JP2017520663A - エステル官能性ポリシロキサンおよびそれから作られるコポリマー - Google Patents
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Abstract
Description
(A)米国特許第3,189,662号は、クロロ末端ポリシロキサンとビスフェノール系化合物の反応を記載し、副生物として塩酸が生ずることを排除している;(B)米国特許第4,732,949号は、ビスフェノール系化合物とα,ω−ビスアクリロキシポリジオルガノシロキサンとの溶媒中での反応を記載しており、そして(C)米国特許第6,258,968号は、ビスフェノール系化合物、例えばヒドロキノンと、環状ジアルキルシロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサンとの溶媒中での反応を記載しており、そこでは酸触媒が用いられ、反応混合物中からは蒸留によって水が除去される。
のSi−O−C結合を含まないカーボネート末端シロキサンを用いている。
のカルボキシアリール末端オルガノシロキサン、例えば1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジシロキサンジアリルビス(安息香酸)を作製する方法を記載しており、この化合物は、ポリカーボネート−ポリシロキサンおよびポリエステル−シロキサンコポリマーを作製するために用いられる。
である。
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルである。R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル、R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基、R6は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基である。xは1から300;yは0から50およびzは0から50である。
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルであり;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;ここでxは1から300の範囲にわたり;yは0から50の範囲にわたり;そしてzは0から50の範囲にわたる。
で表され、式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルであり;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;そしてR6は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基であり;ここでxは1から300の範囲にわたり;yは0から50の範囲にわたり;zは0から50の範囲にわたる、式Iのポリオルガノシロキサンを:
によって表され、式中、R8は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基であり;そしてR9は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基であり;そしてVは:
からなる群より選択され、式中、R10、R11は独立して水素、ハロゲン、1から18の炭素原子を有するアルキル基、3から14の炭素原子を有するアリール基、6から10の炭素原子を有するアリールオキシ基、7から20の炭素原子を有するアラルキル基、1から10の炭素原子を有するアルコキシ基、6から20の炭素原子を有するシクロアルキル基、6から20の炭素原子を有するシクロアルコキシ基、2から10の炭素原子を有するアルケニル基、アラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基、またはカルボキシル基である化合物と、カーボネート前駆体の存在下に重合させ、ポリシロキサンコポリマーをもたらすことを含む。
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルである。R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル、R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基、R6は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基である。xは1から300;yは0から50およびzは0から50である。本明細書の開示はまた、上述のポリシロキサンを含むポリマーブレンドをも対象としている。
によって表され、式中、R1、R2およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルであり;ここでxは1から300;yは0から50;およびzは0から50であり、アリル−4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ベンゾエートまたはアリル2−(4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)フェニル)アセテート或いは類似の化合物およびそれらの誘導体と、有効温度として約80から200℃、好ましくは100から150℃、そしてより好ましくは80から100℃において反応されて、フェノール保護シロキサンを生成する。アリル−4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ベンゾエートまたはアリル2−(4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)フェニル)アセテートおよび類似化合物ないしそれらの誘導体は、「フェノール保護」されている。テトラヒドロピラニル(THP)エーテルが、フェノールの保護に用いられる基である。アリル−4−ヒドロキシベンゾエート、アリル−4−ヒドロキシフェニルアセテートまたは類似化合物およびそれらの誘導体に対するフェノール保護は、強塩基、グリニヤール試薬、ヒドリド、レドックス試薬、アルキル化剤およびアクリル化剤の存在下に、そして水素化触媒の存在下に、テトラヒドロピラニル(THP)エーテルを用いることで得られる。アリル−4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ベンゾエートまたはアリル2−(4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)フェニル)アセテートおよび類似化合物ならびにそれらの誘導体は、テトラヒドロピラニル化され、従って「フェノール保護」される。フェノール保護されたシロキサン化合物は、極性溶媒と鉱酸の混合物、例えばTHF/HClを用いることによって「脱保護」され、フェノールが脱保護されたシロキサンが得られる。フェノールの保護および脱保護のための種々の他の方法であって、現在見られないまたは予測されていない代替方法、修正、変形、またはそれらにおける改良が、当業者によって後に行われるであろうが、それらもまた本発明の特許請求の範囲に包含されている。脱保護されたシロキサンは精製されて、有機物が除去される。精製は減圧下に、約150から300℃の温度において行われ、純粋なポリシロキサン化合物が得られる。
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルであり;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基であり;ここでxは1から300の範囲にわたり;yは0から50の範囲にわたり;そしてzは0から50の範囲にわたる。
式中、各々のR7は1から60の炭素原子を有する炭化水素ラジカル,2価の炭化水素基、または構造単位;
から誘導される基であり、式中、R8は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;およびR9は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基であり;そしてVは:
からなる群より選択され、式中、R10およびR11は独立して水素、ハロゲン、1から18の炭素原子を有するアルキル基、3から14の炭素原子を有するアリール基、6から10の炭素原子を有するアリールオキシ基、7から20の炭素原子を有するアラルキル基、1から10の炭素原子を有するアルコキシ基、6から20の炭素原子を有するシクロアルキル基、6から20の炭素原子を有するシクロアルコキシ基、2から10の炭素原子を有するアルケニル基、アラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基、またはカルボキシル基である。
ヒドリド末端シロキサン流体HMD45MHの合成
オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4)(500g)とピュロライト(Purolite)CT275(2.298g)の混合物を、マグネチックスターラーと還流コンデンサーを備えた500mLの丸底フラスコに仕込み、窒素下に撹拌した。この撹拌混合物に対し、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン(HMMH)(19.68g)を室温で添加した。フラスコを加熱して約50℃に約1時間保持し、次いで約1時間かけて温度を約60まで上げた。次に温度を約2時間かけて70℃まで昇温し、次いで約4時間かけて約80℃に昇温した。反応の完了後、フラスコを30℃未満へと冷却し、セライト(Celite)(0.750g)で処理し、濾過した。130℃/5mbarで真空を適用することによって揮発性物質を除去し、480gの透明な無色の液体を得た。この液体は次の特徴を有していた:固形分含量は98%、粘度は15〜20mPa・s、ヒドリド含量は11.68ccH2/g(0.0521wt%)、分子量Mnは4648、そして多分散性指数(PDI)は1.6であった。
実施例2
フェノール(アリル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート)末端シロキサン流体AHBMD45MAHBの合成
実施例3
フェノール(アリル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)末端シロキサン流体AHPAMD45MAHPAの合成
実施例4
フェニル含有シロキサン流体HMD61.87DPh 25.99MHの合成
実施例5
フェノール(アリル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート)末端シロキサン流体AHBMD61.87DPh 25.99MAHBの合成
実施例6
フェノール(アリル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート)末端シロキサン流体AHBMDxDvinylMAHBの合成
比較例1
フェノール(オイゲノール)末端シロキサン流体EuMD45MEuの合成
実施例7
ポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマーの合成
表1:ポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマーの組成の詳細
5wt%までの作製されたポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマー(コポリマーIからIV)を、おおよそ95wt%のポリカーボネートと、305℃で7分間にわたり、ハーケ社(Haake)製バッチミキサーで溶融混合した。組成の詳細を以下の表2に示す。溶融ストランドを集めて、可燃性試験用の試料調製に用いた。
表2:
可燃性試験
表3:可燃性試験結果規準条件
表4:ポリカーボネートホモポリマーおよびポリカーボネート−ポリシロキサンブレンドを含むポリカーボネートについての可燃性試験結果
上記の表4に示されているように、ポリカーボネート−エステル官能性ポリシロキサンコポリマー(コポリマーI、IIおよびIII)のそれぞれを用いて調製されたブレンド組成物(ブレンド1、2および3)は全体的に、ポリカーボネートホモポリマーよりも良好な難燃性を有している。接炎後の平均消炎時間を考慮すると、本発明のポリカーボネート−エステル官能性ポリシロキサンコポリマー(コポリマーI)を含むブレンド組成物(ブレンド1)は、非常に改善された難燃性を示している。さらにまた、本発明のコポリマーを取り入れたブレンド組成物はいずれも、滴下粒子およびコットンの発火を示していない。
引張試練
表5:ブレンドの引張試験
典型的には、引張強度の測定値は、ポリカーボネートホモポリマーに対する本発明のポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマーの取り込み(ブレンド1)が、添加に伴って他の性能を向上させるにも関わらず、何ら実質的な性能低下なしにポリカーボネート材料の性能を維持していることを表している。
低温衝撃強度試験
表6:ブレンドのアイゾット試験
アイゾット試験の温度が室温以下に低下するにつれて、本発明のポリカーボネート−ポリシロキサンコポリマー含有ブレンドによる吸収エネルギーは、ポリカーボネートホモポリマーよりも非常に高くなる。
Claims (20)
- 式Iの構造を有するポリオルガノシロキサン:
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカル;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;そしてR6は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基であり;ここでxは1から300;yは0から50;およびzは0から50である。 - 式II;
式中、R1、R2およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカルであり;ここでxは1から300;yは0から50;およびzは0から50;によって表されるヒドリド末端シロキサンを
フェノール保護アリル−4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ベンゾエート、アリル2−(4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)フェニル)アセテート、アリル−4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)ベンゾエート誘導体、またはアリル2−(4−((テトラヒドロ−2H−ピラン−2−イル)オキシ)フェニル)アセテート誘導体と、フェノール保護シロキサンを生成するのに有効な温度において反応させ;
極性溶媒と鉱酸の混合物中でフェノール保護シロキサン化合物を脱保護してフェノール脱保護シロキサンを生成し;および
フェノール脱保護シロキサンを精製することを含む、請求項1のポリオルガノシロキサン化合物の調製方法。 - 請求項1のポリオルガノシロキサンと:ポリカーボネートホモポリマー、ポリカーボネートコポリマー、ポリカーボネート−ポリエステル、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、およびポリエーテルイミドからなる群より選択されるポリマーとを含む組成物。
- 請求項3の組成物を含む物品。
- 携帯電話のハウジング、冷凍食品厨房設備、ヘルメット、自動車のフロントガラス、オートバイの風防、自動車のサンルーフ、ダッシュボード、ヘッドライト、および電子機器のスクリーンからなる群より選択される物品である、請求項4の物品。
- 式IIIの単位を有する少なくとも1つのポリオルガノシロキサンを含むコポリマー組成物。
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカル;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;ここでxは1から300の範囲にわたり;yは0から50の範囲にわたり;そしてzは0から50の範囲にわたる。 - 式IVの構造単位をさらに含み:
式中、各々のR7は1から60の炭素原子を有する炭化水素ラジカル、2価の炭化水素基、式Vの構造単位から誘導される基であり、
式中、R8は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;およびR9は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基;そしてVは:
からなる群より選択される基であり、式中、R10、R11は独立して水素、ハロゲン、1から18の炭素原子を有するアルキル基、3から14の炭素原子を有するアリール基、6から10の炭素原子を有するアリールオキシ基、7から20の炭素原子を有するアラルキル基、1から10の炭素原子を有するアルコキシ基、6から20の炭素原子を有するシクロアルキル基、6から20の炭素原子を有するシクロアルコキシ基、2から10の炭素原子を有するアルケニル基、アラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基、またはカルボキシル基である、請求項6のコポリマー組成物。 - ポリカーボネートホモポリマー、ポリカーボネートコポリマー、ポリカーボネート−ポリエステル、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、またはポリエーテルイミドをさらに含む、請求項6のコポリマー組成物。
- 請求項6のコポリマー組成物を含む物品。
- R9がヒドロキシル基でありR10が1から6の炭素原子を有するアルキル基である、請求項7のコポリマー組成物。
- 携帯電話のハウジング、冷凍食品厨房設備、ヘルメット、自動車のフロントガラス、オートバイの風防、自動車のサンルーフ、ダッシュボード、ヘッドライト、および電子機器のスクリーンからなる群より選択される物品である、請求項9の物品。
- 請求項6のコポリマー組成物を鋳造し、成形し、または形成することを含む、物品の作製方法。
- ポリシロキサンコポリマーの調製方法であって:
式中、R1、R2、およびR3は独立して炭化水素ラジカル、不飽和ラジカル、アルコキシラジカル、アリールラジカルまたはアルケニルオキシラジカル;R4は独立して直接結合または任意選択的に酸素および窒素で置換された炭化水素ラジカル;R5は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;およびR6は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基;ここでxは1から300の範囲にわたり;yは0から50の範囲にわたり;そしてzは0から50の範囲にわたる、によって表される式Iのポリオルガノシロキサンを、式Vの化合物:
式中、R8は独立して水素、ハロゲン、1から6の炭素原子を有する脂肪族基、6から8の炭素原子を有する芳香族基、1から6の炭素原子を有するアルコキシ基、またはアリールオキシ基;およびR9は独立してヒドロキシル基、アミン基、酸クロリド基、またはスルホニルハライド基;そしてVは
からなる群より選択され、式中、R10、R11は独立して水素、ハロゲン、1から18の炭素原子を有するアルキル基、3から14の炭素原子を有するアリール基、6から10の炭素原子を有するアリールオキシ基、7から20の炭素原子を有するアラルキル基、1から10の炭素原子を有するアルコキシ基、6から20の炭素原子を有するシクロアルキル基、6から20の炭素原子を有するシクロアルコキシ基、2から10の炭素原子を有するアルケニル基、アラルキルオキシ基、ニトロ基、アルデヒド基、シアノ基、またはカルボキシル基であるものと、
カーボネート前駆体の存在下に重合させることを含む、方法。 - R9がヒドロキシル基でありR10が1から6の炭素原子を有するアルキル基である、請求項13の方法。
- カーボネート前駆体が、ホスゲン、ジホスゲン、ジアリールカーボネート、ビス(メチルサリチル)カーボネート、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項13の方法。
- 重合が、溶媒および任意選択的に1またはより多くの触媒の存在下に実行される界面重合プロセスである、請求項13の方法。
- 1またはより多くの触媒が:脂肪族アミン、トリアルキルアミン;および式(A3)4L+Bの相間移動触媒からなる群より選択され、ここで各々のAは独立してC1〜10のアルキル基;Lは窒素またはリン原子;そしてBはハロゲン原子、C1〜8のアルコキシ基、またはC6〜18のアリールオキシ基である、請求項16の方法。
- 重合工程が界面重合プロセスであり、溶媒、苛性化剤、および任意選択的に1またはより多くの触媒の存在下で行われる、カーボネート前駆体が、ホスゲン、ジホスゲン、ジアリールカーボネート、ビス(メチルサリチル)カーボネート、またはこれらの組み合わせである、請求項13の方法。
- 重合が、相間移動触媒の存在下に2相性溶媒中でビスフェノールAをホスゲンと反応させてビスクロロホルメートを形成することを含み;ここで方法がさらにポリオルガノシロキサンを添加することを含む、請求項13の方法。
- ポリオルガノシロキサンのビスクロロホルメートが管状反応器中で形成され、次いで触媒と共に相間ポリ縮合反応器に添加される、請求項19の方法。
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