JPH0848696A - シクロスポリン類およびそれらの医薬用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シクロスポリン類に関する新規用途、特に新
規医薬用途およびそれ自体新規化合物である新規シクロ
スポリン類。 【解決手段】 式(II) 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、シクロスポリン
類に関する新規用途、特に新規医薬用途およびそれ自体
新規化合物である新規シクロスポリン類に関する。

【０００２】

【従来の技術】シクロスポリン類は、各々程度の大小は
あるが、一般に薬理学的、特に免疫抑制、抗炎症および
／または抗寄生虫活性を有し、特有な構造を有する環状
のポリ−Ｎ−メチル化ウンデカペプチドの種類を包含す
る。最初に単離されたシクロスポリン類は、「シクロス
ポリンＡ」としても知られ、現在登録商標サンディミュ
ン(SANDIMMUN)の名称で市販されている、天然真菌代謝
物「シクロスポリン」(CiclosporinまたはCyclosporine)
であった。「シクロスポリン」は、式(Ａ)

【化６】 [式中、−ＭeＢmt−は、式(Ｂ)

【化７】 (式中、−x−y−はトランス−ＣＨ＝ＣＨ−であり、
２'、３'および４'位は各々立体配置Ｓ、ＲおよびＲを
有する)で示されるＮ−メチル−(４Ｒ)−４−ブタ−２
Ｅ−エン−１−イル−４−メチル−(Ｌ)トレオニル残基
を表す]で示されるシクロスポリンである。

【０００３】「シクロスポリン」の最初の発見以来、広範
な種類の天然シクロスポリン類が単離および確認され、
さらに多くの非天然シクロスポリンが完全もしくは半合
成手段または修正培養技術の適用により製造されてき
た。すなわち現在シクロスポリン類が包含する種類は多
く、例えば天然シクロスポリンＡ〜Ｚ[参考、トラバー
等、１、「ヘルベティカ・シミカ・アクタ」(Helv.Chim.A
cta)、６０巻、１２４７−１２５５頁(１９７７年)、ト
ラバー等、２、「ヘルベティカ・シミカ・アクタ」(Helv.
Chim.Acta)、６５巻、１６５５−１６６７頁(１９８２
年)、コーベル等、「ヨーロピアン・ジャーナル・オブ・
アプライド・マイクロバイオロジー・アンド・バイオテ
クノロジー」(Europ．J．Applied Microbiology and Bio
technology)、１４巻、２７３−２４０頁(１９８２年)
およびフォン・バルトブルグ等、「プログレス・イン・
アラージー」(Progress in Allergy)、３８巻、２８−４
５頁(１９８６年)]並びに様々な非天然シクロスポリン
誘導体およびジヒドロ−およびイソ−シクロスポリン類
[上記式(Ｂ)における−ＭeＢmt−残基の−x−y−部分を
飽和させて−x−y−＝−ＣＨ₂−ＣＨ₂−とする／上記式
(Ａ)におけるシクロスポリン分子の１１位の残基と−Ｍ
eＢmt−残基の結合はα−Ｎ−原子でなく３'−Ｏ−原子
を介する]を含む人工または合成シクロスポリン類、誘
導体化シクロスポリン類(例、−ＭeＢmt−残基の３'−
Ｏ−原子をアシル化するか、別の置換基を３位のサルコ
シル残基のα−炭素原子に導入する)、−ＭeＢmt−残基
が異性体形態で存在するシクロスポリン類(例、−ＭeＢ
mt−残基の６'および７'位を横切る立体配置はトランス
ではなくてシスである)並びに例えばベンガー等により
開発されたシクロスポリン類の完全合成製造方法を用い
て、変異型アミノ酸をペプチド配列内の特定位置に導入
させるシクロスポリン類が含まれる[例えば、トラバー
等１、トラバー等２およびコーベル等、前出、米国特許
第４１０８９８５号、同第４２１０５８１号、同第４２
２０６４１号、同第４２８８４３１号、同第４５５４３
５１号および同第４３９６５４２号、ヨーロッパ特許公
開第００３４５６７号および同第００５６７８２号、国
際特許公開第ＷＯ８６／０２０８０号、ベンガー１、
「トランスプル・プロック」(Transpl．Proc.)、１５巻、
補遺、１:２２３０(１９８３年)、ベンガー２、「アンゲ
バンテ・ヘミー、インターナショナル・エディション・
イン・イングリッシュ」(Angew．Chem．Int．Ed.)、２４
巻、７７頁(１９８５年)並びにベンガー３、「プログレ
ス・イン・ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・ナ
チュラル・プロダクツ」(Progress in the Chemistry of
Organic Natural Products)、５０巻、１２３頁(１９
８６年)参照]。

【０００４】すなわちシクロスポリンに含まれる種類は
現在非常に多く、例えば[Ｔhr]²−、[Ｖal]²−、[Ｎva]
²−および[Ｎva]²−[Ｎva]⁵−シクロスポリン(各々シク
ロスポリンＣ、Ｄ、ＧおよびＭとしても知られてい
る)、[３−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン
(シクロスポリンＡ酢酸エステルとしても知られてい
る)、[ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン
(ジヒドロ−シクロスポリンＤとしても知られている)、
[イソ−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−シクロスポリン(イソシク
ロスポリンＧとしても知られている)、[(Ｄ)Ｓer]⁸−シ
クロスポリン、[ＭeＩle]¹¹−シクロスポリン、[(Ｄ)Ｍ
eＶal]¹¹−シクロスポリン(シクロスポリンＨとしても
知られている)、[ＭeＡla]⁶−シクロスポリン、[(Ｄ)Ｐ
ro]³−シクロスポリンなどが含まれる。

【０００５】[シクロスポリン類の慣用的命名法に従
い、この明細書(特許請求の範囲を含む)の全体を通して
「シクロスポリン」(すなわちシクロスポリンＡ)の構造を
示すことによりこれらの定義を行う。これは、まず「シ
クロスポリン」に存在するものとは異なる、存在するア
ミノ酸残基を示し(例、[(Ｄ)Ｐro]³は、問題のシクロス
ポリンが３位に−Ｓar−残基ではなく−(Ｄ)Ｐro−を有
することを示す)、次いで残りの残基が「シクロスポリ
ン」に存在するものと同じであるという特徴を表すため
に「シクロスポリン」の語を適用することにより行なわれ
る。

【０００６】「シクロスポリン」の１位の残基−ＭeＢmt
−はシクロスポリン発見以前には知られていなかった。
すなわち、この残基およびその変異型または修飾体
(例、下記のもの)は、一般にシクロスポリン類に特有の
ものである。一般に、[ＭeＢmt]¹に対する変異型または
代替物(alternative)は−ＭeＢmt−構造を示すことによ
り定義される。すなわち、−x−y−部分[上記式(Ｂ)参
照]が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−に還元されているジヒドロシク
ロスポリン類の場合、１位の残基は「−ジヒドロ−ＭeＢ
mt−」として定義される。−x−y−部分を横切る立体配
置がトランスではなくシスである場合、この残基は「−
シス−ＭeＢmt−」として定義される。

【０００７】−ＭeＢmt−残基の部分を削除する場合、
これは、決定基「−ＭeＢmt−」、「−ジヒドロ−ＭeＢmt
−」、「シス−ＭeＢmt−」等の前に、削除位置を定め、修
飾語「デス」を用いて削除を示し、次いで削除される基ま
たは原子を定めることにより示される。すなわち、「−
Ｎ−デスメチル−ＭeＢmt−」、「−３'−デスオキシ−Ｍ
eＢmt−」および「−３'−デスオキシ−４'−デスメチル
−ＭeＢmt−」は各々式(Ｂ¹)、(Ｂ²)および(Ｂ³)で示さ
れる残基である。

【０００８】

【化８】

【０００９】例えば−ＭeＢmt−の位置または基を置換
する場合、これは置換の位置および性質を定義すること
により常法で表される。すなわち、−３'−Ｏ−アセチ
ル−ＭeＢmt−は、式(Ｂ)[ただし、３'−ＯＨ基はアセ
チル化されている(３'−Ｏ−ＣＯＣＨ₃)]で示される残
基である。例えば−ＭeＢmt−の置換基または基を置換
する場合、これは、i)上記「デス−用語」により置換され
た基の位置を示し、ｉｉ）置換基を定義することにより
行なわれる。すなわち、−７’−デスメチル−７'−フ
エニル−ＭeＢmt−は、上記式(Ｂ)[ただし、末端(８')
メチル基はフエニルにより置換されている]で示される
残基である。３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt
−は上記式(Ｂ)(ただし、３'−ＯＨ基は＝Ｏにより置換
されている)で示される残基である。

【００１０】さらに、省略形、例えば−Ａla−、−Ｍe
Ｖal−、−αＡbu−等により示されたアミノ酸残基は、
慣例に従い、例えば「−(Ｄ)Ａla−」の場合のように特記
しない限り、(Ｌ)−立体配置を有するものと定める。
「−ＭeＬeu−」の場合のように「Ｍe」が先行する残基省略
形はα−Ｎ−メチル化残基を表す。当業界では、シクロ
スポリン分子の個々の残基において、１位の残基−Ｍe
Ｂmt−、−ジヒドロ−ＭeＢmt−等から出発して時計回
りの方向で番号を付す。この明細書(特許請求の範囲を
含む)では首尾一貫して同じ数値のシーケンスを用い
る。]

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】シクロスポリン類は、
それらの独特な医薬効果故に、医学界および大学関係者
のみならず専門外である報道関係者からも非常に顕著な
注目を集めている。現在シクロスポリン自体は、同種間
の臓器(例、心臓、心肺、腎臓および骨髄)移植後の拒絶
予防、並びにさらに最近では様々な自己免疫および関連
疾患および状態の処置に常用されている。また様々な寄
生虫疾患および感染症、例えばコクシジオイデス症、マ
ラリアおよび住血吸虫症の処置において可能性のある用
途の研究のために広範な作業が行なわれてきた。現在、
これらまたは関連適応症における非常に多くの他の既知
シクロスポリン類の有望な用途に対する研究作業の多く
の報告が文献に記載されている。

【００１２】この発明によると、現在驚くべきことに、
特定のシクロスポリン類が他の化学療法に対する感受性
の増強、および特に誘発性であろうと固有のものであろ
うと他の化学療法に対する抵抗性の解除の遂行に有用で
あることが判った。

【００１３】短期間または長期間にわたる処置後、一般
には比較的長い化学療法的薬物投与後の化学療法に対す
る高い抵抗性は、かなり以前から認められている広範囲
に及ぶ現象であり、当業界において広く文書に記載され
ている。古典的な例としては、個々の薬剤物質を用いる
長期または広範囲に及ぶ薬物療法後の、寄生体、特に細
菌性、ウイルス性または原生動物性微生物の増強または
誘発された抵抗性が挙げられる。かかる場合において、
感染微生物は、時間の経過に従い程度の大小はあるが薬
剤物質に対する耐性を強め、これに付随して闘争または
処置が困難になる。癌の化学療法処置、例えば癌腫、肉
腫もしくは他の腫ようまたは悪性腫ようの処置に関して
も類似の現象が観察される。

【００１４】腫ようの成長または転移を縮小、阻害また
は制限する手段としての、例えば、薬剤物質、特に抗新
生物または細胞毒性薬剤例えばコルヒチン、エトポシ
ド、テノポシド、アドリアマイシン、ダウノルビシンお
よびビンクリスチンの投与による癌の化学療法処置は、
依然として様々な型の癌の処置の最も重要な研究であ
る。しかしながら、腫ようは最初は治療に感受性を示し
得るが、処置を続けるに従い、かかる治療に対する耐性
が現れ、その結果、治療効果の低下がもたらされること
が一般に判っている。一般的なこととして、特に後期ま
たは末期癌の処置において多面発現性または多種薬剤療
法を採用する場合、通例多種薬剤耐性が続いて現れる。
例えば特定形態の化学療法処置を長期間実施した場合、
似た障害が生じ、例えば固有または内生耐性を発現した
微生物の耐性株が生じる。その場合もまた、常用の抗新
生物または細胞毒性薬剤療法に対する内生耐性または低
レベルの感受性を呈する特定形態の癌または腫ようと遭
遇することが多い。

【００１５】

【課題を解決するための方法および実施例】この発明に
よると、後記シクロスポリン類が、化学療法的薬物療法
に対する感受性の向上またはその効果の増強に有用であ
り、特に、様々な型(例、後天性または先天性)の化学療
法薬剤耐性の打ち消し、または施された薬剤療法に対す
る感受性の増強もしくは回復に有用であることが判っ
た。この発明が適用され得る化学療法的薬物療法の形態
には、例えば抗寄生体例えば抗ウイルス、抗細菌または
抗原生動物化学療法および、特に抗新生物または細胞増
殖抑制化学療法がある。

【００１６】この発明の用途に適したシクロスポリン類
は、下記に示す様々なクラスの下に定義され得る。 クラス１ １位の残基の３'−炭素原子または２位の残基のβ−炭
素原子がＯ−アシルまたはオキソ置換されているシクロ
スポリン。このクラスの好ましいシクロスポリンは次の
通りである。 (１a)１位の残基の３'−炭素原子がＯ−アシル置換され
ている場合。１位の残基の３'−炭素原子がＯ−アシル
置換されている場合、２位の残基もまたβ−Ｏ−アシル
化され得る。 (１a)タイプのシクロスポリン類の好ましい群は次の通
りである。 (１a¹)１位の残基が式(Ｉ)で示される−３'−Ｏ−アシ
ル−ＭeＢmt−または−３'−アシル−ジヒドロ−ＭeＢm
t−残基である場合。

【化９】 (式中、−x−y−は−ＣＨ₂ＣＨ₂−またはトランス−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−であり、ＡＣＹＬ¹はアシル基を表す)

【００１７】式(Ｉ)中のＡＣＹＬ¹として適当なアシル
基は、式Ｒ₁−ＣＯ−およびＲ₂−Ｏ−ＣＯ−(式中、Ｒ₁
はＣ₁-₄アルキルまたはＣ₁-₄アジドアルキルおよびＲ₂
はＣ₁-₄アルキルである)で示される基、例、アセチル、
４−アジドブタノイルまたはメトキシカルボニルであ
る。好ましくはＡＣＹＬ¹は式Ｒ₁−ＣＯ−で示される基
であり、この場合Ｒ₁は好ましくはＣ₁-₄アルキルであ
る。最も好ましくはＲ₁−ＣＯ−はアセチルである。

【００１８】Ｒ₁およびＲ₂であるかまたはこれらを含む
アルキル基は、分枝状または直鎖であり得る。好ましく
はそれらは直鎖である。Ｒ₁は最も好ましくはメチルで
ある。

【００１９】式(１a¹)で示される特に好ましいシクロス
ポリン類は、式(II)または(II')で示されるものであ
る。

【化１０】 [式中、Ａは上記(１a¹)で定義された残基、Ｂは、−α
Ａbu−、−Ｔhr−、−Ｖal−、−Ｎva−またはβ−Ｏ−
アシル−α−アミノ酸の残基、 Ｘは−Ｓar−または
(Ｄ)−立体配置を有する光学活性の、α−Ｎ−メチル化
αアミノ酸残基、Ｙは、−Ｖal−またはさらに、Ｂが−
Ｎva−である場合、−Ｎva−、およびＷは、(Ｄ)−立体
配置を有するβ−ヒドロキシ−またはβ−Ｏ−アシル−
α−アミノ酸の残基である]Ｂがβ−Ｏ−アシル−α−
アミノ酸残基である場合、これは一般に(Ｌ)立体配置を
有する。好適にはそれは式(III)で示される残基であ
る。

【化１１】 式中、ＡＣＹＬ²はアシル基を表す。好ましくはそれは
Ｏ−アシル−(Ｌ)−トレオニル残基である。 Ｗは好適
には−(Ｄ)Ｓer−もしくは−(Ｄ)Ｔhr−または式(III')
で示されるＯ−アシル−(Ｄ)Ｓer−もしくはＯ−アシル
−(Ｄ)Ｔhr−である。

【化１２】 式中、ＡＣＹＬ²は式(III)の場合と同意義であり、Ｒは
水素またはメチルである。

【００２０】式(III)および(III')におけるＡＣＹＬ²と
して好ましいアシル基は、式Ｒ₃−ＣＯ−(式中、Ｒ₃は
Ｃ₁-₄アルキルである)で示される基である。Ｒ₃として
のアルキル基は分枝状または直鎖であり得る。好ましく
はそれらは直鎖である。好適にはＡＣＹＬ²はアセチル
である。

【００２１】式(II)におけるＸが−Ｓar−以外である場
合、それは好適には−(Ｄ)Ａla−である。

【００２２】この発明による用途に適したこのクラスの
シクロスポリン類の例は下記の通りである。 1.1 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−シクロスポリ
ン、 1.2 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロ
スポリン、 1.3 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−シクロ
スポリン、 1.4 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−シクロ
スポリン、 1.5 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−[Ｎva]
⁵−シクロスポリン、 1.6 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[(Ｄ)Ａla]³−シ
クロスポリン、 1.7 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−[(Ｄ)
Ａla]³−シクロスポリン、 1.8 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[(Ｄ)ＭeＶal]¹¹
−シクロスポリン、 1.9 [３'−O−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]¹¹−シクロ
スポリン、 1.10 [３'−Ｏ−アセチル−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−シク
ロスポリン、 1.11 [３'−Ｏ−メトキシカルボニル−ＭeＢmt]¹−シク
ロスポリン、 1.12 [３'−Ｏ−(４−アジドブタノイル)−ＭeＢmt]¹−
シクロスポリン、 1.13 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｏ−アセチル
−Ｔhr]²−シクロスポリン、 1.14 [３'−Ｏ−アセチル−Ｎ−デスメチル−ＭeＢmt]¹
−[Ｏ−アセチル−Ｔhr]²−シクロスポリン、および 1.15 [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｏ−アセチル
−(Ｄ)Ｓer]⁸−シクロスポリン。

【００２３】この発明による用途に好適なシクロスポリ
ン類は、上記のシクロスポリン類1.1〜1.10全部および
1.15、および特にシクロスポリン類1.1、1.2、1.3、1.
4、1.10および1.15である。(１a)タイプのシクロスポリ
ン類の別の群は次の通りである。(１a²)式中、１位の残
基が式(IV)で示される−３'−Ｏ−アシル−８'−Ｃ₁-₈
アルコキシ− −シス−ＭeＢmt−または−ジヒドロ−
ＭeＢmt−残基である場合。

【化１３】 (式中、−x−y−はシス−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ₂−
ＣＨ₂−、Ｒ₄はＣ₂-₉アルコキシメチルおよびＡＣＹＬ¹
はアシル基を表す)式(IV)中のアシル基として特に適当
なものは、式Ｒ₅−ＣＯ−(式中、Ｒ₅はＣ₁-₄アルキルで
ある)で示される基である。

【００２４】Ｒ₅としてのアルキル基およびＲ₄を含むア
ルキル部分は分枝状または直鎖であり得る。好ましくは
それらは直鎖である。好ましくはＲ₄はＣ₂-₅アルコキシ
メチルである。式(IV)中のＡＣＹＬ¹は好適にはアセチ
ルである。

【００２５】(１a²)群の特に好ましいシクロスポリン類
は上記式(II)(ただし、Ａは前記式(IV)の残基であり、
Ｂは式(II)の場合と同じ意味を有し、Ｘは−Ｓar−およ
びＹは−Ｖal−である)で示されるものである。

【００２６】この発明による用途に適した(１a²)群のシ
クロスポリン類の例は次の通りである。 1.16 [３'−Ｏ−アセチル−８'−メトキシ−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−シクロスポリン、 1.17 [３'−Ｏ−アセチル−８'−t−ブトキシ−シス−
ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.18 [３'−Ｏ−アセチル−８'−メトキシ−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｏ−アセチル−Ｔhr]²−シクロスポリン、 1.19 [３'−Ｏ−アセチル−８'−t−ブトキシ−シス−
ＭeＢmt]¹−[Ｏ−アセチル−Ｔhr]²−シクロスポリン、 1.20 [３'−Ｏ−アセチル−８'−メトキシ−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、および 1.21 [３'−Ｏ−アセチル−８'−メトキシ−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｎva]²−シクロスポリン。

【００２７】１a³)式中、１位の残基が−３'−Ｏ−アシ
ル−シス−ＭeＢmt−、−３'−Ｏ−アシル−７'−デス
メチル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−もしくは
−シス−ＭeＢmt−残基[ただし、ヒドロカルビル(炭化
水素残基)部分は少なくとも２個の炭素原子を含む]、ま
たは−３'−Ｏ−アシル−７'−デスメチル−７'−ヒド
ロカルビル−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロ
カルビル部分は少なくとも２個の炭素原子を含み、前記
ヒドロカルビル部分に存在する脂肪族基または部分は全
て飽和しているものとする)である場合。

【００２８】これらの残基は式(Ｖ)により表され得る。

【化１４】 (式中、−x−y−はシスまたはトランス−ＣＨ＝ＣＨ−
または−ＣＨ₂−ＣＨ₂−であり、Ｒ₆はヒドロカルビル
であり、ＡＣＹＬ¹はアシル基を表すが、ただし、−x−
y−がトランス−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ₂−ＣＨ₂−
である場合、Ｒ₆は少なくとも２個の炭素原子を含み(す
なわち、メチル以外である)、−x−y−が−ＣＨ₂−ＣＨ
₂−である場合、Ｒ₆としてまたはＲ₆中に存在する脂肪
族基または部分は全て飽和しているものとする)

【００２９】式(Ｖ)中のアシル基として特に適当なもの
は、式−Ｒ₅−ＣＯ−(ただし、Ｒ₅はＣ₁-₄アルキルであ
る)で示される基、特にアセチルである。

【００３０】Ｒ₆としての炭化水素残基は、芳香族、脂
肪族および芳香脂肪族基を含むが、ただし脂肪族基およ
び部分は分枝状または直鎖であり得る。またかかる基は
さらに置換基例えばハロゲンまたはヒドロキシを含み得
るか、または非置換であり得る。

【００３１】Ｒ₆として適当な炭化水素残基は、アルキ
ル、アルケニル、アルキニル、フェニル、フェニルアル
キル、フェニルアルケニルおよびフェニルアルキニル、
特に最高２０個、好ましくは最高８個の炭素原子を有す
るアルキル、アルケニルおよびアルキニル基、並びに最
高１２個の炭素原子を含むフェニル、フェニルアルキル
およびフェニルアルキニル基である。

【００３２】特に好ましい基Ｒ₆は、フェニル、フェニ
ル−(Ｃ₁-₄アルキル)、Ｃ₁-₁₀アルキル、Ｃ₂-₁₀アルケ
ニルおよびＣ₂-₁₀アルキニル、特にフェニルおよびＣ₁-
₅アルキルである。

【００３３】式(Ｖ)中の−x−y−が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−で
ある場合、Ｒ₆としての炭化水素残基は、芳香族基、飽
和脂肪族基および脂肪族部分が飽和している芳香脂肪族
基を包含し、例えば前述のこのタイプに属する前記の基
全てを含む。

【００３４】この群の特に好ましいシクロスポリン類
は、上式(II)(ただし、Ａは前記式(Ｖ)の残基、Ｂは式
(II)の場合と同意義、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−
である)で示されるものである。

【００３５】この発明による用途に適したこの群のシク
ロスポリン類の例は下記の通りである。 1.22 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フ
ェニル−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.23 [３'−Ｏ−アセチル−シス−ＭeＢmt]¹−シクロス
ポリン、 1.24 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−ビ
ニル−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.25 [３'
−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−ビニル−シス
−ＭeＢmt]¹−[Ｏ−アセチル−Ｔhr]²−シクロスポリ
ン、 1.26 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−i−
ペンチル−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.27 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フ
ェニル−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.28 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−n−
プロピル−シス−ＭeBmt]¹−シクロスポリン、 1.29 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−(β
−アリル)−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 1.30 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フ
ェニル−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、 1.31 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フ
ェニル−シス−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、 1.32 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−ビ
ニル−シス−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、 1.33 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−ビ
ニル−シス−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−シクロスポリン、お
よび 1.34 [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−(３
−ブロモ−n−プロピル)−シス−ＭeＢmt]¹−シクロス
ポリン。

【００３６】クラス１のシクロスポリン類の別の群は次
の通りである。 (１b)式中、２位の残基のβ−炭素原子がＯ−アシル置
換されている場合、すなわち、２位の残基がβ−Ｏ−ア
シル−α−アミノ酸残基であり、１位の残基が上記(１
a)項記載のもの以外である場合。

【００３７】２位の残基がβ−Ｏ−アシル−α−アミノ
酸残基である場合、この残基は一般に(Ｌ)立体配置を有
する。好適には、それは式(III')で示される残基であ
る。

【化１５】 (式中、ＡＣＹＬ³はアシル基を表す) 好ましくはそれはＯ−アシル−(Ｌ)−トレオニル残基で
ある。

【００３８】式(III")におけるＡＣＹＬ³として適当な
基は、式Ｒ₃−ＣＯ−またはＲ₇−ＣＯ−Ｒ₈−ＣＯ−(た
だし、Ｒ₃は式(III)の場合と同意義、Ｒ₇は２位のβ−
オキシ−(Ｌ)−α−アミノ酸残基が前記残基のβ−酸素
原子を介して−ＣＯ−Ｒ₈−ＣＯ−部分と結合している
シクロスポリンの残基、およびＲ₈はＣ₁-₈アルキレンで
ある)で示されるものである。

【００３９】Ｒ₈としてのアルキレン基は分枝状または
直鎖であり得る。好ましくはそれらは直鎖である。Ｒ₈
は好ましくはＣ₁-₄アルキレンである。式Ｒ₃−ＣＯ−で
示されるアシル基が一般に好ましく、Ｒ₃−ＣＯ−の好
ましい意味は式(III)に関して前述した通りである。

【００４０】この群の特定のシクロスポリン類は、上記
式(II)(ただし、Ａは−ＭeＢmt−または−ジヒドロ−Ｍ
eＢmt−、Ｂは上記(１b)項記載、例えば上記式(III')の
残基、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−である)で示さ
れるものである。

【００４１】この発明による用途に適した前記シクロス
ポリン類の例は次の通りである。 1.35 [Ｏ−アセチル−Ｔhr]²−シクロスポリン、および 1.36 １,２−エタンジカルボン酸[Ｏ−トレオニル]²−
シクロスポリンジエステル。

【００４２】シクロスポリン1.36は式(VI)で示される。

【化１６】 クラス１のシクロスポリン類のさらに好ましい群は下記
の通りである。(１c)式中、１位の残基の３'−炭素原子
がオキソ置換されている場合。１位の残基の３'−炭素
原子がオキソ置換されている場合、これは好適には式(V
II)で示される−３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢ
mt−である。

【化１７】 この群の特に好ましいシクロスポリン類は、上記式(II)
(ただし、Ａは上記式(VII)の残基、Ｂは式(II)で与えら
れた意味、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−である)で
示されるものである。

【００４３】クラス１のシクロスポリン類のさらに別の
群は、下記の通りである。 (１d)式中、２位の残基のβ−炭素原子がβ−オキソ置
換されている場合、すなわち、２位の残基がβ−オキソ
−α−アミノ酸残基である場合。

【００４４】２位の残基がβ−オキソ−α−アミノ酸残
基である場合、この残基は一般に(Ｌ)立体配置を有す
る。好適には、それは式(VIII)で示される−α−メチル
ケト−Ｇly−である。

【化１８】

【００４５】この発明による用途に適した(１c)および
(１d)群に属するシクロスポリン類の例は次の通りであ
る。 1.37 [３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt]¹−シ
クロスポリン、 1.38 [３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt]¹−[Ｖ
al]²−シクロスポリン、 1.39 [３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt]¹−[Ｎ
va]²−シクロスポリン、 1.40 [α−メチルケト−Ｇly]²−シクロスポリン、およ
び 1.41 [ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[α−メチルケト−Ｇly]²
−シクロスポリン。シクロスポリン1.37〜1.39が特に好
ましい。

【００４６】クラス２ i)１位の残基の３'−炭素原子がＣ₁-₄アルコキシイミノ
置換されているシクロスポリン、例えば１位の残基が−
３'−デスオキシ−３'−(Ｃ₁-₄アルコキシイミノ)−Ｍe
Ｂmt−残基であるシクロスポリン、または ii)２位の残基が(Ｌ)−イソロイシル残基であるシクロ
スポリン、または iii)１１位の残基がＮ−メチル−(Ｌ)−アラニル、Ｎ−
メチル−(Ｌ)−イソロイシルまたはＮ−メチル−(Ｌ)−
アロイソロイシルまたはＮ−メチル−(Ｌ)−ロイシル残
基であるシクロスポリン。

【００４７】上記(i)項記載の−３'−デスオキシ−３'
−(Ｃ₁-₄アルコキシイミノ)−ＭeＢmt−残基は式(IX)で
示される。

【化１９】 (式中、Ｒ₉はＣ₁-₄アルキルである) Ｒ₉としてのアルキル基は分枝状または直鎖であり得
る。好ましくはそれらは直鎖である。

【００４８】上記(iii)項で使用されているＮ−メチル
−(Ｌ)−アロイソロイシル(−ＭeアロＩle−)の語は、
式(Ｘ)で示される残基を意味する。

【化２０】

【００４９】このクラスの好ましいシクロスポリン類
は、式(XI)で示されるものである。

【化２１】 [式中、Ａは、−ＭeＢmt−、−ジヒドロ−ＭeＢmt−ま
たは上記(i)項記載の残基であり、Ｂは、−αＡbu−、
−Ｔhr−、−Ｖal−または−Ｎva−、またはさらに、Ａ
が−ＭeＢmt−または−ジヒドロ−ＭeＢmt−である場合
−Ｉle−であり、そしてＡが−ＭeＢmt−または−ジヒ
ドロ−ＭeＢmt−およびＢが−αＡbu−、−Ｔhr−、−
Ｖal−または−Ｎva−である場合、Ｚは−ＭeＡla−、
−ＭeＩle−、−ＭeアロＩle−または−ＭeＬeu−であ
るか、またはＡが上記(i)項記載の残基であるか、また
はＢが−Ｉle−である場合、Ｚは−ＭeＶal−である]
この発明による用途に適したシクロスポリン類の例は、
次の通りである。

【００５０】2.1 [３'−デスオキシ−３'−メトキシイ
ミノ−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、 2.2 [Ｉle]²−シクロスポリン、 2.3 [ＭeＡla]¹¹−シクロスポリン、 2.4 [ＭeＩle]¹¹−シクロスポリン、および 2.5 [ＭeアロＩle]¹¹−シクロスポリン、および 2.6 [ＭeＬeu]¹¹−シクロスポリン。

【００５１】このクラスの中で、２位の残基が上記(ii)
項記載の意味を有するシクロスポリン、特にシクロスポ
リン2.2が好ましい。１１位の残基が上記(iii)項記載の
意味を有するシクロスポリン、例、シクロスポリン2.4
および2.5もまた特に興味深いものである。

【００５２】クラス３ 上記式(XI)(ただし、Ｚは−Ｖal−または−ＭeＶal−、
ただし、Ｚが−Ｖal−である場合、Ａは−ＭeＢmt−も
しくは−ジヒドロ−ＭeＢmt−、またはＺが−ＭeＶal−
である場合、Ａは−３'−デスオキシ−ＭeＢmt−、３'
−デスオキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt−、−Ｎ−デスメチ
ル−ＭeＢmt−、−Ｎ−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt
−、−３'−デスオキシ−４'−デスメチル−ジヒドロ−
ＭeＢmt−または−ＭeＬeu−、そしてＺが−Ｖal−であ
る場合、Ｂは−αＡbu−または−Ｔhr−、Ｚが−ＭeＶa
l−およびＡが−３'−デスオキシ−ＭeＢmt−、−３'−
デスオキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt−、−３'−デスオキシ
−４'−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−または−Ｍe
Ｌeu−である場合、Ｂは−αＡbu−、またはＱが−Ｍe
Ｖal−およびＡが−Ｎ−デスメチル−ＭeＢmt−または
−Ｎ−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−である場合、
Ｂは−Ｔhr−である)で示されるシクロスポリン類。

【００５３】このクラスのシクロスポリン類は次の通り
である。 3.1 [Ｖal]¹¹−シクロスポリン(シクロスポリンＥとし
ても知られている)、 3.2 [ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]¹¹−シクロスポリン
(またはジヒドロシクロスポリンＥ)、 3.3 [３'−デスオキシ−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(ま
たはシクロスポリンＦ)、 3.4 [３'−デスオキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−シクロ
スポリン(またはジヒドロシクロスポリンＦ)、 3.5 [Ｎ−デスメチル−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−シクロス
ポリン(またはシクロスポリンＰ)、 3.6 [Ｎ−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²
−シクロスポリン(またはジヒドロシクロスポリンＰ)、 3.7 [Ｔhr]²−[Ｖal]¹¹−シクロスポリン(またはシクロ
スポリンＷ)、 3.8 [ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Thr]²−[Ｖal]¹¹−シクロ
スポリン(またはジヒドロシクロスポリンＷ)、 3.9 [３'−デスオキシ−４'−デスメチル−ジヒドロ−
ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(またはシクロスポリン
Ｚ)、 3.10 [ＭeＬeu]¹−シクロスポリン(またはシクロスポリ
ン２８)。

【００５４】(１a)群、特に(１a¹)群および(１b)群の様
々なアシル化シクロスポリン類は公知のものである。す
なわちシクロスポリン1.1、1.4、1.8、1.9、1.13、1.14
および1.34は、例えばトラバー等、「ヘルベティカ・シ
ミカ・アクタ」(Ｈelv．Ｃhim．Ａcta)、６０巻、１２４
７頁以下(１９７７年)、６５巻、１６５５頁以下(１９
８２年)、７０巻、１３頁以下(１９８７年)、コーベル
等、「ヨーロピアン・ジャーナル・オブ・アプライド・
マイクロバイオロジー・アンド・バイオテクノロジー」
(Europ．J．Applied Microbiology and Biotechnolog
y)、１４巻、２７３頁以下(１９８２年)並びにフォン・
バルトブルグ等、「プログレス・イン・アラージー」(Pro
gress in Allergy)、３８巻、２８頁以下(１９８６
年)から知られ、それらの製法と共に記載されている。

【００５５】シクロスポリン1.2、1.3、1.5、1.6、1.7
および1.10は新規であり、それ自体新規化合物としてこ
の発明の一部を形成する。シクロスポリン1.2、1.5〜1.
7および1.10は、例えばシクロスポリン1.1の製法に関す
る当技術文献に記載された方法と同様にして、対応する
シクロスポリン類(ただし、１位の残基は−ＭeＢmt−ま
たは−ジヒドロ−ＭeＢmt−である)のアセチル化により
製造され得る。シクロスポリン出発材料は公知であり、
シクロスポリン1.6および1.7の場合例えばヨーロッパ特
許公開第０１９４９７２号に記載されている。生成物で
あるシクロスポリンは下記の物理特性を有する。

【表１】

【００５６】一般に、シクロスポリン出発材料の２位の
残基がβ−ヒドロキシ−α−アミノ酸残基、例えば−Ｔ
hr−である場合、この位置のβ−ＯＨ基は、１位の例え
ば−ＭeＢmt−または−ジヒドロ−ＭeＢmt−の３'−ヒ
ドロキシよりも容易に反応に対して感受性を示す。すな
わち、１位の残基ではなく、２位の残基がアシル化され
ているシクロスポリン類[(１b)群のシクロスポリン類
(例、シクロスポリン1.35)の場合]、または１位および
２位の残基が共にアシル化されているシクロスポリン類
[(１a¹)群のシクロスポリン1.13および1.14の場合]は、
上記の反応性における相対的な差を利用する当技術文献
に記載された方法に従うかまたはこれと類似の方法によ
り容易に製造され得る。１位が３'−アシル化されてい
るが２位に遊離β−ＯＨ基を有するシクロスポリン類
[例えばシクロスポリン1.3の場合]を製造するために
は、まず２位のヒドロキシ基を保護し、次いで１位の残
基をアシル化した後、保護基を除去することが必要であ
る。以下の実施例は一般的手順を示したものである。

【００５７】実施例Ａ [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−シクロスポ
リン(シクロスポリン1.3)の製造。 １段階 : [Ｔhr]²−シクロスポリンの−Ｔhr−²におけ
るＯ−保護基の導入。 ６.０９gの[Ｔhr]²−シクロスポリンを２５mlの無水Ｃ
Ｈ₂Ｃl₂に溶かし、５mlのエチニルエーテルおよび０.２
mlのトリフルオロ酢酸を加える。反応混合物を窒素雰囲
気下室温で２０時間撹はんする。反応混合物を冷２０％
ＫＨＣＯ₃と共に振り混ぜ、水で洗浄し、ＣＨ₂Ｃl₂で抽
出し、ＭgＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、濃縮する。得られた
泡状物において、４４０gのシリカゲル(０.０４−０.０
６)を用い、溶離剤としてトルエン／アセトン(２:１)を
用い、５００mlのフラクションに集めるクロマトグラフ
ィー精製を行う。生成物、[Ｔhr−１−メチル−エトキ
シメチルエーテル]²−シクロスポリンをフラクション２
６〜２９から回収する。mp＝７６.６°。

【００５８】２段階 : [Ｔhr]²−シクロスポリンの−Ｔ
hr−²Ｏ−保護形のアシル化。 １段階の生成物１０.６６g、無水酢酸１０６mlおよび４
−ジメチルアミノピリジン１.２２gを合わせ、室温で２
０時間撹はんし、４０℃でトルエンに吸収させる。残留
物を４００mlのトルエンに溶かし、２５０mlの冷酢酸で
１回、２５０mlのＨ₂Ｏで１回、２００mlの冷２０％Ｋ
ＨＣＯ₃で１回および２５０mlのＨ₂Ｏで１回抽出する。
トルエン抽出物をＭgＳＯ₄で乾燥し、ろ過し、濃縮し、
真空乾燥すると、[３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹−[Ｔ
hr−１−メチル−エトキシメチルエーテル]²−シクロス
ポリンが生成する。

【００５９】３段階 : [３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt]¹
−[Ｔhr]²−シクロスポリンの−Ｔhr−²Ｏ−保護形の脱
保護。 ２段階の生成物１１.３８g、テトラヒドロフラン８０ml
および６７％酢酸１６０mlをＮ₂下室温で４８時間撹は
んする。反応混合物をトルエンに吸収させ、残留物をト
ルエンに溶かし、２０％ＫＨＣＯ₃と振り混ぜ、Ｈ₂Ｏで
洗浄し、トルエン抽出物をＭgＳＯ₄で乾燥し、ろ過す
る。ろ液を濃縮し、４４０gのシリカゲル(０.０４−０.
０６)を用い、溶離剤としてトルエン／アセトン(３:１)
を用い、５００mlのフラクションに集めるクロマトグラ
フィー精製を行う。最終生成物、[３'−Ｏ−アセチル−
ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−シクロスポリンをフラクション５
−９から回収する。mp＝７５.６°、[α]_D ²⁰＝−２７
５.５°(c＝０.６５、ＣＨＣl₃中)。

【００６０】式(II')で示されるシクロスポリン類は新
規であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部を
形成する。従って、この発明は別の態様において新規な
群のシクロスポリン類として下記のものを提供する。
(１a⁴)前記式(II')で示されるもの。

【００６１】(１a⁴)群のシクロスポリン類は、対応する
シクロスポリン(ただし、１位の残基は−ＭeＢmt−また
は−ジヒドロ−ＭeＢmt−である)から出発する、シクロ
スポリン1.3の製法について前述されたか、またはこれ
と類似した、公知シクロスポリン類1.1、1.4等の製造手
順と全く同様にして製造され得る。必要とされる出発材
料は公知であり、それらの製法と共に、例えば英国特許
出願第２１５５９３６号、米国特許第４６３９４３４号
およびヨーロッパ特許公開第００５６７８２号に記載さ
れている。前述した通り、式(II')[ただし、Ｗはβ−ヒ
ドロキシ−(β−Ｏ−アシル−以外)−α−アミノ酸残基
である]で示されるシクロスポリン類は、例えば実施例
Ａと同様に、最初に８位を保護し、１位をアシル化し、
次いで８位を脱保護することにより製造される。

【００６２】(１a⁴)群のシクロスポリン1.15は次の特性
データを有する。[α]_D ²⁰＝−２７２°(c＝１.０、ＣＨ
Ｃl₃中)。１位の残基の３'−炭素原子がアジドアルキル
カルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ置
換されているシクロスポリン類もまた新規であり、それ
自体新規化合物としてこの発明の一部を形成する。

【００６３】このタイプのシクロスポリン類の群は次の
ものを含む。(１a⁵)式中、１位の残基が−３'−Ｏ−(Ｃ
₁-₄アジドアルキル)−カルボニル−または−３'−Ｏ−
(Ｃ₁-₄アルコキシ)−カルボニル− −ＭeＢmt−または
−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基である場合、すなわち、上
記式(Ｉ)において、ＡＣＹＬ¹が式Ｒ₁'−ＣＯ−または
Ｒ₂−Ｏ−ＣＯ−(式中、Ｒ₁'はＣ₁-₄アジドアルキルお
よびＲ₂はＣ₁-₄アルキルである)で示される基である場
合。この群の好ましいシクロスポリン類は上記式(II)
[ただし、Ａは前記(１a⁵)項記載の残基、Ｂは式(II)に
おいて定義した意味、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−
である]で示されるものである。

【００６４】またこの発明は、下記工程を含む(１a⁵)群
のシクロスポリン類の製造方法を提供する。 a)対応するシクロスポリン(ただし、１位の残基は−Ｍe
Ｂmt−または−ジヒドロ−ＭeＢmt−である)を式(XII)
または(XIII) Ｒ₁'−ＣＯ−Ｑ (XII) Ｒ₂−Ｏ−ＣＯ−Ｑ (XIII) (式中、Ｒ₁'およびＲ₂は前記の意味およびＱは脱離基で
ある)で示される化合物と反応させる。Ｑは好適にはハ
ロゲンまたは−ＯＨである。Ｑがハロゲンである場合、
反応は好適には例えば触媒(例、n−ブチルリチウム)の
存在下に行なわれる。Ｑが−ＯＨである場合、反応は好
適には活性剤の存在下に行なわれる。反応は、例えば下
記実施例Ｂ記載の要領で、好適には約−１００〜−５０
℃の温度で行なわれる。

【００６５】実施例Ｂ １．[３'−Ｏ−メトキシカルボニル−ＭeＢmt]¹−シク
ロスポリン(シクロスポリン1.11)の製造。 3.７６mlのヘキサン中 n−ブチルリチウムの１.４８モ
ル溶液３.７６mlを−７８°でテトラヒドロフラン中ジ
イソプロピルアミン０.８７mlに加え、−７８℃で３０
分間全体を撹はんする。１５mlの乾燥テトラヒドロフラ
ン中１.０gのシクロスポリンを同温度で加え、さらに３
０分間撹はんを続ける。０.３２６mlのメチルクロロホ
ルメートを加え、−７８℃でさらに１時間撹はんを続け
る。次いで温度を室温に放暖する。１０mlの水を加え、
テトラヒドロフランの大部分を濃縮により除去する。残
留物を１００mlのエチルエーテルおよび５０mlの水に吸
収させ、水層を分離し、エチルエーテルで２回抽出す
る。有機抽出物を合わせ、ＭgＳＯ₄で乾燥し、濃縮乾固
する。酢酸エチルで溶離するシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより残留物を精製すると、標記化合物が得られ
る。[α]_D ²⁰＝−２３４°(c＝１.０、ＣＨＣl₃中)。

【００６６】２．[３'−Ｏ−(４−アジドブタノイル)−
ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(シクロスポリン1.12)の製
造。 ７.７４gのγ−アジド酪酸、８.６gの４−ジメチルアミ
ノピリジンおよび５.１１gのムラヤマ試薬(２−クロロ
−１−メチル−ピリジニウムヨージド)を２００mlの無
水ＣＨ₂Ｃl₂中１２.０２gのシクロスポリンに加え、反
応混合物を室温で８０時間撹はんする。得られた生成物
をＣＨ₂Ｃl₂で希釈し、１００mlの氷冷１０％ＮaＯＨ、
２００mlのＨ₂Ｏおよび２００mlの１０％酢酸と振り混
ぜ、水で洗浄し、有機相をＮa₂ＳＯ₄で乾燥する。ろ液
を濃縮し、再び乾燥する。生成物において、１.２kgの
シリカゲル(０.０４−０.０６mm)を用い、溶離剤として
ヘキサン／アセトン(３:１)を用い、フラクション２０
まで２５０mlのフラクションに集め、次いでヘキサン／
アセトン(７:３)で溶離し、それ以降３００mlのフラク
ションに集めるクロマトグラフィー精製を行う。標記化
合物がフラクション２３−２７から回収される。[α]_D
²⁰＝−２８９.８°(c＝０.５、ＣＨＣl₃中)。 上記(１a²)群のシクロスポリン類もまた新規であり、そ
れ自体新規化合物としてこの発明の一部を形成する。

【００６７】またこの発明は、下記工程を含む(１a²)群
のシクロスポリン類の製造方法を提供する。 b)対応するシクロスポリン[ただし、１位の残基は式(XI
V)

【化２２】 (式中、−x−y−およびＲ₄は式(IV)に関して定義した意
味を有する)で示される−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−シス
−ＭeＢmt−または−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−ジヒドロ
−ＭeＢmt−残基である]をアシル化する、例えば、式(X
V)

【化２３】Ｒ₅−ＣＯ−Ｑ (XV) (式中、Ｒ₅はＣ₁-₄アルキルおよびＱは脱離基、例えば
ハロゲン原子である)で示される化合物と反応させるこ
とにより、上記式(II)[ただし、Ａは前記式(XIV)の残
基、Ｂは式(II)に関して定義した意味、Ｘは−Ｓar−お
よびＹは−Ｖal−である]で示されるシクロスポリンを
アシル化する、または

【００６８】c)(１a²)群のシクロスポリン[ただし、１
位の残基は上記式(IV)(ただし、−x−y−はシス−ＣＨ
＝ＣＨ−、Ｒ₄は式(IV)に関して定義した意味およびＡ
ＣＹＬ¹はアシルＯ−保護基、例、アセチルである)の−
３'−Ｏ−アシル−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−シス−ＭeＢ
mt−残基である]の製造の場合、１位の残基が式（ＸＶ
Ｉ）

【化２４】 （式中、Ｒ₁₀はアシルＯ−保護基、例えばアセチルであ
る)で示される−３'−Ｏ−アシル−５'−デス−(１−プ
ロペニル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt−残基であるシク
ロスポリン、例えば上記式(II)(ただし、Ａは式(XVI)で
示される残基、Ｂは式(II)に関して定義した意味、Ｘは
−Ｓar−およびＹは−Ｖal−である)で示されるシクロ
スポリンを式(XVII)

【化２５】 (式中、Ｒ₁₁は各々フェニルまたはＣ₁-₄アルキルであ
り、Ｒ₄は式(IV)に関して定義した意味を有する)で示さ
れる化合物と反応させる。上記(c)工程による反応は、
例えば無水条件下、例えば不活性溶媒または希釈剤
(例、無水ベンゼン、テトラヒドロフラン、エチルエー
テルまたはトルエン)中、約−８０℃〜２０℃の温度
で、所望により塩(例、アルカリ金属ハロゲン化物)の存
在下にウィッティヒ反応の実施に用いられる標準的方法
に従い実施され得る。反応は好適には不活性雰囲気下で
行なわれる。

【００６９】(c)工程に必要とされるシクロスポリン出
発材料は、対応するシクロスポリン類(ただし、１位の
残基は−３'−Ｏ−アシル−保護−ＭeＢmt−、例えば−
３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt−である)から、 d)オゾン分解および穏やかな還元剤による直ちに得られ
たオゾン分解生成物の処理により生成され得る。

【００７０】反応工程(d)によるオゾン分解は、標準的
技術に従い、例えば約−９０〜約−４０℃の温度で例え
ば酢酸エチルまたはジクロロメタンの存在下にオゾン発
生器中で実施され得る。適当な穏やかな還元剤はジメチ
ルスルフィドである。好適には、オゾン分解および穏や
かな還元剤による処理は、例えば下記実施例Ｃ記載の要
領で単一反応容器中で行なわれる。

【００７１】(d)工程の出発材料は(１a¹)群のシクロス
ポリンであり、公知であるかまたは前記の要領で製造さ
れ得る。(b)工程は、例えば文献に関連して前述した(１
a¹)および(１b)群のシクロスポリン類の製造方法と類似
の方法で実施され得る。同様に、２位に遊離β−ヒドロ
キシ−α−アミノ酸残基、例えば−Ｔhr−を有する(１a
²)群のシクロスポリン類は、例えば前記実施例Ａに関連
して記載した方法と類似の手順で、中間体保護、続いて
β−ＯＨ基の脱保護により製造され得る。上記(b)工程
の出発材料は、

【００７２】e)対応するシクロスポリン(ただし、１位
の残基は、−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−シス−ＭeＢmt−
もしくは−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt
−残基の３'−保護形である)の脱保護、または f)対応するシクロスポリン(ただし、１位の残基は−８'
−Ｃ₁-₈アルコキシ−シス−ＭeＢmt−残基の遊離もしく
は３'−Ｏ−保護形である)の還元および、必要ならば
(e)工程の実施により製造され得る。

【００７３】(e)工程の出発材料における適当な３'−Ｏ
−保護基は、アシルおよびエーテル保護基を含むペプチ
ド化学技術分野において常用される公知のものを全て包
含する。すなわち、(e)工程の出発材料は上記(c)工程の
生成物を含む。対応する出発材料(ただし、３'−Ｏ−保
護基はアシル以外である)は、適当な３'−Ｏ−保護シク
ロスポリン類から出発して(d)および(c)工程と類似の手
順で製造され得る。

【００７４】(e)工程自体は、ペプチド化学技術分野で
常用される手順に従い、例えば塩基(例、アルカリ金属
アルコキシドまたは炭酸塩)の存在下における加水分解
によりアセチル保護基を除去するか、または例えばトリ
フルオロ酢酸またはＨＣlの存在下における加水分解的
エーテル開裂により保護エーテル基を除去することによ
り実施され得る。(e)工程は好適には約−２０〜約２０
℃の温度で行なわれる(例えば、後記実施例Ｄ)。

【００７５】(f)工程もまた、例えば英国特許明細書第
１５６７２０１号に開示された一般的方法に従い、例え
ば接触水素化による、天然シクロスポリンの対応するジ
ヒドロシクロスポリンへの還元に関する公知方法と類似
の手順で実施され得る。水素化は、好適には不活性溶媒
または希釈剤、例えば酢酸エチルまたは低級脂肪族アル
カノール類(例、メタノールおよびイソプロパノール)の
存在下、触媒、例えば白金または好ましくはパラジウム
(例、パラジウム炭素)の存在下に大気圧またはそれより
僅かに高い圧力下約２０〜約３０℃の温度で、中性pＨ
条件下に行なわれる。

【００７６】(b)工程のシクロスポリン出発材料もまた
新規であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部
を形成する。従って、この発明はまた別の態様において
下記のものを提供する。 クラス４ １位の残基が上記式(XIV)で示される−８'−アルコキシ
−シス−ＭeＢmt−または−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−ジ
ヒドロ−MeＢmt−残基であるシクロスポリン。このクラ
スの好ましいシクロスポリン類は(b)工程記載の式(II)
で示されるものである。

【００７７】またクラス４のシクロスポリン類は、中間
体としてのそれらの用途に加えて、例えば後記の免疫抑
制、抗炎症および抗寄生体活性を有する。すなわち前記
シクロスポリン類はそれら独自の用途を有する。

【００７８】クラス４のシクロスポリン類はまた、前記
クラス１〜３のシクロスポリン類の場合と同様、化学療
法的薬物療法に対する感受性の向上またはその効果の増
強をもたらす活性、特に化学療法薬剤耐性、例えば抗新
生物または細胞増殖抑制化学療法に対する耐性を打ち消
す活性を呈する。しかしながら、例えばそれら固有の免
疫抑制特性に注目した場合、クラス４のシクロスポリン
類は総じて前記適応症での使用に関する適性が劣ってい
る。

【００７９】(c)工程のシクロスポリン出発材料もまた
新規であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部
を形成する。勿論、これらの出発材料に対し、当技術分
野で公知の方法または実践されている方法に従い、例え
ば操作、輸送または貯蔵上の目的で、間に脱保護および
／または再保護が行なわれ得る。従って、この発明はま
たさらに別の態様において下記のものを提供する。

【００８０】クラス５ １位の残基が−５'−デス−(１−プロペニル)−５'−ホ
ルミル−ＭeＢmt−の遊離または３'−Ｏ−保護形、すな
わち式（ＸＶＩＩＩ）

【化２６】 （式中、Ｒ₁₂は水素またはＯ−保護基である)で示され
る残基であるシクロスポリン。

【００８１】Ｒ₁₂として好ましい保護基はアシルＯ−保
護基、例えばアセチルである。このクラスの好ましいシ
クロスポリン類は上記式(II)(ただし、Ａは上記式(XVII
I)の残基、Ｂは式(II)に関して定義した意味、Ｘは−Ｓ
ar−およびＹは−Ｖal−である)で示されるものであ
る。

【００８２】Ｒ₁₂が水素である場合、式(XVIII)で示さ
れる残基はまた式(XVIII')で示される環状互変異性体形
でも存在する。

【化２７】 上記互変異性体も、この発明の範囲内に存し、例えば上
記クラス５のシクロスポリン類の定義に包含されるもの
とする。

【００８３】以下、実施例により(１a²)群並びにクラス
４および５のシクロスポリン類の上記製造方法の説明を
行う。 実施例Ｃ (１a²)群のシクロスポリン類の製造。 [３'−Ｏ−アセチル−８'−メトキシ−シス−ＭeＢmt]¹
−シクロスポリン(シクロスポリン1.16)の製造。 １６gのメトキシメチルトリフェニルホスホニウムブロ
ミドをアルゴン中２７０mlの無水テトラヒドロフラン
(ＴＨＦ)に懸濁し、−７５℃に冷却する。５gのカリウ
ム−t−ブチレートおよび２００mlの無水ＴＨＦから成
る溶液を３０分間にわたって滴下し、混合物を再び撹は
んする。２時間後、１０gの[３'−Ｏ−アセチル−５'−
デス−(１−プロペニル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt]¹−
シクロスポリンおよび２５mlのＴＨＦから成る溶液を２
０分間にわたって滴下する。混合物を室温で４時間撹は
んし、次いで４００mlの酢酸エチルで処理する。抽出物
を２Ｎ-ＨＣl溶液、飽和ＮaＨＣＯ₃および飽和食塩水で
洗浄する。ろ液を濃縮し、ＣＨＣl₃(１０−４０％)アセ
トン／酢酸エチルを用いた１.２kgおよび０.４４kgのシ
リカゲル(０.０４〜０.０６３mm)によるクロマトグラフ
ィーを行うと、標記化合物が得られる。[α]_D ²⁰＝−２
６７°(c＝０.５３、ＣＨＣl₃中)。

【００８４】シクロスポリン類1.17〜1.21も同様にして
製造され得る。これらは下記の物理特性を有する。

【表２】 上記方法の出発材料、すなわちクラス５のシクロスポリ
ンは下記の要領で製造される。

【００８５】[３'−Ｏ−アセチル−５'−デス−(１−プ
ロペニル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt]¹−シクロスポリ
ン(シクロスポリン5.1)の製造。 ７０mlの酢酸エチル中４８.５gの[３'−Ｏ−アセチル−
ＭeＢmt]¹−シクロスポリンを、フィッシャーオゾン発
生器(０.４気圧、流速１１０l／時)を用いて４５分間−
７０℃でオゾン処理する。得られた溶液をＮ₂でガス処
理し、９.８mlのジメチルスルフィドを加える。溶液を
室温で２時間撹はんし、蒸発により濃縮し、ベンゼンで
２回洗浄し、高度真空乾燥すると、所望の生成物が得ら
れる。これは、これ以上精製せずに後の反応で直接使用
される。[α]_D ²⁰＝−３０２°(c＝１.１５、ＣＨＣl
₃中)。

【００８６】下記のシクロスポリン類も同様にして製造
される。 5.2 [３'−Ｏ−アセチル−５'−デス−(１−プロペニ
ル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt]¹−[Ｏ−アセチル−Ｔh
r]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２７２.６°(c＝０.
５０４、ＣＨＣl₃中)、mp＝１５６−１６０°、 5.3 [３'−Ｏ−アセチル−５'−デス−(１−プロペニ
ル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポ
リン、[α]_D ²⁰＝−３０６°(c＝１.０３、ＣＨＣl
₃中)、mp＝１６８−１７０°、 5.4 [３'−Ｏ−アセチル−５'−デス−(１−プロペニ
ル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−シクロスポ
リン、[α]_D ²⁰＝−２９１.７６°(c＝０.５１、ＣＨＣl
₃中)。

【００８７】実施例Ｄ クラス４のシクロスポリン類の製造。 [８'−メトキシ−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(シ
クロスポリン4.1)の製造。 ４１mlのメタノール／水(５:１)中シクロスポリン1.16
(実施例Ｃより)４gを炭酸カリウム３.５gと共に加熱
し、室温で撹はんする。２１時間後冷却した溶液を１０
％酒石酸溶液により酸性化し、ＣＨＣl₃で３回抽出す
る。抽出物を飽和ＮaＨＣＯ₃および水で洗浄し、Ｎa₂Ｓ
Ｏ₄で乾燥し、濃縮する。酢酸エチルおよび酢酸エチル
／ヘキサン(１００〜２０％)を用いた２２０gシリカゲ
ルによるクロマトグラフィーを行うことにより、標記化
合物が得られる。[α]_D ²⁰＝−２３９°(c＝０.５３、Ｃ
ＨＣl₃中)。

【００８８】次のシクロスポリン類も同様にして得られ
る。 4.2 [８'−t−ブトキシ−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポ
リン、[α]_D ²⁰＝−２２８°(c＝０.５、ＣＨＣl₃中)、 4.3 [８'−メトキシ−シス−MeBmt]¹−[Ｔhr]²−シクロ
スポリン、[α]_D ²⁰＝−２２０°(c＝０.３７、ＣＨＣl₃
中)、 4.4 [８'−t−ブトキシ−シス−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−
シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２１°(c＝０.４３、Ｃ
ＨＣl₃中)、 4.5 [８'−メトキシ−シス−MeBmt]¹−[Ｖal]²−シクロ
スポリン、[α]_D ²⁰＝−２４１°(c＝０.５４、ＣＨＣl₃
中)、 4.6 [８'−メトキシ−シス−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²−シク
ロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３６°(c＝０.６３４、ＣＨ
Ｃl₃中)。 [８'−メトキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−シクロスポリ
ン(シクロスポリン4.7)の製造。

【００８９】３０２mgのシクロスポリン4.1を１０mlの
無水エタノールに溶かし、室温で大気圧下５％パラジウ
ム炭素を用いて水素化する。理論量の水素取り込み(５
０分)後、ハイフロによるろ過により触媒を分離し、溶
媒を減圧濃縮する。残留物を、ヘキサン−アセトン(１:
１)を用いた７０gシリカゲル(Ｏ＝０.０１５mm)による
クロマトグラフィーにかけると、標記化合物が得られ
る。[α]_D ²⁰＝−２２９°(c＝０.５２、ＣＨＣl₃中)。

【００９０】下記のシクロスポリン類も同様にして得ら
れる。 4.8 [８'−メトキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｔhr]²−
シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２１７.５°(c＝０.３
２、ＣＨＣl₃中)、 4.9 [８'−メトキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｖal]²−
シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２３.６°(c＝０.５
８、ＣＨＣl₃中)、 4.10 [８'−メトキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−[Ｎva]²
−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２１.５°(c＝０.５
９４、ＣＨＣl₃中)。

【００９１】上記(１a³)群のシクロスポリン類もまた新
規であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部を
形成する。この発明はまた、下記工程を含む(１a³)群の
シクロスポリン類の製造方法を提供する。

【００９２】g)対応するシクロスポリン[ただし、１位
の残基は、−シス−ＭeＢmt−、−７'−デスメチル−
７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−もしくは−シス−
ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカルビル部分は少なくと
も２個の炭素原子を含む)、または−７'−デスメチル−
７'−ヒドロカルビル−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基(ただ
し、ヒドロカルビル部分は少なくとも２個の炭素原子を
有し、前記ヒドロカルビル部分としてまたはその中に存
在する脂肪族基または部分は全て飽和している)であ
り、上記残基は、式(XIX)

【化２８】 (式中、−x−y−およびＲ₆は式(Ｖ)に関して前述した意
味を有する)で示される得る]をアシル化する、例えば、
前記式(II)[ただし、Ａは上記式(XIX)の残基、Ｂは式(I
I)に関して定義した意味、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖ
al−である]で示されるシクロスポリンを、例えば前記
式(XV)で示される化合物と反応させることによりアシル
化するか、または

【００９３】h)(１a³)群のシクロスポリン[ただし、１
位の残基は、−３'−Ｏ−アシル−シス−ＭeＢmt−(た
だし、アシル部分はアシルＯ−保護基である)、または
−７'−デスメチル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt
−もしくは−シス−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカル
ビル部分は少なくとも２個の炭素原子を有し、Ｏ−アシ
ル部分はアシルＯ−保護基である)であり、前記残基は
上記式(Ｖ)(ただし、−x−y−はシスまたはトランス−
ＣＨ＝ＣＨ−、Ｒ₆は式(Ｖ)に関して記載した意味およ
びＡＣＹＬ¹はアシルＯ−保護基、例えばアセチルであ
る)で示される得る]の製造の場合、１位の残基が上式(X
VI)で示される−３'−Ｏ−アシル−５'−デス−(１−プ
ロペニル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt−残基であるシク
ロスポリン、例えば上式(II)(ただし、Ａは上記式(XVI)
で示される残基、Ｂは式(II)に関して記載した意味、Ｘ
は−Ｓar−およびＹは−Ｖal−である)で示されるシク
ロスポリンを式(XX)

【化２９】 (式中、各Ｒ₁₁はフェニルまたはＣ₁-₄アルキルおよびＲ
₆'は少なくとも２個の炭素原子を有するヒドロカルビル
である)で示される化合物と反応させ、さらに必要なら
ば、所望の反応生成物を単離する。

【００９４】(g)および(h)工程は、例えば下記実施例Ｅ
で後述する通り、前記(b)および(c)工程と全く同様の要
領で実施され得る。(g)工程の出発材料は、 i)対応するシクロスポリン[ただし、１位の残基は−３'
−Ｏ−アシル−シス−ＭeＢmt−または−７'−デスメチ
ル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−もしくは−シ
ス−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカルビル部分は少な
くとも２個の炭素原子を有する)であり、この残基は３'
−Ｏ−保護形である]の脱保護、または j)対応するシクロスポリン[ただし、１位の残基は−７'
−デスメチル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−も
しくは−シス−ＭeＢmt−残基であり、前記残基は遊離
または３'−Ｏ−保護形である]の還元、および必要なら
ば(i)工程の実施により、上記(e)または(f)工程と完全
に同様の方法で製造され得る。

【００９５】適当な３'−Ｏ−保護基は(e)および(f)工
程に関して前述したものと同じである。(j)工程を実施
する場合、ヒドロカルビル部分の不飽和結合は基−x−y
−と一緒に反応を受ける。別法として、シクロスポリン
出発材料(ただし、１位の残基は−シス−ＭeＢmt−であ
る)は、例えばヨーロッパ特許公開第００３４５６７号
または米国特許第４３６９５４２号に記載された、シク
ロスポリン類の全体的合成方法に従い製造され得る。

【００９６】(g)工程のシクロスポリン出発材料(ただ
し、１位の残基は−シス−ＭeＢmt−以外である)もまた
新規であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部
を形成する。従って、別の態様において、この発明は次
のものを提供する。

【００９７】クラス６ １位の残基が、−７'−デスメチル−７'−ヒドロカルビ
ル− −ＭeＢmt−もしくは−シス−ＭeＢmt−残基(ただ
し、ヒドロカルビル部分は少なくとも２個の炭素原子を
有する)または−７'−デスメチル−７'−ヒドロカルビ
ル−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカルビル
部分は少なくとも２個の炭素原子を有し、前記ヒドロカ
ルビル部分として、またはそこに存在する脂肪族基また
は部分は全て飽和している)であり、前記残基は式(XI
X')

【化３０】 (式中、−x−y−はシスもしくはトランス−ＣＨ＝ＣＨ
−または−ＣＨ₂−ＣＨ₂−およびＲ₆"は少なくとも２個
の炭素原子を有するヒドロカルビル、ただし、−x−y−
が−ＣＨ₂−ＣＨ₂−である場合、Ｒ₆"として、またはそ
こに存在する脂肪族基もしくは部分は全て飽和している
ものとする)で示され得るシクロスポリン。

【００９８】このクラスの好ましいシクロスポリンは、
前記式(II)(ただし、Ａは前記式(XIX')の残基、Ｂは式
(II)に関して記載した意味、Ｘは−Ｓar−およびＹは−
Ｖal−である)で示されるものである。またクラス６の
シクロスポリン類は、中間体としてのそれらの用途に加
えて、例えば前記の免疫抑制、抗炎症および抗寄生体活
性を有する。すなわち前記シクロスポリン類はそれら独
自の用途を有する。

【００９９】またクラス６のシクロスポリン類は、前記
クラス１〜３のシクロスポリン類の場合と同様、化学療
法的薬物療法に対する感受性の向上またはその効果の増
強をもたらす活性、特に化学療法薬剤耐性、例えば抗新
生物または細胞増殖抑制化学療法に対する耐性を打ち消
す活性を呈する。しかしながら、例えばそれら固有の免
疫抑制特性に注目した場合、クラス６のシクロスポリン
類は総じて前記適応症での使用に関する適性が劣ってい
る。

【０１００】１位の残基が−シス−ＭeＢmt−である、
本明細書に記載および例示されたシクロスポリン類は、
前記ヨーロッパ特許公開第００３４５６７号および米国
特許第４３６９５４２号の範囲内に含まれるが、正式に
は新規である。以下、実施例により(１a³)群およびクラ
ス６のシクロスポリン類の上記製造方法を説明する。

【０１０１】実施例Ｅ [３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フェニル
−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(シクロスポリン1.22)お
よび[３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−フェ
ニル−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン(シクロスポリ
ン1.27)の製造。 ９.５gのベンジルトリフェニルホスホニウムクロリドを
１５０mlの乾燥ベンゼンに溶かし、水分離器上２４時間
還流下に２.７gのカリウム−t−ブチレートと反応させ
る。冷却後、懸濁液を不活性雰囲気下で新しいフラスコ
中へろ過する。５０mlのベンゼン中５gのシクロスポリ
ン5.1(実施例Ｃ参照)を５分間にわたって加える。室温
で２１時間後、反応混合物を氷に注ぎ、有機相を２Ｎ−
ＨＣl、重炭酸塩溶液および水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濃縮する。残留物に対し、８〜３０ppvの
アセトンを含有するクロロホルムを用いた４４０gのシ
リカゲル(０.０４−０.０６３mm)によるクロマトグラフ
ィーを２回行う。フラクション２はシクロスポリン1.27
を含み、フラクション５−１５はシクロスポリン1.22を
含む。シクロスポリン1.23〜1.26および1.28〜1.34も同
様にして製造され得る。これらのシクロスポリンは下記
の物理特性を有する。

【０１０２】

【表３】

【０１０３】実施例Ｆ クラス６のシクロスポリン類の製造。 [７'−デスメチル−７'−フェニル−ＭeＢmt]¹−シクロ
スポリン(シクロスポリン6.1)の製造。 前記により得られた２.２９gのシクロスポリン1.22を、
１.６７gの炭酸カリウムを含有する２０mlのメタノー
ル:水(４.５:１)に溶かす。室温で２０時間後、１０％
の酒石酸を含有する氷に反応混合物を注ぎ、クロロホル
ムで抽出する。粗抽出物を、アセトン(２０−３０％の
増加量)含有ジクロロメタンを用いた１２０gのシリカゲ
ル(０.０４−０.０６３mm)によるクロマトグラフィーに
掛けると、標記化合物が得られる。[α]_D ²⁰＝−２０９
°(c＝０.９９、ＣＨＣl₃中)。

【０１０４】下記シクロスポリンも同様の手順で得られ
る。 6.2 [７'−デスメチル−７'−フェニル−シス−ＭeＢm
t]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３６°(c＝１、Ｃ
ＨＣl₃中)、 6.3 [７'−デスメチル−７'−ビニル−シス−ＭeＢmt]¹
−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２４９°(c＝１.１７、
ＣＨＣl₃中)、 6.4 [７'−デスメチル−７'−ビニル−シス−ＭeＢmt]¹
−[Ｔhr]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２４８°(c＝
１.４４、ＣＨＣl₃中)、 6.5 [７'−デスメチル−７'−(３−メチル−n−ブチル)
−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２４
０°(c＝１.１５、ＣＨＣl₃中)、 6.6 [７'−デスメチル−７'−n−プロピル−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２０°(c＝１.
７５、ＣＨＣl₃中) 6.7 [７'−デスメチル−７'−(β−アリル)−シス−Ｍe
Ｂmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３９°(c＝０.
９７、ＣＨＣl₃中)、 6.8 [７'−デスメチル−７'−フェニル−ＭeＢmt]¹−
[Ｖal]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２０８°(c＝
１.０２５、ＣＨＣl₃中)、 6.9 [７'−デスメチル−７'−フェニル−シス−ＭeＢm
t]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２４０°
(c＝０.９１、ＣＨＣl₃中、) 6.10 [７'−デスメチル−７'−ビニル−シス−ＭeＢmt]
¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２５４.８°
(c＝０.４８、ＣＨＣl₃中)、 6.11 [７'−デスメチル−７'−ビニル−シス−ＭeＢmt]
¹−[Ｎva]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２４６.１°
(c＝０.５２、ＣＨＣl₃中)、 6.12 [７'−デスメチル−７'−(３−ブロモ−n−プロピ
ル)−シス−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−
２２６°(c＝１.４４、ＣＨＣl₃中)。

【０１０５】シクロスポリン1.23の脱保護により[シス
−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３５°(c
＝０.９、ＣＨＣl₃中)が製造される。 [７'−デスメチル−７'−フェニル−ジヒドロ−ＭeＢm
t]¹−シクロスポリン(シクロスポリン6.13)の製造。 シクロスポリン6.1および6.2の混合物７９６mgを、室温
で６時間５０mlのエタノール中１００mgの１０％Ｐd炭
素を用いて水素化する。ハイフロでろ過すると、純粋な
標記化合物が生成する。[α]_D ²⁰＝−２１０°(c＝０.
７、ＣＨＣl₃中)。

【０１０６】同様の方法で下記シクロスポリンが得られ
る。 6.14 [７'−デスメチル−７'−n−プロピル−ジヒドロ
−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−１８８°(c
＝６.１６、ＣＨＣl₃中)、シクロスポリン6.6または6.7
から得られる、 6.15 [７'−デスメチル−７'−エチル−ジヒドロ−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｔhr]²−シクロスポリン、[α]²⁰＝−２２４
°(c＝０.４、ＣＨＣl₃中)、シクロDスポリン6.4から得
られる、 6.16 [７'−デスメチル−７'−(３−メチル−n−ブチ
ル)−ジヒドロ−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰
＝−２２２°(c＝０.９９５、ＣＨＣl₃中)、シクロスポ
リン6.5から得られる、 6.17 [７'−デスメチル−７'−i−プロピル−ジヒドロ
−ＭeＢmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２９°(c
＝１.３２、ＣＨＣl₃中)、 6.18 [７'−デスメチル−７'−エチル−ジヒドロ−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３
２.９°(c＝０.４８、ＣＨＣl₃中)、シクロスポリン6.1
0から得られる、 6.19 [７'−デスメチル−７'−エチル−ジヒドロ−Ｍe
Ｂmt]¹−[Ｎva]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２２
７.２９°(c＝０.５４、ＣＨＣl₃中)、シクロスポリン
6.11から得られる、 6.20 [７'−デスメチル−７'−フェニル−ジヒドロ−Ｍ
eＢmt]¹−[Ｖal]²−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２１
４°(c＝１.１９、ＣＨＣl₃中)、シクロスポリン6.8ま
たは6.9から得られる、 6.21 [７'−デスメチル−７'−エチル−ジヒドロ−Ｍe
Ｂmt]¹−シクロスポリン、[α]_D ²⁰＝−２３３°(c＝１.
１５、ＣＨＣl₃中)、シクロスポリン6.3から得られる。

【０１０７】明らかなことであるが、前述の(１a²)およ
び(１a³)群並びにクラス４、５および６のシクロスポリ
ン類は、全て新規なものであり、構造上関連性が有り、
便宜上、例えば１位の残基が下式(XXI)で示される残基
であるシクロスポリン類を含む統一カテゴリーに問題な
く包含され得る。

【０１０８】

【化３１】 [式中、(i)Ｒaはホルミルであり、Ｒbは式(XVIII)に関
して定義したＲ₁₂と同意義であるか、または、(ii)Ｒa
は−x'−y'−Ｒc(式中、−x'−y'−Ｒcは前記式(IV)、
(Ｖ)、(XIV)および(XIX')に関して定義した−x−y−
Ｒ₃、−x−y−Ｒ₅または−x−y−Ｒ₅"と同意義である)
であり、Ｒbは水素またはアシルである] 同様に、(１a²)および(１a³)群並びにクラス４および６
のシクロスポリン類は、全て新規であって中間体として
以外の用途を有し、例えば１位の残基が上記式(XXI)[た
だし、ＲaおよびＲbは式(XXI)に関して(ii)項で定義し
た意味を有する]で示される残基であるシクロスポリン
類を含む統一されたサブカテゴリーに包含され得る。

【０１０９】Ｒbとしてのアシル基は、好ましくは式(II
I)および(IV)に関して定義された基ＡＣＹＬ¹、特に(Ｃ
₁-₄アルキル)−カルボニル、例えばアセチルである。前
記カテゴリー／サブカテゴリーの好ましいシクロスポリ
ン類は、上記式(II)[ただし、Ａは前記式(XXI)で示され
る残基、Ｂは式(II)の場合と同意義、Ｘは−Ｓar−およ
びＹは−Ｖal−である]で示されるものである。

【０１１０】前述の(１b)群の様々なシクロスポリン
類、例えば２位の残基が上記式(III')(ただし、ＡＣＹ
Ｌ³はアセチルである)で示される残基であるシクロスポ
リンは公知である。すなわち、シクロスポリン1.35は公
知であり、その製法と共に、トラバー等、「ヘルベティ
カ・シミカ・アクタ」(Helv．Chim．Acta)、６０巻、１
２４７頁以下(１９７７年)に記載されている。(１b)群
の他のシクロスポリン類も同様に製造され得る。しかし
ながら、シクロスポリン1.36は完全な新規タイプに属す
る。従って、この発明によるシクロスポリンのさらに別
の群は次の群を含む。

【０１１１】(１e)群 i)２位にβ−ヒドロキシ−(Ｌ)−α−アミノ酸残基を有
するシクロスポリンのジカルボン酸ジエステル、特に、 ii)２位ら(Ｌ)−トレオニル残基を有するシクロスポリ
ンのジカルボン酸ジエステル、および特に、 iii)式（ＸＸＩＩ）

【化３２】 ［式中、Ｒ₁₃はＣ₁-₈アルキレンであり、CY は各々上式
(II)(ただし、Ａは−ＭeＢmt−または−ジヒドロ−Ｍe
Ｂmt−、Ｂは式(XXIII)

【化３３】 で示される(Ｌ)−トレオニル残基、Ｘは−Ｓar−および
Ｙは−Ｖal−である)で示される残基を表す]で示される
ジカルボン酸ジエステル。

【０１１２】好ましくはＲ₁₃はＣ₁-₄アルキレンであ
る。この発明はまた、下記の工程を含む(１e)群のシク
ロスポリンの製法を提供する。 k)２位の残基がβ−ヒドロキシ−(Ｌ)−α−アミノ酸残
基であるシクロスポリンのβ−Ｏ−ヘミエステル、例え
ば式(XXIV)

【化３４】 (式中、CY およびＲ₁₃は前記の意味)で示されるβ−Ｏ
−ヘミエステルまたはその反応性官能性誘導体を、２位
の残基がβ−ヒドロキシ−(Ｌ)−α−アミノ酸残基であ
るシクロスポリン、例えば上記式(II)(ただし、Ａは−
ＭeＢmt−または−ジヒドロ−ＭeＢmt−、Ｂは−Ｔhr
−、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−である)で示され
るシクロスポリンと反応させる。

【０１１３】反応は、好適には下記実施例Ｇの一般的手
順に従い実施され得る。 実施例Ｇ １,２−エタンジカルボン酸[Ｏ−(Ｌ)トレオニル]²−シ
クロスポリンジエステル(シクロスポリン1.36)の製造。 ０.２５５gの２−クロロ−１−メチル−ピリジニウムヨ
ージドおよび０.２４４gの４−ジメチルアミノピリジン
を、０℃で５mlの無水ＣＨ₂Ｃl₂中１.３１８gの[(Ｏ−
ヘミスクシニル)−Ｔhr]²−シクロスポリンに加える。
１.２１８gの[Ｔhr]²−シクロスポリンを加え、反応混
合物を０℃で３時間撹はんし、さらに撹はんしながら温
度を２０℃に上昇させる。反応混合物をＣＨ₂Ｃl₂で希
釈し、氷を加えて１０mlの０.１Ｎ−ＮaＯＨと振り混ぜ
る。混合物をＨ₂Ｏで２回洗浄し、有機相をＮa₂ＳＯ₄で
乾燥し、ろ過し、濃縮する。シリカゲルおよび溶離剤と
してヘキサン／アセトン(１:１)を用いるクロマトグラ
フィーにより粗生成物を精製すると標記化合物が得られ
る。[α]_D ²⁰＝−２０９.４°(c＝０.５、ＣＨＣl₃中)。

【０１１４】出発材料として必要とされる[(Ｏ−ヘミス
クシニル)−Ｔhr]²−シクロスポリンは公知である。例
えば国際特許出願第ＰＣＴ／ＥＰ８５／００５０１号、
国際特許公開第ＷＯ８６／０２０８０号、実施例５参
照。(１e)群のシクロスポリン類の製造に適した他のヘ
ミエステル出発材料も同様にして製造され得る。前記
(１c)群のシクロスポリンは新規であり、それ自体新規
化合物としてこの発明の一部を形成する。

【０１１５】この発明はまた、下記の工程を含む(１c)
群のシクロスポリン類の製法を提供する。 l)１位の残基が３'−ヒドロキシ置換されている、例え
ば−ＭeＢmt−であるシクロスポリンを酸化する。 上記(l)工程は、例えば下記実施例Ｈの手順に従い、例
えばＮ−クロロ−スクシンイミド／ジメチルスルフィド
と、例えば−３０°〜１０℃の温度で反応させることに
より実施され得る。

【０１１６】実施例Ｈ [３'−デスオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt]¹−シクロス
ポリン(シクロスポリン1.37)の製造。 ８.４８mlのジメチルスルフィドを０℃で１２.８gのＮ
−クロロスクシンイミドおよび４００mlのトルエンから
成る溶液に加える。混合物を０℃で５時間撹はんし、−
１２℃に冷却し、４０mlのトルエン中９.６２gの「シク
ロスポリン」を加える。得られた懸濁液を−１０℃で１.
５時間および−１０〜−５℃で１.０時間撹はんする。
１９.４gのトリエチルアミンを加えると、そこに淡い沈
澱が生成する。混合物を０℃で５時間撹はんし、２５０
mlのエチルエーテルで希釈する。１９２mlの１Ｎ−ＨＣ
lを加え、冷却し、抽出する。有機相を５００mlのＨ₂Ｏ
で２回洗浄し、２５０mlの１０％冷ＮaＨＣＯ₃と振り混
ぜ、５００mlのＨ₂Ｏ、２５０mlの１０％酒石酸および
再びＨ₂Ｏで２回洗浄する。酸性および塩基性水溶液を
２×５００mlのエチルエーテルで再抽出する。有機相を
合わせ、Ｎa₂ＳＯ₄で乾燥し、４０℃で濃縮乾固する。
３００gのシリカゲルおよび飽和酢酸エチル水溶液を用
いるクロマトグラフィーにより残留物を精製すると、標
記化合物が得られる。[α]_D ²⁰＝−２４１.３°(c＝０.
５３１、ＣＨＣl₃中)および−１６９.５°(c＝０.５、
ＣＨ₃ＯＨ中)。

【０１１７】シクロスポリン1.38および1.39も同様にし
て製造され得る。

【表４】 前記(１d)群のシクロスポリン類もまた新規であり、そ
れ自体新規化合物としてこの発明の一部を形成する。

【０１１８】この発明はまた、下記の工程を含む(１d)
群のシクロスポリン類の製法を提供する。 m)２位の残基がβ−ヒドロキシ−α−アミノ酸残基、例
えば(Ｌ)−トレオニル残基であるシクロスポリンを酸
化、例えば選択的に酸化する。(m)工程は、例えば下記
実施例Ｉの一般的手順に従い、上記(l)工程と全く同様
にして実施され得る。

【０１１９】実施例Ｉ [α−メチルケト−Ｇly]²−シクロスポリン(シクロスポ
リン1.40)の製造。 ４８４mgのジメチルスルフィドを０℃で２６mlのトルエ
ン中８６８mgのＮ−クロロスクシンイミドに加える。１
０分間０℃で撹はん後、懸濁液を−３０℃に冷却し、
６.５ml中１５８４mgの[Ｔhr]²−シクロスポリンを加え
る。反応混合物を２６−３０℃で１時間撹はんし、１.
８１mlのトリエチルアミンを加える。冷却を解除し、さ
らに５分後、２５mlのエチルエーテルを加える。反応混
合物を１５０mlの氷水／１０mlの１Ｎ−ＨＣlに注ぎ、
撹はんし、さらに１００mlのエチルエーテルを加える。
有機相を１５０mlの氷水で３回洗浄し、エチルエーテル
で２回抽出する。有機相を合わせてＮa₂ＳＯ₄で乾燥
し、濃縮する。残留物を１０mlのＣＨ₂Ｃl₂に溶かし、
ハイフロでろ過し、ヘキサンにより希釈し、濃縮する
と、標記化合物が得られる。[α]²⁰＝−２２９°(c＝
１.０、ＣＨＣlD₃中)および−１８４.８°(c＝１.０、
ＣＨ₃ＯＨ中)。シクロスポリン1.41も同様にして製造さ
れ得る。[α]_D ²⁰＝−２２６.７°(c＝１.０、ＣＨＣl₃
中)。

【０１２０】前述のクラス２(i)およびクラス２(ii)の
シクロスポリン類もまた新規であり、それ自体新規化合
物としてこの発明の一部を形成する。さらに、この発明
はまた、下記の工程を含むクラス２(i)および２(ii)の
シクロスポリン類の製法を提供する。

【０１２１】m)クラス２(i)のシクロスポリンを製造す
る場合、１位の残基の３'−炭素原子がオキソ置換され
ているシクロスポリン、例えば１位の残基が−３'−デ
スオキシ−３'−オキソ−ＭeＢmt−であるシクロスポリ
ンをＣ₁-₄アルコキシアミンと反応させるか、または n)クラス２(ii)のシクロスポリンを製造する場合、２位
に(Ｌ)−イソロイシル残基を有するシクロスポリンの配
列を含む開鎖ペプチド(ただし、この開鎖ペプチドは、
Ｎ−末端として前記シクロスポリンの８位残基に対応す
る残基から始まり、Ｃ−末端として前記シクロスポリン
の７位残基に対応する残基で終わる)を閉環、例えば下
記配列を含む開鎖ペプチドを閉環する。

【化３５】

【０１２２】上記(m)工程は、例えば下記実施例Ｊの一
般的手順に従い、例えば約−１０°〜約８０℃の温度で
塩基(例、ピリジン)の存在下に、選択されたＣ₁-₄アル
コキシアミンの好適には酸付加塩形と反応させることに
より実施され得る。上記工程(n)は、例えば米国特許第
４５５４５３１号またはヨーロッパ特許公開第００９８
４５６号に記載された、シクロスポリン類の全体的合成
に関する一般的手順と全く同様にして実施され得る。す
なわちシクロスポリン2.2は、例えば、前記特許／特許
公開の実施例１の(a)工程においてＢＯＣ−αＡbu−Ｏ
ＨをＢＯＣ−Ｉle−ＯＨと置換し、続いて前記特許／特
許公開に記載された(b)〜(x)工程を直接的類似方式で進
行させることにより製造される。シクロスポリン2.2自
体は下記の特性データを有する。 融点１５１℃、[α]_D ²⁰＝−２２４°(c＝１.０、ＣＨＣ
l₃中)。

【０１２３】実施例Ｊ [３'−デスオキシ−３'−メトキシイミノ−ＭeＢmt]¹−
シクロスポリン(シクロスポリン2.1)の製造。 ２.５mlのエタノール／２.５mlのピリジン中実施例Ｈの
生成物６００mgおよびメトキシルアミン塩酸塩８３５mg
をアルゴン雰囲気下５０℃で１４時間撹はんする。ピリ
ジンを濃縮除去し、残留物をろ過する。ろ液をＣＨ₂Ｃl
₂に吸収させ、食塩水で洗浄する。食塩水をＣＨ₂Ｃl₂で
数回抽出し、有機相を合わせて再び食塩水で洗浄し、乾
燥し、濃縮する。残留物をクロマトグラフィーにより精
製すると、標記化合物が得られる。[α]_D ²⁰＝−２１４
°(c＝１.０９、ＣＨＣl₃中)。

【０１２４】明らかなことであるが、前述の(１c)群お
よびクラス２(i)のシクロスポリン類は、全て新規なも
のであり、中間体として以外の用途を有し、例えば１位
の残基が式（ＸＸＶ）

【化３６】 ［式中、Ｒ₄は酸素または式Ｒ₁₅Ｎ＝(式中、Ｒ₁₅はＣ₁-
₄アルコキシである)で示される基である]の残基である
シクロスポリンを含む、統一されたサブカテゴリー中に
包含され得る。

【０１２５】クラス２(iii)のシクロスポリン類は公知
である。すなわちシクロスポリン2.3〜2.6は、例えばウ
ェンガー等、「トランスプランテーション・プロシーデ
ィングズ」(Transplantation Proc.)、１８巻(６)補遺５
(１２月)、２１３頁以降(１９８６年)に記載されてい
る。これらのシクロスポリン類およびクラス２(iii)の
他のシクロスポリン類は、例えば米国特許第４５５４５
３１号およびヨーロッパ特許公開第００９８４５６号に
記載されたシクロスポリン類の全体的合成の一般的手順
に従い、例えばその実施例１の(g)工程でＨ−ＭeＶal−
ＢzlをＨ−ＭeＩle−ＢzlまたはＨ−ＭeアロＩle−Ｂzl
と置換することにより製造され得る。シクロスポリン2.
3〜2.5は下記の特性データを有する。

【表５】

【０１２６】クラス３のシクロスポリン3.1〜3.5、3.7
および3.9は公知である[例えば、トラバー等、「ヘルベ
ティカ・シミカ・アクタ」(Helv．Chim．Acta)、６５
巻、１６５５頁以降(１９８２年)および７０巻、１３頁
以降(１９８７年)参照]。

【０１２７】シクロスポリン3.6、3.8および3.10は新規
であり、それ自体新規化合物としてこの発明の一部を形
成する。シクロスポリン3.6および3.8は、例えば(f)工
程に関して前述した、他の公知ジヒドロシクロスポリン
類の製造に使用される方法と全く同様の方法で製造され
得る。

【０１２８】シクロスポリン3.10は、例えば下記の実施
例Ｋに記載された、[(Ｄ)Ｓer]⁸−シクロスポリンの製
造で使用される発酵ブロスからの小中間代謝物フラクシ
ョンとして(ヨーロッパ特許公開第００５６７８２号参
照)、例えば「ヘルベティカ・シミカ・アクタ」(Helv．Ch
im．Acta)６５巻、１６５５頁以降(１９８２年)に記載
された、シクロスポリンの小中間代謝物の一般的分離手
順に従い製造され得る。

【０１２９】実施例Ｋ [ＭeＬeu]¹−シクロスポリン(シクロスポリン3.10)の製
造。 ヨーロッパ特許公開第００５６７８２号の実施例３によ
る培養後に得られたバイオマスを浄化分離器(ウエスト
ファリア)中でスピンダウンし、液相(培養ろ液)を毎回
等量の酢酸エチルで３回抽出する。酢酸エチル抽出物を
真空下濃縮する。固相(菌糸体)をメタノールで処理し
て、ホモジネートし、固相および液相を浄化分離器で分
離する。この抽出処理を９０％メタノールを用いて２回
繰り返す。メタノール性抽出物を合わせ、水を加え、抽
出物を真空下濃縮する。残りの水性抽出濃縮物を等量の
酢酸エチルで３回抽出し、酢酸エチル抽出物を真空下濃
縮する。両方の粗抽出物(培養ろ液および菌糸体から)
を、シリカゲル(０.０４０−０.０６３mm)およびＨ₂Ｏ
−飽和酢酸エチルを用いるクロマトグラフィーに掛け
る。先に溶離するフラクションは主として[Ｖal]²−シ
クロスポリン(シクロスポリンＤ)を含み、後のフラクシ
ョンは主として[ＭeＬeu]¹−シクロスポリン(シクロス
ポリン3.10)および「シクロスポリン」(シクロスポリン
Ａ)を含む。ピークフラクションに対し、再びシリカゲ
ル(０.０２０−０.０４５mm)および溶離剤としてアセト
ン／ヘキサン(１:１)を用いるクロマトグラフィーを行
う。リコプレプ(LiＣhoprep、商標)ＲＰ−１８(０.０４
０−０.０６３mm)および溶離剤としてメタノール／Ｈ₂
Ｏ(８５:１５)、次いでシリカゲル(０.０２０−０.０４
５mm)および溶離剤としてＨ₂Ｏ−飽和酢酸エチルを用い
て、[ＭeＬeu]¹−シクロスポリン含有フラクションを再
クロマトグラフィーに掛けると、標記化合物が得られ
る。mp＝１４２−１４８℃、[α]_D ²⁰＝−３０３°(c＝
０.５４、ＣＨＣl₃中)。シクロスポリン3.6の物理特性
は次の通りである。mp＝１８０−１８２℃、[α]_D ²⁰＝
−２１１°(c＝０.６４、ＣＨＣl₃中)。

【０１３０】既に示した通り、この発明により、クラス
１[(１a¹)〜(１a⁵)群および(１b)〜(１e)群のシクロス
ポリン類を含む]、２および３のシクロスポリン類、特
に既に具体的に名称を記したこれらのクラスの個々のシ
クロスポリンは、他の化学療法的薬物療法、特に抗微生
物(例、抗細菌、抗ウイルス、抗真菌または抗原生動物)
化学療法および特に抗癌または抗腫よう(例、抗新生物
または細胞増殖抑制)化学療法の効力を増強もしくは向
上させ得、またはこれに対する感受性を増強もしくは向
上させ得ることが判った。従って、それらは、全体的な
薬剤毒性を減少させる手段として、さらに詳しくは化学
療法に対する先天的および後天的耐性の両方を含む耐性
を打ち消すか、または低下させる手段として、例えば抗
新生物または細胞増殖抑制薬物療法の場合において、例
えば通例の化学療法用量レベルを低下させる手段として
有用である。

【０１３１】実施例１ 抗新生物／細胞増殖抑制、抗腫よう薬剤物質に対する感
受性回復における用途(インビトロ−１)。 トゥエンテ
ィーマン等、「ブリティッシュ・ジャーナル・オブ・キ
ャンサー」(Br．J．Cancer)、５４巻、２５３頁(１９８
６年)に記載された方法に従い、ダウノルビシン(Ｄ
Ｒ)、ビンクリスチン(ＶＣ)、アドリアマイシン(Ａ
Ｍ)、エトポシド(ＥＴ)、テノポシド(ＴＥ)およびコル
ヒチン(ＣＣ)から成る群から選ばれる癌治療薬剤物質
(ＣＴＤＳ)の１種またはそれ以上に対して耐性のある、
例えば肺のヒト小細胞癌腫由来の癌セルライン(ＣＣＬ)
を成長させる。

【０１３２】連続的ＣＴＤＳ曝露間における細胞成長の
抑制を測定することにより、耐性サブライン(ＣＣＬ−
Ｒ)の感受性を親の感受性ライン(ＣＣＬ−Ｓ)の場合と
比較、例えばＤＲ−耐性ライン(ＣＣＬ−ＤＲＲ)の場
合、最初から成長培地に含有されたＤＲの存在下におけ
るＣＣＬ−ＤＲＳおよびＣＣＬ−ＤＲＲラインの成長を
比較する。そのために、電子細胞カウンターを用いて細
胞を計数することにより細胞増殖を測定し、計数は指数
関数的成長段階の終わりに近い時点で行われるものとす
る。ＣＣＬ−Ｒラインについては、ＩＣ₈₀[非−ＣＴＤ
Ｓ(例、ＤＲ)処理対照の場合の２０％まで最終細胞数を
減少させるのに必要とされる薬剤濃度、例えばＤＲ濃
度]が親のＣＣＬ−Ｓラインの場合より＞８０倍、好ま
しくは＞１００倍大きいものを選択する。

【０１３３】次いで、試験シクロスポリンの存在および
非存在下における選択されたＣＣＬ−ＲラインのＣＴＤ
Ｓ(例、ＤＲ)に対する感受性を、上記と同様に増殖尺度
として細胞計数法を用いて測定する。このために、様々
な濃度のＣＴＤＳおよび試験シクロスポリン両物質の存
在下で細胞を最初から培養する。スクリーニングにおい
て、後者についてはそれ自体が増殖の顕著な低下の原因
とはならない程度の濃度を選択する。ＣＴＤＳの存在し
ない状態で様々な濃度のシクロスポリンの存在下にＣＣ
Ｌ−ＳおよびＣＣＬ−Ｒを培養することにより適当な濃
度を確立する。シクロスポリン類は、通常０.０１〜５
０、特に０.１〜１０μg／ml、例えば０.０１、０.０
２、０.０５、０.１、０.２、０.５、１.０、２.０、
５.０、１０.０および５０μg／mlの濃度で試験され
る。試験シクロスポリンの非存在下細胞増殖の５０％抑
制に必要とされるＣＴＤＳ(例、ＤＲ)の濃度(ＩＣ₅₀−
ＣＳ)を試験シクロスポリンの存在下に得られた前記濃
度(ＩＣ₅₀＋ＣＳ)と比較して得た割合を、シクロスポリ
ンにより誘発されたＣＴＤＳに対するＣＣＬ−Ｒライン
の感受性増強の尺度と定める。使用されるＣＣＬ−Ｒラ
インの安定性は、ＣＴＤＳに対するその感受性を既に確
立された事項でクロスチェックすることにより確実にさ
れる。

【０１３４】上記試験モデルで、クラス１〜３のシクロ
スポリン、特に具体的に列挙したシクロスポリンは、上
記濃度、特に約１０μg／mlまたはそれ以下の濃度にお
いてＣＴＤＳ(例、ＤＲ、ＶＣ、ＡＭ等)に対する感受性
を高めるのに有効である。高い濃度、例えば約５０μg
／mlにおいて、特定の場合に、ＣＣＬ−ＳおよびＣＣＬ
−Ｒ両ラインの増殖抑制は、ＣＴＤＳの非存在下試験シ
クロスポリンにより誘発されるが、これが起こる場合、
その現象は一般にＣＣＬ−Ｒラインの方がＣＣＬ−Ｓラ
インの場合ほど顕著ではない。さらに重要なことに、試
験シクロスポリンは、ＣＴＤＳの非存在下で細胞増殖に
影響を及ぼさない濃度でＣＣＬ−ＲラインにおけるＣＴ
ＤＳに対する感受性を高めるのに有効であることが判っ
た。

【０１３５】すなわちＡＭ耐性ヒト小肺癌セルライン並
びにシクロスポリン2.4、1.1および1.32を用いる一連の
試験において、確立されたＡＭ感作比率(ＡＭＩＣ₅₀−
ＣＳ／ＡＭ ＩＣ₅₀＋ＣＳ)は下記の通りである(＊)。

【表６】 [＊トゥエンティーマン、エムアールシー・クリニカル
・オンコロジー・アンド・ラジオセラピューティック・
ユニット(ヒルズ・ロード、ケンブリッジ、イギリス国)
から得られた研究報告およびデータ−参考、「ブリティ
ッシュ・ジャーナル・オブ・キャンサー」(Br．J．Cance
r)５７巻、２５４−２５８頁(１９８８年)]

【０１３６】実施例２ 抗新生物／細胞増殖抑制、抗腫よう薬剤物質に対する感
受性回復における用途(インビトロ−２)。 この試験
は、例えばリング等、「ジャーナル・オブ・セリュラー
・フィジオロジー」(J．Cell．Physiol.)、８３巻、１０
３−１１６頁(１９７４年)およびベッヘ-ハンゼン等、
「ジャーナル・オブ・セリュラー・フィジオロジー」(J．
Cell．Physiol.)８８巻、２３−３２頁(１９７６年)に
よる記載に従い生成された、任意の適当な薬剤耐性セル
ラインおよび対照(親)セルラインを用いて実施され得
る。選択された特定のクローンは、多種薬剤耐性(例、
コルヒチン耐性)ラインＣＨＲ(サブクローンＣ５Ｓ３.
２)および親の感受性ラインＡＵＸ Ｂ１(サブクローン
ＡＢ１ Ｓ１１)である[参考、リング等、前出およびジ
ュリアーノ等、「ビオシミカ・エ・ビオフィジカ・アク
タ」(Biochim．Biophys．Acta)、４５５巻、１５２−１
６２頁(１９７６年)、カールセン等、「ビオシミカ・エ
・ビオフィジカ・アクタ」(Biochim．Biophys．Acta)、
４５５巻、９００−９１２頁(１９７６年)、ラランデ
等、「プロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・ア
カデミー・オブ・サイエンシーズ」(Proc．Natl．Acad．
Sci.)、７８巻(１)、３６３−３６７頁(１９８１年)、
カートナー等、「サイエンス」(Ｓcience)、２２１巻、１
２８５−１２８８頁(１９８３年)、カートナー等、「ネ
イチャー」(Ｎature)、３１６巻、８２０−８２３頁(１
９８５年)、リオーダン等、「ネイチャー」(Ｎature)、３
１６巻、８１７−８１９頁(１９８５年)、ファン・デル
・ブリック等、「モル・セル・バイオル」(Mol．Cell．Bi
ol.)、６巻、１６７１−１６７８頁(１９６８年)、エン
ディコルト等、「モル・セル・バイオル」(Mol．Cell．Bi
ol.)、７巻、４０７５−４０８１頁(１９８７年)、ドゥ
シャール等、「モル・セル・バイオル」(Mol．Cell．Bio
l.)、７巻、７１８−７２４頁(１９８７年)並びにゲル
ラッハ等、「ネイチャー」(Ｎature)、３２４巻、４８５
−４８９頁(１９８６年)]。

【０１３７】(Ｌ)−アスパラギン０.０２mg／ml、ＭＥ
Ｍビタミン(IX)、ペニシリン−ストレプトマイシン１０
０ＵＴ／ml、(Ｌ)−グルタミン２ミリモルおよび１０％
加熱不活化うし胎児血清を補ったαＭＥＭ培地中でセル
ラインを成長させる。９６ウェルプレートを用いて検定
を行う。培養培地に５０μlのコルヒチン溶液を加えて
同じものを３組調製し、耐性ライン(ＲＬ)については３
０−１０−３−１−０.３−０.１−０μg／mlおよび感
受性ライン(ＳＬ)については０.３−０.１−０.０３−
０.０１−０.００３−０.００１−０μg／mlの最終濃度
を達成する。必要な場合、すなわち試験シクロスポリン
が非常に大幅にコルヒチンに対するＩＣ₅₀応答を低下さ
せる場合、さらに用量範囲の下方延長を行う。

【０１３８】試験シクロスポリンを無水Ｃ₂Ｈ₅ＯＨに１
mg／mlの割合で溶かす。各試験シクロスポリンを０.１
および１.０μg／mlの濃度で常法によりスクリーニング
し、対照については対応するＣ₂Ｈ₅ＯＨ溶媒希釈液で処
理を行う。試験シクロスポリンまたは対照を各ウェルに
加え(５０μl)、既存のコルヒチン溶液と混合する。Ｓ
Ｌに関しては４×１０³細胞／ml(４００細胞／ウェル)
およびＲＬに関しては８×１０³細胞／mlの細胞懸濁液
１００μlを加える。

【０１３９】３−(４,５−ジメチルチアゾール−２−イ
ル)−２,５−ジフェニルテトラゾリウムブロミド(ＭＴ
Ｔ)を用いる比色定量検定法[モスマン、「ジャーナル・
オブ・イミュノロジカル・メソッズ」(J．Immunol．Meth
ods)、６５巻、５５−６３頁(１９８３年)]により増殖
を測定する。まず１００μlの細胞不含有上清を除去
し、次いでＲＰＭＩ１６４０培地(ギブコ)中５mg／ml濃
度のＭＴＴ溶液１０μlを各プレートに加え、プレート
を３７℃で３時間インキュベーションする。次いで１０
０μlのブタノール／イソプロパノール／１Ｎ-ＨＣl(１
９２:９６:１２ml)を各プレートに加え、完全に溶解す
るまでプレートを振動させる。光学密度(ＯＤ)を５４０
nmで読み取る。

【０１４０】細胞成長範囲(ＭＴＴ−依存ＯＤにより測
定)をコルヒチン濃度の関数として表し、用量反応曲線
を各試験シクロスポリンについて描き、コルヒチンＩＣ
₅₀(ＣＩＣ₅₀)(すなわち５０％の増殖抑制に必要とされ
るコルヒチン濃度)を測定する。０.１および１.０μg／
mlの両濃度における各試験シクロスポリンにより誘発さ
れたコルヒチン感受性の増強度を次の要領で計算する。

【数１】 試験シクロスポリンはＲＬおよびＳＬの両方におけるコ
ルヒチン感受性に影響を与え得る。

【０１４１】２種のラインにおける相対的影響は次の要
領で計算され得る。

【数２】 クラス１〜３のシクロスポリン類は、上記濃度において
コルヒチンに対するＲＬの感受性を増強させる。ＳＬの
感受性の増強度は、ＲＬの場合より一般に劣るが、通例
等濃度で観察される。この発明による用途において、前
述の相対耐性の高いシクロスポリン類の方が一般に適し
ていると考えられる。一連の実験において、前述のコル
ヒチンに対する感受性における下記増強度を例えばＲＬ
およびＳＬについて記録した。

【表７】

【０１４２】実施例３ 抗新生物／細胞増殖抑制、抗腫よう薬剤物質に対する感
受性の回復における用途(インビボ)。薬剤物質ＤＲ、Ｖ
Ｃ、ＡＭ、ＥＴ、ＴＥまたはＣＣに対して耐性を示すエ
ールリヒ腹水癌(ＥＡ)サブラインを、スラター等、「ジ
ャーナル・オブ・クリニカル・インベスティゲーショ
ン」(J．Clin．Invest.)、７０巻、１１３１頁(１９８２
年)記載の方法に従い、ＥＡ細胞の、次世代のバルブ(BA
LB)／c宿主マウスへの連続継代により成長させる。この
ため、死ぬ前の動物から採取した０.２mlの非希釈悪性
腹水を用いた宿主マウスに対する接種の２４時間後から
始めて５回投与にわたって０.２〜０.５mg／kgの用量で
薬剤物質を毎日腹腔内投与する。

【０１４３】試験を正確なものにするため、宿主マウス
に前述の耐性ＥＡ−Ｒまたは感受性(親)ＥＡ−ＳのＥＡ
ラインを投与する。ＥＡ−Ｒを投与したマウスを下記の
群に分ける。 １．薬剤無し／シクロスポリン無し、 ２．薬剤物質治療／シクロスポリン無し、 ３．薬剤無し／試験シクロスポリン、 ４．薬剤物質＋試験シクロスポリン。

【０１４４】抗新生物薬剤物質を生成ＥＡ−Ｒラインに
おいて採用された用量で投与する。ＥＡ−Ｒによる接種
の２４時間後から始めてシクロスポリン試験物質を５分
割一日用量で腹腔内注射(エタノール／オリーブ油中)に
より１〜８０mg／kg、特に５もしくは２５または４０mg
／kg以下の範囲の総試験用量で投与する。第２、３およ
び４群における平均生存時間を適用された治療法の効果
の尺度として第１群と比較する。

【０１４５】得られた結果は、第１、２および３群間に
おいて平均生存時間に顕著な差異の無いことを示してい
る。第４群の場合、前記の用量でクラス１〜３のシクロ
スポリンを投与すると、第１および２群の両群と比べて
生存時間の実質的な増加(例、２〜３倍またはそれ以上
のオーダー)が観察される。 比較可能な設計の試験モ
デル(例、インビトロ)においてクラス１〜３のシクロス
ポリン類を用いるか、または薬剤耐性ウイルス性株、抗
生物質(例、ペニシリン)耐性細菌株、抗真菌剤耐性真菌
株および薬剤耐性原生動物株、例えばマラリア病原虫
株、例えば後天的化学療法抗マラリア薬剤耐性を呈する
プラスモディウム・ファルシパルム(Plasmodium falcip
arum)の天然亜株に感染させた試験動物を用いても等し
い結果を得ることができる。また臨床試験、例えば下記
の要領で実施される予備試験においてこの発明によるク
ラス１〜３のシクロスポリンの用途を立証することもで
きる。

【０１４６】臨床試験１ 悪性の癌の増大を呈するものとして診断され、抗新生物
／細胞増殖抑制薬物療法が行なわれるべき患者から対象
(男性および女性)を選択する。試験を開始した各対象に
ついて、病歴、病状、病気の進行の確立速度および推定
される予後を列挙した詳細な記録を提示する。癌のタイ
プおよび範囲に関して、担当医が、適用すべき抗新生物
／細胞増殖抑制薬物療法のタイプおよびシクロスポリン
療法を行わない場合に必要とされる見積用量割合を決定
する。

【０１４７】試験シクロスポリンを、１.０〜２０.０mg
／kg／日の用量割合で経口投与または０.５〜５.０mg／
kg／日の用量割合で非経口(例、静脈内または筋肉内)投
与する。病状が許せば、試験シクロスポリンによる処理
を抗新生物療法を始める少なくとも１または２日、好ま
しくは１０〜１４日前に開始することにより、進行中の
治療用量レベルに対する増強を図る。かかる場合では、
開始シクロスポリン用量を上記用量範囲の低い方の値
(例、経口経路の場合、１.０〜５.０mg／kg／日のオー
ダー、または非経口経路の場合、０.５〜１.５mg／kg／
日のオーダー)として高い用量レベル(例、経口経路の場
合、５.０〜１５.０または２０.０mg／kg／日までのオ
ーダー、または非経口経路の場合、２.０〜５.０mg／kg
／日のオーダー)へと増やし、試験開始時における対象
の状態を考慮して担当医が正確な摂取量を決定する。場
合により、シクロスポリンおよび抗新生物／細胞増殖抑
制療法を同時に開始および終了することが必要ともなり
得るが、低い開始シクロスポリン用量から指示最大用量
へと日毎に増やすのが好ましい。

【０１４８】最初の抗新生物／細胞増殖抑制療法はシク
ロスポリン療法を行わない場合に必要とされる見積用量
割合の約３分の１で開始されるが、担当医の判断で開始
用量の正確な選択が行われる。観察された応答による必
要性に応じて抗新生物／細胞増殖抑制用量を増加させ
る。試験経過中、終始シクロスポリンおよび抗新生物／
細胞増殖抑制薬剤の投与割合を含む全ての関連した臨床
パラメーターのモニターを行う。制御／腫よう成長の低
減／転移の発生および起こり得る腫よう緩解に関して対
象をモニターする。病状および推定される予後に関する
報告を試験期間中間隔をおいて提出する。

【０１４９】試験結果を評価すると、参加した対象は、
シクロスポリン療法を行わない場合において同等の効果
の達成に必要であると推定される抗新生物／細胞増殖抑
制薬剤用量割合に満たない用量割合で腫よう成長の制限
または腫よう緩解および転移の減少を伴う症状の有効な
制御または改善を呈することが示されている。抗新生物
／細胞増殖抑制薬物療法のみを施した群に関する報告と
比較すると、抗新生物／細胞増殖抑制薬剤耐性の発生の
低下および施された抗新生物／細胞増殖抑制薬剤療法に
対する毒性副作用発生の低下が報告されている。

【０１５０】臨床試験２ あらゆるタイプの末期悪性癌の増大を呈する入院または
外来患者(男性および女性)から対象を選択する。試験に
選ばれた対象は、既に最大限の抗新生物／細胞増殖抑制
薬物療法を受け、総じて多種薬剤処置の末期に位置し、
腫よう成長の再発／転移等を呈する、すなわちその癌が
多種薬剤耐性としての明確な証拠である患者である。試
験に参加した各対象について、特に６〜１８箇月前から
現在までの過程で適用された薬物療法、病歴および最近
の病状、例えば病気の進行の見積速度および推定される
予後を列挙した詳細な報告を提出する。

【０１５１】この試験の目的のため、参加した患者に対
して抗新生物／細胞増殖抑制薬物療法の予定用量および
スケジュールを続行するが、選ばれた療法は薬剤耐性の
確認および試験開始時に適用されるものである。試験中
終始抗新生物薬物療法を前耐性−測定レベルおよびスケ
ジュールで続行する。一日用量割合約１〜約２０、例え
ば約５〜約１５mg／kg／日の経口用量形態または一日用
量割合約０.５〜約７.５、例えば約２.０〜約５.０mg／
kg／日の非経口(例、静脈内)経路による試験シクロスポ
リンの投与により化学療法を補う。患者によってはシク
ロスポリン療法を抗新生物療法開始の１〜１４日前に開
始することもあり得、全処置期間中これを継続する。他
方、シクロスポリンおよび抗新生物療法を同時に開始お
よび終了することが必要な場合もあり得る。

【０１５２】対象を腫よう成長の縮小／転移の発生およ
び起こり得る腫ようの緩解についてモニターする。試験
時点における病状および推定される予後に関する報告を
試験期間中間隔をおいて提出する。適当な期間内に病状
の改善または悪化の抑制が報告されない場合には、別の
以前適用された療法に対する担当医の判断で基本的な抗
新生物／細胞増殖抑制薬物療法を修正する。試験期間
中、特に抗新生物／細胞増殖抑制薬剤およびシクロスポ
リンの血清レベル並びにクリアランス割合を含む全ての
関連臨床パラメーターを終始モニターする。

【０１５３】試験報告を評価すると、参加対象は、シク
ロスポリン療法の導入後に腫よう増大の抑制または腫よ
う緩解および転移の減少を伴う状態の顕著な改善を示
し、続いて病気の予後にも改善を示すことが判る。従っ
て、クラス１〜３のシクロスポリン類は、化学療法薬剤
処置に対する後天的耐性を呈する疾患状態の処置または
化学療法薬剤処置に対するアジュバントとして有用であ
る。

【０１５４】従って、この発明は下記のものを提供す
る。 1.1 化学療法的薬物療法の効果の改善もしくは増強また
はそれに対する感受性の増強方法、または 1.2 有効化学療法薬剤用量割合の低減方法であって、処
置を必要とする対象における、前記クラス１〜３のシク
ロスポリンの共投与を含む方法、または 2.1 化学療法処置に対する後天的、誘発性もしくは先天
的耐性を呈するか、またはこれを特徴とする疾患状態の
処置方法、または 2.2 前記処置に対する後天的、誘発性もしくは先天的耐
性を呈するか、またはこれを特徴とする疾患状態の化学
療法処置の促進または改善方法、または 2.3 化学療法処置に対する後天的、誘発性もしくは先天
的耐性の打ち消しまたは低減方法、または 2.4 化学療法処置に対する感受性の回復方法であって、
処置を必要とする対象において、前記クラス１〜３のい
ずれか１つに属するシクロスポリンの有効量を前記対象
に投与することを含む方法。

【０１５５】他方、この発明は次のものを提供する。 ３．処置を必要とする対象において適当な化学療法活性
薬剤物質と一緒に前記薬剤物質に対するアジュバント処
置として前記クラス１〜３のいずれか１つに属するシク
ロスポリンを投与することを含む化学療法処置方法。 またこの発明は次のものも提供する。 ４．上記1.1、1.2、2.1、2.2、2.3、2.4または３のいず
れか１項記載の方法で使用される前記クラス１〜３のい
ずれか１つに属するシクロスポリン、または ５．上記1.1、1.2、2.1、2.2、2.3、2.4または３のいず
れか１項記載の方法で使用される医薬組成物の製造に使
用される前記クラス１〜３のいずれか１つに属するシク
ロスポリン。

【０１５６】クラス１〜３のシクロスポリンの中で以前
に医薬または治療用途に関して提案または推薦されたも
のは無く、またクラス１〜３の特定のシクロスポリンは
事実新規化合物または完全に新しいタイプのシクロスポ
リンであることから、この発明はまた次のものを提供す
る。 ６．医薬として使用される、例えば、新規であるものと
して既に示された個々のシクロスポリン類並びに(１
a²)、(１a³)、(１a⁴)、(１a⁵)、(１d)、(１e)群および
クラス２(i)および２(iii)のシクロスポリン類を含む具
体的に前述されたクラス１〜３のシクロスポリン類。

【０１５７】この発明による方法が適用される化学療法
処置の特定の状態／形態は、１種またはそれ以上の抗微
生物もしくは抗生物質薬剤、例えば抗ウイルス、抗細
菌、抗真菌もしくは抗原生動物薬剤物質に耐性がある株
を含む微生物、例えばウイルス、細菌、真菌または原生
動物感染が原因となる状態を包含する。この発明の方法
は、例えば腫ようの成長、転移の発生等を低減または打
ち消す手段として、１種またはそれ以上の抗癌化学療法
薬剤物質、例えば抗新生物もしくは細胞増殖抑制剤、例
えばアントラサイクリン類もしくはビンカアルカロイド
薬剤物質または特定薬剤物質のダウノルビシン、ビンク
リスチン、アドリアマイシン、エトポシド、テノポシド
および／もしくはコルヒチンに対して誘発性または後天
的耐性を呈する、特に癌、例えば癌腫、肉腫もしくは他
の腫ようまたは悪性腫ようの処置に適用可能である。

【０１５８】この発明による使用に好ましいシクロスポ
リン類は、比較的免疫抑制活性が低い、例えば定められ
た用量レベルで実質的に免疫抑制活性を示さないもの、
または実質的に「シクロスポリン」の場合よりも低い、例
えば＜５０％のオーダーの免疫抑制活性を呈するもので
ある。この発明の方法による使用に適した特定のシクロ
スポリン類はクラス１〜３として具体的に前述したシク
ロスポリン類である。

【０１５９】勿論、上記方法を実施する場合に使用され
るべきシクロスポリンの用量は、例えば処置される状態
(例えば病気のタイプおよび耐性の性質)、使用される特
定のシクロスポリン、所望の効果および投与方法により
異なる。しかしながら一般には、１日１回または２〜４
回の分割用量で１〜２０ないし５０mg／kg／日のオーダ
ー、例えば５〜１０ないし１５mg／kg／日のオーダーの
用量における経口投与、または０.５〜７.５ないし１０
mg／kg／日のオーダー、例えば１.５または２.０ないし
５.０mg／kg／日のオーダーの用量における非経口(例、
静脈内、例えば静脈内点滴または注入)投与を行うこと
により満足すべき結果が得られる。

【０１６０】すなわち、患者に適した一日用量は、５０
〜１０００ないし２５００mgのオーダー(経口)、例えば
２５０〜５００／６００mgのオーダー(経口)、または２
５.０〜３７５.０ないし５００mgのオーダー(静脈内)、
例えば７５.０〜１００／２５０mgのオーダー(静脈内)
内である。別法としてさらに好ましくは、投与量は、例
えばＲＩＡ(ラジオイムノアッセイ)技術により測定され
る、予め定められたトラフ(trough)血中濃度を与える患
者特定方式で配分され得る。すなわち患者の投与量を調
節することにより、５０または１５０ないし５００また
は１０００ng／mlのオーダーのＲＩＡにより測定される
一定の連続トラフ血中濃度を達成し得る。すなわちこの
場合、通例の「シクロスポリン」免疫抑制療法で最近使用
されている投与法と同様の方法を行う。

【０１６１】この発明による方法を実施する場合、上記
クラス１〜３のシクロスポリン類の経口投与に適した医
薬組成物は、例えば下記の要領で製造され得る。

【表８】 成 分 相対量(g) i)ラブラフィル(Labrafil) Ｍ１９４４ＣＳ １５０ ii)シクロスポリン(例、シク ロスポリン1.1、1.2、1.3、 ２５ 1.11または1.36) (乾燥重量値) iii)エタノール(無水) ５０ iv)オリーブ油 約２３７(適量) 合計約４６２.０

【０１６２】全成分を撹はん容器中で直接秤量する。成
分(i)および(iii)を最初に秤量する。次いで成分(ii)を
溶解するまで連続撹はんしながら加える。その後、成分
(iv)をさらに１０分間撹はんしながら加える。得られた
溶液を約０.５〜０.８バールでゲルマン・プレフロー・
フィルター(４００μm)によりろ過し、５０mlのレクソ
(Rexo)瓶に満たす。瓶をゴム製コルクおよびキャップで
密閉する。全段階において窒素を供給しながら(０.２５
バール)室温で水不含有条件下に全工程を実施する。経
口投与に適した瓶詰め溶液は、５０mgのシクロスポリン
(乾燥重量)／mlを含有する。別法として、味を遮断する
手段としてゼラチン、例えばゼラチン硬または軟カプセ
ルに溶液を満たすこともできる。

【０１６３】クラス４および６のシクロスポリン類、特
に具体的に名称を列挙した前記クラスの各シクロスポリ
ン類もまた医薬活性を呈する。特ににそれらは、例えば
後述のインビトロおよびインビボ試験で示すように、免
疫抑制、抗炎症および抗寄生虫活性を呈する。また前記
シクロスポリン類は同様に後述するラットにおける実験
的アレルギー性脳脊髄炎(ＥＡＥ)に関する活性をも有す
る。

【０１６４】実施例４ 免疫抑制活性 4.1 ゲル中インビトロでの局所溶血[ミシェルおよびダ
ットン、「ジャーナル・オブ・エクスペリメンタル・メ
ディシン」(J．Exp．Medicine)、１２６巻、４２３−４
４２頁(１９７６年)]。クラス４および６のシクロスポ
リン類は、０.０３〜１０.０μg／mlの濃度で未処置対
照と比べて溶血ゾーンを抑制する。 4.2 ジャノッシーおよびグリーブズによるリンパ球刺激
試験[「クリン・エクスプ・イミュノル」(Clin．Exp．Imm
unol.)、９、４８３頁(１９７１年)および１０、５２５
頁(１９７２年)]−クラス４および６のシクロスポリン
類は、０.００１〜３.０μg／mlの濃度で未処置対照と
比べてマウスひ臓リンパ球においてコンカナバリンＡ刺
激ＤＮＡ合成を阻止し(Ｈ³−チミジン取り込みの阻
止)、細胞増殖および遺伝質発生(blastogenis)を阻止す
る。

【０１６５】4.3 混合リンパ球反応[バッハ等、「ジャー
ナル・オブ・エクスペリメンタル・メディシン」(Ｊ．Ex
p．Med.)、１３６巻、１４３０頁(１９７２年)]−照射
マウスから得られた異型的ひ臓細胞(ＣＢＡ)と５日間コ
-インキュベーションを続けたリンパ球[マウス(バルブ
(Balb)／c)ひ臓細胞]の反応(すなわち、増殖および分
化)を試験物質の存在下および非存在下で測定する。試
験物質の非存在下での反応を対照として用い、１００％
とする。試験物質の存在下での反応を１００％対照反応
と比較した％変化として表す。０.００１〜３.０μg／m
lの濃度のクラス４および６のシクロスポリンを用いて
反応の阻止を観察する。

【０１６６】実施例５ 抗炎症活性 ラットにおけるアジュバント関節炎試験において抗炎症
活性が示され得る。この試験のために、ピアソンおよび
ウッドの方法[「アースル・リューム」(Arthr．Rheum.)、
２巻、４４０頁(１９５９年)]に従ってアジュバント関
節炎を誘発する。この試験においてクラス４および６の
シクロスポリンは、５〜３０mg／kg／日(経口)の用量で
進行性および慢性関節炎に対して活性を示す。

【０１６７】実施例６ 抗寄生体(抗マラリア)活性 レーン、「ケモセラピー・アンド・ドラッグ・レジスタ
ンス・イン・マラリア」(Chemotherapy and Drug Resist
ance in Malaria)(ペーターズ編、アカデミック・プレ
ス、ニューヨーク、１９７０年)による抗マラリア試
験。第０日に、プラスモディウム・ベルゲイ(Plasmodiu
m berghei)(ＮＫ６５株)種の寄生虫細胞１０⁷個を含有
する懸濁液０.２ml(腹腔内投与)によりマウス(ＯＦ１、
雄)を感染させる。第３日に５〜１０マウス／用量を用
いる様々な用量で試験物質を皮下投与する。生存時間を
記録し、未処置対照の場合と生存時間を比較することに
より、最少有効用量(ＭＥＤ)を計算する。対照の場合、
生存時間は約７日間である。ＭＥＤは生存時間が２倍に
なる用量である。この試験においてクラス４および６の
シクロスポリン類は、１０〜１００mg／kg／日の用量で
有効である。

【０１６８】実施例７ ラットにおけるＥＡＥに対する作用。 １．慢性ＥＡＥに対する作用。 ボーレル等、「エイジェンツ・アンド・アクションズ」(A
gents and Actions)、６巻、４６８頁(１９７６年)によ
り記載された技術に従い、体重１５０〜２００gの別段
健康に問題の無い雄ラット８〜１２匹から成る群におい
てＥＡＥを誘発する。実験室条件下にラットを保ち、無
制限に食物および水に接近させる。１０〜１３日後には
ＥＡＥの開始が観察され、例えば後足において麻ひ症状
がはっきりと認められる。ＥＡＥ開始後連続５日間、毎
日２５〜５０mg／kg(経口)の用量で試験化合物を試験動
物に投与する。病気の兆候および回復したラットの数並
びに回復が認められた日に関してラットを毎日検査す
る。処置開始後さらに５〜８週間観察を続けて再発症例
があればそれを検出する。再び再発したラットの数およ
び再発日を記録する。

【０１６９】上記用量範囲でクラス４および６のシクロ
スポリンを投与後、プラセボ(オリーブ油)のみを与えた
対照群の場合と比較した回復時間の減少を記録する。 7.2 ＥＡＥの発生予防における作用。 上記4.1記載の方法と同様にして試験を行う。しかしな
がら、この場合、感作(ＥＡＥの誘発)の日から始めて１
４日間試験化合物を毎日２５〜５０mg／kg(経口)の用量
で投与する。麻ひの兆候についてラットを毎日観察し、
り病した各ラットにおけるＥＡＥの開始日を記録する。
数箇月間にわたり観察を続けて起こる可能性があるＥＡ
Ｅの後発的開始を検出する。

【０１７０】上記用量範囲でのクラス４および６の「シ
クロスポリン」の投与後、ＥＡＥの開始阻止を観察期間
中プラセボ(オリーブ油)のみで処理した対照と比較しな
がら観察する。クラス４および６のシクロスポリン類
は、それらの免疫抑制活性の観点から、免疫応答の低下
を必要とする疾患および状態の予防および処置において
有用である。すなわち、それらを用いることにより、例
えば自己免疫疾患の処置または臓器移植(例えば心臓、
心肺、皮膚、角膜、骨髄、すい臓および腎臓)の拒絶の
予防を行う場合にリンパ球および免疫細胞の増殖を抑制
することができる。

【０１７１】またクラス４および６のシクロスポリン
は、それらの抗炎症活性およびＥＡＥに関する活性の観
点から、炎症状態、特に自己免疫要素を含む病因を伴う
炎症状態の処置、例えば関節炎(例、慢性関節リューマ
チ、慢性または進行性関節炎および変形性関節炎)およ
びリューマチ性疾患並びに自己免疫血液学的障害(例え
ば溶血性貧血、再生不能性貧血、純赤血球貧血および特
発性血小板減少症を含む)、全身性エリテマトーデス、
多発性軟骨炎、硬皮症、ウェグネル肉芽腫症、皮膚筋
炎、慢性活性肝炎、重症筋無力症、乾せん、スチーブン
-ジョンソン症候群、特発性スプルー、自己免疫炎症性
腸疾患(例えば潰よう性大腸炎およびクローン病を含
む)、内分泌性眼病、グレーブズ病、サルコイドーシ
ス、原発性胆管周囲炎性肝硬変、原発性若年型糖尿病
(真性糖尿病Ｉ型)、ブドウ膜炎(前部および後部)、間質
性肺繊維症、乾せん性関節炎、糸球体腎炎(ネフローゼ
症候群を伴う場合および伴わない場合、例えば特発性ネ
フローゼ症候群または微少変化ネフロパシーを含む)並
びに多発性硬化症の処置に有用である。

【０１７２】クラス４および６のシクロスポリンはま
た、それらの抗寄生虫活性の観点から、寄生虫感染の処
置に有用である。例えばコクシジオイデス症および住血
吸虫症、並びに特に原生動物感染、特にマラリアがあ
る。勿論上記用途の場合、用量は、選択されたシクロス
ポリン、投与方法、処置すべき特定の状態および望まし
い療法により異なる。しかしながら一般に、約１〜１０
０、好ましくは約５〜５０、最も好ましくは１０〜２０
mg／kg(動物体重)の経口一日用量で投与すると、満足す
べき結果が得られる。大形ほ乳類(例、ひと)の場合、合
計一日用量は、約７５〜約２０００、好ましくは約２０
０〜約１０００、最も好ましくは約３００〜約７００mg
の範囲内に存する。経口投与に適した用量形態は、固体
または液体医薬用希釈剤または担体と混合した約２０〜
約２０００、好ましくは約５０〜約１０００、最も好ま
しくは約７５〜７００mgのシクロスポリンを含有し、好
都合には１日１回または２〜４回の分割用量で投与され
る。

【０１７３】既に示した通り、適当な一日用量割合は、
特に、例えば作用の相対効力を考慮して選択された特定
のシクロスポリンにより異なる。クラス４および６の好
ましいシクロスポリン類の場合、上記実施例４による一
連の実験において得られた結果[ＩＣ₅₀値(μg／ml)]は
下記の通りである。

【表９】 抗寄生虫適応症における使用に適したシクロスポリンは
シクロスポリン4.7である。実施例６の方法におけるこ
のシクロスポリンに関して得られたＥＤ₅₀値は約１５.
０mg／kgである。

【０１７４】前述したことから、この発明はまた下記の
ものを提供する。 ７．上記クラス４または６のシクロスポリンを医薬的に
許容し得る希釈剤または担体と共に含有する医薬組成
物。 ８．処置を必要とする対象における、炎症疾患もしくは
状態の処置または寄生体感染の処置における免疫抑制誘
発方法であって、前記対象に上記クラス４または６のシ
クロスポリンの有効量を投与することを含む方法、並び
に ９．医薬として、例えば免疫抑制剤、抗炎症剤または抗
寄生体剤として用いられるクラス４または６のシクロス
ポリン。

【０１７５】クラス４および６のシクロスポリンが適用
され得る特定の免疫抑制、抗炎症および抗寄生体用途
は、例えば先に列挙した特定形態の臓器移植、炎症疾
患、自己免疫疾患または寄生体感染症を含む前述の用途
を全て包含する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 38/00 ＡＤＵ ＡＤＹ ＡＤＺ ＡＥＢ Ａ６１Ｋ 37/02 ＡＤＵ ＡＤＹ ＡＤＺ ＡＥＢ (31)優先権主張番号 ８７１４０９８ (32)優先日 1987年６月17日 (33)優先権主張国 イギリス（ＧＢ） (31)優先権主張番号 ８７１４１１５ (32)優先日 1987年６月17日 (33)優先権主張国 イギリス（ＧＢ） (31)優先権主張番号 ８７１４１１８ (32)優先日 1987年６月17日 (33)優先権主張国 イギリス（ＧＢ） (31)優先権主張番号 ８７１４１１９ (32)優先日 1987年６月17日 (33)優先権主張国 イギリス（ＧＢ） (31)優先権主張番号 ８７１４１２５ (32)優先日 1987年６月17日 (33)優先権主張国 イギリス（ＧＢ） (72)発明者 ジヤン・フランソワ・ボレ スイス国ツェハー−4144アルレスハイム、 ドルナッハベーグ４番 (72)発明者 マンフレット・クリーゲル スイス国ツェハー−4422アリスドルフ、ハ ウプトストラッセ91番 (72)発明者 トレボル・グリン・ペイネ スイス国ツェハー−3005ベルン、ダルマチ ライン26番 (72)発明者 ルネ・ペー・トラベル スイス国ツェハー−4056バーゼル、ビルヘ ルム−ヒス−ストラッセ11番 (72)発明者 ローラント・ベンゲル スイス国ツェハー−4125リーヘン、グレン ツァッヘルベーグ45番

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式(II) 【化１】 〔式中、 Ａは−３'−Ｏ−アセチル−ＭeＢmt−、 Ｂは−αＡbu−、−Ｔhr−、−Ｖal−もしくは−Ｎva
   −、ただし、 Ｂが−αＡbu−である場合、Ｘは−(Ｄ)Ａla−およびＹ
   は−Ｖal−、 Ｂが−Ｔhr−もしくは−Ｖal−である場合、Ｘは−Ｓar
   −およびＹは−Ｖal−、またはＢが−Ｎva−である場
   合、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−またはＸは−(Ｄ)
   Ａla−およびＹは−Ｖal−であるか、またはＡは−３'
   −Ｏ−アセチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−もしくは−シス
   −ＭeＢmt−、 Ｂは−αＡbu−、Ｘは−Ｓar−およびＹは−Ｖal−であ
   る。〕で示されるシクロスポリン類(但し、式(II) 【化２】 〔式中、Ａは式(VII) 【化３】 で示される残基、 Ｂは−αＡbu−、−Ｔhr−、−Ｖal−，−Ｎva−または
   β−Ｏ−アシル−α−アミノ酸残基、Ｘは−Ｓar−、 Ｙは−Ｖal−である〕で示されるシクロスポリン類は除
   く。)。
2. 【請求項２】 式(II') 【化４】 〔式中、 Ａは−３'−Ｏ−アシル−ＭeＢmt−もしくは−３'−Ｏ
   −アシル−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基、 Ｂは−αＡbu−、−Ｔhr−、−Ｖal−、−Ｎva−もしく
   はβ−Ｏ−アシル−α−アミノ酸残基、 Ｘは−Ｓａｒ−もしくは(Ｄ)−立体配置を有する光学活
   性α−Ｎ−メチル化α−アミノ酸残基、 Ｙは−Ｖal−またはさらにＢが−Ｎva−である場合は−
   Ｎva−、およびＷは(Ｄ)−立体配置を有するβ−ヒドロ
   キシ−もしくはβ−Ｏ−アシル−α−アミノ酸残基であ
   る〕で示されるシクロスポリン類。
3. 【請求項３】 １位の残基が−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ−
   −シス−ＭeＢmt−もしくは−ジヒドロ−ＭeＢmt−ま
   たは−３'−Ｏ−アシル−８'−Ｃ₁-₈アルコキシ− −シ
   ス−ＭeＢmt−もしくは−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基、−
   ３'−Ｏ−アシル−シス−ＭeＢmt−残基、−７'−デス
   メチル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−もしくは
   シス−ＭeＢmt−または−３'−Ｏ−アシル−７'−デス
   メチル−７'−ヒドロカルビル− −ＭeＢmt−もしくは
   −シス−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカルビル部分は
   少なくとも２個の炭素原子を含む)、または−７'−デス
   メチル−７'−ヒドロカルビル−ジヒドロ−ＭeＢmt−も
   しくは−３'−Ｏ−アセチル−７'−デスメチル−７'−
   ヒドロカルビル−ジヒドロ−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒ
   ドロカルビル部分は少なくとも２個の炭素原子を含み、
   前記ヒドロカルビル部分であるかまたはこれを含む脂肪
   族基もしくは部分は飽和している)であるシクロスポリ
   ン類。
4. 【請求項４】 １位の残基の３'−炭素原子がオキソ、
   Ｃ₁-₄アルコキシイミノ、アジドアルキルカルボニルオ
   キシもしくはアルコキシカルボニルオキシ置換されてい
   るか、または２位の残基のβ−炭素原子がβ−オキソ置
   換されているか，もしくは２位の残基が(Ｌ)−イソロイ
   シル残基であるシクロスポリン類。
5. 【請求項５】 式(XI) 【化５】 〔式中、 Ａは−Ｎ−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−、Ｂは−
   Ｔhr−およびＺは−ＭeＶal−、またはＡは−ジヒドロ
   −ＭeＢmt−、Ｂは−Ｔhr−およびＺは−Ｖal−、また
   はＡは−ＭeＬeu−、Ｂは−αＡbu−およびＺは−Ｖal
   −である〕で示されるシクロスポリン類。
6. 【請求項６】 ２位にβ−ヒドロキシ−(Ｌ)−α−アミ
   ノ酸残基を有するシクロスポリンのジカルボン酸ジエス
   テルであるシクロスポリン類。
7. 【請求項７】 他の化学療法的薬剤療法の効力の改善も
   しくは増強または前記療法に対する感受性の増強、また
   は第２化学療法薬剤物質に関する有効化学療法用量割合
   の低減、または第２化学療法薬剤物質に対する耐性を特
   徴とする疾患状態の処置、または前記処置に対して抵抗
   性を示すかまたはこれを特徴とする疾患状態の化学療法
   処置の強化もしくは改善、または化学療法処置に対する
   抵抗性の解除もしくは低減、または化学療法処置に対す
   る感受性の回復剤であって、(i)１位の残基の３'−炭素
   原子または２位の残基のβ−炭素原子がＯ−アシルもし
   くはオキソ置換されているか、または(ii)１位の残基の
   ３'−炭素原子がＣ₁-₄アルコキシイミノ置換されている
   か、２位の残基が(Ｌ)−イソロイシル残基であるか、ま
   たは１１位の残基がＮ−メチル−(Ｌ)−アラニル、Ｎ−
   メチル−(Ｌ)−イソロイシルまたはＮ−メチル−(Ｌ)−
   アロイソロイシル残基であるか、または(iii)請求項５
   記載の式(XI)において、 Ｚが−Ｖal−またはＭeＶal−、 ただし、Ｚが−Ｖal−である場合、Ａは−ＭeＢmt−ま
   たは−ジヒドロ−ＭeＢmt−、 Ｚが−ＭeＶal−である場合、Ａは−３'−デスオキシ−
   ＭeＢmt−、−３'−デスオキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt
   −、−Ｎ−デスメチル−ＭeＢmt−、−Ｎ−デスメチル
   −ジヒドロ−ＭeＢmt−、−３'−デスオキシ−４'−デ
   スメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−または−ＭeＬeu−、お
   よびＺが−Ｖal−である場合、Ｂは−αＡbu−または−
   Ｔhr−、 Ｚが−ＭeＶal−およびＡが−３'−デスオキシ−ＭeＢm
   t−、−３'−デスオキシ−ジヒドロ−ＭeＢmt−、−３'
   −デスオキシ−４'−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−
   または−ＭeＬeu−である場合、Ｂは−αＡbu−、また
   はＱが−ＭeＶal−およびＡが−Ｎ−デスメチル−ＭeＢ
   mt−または−Ｎ−デスメチル−ジヒドロ−ＭeＢmt−で
   ある場合、Ｂは−Ｔhr−であるシクロスポリン類の少く
   とも１種を含む剤。
8. 【請求項８】 免疫抑制の遂行、または炎症性疾患もし
   くは状態の処置、または寄生体感染症の処置剤であっ
   て、請求項１〜６記載のシクロスポリン類[ただし、１
   位の残基は−シス−ＭeＢmt−、−８'−Ｃ₁-₈アルコキ
   シ−シス−ＭeＢmt−もしくは−ジヒドロ−ＭeＢmt−残
   基、−７'−デスメチル−７'−ヒドロカルビル−ＭeＢm
   t−もしくは−シス−ＭeＢmt−残基(ただし、ヒドロカ
   ルビル部分は少なくとも２個の炭素原子を含む)、−７'
   −デスメチル−７'−ヒドロカルビル−ジヒドロ−ＭeＢ
   mt−残基(ただし、ヒドロカルビル部分は少なくとも２
   個の炭素原子を含み、前記ヒドロカルビル部分であるか
   またはこれを含む脂肪族基もしくは部分は飽和してい
   る)である]の少くとも１種を含む剤。
9. 【請求項９】 １位の残基が−５'−デス−(１−プロペ
   ニル)−５'−ホルミル−ＭeＢmt−の遊離形または３'−
   Ｏ−保護形であるシクロスポリン類。