JPH08325764A - スズ酸化物の除去剤 - Google Patents
スズ酸化物の除去剤Info
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- JPH08325764A JPH08325764A JP14976595A JP14976595A JPH08325764A JP H08325764 A JPH08325764 A JP H08325764A JP 14976595 A JP14976595 A JP 14976595A JP 14976595 A JP14976595 A JP 14976595A JP H08325764 A JPH08325764 A JP H08325764A
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- tin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スズ及びスズ合金めっき及びめっき剥離の装
置及びその排出用配管内に固着するスズ酸化物の除去
を、手作業を要することなく単にスズ酸化物を付着して
いる部分に対して本発明の除去液を浸漬、循環、洗浄、
揺動等の方法により接触させるだけで、効率良く容易に
除去する。 【構成】 水酸化アルカリ及びアルカリ土類金属の少な
くとも一種よりなる溶解主剤と、及び多価アルコール及
びその誘導体の少なくとも１種よりなる膨潤剤を含有す
る事を特徴とするスズ酸化物の除去剤。アミン化合物、
界面活性剤の少なくとも１種を浸透剤として、また有機
カルボン酸及びその塩類を溶解した金属の安定剤として
含有しても良い。
置及びその排出用配管内に固着するスズ酸化物の除去
を、手作業を要することなく単にスズ酸化物を付着して
いる部分に対して本発明の除去液を浸漬、循環、洗浄、
揺動等の方法により接触させるだけで、効率良く容易に
除去する。 【構成】 水酸化アルカリ及びアルカリ土類金属の少な
くとも一種よりなる溶解主剤と、及び多価アルコール及
びその誘導体の少なくとも１種よりなる膨潤剤を含有す
る事を特徴とするスズ酸化物の除去剤。アミン化合物、
界面活性剤の少なくとも１種を浸透剤として、また有機
カルボン酸及びその塩類を溶解した金属の安定剤として
含有しても良い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スズ及びスズ合金のめ
っき又はめっき剥離の装置及びその排出用配管内などに
堆積するスズ酸化物を除去するための除去剤に関する。
っき又はめっき剥離の装置及びその排出用配管内などに
堆積するスズ酸化物を除去するための除去剤に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】プリント配線板、ＩＣ等の製
造工程では、スズ及びスズ合金のめっき工程、治具剥離
工程が繰返し行われ、スズ及びスズ合金めっきをエッチ
ングレジストに用いた場合には、プリント配線板、ＩＣ
等の基材上からスズ及びスズ合金めっきを剥離する工法
が多く行われている。これらのスズが溶解している、め
っき剥離装置内には、通常溶解したスズは２価スズとし
て存在しているが、２価スズは不安定であるため容易に
４価スズに酸化したメタスズ酸等の酸には不溶な化合物
に変質してしまう。これらのスズ酸化物がめっき治具上
に固着することにより、めっき工程における電流密度の
バラツキによるめっき膜厚の不均一化が生じる。スズ及
びスズ合金めっき剥離工程においては、スプレー配管内
の堆積によって剥離液の吐出量低下あるいはスプレーノ
ズルの詰まりにより、めっき剥離不良や過負荷によるス
プレーポンプの故障原因となる。また温度センサー、加
熱ヒーター、冷却チラー上にも堆積するため液温コント
ロールに誤差が生じるという問題もかかえている。以上
の理由から、スズ及びスズ合金めっき、めっき剥離の装
置及びその排出用配管内に生じるスズ酸化物は、定期的
な除去が必要となる。従来では人の手作業によりスズ酸
化物を除去する手法が採られているが、多大な時間を費
やしてしまうという問題点を解決しないでいる。
造工程では、スズ及びスズ合金のめっき工程、治具剥離
工程が繰返し行われ、スズ及びスズ合金めっきをエッチ
ングレジストに用いた場合には、プリント配線板、ＩＣ
等の基材上からスズ及びスズ合金めっきを剥離する工法
が多く行われている。これらのスズが溶解している、め
っき剥離装置内には、通常溶解したスズは２価スズとし
て存在しているが、２価スズは不安定であるため容易に
４価スズに酸化したメタスズ酸等の酸には不溶な化合物
に変質してしまう。これらのスズ酸化物がめっき治具上
に固着することにより、めっき工程における電流密度の
バラツキによるめっき膜厚の不均一化が生じる。スズ及
びスズ合金めっき剥離工程においては、スプレー配管内
の堆積によって剥離液の吐出量低下あるいはスプレーノ
ズルの詰まりにより、めっき剥離不良や過負荷によるス
プレーポンプの故障原因となる。また温度センサー、加
熱ヒーター、冷却チラー上にも堆積するため液温コント
ロールに誤差が生じるという問題もかかえている。以上
の理由から、スズ及びスズ合金めっき、めっき剥離の装
置及びその排出用配管内に生じるスズ酸化物は、定期的
な除去が必要となる。従来では人の手作業によりスズ酸
化物を除去する手法が採られているが、多大な時間を費
やしてしまうという問題点を解決しないでいる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、ス
ズ及びスズ合金のめっき又はめっき剥離に使用される装
置及びその排出用配管に堆積固着するスズ酸化物を効率
的に溶解除去するための除去剤を提供することを目的と
する。
ズ及びスズ合金のめっき又はめっき剥離に使用される装
置及びその排出用配管に堆積固着するスズ酸化物を効率
的に溶解除去するための除去剤を提供することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、効率良くス
ズ及びスズ合金のめっき又はめっき剥離の装置及びその
排出用配管内などに堆積するスズ酸化物を除去できる除
去剤を見出すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、水
酸化アルカリ及びアルカリ土類金属より選択した少なく
とも１種、及び多価アルコール及びその誘導体から選択
した少なくとも１種を含有する除去剤が、スズ及びスズ
合金めっき又はめっき剥離の装置及びその排出配管内に
堆積固着しているスズ酸化物を能率的に除去できること
を見出した。さらに、この組成にアミン化合物、界面活
性剤、有機カルボン酸及びその塩類の少なくとも１種を
加えることにより、より効率良くスズ及びスズ合金めっ
き又はめっき剥離の装置及びその配管内に堆積固着して
いるスズ酸化物が除去できることを見出した。
ズ及びスズ合金のめっき又はめっき剥離の装置及びその
排出用配管内などに堆積するスズ酸化物を除去できる除
去剤を見出すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、水
酸化アルカリ及びアルカリ土類金属より選択した少なく
とも１種、及び多価アルコール及びその誘導体から選択
した少なくとも１種を含有する除去剤が、スズ及びスズ
合金めっき又はめっき剥離の装置及びその排出配管内に
堆積固着しているスズ酸化物を能率的に除去できること
を見出した。さらに、この組成にアミン化合物、界面活
性剤、有機カルボン酸及びその塩類の少なくとも１種を
加えることにより、より効率良くスズ及びスズ合金めっ
き又はめっき剥離の装置及びその配管内に堆積固着して
いるスズ酸化物が除去できることを見出した。
【０００５】
【発明の具体的な説明】本発明は、スズ酸化物を溶解除
去するためのものであって、その主な作用は多価アルコ
ール又はその誘導体によりスズ酸化物を膨潤し、水酸化
アルカリ又はアルカリ土類金属により溶解除去するとい
うものである。さらに、アミン化合物、界面活性剤、有
機カルボン酸又はその塩類を少なくとも１種加えること
により、容易にスズ酸化物を除去する事ができる。
去するためのものであって、その主な作用は多価アルコ
ール又はその誘導体によりスズ酸化物を膨潤し、水酸化
アルカリ又はアルカリ土類金属により溶解除去するとい
うものである。さらに、アミン化合物、界面活性剤、有
機カルボン酸又はその塩類を少なくとも１種加えること
により、容易にスズ酸化物を除去する事ができる。
【０００６】本発明では、スズ酸化物を除去するための
主成分としては、水酸化アルカリ又はアルカリ土類金属
が使用される。これらの水酸化アルカリ又はアルカリ土
類金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウムなどが使用される。水酸化アルカリ又
はアルカリ土類金属は単独で又は２種以上を組合せて使
用することができる。その配合量は５〜３００ｇ／ｌ、
好ましくは１０〜２５０ｇ／ｌである。配合量がこの範
囲よりも少ないとスズ酸化物に対する除去作用が充分で
なく、一方この範囲を超えると効果が完全に飽和するた
め好ましくない。
主成分としては、水酸化アルカリ又はアルカリ土類金属
が使用される。これらの水酸化アルカリ又はアルカリ土
類金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウムなどが使用される。水酸化アルカリ又
はアルカリ土類金属は単独で又は２種以上を組合せて使
用することができる。その配合量は５〜３００ｇ／ｌ、
好ましくは１０〜２５０ｇ／ｌである。配合量がこの範
囲よりも少ないとスズ酸化物に対する除去作用が充分で
なく、一方この範囲を超えると効果が完全に飽和するた
め好ましくない。
【０００７】また、固着しているスズ酸化物を膨潤させ
るため、膨潤作用がある多価アルコールが使用できる。
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブチレングリコール、３，４−ヘキシレングリコール、
オクチレングリコールのようなアルキレングリコール；
例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ルのようなジアルキレングリコール；例えば、トリエチ
レングリコールのようなトリアルキレングリコールが挙
げられる。さらには、グリセリンのような３価のアルコ
ール、ペンチット、ヘキシットのような多価アルコール
も使用することができる。また、これらの多価アルコー
ルの誘導体、例えば、モノ又はジアルキルエーテル、モ
ノ又はジエステル、エーテルエステル類も好んで使用さ
れる。好ましい誘導体としては、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール
モノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、
エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコー
ルジアセテート、エチレンクロルヒドリン、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジ
ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテー
ト、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、プロピレ
ングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、が挙げられる。グリセリルモノアセテー
ト、グリセリルジアセテート、グリセリルトリアセテー
トのようなグリセリンのエステル誘導体、グリセリンの
エーテル誘導体、その他の多価アルコールのエーテル及
びエステル誘導体も使用することができる。これらの多
価アルコール及びその誘導体は１種又は２種以上を組み
合わせて使用することができ、その配合量は５〜３００
ｇ／ｌ、好ましくは１０〜２５０ｇ／ｌである。この量
が少な過ぎるとスズ酸化物に対する膨潤作用が充分でな
く、除去作用が不十分となる。一方この量が多過ぎると
効果が完全に飽和するため好ましくない。
るため、膨潤作用がある多価アルコールが使用できる。
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、
ブチレングリコール、３，４−ヘキシレングリコール、
オクチレングリコールのようなアルキレングリコール；
例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ルのようなジアルキレングリコール；例えば、トリエチ
レングリコールのようなトリアルキレングリコールが挙
げられる。さらには、グリセリンのような３価のアルコ
ール、ペンチット、ヘキシットのような多価アルコール
も使用することができる。また、これらの多価アルコー
ルの誘導体、例えば、モノ又はジアルキルエーテル、モ
ノ又はジエステル、エーテルエステル類も好んで使用さ
れる。好ましい誘導体としては、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール
モノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、
エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコー
ルジアセテート、エチレンクロルヒドリン、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジ
ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテー
ト、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、１−ブトキシエトキシプロパノール、プロピレ
ングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、が挙げられる。グリセリルモノアセテー
ト、グリセリルジアセテート、グリセリルトリアセテー
トのようなグリセリンのエステル誘導体、グリセリンの
エーテル誘導体、その他の多価アルコールのエーテル及
びエステル誘導体も使用することができる。これらの多
価アルコール及びその誘導体は１種又は２種以上を組み
合わせて使用することができ、その配合量は５〜３００
ｇ／ｌ、好ましくは１０〜２５０ｇ／ｌである。この量
が少な過ぎるとスズ酸化物に対する膨潤作用が充分でな
く、除去作用が不十分となる。一方この量が多過ぎると
効果が完全に飽和するため好ましくない。
【０００８】本発明除去液では、多価アルコールの浸透
性向上のため各種アミン化合物、界面活性剤等を添加す
ることができる。例えば、グリシン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ヘ
キサメチレンテトラミン、エチレンジアミン四酢酸四ナ
トリウム、ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウムな
どのようなアミン化合物、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニルエーテル、ポリオキシスチレン化フェノールのよ
うなノニオン系界面活性剤を使用することができる。こ
れらは、好ましくは、０．５〜２０ｇ／ｌの量で使用で
きる。少ないと目立った効果は得られない。一方この量
が多過ぎると作用が飽和し、使用時に発泡等の問題が発
生する。
性向上のため各種アミン化合物、界面活性剤等を添加す
ることができる。例えば、グリシン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ヘ
キサメチレンテトラミン、エチレンジアミン四酢酸四ナ
トリウム、ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウムな
どのようなアミン化合物、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニルエーテル、ポリオキシスチレン化フェノールのよ
うなノニオン系界面活性剤を使用することができる。こ
れらは、好ましくは、０．５〜２０ｇ／ｌの量で使用で
きる。少ないと目立った効果は得られない。一方この量
が多過ぎると作用が飽和し、使用時に発泡等の問題が発
生する。
【０００９】また、溶解した金属を除去剤中で安定化す
るために有機カルボン酸又はその塩類を使用することが
できる。有機カルボン酸は、好ましくは、炭酸数１〜６
の脂肪族モノ又はポリカルボン酸、例えば、蟻酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、蓚酸、マ
ロン酸、こはく酸など並びにそれらの酸無水物である。
また、これらのカルボン酸の置換誘導体、例えば、ハロ
ゲン置換誘導体、例えば、モノクロル酢酸、ジクロル酢
酸、トリクロル酢酸、モノブロム酢酸、トリブロム酢酸
等、さらにはヒドロキシ置換誘導体、いわゆるオキシ
酸、例えば、グリコール酸、乳酸、ヒドロアクリル酸、
α−オキシ酪酸、グリセリン酸、りんご酸、酒石酸、く
えん酸、グルコン酸なども好んで使用される。さらに、
上記のような有機カルボン酸及び置換誘導体の塩類、好
ましくはアルカリ金属塩（例えば、ナトリウム、カリウ
ム塩）及びアルカリ土類金属塩（例えば、カルシウム
塩）も好んで使用される。これらの有機カルボン酸及び
塩類は、単独で又は２種類以上を組合せて使用すること
ができる。その配合量は３〜１００ｇ／ｌ、好ましくは
５〜８０ｇ／ｌである。少な過ぎるとスズ酸化物の再析
出を生じるおそれがある。この量が多過ぎると作用が飽
和し、廃液中のＣＯＤ、ＢＯＤが高くなるため、排水処
理性が悪化する。
るために有機カルボン酸又はその塩類を使用することが
できる。有機カルボン酸は、好ましくは、炭酸数１〜６
の脂肪族モノ又はポリカルボン酸、例えば、蟻酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、蓚酸、マ
ロン酸、こはく酸など並びにそれらの酸無水物である。
また、これらのカルボン酸の置換誘導体、例えば、ハロ
ゲン置換誘導体、例えば、モノクロル酢酸、ジクロル酢
酸、トリクロル酢酸、モノブロム酢酸、トリブロム酢酸
等、さらにはヒドロキシ置換誘導体、いわゆるオキシ
酸、例えば、グリコール酸、乳酸、ヒドロアクリル酸、
α−オキシ酪酸、グリセリン酸、りんご酸、酒石酸、く
えん酸、グルコン酸なども好んで使用される。さらに、
上記のような有機カルボン酸及び置換誘導体の塩類、好
ましくはアルカリ金属塩（例えば、ナトリウム、カリウ
ム塩）及びアルカリ土類金属塩（例えば、カルシウム
塩）も好んで使用される。これらの有機カルボン酸及び
塩類は、単独で又は２種類以上を組合せて使用すること
ができる。その配合量は３〜１００ｇ／ｌ、好ましくは
５〜８０ｇ／ｌである。少な過ぎるとスズ酸化物の再析
出を生じるおそれがある。この量が多過ぎると作用が飽
和し、廃液中のＣＯＤ、ＢＯＤが高くなるため、排水処
理性が悪化する。
【００１０】本発明によれば、このように調製されたス
ズ酸化物除去剤を使用し種々の方法で使用が可能であ
る。例えば、めっき用治具上に堆積したスズ酸化物を除
去する際は、治具を揺動することにより効率良くスズ酸
化物を除去することができる。また、除去剤の温度を４
０℃前後まで上げることによってもスズ酸化物の除去効
率も向上する。さらに剥離装置などで使用する場合、液
循環を行うことにより、スプレーノズルやスプレー配管
内のスズ酸化物除去も容易に行うことができる。
ズ酸化物除去剤を使用し種々の方法で使用が可能であ
る。例えば、めっき用治具上に堆積したスズ酸化物を除
去する際は、治具を揺動することにより効率良くスズ酸
化物を除去することができる。また、除去剤の温度を４
０℃前後まで上げることによってもスズ酸化物の除去効
率も向上する。さらに剥離装置などで使用する場合、液
循環を行うことにより、スプレーノズルやスプレー配管
内のスズ酸化物除去も容易に行うことができる。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明を例示するために実施例を示
すが、本発明はこれらによってなんら制限されない。な
お、組成は水溶液である。実施例１ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズめっきに使
用された治具を揺動処理を行った。 水酸化ナトリウム ２３０ｇ／ｌ ジプロピレングリコール １０ｇ／ｌ エチレングリコールモノアセテート １０ｇ／ｌ ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム １２ｇ／ｌ 液温３５℃にて、４時間揺動処理を行ったところ、めっ
き治具上に固着していたスズ酸化物は容易に除去でき
た。
すが、本発明はこれらによってなんら制限されない。な
お、組成は水溶液である。実施例１ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズめっきに使
用された治具を揺動処理を行った。 水酸化ナトリウム ２３０ｇ／ｌ ジプロピレングリコール １０ｇ／ｌ エチレングリコールモノアセテート １０ｇ／ｌ ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム １２ｇ／ｌ 液温３５℃にて、４時間揺動処理を行ったところ、めっ
き治具上に固着していたスズ酸化物は容易に除去でき
た。
【００１２】比較例１ スズめっきに使用された治具を、２３０ｇ／ｌ水酸化ナ
トリウム液にて、液温度３５℃にて８時間揺動処理を行
ったところ、めっき治具上に固着しているスズ酸化物を
完全に除去することはできなかった。
トリウム液にて、液温度３５℃にて８時間揺動処理を行
ったところ、めっき治具上に固着しているスズ酸化物を
完全に除去することはできなかった。
【００１３】実施例２ 以下にて示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズ、鉛合金
めっき剥離装置にて循環処理を行った。 水酸化カリウム ３０ｇ／ｌ ジエチレングリコール ５０ｇ／ｌ エチレングリコールモノブチルエーテル ３０ｇ／ｌ トリエチレングリコール １２０ｇ／ｌ モノエタノールアミン ５ｇ／ｌ 乳酸ナトリウム ５０ｇ／ｌ 液温度３０℃にて３０分間液循環を行ったところ、スプ
レーノズル、スプレー配管内に堆積しているスズ酸化物
を容易に除去することができた。
めっき剥離装置にて循環処理を行った。 水酸化カリウム ３０ｇ／ｌ ジエチレングリコール ５０ｇ／ｌ エチレングリコールモノブチルエーテル ３０ｇ／ｌ トリエチレングリコール １２０ｇ／ｌ モノエタノールアミン ５ｇ／ｌ 乳酸ナトリウム ５０ｇ／ｌ 液温度３０℃にて３０分間液循環を行ったところ、スプ
レーノズル、スプレー配管内に堆積しているスズ酸化物
を容易に除去することができた。
【００１４】実施例３ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズめっき槽の
洗浄を行った。 水酸化カルシウム １０ｇ／ｌ エチレングリコールモノメチルエーテル １５０ｇ／ｌ プロピレングリコール ３０ｇ／ｌ グリセリン ２０ｇ／ｌ グリコール酸 ５ｇ／ｌ エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム ５ｇ／ｌ 蟻酸ナトリウム ７０ｇ／ｌ 液温度２５℃にて１０時間洗浄したところ、めっき槽底
部、温度センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
洗浄を行った。 水酸化カルシウム １０ｇ／ｌ エチレングリコールモノメチルエーテル １５０ｇ／ｌ プロピレングリコール ３０ｇ／ｌ グリセリン ２０ｇ／ｌ グリコール酸 ５ｇ／ｌ エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム ５ｇ／ｌ 蟻酸ナトリウム ７０ｇ／ｌ 液温度２５℃にて１０時間洗浄したところ、めっき槽底
部、温度センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
【００１５】実施例４ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズめっき剥離
装置にて循環処理し、処理後の除去剤を排出配管にて排
出を行った。 水酸化ナトリウム １５０ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノブチルエーテル ６０ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノアセテート ４０ｇ／ｌ くえん酸 １０ｇ／ｌ 液温度３５℃にて３０分間液循環を行い、その処理液を
用いて排出配管内の洗浄を行ったところ、剥離装置内の
スプレーノズル、スプレー配管内及び排出配管内に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
装置にて循環処理し、処理後の除去剤を排出配管にて排
出を行った。 水酸化ナトリウム １５０ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノブチルエーテル ６０ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノアセテート ４０ｇ／ｌ くえん酸 １０ｇ／ｌ 液温度３５℃にて３０分間液循環を行い、その処理液を
用いて排出配管内の洗浄を行ったところ、剥離装置内の
スプレーノズル、スプレー配管内及び排出配管内に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
【００１６】実施例５ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズ、亜鉛合金
めっきに使用された治具を浸漬処理を行った。 水酸化カリウム ２５０ｇ／ｌ エチレングリコール １５ｇ／ｌ プロピレングリコールモノブチルエーテル ５０ｇ／ｌ トリエタノールアミン ５ｇ／ｌ 酢酸ナトリウム ２０ｇ／ｌ 液温度３５℃にて８時間浸漬処理を行ったところ、めっ
き治具上に固着していたスズ酸化物は除去できた。
めっきに使用された治具を浸漬処理を行った。 水酸化カリウム ２５０ｇ／ｌ エチレングリコール １５ｇ／ｌ プロピレングリコールモノブチルエーテル ５０ｇ／ｌ トリエタノールアミン ５ｇ／ｌ 酢酸ナトリウム ２０ｇ／ｌ 液温度３５℃にて８時間浸漬処理を行ったところ、めっ
き治具上に固着していたスズ酸化物は除去できた。
【００１７】実施例６ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズ、鉛合金め
っき槽の洗浄を行った。 水酸化ナトリウム １２０ｇ／ｌ 水酸化カルシウム ５ｇ／ｌ エチレングリコールジアセテート ７５ｇ／ｌ ジエチレングリコールメチルエチルエーテル ２０ｇ／ｌ ヘキサメチレンテトラミン １ｇ／ｌ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル １ｇ／ｌ 液温度３０℃にて１０時間洗浄したところ、めっき槽底
部、温度センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
っき槽の洗浄を行った。 水酸化ナトリウム １２０ｇ／ｌ 水酸化カルシウム ５ｇ／ｌ エチレングリコールジアセテート ７５ｇ／ｌ ジエチレングリコールメチルエチルエーテル ２０ｇ／ｌ ヘキサメチレンテトラミン １ｇ／ｌ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル １ｇ／ｌ 液温度３０℃にて１０時間洗浄したところ、めっき槽底
部、温度センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上に堆積
しているスズ酸化物を除去することができた。
【００１８】実施例７ 以下に示すスズ酸化物除去剤を調整し、スズ・鉛合金め
っきに使用された治具を揺動処理した。 水酸化ナトリウム ２５０ｇ／ｌ ジエチレングリコール ２０ｇ／ｌ ジプロピレングリコール １０ｇ／ｌ 温度３５℃にて６時間揺動処理を行ったところ、めっき
治具上に固着していたスズ酸化物は容易に除去できた。
っきに使用された治具を揺動処理した。 水酸化ナトリウム ２５０ｇ／ｌ ジエチレングリコール ２０ｇ／ｌ ジプロピレングリコール １０ｇ／ｌ 温度３５℃にて６時間揺動処理を行ったところ、めっき
治具上に固着していたスズ酸化物は容易に除去できた。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、従来手作業で行っていた、ス
ズ及びスズ合金めっき及びめっき剥離の装置及びその排
出用配管内に固着するスズ酸化物の除去が、単にスズ酸
化物を付着している部分に対して本発明の除去液を浸
漬、循環、洗浄、揺動等の方法により接触させるだけ
で、効率良く容易に除去することができる。
ズ及びスズ合金めっき及びめっき剥離の装置及びその排
出用配管内に固着するスズ酸化物の除去が、単にスズ酸
化物を付着している部分に対して本発明の除去液を浸
漬、循環、洗浄、揺動等の方法により接触させるだけ
で、効率良く容易に除去することができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 水酸化アルカリ及びアルカリ土類金属の
少なくとも一種、及び多価アルコール及びその誘導体の
少なくとも１種を含有する事を特徴とするスズ酸化物の
除去剤。 - 【請求項２】 アミン化合物、界面活性剤、有機カルボ
ン酸及びその塩類の少なくとも１種を含有する事を特徴
とする請求項１のスズ酸化物の除去剤。 - 【請求項３】 水酸化アルカリ及びアルカリ土類金属の
少なくとも一種は５〜３００ｇ／ｌ、多価アルコール及
びその誘導体の少なくとも１種は５〜３００ｇ／ｌの範
囲で使用される請求項１または２のスズ酸化物の除去
剤。 - 【請求項４】 アミン化合物または界面活性剤の少なく
とも一種は２０ｇ／ｌ以下の量で、有機カルボン酸及び
その塩類の少なくとも１種は１００ｇ／ｌ以下の量で含
有する事を特徴とする請求項２または３のスズ酸化物の
除去剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14976595A JPH08325764A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | スズ酸化物の除去剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14976595A JPH08325764A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | スズ酸化物の除去剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08325764A true JPH08325764A (ja) | 1996-12-10 |
Family
ID=15482253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14976595A Withdrawn JPH08325764A (ja) | 1995-05-25 | 1995-05-25 | スズ酸化物の除去剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08325764A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020041236A (ko) * | 2000-11-27 | 2002-06-01 | 이구택 | 주석도금라인의 세정방법 |
| JP2004002778A (ja) * | 2002-03-29 | 2004-01-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | アルカリ洗浄剤 |
| JP2012149314A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Jfe Steel Corp | 固体高分子形燃料電池セパレータ用金属板およびその製造方法 |
| CN105821411A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-08-03 | 昆山艾森半导体材料有限公司 | 一种用于半导体制程的化学退镀液及其制备方法 |
-
1995
- 1995-05-25 JP JP14976595A patent/JPH08325764A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020041236A (ko) * | 2000-11-27 | 2002-06-01 | 이구택 | 주석도금라인의 세정방법 |
| JP2004002778A (ja) * | 2002-03-29 | 2004-01-08 | Sanyo Chem Ind Ltd | アルカリ洗浄剤 |
| JP2012149314A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Jfe Steel Corp | 固体高分子形燃料電池セパレータ用金属板およびその製造方法 |
| CN105821411A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-08-03 | 昆山艾森半导体材料有限公司 | 一种用于半导体制程的化学退镀液及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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