JPH10251408A - ポリシロキサン／ポリカーボネートブロツク共縮合生成物の製造方法 - Google Patents
ポリシロキサン／ポリカーボネートブロツク共縮合生成物の製造方法Info
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- JPH10251408A JPH10251408A JP10071213A JP7121398A JPH10251408A JP H10251408 A JPH10251408 A JP H10251408A JP 10071213 A JP10071213 A JP 10071213A JP 7121398 A JP7121398 A JP 7121398A JP H10251408 A JPH10251408 A JP H10251408A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/18—Block or graft polymers
- C08G64/186—Block or graft polymers containing polysiloxane sequences
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
- C08G77/448—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、ポリシロキサン／ポリカー
ボネートブロック共重合体を、溶融エステル交換法によ
って即ち有機溶媒を使用しないで得る方法であって、シ
ロキサンブロックが大部分ＰＣマトリックス内部に均一
に分布している、機械的物性に優れた共重合体を得る方
法を提供することである。 【解決手段】 （ａ）ヒドロキシアリールオキシ停止の
ジメチルシロキサンと（ｂ）オリゴカーボネートとを、
温度２５０〜３２０℃及び圧力０．０１〜１００ミリバ
ールでの溶融状態で反応させることを包含する方法が開
示される。該オリゴカーボネートは、重量平均分子量が
３０００〜２４０００でありそしてＯＨ末端基とアリー
ル末端基のモル比が１０：９０〜７０：３０であること
を特徴とする。本発明の方法における該（ａ）と該
（ｂ）の重量比は、１：９９と４０：６０の間である。
本方法によって製造される生成物も開示される。
ボネートブロック共重合体を、溶融エステル交換法によ
って即ち有機溶媒を使用しないで得る方法であって、シ
ロキサンブロックが大部分ＰＣマトリックス内部に均一
に分布している、機械的物性に優れた共重合体を得る方
法を提供することである。 【解決手段】 （ａ）ヒドロキシアリールオキシ停止の
ジメチルシロキサンと（ｂ）オリゴカーボネートとを、
温度２５０〜３２０℃及び圧力０．０１〜１００ミリバ
ールでの溶融状態で反応させることを包含する方法が開
示される。該オリゴカーボネートは、重量平均分子量が
３０００〜２４０００でありそしてＯＨ末端基とアリー
ル末端基のモル比が１０：９０〜７０：３０であること
を特徴とする。本発明の方法における該（ａ）と該
（ｂ）の重量比は、１：９９と４０：６０の間である。
本方法によって製造される生成物も開示される。
Description
【０００１】本発明は、ポリシロキサン／ポリカーボネ
ートブロック共縮合生成物を、フェノール系化合物とジ
アリールカーボネートから、温度２５０〜３２０℃、好
ましくは２８０〜３００℃、及び圧力０．０１〜１００
ミリバールでの溶融状態で、任意に触媒の存在下で、製
造する方法であって、使用されるフェノール系化合物が
ヒドロキシアリールオキシ停止のジメチルシロキサン(h
ydroxyaryloxy-terminated dimethylsiloxane)であ
り、そして、ジアリールカーボネートの代わりに、ジフ
ェノールから製造される、平均分子量Ｍｗ（ＣＨ2Ｃｌ2
中の相対溶液粘度を既知の方法で測定することによって
定量する重量平均分子量、定量の際キャリブレーション
(calibration)は光散乱法を用いて行う）が３０００〜
２４０００、好ましくは５０００〜１５０００であり、
末端基のＯＨ／アリール比が１０：９０〜７０：３０、
好ましくは２０：８０〜６０：４０であるオリゴカーボ
ネート(oligocarbonate)が使用され、ヒドロキシアリー
ルオキシ停止のジメチルシロキサンとオリゴカーボネー
トとの重量比が１：９９と４０：６０の間、好ましくは
３：９７と３０：７０の間であることを特徴とする方法
を提供する。
ートブロック共縮合生成物を、フェノール系化合物とジ
アリールカーボネートから、温度２５０〜３２０℃、好
ましくは２８０〜３００℃、及び圧力０．０１〜１００
ミリバールでの溶融状態で、任意に触媒の存在下で、製
造する方法であって、使用されるフェノール系化合物が
ヒドロキシアリールオキシ停止のジメチルシロキサン(h
ydroxyaryloxy-terminated dimethylsiloxane)であ
り、そして、ジアリールカーボネートの代わりに、ジフ
ェノールから製造される、平均分子量Ｍｗ（ＣＨ2Ｃｌ2
中の相対溶液粘度を既知の方法で測定することによって
定量する重量平均分子量、定量の際キャリブレーション
(calibration)は光散乱法を用いて行う）が３０００〜
２４０００、好ましくは５０００〜１５０００であり、
末端基のＯＨ／アリール比が１０：９０〜７０：３０、
好ましくは２０：８０〜６０：４０であるオリゴカーボ
ネート(oligocarbonate)が使用され、ヒドロキシアリー
ルオキシ停止のジメチルシロキサンとオリゴカーボネー
トとの重量比が１：９９と４０：６０の間、好ましくは
３：９７と３０：７０の間であることを特徴とする方法
を提供する。
【０００２】本発明に従って使用されるオリゴカーボネ
ートは、そのものを反応に導入してもよいし本発明に従
う反応前にその場で生成させてもよい。
ートは、そのものを反応に導入してもよいし本発明に従
う反応前にその場で生成させてもよい。
【０００３】本発明に従って得られるポリシロキサン／
ポリカーボネートブロック共縮合生成物は、特に、改良
された低温衝撃強度、改良されたＥＳＣ（環境応力亀
裂）挙動および改良された流動特性を示す。
ポリカーボネートブロック共縮合生成物は、特に、改良
された低温衝撃強度、改良されたＥＳＣ（環境応力亀
裂）挙動および改良された流動特性を示す。
【０００４】本発明は、従って、本発明の方法を用いて
得られるポリシロキサン／ポリカーボネートブロック共
縮合生成物をも提供する。
得られるポリシロキサン／ポリカーボネートブロック共
縮合生成物をも提供する。
【０００５】界面法(phase interface process)を用
いるポリシロキサンカーボネートブロック共重合体の製
造は文献に既知であり、例えば J.S. Patent 3,189,66
2、U.S. Patent 3,419,634、DE-OS 3 34-782（LeA 22,5
94）及びEP 0 122 535（LeA 22,594-EP）に記載されて
いる。
いるポリシロキサンカーボネートブロック共重合体の製
造は文献に既知であり、例えば J.S. Patent 3,189,66
2、U.S. Patent 3,419,634、DE-OS 3 34-782（LeA 22,5
94）及びEP 0 122 535（LeA 22,594-EP）に記載されて
いる。
【０００６】米国特許第５，２２７，４４９号は、ビス
フェノール、ジアリールカーボネート、シラノール末端
停止ポリシロキサン及び触媒からの溶融エステル交換法
を用いるポリシロキサン−カーボネートブロック共重合
体の製造について記述している。この方法で用いられる
シロキサン化合物は、シラノール末端基を持つポリジフ
ェニルシロキサン又はポリジメチルシロキサンテロマー
である。しかしながら、シラノール末端基を持つそのよ
うなジメチルシロキサンは、シラノール末端基を持つジ
フェニルシロキサンとは異なり、鎖長が減少するにつれ
分子内縮合を起こす傾向が増大するので共重合体を形成
することがより困難になることが知られている。この様
にして生成する環状シロキサンは、重合体中に残留し、
電気／電子部門の用途において非常に悪影響を及ぼす。
フェノール、ジアリールカーボネート、シラノール末端
停止ポリシロキサン及び触媒からの溶融エステル交換法
を用いるポリシロキサン−カーボネートブロック共重合
体の製造について記述している。この方法で用いられる
シロキサン化合物は、シラノール末端基を持つポリジフ
ェニルシロキサン又はポリジメチルシロキサンテロマー
である。しかしながら、シラノール末端基を持つそのよ
うなジメチルシロキサンは、シラノール末端基を持つジ
フェニルシロキサンとは異なり、鎖長が減少するにつれ
分子内縮合を起こす傾向が増大するので共重合体を形成
することがより困難になることが知られている。この様
にして生成する環状シロキサンは、重合体中に残留し、
電気／電子部門の用途において非常に悪影響を及ぼす。
【０００７】米国特許第５，５０４，１７７号は、カー
ボネート停止のシリコーンとビスフェノール及びジアリ
ールカーボネートからの、溶融エステル交換によるシロ
キサンカーボネートブロック共重合体の製造について記
述している。シロキサンのビスフェノール及びジアリー
ルカーボネートとの相溶性が悪いために、溶融エステル
交換法を用いてシロキサンをポリカーボネートのマトリ
ックス中に均一に混入させることは不可能であり、これ
らの生成物が層間剥離を起こす。もう一つの不利益な点
は、シロキサンブロックを調製するための厄介な２段工
程である。
ボネート停止のシリコーンとビスフェノール及びジアリ
ールカーボネートからの、溶融エステル交換によるシロ
キサンカーボネートブロック共重合体の製造について記
述している。シロキサンのビスフェノール及びジアリー
ルカーボネートとの相溶性が悪いために、溶融エステル
交換法を用いてシロキサンをポリカーボネートのマトリ
ックス中に均一に混入させることは不可能であり、これ
らの生成物が層間剥離を起こす。もう一つの不利益な点
は、シロキサンブロックを調製するための厄介な２段工
程である。
【０００８】米国特許第４，９２０，１８３号は、ヒド
ロキシル停止のポリ（アリールカーボネート）オリゴマ
ーと塩素停止のポリジオルガノシロキサンとを酸捕捉剤
の存在下で有機溶媒中で反応させることによるシロキサ
ン／ポリ（アリールカーボネート）ブロック共重合体の
製造について記述している。
ロキシル停止のポリ（アリールカーボネート）オリゴマ
ーと塩素停止のポリジオルガノシロキサンとを酸捕捉剤
の存在下で有機溶媒中で反応させることによるシロキサ
ン／ポリ（アリールカーボネート）ブロック共重合体の
製造について記述している。
【０００９】米国特許第５，３４４，９０８号は、溶融
エステル交換法によって製造したＯＨ停止のＢＰＡオリ
ゴカーボネートを塩素停止のポリオルガノシロキサンと
有機溶媒および酸捕捉剤の存在下で反応させる２段工程
法を用いた、シリコーン／ポリカーボネートブロック共
重合体の製造について記述している。
エステル交換法によって製造したＯＨ停止のＢＰＡオリ
ゴカーボネートを塩素停止のポリオルガノシロキサンと
有機溶媒および酸捕捉剤の存在下で反応させる２段工程
法を用いた、シリコーン／ポリカーボネートブロック共
重合体の製造について記述している。
【００１０】後に述べた２種の方法の不利な点は、シリ
コーン／ポリカーボネートブロック共重合体の合成の少
なくとも一つの段階で有機溶媒を使用することである。
コーン／ポリカーボネートブロック共重合体の合成の少
なくとも一つの段階で有機溶媒を使用することである。
【００１１】従って、目的は、ポリシロキサン／ポリカ
ーボネートブロック共重合体が溶融エステル交換法によ
って即ち有機溶媒を使用しないで得られる方法であっ
て、そこでは、機械的物性の目的のために、シロキサン
ブロックは大部分がＰＣマトリックス内部に均一に分布
するであろう方法を提供することであった。
ーボネートブロック共重合体が溶融エステル交換法によ
って即ち有機溶媒を使用しないで得られる方法であっ
て、そこでは、機械的物性の目的のために、シロキサン
ブロックは大部分がＰＣマトリックス内部に均一に分布
するであろう方法を提供することであった。
【００１２】１９９５年１０月２３日出願の先行ドイツ
特許出願Ｐ１９５３９２９０．６（ＬｅＡ３１，２６
３）も、Ｓｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリール
エステル及びポリジオルガノシロキサンから、特殊な触
媒を使用して、溶融状態でポリ（ジオルガノシロキサ
ン）／ポリカーボネートブロック共重合体を製造する方
法について記述している。
特許出願Ｐ１９５３９２９０．６（ＬｅＡ３１，２６
３）も、Ｓｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリール
エステル及びポリジオルガノシロキサンから、特殊な触
媒を使用して、溶融状態でポリ（ジオルガノシロキサ
ン）／ポリカーボネートブロック共重合体を製造する方
法について記述している。
【００１３】上記の出願の９頁１２〜１３行に、Ｓｉを
含まないジフェノールの代わりにこれらのジフェノール
から製造されたＯＨ基を含有するオリゴカーボネートを
反応させることも可能であると記されている。
含まないジフェノールの代わりにこれらのジフェノール
から製造されたＯＨ基を含有するオリゴカーボネートを
反応させることも可能であると記されている。
【００１４】この先行特許出願はオリゴカーボネートに
関してこれ以上の詳細については何も述べていない。
関してこれ以上の詳細については何も述べていない。
【００１５】ヒドロキシアリールオキシ停止のジメチル
シロキサンは公知である。好ましいヒドロキシアリール
オキシ停止のジメチルシロキサンは、式（１）を有する
ジメチルシロキサンである。
シロキサンは公知である。好ましいヒドロキシアリール
オキシ停止のジメチルシロキサンは、式（１）を有する
ジメチルシロキサンである。
【００１６】
【化３】
【００１７】（式中、ＲはＨ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＣ1〜Ｃ4
アルキル基、好ましくはＨ又はＣＨ3であり、ｚは５〜
１５０、好ましくは７〜８０そして特に１０〜６０の数
である） ジメチルシロキサン（Ｉ）の製造については、例えばＤ
Ｅ３３３４７８２Ａ１に記載されている。
アルキル基、好ましくはＨ又はＣＨ3であり、ｚは５〜
１５０、好ましくは７〜８０そして特に１０〜６０の数
である） ジメチルシロキサン（Ｉ）の製造については、例えばＤ
Ｅ３３３４７８２Ａ１に記載されている。
【００１８】本発明に従って使用される他のヒドロキシ
アリールオキシ停止のジメチルシロキサンの製造も同様
に行われる。
アリールオキシ停止のジメチルシロキサンの製造も同様
に行われる。
【００１９】ジメチルシロキサンは可能な限り最も純度
の高い状態で使用することが、即ちジメチルシロキサン
がアルカリ金属化合物もアルカリ土類金属化合物も実際
上含有しないことが好ましい。
の高い状態で使用することが、即ちジメチルシロキサン
がアルカリ金属化合物もアルカリ土類金属化合物も実際
上含有しないことが好ましい。
【００２０】ジフェノールから製造されるオリゴカーボ
ネートは既知である。好ましいオリゴカーボネートは、
式（ＩＩ）を有するオリゴカーボネートである。
ネートは既知である。好ましいオリゴカーボネートは、
式（ＩＩ）を有するオリゴカーボネートである。
【００２１】
【化４】
【００２２】（式中、Ｚは６〜３０個の炭素原子を有す
る、単環でも多環でもよく、ヘテロ原子を含有すること
もできそしてハロゲン例えばＣｌ、Ｂｒで又はＣ1〜Ｃ3
アルキル基で置換されていてもよいアリーレン残基であ
り、ＡｒはＣ6〜Ｃ14アリール基、好ましくはフェニ
ル、ハロゲン化フェニル又はアル キルフェニルであ
り、そしてｐは５〜３００、好ましくは１０〜１５０で
あり、そしてＯＨとＡｒのモル比が１０：９０と７０：
３０の間である。） 式（ＩＩ）を有するオリゴカーボネートは、式（ＩＩ
Ｉ）を有するジヒドロキシ芳香族化合物を ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （III） ジアリールカーボネート（ＩＶ）と
る、単環でも多環でもよく、ヘテロ原子を含有すること
もできそしてハロゲン例えばＣｌ、Ｂｒで又はＣ1〜Ｃ3
アルキル基で置換されていてもよいアリーレン残基であ
り、ＡｒはＣ6〜Ｃ14アリール基、好ましくはフェニ
ル、ハロゲン化フェニル又はアル キルフェニルであ
り、そしてｐは５〜３００、好ましくは１０〜１５０で
あり、そしてＯＨとＡｒのモル比が１０：９０と７０：
３０の間である。） 式（ＩＩ）を有するオリゴカーボネートは、式（ＩＩ
Ｉ）を有するジヒドロキシ芳香族化合物を ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （III） ジアリールカーボネート（ＩＶ）と
【００２３】
【化５】
【００２４】ＤＥ−ＯＳ４２３８１２３（ＬｅＡ２９，
２７５）又は対応するベルギー特許第０９３０１２１６
号又は対応する米国特許第５，３４０，９０５号に記載
の既知の方法で反応させることによって製造することが
出来る。
２７５）又は対応するベルギー特許第０９３０１２１６
号又は対応する米国特許第５，３４０，９０５号に記載
の既知の方法で反応させることによって製造することが
出来る。
【００２５】斯くして、オリゴカーボネート（ＩＩ）
は、例えば、芳香族ジヒドロキシ化合物（ＩＩＩ）をジ
アリールカーボネート（ＩＶ）と、触媒の存在下で、１
００℃と２９０℃の間の、好ましくは１５０℃と２８０
℃の間の温度で、遊離したモノフェノールを１バールと
０．５ミリバールの間の、好ましくは５００ミリバール
と１ミリバールの間で減圧処理することにより除去し
て、エステル交換反応させることにより製造する。
は、例えば、芳香族ジヒドロキシ化合物（ＩＩＩ）をジ
アリールカーボネート（ＩＶ）と、触媒の存在下で、１
００℃と２９０℃の間の、好ましくは１５０℃と２８０
℃の間の温度で、遊離したモノフェノールを１バールと
０．５ミリバールの間の、好ましくは５００ミリバール
と１ミリバールの間で減圧処理することにより除去し
て、エステル交換反応させることにより製造する。
【００２６】得られたオリゴカーボネートは既知の方法
で単離する。
で単離する。
【００２７】本発明に従って使用される他の芳香族オリ
ゴカーボネートは類似の方法で製造する。
ゴカーボネートは類似の方法で製造する。
【００２８】好適な芳香族ジヒドロキシ化合物（ＩＩ
Ｉ）（式中、Ｚは式（ＩＩ）で述べたのと同じ意味であ
る）は、ハイドロキノン、レゾルシノール、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド類、エーテル類、スルホキシド類、スル
ホン類及びα，α−ビス−（ヒドロキシフェニル）ジイ
ソプロピルベンゼン類並びにそれらの環アルキル化及び
環ハロゲン化化合物である。
Ｉ）（式中、Ｚは式（ＩＩ）で述べたのと同じ意味であ
る）は、ハイドロキノン、レゾルシノール、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）スルフィド類、エーテル類、スルホキシド類、スル
ホン類及びα，α−ビス−（ヒドロキシフェニル）ジイ
ソプロピルベンゼン類並びにそれらの環アルキル化及び
環ハロゲン化化合物である。
【００２９】好ましい芳香族ジヒドロキシ化合物（ＩＩ
Ｉ）は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−
ビス−（ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス
−（ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１
−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α
−ビス−（ヒドロキシフェニル）ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、α，α−ビス−（ヒドロキシフェニル）ｍ−ジ
イソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３−クロル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビ
ス−（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス−（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン、２，４−ビス−（３，５ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビ
ス（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、α，α−ビス−（３，５ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，１
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３−メチルシクロヘキサン、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル
シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチルシクロヘキサン、２，２−ビス−
（３，５ジクロル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス−（３，５ジブロム−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
フェニルエタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２，２−ジフェニルエタン、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレンである。
Ｉ）は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−
ビス−（ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス
−（ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１
−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α
−ビス−（ヒドロキシフェニル）ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、α，α−ビス−（ヒドロキシフェニル）ｍ−ジ
イソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（３−クロル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビ
ス−（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス−（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン、２，４−ビス−（３，５ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビ
ス（３，５ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、α，α−ビス−（３，５ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，１
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３−メチルシクロヘキサン、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル
シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−４−メチルシクロヘキサン、２，２−ビス−
（３，５ジクロル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス−（３，５ジブロム−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１−フェニルエタン、２，２−ビス−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
フェニルエタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２，２−ジフェニルエタン、９，９−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−フルオレンである。
【００３０】特に好ましい芳香族ジヒドロキシ化合物
（ＩＩＩ）は、例えば、２，２−ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、ビス−（３，５ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−３−メチルシクロヘキサン、１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘ
キサン、９，９−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
フルオレンである。
（ＩＩＩ）は、例えば、２，２−ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、ビス−（３，５ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−３−メチルシクロヘキサン、１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘ
キサン、９，９−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
フルオレンである。
【００３１】２，２−ビス−（ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン及び１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン
が特別に好ましい。
ロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン及び１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン
が特別に好ましい。
【００３２】個々の芳香族ジヒドロキシ化合物も芳香族
ジヒドロキシ化合物の混合物も本発明で使用されるオリ
ゴカーボネートを製造するために用いることができる。
ジヒドロキシ化合物の混合物も本発明で使用されるオリ
ゴカーボネートを製造するために用いることができる。
【００３３】芳香族ジヒドロキシ化合物特に式（ＩＩ
Ｉ）を有する芳香族ジヒドロキシ化合物は、文献から既
知であるかもしくは文献で既知の方法を用いて製造する
ことができる。（例えば、米国特許第３，０２８，３６
５号およびＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌによる単行本、Chemistr
y & Physics of Polycarbonates, Interscience Publis
hers, New York, 1964参照。） 好適なジアリールカーボネート（ＩＶ）（式中、Ａｒは
式（ＩＩ）で述べたのと同じ意味である）は、ジ−Ｃ6
−Ｃ14−アリールカーボネート、好ましくはフェノー
ル、ハロゲン置換フェノール又はアルキル置換フェノー
ルのジエステル即ちジフェニルカーボネート又はジクレ
ジルカーボネート等である。
Ｉ）を有する芳香族ジヒドロキシ化合物は、文献から既
知であるかもしくは文献で既知の方法を用いて製造する
ことができる。（例えば、米国特許第３，０２８，３６
５号およびＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌによる単行本、Chemistr
y & Physics of Polycarbonates, Interscience Publis
hers, New York, 1964参照。） 好適なジアリールカーボネート（ＩＶ）（式中、Ａｒは
式（ＩＩ）で述べたのと同じ意味である）は、ジ−Ｃ6
−Ｃ14−アリールカーボネート、好ましくはフェノー
ル、ハロゲン置換フェノール又はアルキル置換フェノー
ルのジエステル即ちジフェニルカーボネート又はジクレ
ジルカーボネート等である。
【００３４】ジアリールカーボネート（ＩＶ）は、文献
から既知であるかもしくは文献で既知の方法を用いて製
造することができる。
から既知であるかもしくは文献で既知の方法を用いて製
造することができる。
【００３５】本発明で使用される芳香族オリゴカーボネ
ートの製造に関する更に詳細な事項は、当業者に良く知
られている。従って、ジフェノールのモル当たり１〜３
０モル％過剰の、好ましくは２〜１５％過剰のジアリー
ルカーボネートが使用される。オリゴカーボネートの製
造中の非常に悪影響のある２次反応を避けるためには、
芳香族ジヒドロキシ化合物及びジアリールカーボネート
は可能な限り最も純度の高い状態で使用しなければなら
ない、殊にアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金属イ
オンの含有量は０．１ｐｐｍ未満であるべきである、と
いうことも当業者にとって自明のことである。
ートの製造に関する更に詳細な事項は、当業者に良く知
られている。従って、ジフェノールのモル当たり１〜３
０モル％過剰の、好ましくは２〜１５％過剰のジアリー
ルカーボネートが使用される。オリゴカーボネートの製
造中の非常に悪影響のある２次反応を避けるためには、
芳香族ジヒドロキシ化合物及びジアリールカーボネート
は可能な限り最も純度の高い状態で使用しなければなら
ない、殊にアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金属イ
オンの含有量は０．１ｐｐｍ未満であるべきである、と
いうことも当業者にとって自明のことである。
【００３６】本発明で使用されるオリゴカーボネートの
製造のための好ましい触媒はアンモニウム触媒とホスホ
ニウム触媒であり、例えば、水酸化テトラメチルアンモ
ニウム、酢酸テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラ
メチルアンモニウム、テトラフェニルヒドリド硼酸テト
ラメチルアンモニウム、フッ化テトラフェニルホスホニ
ウム、テトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニルホス
ホニウム、テトラフェニルホスホニウムフェノラート、
水酸化ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラフェニ
ルヒドリド硼酸セチルトリメチルアンモニウム及び、セ
チルトリメチルアンモニウムフェノラートである。
製造のための好ましい触媒はアンモニウム触媒とホスホ
ニウム触媒であり、例えば、水酸化テトラメチルアンモ
ニウム、酢酸テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラ
メチルアンモニウム、テトラフェニルヒドリド硼酸テト
ラメチルアンモニウム、フッ化テトラフェニルホスホニ
ウム、テトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニルホス
ホニウム、テトラフェニルホスホニウムフェノラート、
水酸化ジメチルジフェニルアンモニウム、テトラフェニ
ルヒドリド硼酸セチルトリメチルアンモニウム及び、セ
チルトリメチルアンモニウムフェノラートである。
【００３７】触媒の使用量は、ジフェノールのモル当た
り１０-8〜１０-4モル、好ましくは１０-7〜１０-5モル
である。
り１０-8〜１０-4モル、好ましくは１０-7〜１０-5モル
である。
【００３８】触媒は、単独でも混合物としてでも使用で
きる。またその物質単独として添加することも、溶液と
して、例えば水溶液もしくはフェノール溶液として添加
することもできる。
きる。またその物質単独として添加することも、溶液と
して、例えば水溶液もしくはフェノール溶液として添加
することもできる。
【００３９】本発明の方法のために好適な触媒は、上で
述べた、オリゴカーボネートの製造のための触媒と同じ
であり、その触媒はオリゴカーボネートと共に反応に導
入してもよいし、別に追加して混入してもよい。
述べた、オリゴカーボネートの製造のための触媒と同じ
であり、その触媒はオリゴカーボネートと共に反応に導
入してもよいし、別に追加して混入してもよい。
【００４０】この触媒は、単独でも混合物としてでも使
用できる。またその物質単独として添加することも、溶
液として、例えば水溶液もしくはフェノール溶液として
添加することもできる。
用できる。またその物質単独として添加することも、溶
液として、例えば水溶液もしくはフェノール溶液として
添加することもできる。
【００４１】本発明の方法は、例えば、攪拌糟型反応
器、薄膜蒸発機、一連の攪拌糟型反応器、押出し機、混
練機、単純ディスク(disk)反応器及び高粘度用ディスク
(disk)反応器を用いて、連続的にでもバッチ方式でも実
施することができる。
器、薄膜蒸発機、一連の攪拌糟型反応器、押出し機、混
練機、単純ディスク(disk)反応器及び高粘度用ディスク
(disk)反応器を用いて、連続的にでもバッチ方式でも実
施することができる。
【００４２】本発明の方法を用いて得られるポリシロキ
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物の平均分
子量Ｍｗは、ジクロルメタン中又はフェノール／ｏ−ク
ロルベンゼン同一重量混合物中で相対溶液粘度を測定
し、キャリブレーションを光散乱法で行うことによって
定量して、１８０００〜６００００、好ましくは１９０
００〜４００００である。このことは、好ましくは低分
子量オリゴカーボネートをモノフェノール留出によって
重縮合して比較的低い粘度のポリカーボネートを生成さ
せ、そして比較的高い分子量のオリゴカーボネートを重
縮合して比較的高い粘度のポリカーボネートを生成させ
ることによって達成される。
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物の平均分
子量Ｍｗは、ジクロルメタン中又はフェノール／ｏ−ク
ロルベンゼン同一重量混合物中で相対溶液粘度を測定
し、キャリブレーションを光散乱法で行うことによって
定量して、１８０００〜６００００、好ましくは１９０
００〜４００００である。このことは、好ましくは低分
子量オリゴカーボネートをモノフェノール留出によって
重縮合して比較的低い粘度のポリカーボネートを生成さ
せ、そして比較的高い分子量のオリゴカーボネートを重
縮合して比較的高い粘度のポリカーボネートを生成させ
ることによって達成される。
【００４３】本発明の方法を用いて得られるポリシロキ
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物には、６
重量％迄の量の充填剤や強化材料を添加することができ
る。熱可塑性ポリカーボネートに好適な安定剤（例えば
ＵＶ、熱及びガンマ線に対する）や難燃剤も添加するこ
とができる。その例としては、亜リン酸アルキル、亜リ
ン酸アリール、リン酸アリール、アリールホスホン、低
分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、木炭、シ
リカ粉末、ガラス繊維及び炭素繊維がある。
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物には、６
重量％迄の量の充填剤や強化材料を添加することができ
る。熱可塑性ポリカーボネートに好適な安定剤（例えば
ＵＶ、熱及びガンマ線に対する）や難燃剤も添加するこ
とができる。その例としては、亜リン酸アルキル、亜リ
ン酸アリール、リン酸アリール、アリールホスホン、低
分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、木炭、シ
リカ粉末、ガラス繊維及び炭素繊維がある。
【００４４】本発明に従って得られるブロック共縮合生
成物には、ポリオレフィン、ポリウレタン又はポリスチ
レンのような他の重合体を混入することができる。
成物には、ポリオレフィン、ポリウレタン又はポリスチ
レンのような他の重合体を混入することができる。
【００４５】これらの物質は、低分子量物質も高分子量
物質も両方とも在来の装置中で添加して、ブロック共縮
合生成物の仕上がり品を得ることが好ましい。
物質も両方とも在来の装置中で添加して、ブロック共縮
合生成物の仕上がり品を得ることが好ましい。
【００４６】本発明の方法を用いて得られるブロック共
縮合生成物は、熱可塑性ポリカーボネート用の既知の方
法で所望の成形品に加工できる。
縮合生成物は、熱可塑性ポリカーボネート用の既知の方
法で所望の成形品に加工できる。
【００４７】本発明の方法を用いて得られるポリシロキ
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物は、既知
の芳香族ポリカーボネートがこれまで使用されてきた用
途分野、及び、改良された離型性を兼ね備えた良好な流
動性と低温での高い強靱さと改良された耐化学薬品性が
更に要求される用途分野において、例えば大型室外用自
動車部品・材料や屋外用スイッチボックス、シート、多
孔性シート、電気・電子用途及び光記憶媒体の部品の製
造のために、使用することができる。
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物は、既知
の芳香族ポリカーボネートがこれまで使用されてきた用
途分野、及び、改良された離型性を兼ね備えた良好な流
動性と低温での高い強靱さと改良された耐化学薬品性が
更に要求される用途分野において、例えば大型室外用自
動車部品・材料や屋外用スイッチボックス、シート、多
孔性シート、電気・電子用途及び光記憶媒体の部品の製
造のために、使用することができる。
【００４８】以下の実施例によって本発明を更に具体的
に説明するが、それによって発明を限定しようとするも
のではない。実施例中の部および％は別に指定しなけれ
ば全て重量部および重量％である。
に説明するが、それによって発明を限定しようとするも
のではない。実施例中の部および％は別に指定しなけれ
ば全て重量部および重量％である。
【００４９】
１）式（Ｉ）の化合物の製造 Ｉ／１）一般的方法 バッチの大きさ オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ4−環(rin
g)）１０モル
g)）１０モル
【００５０】
【数１】
【００５１】硫酸Ｙｇ
【００５２】
【数２】
【００５３】ペルフルオルブタンスルホン酸Ｗｇ
【００５４】
【数３】
【００５５】水Ｖｇ
【００５６】
【数４】
【００５７】炭酸アンモニウムＵｇ
【００５８】
【数５】
【００５９】キシレン又は前の試験からの留出物３００
ｇ方法 オクタメチルシクロテトラシロキサン、ハイドロキノ
ン、キシレン及び酸類を、窒素下で、ヒーター、攪拌
機、温度計、水分離器、還流冷却器を備えた攪拌糟に入
れ、加熱して還流させ、適当量の水が分離するまで攪拌
する。次いで温度を６０℃未満に下げ、炭酸アンモニウ
ムを加え攪拌を更に１／２時間続ける。サンプルを採取
し、濾過しそして酸含有量を測定する。酸含有量がＨＣ
ｌで１０ｐｐｍを超える場合には、更に炭酸アンモニウ
ムを追加し攪拌を更に１／２時間継続する。
ｇ方法 オクタメチルシクロテトラシロキサン、ハイドロキノ
ン、キシレン及び酸類を、窒素下で、ヒーター、攪拌
機、温度計、水分離器、還流冷却器を備えた攪拌糟に入
れ、加熱して還流させ、適当量の水が分離するまで攪拌
する。次いで温度を６０℃未満に下げ、炭酸アンモニウ
ムを加え攪拌を更に１／２時間続ける。サンプルを採取
し、濾過しそして酸含有量を測定する。酸含有量がＨＣ
ｌで１０ｐｐｍを超える場合には、更に炭酸アンモニウ
ムを追加し攪拌を更に１／２時間継続する。
【００６０】酸含有量がＨＣｌで１０ｐｐｍ未満になっ
た時点で混合物を調整装置中で１時間オイルポンプの真
空下で１５０℃で調整し、冷却し、Ｎ2で排気しそして
Ｓｅｉｔｚ Ｋ３００フィルターを通して濾過する。収
率は、留出物を循環しないで理論値に対して約６５％で
あり、そして留出物を循環した場合約７５％である＊。
＊工業生産においては、濾過のロスが少ないため収率は
１０〜１５％高くなるであろう。
た時点で混合物を調整装置中で１時間オイルポンプの真
空下で１５０℃で調整し、冷却し、Ｎ2で排気しそして
Ｓｅｉｔｚ Ｋ３００フィルターを通して濾過する。収
率は、留出物を循環しないで理論値に対して約６５％で
あり、そして留出物を循環した場合約７５％である＊。
＊工業生産においては、濾過のロスが少ないため収率は
１０〜１５％高くなるであろう。
【００６１】表に列挙したポリジメチルシロキサンはこ
の方法を用いて得られた。
の方法を用いて得られた。
【００６２】
【表１】
【００６３】ＩＩ） 式（ＩＩ）のオリゴカーボネート
の製造 ビスフェノールＡ１１３９．８ｇ（４．９９２モル）、
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショートパス分離器(short-p
ath separartor)及び搭頂部分が加熱された３０ｃｍＶ
ｉｇｒｅｕｘ分留搭を備えた、５リットルのスチール製
容器に入れる。装置を真空にして窒素でパージする（３
回）ことにより大気中の酸素を除去し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。遊離したフェノールを１００ミリ
バールの真空下で約１８０℃で蒸留して除去する。次い
で真空度を約１〜１／２時間懸けて段階的に１０ミリバ
ールまで高め、温度を２５０℃に上昇させ、１／２時間
これを維持する［保持段階(holding phase)Ｉ］。相対
溶液粘度約１．１２３及びフェノール性ＯＨ含有量１９
００ｐｐｍを有するオリゴカーボネートを得る。
の製造 ビスフェノールＡ１１３９．８ｇ（４．９９２モル）、
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショートパス分離器(short-p
ath separartor)及び搭頂部分が加熱された３０ｃｍＶ
ｉｇｒｅｕｘ分留搭を備えた、５リットルのスチール製
容器に入れる。装置を真空にして窒素でパージする（３
回）ことにより大気中の酸素を除去し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。遊離したフェノールを１００ミリ
バールの真空下で約１８０℃で蒸留して除去する。次い
で真空度を約１〜１／２時間懸けて段階的に１０ミリバ
ールまで高め、温度を２５０℃に上昇させ、１／２時間
これを維持する［保持段階(holding phase)Ｉ］。相対
溶液粘度約１．１２３及びフェノール性ＯＨ含有量１９
００ｐｐｍを有するオリゴカーボネートを得る。
【００６４】ＩＩＩ） 比較例１ ビスフェノールＡ１１３９．８ｇ（４．９９２モル）、
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）、ポリシロキサンＤ（表１参照）５．４ｇ（５重
量％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショートパス分離器(short-p
ath separartor)及び搭頂部分が加熱された３０ｃｍＶ
ｉｇｒｅｕｘ分留搭を備えた、５リットルのスチール製
容器に入れる。装置を真空にして窒素でパージする（３
回）ことにより大気中の酸素を除去し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。遊離したフェノールを１００ミリ
バールの真空下で約１８０℃で蒸留して除去する。同時
に温度を約５０分間で１８０〜１９０℃に上昇させ、更
に２時間かけてゆっくりと２５０℃に上げる。次いで真
空度を段階的に１ミリバールまで高め、温度を２８０℃
に上昇させる。大部分のフェノールはこの時点で除去さ
れている。更に２８０℃、０．１ミリバールで１1/2時
間加熱した後、淡色の、溶剤を含まないポリカーボネー
トを得る。相対溶液粘度は１．３１１（ジクロルメタ
ン、２５℃、５ｇ／リットル）である。ブロックカーボ
ネート共重合体のフェノール性ＯＨ含有量は１００ｐｐ
ｍである。
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）、ポリシロキサンＤ（表１参照）５．４ｇ（５重
量％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショートパス分離器(short-p
ath separartor)及び搭頂部分が加熱された３０ｃｍＶ
ｉｇｒｅｕｘ分留搭を備えた、５リットルのスチール製
容器に入れる。装置を真空にして窒素でパージする（３
回）ことにより大気中の酸素を除去し、そして混合物を
１５０℃に加熱する。遊離したフェノールを１００ミリ
バールの真空下で約１８０℃で蒸留して除去する。同時
に温度を約５０分間で１８０〜１９０℃に上昇させ、更
に２時間かけてゆっくりと２５０℃に上げる。次いで真
空度を段階的に１ミリバールまで高め、温度を２８０℃
に上昇させる。大部分のフェノールはこの時点で除去さ
れている。更に２８０℃、０．１ミリバールで１1/2時
間加熱した後、淡色の、溶剤を含まないポリカーボネー
トを得る。相対溶液粘度は１．３１１（ジクロルメタ
ン、２５℃、５ｇ／リットル）である。ブロックカーボ
ネート共重合体のフェノール性ＯＨ含有量は１００ｐｐ
ｍである。
【００６５】ＩＶ） 実施例１ ビスフェノールＡ１１３９．８ｇ（４．９９２モル）、
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショート−パス分離器及び搭
頂部分が加熱された３０ｃｍＶｉｇｒｅｕｘ分留搭を備
えた、５リットルのスチール製容器に入れる。装置を真
空にして窒素でパージする（３回）ことにより大気中の
酸素を除去し、そして混合物を１５０℃に加熱する。遊
離したフェノールを１００ミリバールの真空下で約１８
０℃で蒸留して除去する。次いで真空度を約１1/2時間
懸けて段階的に１０ミリバールまで高め、温度を２５０
℃に上昇させ、１／２時間これを維持する（保持段階
Ｉ）。相対溶液粘度約１．１２３及びフェノール性ＯＨ
含有量１９００ｐｐｍを有するオリゴカーボネートを得
る。
炭酸ジフェニル１１１３．９ｇ（５．２モル＝１０４モ
ル％）及びテトラフェニルヒドリド硼酸テトラフェニル
ホスホニウム０．２０６ｇ（０．０１モル％）を秤量
し、攪拌機、内部温度計、ショート−パス分離器及び搭
頂部分が加熱された３０ｃｍＶｉｇｒｅｕｘ分留搭を備
えた、５リットルのスチール製容器に入れる。装置を真
空にして窒素でパージする（３回）ことにより大気中の
酸素を除去し、そして混合物を１５０℃に加熱する。遊
離したフェノールを１００ミリバールの真空下で約１８
０℃で蒸留して除去する。次いで真空度を約１1/2時間
懸けて段階的に１０ミリバールまで高め、温度を２５０
℃に上昇させ、１／２時間これを維持する（保持段階
Ｉ）。相対溶液粘度約１．１２３及びフェノール性ＯＨ
含有量１９００ｐｐｍを有するオリゴカーボネートを得
る。
【００６６】次いで装置を窒素で排気し、真空度を１０
０ミリバールに調節しそしてポリシロキサンＡ６４．６
ｇ（５重量％）を同時に添加し、攪拌を１／２時間継続
する（保持段階ＩＩ）。 真空度を１０〜１５分間懸け
て１０ミリバールまで、更に１０分間懸けて１ミリバー
ルまで高め、温度を３００℃〜３１０℃に上昇させる。
１／２時間後にショートパス分離器(short-path separ
artor)を開きそして重縮合を更に１1/2時間継続する。
０ミリバールに調節しそしてポリシロキサンＡ６４．６
ｇ（５重量％）を同時に添加し、攪拌を１／２時間継続
する（保持段階ＩＩ）。 真空度を１０〜１５分間懸け
て１０ミリバールまで、更に１０分間懸けて１ミリバー
ルまで高め、温度を３００℃〜３１０℃に上昇させる。
１／２時間後にショートパス分離器(short-path separ
artor)を開きそして重縮合を更に１1/2時間継続する。
【００６７】相対溶液粘度１．２７４及びフェノール性
ＯＨ含有量１２０ｐｐｍを有する白色の共縮合ポリカー
ボネートを得る。
ＯＨ含有量１２０ｐｐｍを有する白色の共縮合ポリカー
ボネートを得る。
【００６８】実施例２ 保持段階Ｉの時間を２時間とする以外は、実施例１と同
様の操作を行う。
様の操作を行う。
【００６９】実施例３ Ａを３重量％添加する以外は、実施例１と同様の操作を
行う。
行う。
【００７０】実施例４ Ｂを５重量％添加する以外は、実施例１と同様の操作を
行う。
行う。
【００７１】実施例５ Ｃを５重量％添加する以外は、実施例１と同様の操作を
行う。
行う。
【００７２】実施例６ Ｅを５重量％添加し、保持段階Ｉを行わない以外は、実
施例１と同様の操作を行う。
施例１と同様の操作を行う。
【００７３】実施例７ Ｅを５重量％添加し、保持段階ＩとＩＩの両方を行わな
い以外は、実施例１と同様の操作を行う。
い以外は、実施例１と同様の操作を行う。
【００７４】実施例８ Ｇを５重量％添加する以外は、実施例１と同様の操作を
行う。
行う。
【００７５】実施例９ Ｈを５重量％添加する以外は、実施例１と同様の操作を
行う。
行う。
【００７６】
【表２】
【００７７】引張試験 ＳｉＣｏＰＣ試験片の機械的性
質をＤＩＮ５３４５５（ＩＳＯ５２７）に従う引張試験
によって研究するために、各々の重合体について１０本
の３号ダンベル試験片（厚さ４ｍｍ）を、射出成型で製
造した。表３にその結果を示す。
質をＤＩＮ５３４５５（ＩＳＯ５２７）に従う引張試験
によって研究するために、各々の重合体について１０本
の３号ダンベル試験片（厚さ４ｍｍ）を、射出成型で製
造した。表３にその結果を示す。
【００７８】
【表３】
【００７９】低温衝撃強度 延性破壊・脆性破壊転移点
を測定するために、ノッチ付きアイゾット曲げ衝撃試験
をノッチ付き試験片で行った（ＩＳＯ１８０−４Ａ）。
この目的のためにＩＳＯ試験片（６３．５＊１２．７＊
３．２ｍｍ）を射出成型によって製造した。表４に測定
結果を示す。
を測定するために、ノッチ付きアイゾット曲げ衝撃試験
をノッチ付き試験片で行った（ＩＳＯ１８０−４Ａ）。
この目的のためにＩＳＯ試験片（６３．５＊１２．７＊
３．２ｍｍ）を射出成型によって製造した。表４に測定
結果を示す。
【００８０】
【表４】
【００８１】表の結果には、延性的に破壊した試験片の
数−ｄ−、脆性的に破壊した試験片の数−ｂ−及びそれ
ぞれの平均衝撃強さを示してある。従って”５ｄ４７／
５ｂ２４”という記載は、５個の試験片が延性破壊して
そのノッチ付き衝撃強さの平均が４７ｋＪ／ｍ2であっ
たこと及び５個の試験片が脆性破壊してそのノッチ付き
衝撃強さの平均が２４ｋＪ／ｍ2であったことを意味し
ている。
数−ｄ−、脆性的に破壊した試験片の数−ｂ−及びそれ
ぞれの平均衝撃強さを示してある。従って”５ｄ４７／
５ｂ２４”という記載は、５個の試験片が延性破壊して
そのノッチ付き衝撃強さの平均が４７ｋＪ／ｍ2であっ
たこと及び５個の試験片が脆性破壊してそのノッチ付き
衝撃強さの平均が２４ｋＪ／ｍ2であったことを意味し
ている。
【００８２】以上において説明の目的のために本発明を
詳細に記述してきたが、その詳細な記述はその目的だけ
のためであること、そして、当業者は本発明の精神と範
囲から離れることなく、請求の範囲で限定され得る以外
に種々の変更をすることが出来ることが理解さるべきで
ある。
詳細に記述してきたが、その詳細な記述はその目的だけ
のためであること、そして、当業者は本発明の精神と範
囲から離れることなく、請求の範囲で限定され得る以外
に種々の変更をすることが出来ることが理解さるべきで
ある。
フロントページの続き (72)発明者 バルター・ケーラー ドイツ47239ドウイスブルク・バルデンブ ルガーシユトラーセ40
Claims (8)
- 【請求項１】（ａ）ヒドロキシアリールオキシ停止のジ
メチルシロキサンと、 （ｂ）重量平均分子量が３０００〜２４０００でありそ
してＯＨ末端基とアリール末端基のモル比が１０：９０
〜７０：３０であるオリゴカーボネートとを、該（ａ）
と該（ｂ）の重量比が１：９９と４０：６０の間で、温
度２５０〜３２０℃及び圧力０．０１〜１００ミリバー
ルでの溶融状態で反応させることを包含するポリシロキ
サン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物の製造方
法。 - 【請求項２】 反応が触媒の存在下で行われる請求項１
に記載の方法。 - 【請求項３】 該（ａ）と該（ｂ）の該重量比が３：９
７〜３０：７０である請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 該分子量が５０００〜１５０００である
請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】 該ＯＨ末端基と該アリール末端基の該モ
ル比が２０：８０〜６０：４０である請求項１に記載の
方法。 - 【請求項６】（ａ） 【化１】 （式中、ＲはＨ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＣ1〜Ｃ4アルキル基で
あり、そしてｚは５〜１５０である）に一致するヒドロ
キシアリールオキシ停止のジメチルシロキサンと、 （ｂ） 【化２】 （式中、ｚは炭素原子６〜３０個を有するアリーレン基
であり、ＡｒはＣ6〜Ｃ14アリール基であり、そしてｐ
は５〜３００である）に一致する、重量平均分子量が３
０００〜２４０００でありそしてＯＨ末端基とアリール
末端基のモル比が１０：９０〜７０：３０であるオリゴ
カーボネートとを、該（ａ）と該（ｂ）の重量比が１：
９９と４０：６０の間で、温度２５０〜３２０℃及び圧
力０．０１〜１００ミリバールでの溶融状態で反応させ
ることを包含するポリシロキサン／ポリカーボネートブ
ロック共縮合生成物の製造方法。 - 【請求項７】 請求項１に記載の方法によって製造され
たポリシロキサン／ポリカーボネートブロック共縮合生
成物。 - 【請求項８】 請求項７に記載の生成物を含んで成る製
品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19710081.3 | 1997-03-12 | ||
| DE19710081A DE19710081A1 (de) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | Verfahren zur Herstellung von Polysiloxan-Polysiloxan-Polycarbonat-Blockcokondensaten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251408A true JPH10251408A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=7823035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10071213A Pending JPH10251408A (ja) | 1997-03-12 | 1998-03-06 | ポリシロキサン／ポリカーボネートブロツク共縮合生成物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0864599B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10251408A (ja) |
| DE (2) | DE19710081A1 (ja) |
| ES (1) | ES2203840T3 (ja) |
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| EP3957674A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
| EP3957672A1 (en) | 2020-08-20 | 2022-02-23 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, method for producing the same, and resin composition comprising the copolymer |
| KR20220112765A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-11 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
| KR20220113692A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
| KR20220113691A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
| KR20240017831A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240017830A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240017829A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018485A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018482A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018483A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018484A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
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- 1998-02-26 EP EP98103319A patent/EP0864599B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-26 DE DE59809115T patent/DE59809115D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-26 ES ES98103319T patent/ES2203840T3/es not_active Expired - Lifetime
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| KR20220113691A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
| KR20220112765A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-11 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
| KR20220113692A (ko) | 2019-12-06 | 2022-08-16 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트-폴리오가노실록세인 공중합체 및 해당 공중합체를 포함하는 수지 조성물 |
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| KR20240018482A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| DE112022002983T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonat-Harzzusammensetzung und Formkörper |
| KR20240017829A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018485A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240017831A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018483A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240018484A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-13 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| KR20240017830A (ko) | 2021-06-09 | 2024-02-08 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 성형체 |
| DE112022002962T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-harzzusammensetzung und formkörper |
| DE112022002972T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-Harzzusammensetzung und Formkörper |
| DE112022002974T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-Harzzusammensetzung und Formkörper |
| DE112022002973T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-Harzzusammensetzung und Formkörper |
| DE112022002967T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonat-harzzusammensetzung und formkörper |
| DE112022002984T5 (de) | 2021-06-09 | 2024-03-21 | Idemitsu Kosan Co.,Ltd. | Polycarbonatharz-Zusammensetzung und Formkörper |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2203840T3 (es) | 2004-04-16 |
| EP0864599A3 (de) | 1999-03-31 |
| DE19710081A1 (de) | 1998-09-17 |
| EP0864599B1 (de) | 2003-07-30 |
| EP0864599A2 (de) | 1998-09-16 |
| DE59809115D1 (de) | 2003-09-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041227 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070426 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080122 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080328 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080414 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080417 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080717 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081021 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090331 |