JP2008248262A - ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 - Google Patents
ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008248262A JP2008248262A JP2008184902A JP2008184902A JP2008248262A JP 2008248262 A JP2008248262 A JP 2008248262A JP 2008184902 A JP2008184902 A JP 2008184902A JP 2008184902 A JP2008184902 A JP 2008184902A JP 2008248262 A JP2008248262 A JP 2008248262A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- diorganosiloxane
- alkyl
- halogenated
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
- C08G77/448—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/18—Block or graft polymers
- C08G64/186—Block or graft polymers containing polysiloxane sequences
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
【課題】 より良い離型特性及び流動、より低い温度に転置されるゴム/ガラス転移及び改善されたESC挙動を有するポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーを提供する。
【解決手段】 特定のエステル交換触媒を使用して、溶融液中で、ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法。
【選択図】 図1
【解決手段】 特定のエステル交換触媒を使用して、溶融液中で、ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法。
【選択図】 図1
Description
本発明は、触媒の存在下で80℃〜320℃の温度及び1000mbar〜0.01mbarの圧力で、Siを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、18000〜60000の、好ましくは19000〜40000の平均分子量Mw(重量平均、ゲルクロマトグラフィーによって測定して)を有する熱可塑性ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法であって、
使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)
使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)
[式中、
R1〜R4は、同一の又は異なるC1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリール又はC5〜C6−シクロアルキルであり、ここで
R1〜R4の少なくとも一つは、C8〜C30−アルキル、好ましくはC12〜C20−であり、そして
X-は、対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKbを有するアニオンである]
の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、
そして
使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%の重量の式(III)、(IV)または(V)のポリジオルガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法を提供する。
R1〜R4は、同一の又は異なるC1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリール又はC5〜C6−シクロアルキルであり、ここで
R1〜R4の少なくとも一つは、C8〜C30−アルキル、好ましくはC12〜C20−であり、そして
X-は、対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKbを有するアニオンである]
の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、
そして
使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%の重量の式(III)、(IV)または(V)のポリジオルガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法を提供する。
本発明のポリジオルガノシロキサンは、5〜100、好ましくは5〜80そして特に10〜50のそれらのジオルガノシロキサン構造単位“n”の重合度を有する。
本発明の目的のためには、Siを含まないジフェノールは、化学的に結合したシリコン原子を含まないジフェノールである。(I)及び(II)のX-アニオンは、例えば、テトラフェニルヒドリドボレート及びフッ化物である。
本発明に従って得ることができるポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーは、各々の場合においてポリジオルガノシロキサン;ポリカーボネートブロックコポリマーの総重量に対して、30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%のジオルガノシロキサン構造単位含量を有する。
本発明による方法を使用して製造されたポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーは、より良い離型特性及び流動、より低い温度に転置されるゴム/ガ
ラス転移及び改善されたESC挙動を有する。それらはまた溶媒を含まない形で製造される。
ラス転移及び改善されたESC挙動を有する。それらはまた溶媒を含まない形で製造される。
溶融エステル交換法を使用する芳香族オリゴ/ポリカーボネートの製造は、文献から知られていて、そして、例えば、非特許文献1中で述べられてきた。
相界面法によるポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーの製造は、文献から知られていて、そして、例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4中で述べられてきた。
特許文献5は、ビスフェノール、炭酸ジアリール及びシラノール末端停止ポリシロキサンからの触媒を使用するポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーの製造を述べているが、これらは光伝導性層中の電荷運搬分子のためのバインダーとして使用される。この文書においては、使用されるシロキサン化合物は、シラノール末端基を有するポリジフェニル−又はポリジメチルシロキサンテロマーである。
慣用的なエステル交換触媒と比較して(比較例1c参照)、少なくとも一個のC8〜C30−アルキル残基を窒素又はリン原子の上に有する一般式(I)又は(II)の触媒によるエステル交換法を経由してポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーを合成することは一層容易に可能であることが、今回、見い出された。
式(I)及び(II)の触媒は、他のポリカーボネートの、例えばビスフェノールAポリカーボネートの製造のために既に使用されてきた。N又はP原子の上に少なくとも一つのC8〜C30−アルキル残基を有する一般式(I)又は(II)の触媒をこの目的のために使用する時には、他のアンモニウム又はホスホニウム触媒と比較して特別な効果が見いだされない(比較例1a及び1b参照)。
α,ω−ビスヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、例えば、US−PS 3,419,634から知られている。
α,ω−ビスヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンは、知られていてそして例えばTh.Goldschmidt社,Essenから商業的に入手できる。
α,ω−ビスアシルポリジオルガノシロキサンは、例えば、DE−OS 33,34,782(LeA 22,594)から知られている。
α,ω−ビスヒドロキシアシルポリジオルガノシロキサンは、知られていてそして例えばTh.Goldschmidt社,Essenから商業的に入手できる。
ポリジオルガノシロキサンは、好ましくは、ヒドロキシアリールオキシ、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシアシルオキシ、ω−ヒドロキシカプロラクトン又はアセトキシ末端基を有する。
使用されるべきポリジオルガノシロキサンは、特に、式(III)、(IV)又は(V)
のものである。
これらの式において、Rは、6〜30個の炭素原子好ましくは6個の炭素原子を有する単環又は多環アリーレン残基、又は1〜30個の炭素原子若しくは3〜30個の炭素原子、好ましくは3〜10個の炭素原子を有する線状の又は分岐したアルキレン残基である。
好ましい残基Rは、式(VIa)
[式中、
−X−は、C1〜C12−アルキリデン、C7〜C12−アラルキリデン、C5〜C15−シクロアルキリデン、−S−、−SO2−、−O−、
−X−は、C1〜C12−アルキリデン、C7〜C12−アラルキリデン、C5〜C15−シクロアルキリデン、−S−、−SO2−、−O−、
又は単結合、特に好ましくは
である]
のものである。
のものである。
R1及びR2は、同一又は異なっていて、そして線状の、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、分岐した、必要に応じてハロゲン化されたアルキル、アリール又はハロゲン化されたアリール、好ましくはメチルである。
R3は、線状の必要に応じてハロゲン化されたアルキレン、分岐した必要に応じてハロゲン化されたアルキレン又はアリーレン、好ましくは線状の又は分岐したC1〜C16−アルキレン、特に好ましくは線状プロピレン、線状ブチレン、線状ペンチレン及び線状ヘキシレンである。
ジオルガノシロキサン単位“n”の数は、式(III)に関しては“o+p+q”から、式(IV)に関しては“n”から、そして式(V)に関しては“o+p”から得られる。各々の場合において、それは、5〜100、好ましくは20〜80そして特に25〜50である。指数“m”は、1〜30、好ましくは5〜15である。
残基Rの例は、
である。
残基R1−の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル及びフェニルである。
残基R2−の例はまた、メチル、エチル、プロピル、ブチル及びフェニルである。
残基−R3−の例は、メチレン、エチレン、i,n−プロピレン、i,n−ブチレン、i,n−ペンチレン及びi,n−ヘキシレンである。
式(III)、(IV)及び(V)の化合物の例は、
である。
本発明による方法のために適切なSiを含まないジフェノールは、式(VI)
[式中、
Xは、C1〜C12−アルキリデン又はC5〜C15−シクロアルキリデン、C7〜C12−アラルキリデン、−SO2−、
Xは、C1〜C12−アルキリデン又はC5〜C15−シクロアルキリデン、C7〜C12−アラルキリデン、−SO2−、
S又は単結合であり、そして
Rは、CH3、Cl又はBrであり、そして
nは、0、1又は2である]のものである。
Rは、CH3、Cl又はBrであり、そして
nは、0、1又は2である]のものである。
好ましいジフェノールは、例えば、
4,4’−ジヒドロキシジフェニル、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、及び
1−フェニル−2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
である。
4,4’−ジヒドロキシジフェニル、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、及び
1−フェニル−2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
である。
上で述べたものの中でも特に好ましいジフェノールは、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン及び1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンである。
Siを含まないジフェノールの代わりに、これらのジフェノールから製造されたOH基を含むオリゴカーボネートを本発明による方法のために使用することもまた可能である。
本発明の目的のためには、炭酸ジエステルは、ジ−C6〜C20−アリールエステル、好ましくはフェノール又はアルキル置換フェノールのジエステル、かくして炭酸ジフェニル又は、例えば、炭酸ジクレジルである。Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの和の1モルに対して、炭酸ジエステルは、1.01〜1.30モルの猫の1.02〜1.15モルの[量]で使用される。
本発明のポリカーボネートブロックコポリマーは、小量の分岐剤を使用することによってわざとそして制御して分岐させることができる。幾つかの適切な分岐剤は、
フロログルシノール、
4,6−ジメチル−2,4,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘプト−2−エン、
4,6−ジメチル−2,4,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、
1,3,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、
1,1,1−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
トリ−(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、
2,2−ビス−[4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]プロパン、
2,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノール、
2,6−ビス−(2−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−4−メチルフェノール、
2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパン、
テトラ−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、
テトラ−(4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノキシ)メタン、
1,4−ビス−((4’,4”−ジヒドロキシトリフェニル)メチル)ベンゼン、そして特に
α,α’,α”−トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリイソプロピルベンゼン
である。
フロログルシノール、
4,6−ジメチル−2,4,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘプト−2−エン、
4,6−ジメチル−2,4,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、
1,3,5−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、
1,1,1−トリ−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
トリ−(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、
2,2−ビス−[4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル]プロパン、
2,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノール、
2,6−ビス−(2−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−4−メチルフェノール、
2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパン、
テトラ−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、
テトラ−(4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノキシ)メタン、
1,4−ビス−((4’,4”−ジヒドロキシトリフェニル)メチル)ベンゼン、そして特に
α,α’,α”−トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリイソプロピルベンゼン
である。
更なる可能な分岐剤は、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、それのフェニル又はクレジルエステル、トリメシン酸、それのフェニル又はクレジルエステル、塩化シアヌル、及び3,3−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−オキソ−2,3−ジヒドロインドールである。
使用されるSiを含まないジフェノールに対して0.05〜0.3モル%の量で必要に応じて使用されるべき分岐剤は、Siを含まないジフェノールと一緒に使用することができる。
分子量は、一般に、炭酸ジアリールエステルの量によってそして反応条件によって限定される。モノフェノール、例えばフェノール又はアルキルフェノールを、更にまた、連鎖停止剤として付加的に添加することができる(例えば、EP 360,598参照)。
反応成分、即ちSiを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキサンがアルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンを含まないことを確実にするために注意を払わねばならないが、0.1ppm未満の量のアルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンは我慢することができるであろう。このような純粋な炭酸ジアリールエステル、ポリジオルガノシロキサン又はSiを含まないジフェノールは、炭酸ジアリールエステル、ポリジオルガノシロキサン又はSiを含まないジフェノールを再結晶し、洗浄し又は蒸留することによって得ることができる。本発明による方法においては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属イオンの含量は、Siを含まないジフェノール、ポリジオルガノシロキサン中で、そして炭酸ジエステル中で<0.1ppmでなければならない。
本発明による方法の目的のためには、触媒の例は、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート、
ヘキサデシルトリブチルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムフルオリド、
ヘキサデシルトリブチルホスホニウムフルオリド
である。
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート、
ヘキサデシルトリブチルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムフルオリド、
ヘキサデシルトリブチルホスホニウムフルオリド
である。
式(I)及び(II)の触媒は文献から知られている(E.V.Dehmlov,S.S.Dehmlov、相移動触媒、第二版、Verlag Chemie,1983;Houben Weyl,Methoden der organischen Chemie、第四版、XI/2巻、1958、591頁以降、XII/1巻、1963、79頁以降、XIII/3b巻、1983、763頁以降、並びにCharles M.Starks及びCharles Ciotta、相移動触媒作用、Academic Press、1978)か、又は文献(上で引用したものを参照)から知られた方法を使用して製造することができる。
これらの触媒は、好ましくは、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-2〜10-8モルの量で使用される。これらの触媒は、単独で又はお互いに(2以上)組み合わせて又はポリカーボネート製造のために知られた他のエステル交換触媒と組み合わせて使用することができる。他の既知のエステル交換触媒は、例えば、US−PS 3,272
,601によるアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物、US−PS 3,442,864、JA 14742/72及びUS−PS 5,399、659による他のアンモニウム又はホスホニウム化合物、並びにUS−PS 5,319,066によるグアニジンシムである。
,601によるアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物、US−PS 3,442,864、JA 14742/72及びUS−PS 5,399、659による他のアンモニウム又はホスホニウム化合物、並びにUS−PS 5,319,066によるグアニジンシムである。
他の既知のエステル交換触媒の例は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属フェノラート、アルカリ金属ジフェノラート、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びテトラメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレートである。
本発明による方法は単一の段階で実施することができる。この場合には、以下の手順を使用する:
Siを含まないジヒドロキシ化合物、ポリジオルガノシロキサン及び炭酸ジエステルを、80〜250℃の、好ましくは100〜230℃の、特に好ましくは120〜190℃の温度で標準的な圧力下で0〜5時間、好ましくは0.25〜3時間で溶融させる。触媒は、これらの成分が溶融される前に又は溶融された成分に添加しても良い。次に、真空を施し、温度を上げそして蒸留によってモノフェノールを除去することによってオリゴカーボネートを製造する。次に、更に温度を240〜400℃に上げそして圧力を0.01mbarまで下に下げることによって、重縮合反応においてポリカーボネートを製造する。その代わりに、ポリジオルガノシロキサンはまた、他の溶融された成分に触媒と一緒に添加しても良い。
Siを含まないジヒドロキシ化合物、ポリジオルガノシロキサン及び炭酸ジエステルを、80〜250℃の、好ましくは100〜230℃の、特に好ましくは120〜190℃の温度で標準的な圧力下で0〜5時間、好ましくは0.25〜3時間で溶融させる。触媒は、これらの成分が溶融される前に又は溶融された成分に添加しても良い。次に、真空を施し、温度を上げそして蒸留によってモノフェノールを除去することによってオリゴカーボネートを製造する。次に、更に温度を240〜400℃に上げそして圧力を0.01mbarまで下に下げることによって、重縮合反応においてポリカーボネートを製造する。その代わりに、ポリジオルガノシロキサンはまた、他の溶融された成分に触媒と一緒に添加しても良い。
しかしながら、本発明による方法を二つの別々の段階で実施することも可能であり、ここでは、第一段階においては、触媒(I)及び/又は(II)を使用してオリゴカーボネートを製造しそして、第二段階においては、オリゴカーボネートからポリカーボネートを製造する。ここでは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属触媒を必要に応じて付加的に使用することができ、そして混合物を<3時間〜10分の、好ましくは<1時間〜20分の、特に好ましくは<30〜20分の短い期間にわたって、250〜320℃の、好ましくは280℃〜290℃の温度及び<100mbar〜0.01mbarの圧力で維持する。
この場合に中間体として製造されるポリジオルガノシロキサン/オリゴカーボネートは、60:40〜5:95の、好ましくは45:55〜10:90の範囲のOH/アリールカーボネート末端基比を有し、これはTiCl4によるOH末端基の光学測定によって測定することができる。
オリゴカーボネートのOH末端基は、
xモル%=100(OH末端基の数)/(末端基の総数)
として定義される。
xモル%=100(OH末端基の数)/(末端基の総数)
として定義される。
本発明による方法は、撹拌タンク反応器、膜蒸発器、落下膜蒸発器、直列の撹拌タンク反応器、押出機、ニーダー、簡単なディスク反応器及び高粘度ディスク反応器中で連続的に又は不連続的に実施することができる。
本発明による方法の芳香族ポリカーボネートブロックコポリマーは、光散乱によって検量された、ジクロロメタン中の又はフェノール/o−ジクロロベンゼンの重量によって等しい量の混合物中の相対溶液粘度を測定することによって測定して、18000〜60000の、好ましくは19000〜40000の重量平均分子量Mwを持たねばならない。
本発明に従って製造されたポリカーボネートブロックコポリマーは、光固有色を有し、好ましくは<1200ppmの低いOH末端基含量を有し、そして加水分解及び熱に耐え
る。
る。
充填剤及び強化剤を、本発明に従って製造されたポリカーボネートブロックコポリマーに添加して、それらの特性を改善することができる。なかんずく考慮することができるこのような物質は、安定剤(例えばUV、熱、γ放射線安定剤)、静電防止剤、流動補助剤、離型剤、防炎剤、顔料、微粉物質、繊維例えばアルキル及びアリールホスファイト、ホスフェート、ホスファン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、シリカ粉、ガラス及び炭素繊維である。他のポリマー、例えばポリオレフィン、ポリウレタン又はポリスチレンも更にまた、本発明に従って製造されたポリカーボネートブロックコポリマーに添加することができる。
これらの物質は、好ましくは、慣用的装置中で最終ポリカーボネートに添加するが、必要な場合には、本発明による方法の別の段階で添加を行うこともできる。
本発明に従って製造されたポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーは、既知の芳香族ポリカーボネートがこれまで使用されてきた、そして改善された離型特性及び低温での上昇した強度と組み合わせられた良好な流動が付加的に必要とされる任意の応用例えば大きな外部自動車部品、屋外使用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメットにおいて使用することができる。
本発明は従ってまた、大きな外部自動車部品、屋外使用のためのスイッチボックス及び保護ヘルメットの製造のための、本発明に従って得られるポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーの使用を提供する。
比較例1a
114.15g(0.500モル)のビスフェノールA及び113.54g(0.530モル)の炭酸ジフェニルを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3(B(C6H5)4)(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を260℃まで上げる。次に、温度を280℃まで上げ、そして混合物を0.1mbarで1.5時間撹拌する。
114.15g(0.500モル)のビスフェノールA及び113.54g(0.530モル)の炭酸ジフェニルを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3(B(C6H5)4)(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を260℃まで上げる。次に、温度を280℃まで上げ、そして混合物を0.1mbarで1.5時間撹拌する。
1.234(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。このポリカーボネートのフェノール性OH価は340ppmである。
比較例1b
比較例1a)を繰り返すが、セチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレートの代わりに触媒としてテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレートを使用する。1.254(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートがこの場合にも得られる。このポリカーボネートのフェノール性OH価は360ppmである。
比較例1a)を繰り返すが、セチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレートの代わりに触媒としてテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレートを使用する。1.254(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートがこの場合にも得られる。このポリカーボネートのフェノール性OH価は360ppmである。
実施例1
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭
酸ジフェニル、及び平均重合度Pn=31の5.4gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3B(C6H5)4、(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を約50分以内に180〜190℃に上げ、そして次に更に2時間でゆっくりと250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱することによって、比較的小さなそして均一に分布されたシロキサンドメインを有する(図1参照)、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。相対溶液粘度は1,280(ジクロロメタン、25℃、5g/l)である。ブロックコポリマーのフェノール性OH価は200ppmである。
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭
酸ジフェニル、及び平均重合度Pn=31の5.4gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3B(C6H5)4、(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を約50分以内に180〜190℃に上げ、そして次に更に2時間でゆっくりと250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱することによって、比較的小さなそして均一に分布されたシロキサンドメインを有する(図1参照)、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。相対溶液粘度は1,280(ジクロロメタン、25℃、5g/l)である。ブロックコポリマーのフェノール性OH価は200ppmである。
図1は、実施例1の未処理の極めて薄い切片のTEM顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径は約15nm〜>2μmの範囲であり、分布は比較的均一である(HAAN177)。
比較例1c
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及び平均重合度Pn=31の5.4gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、炭酸ジフェニル中のテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、P(C6H5)4B(C6H5)4の1%のマスターバッチの0.3gを添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を250℃に上げる。1時間後に真空を10mbarまで改善する。真空を0.5mbarまで下げそして温度を280℃まで上げることによって重縮合を達成する。
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及び平均重合度Pn=31の5.4gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、炭酸ジフェニル中のテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルヒドリドボレート、P(C6H5)4B(C6H5)4の1%のマスターバッチの0.3gを添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を250℃に上げる。1時間後に真空を10mbarまで改善する。真空を0.5mbarまで下げそして温度を280℃まで上げることによって重縮合を達成する。
比較的大きなシロキサンドメインを有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる、図2を参照せよ。相対溶液粘度は1,280(ジクロロメタン、25℃、5g/l)である。ポリカーボネートのフェノール性OH価は200ppmである。
図2は、比較実施例1cの未処理の極めて薄い切片のTEM顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインは、約0.02〜>2μmの範囲の径を有する黒い粒子として見ることができる(HAAN059)。
実施例2
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及び5.4gのビスフェノールA末端停止ポリジメチルシロキサンを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及び5.4gのビスフェノールA末端停止ポリジメチルシロキサンを、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。
真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。
次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3)B(C6H5)4、(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を約50分以内に180〜190℃に上げ、そして次に更に2時間でゆっくりと250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱することによって、1,287(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。
図3は、実施例2の未処理の極めて薄い切片のTEM顕微鏡写真を示す。シロキサンドメインの径は約0.02〜0.72μmの範囲である。シロキサンドメインの分布は非常に均一である(HAAN114/2)。
実施例3
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及びn=7、m=6を有する式(IIIa)
102.7g(0.45モル)のビスフェノールA、100g(0.467モル)の炭酸ジフェニル、及びn=7、m=6を有する式(IIIa)
5.4gのシロキサン[これの製造は、Ullmanns Encyklopaedie
der technischen Chemie、15巻、1964、第三版、769頁以降中に述べられていて、そしてTegomer H−Si 2111としてTh.Goldschmidtから商業的に入手できる]を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。
der technischen Chemie、15巻、1964、第三版、769頁以降中に述べられていて、そしてTegomer H−Si 2111としてTh.Goldschmidtから商業的に入手できる]を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された)を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。
真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによって装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を150℃に加熱する。次に、0.13gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3)B(C6H5)4、(ビスフェノールAに対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。同時に温度を約50分以内に180〜190℃に上げ、そして次に更に2時間でゆっくりと250℃まで上げる。次に、真空を段階的に1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱することによって、1,268(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。
実施例4
100gのオリゴカーボネート(相対溶液粘度:1.147、フェノール性末端基43%、約0.025モルのOH)、117.8g(0.55モル)の炭酸ジフェニル、及びPn=31の平均重合度Pnを有する5.0gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによ
って装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を250℃の温度に加熱する。次に、0.008gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3B(C6H5)4、(オリゴフェノールのフェノール性末端基に対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。約60分にわたって段階的に真空を10mbarまでそして次に更に10分にわたって0.1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱しそして引き続いて2時間の間0.1mbarで300℃に加熱することによって、>50ppmのブロックコポリカーボネートのフェノール性末端基の値を有する1.404(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。
100gのオリゴカーボネート(相対溶液粘度:1.147、フェノール性末端基43%、約0.025モルのOH)、117.8g(0.55モル)の炭酸ジフェニル、及びPn=31の平均重合度Pnを有する5.0gのα,ω−ビスアセトキシジメチルポリシロキサン(ビスフェノールAに対して5重量%)を、撹拌機、内部温度計及びブリッジ片を有するVigreux塔(30cm、写された(mirrored))を有する500mlの三ッ口フラスコ中に量り込む。真空を施しそして窒素でパージ(3回)することによ
って装置から大気中の酸素を排除し、そして混合物を250℃の温度に加熱する。次に、0.008gのセチルトリメチルアンモニウムテトラフェニルヒドリドボレート(CH3(CH2)15N(CH3)3B(C6H5)4、(オリゴフェノールのフェノール性末端基に対して0.05モル%)を添加し、そして生成するフェノールを100mbarで留去する。約60分にわたって段階的に真空を10mbarまでそして次に更に10分にわたって0.1mbarまで改善し、そして温度を280℃まで上げる。主な量のフェノールが除去されるのはまさにこの点においてである。280℃及び0.1mbarで1.5時間更に加熱しそして引き続いて2時間の間0.1mbarで300℃に加熱することによって、>50ppmのブロックコポリカーボネートのフェノール性末端基の値を有する1.404(ジクロロメタン、25℃、5g/l)の相対溶液粘度を有する、薄い色の溶媒を含まないポリカーボネートが得られる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1. 触媒の存在下で80℃〜320℃の温度及び1000mbar〜0.01mbarの圧力で、Siを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、18000〜60000の平均分子量Mw(重量平均、ゲルクロマトグラフィーによって測定して)を有する熱可塑性ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法であって、
使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)
使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)
[式中、
R1〜R4は、同一の又は異なるC1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリール又はC5〜C6−シクロアルキルであり、ここで
R1〜R4の少なくとも一つは、C8〜C30−アルキルであり、そして
X-は、対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKbを有するアニオンである]
の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、
そして
使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%の重量のα,ω−ビスヒドロキシアリール−、α,ω−ビスヒドロキシアルキル−、α,ω−ビスアシル−、又はα,ω−ビスヒドロキシアシル−ポリジオルガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法。
R1〜R4は、同一の又は異なるC1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリール又はC5〜C6−シクロアルキルであり、ここで
R1〜R4の少なくとも一つは、C8〜C30−アルキルであり、そして
X-は、対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKbを有するアニオンである]
の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、
そして
使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%の重量のα,ω−ビスヒドロキシアリール−、α,ω−ビスヒドロキシアルキル−、α,ω−ビスアシル−、又はα,ω−ビスヒドロキシアシル−ポリジオルガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法。
2. R1〜R4の少なくとも一つの残基がC12〜C20−アルキルであることを特徴とする、上記1記載の方法。
3. α,ω−ビスヒドロキシアリールオキシ−、α,ω−ビスヒドロキシアルコキシ−、α,ω−(ビスヒドロキシカプロラクトン)−又はα,ω−ビスアセトキシポリジオルガノシロキサンを、ポリジオルガノシロキサン成分として使用することを特徴とする、
上記1記載の方法。
上記1記載の方法。
4. 使用するポリジオルガノシロキサン成分が、式(III)
[式中、
Rは、6〜30個の炭素原子を有する単環又は多環アリーレン残基、又は1〜30個の炭素原子若しくは3〜30個の炭素原子を有する線状の又は分岐したアルキレン残基であり、
R1及びR2は、同一又は異なっていてそして線状アルキル、分岐したアルキル、ハロゲン化された線状アルキル、ハロゲン化された分岐したアルキル、アリール又はハロゲン化アリールであり、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+p+qは、5〜100である]
のものであることを特徴とする上記1記載の方法。
Rは、6〜30個の炭素原子を有する単環又は多環アリーレン残基、又は1〜30個の炭素原子若しくは3〜30個の炭素原子を有する線状の又は分岐したアルキレン残基であり、
R1及びR2は、同一又は異なっていてそして線状アルキル、分岐したアルキル、ハロゲン化された線状アルキル、ハロゲン化された分岐したアルキル、アリール又はハロゲン化アリールであり、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+p+qは、5〜100である]
のものであることを特徴とする上記1記載の方法。
5. 使用するポリジオルガノシロキサン成分が、式(IV)
[式中、
R1及びR2は、上記4において式(III)のために述べた意味を有し、
R3は、線状アルキレン、分岐したアルキレン、ハロゲン化された線状アルキレン、ハロゲン化された分岐したアルキレン又はアリーレンであり、そして
“n”は、5〜100であり、そして
“m”は、1〜10である]
のものであることを特徴とする上記1記載の方法。
R1及びR2は、上記4において式(III)のために述べた意味を有し、
R3は、線状アルキレン、分岐したアルキレン、ハロゲン化された線状アルキレン、ハロゲン化された分岐したアルキレン又はアリーレンであり、そして
“n”は、5〜100であり、そして
“m”は、1〜10である]
のものであることを特徴とする上記1記載の方法。
6. 使用するポリジオルガノシロキサン成分が、式(V)
[式中、
R1及びR2は、上記4において式(III)のために述べた意味を有し、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+pは、5〜100である]のもので
あることを特徴とする上記1記載の方法。
R1及びR2は、上記4において式(III)のために述べた意味を有し、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+pは、5〜100である]のもので
あることを特徴とする上記1記載の方法。
7. 大きな外部自動車部品、屋外で使用する配電箱及び保護ヘルメットの製造のための、上記1から6のいずれか一つに記載に従って得られるポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーの使用。
Claims (2)
- 触媒の存在下で80℃〜320℃の温度及び1000mbar〜0.01mbarの圧力で、Siを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、18000〜60000の平均分子量Mw(重量平均、ゲルクロマトグラフィーによって測定して)を有する熱可塑性ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを溶融重合反応によって製造する方法であって、
使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)
R1〜R4は、同一の又は異なるC1〜C30−アルキル、C6〜C10−アリール又はC5〜C6−シクロアルキルであり、ここで
R1〜R4の少なくとも一つは、C8〜C30−アルキルであり、そして
X-は、対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKbを有するアニオンである]
の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、
そして
使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の重量の、式(III)
Rは、6〜30個の炭素原子を有する単環又は多環アリーレン残基、又は1〜30個の炭素原子を有する線状のアルキレン残基若しくは3〜30個の炭素原子を有する分岐したアルキレン残基であり、
R1及びR2は、同一又は異なっていてそして線状アルキル、分岐したアルキル、ハロゲン化された線状アルキル、ハロゲン化された分岐したアルキル、アリール又はハロゲン化アリールであり、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+p+qは、5〜100である]、式(IV)
R1及びR2は、上記において式(III)のために述べた意味を有し、
R3は、線状アルキレン、分岐したアルキレン、ハロゲン化された線状アルキレン、ハロゲン化された分岐したアルキレン又はアリーレンであり、そして
“n”は、5〜100であり、そして
“m”は、1〜10である]
または、式(V)
R1及びR2は、上記において式(III)のために述べた意味を有し、そして
ジオルガノシロキサン単位の和、即ち“n”=o+pは、5〜100である]
のポリジオルガノシロキサンを含んでなることを特徴とする上記方法。 - 自動車、配電箱または保護ヘルメットに取り付けられる部品の製造のための、請求項1の記載に従って得られるポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーの使用。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19539290A DE19539290A1 (de) | 1995-10-23 | 1995-10-23 | Verfahren zur Herstellung von Poly-(diorganosiloxan)-Polycarbonat-Blockcopolymeren |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8297821A Division JPH09124795A (ja) | 1995-10-23 | 1996-10-21 | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008248262A true JP2008248262A (ja) | 2008-10-16 |
Family
ID=7775470
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8297821A Withdrawn JPH09124795A (ja) | 1995-10-23 | 1996-10-21 | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
JP2008184902A Pending JP2008248262A (ja) | 1995-10-23 | 2008-07-16 | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8297821A Withdrawn JPH09124795A (ja) | 1995-10-23 | 1996-10-21 | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5783651A (ja) |
EP (1) | EP0770636B1 (ja) |
JP (2) | JPH09124795A (ja) |
DE (2) | DE19539290A1 (ja) |
ES (1) | ES2145959T3 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011013846A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 帝人化成株式会社 | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体 |
JP2011046911A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-03-10 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体、成形品およびその製造方法 |
JP2011102364A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Teijin Chem Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
JP2016509106A (ja) * | 2013-09-17 | 2016-03-24 | エルジー・ケム・リミテッド | コポリカーボネート樹脂およびこれを含む物品 |
JP2016532734A (ja) * | 2013-10-08 | 2016-10-20 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物を調製する方法 |
JP2017501256A (ja) * | 2014-12-04 | 2017-01-12 | エルジー・ケム・リミテッド | コポリカーボネート樹脂組成物 |
US9732186B2 (en) | 2014-09-05 | 2017-08-15 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US9969841B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-05-15 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
WO2021112259A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート-ポリオルガノシロキサン共重合体及び該共重合体を含む樹脂組成物 |
EP3957674A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
EP3957673A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
EP3957672A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
KR20220112765A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-11 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
KR20220113692A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19539290A1 (de) * | 1995-10-23 | 1997-04-24 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Poly-(diorganosiloxan)-Polycarbonat-Blockcopolymeren |
JP3900541B2 (ja) * | 1996-08-21 | 2007-04-04 | 株式会社カネカ | シロキサン系共重合体の製造方法、およびその製造方法により得られるシロキサン系共重合体を含有する樹脂組成物 |
US6066700A (en) * | 1997-03-12 | 2000-05-23 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the production of polysiloxane/polycarbonate block co-condensation products |
DE19710081A1 (de) * | 1997-03-12 | 1998-09-17 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Polysiloxan-Polysiloxan-Polycarbonat-Blockcokondensaten |
CA2312370C (en) * | 1998-10-13 | 2009-05-19 | Gambro Ab | Biocompatible polymer film |
US6252013B1 (en) | 2000-01-18 | 2001-06-26 | General Electric Company | Method for making siloxane copolycarbonates |
DE10059454A1 (de) * | 2000-11-30 | 2002-06-20 | Goldschmidt Ag Th | Siloxan-modifizierte Polyolefine und deren Verwendung als Additive für Polymerformulierungen |
DE10151847A1 (de) * | 2001-10-24 | 2003-05-08 | Bayer Ag | Laserabsorbierende russarme Formmassen |
DE10231334A1 (de) * | 2002-07-11 | 2004-01-22 | Bayer Ag | Mit polymeren Phosphorigsäureestern stabilisierte Thermoplaste |
KR101102637B1 (ko) * | 2003-02-21 | 2012-01-04 | 사빅 이노베이티브 플라스틱스 아이피 비.브이. | 투명 및 고내열성 폴리카보네이트-폴리실록세인 공중합체, 폴리카보네이트와 이의 투명 블렌드 및 이들의 제조방법 |
MY145980A (en) * | 2003-03-26 | 2012-05-31 | Sigmakalon Services B V | Process for the preparation of poly(silyl esters)s, and their uses |
US6969745B1 (en) * | 2004-06-30 | 2005-11-29 | General Electric Company | Thermoplastic compositions |
US7390602B2 (en) * | 2005-04-11 | 2008-06-24 | Lexmark International, Inc | Photoconductor with protective overcoat |
US7358017B2 (en) | 2005-06-03 | 2008-04-15 | Lexmark International, Inc. | Photoconductor with ceramer overcoat |
JP5503869B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2014-05-28 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 表面改質剤としてのシリコン含有基を末端に有するオリゴ−及びポリ−カーボネート |
DE102007061875A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Bayer Materialscience Ag | Siloxanhaltige Bindemitteldispersionen |
DE102007061760A1 (de) | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Bayer Materialscience Ag | Flammgeschützte schlagzähmodifizierte Polyalkylenterephthalat/Polycarbonat-Zusammensetzungen |
DE102008016260A1 (de) | 2008-03-29 | 2009-10-01 | Bayer Materialscience Ag | Schlagzähmodifizierte Polyalkylenterephthalat/Polycarbonat-Zusammensetzungen |
DE102010013991A1 (de) | 2010-04-07 | 2011-10-13 | Bayer Materialscience Ag | Flammgeschützte Polycarbonat-Zusammensetzungen |
WO2012158767A1 (en) | 2011-05-17 | 2012-11-22 | Momentive Performance Materials Gmbh | Polysiloxane-polyorgano block copolymers |
JP6250632B2 (ja) | 2012-04-10 | 2017-12-20 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ゲーエムベーハー | 制御された構造の官能性シロキサンを製造するためのプロセス |
JP6026946B2 (ja) | 2013-04-19 | 2016-11-16 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 |
JP6621739B2 (ja) * | 2013-10-08 | 2019-12-18 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | 弱酸の塩を用いてポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物を調製する方法 |
EP3055341B1 (en) | 2013-10-08 | 2019-10-02 | Covestro Deutschland AG | Preparation of siloxane-containing block copolycarbonates by means of reactive extrusion |
JP6728038B2 (ja) * | 2013-10-08 | 2020-07-22 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ゲーエムベーハー | 反応性官能性シロキサン組成物 |
EP3099731B1 (en) * | 2014-01-30 | 2017-11-22 | Covestro Deutschland AG | Polysiloxane-polycarbonate block cocondensates with improved rheological properties |
JP2017520663A (ja) * | 2014-07-03 | 2017-07-27 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | エステル官能性ポリシロキサンおよびそれから作られるコポリマー |
EP3020752A1 (de) | 2014-11-17 | 2016-05-18 | LANXESS Deutschland GmbH | Flammgeschützte Faser-Matrix-Halbzeuge |
CN107428926B (zh) * | 2015-04-07 | 2021-02-09 | 科思创德国股份有限公司 | 聚硅氧烷和基于二羟基二苯基环烷烃的(共)聚碳酸酯的嵌段共缩合物 |
US11161938B2 (en) | 2016-12-19 | 2021-11-02 | Covestro Deutschland Ag | Production of siloxane-containing block copolycarbonates by means of compatibilizers |
WO2020187704A1 (de) | 2019-03-15 | 2020-09-24 | Lanxess Deutschland Gmbh | Hochvoltkomponenten |
EP3792303A1 (de) | 2019-09-10 | 2021-03-17 | LANXESS Deutschland GmbH | Hochvoltkomponenten |
EP3868818A1 (de) | 2020-02-19 | 2021-08-25 | LANXESS Deutschland GmbH | Hochvoltkomponenten |
EP4074718A1 (de) | 2021-04-15 | 2022-10-19 | LANXESS Deutschland GmbH | Stabilisatoren für polymere |
US20240279392A1 (en) * | 2021-06-09 | 2024-08-22 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonate resin composition and molded article |
KR20240017830A (ko) * | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
JPWO2022260075A1 (ja) * | 2021-06-09 | 2022-12-15 | ||
DE112022002972T5 (de) * | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-Harzzusammensetzung und Formkörper |
EP4124632A1 (de) * | 2021-07-27 | 2023-02-01 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur herstellung eines polysiloxan-polycarbonat-blockcopolymers |
EP4377376A1 (de) | 2021-07-27 | 2024-06-05 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur herstellung eines polysiloxan-polycarbonat-blockcopolymers unter verwendung mindestens eines spezial-kondensationsreaktors |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3419634A (en) * | 1966-01-03 | 1968-12-31 | Gen Electric | Organopolysiloxane polycarbonate block copolymers |
JPH04234050A (ja) * | 1990-07-02 | 1992-08-21 | Xerox Corp | ポリカーボネートバインダーを有する光伝導性画像形成部材 |
JPH073006A (ja) * | 1993-05-04 | 1995-01-06 | General Electric Co <Ge> | 溶媒を使用しないでポリカーボネート‐オリゴマーを製造する方法 |
JPH07145234A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートの製造法 |
JPH07173276A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート系樹脂、その製造方法及び樹脂組成物 |
JPH07216080A (ja) * | 1994-01-27 | 1995-08-15 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサントリブロック共重合体及びそれを含有する樹脂組成物 |
JPH07258402A (ja) * | 1994-03-24 | 1995-10-09 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート系樹脂、その製造方法及び樹脂組成物 |
JPH08311206A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-11-26 | General Electric Co <Ge> | ブロックコポリシロキサンカーボネートの製法 |
JPH09124795A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-13 | Bayer Ag | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3334782A1 (de) * | 1983-04-19 | 1984-10-25 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von polydiorganosiloxanen mit hydroxyaryloxy-endgruppen |
DE3926850A1 (de) * | 1989-08-15 | 1991-02-21 | Bayer Ag | Polysiloxan-polycarbonat-blockcopolymere auf basis spezieller dihydroxydphenylcycloalkane |
US5227449A (en) * | 1990-07-02 | 1993-07-13 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with polycarbonate binders |
EP0667366B1 (en) * | 1994-02-10 | 2002-06-26 | Teijin Limited | Process for the production of aromatic polycarbonate |
-
1995
- 1995-10-23 DE DE19539290A patent/DE19539290A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-10-10 ES ES96116213T patent/ES2145959T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-10 EP EP96116213A patent/EP0770636B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-10 DE DE59605174T patent/DE59605174D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-15 US US08/730,105 patent/US5783651A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-21 JP JP8297821A patent/JPH09124795A/ja not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-07-16 JP JP2008184902A patent/JP2008248262A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3419634A (en) * | 1966-01-03 | 1968-12-31 | Gen Electric | Organopolysiloxane polycarbonate block copolymers |
JPH04234050A (ja) * | 1990-07-02 | 1992-08-21 | Xerox Corp | ポリカーボネートバインダーを有する光伝導性画像形成部材 |
JPH073006A (ja) * | 1993-05-04 | 1995-01-06 | General Electric Co <Ge> | 溶媒を使用しないでポリカーボネート‐オリゴマーを製造する方法 |
JPH07145234A (ja) * | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートの製造法 |
JPH07173276A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート系樹脂、その製造方法及び樹脂組成物 |
JPH07216080A (ja) * | 1994-01-27 | 1995-08-15 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサントリブロック共重合体及びそれを含有する樹脂組成物 |
JPH07258402A (ja) * | 1994-03-24 | 1995-10-09 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリカーボネート系樹脂、その製造方法及び樹脂組成物 |
JPH08311206A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-11-26 | General Electric Co <Ge> | ブロックコポリシロキサンカーボネートの製法 |
JPH09124795A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-13 | Bayer Ag | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 |
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011046911A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-03-10 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体、成形品およびその製造方法 |
JP2011046913A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-03-10 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体 |
US8962780B2 (en) | 2009-07-29 | 2015-02-24 | Teijin Chemicals, Ltd. | Polycarbonate-polydiorganosiloxane copolymer |
WO2011013846A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 帝人化成株式会社 | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体 |
JP2011102364A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Teijin Chem Ltd | 熱可塑性樹脂組成物 |
JP2016509106A (ja) * | 2013-09-17 | 2016-03-24 | エルジー・ケム・リミテッド | コポリカーボネート樹脂およびこれを含む物品 |
JP2016532734A (ja) * | 2013-10-08 | 2016-10-20 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | ポリシロキサン−ポリカーボネートブロック共縮合物を調製する方法 |
US9732186B2 (en) | 2014-09-05 | 2017-08-15 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US9745418B2 (en) | 2014-09-05 | 2017-08-29 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US9809677B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-11-07 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate composition and article comprising the same |
US10081730B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-09-25 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate-based resin composition and molded article thereof |
US9580597B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-02-28 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate composition and article comprising the same |
US9745417B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-08-29 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US9745466B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-08-29 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition containing the same |
US9751979B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-09-05 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition containing the same |
US9777112B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-10-03 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate resin composition |
JP2017501256A (ja) * | 2014-12-04 | 2017-01-12 | エルジー・ケム・リミテッド | コポリカーボネート樹脂組成物 |
US9840585B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-12-12 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate resin composition |
US9868818B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-01-16 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition containing the same |
US9902853B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-02-27 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US9969841B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-05-15 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US10011716B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-07-03 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate composition and article containing the same |
US9718958B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-08-01 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition containing the same |
US10174194B2 (en) | 2014-12-04 | 2019-01-08 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate and composition comprising the same |
US10196516B2 (en) | 2014-12-04 | 2019-02-05 | Lg Chem, Ltd. | Copolycarbonate resin composition and article including the same |
US10240037B2 (en) | 2014-12-04 | 2019-03-26 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate-based resin composition and molded article thereof |
US10240038B2 (en) | 2014-12-04 | 2019-03-26 | Lg Chem, Ltd. | Flame resistant polycarbate based resin composition and molded articles thereof |
US10294365B2 (en) | 2014-12-04 | 2019-05-21 | Lg Chem, Ltd. | Polycarbonate-based resin composition and molded article thereof |
WO2021112259A1 (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート-ポリオルガノシロキサン共重合体及び該共重合体を含む樹脂組成物 |
KR20220112765A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-11 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
KR20220113691A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
KR20220113692A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
EP3957674A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
EP3957673A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
EP3957672A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09124795A (ja) | 1997-05-13 |
DE19539290A1 (de) | 1997-04-24 |
EP0770636A3 (de) | 1997-11-05 |
US5783651A (en) | 1998-07-21 |
ES2145959T3 (es) | 2000-07-16 |
DE59605174D1 (de) | 2000-06-15 |
EP0770636B1 (de) | 2000-05-10 |
EP0770636A2 (de) | 1997-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008248262A (ja) | ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法 | |
TWI586701B (zh) | 共聚碳酸酯及包含彼之組成物 | |
US6740730B1 (en) | Polycarbonate and molded polycarbonate articles | |
EP0719812B1 (en) | Copolycarbonate | |
KR101538207B1 (ko) | 폴리실록산계 코폴리카보네이트의 제조방법 | |
US9267034B2 (en) | Polyorganosiloxane compound, method for preparing the same, and copolycarbonate resin comprising the same | |
JPH10251408A (ja) | ポリシロキサン/ポリカーボネートブロツク共縮合生成物の製造方法 | |
TW202130711A (zh) | 聚碳酸酯–聚有機矽氧烷共聚物及包含該共聚物之樹脂組合物 | |
AU2010241359A1 (en) | Copolycarbonate compositions having improved thermal properties and based on blends | |
JP2018530663A (ja) | 透明性及び難燃性が向上されたポリシロキサン−ポリカーボネート共重合体及びその製造方法 | |
TWI738059B (zh) | 具有優異抗衝擊性、阻燃性及透光度之聚矽氧烷-聚碳酸酯共聚物及製備該共聚物之方法 | |
TW201439195A (zh) | 芳香族聚碳酸酯樹脂組成物 | |
US5391691A (en) | Process for producing aromatic polycarbonate | |
JP3866934B2 (ja) | 光学用ポリカーボネートおよびその用途 | |
KR20060052401A (ko) | 분지형 폴리카르보네이트 | |
US5670605A (en) | Copolycarbonate, a copolycarbonate composition, and a method for their manufacture | |
JP4137278B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物 | |
JPH09265663A (ja) | デジタルビデオディスク基板 | |
TWI709596B (zh) | 共聚碳酸酯及含彼的組成物 | |
JP5337365B2 (ja) | 樹脂スタンパ用芳香族ポリカーボネート樹脂組成物、樹脂スタンパの製造方法および樹脂スタンパ | |
JP3329423B2 (ja) | 熱可塑性ポリカーボネートの製造方法 | |
KR20110087306A (ko) | 개선된 표면 경도를 갖는 코폴리카르보네이트 | |
TW202313798A (zh) | 聚碳酸酯系樹脂組合物及成形體 | |
JP2002348368A (ja) | 光学用ポリカーボネートおよびその用途 | |
JPH1171454A (ja) | ポリカーボネートの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120313 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130723 |