JPH08306601A - 処理方法及び処理装置 - Google Patents

処理方法及び処理装置

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JPH08306601A
JPH08306601A JP7132776A JP13277695A JPH08306601A JP H08306601 A JPH08306601 A JP H08306601A JP 7132776 A JP7132776 A JP 7132776A JP 13277695 A JP13277695 A JP 13277695A JP H08306601 A JPH08306601 A JP H08306601A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 バッチ式の熱処理装置などにより半導体ウエ
ハを処理するにあたり、ウエハＷにより装置の状態を監
視し、しかも運用が行いやすい方法及び装置を提供する
こと 【構成】 キャリア収納棚３２内に、装置モニタ用ウエ
ハＳＷの入った専用のキャリアＥＱＭＣを収納しておく
と共に、装置モニタ用ウエハを熱処理炉に取り込む周
期、及びウエハボート２３上の枚数及び保持位置を設定
するための装置モニタパラメータ設定部を設け、設定周
期毎に装置モニタ用ウエハをウエハボート２３の上下両
端部のダミーウエハ保持領域に保持して熱処理を行い、
キャリア内の全ての装置モニタ用ウエハの熱処理が終了
した後、このウエハを検査装置に運び、その処理状態か
ら装置の状態を把握する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、処理方法及び処理装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハを製造するにあたって重要
な工程の一つとして熱処理工程がある。この熱処理とし
ては、例えば酸化膜の形成、ドーパントの拡散、アニー
ルあるいはＣＶＤなどが挙げられ、最近では空気の巻き
込みが少ないなどの利点から横型炉に代って縦型の熱処
理装置が多く使用されてきている。
【０００３】この縦型の熱処理装置は、図８に示すよう
に縦型の熱処理炉１１と、多数のウエハＷを上下に間隔
をおいて棚状に配列して保持するウエハ保持具であるウ
エハボート１２と、ウエハＷの受け渡しのためにウエハ
キャリア（以下単に「キャリア」という）Ｃを載置する
受け渡し台１３と、その他図示しないがキャリアの搬入
出ポートやキャリアストッカなどとを備えており、受け
渡し台１３に載置されたキャリアＣ内のウエハＷを搬送
アーム１４によりウエハボート１２に移載し、ウエハボ
ート１２に所定枚数のウエハが搭載された後、ウエハボ
ート１２を熱処理１１内に図示しないボートエレベータ
により搬入し、熱処理１１内でウエハＷに対して所定の
熱処理を行うように構成されている。
【０００４】そしてウエハボート１２の上下両端部は熱
処理炉の構造上他の部分に比べて温度が低くなるのでウ
エハＷ間の処理の不均一性を避けるため、この部分には
ダミーウエハが配置され、上下両端部以外の部分に通常
の被処理ウエハが搭載されることになる。
【０００５】一方例えばあるロットについてウエハＷを
熱処理した場合、そのロットのウエハＷに対してその後
の工程が無駄にならないように、予定としている熱処理
が行われたか否かを確認する必要がある。そこで従来で
はウエハボート１２において被処理ウエハの搭載領域内
にモニタ用ウエハＷを搭載し、熱処理終了後にモニタ用
ウエハを検査して、そのモニタ用ウエハと一緒に熱処理
した被処理ウエハの処理状態を把握するようにしてい
た。
【０００６】図９はモニタの方法の一例を示す図であ
り、例えばキャリアＣに被処理ウエハと共に１枚のモニ
タ用ウエハＭ１（Ｍ２、Ｍ３）を入れておき、熱処理を
終えて各ウエハを元のキャリア内に戻した後、各モニタ
用ウエハＭ１（Ｍ２、Ｍ３）の処理状態を検査し、例え
ばそのモニタ用ウエハのキャリアＣに含まれる被処理ウ
エハの処理状態を把握して、それら被処理ウエハを次工
程に進めるか否かを判断するようにしていた。
【０００７】
【発明が解決しようとしている課題】ところで熱処理装
置は常に安定しているわけではなく、突発的にあるいは
徐々に悪くなることがある。従って無駄な処理を続けて
行わないようにするために、あるいは通常の運転時間帯
に装置を停止させないようにするために、熱処理装置の
状態を監視することが重要である。しかしながら従来の
熱処理方法では装置の状態を監視することは非常に不便
であった。何故ならモニタ用ウエハに基づいて処理の状
態例えば膜厚の面内均一性やパーティクルの数などを検
査する工程と、装置の状態を調べる工程とは、例えば基
準レベルが異なるため、１段の検査で済ませることが難
しく、もしモニタ用ウエハを用いて装置の状態を調べよ
うとするならば常に２段階の検査工程を行わなければな
らず、その間そのモニタ用ウエハが含まれるロットの被
処理ウエハが次の工程に進めなくなるため全体のスルー
プットが低下する。
【０００８】またある周期をもってつまりプロセスの何
回かに１回モニタ用ウエハに基づいて装置の状態を調べ
るようなシーケンスを組むとすると、オペレータがプロ
セスの回数をカウントして所定のプロセス回数毎にモニ
タ用ウエハを装置の状態の検査工程に流さなければなら
ず、オペレータの作業が繁雑になるし、またプロセスの
回数によって、モニタ用ウエハに対して処理状態の検査
終了後に次工程に進む場合と、モニタ用ウエハに対して
装置の状態の検査をも待って次工程に進む場合とに分れ
るとすると、量産態勢の下では非常に運用しづらく、こ
のため装置の状態については監視していないのが実情で
ある。
【０００９】このように従来の熱処理方法では装置の状
態を監視するという点については考慮されておらず、定
期的なメンテナンスに頼るかあるいはモニタ用ウエハに
ついて連続して通常から外れたデータが表われたときに
装置を停止してメンテナンスをするなどの方法が行われ
ていると考えられる。
【００１０】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、装置の状態を監視する場合に
便利であって、運用しやすい処理方法及びその装置を提
供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、処理
容器内に被処理基板を搬入し、被処理基板に対して所定
の処理を行なう処理方法において処理装置の状態を監視
するための装置モニタ用基板の処理周期を設定する工程
と、前記被処理基板を処理する工程の間に予め設定した
処理周期で割り込んで装置モニタ用基板を専用のキャリ
アから取り出して処理容器の中に搬入して処理する工程
と、この工程で処理した装置モニタ用基板を専用のキャ
リアに収納する工程と、前記キャリア内に収納された処
理済みの装置モニタ用基板に基づいて装置の状態を監視
する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１２】請求項２の発明は、複数の被処理基板を互
いに間隔をおいて積層するように保持具に保持させて反
応容器内に搬入し、この反応容器内で所定の熱処理を行
なう処理方法において、処理装置の状態を監視するため
の装置モニタ用基板の処理周期を設定する工程と、前記
被処理基板を処理する工程の間に、予め設定した処理周
期で割り込んで装置モニタ用基板を専用のキャリアから
取り出し保持具に保持させて処理容器の中に搬入して処
理する工程と、この工程で処理した装置モニタ用基板を
専用のキャリアに収納する工程と、このキャリア内に収
納された処理済みの装置モニタ用基板に基づいて装置の
状態を監視する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１３】請求項３の発明は、複数の被処理基板とダ
ミ−基板とを積層するように保持具に保持させると共
に、この保持具を反応容器内に搬入して前記被処理基板
に対して所定の熱処理を行なう処理方法において、処理
装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処理周
期を設定する工程と、前記装置モニタ用基板を前記保持
具のダミー基板保持領域に保持させて、前記被処理基板
を処理する工程に予め設定した処理周期で割り込んで反
応容器内に搬入して処理する工程と、この工程で処理し
た装置モニタ用基板の処理状態に基づいて装置の状態を
監視する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１４】請求項４の発明は、被処理基板を反応容器
内に搬入し、この反応容器内で所定の処理を行なう処理
装置において、処理装置の状態を監視するための装置モ
ニタ用基板の処理周期を設定する装置モニタパラメータ
設定部と、前記装置モニタ用基板を収納するためのキャ
リアと、前記被処理基板を処理する工程の間に予め設定
した処理周期で割り込んで、前記キャリア内の装置モニ
タ用基板を前記保持具に保持させて処理するように搬送
系を制御する制御部と、を備えていることを特徴とす
る。
【００１５】請求項５の発明は、複数の被処理基板を互
いに間隔をおいて積層するように保持具に保持させて反
応容器内に搬入し、この反応容器内で所定の熱処理を行
なう処理装置において、処理装置の状態を監視するため
の装置モニタ用基板の処理周期を設定する装置モニタ用
パラメータ設定部と、前記装置モニタ用基板を収納する
ためのキャリアと、前記被処理基板を処理する工程の間
に予め設定した処理頻度で割り込んで、前記キャリア内
の装置モニタ用基板を前記保持具に保持させて処理する
ように搬送系を制御する制御部と、を備えていることを
特徴とする。
【００１６】請求項６の発明は、請求項５の発明におい
て、装置モニタパラメータ設定部は、保持具における装
置モニタ用基板の保持枚数および保持位置を更に設定す
るものであることを特徴とする。
【００１７】
【作用】請求項１〜６の発明では、専用のキャリア内に
装置モニタ用基板を収納しておき、予め設定した処理周
期ｎでつまりｎ−１回のプロセスが終了する毎に、前記
装置モニタ用基板を処理し、元のあるいは別の専用のキ
ャリア内に収納し、この基板を検査して装置の状態を把
握する。従って装置モニタ専用の基板のラインは被処理
基板のラインとは独立したものになるため、装置を監視
しながら、被処理基板は通常のラインを流れるので運用
しやすい。
【００１８】また縦型炉や横型炉などのバッチ式の熱処
理装置において、請求項３の発明のように保持具の基板
保持領域の中でダミー基板の保持領域に装置モニタ用基
板を保持して熱処理すれば、被処理基板の保持領域には
影響がないので、被処理基板の搬送のシーケンスには影
響を及ぼさないため、運用しやすい。
【００１９】
【実施例】図１及び図２は本発明の実施例に係る熱処理
装置を示す図であり、この熱処理装置は、装置本体の奥
側に、図では見えない反応チューブの外にヒータを囲撓
して設けてなる縦型の熱処理炉２１と、多数の被処理基
板例えばウエハを上下に間隔をおいて各々水平に積層し
て搭載し、ボートエレベータ２２により熱処理炉２１に
対してウエハＷ（図２参照）をロード、アンロードする
ためのウエハボート２３と、このウエハボート２３にウ
エハを着脱するための、例えば進退自在、昇降自在、回
転自在な複数のピンセットを備えたウエハ移載機２４と
を有してなる。なお図１中２５は、ウエハボート２３と
キャリアＣとの間でウエハの移載が行われている間、熱
処理炉２１の下端開口部を塞ぐための蓋体である。また
ウエハボート２３の下降位置とウエハ移載機２４を介し
て対向するようにウエハ受け渡し部３１が配設されてお
り、このウエハ受け渡し部３１は、例えばウエハＷを収
納するキャリアＣを３段置くことができるように構成さ
れている。
【００２０】前記ウエハ受け渡し部３１の上方領域に
は、キャリア収納棚（キャリアストッカ）３２が設けら
れており、このキャリア収納棚３２は例えばキャリアＣ
を４列、４段、最大数１６個収納できるように構成され
ている。
【００２１】前記ウエハ受け渡し部３１及びキャリア収
納棚３２に臨む位置にはキャリア移載機４の移動領域が
確保されており、この移動領域を挟んで装置本体の手前
側にキャリアステージ３３が設けられている。このキャ
リアステージ３３は、ウエハを収納したキャリアＣが外
部との間で搬出入される入出力ポートの役割を果たす個
所であり、キャリアＣのウエハ取り出し口が上に向いた
状態つまりウエハが垂直な状態でキャリアＣが例えば４
個横に（ｘ方向に）並べて載置される。
【００２２】なおこのキャリアステージ３３は図１では
概念的に１枚のステージで描いてあるが、実際には４つ
のキャリアＣに対して夫々設けられ、このキャリアステ
ージ３３には、載置されたキャリアＣを図２に示すよう
に水平な軸のまわりに奥側に回動して横倒しにする機構
が組み合わせられており、キャリアＣは横倒しの状態で
前記のキャリア移載機４により移載されることになる。
【００２３】前記キャリア移載機４は、Ｘ方向に移動自
在な支柱４１に沿って昇降する昇降台４２に、キャリア
Ｃを保持して移載するためのＺ軸まわりに回動自在なア
ーム４３を取り付けて構成される。図２中Ｆはエアフィ
ルタ部である。
【００２４】そして装置本体の正面パネルには、この装
置を運転するためのタッチパネルよりなる操作パネル部
５が設けられており、この操作パネル部５は、本実施例
の特徴部分である装置モニタパラメータ設定部を含むも
のであり、例えば初期画面の所定のスイッチ部を押す
と、例えば図３に示すような装置モニタパラメータ設定
画面が表示される。
【００２５】ここで図４は本実施例装置の制御系を示す
ブロック図であり、この熱処理装置はＣＰＵなどを含む
制御部６と、通常モードプログラム７Ａ及び装置モニタ
モードプログラム７Ｂを含む記憶部７とを備えている。
通常モードプログラム７Ａとは、通常に熱処理を行うプ
ログラムであり、装置モニタモードプログラム７Ｂと
は、装置を監視するための専用の装置モニタ用ウエハ
を、所定の周期で被処理ウエハと共にウエハボート２３
に搭載して熱処理するためのプログラムである。図４中
６１で示す搬送系は、前記ウエハ移載機２４及びキャリ
ア移載機４をまとめて搬送系として記載したものであ
り、制御部６は、前記プログラム７Ａまたは７Ｂに基づ
いて搬送系６１を制御することになる。６２は装置モニ
タパラメータ設定部であり、この設定部により、即ちこ
の例では図３に示す画面により装置モニタモード設定を
することによって装置モニタモードプログラムが選択さ
れるようになっている。また６３は警報発生部であり、
専用のキャリアＣ内の全ての装置モニタ用ウエハの熱処
理が終了したときに警報を発するものである。
【００２６】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず装置モニタモード設定を行わず通常モードで熱処理を
行う場合について説明すると、この場合は記憶部７内の
通常モードプログラム７Ａに基づいて一連の処理が行わ
れる。即ち２５枚のウエハＷを収納したキャリアＣは、
キャリアステージ３３に搬入されると、キャリア移載機
４により一旦キャリア収納棚３２に収納された後、ある
いは直接に受け渡し台３１に搬送される。
【００２７】次いで受け渡し台３１に載置されたキャリ
アＣから、ウエハ移載機２４によりウエハＷを取り出し
てウエハボート２３に１枚ずつあるいは複数枚ずつ移載
する。ウエハボート２３は、例えば１２５枚ウエハＷを
保持できるように垂直な支柱に１２５段の溝が形成され
ており、そのうち上下両端部の保持領域は、その間の保
持領域よりも温度が低いため、ダミーウエハを保持する
ようにプログラムが組まれている。
【００２８】従ってウエハボート２３において上下両端
部以外の保持領域に被処理ウエハが保持されることにな
るが、被処理ウエハの保持領域の中には通常モニタ用ウ
エハが所定間隔で搭載される。このモニタ用ウエハは、
被処理ウエハの処理状態を監視する従来から用いられて
いるものであって、本実施例の特徴としている装置モニ
タ用ウエハとは区別されるものであり、例えば被処理ウ
エハが入っているキャリアＣの中に予め１枚混入されて
いる。またダミーウエハはダミーウエハ専用のキャリア
内に収納され、このキャリアはキャリア収納棚３２にお
いて予め指定された位置に収納されている。
【００２９】そしてウエハボート２３へのウエハＷの搭
載を終了した後ウエハボート２３が上昇して熱処理炉２
１内にロードされ、例えば酸化、ＣＶＤ、拡散などの所
定の熱処理が行われる。しかる後ウエハボート２３が下
降してウエハＷがアンロードされ、ウエハ移載機２４に
よりウエハボート２３からウエハ受け渡し部３１のキャ
リアＣへウエハＷが移載される。処理済みのウエハＷの
入ったキャリアＣは、キャリア収納棚３２の空きの状態
などに応じて、キャリア収納棚３２に一旦収納される
か、場合によってはキャリアステージ３３に直接移載さ
れる。
【００３０】次いで装置モニタモードで熱処理を行う場
合について説明する。この実施例の熱処理装置では予め
２５枚の装置モニタ用ウエハＷが入った専用のキャリア
Ｃをキャリア収納棚３２に収納しておく。装置モニタ用
ウエハＷとは、装置の状態例えば装置内の汚染状態やヒ
ータの劣化、処理ガスの流れなどを調べるためのもので
あり、従って被処理ウエハの処理の状態を調べるもので
はないので、被処理ウエハと同様のウエハＷである必要
はなく、例えば膜の耐圧を調べるために電極を埋め込ん
だ特殊なウエハを用いてもよい。
【００３１】また装置モニタ用ウエハＷが入った専用の
キャリアＣとは、キャリアの構造が特殊であるというこ
とではなく、被処理ウエハの入ったキャリアとは区別さ
れるものであるという意味である。即ち装置モニタ用ウ
エハＷは、通常のラインを流れる被処理ウエハの入った
キャリアとは別のキャリアに収納されるものである。
【００３２】装置モニタモードで運転するためには、図
３に示すように操作パネル部５の装置モニタパラメータ
設定画面において装置モニタモード設定のスイッチを押
すと共に、設定周期（設定間隔）及び設定位置を同画面
のテンキーにより入力する。設定周期とは、ウエハボー
ト２３にウエハＷを搭載して熱処理炉２１内で行うプロ
セスを１回のプロセスとすると、装置モニタ用ウエハを
ウエハボート２３に搭載して処理を行うプロセスを、何
回に１回行うかという処理周期を設定することであり、
例えば設定周期を４回とすると、４回目のプロセスで、
つまり装置モニタ用ウエハを搭載しない通常の処理を３
回行った後次のプロセスで装置モニタ用ウエハを搭載し
た処理を行うことになる。また設定位置とは、装置モニ
タ用ウエハを搭載すべきウエハボート２３の保持溝の位
置であり、何番目の溝であるかが設定される。
【００３３】こうして装置モニタモードが設定される
と、装置モニタモードプログラム７Ｂが選択される。図
５は装置モニタモードのフローを示すフローチャートで
あり、先ず１回目のプロセス時においては、装置モニタ
用ウエハの入ったキャリアを（装置モニタ用キャリア）
キャリア収納棚３２からキャリア移載機４により取り出
して受け渡し台３１に載置し、このキャリアから装置モ
ニタ用ウエハをウエハ移載機２４によりウエハボート２
３の設定位置に搭載する。
【００３４】図６は、この様子を概略的に示す図であ
り、例えばキャリア収納棚３２から装置モニタ用キャリ
アＥＱＭＣと、ダミーウエハＤＷの入ったキャリア（ダ
ミーキャリア）ＤＣとが受け渡し台３１に載置される。
なお図中ＰＣは被処理ウエハの入ったキャリアである。
ウエハボート２３の最上段から所定段数までと最下段か
ら所定段数までとはダミーウエハの保持領域であり、こ
の領域にダミーウエハＤＷが搭載されると共に、装置モ
ニタ用ウエハＥＱＭＣが予め設定された位置、例えば上
端側及び下端側の各ダミーウエハの保持領域の一番下側
に搭載される。
【００３５】またこれらダミーウエハの保持領域の間の
領域に被処理ウエハが搭載されることになるが、被処理
ウエハの保持領域において被処理ウエハに混じって所定
枚数間隔で、既述したように通常のモニタ用ウエハＭＷ
が搭載される。図６中Ｄで示す鎖線で囲む領域はダミー
ウエハの保持領域、Ｐで示す鎖線で囲む領域は被処理ウ
エハの保持領域である。
【００３６】続いてウエハボート２３へのウエハＷの移
載が終了した後は、通常モードと同様に熱処理を行い、
ウエハボート２３上の装置モニタ用ウエハＥＱＭＷを元
の装置モニタ用キャリアＥＱＭＣに戻し、このキャリア
ＥＱＭＣをキャリア収納棚３２の元の位置に戻す。続い
て２回目のプロセスに移るが、設定周期が「ｎ」例えば
「４」であるとすると、以後（ｎ−１）回、この場合３
回のプロセスは、装置モニタ用ウエハを用いずに通常モ
ードのプロセスと同様に行われ、４回目のプロセスにお
いては、１回目のプロセスと同様に装置モニタ用ウエハ
を用いて熱処理が行われる。
【００３７】そして装置モニタ用キャリア内の装置モニ
タ用ウエハが全て熱処理されると、制御部６から警報発
生部６３に警報指令が出力され、警報発生部から例えば
警報音が発せられる。その後上位のホストコンピュータ
側から自動的に、あるいはマニュアル操作で装置モニタ
用キャリアがキャリアステージ３３に取り出され、検査
装置に運ばれる。装置モニタ用キャリアについては例え
ばパーティクルの検査、膜の耐圧検査、あるいは膜厚の
面内均一性などが検査され、装置の状態を把握するため
の独自の判定がなされる。装置の状態を把握するために
は、図７に示すようにパーティクル数などの特定因子の
経時変化を捉え、そのデータに基づいて今の装置の状
態、今後の傾向、過去に状態が悪かったときの製品の特
定などが行われる。
【００３８】上述実施例によれば、装置の状態を監視す
るための専用のウエハを用いて熱処理を行い、その結果
に基づいて装置の状態を把握しているため、不具合の個
所の早期発見、メンテナンスの時期の予測が可能にな
り、また今後の運用の計画にも役立つなど、非常に便利
である。
【００３９】そして装置モニタ用ウエハは、通常の被処
理ウエハのラインから切り離された独自のラインで流れ
るため、被処理ウエハのラインに影響を及ぼすことがな
いし、また装置モニタ用ウエハの処理周期やウエハボー
ト上への設置位置を自動設定できるので作業が繁雑にな
ることもなく、運用がやりやすい。更に通常のモニタ用
ウエハとは別個に専用の装置モニタ用ウエハを用いてい
るので、電極を埋め込むなどの特殊なウエハを用いるこ
とができ、また装置モニタ用ウエハはウエハボート２３
上のダミーウエハの保持領域に保持することができるの
で、被処理ウエハの保持領域を食われることがなく、従
って被処理ウエハの搬送のシーケンスには影響を及ぼさ
ない。
【００４０】以上において処理前の装置モニタ用ウエハ
を収納するキャリアと処理後の装置モニタ用ウエハを収
納するキャリアとは別個のものであってもよい。なお本
発明は縦型の熱処理炉に限らず横型の熱処理炉に適用し
てもよいし、あるいはバッチ式の処理装置に限らず枚葉
式の処理装置に適用してもよい。
【００４１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、装置モニ
タ専用の基板を用い、この基板を被処理基板のラインと
は独立したラインにより管理しているため、装置の状態
を監視することができ、しかも非常に運用しやすいとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る熱処理装置全体を示す斜
視図である。
【図２】本発明の実施例に係る熱処理装置全体を示す縦
断側面図である。
【図３】装置モニタパラメータ設定画面を示す説明図で
ある。
【図４】本発明の実施例に係る熱処理装置の制御系を示
すブロック図である。
【図５】装置モニタモードの処理のフローを示すフロー
チャートである。
【図６】装置モニタモードの処理のウエハの流れを示す
説明図である。
【図７】装置モニタ用ウエハに基づいて行う検査の一例
を示す説明図である。
【図８】従来の熱処理装置を示す概略側面図である。
【図９】従来方法におけるウエハボートへのウエハの搭
載の様子を示す説明図である。
【符号の説明】
２１ 熱処理炉 ２３ ウエハボート ２４ ウエハ移載機 ３１ 受け渡し台 ４ キャリア移載機 ５ 操作パネル ６ 制御部 ７ 記憶部 ＥＱＭＷ 装置モニタ用ウエハ ＤＷ ダミーウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保 幸治 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内 (72)発明者 鈴木 誠 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内 (72)発明者 角田 勇二 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 処理容器内に被処理基板を搬入し、被処
    理基板に対して所定の処理を行なう処理方法において処
    理装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処理
    周期を設定する工程と、 前記被処理基板を処理する工程の間に予め設定した処理
    周期で割り込んで装置モニタ用基板を専用のキャリアか
    ら取り出して処理容器の中に搬入して処理する工程と、 この工程で処理した装置モニタ用基板を専用のキャリア
    に収納する工程と、 前記キャリア内に収納された処理済みの装置モニタ用基
    板に基づいて装置の状態を監視する工程と、を含むこと
    を特徴とする処理方法。
  2. 【請求項２】 複数の被処理基板を互いに間隔をおいて
    積層するように保持具に保持させて反応容器内に搬入
    し、この反応容器内で所定の熱処理を行なう処理方法に
    おいて、 処理装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処
    理周期を設定する工程と、 前記被処理基板を処理する工程の間に、予め設定した処
    理周期で割り込んで装置モニタ用基板を専用のキャリア
    から取り出し保持具に保持させて処理容器の中に搬入し
    て処理する工程と、 この工程で処理した装置モニタ用基板を専用のキャリア
    に収納する工程と、 このキャリア内に収納された処理済みの装置モニタ用基
    板に基づいて装置の状態を監視する工程と、を含むこと
    を特徴とする処理方法。
  3. 【請求項３】 複数の被処理基板とダミー基板とを積層
    するように保持具に保持させると共に、この保持具を反
    応容器内に搬入して前記被処理基板に対して所定の熱処
    理を行なう処理方法において、 処理装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処
    理周期を設定する工程と、 前記装置モニタ用基板を前記保持具のダミー基板保持領
    域に保持させて、前記被処理基板を処理する工程に予め
    設定した処理周期で割り込んで反応容器内に搬入して処
    理する工程と、 この工程で処理した装置モニタ用基板の処理状態に基づ
    いて装置の状態を監視する工程と、を含むことを特徴と
    する処理方法。
  4. 【請求項４】 被処理基板を反応容器内に搬入し、この
    反応容器内で所定の処理を行なう処理装置において、 処理装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処
    理周期を設定する装置モニタパラメータ設定部と、 前記装置モニタ用基板を収納するためのキャリアと、 前記被処理基板を処理する工程の間に予め設定した処理
    周期で割り込んで、前記キャリア内の装置モニタ用基板
    を前記保持具に保持させて処理するように搬送系を制御
    する制御部と、を備えていることを特徴とする処理装
    置。
  5. 【請求項５】 複数の被処理基板を互いに間隔をおいて
    積層するように保持具に保持させて反応容器内に搬入
    し、この反応容器内で所定の熱処理を行なう処理装置に
    おいて、 処理装置の状態を監視するための装置モニタ用基板の処
    理周期を設定する装置モニタパラメータ設定部と、 前記装置モニタ用基板を収納するためのキャリアと、 前記被処理基板を処理する工程の間に予め設定した処理
    周期で割り込んで、前記キャリア内の装置モニタ用基板
    を前記保持具に保持させて処理するように搬送系を制御
    する制御部と、を備えていることを特徴とする処理装
    置。
  6. 【請求項６】 装置モニタパラメータ設定部は、保持具
    における装置モニタ用基板の保持枚数および保持位置を
    更に設定するものであることを特徴とする請求項５記載
    の処理装置。
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