JPH09124795A - ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 - Google Patents
ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法Info
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- JPH09124795A JPH09124795A JP8297821A JP29782196A JPH09124795A JP H09124795 A JPH09124795 A JP H09124795A JP 8297821 A JP8297821 A JP 8297821A JP 29782196 A JP29782196 A JP 29782196A JP H09124795 A JPH09124795 A JP H09124795A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
- C08G77/448—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/18—Block or graft polymers
- C08G64/186—Block or graft polymers containing polysiloxane sequences
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- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 より良い離型特性及び流動、より低い温度に
転置されるゴム／ガラス転移及び改善されたＥＳＣ挙動
を有するポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネート
ブロックコポリマーを提供する。 【解決手段】 特定のエステル交換触媒を使用して、溶
融液中で、ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボ
ネートブロックコポリマーを製造する方法。
転置されるゴム／ガラス転移及び改善されたＥＳＣ挙動
を有するポリジオルガノシロキサン／ポリカーボネート
ブロックコポリマーを提供する。 【解決手段】 特定のエステル交換触媒を使用して、溶
融液中で、ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボ
ネートブロックコポリマーを製造する方法。
Description
【０００１】本発明は、触媒の存在下で８０℃〜３２０
℃の温度及び１０００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂａｒの圧
力で、芳香族のＳｉを含まないジフェノール、炭酸ジア
リールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、１
８０００〜６００００の、好ましくは１９０００〜４０
０００の平均分子量Ｍw（重量平均、ゲルクロマトグラ
フィーによって測定して）を有する熱可塑性ポリ（ジオ
ルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポリ
マーを製造する方法であって、使用する触媒が、１モル
のＳｉを含まないジフェノールに対して１０-1〜１０-8
モルの量の、式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）
℃の温度及び１０００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂａｒの圧
力で、芳香族のＳｉを含まないジフェノール、炭酸ジア
リールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、１
８０００〜６００００の、好ましくは１９０００〜４０
０００の平均分子量Ｍw（重量平均、ゲルクロマトグラ
フィーによって測定して）を有する熱可塑性ポリ（ジオ
ルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポリ
マーを製造する方法であって、使用する触媒が、１モル
のＳｉを含まないジフェノールに対して１０-1〜１０-8
モルの量の、式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）
【０００２】
【化２】
【０００３】［式中、Ｒ1-4は、同一の又は異なるＣ1〜
Ｃ30−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール又はＣ5〜Ｃ6−
シクロアルキルであり、ここでＲ1-4の少なくとも一つ
の残基は、Ｃ8〜Ｃ30−アルキル、好ましくはＣ12〜Ｃ
20−であり、そしてＸ-は、その中で対応する酸／塩基
の対Ｈ+＋Ｘ-⇔ＨＸが１〜１１のｐＫＢを有するアニオ
ンである］の第四級アンモニウム化合物及び／又は第四
級ホスホニウム化合物であり、そして使用するポリジオ
ルガノシロキサン成分が、Ｓｉを含まないジフェノール
及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して３０重
量％〜０．５重量％の、好ましくは７重量％〜１重量％
の重量のα，ω−ビスヒドロキシアリール−、α，ω−
ビスヒドロキシアルキル−、α，ω−ビスアシル−、又
はα，ω−ビスヒドロキシアシル−ポリジオルガノシロ
キサンを含んで成ることを特徴とする方法を提供する。
Ｃ30−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール又はＣ5〜Ｃ6−
シクロアルキルであり、ここでＲ1-4の少なくとも一つ
の残基は、Ｃ8〜Ｃ30−アルキル、好ましくはＣ12〜Ｃ
20−であり、そしてＸ-は、その中で対応する酸／塩基
の対Ｈ+＋Ｘ-⇔ＨＸが１〜１１のｐＫＢを有するアニオ
ンである］の第四級アンモニウム化合物及び／又は第四
級ホスホニウム化合物であり、そして使用するポリジオ
ルガノシロキサン成分が、Ｓｉを含まないジフェノール
及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して３０重
量％〜０．５重量％の、好ましくは７重量％〜１重量％
の重量のα，ω−ビスヒドロキシアリール−、α，ω−
ビスヒドロキシアルキル−、α，ω−ビスアシル−、又
はα，ω−ビスヒドロキシアシル−ポリジオルガノシロ
キサンを含んで成ることを特徴とする方法を提供する。
【０００４】本発明のポリジオルガノシロキサンは、５
〜１００、好ましくは５〜８０そして特に１０〜５０の
それらのジオルガノシロキサン構造単位“ｎ”の重合度
を有する。
〜１００、好ましくは５〜８０そして特に１０〜５０の
それらのジオルガノシロキサン構造単位“ｎ”の重合度
を有する。
【０００５】本発明の目的のためには、Ｓｉを含まない
ジフェノールは、化学的に結合したシリコン原子を含ま
ないジフェノールである。（Ｉ）及び（ＩＩ）のＸ-ア
ニオンは、例えば、テトラフェニルヒドリドボレート及
びフッ化物である。
ジフェノールは、化学的に結合したシリコン原子を含ま
ないジフェノールである。（Ｉ）及び（ＩＩ）のＸ-ア
ニオンは、例えば、テトラフェニルヒドリドボレート及
びフッ化物である。
【０００６】本発明に従って得ることができるポリジオ
ルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマ
ーは、各々の場合においてポリジオルガノシロキサン；
ポリカーボネートブロックコポリマーの総重量に対し
て、３０重量％〜０．５重量％の、好ましくは７重量％
〜１重量％のジオルガノシロキサン構造単位含量を有す
る。
ルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポリマ
ーは、各々の場合においてポリジオルガノシロキサン；
ポリカーボネートブロックコポリマーの総重量に対し
て、３０重量％〜０．５重量％の、好ましくは７重量％
〜１重量％のジオルガノシロキサン構造単位含量を有す
る。
【０００７】本発明による方法を使用して製造されたポ
リジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコ
ポリマーは、より良い離型特性及び流動、より低い温度
に転置されるゴム／ガラス転移及び改善されたＥＳＣ挙
動を有する。それらはまた溶媒を含まない形で製造され
る。
リジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコ
ポリマーは、より良い離型特性及び流動、より低い温度
に転置されるゴム／ガラス転移及び改善されたＥＳＣ挙
動を有する。それらはまた溶媒を含まない形で製造され
る。
【０００８】溶融エステル交換法を使用する芳香族オリ
ゴ／ポリカーボネートの製造は、文献から知られてい
て、そして、例えば、ポリカーボネートの化学及び物
理、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、Ｈ．Ｓｃｈｎｅ
ｌｌ、９巻、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ Ｉ
ｎｃ．（１９６４）中で述べられてきた。
ゴ／ポリカーボネートの製造は、文献から知られてい
て、そして、例えば、ポリカーボネートの化学及び物
理、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、Ｈ．Ｓｃｈｎｅ
ｌｌ、９巻、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ Ｉ
ｎｃ．（１９６４）中で述べられてきた。
【０００９】相界面法によるポリジオルガノシロキサン
／ポリカーボネートブロックコポリマーの製造は、文献
から知られていて、そして、例えば、ＵＳ−ＰＳ ３，
１８９，６６２、ＵＳ−ＰＳ ３，４１９，６３４、Ｄ
Ｅ−ＯＳ ３３４，７８２（ＬｅＡ ２２，５９４）、
ＥＰ ０，１２２，５３５（ＬｅＡ ２２，５９４−Ｅ
Ｐ）中で述べられてきた。
／ポリカーボネートブロックコポリマーの製造は、文献
から知られていて、そして、例えば、ＵＳ−ＰＳ ３，
１８９，６６２、ＵＳ−ＰＳ ３，４１９，６３４、Ｄ
Ｅ−ＯＳ ３３４，７８２（ＬｅＡ ２２，５９４）、
ＥＰ ０，１２２，５３５（ＬｅＡ ２２，５９４−Ｅ
Ｐ）中で述べられてきた。
【００１０】ＵＳ ５，２２７，４４９は、ビスフェノ
ール、炭酸ジアリール及びシラノール末端停止ポリシロ
キサンからの触媒を使用するポリジオルガノシロキサン
／ポリカーボネートブロックコポリマーの製造を述べて
いるが、これらは光伝導性層中の電荷運搬分子のための
バインダーとして使用される。この文書においては、使
用されるシロキサン化合物は、シラノール末端基を有す
るポリジフェニル−又はポリジメチルシロキサンテロマ
ーである。
ール、炭酸ジアリール及びシラノール末端停止ポリシロ
キサンからの触媒を使用するポリジオルガノシロキサン
／ポリカーボネートブロックコポリマーの製造を述べて
いるが、これらは光伝導性層中の電荷運搬分子のための
バインダーとして使用される。この文書においては、使
用されるシロキサン化合物は、シラノール末端基を有す
るポリジフェニル−又はポリジメチルシロキサンテロマ
ーである。
【００１１】慣用的なエステル交換触媒と比較して（比
較例１ｃ参照）、少なくとも一個のＣ8〜Ｃ30−アルキ
ル残基を窒素又はリン原子の上に有する一般式（Ｉ）又
は（ＩＩ）の触媒によるエステル交換法を経由してポリ
ジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポ
リマーを合成することは一層容易に可能であることが、
今回、見い出された。
較例１ｃ参照）、少なくとも一個のＣ8〜Ｃ30−アルキ
ル残基を窒素又はリン原子の上に有する一般式（Ｉ）又
は（ＩＩ）の触媒によるエステル交換法を経由してポリ
ジオルガノシロキサン／ポリカーボネートブロックコポ
リマーを合成することは一層容易に可能であることが、
今回、見い出された。
【００１２】式（Ｉ）及び（ＩＩ）の触媒は、他のポリ
カーボネートの、例えばビスフェノールＡポリカーボネ
ートの製造のために既に使用されてきた。Ｎ又はＰ原子
の上に少なくとも一つのＣ8〜Ｃ30−アルキル残基を有
する一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の触媒をこの目的のため
に使用する時には、他のアンモニウム又はホスホニウム
触媒と比較して特別な効果が見いだされない（比較例１
ａ及び１ｂ参照）。
カーボネートの、例えばビスフェノールＡポリカーボネ
ートの製造のために既に使用されてきた。Ｎ又はＰ原子
の上に少なくとも一つのＣ8〜Ｃ30−アルキル残基を有
する一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の触媒をこの目的のため
に使用する時には、他のアンモニウム又はホスホニウム
触媒と比較して特別な効果が見いだされない（比較例１
ａ及び１ｂ参照）。
【００１３】本発明に従って使用されるべきα，ω−ビ
スヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、例
えば、ＵＳ−ＰＳ ３，４１９，６３４から知られてい
る。
スヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、例
えば、ＵＳ−ＰＳ ３，４１９，６３４から知られてい
る。
【００１４】本発明に従って使用されるべきα，ω−ビ
スヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、知
られていてそして例えばＴｈ．Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ
社，Ｅｓｓｅｎから商業的に入手できる。
スヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、知
られていてそして例えばＴｈ．Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ
社，Ｅｓｓｅｎから商業的に入手できる。
【００１５】本発明に従って使用されるべきα，ω−ビ
スアシルポリジオルガノシロキサンは、例えば、ＤＥ−
ＯＳ ３３，３４，７８２（ＬｅＡ ２２，５９４）か
ら知られている。
スアシルポリジオルガノシロキサンは、例えば、ＤＥ−
ＯＳ ３３，３４，７８２（ＬｅＡ ２２，５９４）か
ら知られている。
【００１６】本発明に従って使用されるべきα，ω−ビ
スヒドロキシアシルポリジオルガノシロキサンは、知ら
れていてそして例えばＴｈ．Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ
社，Ｅｓｓｅｎから商業的に入手できる。
スヒドロキシアシルポリジオルガノシロキサンは、知ら
れていてそして例えばＴｈ．Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ
社，Ｅｓｓｅｎから商業的に入手できる。
【００１７】本発明に従って使用されるべきポリジオル
ガノシロキサンは、好ましくは、ヒドロキシアリールオ
キシ、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシアシルオキ
シ、ω−ヒドロキシカプロラクトン又はアセトキシ末端
基を有する。
ガノシロキサンは、好ましくは、ヒドロキシアリールオ
キシ、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシアシルオキ
シ、ω−ヒドロキシカプロラクトン又はアセトキシ末端
基を有する。
【００１８】好ましくは使用されるべきポリジオルガノ
シロキサンは、特に、式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は
（Ｖ）
シロキサンは、特に、式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は
（Ｖ）
【００１９】
【化３】
【００２０】のものである。
【００２１】これらの式において、Ｒは、６〜３０個の
炭素原子好ましくは６個の炭素原子を有する単環又は多
環アリーレン残基、又は１〜３０個の炭素原子若しくは
３〜３０個の炭素原子、好ましくは３〜１０個の炭素原
子を有する線状の又は分岐したアルキレン残基である。
炭素原子好ましくは６個の炭素原子を有する単環又は多
環アリーレン残基、又は１〜３０個の炭素原子若しくは
３〜３０個の炭素原子、好ましくは３〜１０個の炭素原
子を有する線状の又は分岐したアルキレン残基である。
【００２２】好ましい残基Ｒは、式（ＶＩａ）
【００２３】
【化４】
【００２４】［式中、−Ｘ−は、Ｃ1〜Ｃ12−アルキリ
デン、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキリデン、Ｃ5〜Ｃ15−シクロ
アルキリデン、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、
デン、Ｃ7〜Ｃ12−アラルキリデン、Ｃ5〜Ｃ15−シクロ
アルキリデン、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、
【００２５】
【化５】
【００２６】又は単結合、特に好ましくは
【００２７】
【化６】
【００２８】である］のものである。
【００２９】Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なっていて、そ
して線状の、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、
分岐した、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、ア
リール又はハロゲン化されたアリール、好ましくはメチ
ルである。
して線状の、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、
分岐した、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、ア
リール又はハロゲン化されたアリール、好ましくはメチ
ルである。
【００３０】Ｒ3は、線状の必要に応じてハロゲン化さ
れたアルキレン、分岐した必要に応じてハロゲン化され
たアルキレン又はアリーレン、好ましくは線状の又は分
岐したＣ1〜Ｃ16−アルキレン、特に好ましくは線状プ
ロピレン、線状ブチレン、線状ペンチレン及び線状ヘキ
シレンである。
れたアルキレン、分岐した必要に応じてハロゲン化され
たアルキレン又はアリーレン、好ましくは線状の又は分
岐したＣ1〜Ｃ16−アルキレン、特に好ましくは線状プ
ロピレン、線状ブチレン、線状ペンチレン及び線状ヘキ
シレンである。
【００３１】ジオルガノシロキサン単位“ｎ”の数は、
式（ＩＩＩ）に関しては“ｏ＋ｐ＋ｑ”から、式（Ｉ
Ｖ）に関しては“ｎ”から、そして式（Ｖ）に関しては
“ｏ＋ｐ”から得られる。各々の場合において、それ
は、５〜１００、好ましくは２０〜８０そして特に２５
〜５０である。指数“ｍ”は、１〜３０、好ましくは５
〜１５である。
式（ＩＩＩ）に関しては“ｏ＋ｐ＋ｑ”から、式（Ｉ
Ｖ）に関しては“ｎ”から、そして式（Ｖ）に関しては
“ｏ＋ｐ”から得られる。各々の場合において、それ
は、５〜１００、好ましくは２０〜８０そして特に２５
〜５０である。指数“ｍ”は、１〜３０、好ましくは５
〜１５である。
【００３２】残基Ｒの例は、
【００３３】
【化７】
【００３４】
【化８】
【００３５】
【化９】
【００３６】である。
【００３７】残基Ｒ1−の例は、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル及びフェニルである。
ピル、ブチル及びフェニルである。
【００３８】残基Ｒ2−の例はまた、メチル、エチル、
プロピル、ブチル及びフェニルである。
プロピル、ブチル及びフェニルである。
【００３９】残基−Ｒ3−の例は、メチレン、エチレ
ン、ｉ，ｎ−プロピレン、ｉ，ｎ−ブチレン、ｉ，ｎ−
ペンチレン及びｉ，ｎ−ヘキシレンである。
ン、ｉ，ｎ−プロピレン、ｉ，ｎ−ブチレン、ｉ，ｎ−
ペンチレン及びｉ，ｎ−ヘキシレンである。
【００４０】式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（V）の化合
物の例は、
物の例は、
【００４１】
【化１０】
【００４２】である。
【００４３】本発明による方法のために適切なＳｉを含
まないジフェノールは、式（ＶＩ）
まないジフェノールは、式（ＶＩ）
【００４４】
【化１１】
【００４５】［式中、Ｘは、Ｃ1〜Ｃ12−アルキリデン
又はＣ5〜Ｃ15−シクロアルキリデン、Ｃ7〜Ｃ12−アラ
ルキリデン、−ＳＯ2−、
又はＣ5〜Ｃ15−シクロアルキリデン、Ｃ7〜Ｃ12−アラ
ルキリデン、−ＳＯ2−、
【００４６】
【化１２】
【００４７】Ｓ又は単結合であり、そしてＲは、Ｃ
Ｈ3、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてｎは、０、１又は２
である］のものである。
Ｈ3、Ｃｌ又はＢｒであり、そしてｎは、０、１又は２
である］のものである。
【００４８】好ましいジフェノールは、例えば、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルフィド、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン、及び１−フェニル−２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）プロパンである。
４’−ジヒドロキシジフェニル、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルフィド、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン、及び１−フェニル−２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）プロパンである。
【００４９】上で述べたものの中でも特に好ましいジフ
ェノールは、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンであ
る。
ェノールは、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンであ
る。
【００５０】Ｓｉを含まないジフェノールの代わりに、
これらのジフェノールから製造されたＯＨ基を含むオリ
ゴカーボネートを本発明による方法のために使用するこ
ともまた可能である。
これらのジフェノールから製造されたＯＨ基を含むオリ
ゴカーボネートを本発明による方法のために使用するこ
ともまた可能である。
【００５１】本発明の目的のためには、炭酸ジエステル
は、ジ−Ｃ6〜Ｃ20−アリールエステル、好ましくはフ
ェノール又はアルキル置換フェノールのジエステル、か
くして炭酸ジフェニル又は、例えば、炭酸ジクレジルで
ある。Ｓｉを含まないジフェノール及びポリジオルガノ
シロキサンの和の１モルに対して、炭酸ジエステルは、
１．０１〜１．３０モルの猫の１．０２〜１．１５モル
の［量］で使用される。
は、ジ−Ｃ6〜Ｃ20−アリールエステル、好ましくはフ
ェノール又はアルキル置換フェノールのジエステル、か
くして炭酸ジフェニル又は、例えば、炭酸ジクレジルで
ある。Ｓｉを含まないジフェノール及びポリジオルガノ
シロキサンの和の１モルに対して、炭酸ジエステルは、
１．０１〜１．３０モルの猫の１．０２〜１．１５モル
の［量］で使用される。
【００５２】本発明のポリカーボネートブロックコポリ
マーは、小量の分岐剤を使用することによってわざとそ
して制御して分岐させることができる。幾つかの適切な
分岐剤は、フロログルシノール、４，６−ジメチル−
２，４，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプ
ト−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，５−トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−ト
リ−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１
−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−
ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキシル］プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス
−（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メ
チルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ
−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェ
ニル−オルト−テレフタル酸エステル、テトラ−（４−
ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ−（４−（４−ヒ
ドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、
１，４−ビス−（（４’，４”−ジヒドロキシトリフェ
ニル）メチル）ベンゼン、そして特にα，α’，α”−
トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−ト
リイソプロピルベンゼンである。
マーは、小量の分岐剤を使用することによってわざとそ
して制御して分岐させることができる。幾つかの適切な
分岐剤は、フロログルシノール、４，６−ジメチル−
２，４，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプ
ト−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，５−トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−ト
リ−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１
−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ−
（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−
ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキシル］プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス
−（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メ
チルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ
−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェ
ニル−オルト−テレフタル酸エステル、テトラ−（４−
ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ−（４−（４−ヒ
ドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ）メタン、
１，４−ビス−（（４’，４”−ジヒドロキシトリフェ
ニル）メチル）ベンゼン、そして特にα，α’，α”−
トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−ト
リイソプロピルベンゼンである。
【００５３】更なる可能な分岐剤は、２，４−ジヒドロ
キシ安息香酸、それのフェニル又はクレジルエステル、
トリメシン酸、それのフェニル又はクレジルエステル、
塩化シアヌル、及び３，３−ビス−（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−オキソ−２，３−ジヒドロイン
ドールである。
キシ安息香酸、それのフェニル又はクレジルエステル、
トリメシン酸、それのフェニル又はクレジルエステル、
塩化シアヌル、及び３，３−ビス−（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−オキソ−２，３−ジヒドロイン
ドールである。
【００５４】使用されるＳｉを含まないジフェノールに
対して０．０５〜０．３モル％の量で必要に応じて使用
されるべき分岐剤は、Ｓｉを含まないジフェノールと一
緒に使用することができる。
対して０．０５〜０．３モル％の量で必要に応じて使用
されるべき分岐剤は、Ｓｉを含まないジフェノールと一
緒に使用することができる。
【００５５】分子量は、一般に、炭酸ジアリールエステ
ルの量によってそして反応条件によって限定される。モ
ノフェノール、例えばフェノール又はアルキルフェノー
ルを、更にまた、連鎖停止剤として付加的に添加するこ
とができる（例えば、ＥＰ３６０，５９８参照）。
ルの量によってそして反応条件によって限定される。モ
ノフェノール、例えばフェノール又はアルキルフェノー
ルを、更にまた、連鎖停止剤として付加的に添加するこ
とができる（例えば、ＥＰ３６０，５９８参照）。
【００５６】反応成分、即ちＳｉを含まないジフェノー
ル、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキ
サンがアルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンを含ま
ないことを確実にするために注意を払わねばならない
が、０．１ｐｐｍ未満の量のアルカリ金属及びアルカリ
土類金属イオンは我慢することができるであろう。この
ような純粋な炭酸ジアリールエステル、ポリジオルガノ
シロキサン又はＳｉを含まないジフェノールは、炭酸ジ
アリールエステル、ポリジオルガノシロキサン又はＳｉ
を含まないジフェノールを再結晶し、洗浄し又は蒸留す
ることによって得ることができる。本発明による方法に
おいては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンの
含量は、Ｓｉを含まないジフェノール、ポリジオルガノ
シロキサン中で、そして炭酸ジエステル中で＜０．１ｐ
ｐｍでなければならない。
ル、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキ
サンがアルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンを含ま
ないことを確実にするために注意を払わねばならない
が、０．１ｐｐｍ未満の量のアルカリ金属及びアルカリ
土類金属イオンは我慢することができるであろう。この
ような純粋な炭酸ジアリールエステル、ポリジオルガノ
シロキサン又はＳｉを含まないジフェノールは、炭酸ジ
アリールエステル、ポリジオルガノシロキサン又はＳｉ
を含まないジフェノールを再結晶し、洗浄し又は蒸留す
ることによって得ることができる。本発明による方法に
おいては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンの
含量は、Ｓｉを含まないジフェノール、ポリジオルガノ
シロキサン中で、そして炭酸ジエステル中で＜０．１ｐ
ｐｍでなければならない。
【００５７】本発明による方法の目的のためには、触媒
の例は、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフ
ェニルヒドリドボレート、ヘキサデシルトリブチルホス
ホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、ヘキサデシ
ルトリメチルアンモニウムフルオリド、ヘキサデシルト
リブチルホスホニウムフルオリドである。
の例は、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフ
ェニルヒドリドボレート、ヘキサデシルトリブチルホス
ホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、ヘキサデシ
ルトリメチルアンモニウムフルオリド、ヘキサデシルト
リブチルホスホニウムフルオリドである。
【００５８】式（Ｉ）及び（ＩＩ）の触媒は文献から知
られている（Ｅ．Ｖ．Ｄｅｈｍｌｏｖ，Ｓ．Ｓ．Ｄｅｈ
ｍｌｏｖ、相移動触媒、第二版、Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅ
ｍｉｅ，１９８３；Ｈｏｕｂｅｎ Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈ
ｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍ
ｉｅ、第四版、ＸＩ／２巻、１９５８、５９１頁以降、
ＸＩＩ／１巻、１９６３、７９頁以降、ＸＩＩＩ／３ｂ
巻、１９８３、７６３頁以降、並びにＣｈａｒｌｅｓ
Ｍ．Ｓｔａｒｋｓ及びＣｈａｒｌｅｓ Ｃｉｏｔｔａ、
相移動触媒作用、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９
７８）か、又は文献（上で引用したものを参照）から知
られた方法を使用して製造することができる。
られている（Ｅ．Ｖ．Ｄｅｈｍｌｏｖ，Ｓ．Ｓ．Ｄｅｈ
ｍｌｏｖ、相移動触媒、第二版、Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅ
ｍｉｅ，１９８３；Ｈｏｕｂｅｎ Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈ
ｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍ
ｉｅ、第四版、ＸＩ／２巻、１９５８、５９１頁以降、
ＸＩＩ／１巻、１９６３、７９頁以降、ＸＩＩＩ／３ｂ
巻、１９８３、７６３頁以降、並びにＣｈａｒｌｅｓ
Ｍ．Ｓｔａｒｋｓ及びＣｈａｒｌｅｓ Ｃｉｏｔｔａ、
相移動触媒作用、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９
７８）か、又は文献（上で引用したものを参照）から知
られた方法を使用して製造することができる。
【００５９】これらの触媒は、好ましくは、１モルのＳ
ｉを含まないジフェノールに対して１０-2〜１０-8モル
の量で使用される。これらの触媒は、単独で又はお互い
に（２以上）組み合わせて又はポリカーボネート製造の
ために知られた他のエステル交換触媒と組み合わせて使
用することができる。他の既知のエステル交換触媒は、
例えば、ＵＳ−ＰＳ ３，２７２，６０１によるアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属化合物、ＵＳ−ＰＳ ３，
４４２，８６４、ＪＡ １４７４２／７２及びＵＳ−Ｐ
Ｓ ５，３９９、６５９による他のアンモニウム又はホ
スホニウム化合物、並びにＵＳ−ＰＳ ５，３１９，０
６６によるグアニジンシムである。
ｉを含まないジフェノールに対して１０-2〜１０-8モル
の量で使用される。これらの触媒は、単独で又はお互い
に（２以上）組み合わせて又はポリカーボネート製造の
ために知られた他のエステル交換触媒と組み合わせて使
用することができる。他の既知のエステル交換触媒は、
例えば、ＵＳ−ＰＳ ３，２７２，６０１によるアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属化合物、ＵＳ−ＰＳ ３，
４４２，８６４、ＪＡ １４７４２／７２及びＵＳ−Ｐ
Ｓ ５，３９９、６５９による他のアンモニウム又はホ
スホニウム化合物、並びにＵＳ−ＰＳ ５，３１９，０
６６によるグアニジンシムである。
【００６０】他の既知のエステル交換触媒の例は、アル
カリ金属水酸化物、アルカリ金属フェノラート、アルカ
リ金属ジフェノラート、水酸化テトラメチルアンモニウ
ム、及びテトラメチルアンモニウムテトラフェニルヒド
リドボレートである。
カリ金属水酸化物、アルカリ金属フェノラート、アルカ
リ金属ジフェノラート、水酸化テトラメチルアンモニウ
ム、及びテトラメチルアンモニウムテトラフェニルヒド
リドボレートである。
【００６１】本発明による方法は単一の段階で実施する
ことができる。この場合には、以下の手順を使用する：
Ｓｉを含まないジヒドロキシ化合物、ポリジオルガノシ
ロキサン及び炭酸ジエステルを、８０〜２５０℃の、好
ましくは１００〜２３０℃の、特に好ましくは１２０〜
１９０℃の温度で標準的な圧力下で０〜５時間、好まし
くは０．２５〜３時間で溶融させる。触媒は、これらの
成分が溶融される前に又は溶融された成分に添加しても
良い。次に、真空を施し、温度を上げそして蒸留によっ
てモノフェノールを除去することによってオリゴカーボ
ネートを製造する。次に、更に温度を２４０〜４００℃
に上げそして圧力を０．０１ｍｂａｒまで下に下げるこ
とによって、重縮合反応においてポリカーボネートを製
造する。その代わりに、ポリジオルガノシロキサンはま
た、他の溶融された成分に触媒と一緒に添加しても良
い。
ことができる。この場合には、以下の手順を使用する：
Ｓｉを含まないジヒドロキシ化合物、ポリジオルガノシ
ロキサン及び炭酸ジエステルを、８０〜２５０℃の、好
ましくは１００〜２３０℃の、特に好ましくは１２０〜
１９０℃の温度で標準的な圧力下で０〜５時間、好まし
くは０．２５〜３時間で溶融させる。触媒は、これらの
成分が溶融される前に又は溶融された成分に添加しても
良い。次に、真空を施し、温度を上げそして蒸留によっ
てモノフェノールを除去することによってオリゴカーボ
ネートを製造する。次に、更に温度を２４０〜４００℃
に上げそして圧力を０．０１ｍｂａｒまで下に下げるこ
とによって、重縮合反応においてポリカーボネートを製
造する。その代わりに、ポリジオルガノシロキサンはま
た、他の溶融された成分に触媒と一緒に添加しても良
い。
【００６２】しかしながら、本発明による方法を二つの
別々の段階で実施することも可能であり、ここでは、第
一段階においては、触媒（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）を使
用してオリゴカーボネートを製造しそして、第二段階に
おいては、オリゴカーボネートからポリカーボネートを
製造する。ここでは、アルカリ金属又はアルカリ土類金
属触媒を必要に応じて付加的に使用することができ、そ
して混合物を＜３時間〜１０分の、好ましくは＜１時間
〜２０分の、特に好ましくは＜３０〜２０分の短い期間
にわたって、２５０〜３２０℃の、好ましくは２８０℃
〜２９０℃の温度及び＜１００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂ
ａｒの圧力で維持する。
別々の段階で実施することも可能であり、ここでは、第
一段階においては、触媒（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）を使
用してオリゴカーボネートを製造しそして、第二段階に
おいては、オリゴカーボネートからポリカーボネートを
製造する。ここでは、アルカリ金属又はアルカリ土類金
属触媒を必要に応じて付加的に使用することができ、そ
して混合物を＜３時間〜１０分の、好ましくは＜１時間
〜２０分の、特に好ましくは＜３０〜２０分の短い期間
にわたって、２５０〜３２０℃の、好ましくは２８０℃
〜２９０℃の温度及び＜１００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂ
ａｒの圧力で維持する。
【００６３】この場合に中間体として製造されるポリジ
オルガノシロキサン／オリゴカーボネートは、６０：４
０〜５：９５の、好ましくは４５：５５〜１０：９０の
範囲のＯＨ／アリールカーボネート末端基比を有し、こ
れはＴｉＣｌ4によるＯＨ末端基の光学測定によって測
定することができる。
オルガノシロキサン／オリゴカーボネートは、６０：４
０〜５：９５の、好ましくは４５：５５〜１０：９０の
範囲のＯＨ／アリールカーボネート末端基比を有し、こ
れはＴｉＣｌ4によるＯＨ末端基の光学測定によって測
定することができる。
【００６４】オリゴカーボネートのＯＨ末端基は、 ｘモル％＝１００（ＯＨ末端基の数）／（末端基の総数） として定義される。
【００６５】本発明による方法は、撹拌タンク反応器、
膜蒸発器、落下膜蒸発器、直列の撹拌タンク反応器、押
出機、ニーダー、簡単なディスク反応器及び高粘度ディ
スク反応器中で連続的に又は不連続的に実施することが
できる。
膜蒸発器、落下膜蒸発器、直列の撹拌タンク反応器、押
出機、ニーダー、簡単なディスク反応器及び高粘度ディ
スク反応器中で連続的に又は不連続的に実施することが
できる。
【００６６】本発明による方法の芳香族ポリカーボネー
トブロックコポリマーは、光散乱によって検量された、
ジクロロメタン中の又はフェノール／ｏ−ジクロロベン
ゼンの重量によって等しい量の混合物中の相対溶液粘度
を測定することによって測定して、１８０００〜６００
００の、好ましくは１９０００〜４００００の重量平均
分子量Ｍwを持たねばならない。
トブロックコポリマーは、光散乱によって検量された、
ジクロロメタン中の又はフェノール／ｏ−ジクロロベン
ゼンの重量によって等しい量の混合物中の相対溶液粘度
を測定することによって測定して、１８０００〜６００
００の、好ましくは１９０００〜４００００の重量平均
分子量Ｍwを持たねばならない。
【００６７】本発明に従って製造されたポリカーボネー
トブロックコポリマーは、光固有色を有し、好ましくは
＜１２００ｐｐｍの低いＯＨ末端基含量を有し、そして
加水分解及び熱に耐える。
トブロックコポリマーは、光固有色を有し、好ましくは
＜１２００ｐｐｍの低いＯＨ末端基含量を有し、そして
加水分解及び熱に耐える。
【００６８】充填剤及び強化剤を、本発明に従って製造
されたポリカーボネートブロックコポリマーに添加し
て、それらの特性を改善することができる。なかんずく
考慮することができるこのような物質は、安定剤（例え
ばＵＶ、熱、γ放射線安定剤）、静電防止剤、流動補助
剤、離型剤、防炎剤、顔料、微粉物質、繊維例えばアル
キル及びアリールホスファイト、ホスフェート、ホスフ
ァン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、
塩、チョーク、シリカ粉、ガラス及び炭素繊維である。
他のポリマー、例えばポリオレフィン、ポリウレタン又
はポリスチレンも更にまた、本発明に従って製造された
ポリカーボネートブロックコポリマーに添加することが
できる。
されたポリカーボネートブロックコポリマーに添加し
て、それらの特性を改善することができる。なかんずく
考慮することができるこのような物質は、安定剤（例え
ばＵＶ、熱、γ放射線安定剤）、静電防止剤、流動補助
剤、離型剤、防炎剤、顔料、微粉物質、繊維例えばアル
キル及びアリールホスファイト、ホスフェート、ホスフ
ァン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、
塩、チョーク、シリカ粉、ガラス及び炭素繊維である。
他のポリマー、例えばポリオレフィン、ポリウレタン又
はポリスチレンも更にまた、本発明に従って製造された
ポリカーボネートブロックコポリマーに添加することが
できる。
【００６９】これらの物質は、好ましくは、慣用的装置
中で最終ポリカーボネートに添加するが、必要な場合に
は、本発明による方法の別の段階で添加を行うこともで
きる。
中で最終ポリカーボネートに添加するが、必要な場合に
は、本発明による方法の別の段階で添加を行うこともで
きる。
【００７０】本発明に従って製造されたポリ（ジオルガ
ノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポリマー
は、既知の芳香族ポリカーボネートがこれまで使用され
てきた、そして改善された離型特性及び低温での上昇し
た強度と組み合わせられた良好な流動が付加的に必要と
される任意の応用例えば大きな外部自動車部品、屋外使
用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメットにおい
て使用することができる。
ノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポリマー
は、既知の芳香族ポリカーボネートがこれまで使用され
てきた、そして改善された離型特性及び低温での上昇し
た強度と組み合わせられた良好な流動が付加的に必要と
される任意の応用例えば大きな外部自動車部品、屋外使
用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメットにおい
て使用することができる。
【００７１】本発明は従ってまた、大きな外部自動車部
品、屋外使用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメ
ットの製造のための、本発明に従って得られるポリ（ジ
オルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポ
リマーの使用を提供する。
品、屋外使用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメ
ットの製造のための、本発明に従って得られるポリ（ジ
オルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポ
リマーの使用を提供する。
【００７２】
【実施例】比較例１ａ １１４．１５ｇ（０．５００モル）のビスフェノールＡ
及び１１３．５４ｇ（０．５３０モル）の炭酸ジフェニ
ルを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉ
ｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された（ｍｉｒｒｏｒｅ
ｄ））を有する５００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量り込
む。真空を施しそして窒素でパージ（３回）することに
よって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチルトリメ
チルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート（Ｃ
Ｈ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3（Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4）（ビス
フェノールＡに対して０．０５モル％）を添加し、生成
するフェノールを１００ｍｂａｒで留去する。同時に温
度を２５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂ
ａｒまで改善し、そして温度を２６０℃まで上げる。次
に、温度を２８０℃まで上げ、そして混合物を０．１ｍ
ｂａｒで１．５時間撹拌する。
及び１１３．５４ｇ（０．５３０モル）の炭酸ジフェニ
ルを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉ
ｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された（ｍｉｒｒｏｒｅ
ｄ））を有する５００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量り込
む。真空を施しそして窒素でパージ（３回）することに
よって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチルトリメ
チルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート（Ｃ
Ｈ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3（Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4）（ビス
フェノールＡに対して０．０５モル％）を添加し、生成
するフェノールを１００ｍｂａｒで留去する。同時に温
度を２５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂ
ａｒまで改善し、そして温度を２６０℃まで上げる。次
に、温度を２８０℃まで上げ、そして混合物を０．１ｍ
ｂａｒで１．５時間撹拌する。
【００７３】１．２３４（ジクロロメタン、２５℃、５
ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、溶媒を含まないポリ
カーボネートが得られる。このポリカーボネートのフェ
ノール性ＯＨ価は３４０ｐｐｍである。
ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、溶媒を含まないポリ
カーボネートが得られる。このポリカーボネートのフェ
ノール性ＯＨ価は３４０ｐｐｍである。
【００７４】比較例１ｂ 比較例１ａ）を繰り返すが、セチルトリメチルアンモニ
ウムテトラフェニルヒドリドボレートの代わりに触媒と
してテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリ
ドボレートを使用する。１．２５４（ジクロロメタン、
２５℃、５ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の
溶媒を含まないポリカーボネートがこの場合にも得られ
る。このポリカーボネートのフェノール性ＯＨ価は３６
０ｐｐｍである。
ウムテトラフェニルヒドリドボレートの代わりに触媒と
してテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリ
ドボレートを使用する。１．２５４（ジクロロメタン、
２５℃、５ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の
溶媒を含まないポリカーボネートがこの場合にも得られ
る。このポリカーボネートのフェノール性ＯＨ価は３６
０ｐｐｍである。
【００７５】実施例１ １０２．７ｇ（０．４５モル）のビスフェノールＡ、１
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び平均
重合度Ｐn＝３１の５．４ｇのα，ω−ビスアセトキシ
ジメチルポリシロキサン（ビスフェノールＡに対して５
重量％）を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有す
るＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された（ｍｉｒｒｏ
ｒｅｄ））を有する５００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量
り込む。真空を施しそして窒素でパージ（３回）するこ
とによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合
物を１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチルト
リメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート
（ＣＨ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（ビ
スフェノールＡ及び炭酸ジフェニルに対して０．０５モ
ル％）を添加し、そして生成するフェノールを１００ｍ
ｂａｒで留去する。同時に温度を約５０分以内に１８０
〜１９０℃に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと
２５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒ
まで改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量
のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてで
ある。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加
熱することによって、比較的小さなそして均一に分布さ
れたシロキサンドメインを有する（図１参照）、薄い色
の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。相対溶
液粘度は１，２８０（ジクロロメタン、２５℃、５ｇ／
ｌ）である。ブロックコポリマーのフェノール性ＯＨ価
は２００ｐｐｍである。
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び平均
重合度Ｐn＝３１の５．４ｇのα，ω−ビスアセトキシ
ジメチルポリシロキサン（ビスフェノールＡに対して５
重量％）を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有す
るＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された（ｍｉｒｒｏ
ｒｅｄ））を有する５００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量
り込む。真空を施しそして窒素でパージ（３回）するこ
とによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合
物を１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチルト
リメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート
（ＣＨ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（ビ
スフェノールＡ及び炭酸ジフェニルに対して０．０５モ
ル％）を添加し、そして生成するフェノールを１００ｍ
ｂａｒで留去する。同時に温度を約５０分以内に１８０
〜１９０℃に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと
２５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒ
まで改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量
のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてで
ある。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加
熱することによって、比較的小さなそして均一に分布さ
れたシロキサンドメインを有する（図１参照）、薄い色
の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。相対溶
液粘度は１，２８０（ジクロロメタン、２５℃、５ｇ／
ｌ）である。ブロックコポリマーのフェノール性ＯＨ価
は２００ｐｐｍである。
【００７６】図１は、実施例１の未処理の極めて薄い切
片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径
は約１５ｎｍ〜＞２μｍの範囲であり、分布は比較的均
一である（ＨＡＡＮ１７７）。
片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径
は約１５ｎｍ〜＞２μｍの範囲であり、分布は比較的均
一である（ＨＡＡＮ１７７）。
【００７７】比較例１ｃ １０２．７ｇ（０．４５モル）のビスフェノールＡ、１
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び平均
重合度Ｐn＝３１の５．４ｇのα，ω−ビスアセトキシ
ジメチルポリシロキサン（ビスフェノールＡに対して５
重量％）を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有す
るＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５
００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそ
して窒素でパージ（３回）することによって装置から大
気中の酸素を排除し、そして混合物を１５０℃に加熱す
る。次に、炭酸ジフェニル中のテトラフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルヒドリドボレート、Ｐ（Ｃ6Ｈ5）4
Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4の１％のマスターバッチの０．３ｇを添
加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留
去する。同時に温度を２５０℃に上げる。１時間後に真
空を１０ｍｂａｒまで改善する。真空を０．５ｍｂａｒ
まで下げそして温度を２８０℃まで上げることによって
重縮合を達成する。
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び平均
重合度Ｐn＝３１の５．４ｇのα，ω−ビスアセトキシ
ジメチルポリシロキサン（ビスフェノールＡに対して５
重量％）を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有す
るＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５
００ｍｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそ
して窒素でパージ（３回）することによって装置から大
気中の酸素を排除し、そして混合物を１５０℃に加熱す
る。次に、炭酸ジフェニル中のテトラフェニルホスホニ
ウムテトラフェニルヒドリドボレート、Ｐ（Ｃ6Ｈ5）4
Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4の１％のマスターバッチの０．３ｇを添
加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留
去する。同時に温度を２５０℃に上げる。１時間後に真
空を１０ｍｂａｒまで改善する。真空を０．５ｍｂａｒ
まで下げそして温度を２８０℃まで上げることによって
重縮合を達成する。
【００７８】比較的大きなシロキサンドメインを有す
る、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られ
る、図２を参照せよ。相対溶液粘度は１，２８０（ジク
ロロメタン、２５℃、５ｇ／ｌ）である。ポリカーボネ
ートのフェノール性ＯＨ価は２００ｐｐｍである。
る、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られ
る、図２を参照せよ。相対溶液粘度は１，２８０（ジク
ロロメタン、２５℃、５ｇ／ｌ）である。ポリカーボネ
ートのフェノール性ＯＨ価は２００ｐｐｍである。
【００７９】図２は、比較実施例１ｃの未処理の極めて
薄い切片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメイ
ンは、約０．０２〜＞２μｍの範囲の径を有する黒い粒
子として見ることができる（ＨＡＡＮ０５９）。
薄い切片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメイ
ンは、約０．０２〜＞２μｍの範囲の径を有する黒い粒
子として見ることができる（ＨＡＡＮ０５９）。
【００８０】実施例２ １０２．７ｇ（０．４５モル）のビスフェノールＡ、１
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び５．
４ｇのビスフェノールＡ末端停止ポリジメチルシロキサ
ンを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉ
ｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５００ｍ
ｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及び５．
４ｇのビスフェノールＡ末端停止ポリジメチルシロキサ
ンを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉ
ｇｒｅｕｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５００ｍ
ｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。
【００８１】真空を施しそして窒素でパージ（３回）す
ることによって装置から大気中の酸素を排除し、そして
混合物を１５０℃に加熱する。
ることによって装置から大気中の酸素を排除し、そして
混合物を１５０℃に加熱する。
【００８２】次に、０．１３ｇのセチルトリメチルアン
モニウムテトラフェニルヒドリドボレート（ＣＨ3（Ｃ
Ｈ2）15Ｎ（ＣＨ3）3）Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（ビスフェノー
ルＡ及び炭酸ジフェニルに対して０．０５モル％）を添
加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留
去する。同時に温度を約５０分以内に１８０〜１９０℃
に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと２５０℃ま
で上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒまで改善
し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量のフェノ
ールが除去されるのはまさにこの点においてである。２
８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱するこ
とによって、１，２８７（ジクロロメタン、２５℃、５
ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含ま
ないポリカーボネートが得られる。
モニウムテトラフェニルヒドリドボレート（ＣＨ3（Ｃ
Ｈ2）15Ｎ（ＣＨ3）3）Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（ビスフェノー
ルＡ及び炭酸ジフェニルに対して０．０５モル％）を添
加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留
去する。同時に温度を約５０分以内に１８０〜１９０℃
に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと２５０℃ま
で上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒまで改善
し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量のフェノ
ールが除去されるのはまさにこの点においてである。２
８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱するこ
とによって、１，２８７（ジクロロメタン、２５℃、５
ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含ま
ないポリカーボネートが得られる。
【００８３】図３は、実施例２の未処理の極めて薄い切
片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径
は約０．０２〜０．７２μｍの範囲である。シロキサン
ドメインの分布は非常に均一である（ＨＡＡＮ１１４／
２）。
片のＴＥＭ顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径
は約０．０２〜０．７２μｍの範囲である。シロキサン
ドメインの分布は非常に均一である（ＨＡＡＮ１１４／
２）。
【００８４】実施例３ １０２．７ｇ（０．４５モル）のビスフェノールＡ、１
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及びｎ＝
２．４、ｍ＝６及び８１０の分子量を有する式（ＩＩＩ
ａ）
００ｇ（０．４６７モル）の炭酸ジフェニル、及びｎ＝
２．４、ｍ＝６及び８１０の分子量を有する式（ＩＩＩ
ａ）
【００８５】
【化１３】
【００８６】５．４ｇのシロキサン［これの製造は、Ｕ
ｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ
ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、１５巻、１
９６４、第三版、７６９頁以降中に述べられていて、そ
してＴｅｇｏｍｅｒ Ｈ−Ｓｉ２１１１としてＴｈ．Ｇ
ｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔから商業的に入手できる］を、撹
拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉｇｒｅｕ
ｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５００ｍｌの三ッ
口フラスコ中に量り込む。
ｌｌｍａｎｎｓ Ｅｎｃｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒ
ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、１５巻、１
９６４、第三版、７６９頁以降中に述べられていて、そ
してＴｅｇｏｍｅｒ Ｈ−Ｓｉ２１１１としてＴｈ．Ｇ
ｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔから商業的に入手できる］を、撹
拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するＶｉｇｒｅｕ
ｘ塔（３０ｃｍ、写された）を有する５００ｍｌの三ッ
口フラスコ中に量り込む。
【００８７】真空を施しそして窒素でパージ（３回）す
ることによって装置から大気中の酸素を排除し、そして
混合物を１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチ
ルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレ
ート（ＣＨ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3）Ｂ（Ｃ
6Ｈ5）4、（ビスフェノールＡに対して０．０５モル
％）を添加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂ
ａｒで留去する。同時に温度を約５０分以内に１８０〜
１９０℃に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと２
５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒま
で改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量の
フェノールが除去されるのはまさにこの点においてであ
る。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱
することによって、１，２６８（ジクロロメタン、２５
℃、５ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒
を含まないポリカーボネートが得られる。
ることによって装置から大気中の酸素を排除し、そして
混合物を１５０℃に加熱する。次に、０．１３ｇのセチ
ルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレ
ート（ＣＨ3（ＣＨ2）15Ｎ（ＣＨ3）3）Ｂ（Ｃ
6Ｈ5）4、（ビスフェノールＡに対して０．０５モル
％）を添加し、そして生成するフェノールを１００ｍｂ
ａｒで留去する。同時に温度を約５０分以内に１８０〜
１９０℃に上げ、そして次に更に２時間でゆっくりと２
５０℃まで上げる。次に、真空を段階的に１ｍｂａｒま
で改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量の
フェノールが除去されるのはまさにこの点においてであ
る。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱
することによって、１，２６８（ジクロロメタン、２５
℃、５ｇ／ｌ）の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒
を含まないポリカーボネートが得られる。
【００８８】実施例４ １００ｇのオリゴカーボネート（相対溶液粘度：１．１
４７、フェノール性末端基４３％、約０．０２５モルの
ＯＨ）、１１７．８ｇ（０．５５モル）の炭酸ジフェニ
ル、及びＰn＝３１の平均重合度Ｐnを有する５．０ｇの
α，ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン（ビス
フェノールＡに対して５重量％）を、撹拌機、内部温度
計及びブリッジ片を有するＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃ
ｍ、写された（ｍｉｒｒｏｒｅｄ））を有する５００ｍ
ｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒
素でパージ（３回）することによって装置から大気中の
酸素を排除し、そして混合物を２５０℃の温度に加熱す
る。次に、０．００８ｇのセチルトリメチルアンモニウ
ムテトラフェニルヒドリドボレート（ＣＨ3（ＣＨ2）15
Ｎ（ＣＨ3）3Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（オリゴフェノールのフ
ェノール性末端基に対して０．０５モル％）を添加し、
そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留去す
る。約６０分にわたって段階的に真空を１０ｍｂａｒま
でそして次に更に１０分にわたって０．１ｍｂａｒまで
改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量のフ
ェノールが除去されるのはまさにこの点においてであ
る。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱
しそして引き続いて２時間の間０．１ｍｂａｒで３００
℃に加熱することによって、＞５０ｐｐｍのブロックコ
ポリカーボネートのフェノール性末端基の値を有する
１．４０４（ジクロロメタン、２５℃、５ｇ／ｌ）の相
対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカー
ボネートが得られる。
４７、フェノール性末端基４３％、約０．０２５モルの
ＯＨ）、１１７．８ｇ（０．５５モル）の炭酸ジフェニ
ル、及びＰn＝３１の平均重合度Ｐnを有する５．０ｇの
α，ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン（ビス
フェノールＡに対して５重量％）を、撹拌機、内部温度
計及びブリッジ片を有するＶｉｇｒｅｕｘ塔（３０ｃ
ｍ、写された（ｍｉｒｒｏｒｅｄ））を有する５００ｍ
ｌの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒
素でパージ（３回）することによって装置から大気中の
酸素を排除し、そして混合物を２５０℃の温度に加熱す
る。次に、０．００８ｇのセチルトリメチルアンモニウ
ムテトラフェニルヒドリドボレート（ＣＨ3（ＣＨ2）15
Ｎ（ＣＨ3）3Ｂ（Ｃ6Ｈ5）4、（オリゴフェノールのフ
ェノール性末端基に対して０．０５モル％）を添加し、
そして生成するフェノールを１００ｍｂａｒで留去す
る。約６０分にわたって段階的に真空を１０ｍｂａｒま
でそして次に更に１０分にわたって０．１ｍｂａｒまで
改善し、そして温度を２８０℃まで上げる。主な量のフ
ェノールが除去されるのはまさにこの点においてであ
る。２８０℃及び０．１ｍｂａｒで１．５時間更に加熱
しそして引き続いて２時間の間０．１ｍｂａｒで３００
℃に加熱することによって、＞５０ｐｐｍのブロックコ
ポリカーボネートのフェノール性末端基の値を有する
１．４０４（ジクロロメタン、２５℃、５ｇ／ｌ）の相
対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカー
ボネートが得られる。
【００８９】本発明の主なる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【００９０】１． 触媒の存在下で８０℃〜３２０℃の
温度及び１０００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂａｒの圧力
で、芳香族のＳｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリ
ールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、１８
０００〜６００００の平均分子量Ｍw（重量平均、ゲル
クロマトグラフィーによって測定して）を有する熱可塑
性ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブ
ロックコポリマーを製造する方法であって、使用する触
媒が、１モルのＳｉを含まないジフェノールに対して１
０-1〜１０-8モルの量の、式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）
温度及び１０００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂａｒの圧力
で、芳香族のＳｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリ
ールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、１８
０００〜６００００の平均分子量Ｍw（重量平均、ゲル
クロマトグラフィーによって測定して）を有する熱可塑
性ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブ
ロックコポリマーを製造する方法であって、使用する触
媒が、１モルのＳｉを含まないジフェノールに対して１
０-1〜１０-8モルの量の、式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）
【００９１】
【化１４】
【００９２】［式中、Ｒ1-4は、同一の又は異なるＣ1〜
Ｃ30−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール又はＣ5〜Ｃ6−
シクロアルキルであり、ここでＲ1-4の少なくとも一つ
の残基は、Ｃ8〜Ｃ30−アルキルであり、そしてＸ-は、
その中で対応する酸／塩基の対Ｈ+＋Ｘ-⇔ＨＸが１〜１
１のｐＫＢを有するアニオンである］の第四級アンモニ
ウム化合物及び／又は第四級ホスホニウム化合物であ
り、そして使用するポリジオルガノシロキサン成分が、
Ｓｉを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキ
サンの総重量に対して３０重量％〜０．５重量％の、好
ましくは７重量％〜１重量％の重量のα，ω−ビスヒド
ロキシアリール−、α，ω−ビスヒドロキシアルキル
−、α，ω−ビスアシル−、又はα，ω−ビスヒドロキ
シアシル−ポリジオルガノシロキサンを含んで成ること
を特徴とする方法。
Ｃ30−アルキル、Ｃ6〜Ｃ10−アリール又はＣ5〜Ｃ6−
シクロアルキルであり、ここでＲ1-4の少なくとも一つ
の残基は、Ｃ8〜Ｃ30−アルキルであり、そしてＸ-は、
その中で対応する酸／塩基の対Ｈ+＋Ｘ-⇔ＨＸが１〜１
１のｐＫＢを有するアニオンである］の第四級アンモニ
ウム化合物及び／又は第四級ホスホニウム化合物であ
り、そして使用するポリジオルガノシロキサン成分が、
Ｓｉを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキ
サンの総重量に対して３０重量％〜０．５重量％の、好
ましくは７重量％〜１重量％の重量のα，ω−ビスヒド
ロキシアリール−、α，ω−ビスヒドロキシアルキル
−、α，ω−ビスアシル−、又はα，ω−ビスヒドロキ
シアシル−ポリジオルガノシロキサンを含んで成ること
を特徴とする方法。
【００９３】２． Ｒ1-4の少なくとも一つの残基がＣ
12〜Ｃ20−アルキルであることを特徴とする、上記１記
載の方法。
12〜Ｃ20−アルキルであることを特徴とする、上記１記
載の方法。
【００９４】３． α，ω−ビスヒドロキシアリールオ
キシ−、α，ω−ビスヒドロキシアルコキシ−、α，ω
−（ビスヒドロキシカプロラクトン）−又はα，ω−ビ
スアセトキシポリジオルガノシロキサンを、ポリジオル
ガノシロキサン成分として使用することを特徴とする、
上記１記載の方法。
キシ−、α，ω−ビスヒドロキシアルコキシ−、α，ω
−（ビスヒドロキシカプロラクトン）−又はα，ω−ビ
スアセトキシポリジオルガノシロキサンを、ポリジオル
ガノシロキサン成分として使用することを特徴とする、
上記１記載の方法。
【００９５】４． 使用するポリジオルガノシロキサン
成分が、式（ＩＩＩ）
成分が、式（ＩＩＩ）
【００９６】
【化１５】
【００９７】［式中、Ｒは、６〜３０個の炭素原子を有
する単環又は多環アリーレン残基、又は１〜３０個の炭
素原子若しくは３〜３０個の炭素原子を有する線状の又
は分岐したアルキレン残基であり、Ｒ1及びＲ2は、同一
又は異なっていてそして線状アルキル、分岐したアルキ
ル、ハロゲン化された線状アルキル、ハロゲン化された
分岐したアルキル、アリール又はハロゲン化アリールで
あり、そしてジオルガノシロキサン単位の和、即ち
“ｎ”＝ｏ＋ｐ＋ｑは、５〜１００である］のものであ
ることを特徴とする上記１記載の方法。
する単環又は多環アリーレン残基、又は１〜３０個の炭
素原子若しくは３〜３０個の炭素原子を有する線状の又
は分岐したアルキレン残基であり、Ｒ1及びＲ2は、同一
又は異なっていてそして線状アルキル、分岐したアルキ
ル、ハロゲン化された線状アルキル、ハロゲン化された
分岐したアルキル、アリール又はハロゲン化アリールで
あり、そしてジオルガノシロキサン単位の和、即ち
“ｎ”＝ｏ＋ｐ＋ｑは、５〜１００である］のものであ
ることを特徴とする上記１記載の方法。
【００９８】５． 使用するポリジオルガノシロキサン
成分が、式（ＩＶ）
成分が、式（ＩＶ）
【００９９】
【化１６】
【０１００】［式中、Ｒ1及びＲ2は、上記４において式
（ＩＩＩ）のために述べた意味を有し、Ｒ3は、線状ア
ルキレン、分岐したアルキレン、ハロゲン化された線状
アルキレン、ハロゲン化された分岐したアルキレン又は
アリーレンであり、そして“ｎ”は、５〜１００であ
り、そして“ｍ”は、１〜１０である］のものであるこ
とを特徴とする上記１記載の方法。
（ＩＩＩ）のために述べた意味を有し、Ｒ3は、線状ア
ルキレン、分岐したアルキレン、ハロゲン化された線状
アルキレン、ハロゲン化された分岐したアルキレン又は
アリーレンであり、そして“ｎ”は、５〜１００であ
り、そして“ｍ”は、１〜１０である］のものであるこ
とを特徴とする上記１記載の方法。
【０１０１】６． 使用するポリジオルガノシロキサン
成分が、式（Ｖ）
成分が、式（Ｖ）
【０１０２】
【化１７】
【０１０３】［式中、Ｒ1及びＲ2は、上記４において式
（ＩＩＩ）のために述べた意味を有し、そしてジオルガ
ノシロキサン単位の和、即ち“ｎ”＝ｏ＋ｐは、５〜１
００である］のものであることを特徴とする上記１記載
の方法。
（ＩＩＩ）のために述べた意味を有し、そしてジオルガ
ノシロキサン単位の和、即ち“ｎ”＝ｏ＋ｐは、５〜１
００である］のものであることを特徴とする上記１記載
の方法。
【０１０４】７． 大きな外部自動車部品、屋外で使用
する配電箱及び保護ヘルメットの製造のための、上記１
から６のいずれか一つに記載に従って得られるポリ（ジ
オルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポ
リマーの使用。
する配電箱及び保護ヘルメットの製造のための、上記１
から６のいずれか一つに記載に従って得られるポリ（ジ
オルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポ
リマーの使用。
【図１】実施例１の未処理の極めて薄い切片のＴＥＭ顕
微鏡写真を示す。
微鏡写真を示す。
【図２】比較実施例１ｃの未処理の極めて薄い切片のＴ
ＥＭ顕微鏡写真を示す。
ＥＭ顕微鏡写真を示す。
【図３】実施例２の未処理の極めて薄い切片のＴＥＭ顕
微鏡写真を示す。
微鏡写真を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】 触媒の存在下で８０℃〜３２０℃の温度
及び１０００ｍｂａｒ〜０．０１ｍｂａｒの圧力で、芳
香族のＳｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエ
ステル及びポリジオルガノシロキサンから、１８０００
〜６００００の平均分子量Ｍw（重量平均、ゲルクロマ
トグラフィーによって測定して）を有する熱可塑性ポリ
（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロック
コポリマーを製造する方法であって、 使用する触媒が、１モルのＳｉを含まないジフェノール
に対して１０-1〜１０-8モルの量の、式（Ｉ）及び／又
は（ＩＩ） 【化１】 ［式中、 Ｒ1-4は、同一の又は異なるＣ1〜Ｃ30−アルキル、Ｃ6
〜Ｃ10−アリール又はＣ5〜Ｃ6−シクロアルキルであ
り、ここでＲ1-4の少なくとも一つの残基は、Ｃ8〜Ｃ30
−アルキルであり、そしてＸ-は、その中で対応する酸
／塩基の対Ｈ+＋Ｘ-⇔ＨＸが１〜１１のｐＫＢを有する
アニオンである］の第四級アンモニウム化合物及び／又
は第四級ホスホニウム化合物であり、そして使用するポ
リジオルガノシロキサン成分が、Ｓｉを含まないジフェ
ノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して
３０重量％〜０．５重量％の、好ましくは７重量％〜１
重量％の重量のα，ω−ビスヒドロキシアリール−、
α，ω−ビスヒドロキシアルキル−、α，ω−ビスアシ
ル−、又はα，ω−ビスヒドロキシアシル−ポリジオル
ガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 大きな外部自動車部品、屋外で使用する
ための配電箱及び保護ヘルメットの製造のための、請求
項１の記載に従って得られるポリ（ジオルガノシロキサ
ン）／ポリカーボネートブロックコポリマーの使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19539290.6 | 1995-10-23 | ||
| DE19539290A DE19539290A1 (de) | 1995-10-23 | 1995-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Poly-(diorganosiloxan)-Polycarbonat-Blockcopolymeren |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008184902A Division JP2008248262A (ja) | 1995-10-23 | 2008-07-16 | ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124795A true JPH09124795A (ja) | 1997-05-13 |
Family
ID=7775470
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8297821A Withdrawn JPH09124795A (ja) | 1995-10-23 | 1996-10-21 | ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
| JP2008184902A Pending JP2008248262A (ja) | 1995-10-23 | 2008-07-16 | ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008184902A Pending JP2008248262A (ja) | 1995-10-23 | 2008-07-16 | ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5783651A (ja) |
| EP (1) | EP0770636B1 (ja) |
| JP (2) | JPH09124795A (ja) |
| DE (2) | DE19539290A1 (ja) |
| ES (1) | ES2145959T3 (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006521438A (ja) * | 2003-03-26 | 2006-09-21 | シグマカロン・ベー・ブイ | ポリ（シリルエステル）を製造する方法およびそれらの使用 |
| JP2008505217A (ja) * | 2004-06-30 | 2008-02-21 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 熱可塑性樹脂組成物 |
| JP2008248262A (ja) * | 1995-10-23 | 2008-10-16 | Bayer Ag | ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
| JP2009173886A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-08-06 | Bayer Materialscience Ag | シロキサン含有バインダー分散体 |
| WO2011013846A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 帝人化成株式会社 | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体 |
| JP2011046911A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-03-10 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体、成形品およびその製造方法 |
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| WO2022260075A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260079A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260076A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260078A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
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| EP3792303A1 (de) | 2019-09-10 | 2021-03-17 | LANXESS Deutschland GmbH | Hochvoltkomponenten |
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| JPWO2021112259A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | ||
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| EP3868818A1 (de) | 2020-02-19 | 2021-08-25 | LANXESS Deutschland GmbH | Hochvoltkomponenten |
| EP3957674A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
| EP3957672A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
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| EP4124632A1 (de) | 2021-07-27 | 2023-02-01 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur herstellung eines polysiloxan-polycarbonat-blockcopolymers |
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- 1996-10-10 EP EP96116213A patent/EP0770636B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-10 ES ES96116213T patent/ES2145959T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-10 DE DE59605174T patent/DE59605174D1/de not_active Expired - Fee Related
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| WO2022260075A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260079A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260076A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
| WO2022260078A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008248262A (ja) | 2008-10-16 |
| EP0770636A3 (de) | 1997-11-05 |
| ES2145959T3 (es) | 2000-07-16 |
| EP0770636A2 (de) | 1997-05-02 |
| US5783651A (en) | 1998-07-21 |
| DE59605174D1 (de) | 2000-06-15 |
| EP0770636B1 (de) | 2000-05-10 |
| DE19539290A1 (de) | 1997-04-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060425 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060725 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060728 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061020 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061020 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080318 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080328 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080822 |