小さくす
ることができる。図５においては、α＝１８ｍｍ、β＝
１８ｍｍを表す２つの一点鎖線の内側がその領域を表
す。なお、より一般的には、永久磁石１１ａと１１ｂの
長さが異なることから、αは磁極方向が同じ永久磁石１
１ａの寸法より小さく、およびβは磁極方向が同じ永久
磁石１１ｂの寸法より小さくすることにより、上記と同
じ効果を生むことができる。
は、αとβの値が永久磁石１１ａと１１ｂの長さ（１８
ｍｍ）より小さな値の範囲に含まれることが図５よりわ
かる。このことから、少なくとも終端部に設けた補正磁
石の長さもしくは体積を、他の永久磁石に比べ同じ、も
しくは小さくすることにより、推力リップルを小さくす
ることができる。図５においては、α＝１８ｍｍ、β＝
１８ｍｍを表す２つの一点鎖線の内側がその領域を表
す。なお、より一般的には、永久磁石１１ａと１１ｂの
長さが異なることから、αは磁極方向が同じ永久磁石１
１ａの寸法より小さく、およびβは磁極方向が同じ永久
磁石１１ｂの寸法より小さくすることにより、上記と同
じ効果を生むことができる。
【００２９】また、αの値は少なくとも永久磁石１１ａ
の長さの１／２より大きくすることが望ましい。これ
は、図２で示したように、実際に電流を流すコイルの最
外位置が永久磁石１１ｄの外側のＰの位置であり、少な
くとも補正磁石の寸法がＰの位置より長くする必要があ
るためである。具体的には、αの値は永久磁石１１ａの
長さの１／２（９ｍｍ）より大きいことが望ましい。
の長さの１／２より大きくすることが望ましい。これ
は、図２で示したように、実際に電流を流すコイルの最
外位置が永久磁石１１ｄの外側のＰの位置であり、少な
くとも補正磁石の寸法がＰの位置より長くする必要があ
るためである。具体的には、αの値は永久磁石１１ａの
長さの１／２（９ｍｍ）より大きいことが望ましい。
【００３０】 また、図５から、αとβの最適値は、図
中において（α、β）＝（９、０）の点（不図示）と
（１８、１８）の点を結んだ破線より下側に位置するこ
とから、αの値と永久磁石１１ａの長さの１／２（９ｍ
ｍ）の差の２倍の値に比べてβの値を小さくすることに
より、確実に推力リップルを小さくするαとβの組み合
わせを求めることができる。なお、より一般的には、永
久磁石１１ａと１１ｂの長さが異なることから、αの値
は永久磁石１１ａの長さの１／２より大きくすること、
βの値は（αの値から永久磁石１１ａの長さの１／２を
引いた値）に（永久磁石１１ｂの長さを永久磁石１１ａ
の長さの１／２で割った値）を乗じた値より小さくする
ことにより、上記と同じ効果を生むことができる。
中において（α、β）＝（９、０）の点（不図示）と
（１８、１８）の点を結んだ破線より下側に位置するこ
とから、αの値と永久磁石１１ａの長さの１／２（９ｍ
ｍ）の差の２倍の値に比べてβの値を小さくすることに
より、確実に推力リップルを小さくするαとβの組み合
わせを求めることができる。なお、より一般的には、永
久磁石１１ａと１１ｂの長さが異なることから、αの値
は永久磁石１１ａの長さの１／２より大きくすること、
βの値は（αの値から永久磁石１１ａの長さの１／２を
引いた値）に（永久磁石１１ｂの長さを永久磁石１１ａ
の長さの１／２で割った値）を乗じた値より小さくする
ことにより、上記と同じ効果を生むことができる。
【００３１】図６は、上記リニアモータを用いたステー
ジ装置を有する半導体デバイス製造用の露光装置の構成
を示す。同図の構成において、定盤６０１上にガイド６
０２とリニアモータ６０３の固定子を固設している。こ
こで、リニアモータ６０３は上記説明した構成、すなわ
ち固定子は多相電磁コイルを、可動子は永久磁石を有し
ている。このリニアモータ６０３の可動子を可動部６０
５および可動ガイド６０４に接続して、リニアモータ６
０３の駆動によって可動ガイドを紙面法線方向に移動さ
せる。また、可動部６０５は定盤６０１の上面を基準に
静圧軸受け６０９で、ガイド６０２の側面を基準に静圧
軸受け６０８で保持する。
ジ装置を有する半導体デバイス製造用の露光装置の構成
を示す。同図の構成において、定盤６０１上にガイド６
０２とリニアモータ６０３の固定子を固設している。こ
こで、リニアモータ６０３は上記説明した構成、すなわ
ち固定子は多相電磁コイルを、可動子は永久磁石を有し
ている。このリニアモータ６０３の可動子を可動部６０
５および可動ガイド６０４に接続して、リニアモータ６
０３の駆動によって可動ガイドを紙面法線方向に移動さ
せる。また、可動部６０５は定盤６０１の上面を基準に
静圧軸受け６０９で、ガイド６０２の側面を基準に静圧
軸受け６０８で保持する。
【００３２】次に、移動ステージ６０７について説明す
る。可動ガイド６０４をまたぐようにして配置した移動
ステージ６０７は静圧軸受け６１０によって支持してい
る。この移動ステージ６０７は、上記説明した構成を持
ったリニアモータ６０６によって、可動ガイド６０４を
基準にステージ６０７が紙面左右方向に移動する。ステ
ージ６０７の動きはステージ６０７に固設したミラー６
１１およびレーザー干渉計６１２を用いて計測する。そ
して、ステージ６０７に搭載したチャックでウエハ６１
６を保持しており、このウエハ６１６に回路パターンを
露光転写するために、光源６１３および投影光学系６１
４によって、レチクル６１５上の回路パターンをウエハ
６１６上に縮小転写する。本例では、上記説明したよう
な優れた特性のリニアモータを用いることで、優れたス
テージ装置ひいては露光装置を達成している。
る。可動ガイド６０４をまたぐようにして配置した移動
ステージ６０７は静圧軸受け６１０によって支持してい
る。この移動ステージ６０７は、上記説明した構成を持
ったリニアモータ６０６によって、可動ガイド６０４を
基準にステージ６０７が紙面左右方向に移動する。ステ
ージ６０７の動きはステージ６０７に固設したミラー６
１１およびレーザー干渉計６１２を用いて計測する。そ
して、ステージ６０７に搭載したチャックでウエハ６１
６を保持しており、このウエハ６１６に回路パターンを
露光転写するために、光源６１３および投影光学系６１
４によって、レチクル６１５上の回路パターンをウエハ
６１６上に縮小転写する。本例では、上記説明したよう
な優れた特性のリニアモータを用いることで、優れたス
テージ装置ひいては露光装置を達成している。
【００３３】次に、この露光装置を利用したデバイスの
製造例について説明する。図８は微小デバイス（ＩＣや
ＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁
気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計
を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパター
ンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウ
エハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエ
ハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程
と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソ
グラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で
作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テ
スト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイ
スが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
製造例について説明する。図８は微小デバイス（ＩＣや
ＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁
気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。
ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計
を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパター
ンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウ
エハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエ
ハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程
と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソ
グラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で
作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テ
スト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイ
スが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００３４】図９は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光の適否を確認す
る手段を有する露光装置によってマスクの回路パターン
をウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露
光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）
では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステッ
プ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要と
なったレジストを取り除く。これらのステップ１１〜１
９を繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路
パターンが形成される。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光の適否を確認す
る手段を有する露光装置によってマスクの回路パターン
をウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露
光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）
では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステッ
プ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要と
なったレジストを取り除く。これらのステップ１１〜１
９を繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路
パターンが形成される。
【００３５】本実施例ではこの繰り返しの各プロセスに
おいて、上記述べたように露光（ステップ１６）のステ
ージ駆動において、優れた位置決め精度を有するステー
ジ装置を用いることにより、従来は製造が難しかった高
集積度のデバイスを低コストで製造することができる。
おいて、上記述べたように露光（ステップ１６）のステ
ージ駆動において、優れた位置決め精度を有するステー
ジ装置を用いることにより、従来は製造が難しかった高
集積度のデバイスを低コストで製造することができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば永
久磁石の終端部に近い領域まで磁界を正弦波形に近づけ
ることができ、長いストロークにわたって推力リップル
の小さい優れたリニアモータ装置を提供することができ
る。特に、本発明によれば、このリニアモータにより優
れた位置決め精度を有するステージ装置を提供すること
ができる。さらに、本発明によれば、高精度な露光が可
能な優れた露光装置を提供することができる。
久磁石の終端部に近い領域まで磁界を正弦波形に近づけ
ることができ、長いストロークにわたって推力リップル
の小さい優れたリニアモータ装置を提供することができ
る。特に、本発明によれば、このリニアモータにより優
れた位置決め精度を有するステージ装置を提供すること
ができる。さらに、本発明によれば、高精度な露光が可
能な優れた露光装置を提供することができる。
【図１】 本発明におけるリニアモータの構成図。
【図２】 本発明におけるリニアモータの具体的な設計
例を示す図。
例を示す図。
【図３】 図２の永久磁石が発生する磁束密度のｙ方向
成分。
成分。
【図４】 図２の永久磁石が発生する空間の磁束密度分
布の矢印図。
布の矢印図。
【図５】 終端部に設けた補正磁石の寸法と推力リップ
ルの相関図。
ルの相関図。
【図６】 リニアモータを用いたステージ装置を有する
露光装置の構成図。
露光装置の構成図。
【図７】 従来例のリニアモータを示す図。
【図８】 微小デバイスの製造工程を示すフローチャー
ト。
ト。
【図９】 図８のウエハプロセスの詳細なフローチャー
ト。
ト。
１０（ａ〜ｄ），１１（ａ〜ｄ），７１（ａ〜ｃ）：永
久磁石、１４，１５，７０：ヨーク、１６：電磁コイ
ル、１２（ａ〜ｂ），１３（ａ〜ｂ）：終端部の永久磁
石、６０１：定盤、６０２：ガイド、６０３，６０６：
リニアモータ、６０４：可動ガイド、６０５：可動部、
６０７：ステージ、６０８，６０９，６１０：静圧軸受
け、６１１：ミラー、６１２：レーザー干渉計、６１
３：光源、６１４：投影光学系、６１５：レチクル、６
１６：ウエハ。
久磁石、１４，１５，７０：ヨーク、１６：電磁コイ
ル、１２（ａ〜ｂ），１３（ａ〜ｂ）：終端部の永久磁
石、６０１：定盤、６０２：ガイド、６０３，６０６：
リニアモータ、６０４：可動ガイド、６０５：可動部、
６０７：ステージ、６０８，６０９，６１０：静圧軸受
け、６１１：ミラー、６１２：レーザー干渉計、６１
３：光源、６１４：投影光学系、６１５：レチクル、６
１６：ウエハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−38501（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−38502（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−168844（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−159582（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H02K 41/00 - 41/035 H02K 33/00 - 33/18
Claims (9)
- 【請求項１】 永久磁石とコイルとが相対移動する構成
のリニアモータにおいて、複数の永久磁石の極性方向を
９０度ずつ回転させながら移動方向に沿って配列し、そ
の終端部に位置する複数個の永久磁石の体積が、前記終
端部の永久磁石と同じまたは逆の極性方向を持つ他の永
久磁石の体積よりも小さいことを特徴とするリニアモー
タ。 - 【請求項２】 前記終端部に設けている永久磁石の数は
２つであることを特徴とする請求項１記載のリニアモー
タ。 - 【請求項３】 前記２つの永久磁石のうち、前記リニア
モータの中心側に位置する永久磁石（１３ａ）の相対移
動方向の寸法は、この永久磁石（１３ａ）と同じ極性方
向を持ち前記リニアモータを構成する他の永久磁石（１
１ａ）の寸法の１／２より大きく、かつ、前記リニアモ
ータの終端側に位置する永久磁石（１３ｂ）の相対移動
方向の寸法は、前記中心側の永久磁石（１３ａ）の寸法
から前記他の永久磁石（１１ａ）の寸法の１／２を引い
た値に、前記終端側の永久磁石（１３ｂ）と同じ極性方
向を持つ永久磁石（１１ｂ）の寸法を、前記中心側に位
置する永久磁石（１３ａ）と同じ極性方向を持つ永久磁
石（１１ａ）の寸法の１／２で割った値を乗じた値より
小さいことを特徴とする請求項２記載のリニアモータ。 - 【請求項４】 前記終端部に設けている２つの永久磁石
のうち、前記中心側の永久磁石（１３ａ）の極性方向は
前記相対移動方向に平行であり、前記終端側の永久磁石
（１３ｂ）の極性方向は前記相対移動方向に垂直である
ことを特徴とする請求項２〜３のいずれかに記載のリニ
アモータ。 - 【請求項５】 前記複数の永久磁石は、対向する各永久
磁石の極性方向が逆向きになるように一対配列され、前
記コイルがこれらの対向した一対の永久磁石間を相対移
動するものであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れかに記載のリニアモータ。 - 【請求項６】 前記永久磁石が可動子であり、前記コイ
ルが固定子であることを特徴とする請求項１〜５のいず
れかに記載のリニアモータ。 - 【請求項７】 前記相対移動時の前記コイルの最外位置
が、前記終端部に設けている永久磁石のうちの前記中心
側の永久磁石（１３ａ）の中心側の端から、前記他の永
久磁石（１１ａ）の寸法の１／２だけ終端側にずれた位
置であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
載のリニアモータ。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載のリニア
モータを駆動源としてステージを移動することを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項９】 請求項８記載のステージ装置を有するこ
とを特徴とする露光装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30333097A JP3215362B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | リニアモータ、ステージ装置および露光装置 |
| US09/172,163 US6043572A (en) | 1997-10-20 | 1998-10-14 | Linear motor, stage device, and exposing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30333097A JP3215362B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | リニアモータ、ステージ装置および露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11122905A JPH11122905A (ja) | 1999-04-30 |
| JP3215362B2 true JP3215362B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=17919685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30333097A Expired - Fee Related JP3215362B2 (ja) | 1997-10-20 | 1997-10-20 | リニアモータ、ステージ装置および露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6043572A (ja) |
| JP (1) | JP3215362B2 (ja) |
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| JP2001037200A (ja) | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Canon Inc | リニアモータ、ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
| US6271606B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-08-07 | Nikon Corporation | Driving motors attached to a stage that are magnetically coupled through a chamber |
| US6313551B1 (en) * | 2000-02-04 | 2001-11-06 | Nikon Corporation | Magnet array for a shaft-type linear motor |
| JP4094799B2 (ja) * | 2000-06-22 | 2008-06-04 | 日本トムソン株式会社 | 可動マグネット型リニアモータを内蔵したスライド装置 |
| US6717296B2 (en) * | 2001-08-22 | 2004-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and motor for use in the apparatus |
| JP2003244927A (ja) * | 2002-02-18 | 2003-08-29 | Yaskawa Electric Corp | リニアモータ及びそれを有するステージ装置 |
| SE524861C2 (sv) * | 2002-08-14 | 2004-10-12 | Abb Ab | En elektrisk maskin samt användning därav |
| JP3818243B2 (ja) * | 2002-08-26 | 2006-09-06 | 株式会社デンソー | リニア振動電機 |
| US20040155741A1 (en) * | 2002-10-21 | 2004-08-12 | Mikhail Godin | Flat linear voice coil actuator with planar coils and a spring-type characteristic |
| JP3835429B2 (ja) * | 2003-04-15 | 2006-10-18 | ソニー株式会社 | 撮像装置用のレンズ駆動装置 |
| US20050093392A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Medtronic, Inc. | Electric motor having nanocrystalline alloy component for use in surgical procedure |
| US7378765B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-05-27 | Oriental Motor Co., Ltd. | Cylinder-type linear motor and moving part thereof |
| KR100614444B1 (ko) * | 2004-08-11 | 2006-08-21 | 현대자동차주식회사 | 비틀림 진동 댐퍼 |
| JP2006054971A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 工作機械用リニアモータ |
| US7385679B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and actuator |
| GB2448191B (en) * | 2007-04-05 | 2009-11-04 | Imra Europe Sas | Linear actuator |
| JPWO2009057442A1 (ja) * | 2007-10-31 | 2011-03-10 | Thk株式会社 | リニアモータ及びリニアモータシステム |
| NL2003776A (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Asml Holding Nv | Linear motor magnetic shield apparatus. |
| CN102577053B (zh) * | 2009-09-29 | 2014-03-12 | 兄弟工业株式会社 | 振动发电机 |
| JP5760316B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2015-08-05 | スミダコーポレーション株式会社 | 振動型電磁発電機 |
| EP3939708B1 (en) * | 2019-03-12 | 2023-11-08 | Alps Alpine Co., Ltd. | Electromagnetic drive device and operation device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4912746A (en) * | 1987-08-15 | 1990-03-27 | Shinko Denki Kabushiki Kaisha | Linear DC brushless motor |
| US5032746A (en) * | 1988-03-22 | 1991-07-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Linear motor with driving device |
| US4859974A (en) * | 1988-10-11 | 1989-08-22 | General Electric Company | Electromagnetic motor/actuator |
| JP3449061B2 (ja) * | 1995-09-19 | 2003-09-22 | 株式会社デンソー | 直流モータ |
-
1997
- 1997-10-20 JP JP30333097A patent/JP3215362B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-10-14 US US09/172,163 patent/US6043572A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6043572A (en) | 2000-03-28 |
| JPH11122905A (ja) | 1999-04-30 |
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