JPH0841118A - 重合化方法 - Google Patents
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Abstract
布している、2峰性分子量分布を有するエチレンとアル
ファ−オレフィンの共重合体を製造する方法を提供す
る。 【構成】 エチレンと3乃至20個の炭素原子を有する
アルファ−オレフィンの2峰性分子量分布の共重合体を
製造する方法であって、その共重合体は;(a)低分子
量成分の中間での共重合用単量体レベルが、高分子量成
分の中間でのレベルの3倍未満である共重合用単量体の
分布、および(b)炭素原子1000個あたりの短側鎖
(SCB)が0.5乃至20の範囲の総平均共重合用単
量体含量を有し、前記方法が担持された多活性点触媒の
存在下で実施されることを特徴とする。多活性点触媒は
メタロセン錯体およびチーグラー触媒から成る。メタロ
セン錯体は、例えばビス(ペンタメチルシクロペンタジ
エニル)二塩化ジルコニウムである。
Description
に2峰性分子量分布を有するエチレンとアルファ−オレ
フィンの共重合体を製造する方法に関する。
は多峰性のポリオレフィンは、チーグラー触媒を用い
て、異なった操作条件が採用されるスラリーまたはガス
相重合法によって商業的に得ることができる。
の予想される適用による破裂、衝撃、応力亀裂および破
損特性において利点があることが判っている。
知られている。これらの方法で得られた重合体は、しば
しば共重合用単量体を分子量分布の一部分に選択的に結
合している。重合体の他の部分はしばしば共重合用単量
体の結合を殆どまたは全く含まない。
った操作条件により成り立ち、しばしば2つの独立した
反応器を使用する。これらの重合体を、好ましくはガス
相において一定の安定条件の下で1つの反応器中で製造
することができれば有利である。
て2種の重合化触媒の組み合わせを用いることにより製
造し得、例えばメタロセンとチーグラー触媒または2種
の異なったメタロセン触媒が使用され得る。これらの触
媒系は多活性点触媒と呼称され得る。このような系にお
いて、異なる触媒成分は、一式の反応工程操作条件の下
で異なる分子量のポリオレフィンを生成することができ
得るはずで、それにより2峰性の分子量分布が形成され
る。典型的には、このような2峰性重合体の低分子量部
分は触媒のメタロセン成分により誘導される。
用単量体を有するポリオレフィンを製造するためには、
やはり多活性点触媒を用いることが望ましい。あいにく
多活性点触媒において従来用いられているメタロセン成
分は、チーグラー触媒に比べ大量の共重合用単量体を結
合し得ることが知られており、共重合用単量体が低分子
量部分に集中している2峰性分子量分布が結果として生
ずる。
セン成分は、高濃度の共重合用単量体存在下であっても
2峰性重合体中への共重合用単量体の結合が低い傾向を
有しており、共重合用単量体の分布を制御するのに活用
され得る。
個々の成分の共重合用単量体結合特性に依存している。
従ってこのような共重合用単量体の結合が低い傾向を有
するメタロセン成分を用いることによって、共重合用単
量体が分子量分布全体に均一に分布しているか、あるい
は高分子量成分中に集中すらしている2峰性共重合用単
量体分布を典型的に示す重合体を得ることができる。
至20個の炭素原子を有するアルファ−オレフィンの2
峰性の分子量分布共重合体を製造する方法が提示され、
その共重合体は; (a) 低分子量成分の中間での共重合用単量体レベル
が、高分子量成分の中間でのレベルの3倍未満である共
重合用単量体の配置、および(b) 炭素原子1000
個あたりの短鎖分枝(SCB)が0.5乃至20の範囲
の総平均共重合用単量体含量を有し、かつ、前記方法が
担持された多活性点触媒の存在下で実施されることを特
徴とする。
体レベル」は、骨格を成す炭素原子1000個あたりの
短鎖分枝(SCB/1000C)で表される、特定分子
量の重合体の共重合用単量体含量を表すものであり、重
合体中のその分子量の重合体の総量に依存しない。
用単量体含量」は、SCB/1000Cで表される、全
ての分子量の範囲にわたる重合体全体の平均共重合用単
量体含量である。
るものとして定義され、例えば高分子量重合体成分を生
成するチーグラー触媒成分や低分子量重合体成分を生成
するメタロセンである。メタロセン成分はまた、2つ以
上の異なったメタロセン種を含有し得、その場合はそれ
らは共に所望の低分子重合体成分を生成する。
の実例は、以下の式により表される。
ペンタジエニル配位子を表し、RおよびR1 は、共に同
じか或いは異なるアルキル、アリル、アルキルアリル、
アルケニル、またはハロアルキル、Zは、CX2 、Si
X2 、GeX2 などから成る架橋基、Xは、水素あるい
は上記のRおよびR1 により定義されるもの、Mは、Z
r、TiあるいはHf、Yは、たとえばハロゲン化物、
アルキル、アルコキシなどの1価の陰イオン配位子であ
り、また式(II)において、RおよびR1 の少なくとも1
つは3個以上の炭素原子を有し、式(IV)においてmは3
または4である。
メタロセンの実例は、それぞれビス(ペンタメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライドおよびビ
ス(1−プロペニル−2−メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライドである。
り、与えられた一式の反応条件で、より低い絶対共重合
用単量体結合レベルを有する重合体組成物が得られる。
l. JACS 100, 10, 3078, CanadianJournal of Chemistr
y 69, 1991, p661-672 や、E. Samuel et.al. J. Organ
o-metallic Chem. 1976, 113, p331-339の文献の方法に
従って製造され得る。
間で実質的に異なった分子量分布を示す共重合体と関連
するものとして定義される。
300,000の範囲、好ましくは5000乃至50,
000の範囲の中間での分子量を有し、高分子量成分は
100,000乃至10,000,000の範囲、好ま
しくは150,000乃至750,000の範囲の中間
での分子量を有している。
1乃至20SCB/1000Cである。
は、適当な共触媒存在下で使用され得る。適当な共触媒
は、周期律表のIA、IIA、IIBあるいはIIIB
族の金属を有する有機金属化合物である。好適にはその
金属は、リチウム、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛
およびボロンを含む群より選択される。このような共触
媒は、重合化反応、特にオレフィンの重合化反応におい
て使用されることが知られており、また、トリアルキ
ル、アルキルヒドリド、アルキルハロゲン、アルキルア
ルコキシアルミニウム化合物およびアルキルアルミンオ
キサンのような有機アルミニウム化合物が含まれる。好
ましくはそれぞれのアルキルまたはアルコキシ基は、1
乃至6個の炭素を有する。このような化合物の実例は、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、水
素化ジエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリデシルアルミニウム、トリドデシルアルミニウ
ム、ジエチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミ
ニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシ
ド、塩化ジエチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニ
ウム、メチルジエトキシアルミニウムおよびメチルアル
ミンオキサンを含んでいる。
サンであり、アルキル基は1乃至10個の炭素原子を有
し、特にメチルアルミンオキサン(MAO)および例え
ばトリメチルアルミニウムのようなトリアルキルアルミ
ニウム化合物である。他の好適な共触媒にはブレンステ
ッドあるいはルイスの酸も含まれる。
ることができる。例えば、メタロセン成分と共触媒(例
えばMAO)は、担持されたチーグラー触媒に添加する
ことができる。その後の重合化工程の間に、第二の共触
媒(例えばトリメチルアルミニウム)を反応媒質に添加
することができる。
1つの酸化物あるいは酸化物またはハロゲン化物の組み
合わせを含むことができる。それらは酸化物とハロゲン
化物の物理的な混合物でも良い。支持体は、広い表面積
(250乃至1000M2 /g)と細孔の小さな容積
(0乃至1ml/g)とを有するか、あるいは狭い表面
積(0乃至250M2 /g)と細孔の大きな容積(1乃
至5ml/g)とを有するか、または広い表面積(25
0乃至1000M2 /g)と細孔の大きな容積(1乃至
5ml/g)とを有する(メソ多孔性)。不均一系触媒
反応/重合体触媒反応に使用されるいずれの支持体も採
用されうるが、好適な支持体物質は、シリカ、アルミ
ナ、チタニア、ボリア、および塩化マグネシウム無水物
あるいはそれらの混合物である。
メチルアルミニウムのような試薬を用いる例えば熱的ま
たは化学的脱水酸化あるいはこれらの組み合わせによ
り、その表面を修飾するための前処理を施される。使用
され得る他の試薬は、トリエチルアルミニウム、メチル
アルミンオキサンおよび、アルキル、アルキルマグネシ
ウム特にブチルマグネシウムおよびハロゲン化アルキル
マグネシウム、アルキル亜鉛およびアルキルリチウムを
含む他のアルミニウムである。異なった含浸管理が表面
処理ならびにそれに続く触媒含浸のために適用され得
る。含浸は、蒸気相処理/含浸技術を含む先行文献にお
いて知られているいずれかの方法を用いて連続的に、あ
るいはいくつかの独立した段階または1段階において行
われる。
分は、好ましくは従来あるチーグラー触媒、フィリップ
触媒あるいはそのほかのメタロセン触媒である。好適に
は高分子量成分はチーグラー触媒である。
おいて開示されている。
性点触媒は、溶液重合化、スラリー重合化またはガス相
重合化技術を用いる重合体の製造のために使用され得
る。好適には共重合化において用いられ得るアルファ−
オレフィンは、ブテン−1、ヘキセン−1、4−メチル
ペンテン−1オクテン−1または現場で供給されうるよ
り長鎖のアルファ−オレフィンである。これらの重合化
反応を達成するための方法や装置は、よく知られてお
り、例えばJohn Wiley and Sons により著された「Ency
clopaedia of Polymer Science and Engineering」の1
987年刊Volume7, p480 - 488および1988年刊Vol
ume 12, p504 - 541 に記載されている。本発明による
多活性点触媒組成物は、既知のオレフィン重合化触媒と
相同の量および相同の条件で用いることができる。
ができる。水素あるいは他の適当な連鎖移動試薬が重合
化に用いられ、産生されるポリオレフィンの分子量を調
整する。水素の量は水素分圧のオレフィン分圧に対する
比が0.0001乃至1、好ましくは0.001乃至
0.1となるような量である。
形態」方法のためあるいはガス相方法のためには30乃
至110℃である。溶液方法のための温度は典型的には
100乃至250℃である。用いられる圧力は、比較的
広い範囲の好適圧力から選択することができ、それは例
えば常圧付近から約350MPaであり、好ましくはそ
の圧力は常圧から約6.9MPa、または0.05乃至
10、特に0.14乃至5.5MPaである。スラリー
または粒子形態方法においては、その工程は好ましく
は、飽和脂肪族炭化水素のような液体の不活性な希釈剤
を用いて行われる。好ましくはその炭化水素は、たとえ
ばイソブタンあるいはベンゼン、トルエンまたはキシレ
ンのような芳香族炭化水素の液体などの、炭素数が4乃
至10である炭化水素である。重合体は、ガス相法では
直接回収し、スラリー法では濾過あるいは蒸発によっ
て、溶液法では蒸発によって回収する。
使用に適している。
り、同じ重合化反応条件の下で製造した場合、相応する
組成物よりも低いレベルの絶対共重合用単量体結合を有
する重合体組成物が製造され得る。このことにより、例
えば高密度剛性フィルムには、より高い剛性といった向
上した製造物特性が導かれる。比較的高濃度の共重合用
単量体存在下で実行してもなお低いレベルの絶対共重合
用単量体を有する製造物を製造できることは、与えられ
た密度の範囲でより広い範囲の分子量分布を実現し得る
ので、やはり有利である。
説明する。
ニウムの製造(比較対照) 臭化アリル(50g)をテトラヒドロフラン(200m
l、乾燥)に溶解し、0℃まで冷却した。これにシクロ
ペンタジエニルナトリウムのテトラヒドロフラン溶液
(220ml、2.0M)を加え、16時間攪拌した。
この混合液に飽和塩化アンモニウム溶液(200ml)
を添加し、有機相を分離し、水で洗浄し(200mlで
3回)、それから無水硫酸マグネシウムを介して乾燥し
た。その溶液を濾過し、溶媒をロータリーエバポレータ
ーにより除去し、残った黄色のオイルを真空蒸留して
(30乃至40℃、17mmHg)、プロペニルシクロ
ペンタジエンを得た(生成量13.99g、32.5
%)。
エチルエーテル中1.4M)を、0℃で、急速に攪拌さ
れているプロペニルシクロペンタジエン(11.17
g)の乾燥ジエチルエーテル溶液にゆっくりと添加し
た。反応は20℃まで暖められ、ガスの産生が収まるま
で攪拌を続けた。沈降したプロペニルシクロペンタジエ
ニルリチウムを濾過により分離し、ジエチルエーテルで
洗浄し(100ml、2回)、吸引乾燥して10.65
gの純白の粉末を得た。0℃で急速に攪拌されているプ
ロペニルシクロペンタジエニルリチウムのテトラヒドロ
フラン溶液(100ml)に、乾燥テトラヒドロフラン
(100ml)に溶解した四塩化ジルコニウム(11.
09g、47.5mmol)を添加した。反応混合物は
20℃まで暖められ、16時間攪拌された。真空下で揮
発物は除去され、残渣をジエチルエーテルで抽出し(1
00ml、4回)、濾過した。溶液を−78℃までゆっ
くり冷却すると最終産物が、微小粒子状の白色の固体と
して得られた。冷却したエーテルからの再結晶により、
ビス(プロペニルシクロペンタジエニル)二塩化ジルコ
ニウムを得た(生成量13.33g、75.4%)。
ル)二塩化ジルコニウムの製造 実施例1で製造したプロペニルシクロペンタジエン
(7.5g)をジエチルエーテル(100ml、乾燥)
に溶解し、−78℃まで冷却した。メチルリチウムのジ
エチルエーテル溶液(55ml、1.4M)を注意深く
添加し、冷却槽を取り除いて溶液を20℃に16時間放
置した。得られた固体のプロペニルシクロペンタジエニ
ルリチウム塩を濾過し、冷却したジエチルエーテルで洗
浄し(50ml、0℃で2回)、さらに吸引乾燥した
(生成量7.8g、100%)。そのリチウム塩をテト
ラヒドロフランに溶解し(100ml)、−78℃まで
冷却し、さらにそれにヨウ化メチル(10g)のテトラ
ヒドロフラン溶液を添加した。反応は20℃で16時間
攪拌し続け、それから飽和塩化アンモニウム溶液(20
0ml)で停止した。ジエチルエーテル(50ml)を
添加し、有機相を分離して水で洗浄した(100ml、
3回)。無水硫酸マグネシウムを介して乾燥させた後、
その溶液を濾過して溶媒を真空下(18mmHg、20
℃)で除去し、褐色のオイルを得、NMRにより、それ
が溶媒の痕跡を有するメチルプロペニルシクロペンタジ
エン(生成量7.4g)であることが示された。
ロペンタジエン(4.07g)をジエチルエーテル(1
00ml、乾燥)に溶解し、−78℃まで冷却した。メ
チルリチウムのジエチルエーテル溶液(25ml、1.
4M)を注意深く添加し、その溶液を20℃16時間攪
拌した。得られた濃厚な懸濁液を吸引乾燥して、メチル
プロペニルシクロペンタジエニルリチウムの灰白色の粉
末を得(生成量4.17g、97.5%)、これをテト
ラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却した。ZrC
l4 .2テトラヒドロフラン(5.0g)のテトラヒドロ
フラン中のスラリーにリチウム塩溶液を添加し、20℃
で72時間攪拌した。それから反応を0℃で乾燥塩化水
素ガスを用いて停止し、吸引乾燥し、生成物をジクロロ
メタンで抽出した(50ml、2回)。ジクロロメタン
の容量を25mlまで減少させ、次いでヘプタンを沈殿
が始まるまで添加した。溶液を16時間−20℃に冷却
して沈殿を完了させて、固体の生成物であるビス(1−
プロペニル−2−メチルシクロペンタジエニル)二塩化
ジルコニウムを濾過により分離し、ヘキサンで洗浄し
(50ml、2回)、吸引乾燥した。(生成量2.7
g、52%)。
コニウム ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)二塩化ジル
コニウムは、StremChemicals (Fluorochem)から購入
し、そのままで使用した。
乾燥、20kg)を、ヘキサン(110L、乾燥)に懸
濁し、50℃で攪拌しながらヘキサメチルジシラザン
(Fulka 、30モル、0.8mM/gシリカ)を添加し
た。120Lのヘキサンを攪拌しながら添加し、固形物
を沈殿させ、上清を傾斜法により除去し、次いで攪拌し
ながらヘキサン(130L、乾燥)を添加した。このヘ
キサン洗浄はさらに3回繰り返した。ジブチルマグネシ
ウム(FMC 、30モル、1.5mM/gシリカ)を添加
し、50℃で1時間攪拌した。t−ブチルクロライド
(Huls、60モル、3mM/gシリカ)を添加し、50
℃で1時間攪拌した。このスラリーに、50℃で2時間
攪拌しながら、四塩化チタニウム(Thann & Mulhouse、
3モル、0.15mM/gシリカ)とチタニウムテトラ
−n−プロポキシド(Thann& Mulhouse、3モル、0.1
5mM/gシリカ)の等モル混合物を添加し、続いて1
30Lのヘキサンで5回洗浄した。このスラリーを窒素
気流下で乾燥して、固形のシリカに担持されたチーグラ
ー触媒を得た。
乾燥、20kg)を、ヘキサン(110L、乾燥)に懸
濁し、50℃で攪拌しながらヘキサメチルジシラザン
(Fulka 、30モル、1.5mM/gシリカ)を添加し
た。固形物を沈殿させ、上清を傾斜法により除去し、次
いで攪拌しながらヘキサン(130L、乾燥)を添加し
た。このヘキサン洗浄はさらに3回繰り返した。ジブチ
ルマグネシウム(FMC 、30モル、1.5mM/gシリ
カ)を添加し、50℃で1時間攪拌した。t−ブチルク
ロライド(Huls、60モル、3mM/gシリカ)を添加
し、50℃で1時間攪拌した。このスラリーに、50℃
で攪拌しながら、四塩化チタニウム(Thann & Mulhous
e、3モル、0.15mM/gシリカ)とチタニウムテ
トラ−n−プロポキシド(Thann & Mulhouse、3モル、
0.15mM/gシリカ)の等モル混合物を添加し80
℃で2時間攪拌し、続いて130Lのヘキサンで3回洗
浄した。このスラリーを窒素気流下で乾燥して、固形の
シリカに担持されたチーグラー触媒を得た。
乾燥、14.8g)を、ヘキサン(150ml、乾燥)
に懸濁し、80℃で攪拌しながらヘキサメチルジシラザ
ン(Fulka 、4.4mM、1.5mM/gシリカ)を添
加した。固形物を沈殿させ、上清を傾斜法により除去
し、次いで攪拌しながらヘキサン(500ml、乾燥)
を添加した。このヘキサン洗浄はさらに4回繰り返し
た。ジブチルマグネシウム(FMC 、22.2mM、1.
5mM/gシリカ)を添加し、50℃で1時間攪拌し
た。t−ブチルクロライド(Huls、44.4mM、3m
M/gシリカ)を添加し、50℃で1時間攪拌した。こ
のスラリーに、50℃で攪拌しながら、四塩化チタニウ
ム(Thann & Mulhouse、11.1mM、0.5mM/g
シリカ)を添加した。このスラリーを窒素気流下で乾燥
して、固形のシリカに担持されたチーグラー触媒を得
た。
ニウム(0.0454g)を、20℃で攪拌しながらメ
チルアルミノキサンのトルエン溶液(Schering、6.9
mlの2.65M溶液)に溶解した。これをシリカ担持
されたチーグラー触媒(実施例5のもの、2.5g)に
添加し、得られた濃厚なスラリーを20℃で75分間攪
拌した。それから溶媒を20℃で真空下で除去し、流動
性の粉末を得た。
ル)二塩化ジルコニウム(0.0488g)を、メチル
アルミンオキサンのトルエン溶液(Schering、7.8m
lの2.35M溶液)に溶解し、さらに9.2mlのト
ルエンを添加した。これをシリカ担持されたチーグラー
触媒(実施例5のもの、2.5g)に添加し、得られた
濃厚なスラリーを50℃で180分間攪拌した。それか
ら溶媒を20℃で真空下で除去し、流動性の粉末を得
た。
ル)二塩化ジルコニウム(0.039g)を、メチルア
ルミンオキサンのトルエン溶液(Schering、6.3ml
の2.33M溶液)に溶解し、さらに7.7mlのトル
エンを添加した。これをシリカ担持されたチーグラー触
媒(実施例6のもの、2g)に添加し、得られた濃厚な
スラリーを50℃で180分間攪拌した。それから溶媒
を20℃で真空下で除去し、流動性の粉末を得た。
コニウム(0.054g)を20℃で攪拌しながらメチ
ルアルミンオキサンのトルエン溶液(Schering、8ml
の2.35M溶液)に溶解し、さらに8mlのトルエン
を添加した。これをシリカ担持されたチーグラー触媒
(実施例4のもの、2.5g)に添加し、得られた濃厚
なスラリーを50℃で75分間攪拌した。それから溶媒
を20℃で真空下で除去し、流動性の粉末を得た。
下で1時間80℃に加熱した。次に、乾燥塩化ナトリウ
ム(300g)にトリメチルアルミニウム(TMA)溶
液(ヘキサン中2mlの2MのTMA溶液)を添加し、
反応器を1時間80℃に加熱した。反応器を窒素でパー
ジし、45℃に冷却してTMA溶液(ヘキサン中1.8
mlの0.5MのTMA溶液)を添加した。温度を75
℃に上昇させ、水素(0.58psi)と1−ヘキセン
(2ml)を、エチレンの添加(7.9bar)の前に
添加した。反応は、実施例7の触媒(0.129g)の
反応器への注入によって開始された。温度は75℃に維
持され、エチレンは一定の圧力を維持するために添加さ
れた。ガス相は、質量分析計により監視され、水素およ
び1−ヘキセンは一定のガス相濃度を維持するために必
要に応じて添加された。設定した重合化時間(129
分)の後、窒素でパージしながら反応器を常圧まで急速
に減圧して反応を停止し、室温まで冷却した。結果は添
付の表1に示した。
様に同じ手順を実行した。詳細は以下の表1に示した。
マトグラフ中でGPC カラムと直接つなげて使用した。15
0CV を赤外線セルに接続している細管を140℃に加熱
した。試料は、トリクロロベンゼン/80ppmイオノ
ール中の0.5%(w/v)溶液として調製して、14
0℃2時間加熱し、160℃2時間加熱し、それからス
テンレススチールカップフィルター(0.5ミクロン)
を通して濾過した。試料溶液は、140℃でShodex 1
07 オングストローム、104 オングストローム直線状
カラムを用い、1ml/分の溶離液の流速により、既知
の分子量の精密なポリスチレン標準物質で検定して、特
性を調べた。赤外線スペクトルを捕捉するためにBio-Ra
d WIN-IRソフトウェアを備えたBio-Rad FTS-60A FTIR分
析器を用い、3010乃至2820cm-1にわたって、
4cm-1の分解能で液体窒素冷却MCT検出器を使用し
た。捕捉時間は30秒(64スキャン)であり、スペク
トルの捕捉は1分のインターバルで行われた。用いられ
たバックグラウンドスペクトルは、試料の注入からポリ
エチレンが最初に出現するまでの時間中に捕捉された溶
媒スペクトルであった。それぞれのバックグラウンドの
ために500スキャンの捕捉が為された。
ルのバンドの2927cm-1のメチレンのピークのバン
ドに対する比を根拠とした。2990乃至2825cm
-1の間では直線ベースラインが形成された。結果は、N
MRによる枝分かれデータが知られているポリエチレン
の分析から計算した換算法を用いて、ピークの比から枝
分かれレベルに換算した。補正は、メチル基を測定する
ために用いられる周波数におけるメチレンのピークの寄
与を考慮するため、直鎖状単一重合体から計算して行っ
た。また補正は、鎖末のメチル基による寄与を考慮する
ため、GPC溶離時間によって示される重合体の分子量
を根拠にして行った。この測定の目的のために、全ての
メチル基は同じ周波数のところで出現し、同じ吸光係数
を持つものと仮定した。ポリエチレンの分子量は、Mark
-Houwinkの関係を用いてポリスチレンの溶離時間より導
き、末端補正は、それぞれのスペクトル捕捉の中間での
溶離時間を基にし、スペクトル捕捉中の組成物における
いかなる変化に対しても補正した。
例12乃至14における共重合用単量体の分布は、低分
子量成分と高分子量成分の、中間での共重合用単量体レ
ベルの関係から決定されるように、3未満であり、一方
で実施例11(比較対照)においては、その値は3より
大きく、即ち4.2であった。
量分布全体に均一に分布している、2峰性分子量分布を
有するエチレンとアルファ−オレフィンの共重合体を製
造する方法が得られる。
Claims (11)
- 【請求項1】 エチレンと3乃至20個の炭素原子を有
するアルファ−オレフィンの2峰性分子量分布の共重合
体を製造する方法であって、その共重合体は; (a) 低分子量成分の中間での共重合用単量体レベル
が、高分子量成分の中間でのレベルの3倍未満である共
重合用単量体の分布、および(b) 炭素原子1000
個あたりの短鎖分枝(SCB)が0.5乃至20の範囲
の総平均共重合用単量体含量を有し、かつ、前記方法が
担持された多活性点触媒の存在下で実施されることを特
徴とする共重合体の製造方法。 - 【請求項2】 総平均共重合用単量体含量が1乃至20
の範囲にある請求項1による方法。 - 【請求項3】 多活性点触媒がシリカ、アルミナまたは
塩化マグネシウムに担持されている上記請求項いずれか
による方法。 - 【請求項4】 多活性点触媒がメタロセン成分およびチ
ーグラー触媒成分から成る上記請求項のいずれかによる
方法。 - 【請求項5】 メタロセン成分が、式: (I) (C5 R5 )(C5 R1 5 ) MY2 (II) (C5 R2 H3 )(C5 R1 2 H3 )MY2 (III) (C5 R4 ) Z (C5 R1 4 ) MY2 (IV) (C5 Rm H5-m )(C5 R1 n H5-n ) MY2 を有し、ここにおいて、C5 R5 およびC5 R1 5 等
は、シクロペンタジエニル配位子を表し、RおよびR1
は、共に同じか或いは異なるアルキル、アリル、アルキ
ルアリル、アルケニル、またはハロアルキル、Zは、C
X2 、SiX2 、GeX2 などから成る架橋基、Xは、
水素あるいは上記のRおよびR1 により定義されるも
の、Mは、Zr、TiあるいはHf、Yは、たとえばハ
ロゲン化物、アルキル、アルコキシなどの1価の陰イオ
ン配位子であり、また式(II)において、RおよびR1 の
少なくとも1つは3個以上の炭素原子を有し、式(IV)に
おいてmは3または4である、請求項4による方法。 - 【請求項6】 Mがジルコニウムである請求項5による
方法。 - 【請求項7】 メタロセン成分が、ビス(ペンタメチル
シクロペンタジエニル)二塩化ジルコニウムまたはビス
(1−プロペニル−2−メチルシクロペンタジエニル)
二塩化ジルコニウムである請求項5による方法。 - 【請求項8】 多活性点触媒が少なくとも1つの共触媒
存在下で使用される上記請求項のいずれかによる方法。 - 【請求項9】 共触媒が有機アルミニウム化合物である
請求項8による方法。 - 【請求項10】 有機アルミニウム化合物がメチルアル
ミンオキサンまたはトリメチルアルミニウムである請求
項9による方法。 - 【請求項11】 ガス相で実施される上記請求項のいず
れかによる方法。
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