KR20040073996A - 균형 질량을 사용하여 스테이지에 대한 반력의 영향을감소시키는 시스템 및 방법 - Google Patents

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프레더릭마이클 커터
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Abstract

시스템 및 방법은, 균형 질량 어셈블리에 연결된 모터 어셈블리를 사용하여, 챔버 내에서 스테이지를 공중 부양시키고 이동시키는 데에 사용된다. 균형 질량 어셈블리는 챔버에 인접하여 배치된다. 모터 어셈블리는 스테이터 및 코일을 포함한다. 스테이터 및 코일 중 하나는 챔버의 벽의 제1 면 상에서 스테이지에 연결된다. 스테이터 및 코일 중 다른 하나는 챔버의 벽의 제2 면 상에서 균형 질량 어셈블리에 연결된다. 스테이지에 연결된 자기 어셈블리는 스테이지가 챔버 내에서 공중 부양할 수 있게 한다. 스테이지는 공중 부양된 후, 자석과 전력이 공급된 코일의 상호작용을 기초로 하여 이동된다.

Description

균형 질량을 사용하여 스테이지에 대한 반력의 영향을 감소시키는 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD TO REDUCE THE EFFECT OF REACTIVE FORCES ON A STAGE USING A BALANCE MASS}
본 발명은 리소그래피에 관한 것으로, 더 상세하게는 리소그래피 시스템 내에서의 리소그래피 스테이지의 배치에 관한 것이다.
리소그래피는 기판의 표면 상에 피쳐(feature)를 생성하는 데에 사용되는 프로세스이다. 이러한 기판에는 평판 디스플레이, 회로 보드, 다양한 집적 회로 등의 제조에 사용되는 것을 포함될 수 있다. 이러한 응용 분야에서 자주 사용되는 기판은 반도체 웨이퍼이다. 본 명세서는 설명의 편의상 반도체 웨이퍼와 관련하여 기술되지만, 본 기술 분야의 숙련된 기술자라면, 본 명세서가 본 기술 분야의 숙련된 기술자에 알려져 있는 다른 유형의 기판에도 적용될 수 있음을 알 수 있을 것이다. 리소그래피동안, 웨이퍼 스테이지 상에 배치된 웨이퍼는 리소그래피 장치 내에 배치된 노광 광학계에 의해 웨이퍼의 표면 상에 투영되는 이미지로 노광된다. 포토리소그래피의 경우에는 노광 광학계가 사용되지만, 특정 응용 분야에 따라 다른 유형의 노광 장치가 사용될 수 있다. 예를 들어, X-레이, 이온, 전자 또는 광자 리소그래피는, 본 기술 분야의 숙련된 기술자에게 알려져 있는 바와 같이, 각각 다른 노광 장치를 필요로 할 수 있다. 본 명세서에서, 포토리소그래피에 대한 특정예는 단지 설명을 위한 목적으로만 기술된다.
투영된 이미지는 웨이퍼의 표면 상에 적층된 포토레지스트와 같은 층의 특성을 변화시킨다. 이러한 변화는 노광 동안 웨이퍼 상에 투영되는 피쳐에 대응한다. 노광에 후속하여, 패턴화된 층을 생성하기 위하여 층을 에칭할 수 있다. 패턴은 노광 동안 웨이퍼 상에 투영되는 피쳐에 대응한다. 그리고 나서, 이러한 패턴화된 층은, 도전층, 반도체층 또는 절연층과 같은 웨이퍼 내의 하부 구조층의 노출된 부분을 제거하거나 더 가공하는 데에 사용된다. 그리고, 이러한 프로세스는, 웨이퍼의 표면 또는 다양한 층에 원하는 피쳐가 형성될 때까지, 다른 단계들과 함께 반복된다.
스텝-앤드-스캔 기술은 좁은 이미징 슬롯을 갖는 투영 광학 시스템과 관련하여 행해진다. 전체 웨이퍼가 한번에 노광되기 보다는, 개별 필드가 한번에 하나씩 웨이퍼 상에서 스캔된다. 이러한 기술은, 스캔 동안 이미징 슬롯이 필드를 가로질러 이동하도록, 웨이퍼와 레티클을 동시에 이동시킴으로써 행해진다. 그러면, 레티클 패턴의 다수의 사본이 웨이퍼 표면 상에 노광되는 것을 허용하기 위하여, 웨이퍼 스테이지는 필드 노광 사이에서 비동기적으로 스탭되어야만 한다. 이러한 방식으로, 웨이퍼 상에 투영되는 이미지의 품질이 최대화된다.
종래의 리소그래피 시스템 및 방법은 반도체 웨이퍼 상에 이미지를 형성한다. 일반적으로, 시스템은 반도체 웨이퍼 상에 이미지 형성 프로세스를 수행하는 장치를 포함하도록 설계된 리소그래피 챔버를 포함한다. 챔버는 사용되는 광의 파장에 따라 상이한 진공 등급을 갖도록 설계될 수 있다. 레티클은 챔버 내에 배치된다. 광 빔은 조명원(시스템 외부에 배치됨)으로부터 광학 시스템과, 레티클 상의 이미지 아웃라인을 차례로 통과한 후, 제2 광학 시스템을 통과하여 반도체 웨이퍼와 상호작용한다.
레티클은 플랫폼(platform) 또는 스테이지(이하 "스테이지"로 칭함) 상에 배치될 수 있다. 스테이지는 리소그래피 시스템의 파라미터에 따라 이동시킬 수 있다. 마찬가지로, 반도체 웨이퍼는 스테이지 상에 배치될 수 있다. 레티클 또는 반도체 웨이퍼를 지지하는 스테이지는, 어떠한 방식으로 이미지가 반도체 웨이퍼 상에 형성될지에 따라, 하나 이상의 방향 및/또는 하나 이상의 자유도로 이동될 수 있다. 어느 경우에서도, 스테이지는 선형 모터, 로렌츠 모터, 자기저항 모터(reluctance motor) 등과 같은 다양한 전자기 모터를 사용하여 이동될 수 있다. 일반적으로, 선형 모터는 스테이터(stator) 및 모터 코일을 포함한다. 리소그래피에서 사용되는 선형 모터의 예는 Hazelton의 미국 특허 제6,271,606호에서 찾을 수 있으며, 상기 문헌은 본 명세서에 참조로서 포함된다. 스테이터와 선형 모터 코일 간의 상호작용은 스테이지의 이동을 유발한다. 그러나, 이러한 이동은 스테이지의 정밀한 이동을 오프셋시키는 반력(reaction force)의 집합을 발생시킨다. 반력은 전자기 모터 및 그에 전력을 공급하는 전력/제어 케이블의 동작에 의해 유발된다. 전력/제어 케이블은 전자기 모터를 사용하는 시스템으로의 진동을 유발한다. 이러한 진동은 스테이지를 이동시킬 때 오프셋 에러를 발생시킨다. 오프셋 에러는 반도체 웨이퍼 상에 부적절한 이미지가 형성되게 한다. 그러므로, 반력에 의해 발생되는 효과를 현저하게 감소시키거나 제거할 수 있는 시스템 및 방법이 필요하다.
종래의 전자기 모터를 사용하면, 리소그래피 스테이지는 에어 베어링 또는 모터를 사용하여 공중 부양(levitating)될 수 있다. 그러나, 종래의 전자기 모터 및 접촉 베어링은 구성요소 간에 마찰을 유발하며, 이는 스테이지를 둘러싸는 환경을 오염시키는 입자를 발생시킬 수 있다. 그러므로, 리소그래피 시스템 내에서 스테이지를 이동시키기 위한 시스템 및 방법으로서, 스테이지를 둘러싸는 환경으로부터의 오염을 감소시키거나 제거하는 것이 필요하다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 시스템의 블럭도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도 1의 리소그래피 시스템의 한 섹션.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 도 2의 리소그래피 시스템의 한 섹션의 한 부분.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 도 2의 리소그래피 시스템의 한 섹션의 한 부분.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 방법을 설명하는 흐름도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
208 : 스테이터
210 : 코일
212 : 자석
214 : 도전체
216 : 벽
218 : 스테이지
220 : 자석 어셈블리
본 발명의 실시예는, (a) 스테이터 또는 코일 중 하나를 균형 질량 어셈블리에 연결하여 챔버의 벽의 한 면 상에 배치하는 단계, (b) 스테이터 또는 코일 중 다른 하나를 스테이지에 연결하여 챔버의 벽의 반대 면 상에 배치하는 단계, (c) 스테이지를 공중 부양시키는 단계, (d) 코일과 스테이터의 자기 상호작용을 기초로 하여 스테이지를 이동시키기 위하여, 코일에 전력을 공급하는 단계, (e) 상기 균형 질량 어셈블리를 사용하여 이동에 의해 유발되는 반력을 상쇄시키는 단계를 포함하는 방법을 제공한다.
본 발명의 실시예는, 챔버, 챔버 내에 배치된 스테이지, 챔버에 인접하여 배치된 균형 질량 어셈블리, 및 스테이터 및 코일을 포함하는 모터 어셈블리를 포함하는 시스템을 제공한다. 스테이터 및 코일 중 하나는 챔버의 벽의 제1 면 상에서 스테이지에 연결되고, 스테이터 및 코일 중 다른 하나는 챔버의 벽의 제2 면 상에 균형 질량 어셈블리에 연결된다.
본 발명의 실시예는 리소그래피 시스템 내에서 스테이지를 배치시키는 시스템 및 방법에 관한 것이다. 시스템은 그 내부에 스테이지를 갖는 챔버, 및 균형 질량(예를 들어, 반력을 감소시키거나 제거하는 데에 사용될 수 있는 질량)에 연결된 스테이터 및 코일을 갖는 모터 어셈블리를 포함한다. 또한, 스테이터는 코일 어셈블리에 의해 발생되는 전기장과 상호작용하여 스테이지를 이동시키는 자기장을 발생시키는 자석을 포함한다. 챔버는 진공 챔버일 수도 있고 비진공 챔버일 수도 있다. 코일 어셈블리는 챔버 내부에 배치되어 스테이지에 연결될 수 있다. 코일 어셈블리는 균형 질량에는 인접하되, 챔버의 벽에 의해 균형 질량으로부터 분리되도록 배치될 수 있다. 코일 어셈블리를 챔버 내에 배치하면, 진공이 유지될 수 있어 오염이 감소된다.
다른 실시예에서는, 균형 질량을 갖는 스테이터가 챔버 내부에 배치되고, 코일 어셈블리가 챔버 외부에 배치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 균형 질량, 스테이터 및 코일 어셈블리는 챔버 및 서로에 대하여 다양하게 배치될 수 있다.
본 발명의 한 형태에서, 스테이터는 비접촉 베어링 어셈블리 상에 배치될 수 있다. 비접촉 베어링 시스템은 자석 어셈블리를 포함할 수 있다. 자석 또는 레일의 제1 집합은 챔버의 벽에 연결된 베이스 상에 실장될 수 있고, 자석의 제2 집합은 스테이지 상에 실장될 수 있다. 이러한 베어링은 에어 베어링, 자기 베어링 등일 수 있다. 이러한 베어링은 스테이지를 보다 더 원활하게 이동시킬 수 있게 하며, 균형 질량이 스테이지의 이동에 의해 발생된 반력을 흡수할 수 있게 한다.
본 발명의 한 형태에서, 스테이지는 비접촉 베어링의 시스템 상에 배치될 수있다. 베어링은 에어 베어링, 자기 베어링 등일 수 있다. 비접촉 베어링 시스템은, 스테이지가 원하는 위치 사이를 보다 더 원할하고 정밀하게 이동할 수 있게 한다.
본 발명의 한 형태에서, 챔버 내에 배치된 코일은 스테이터 내부의 공동(cavity) 내에 배치될 수 있다. 공동은 타원형 또는 원형과 같이 다양한 형태 및 크기를 갖는다. 공동의 형태는 챔버 환경의 압력을 견디는 데에 사용될 수 있다.
이하에서는, 본 발명의 다양한 실시예의 구조 및 동작은 물론, 본 발명의 다른 실시예, 특징 및 장점이 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명된다.
본 명세서에 포함되어 그 일부를 형성하는 첨부 도면은 본 발명을 예시하는 것이며, 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리를 설명하고, 관련 분야의 숙련된 기술자가 본 발명을 구현하고 사용할 수 있게 한다.
이하에서는, 본 발명이 첨부 도면을 참조하여 설명된다. 도면에서, 동일한 참조 번호는 동일하거나 기능적으로 유사한 구성 요소를 나타낼 수 있다. 또한, 일반적으로, 참조 번호의 첫째자리수는 해당 참조 번호가 최초로 나타나는 도면을 나타낸다.
전체 시스템
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 시스템(100)을 나타내고 있다. 시스템(100)에 대한 일 실시예는 리소그래피 시스템 또는 그와 유사한 것일 수 있다. 광(102)은 레이저(104){예를 들어, 익사이터 레이저(exciter laser), 원자외선 엑시머 레이저, 또는 그와 유사한 것}로부터 방출된다. 광(102)은 조명 광학계(110)로 광을 출력하는 빔 컨디셔너(108)에 의해 수광된다. 조명 광학계(110)는 레티클(또는 마스크)(112) 및 투영 광학계(114)를 통하여 광을 기판(또는 웨이퍼)(116) 상으로 전송시킨다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 시스템(100)의 한 섹션(200)을 나타내고 있다. 섹션(200)은 균형 질량 어셈블리(balance mass assembly)(204)에 인접한 챔버(202)를 포함한다. 균형 질량 어셈블리(204)는 모터 어셈블리의 스테이터(208)에 연결된 균형 질량(206)을 포함한다. 모터 어셈블리는 코일(210)도 포함한다. 스테이터(208)는, 모터 어셈블리가 동작 중일 때 벽(예를 들어, 진공 벽)(216)을 통해 코일(210) 내의 도전체(214)와 상호작용하는 자석(212)을 포함한다. 스테이터(208)는 비접촉 베어링 시스템(213) 상에 배치될 수 있다.
다양한 실시예에서, 스테이터(208) 및 코일(210)의 위치는 반전될 수 있음을 알아야 하며, 그러한 경우 코일(210)은 챔버(202)의 외부에 배치되어 균형 질량(206)에 연결되고, 스테이터(208)는 챔버(202)의 내부에 배치되어 스테이지(218)에 연결된다. 이에 대한 예가 도 4에 도시되어 있으며, 이하에 더 상세하게 설명된다.
계속 도 2를 참조하면, 챔버(202)는 코일(210)에 연결된 스테이지(218)를 포함한다. 스테이지(218)는, 챔버(202) 내에서 스테이지(218)를 이동시키는 데에 사용되는 자석 어셈블리(220)에 연결될 수 있다. 자석 어셈블리(220)는 자석(220A) 및 레일(220B)을 포함한다. 도시된 실시예에서, 자석(220A)은 스테이지(218)와 일체화되고, 레일(220B)은 챔버(202)의 섹션(221)과 일체화된다. 다른 실시예에서, 이것은 반전될 수 있다. 인접한 자석(220A)들은 서로에 대하여 어떠한 각도로도 있을 수 있으며, 0 내지 90도의 각도로 있는 것이 바람직함을 알 것이다. 자석 어셈블리(220)에 전력이 공급되면, 자석(220A) 및 레일(220B)이 도 2에 도시된 바와 같이 분리되어, 스테이지(218)가 섹션(221) 사이에서 공중 부양된다.
벽(216)이 챔버(202)의 내부 영역(222)과 스테이터(208) 사이의 분리자로서 동작하도록, 벽(216)의 두께가 설계될 수 있다. 벽(216)의 두께는, 스테이지(218)의 이동 동안, 스테이터(208)가 벽(216)을 통하여 코일(210)과 자기적으로 상호작용하도록 설계되어야 한다. 따라서, 벽(216)이 두꺼울수록, 자석(212)과 도전체(214) 사이의 자기 상호작용은 약해진다. 일부 실시예에서, 두께는 벽(216)의 영역에 따라 달라질 수 있다. 본 발명에서는 동일한 두께의 벽 부분이 고려됨을 알 것이다. 또한, 구체적인 두께는 벽(216)을 통한 압력 차이에 따라 달라질 수 있기 때문에, 벽(216)의 두께는 응용 분야에 따라 달라질 수 있음을 알 것이다. 대부분의 실시예에서, 벽(216)은 전기적으로 비도전성일 수 있으며, 이는 자석(212)과 도전체(214) 간의 상호작용을 허용한다. 예를 들어, 벽(216)은 플라스틱 또는 비도전성인 다른 합성 재료로 제조될 수 있다. 다른 실시예에서, 알루미늄과 같은 비자성 재료가 사용될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 벽(216)은 비자성 및 비도전성이다.
모터 어셈블리는 코일(210)을 수용하도록 구성된 공동(224)을 포함할 수 있다. 공동(224)의 크기는 적어도 코일(210)의 크기에 의해 정의된다. 또한,공동(224)은 코일(21)을 둘러싸는 벽(216)에 맞는 크기를 가질 수도 있다. 공동(224)은 스테이터(208)와 코일(210) 간의 자기 상호작용이 향상되도록 설계된다. 도 2 내지 4에 도시된 바와 같이, 공동(224)은 직사각형, 원형, 타원형, 오각형 등과 같은 다양한 형태와 크기를 가질 수 있다. 공동(224)의 길이는 챔버(202)의 길이와 동일하거나, 스테이지(218)가 지면에 들어가는 방향으로 이동하는 최대 거리와 동일할 수 있다.
균형 질량(206)은 스테이지(218)의 이동에 의해 발생되는 반력의 균형을 맞추는 데에 사용될 수 있다. 스테이지(218)의 이동동안, 반력이 발생되어 모터 어셈블리에 전달된다. 균형 질량(206)의 추가는 이동동안 발생되는 반력을 흡수하며, 이는 스테이지(218)를 이동시킬 때의 에러를 정정하는 데에 도움을 준다.
전술한 바와 같이, 균형 질량 어셈블리(204)는 비접촉 베어링 어셈블리(213) 상에 배치될 수 있다. 비접촉 베어링 어셈블리(213)는 한쌍의 비접촉 베어링 장치(226)를 포함할 수 있다. 비접촉 베어링 장치(226)는, 시스템(200)이 동작 중일 때에 균형 질량 어셈블리(204)를 공중 부양시킬 수 있다. 다양한 실시예에서, 비접촉 베어링 시스템(213)은 비접촉 에어 베어링 시스템 또는 비접촉 자기 베어링 시스템으로서 구성될 수 있다. 에어 또는 자기 베어링 시스템(213)은, 모터 어셈블리가 스테이지(218)를 챔버(202) 내로 이동시키는 동안, 균형 질량 어셈블리(204)를 지지하는 에어 베어링 또는 자기 베어링(226)을 각각 포함할 수 있다. 에어 베어링 상에 균형 질량 어셈블리(204)를 배치시키고, 균형 질량(206)을 스테이터(208)에 연결시킴으로써, 이동에 의해 발생되는 반력의 효과는 에어 베어링 마찰 또는 케이블에 대한 것을 제외하고 감소 또는 제거된다.
따라서, 모터 어셈블리는 균형 질량 어셈블리(204)와 어떠한 접촉도 없이 스테이지(218)를 이동시킬 수 있다. 이것은 스테이터(208)와 코일(210) 사이의 자기 상호작용을 통해 달성된다. 시스템(200)이 동작 중일 때, 자석(212)과 도전체(예를 들어, 전자기 코일)(214)은 벽(216)을 통해 상호작용한다. 코일(208)은 공동(224) 내에 배치되기 때문에, 이러한 상호작용은 스테이지(218)의 이동에 영향을 주지 않는다. 자석(212)은, 자석(212)과 전자기 코일(214) 간의 자기 상호작용과의 간섭이 최소화되도록 배치될 수 있다.
영역(222)을 다시 보면, 일 실시예에서 영역(222)은 진공일 수 있다. 영역(222)이 진공인 경우, 스테이지(218)의 이동은 오염을 발생시키지 않을 수 있다. 이것은 시스템(200)의 구성요소 간의 어떠한 마찰로 인해 발생되는 오염 입자의 개수가 실질적으로 감소될 수 있음을 의미한다. 다른 실시예에서, 영역(222)은 기체 물질로 채워질 수 있다. 그러나, 스테이지 어셈블리의 이동 중에 발생되는 오염 입자의 양이 증가할 수 있다.
균형 질량(206)의 크기는 응용 분야에 따라 달라짐을 알 것이다. 그러므로, 스테이지(218)의 이동 중에 큰 반력이 발생되는 경우, 균형 질량(206)의 크기가 그에 따라 감소되어, 반력의 효과를 감소시킬 수 있다. 마찬가지로, 반력에 의해 발생되는 효과가 비교적 작은 경우에는, 보다 더 작은 균형 질량(206)이 사용될 수 있다. 또한, 균형 질량(206)의 무게 및 스테이지(218)의 무게는 균형 질량(206)의 이동 길이를 결정할 수 있음을 알 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 원형 형상을 갖는 공동(300)을 도시하고 있다. 따라서, 코일(210)도 공동(224)에 수용되기 위하여 원형 형상을 갖는다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 시스템(200)의 다른 구성을 도시하고 있다. 이러한 구성에서는, 전술한 바와 같이, 자석(408)은 스테이지(218)에 연결되고, 코일(410)은 균형 질량 어셈블리(404)에 연결된다. 또한, 자석(408)은 챔버(402) 내부에 타원형 공동(424)을 갖는다. 공동(424)은 타원 형상의 코일(410)을 수용한다.
스테이터, 자석, 코일 및/또는 도전체에 대하여 임의의 개수의 구성이 사용될 수 있음을 알 것이다. 이들은 모두 본 발명의 범위 내에 포함되도록 의도된다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 방법(500)을 설명하는 흐름도이다. 단계(502)에서, 스테이터 또는 코일 중 하나가 챔버의 벽의 한면 상에 배치되고, 균형 질량 어셈블리에 연결된다. 단계(504)에서, 스테이터 또는 코일 중 다른 하나가 챔버의 벽의 반대면 상에 배치되고, 스테이지에 연결된다. 단계(506)에서, 스테이지는 공중 부양된다. 단계(508)에서, 코일과 스테이터의 자기 상호작용을 기초로 하여 스테이지를 이동시키기 위하여, 전력이 코일에 공급된다. 단계(510)에서, 이동에 의해 유발되는 반력은 균형 질량 어셈블리에 의해 상쇄된다.
결론
본 발명의 방법, 회로 및 구성 요소의 실시예가 설명되었다. 이러한 실시예는 단지 설명을 위한 것이며 한정을 위한 것이 아니다. 다른 실시예도 가능하며 본 발명의 범위 내에 포함된다. 관련 분야의 숙련된 기술자라면, 본 명세서에 포함된 교시를 근거로 하여 이러한 실시예를 분명히 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 폭 및 범위는 상기에 언급된 예시적인 실시예 중 어떤 것에 의해서도 한정되어서는 안 되며, 이하의 특허청구범위 및 그 등가물에 따라서만 정의되어야 한다.
본 발명에 따르면, 리소그래피 시스템 내에서 스테이지를 이동시킬 때, 스테이지를 둘러싸는 환경으로부터의 오염을 감소시키거나 제거할 수 있다.

Claims (16)

  1. 챔버;
    상기 챔버 내에 배치된 스테이지;
    상기 챔버에 인접하여 배치된 균형 질량 어셈블리(balance mass assembly); 및
    스테이터(stator) 및 코일을 포함하는 모터 어셈블리 - 상기 스테이터 및 상기 코일 중 하나는 상기 챔버의 벽의 제1 면 상에서 상기 스테이지에 연결되고, 상기 스테이터 및 상기 코일 중 다른 하나는 상기 챔버의 상기 벽의 제2 면에 인접하여 상기 균형 질량 어셈블리에 연결됨 -
    를 포함하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 코일은 상기 스테이지에 연결되고,
    상기 스테이터는 상기 균형 질량 어셈블리 내의 균형 질량에 연결되는 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스테이터는 상기 스테이지에 연결되고,
    상기 코일은 상기 균형 질량 어셈블리 내의 균형 질량에 연결되는 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지에 자기적으로 연결되는 자기 어셈블리를 더 포함하고, 상기 자기 어셈블리는 상기 자기 어셈블리에 전력이 공급될 때, 상기 스테이지를 공중 부양시키도록 구성된 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 균형 질량 어셈블리에 연결된 비접촉 베어링 어셈블리를 더 포함하는 시스템.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 비접촉 베어링 어셈블리는 에어 베어링 어셈블리인 시스템.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 비접촉 베어링 어셈블리는 자기 베어링 어셈블리인 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 진공 챔버인 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 기체상 챔버인 시스템.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 상기 벽은 직사각형인 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 코일은 직사각형인 시스템.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 상기 벽은 원형인 시스템.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 코일의 끝은 원형인 시스템.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 상기 벽은 타원형인 시스템.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 코일 및 상기 벽의 적어도 한 섹션은 동일한 형태를 갖는 시스템.
  16. (a) 스테이터 또는 코일 중 하나를 균형 질량 어셈블리에 연결하여 챔버의 벽의 한 면 상에 배치하는 단계;
    (b) 상기 스테이터 또는 상기 코일 중 다른 하나를 스테이지에 연결하여 상기 챔버의 상기 벽의 반대 면 상에 배치하는 단계;
    (c) 상기 스테이지를 공중 부양시키는 단계;
    (d) 상기 코일과 상기 스테이터의 자기 상호작용을 기초로 하여 상기 스테이지를 이동시키기 위하여, 상기 코일에 전력을 공급하는 단계; 및
    (e) 상기 균형 질량 어셈블리를 사용하여 상기 이동에 의해 유발되는 반력을 상쇄시키는 단계
    를 포함하는 방법.
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