KR20150087108A - 기판 처리 장치, 그 운용 방법 및 기억 매체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치의 작업 처리량을 향상시키는 것을 과제로 한다.
기판 처리 장치는, 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구를 갖는다. 각 처리 유닛에 대한 운용 모드로서, 사용하는 처리액과 관련시킨 모니터 모드를 설정할 수 있다. 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에는, 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 대한 제품 기판의 반입이 일률적으로 금지되는 것은 아니고, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판에 관해서는, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것이 허가된다.

Description

기판 처리 장치, 그 운용 방법 및 기억 매체{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ITS OPERATION METHOD, AND STORAGE MEDIUM}
본 발명은, 복수의 처리 유닛을 구비하며, 이들 처리 유닛의 각각이 준비된 복수 종류의 처리액으로부터 선택된 처리액에 의해 반도체 웨이퍼 등의 기판을 처리할 수 있도록 되어 있는 기판 처리 장치를 운용하는 기술에 관한 것이다.
기판 처리 장치에는, 카세트, 캐리어, FOUP 등으로 불리는 복수의 기판 수납 용기를 배치하는 배치부를 구비하고, 배치부에 적재된 기판 수납 용기 중에서 취출된 기판을 복수의 매엽식 처리 유닛에서 병행 처리하는 것이 있다. 기판 수납 용기로부터 처리 유닛으로의 반송은, 하나 또는 복수의 반송 기구를 구비한 반송계에 의해 행해진다.
이러한 복수의 처리 유닛을 갖는 기판 처리 장치에 있어서는, 통상 운전시에는, 비어 있는(기판이 로드되어 있지 않은) 처리 유닛에 순차적으로 기판이 반입되도록 반송 스케줄이 설정된다.
상기 형식의 기판 처리 장치에 있어서는 여러가지 상황이 생길 수 있다. 예컨대 하나 또는 복수의 처리 유닛의 고장이다. 이 경우, 기판 처리 장치의 작업 처리량의 저하를 가능한 한 억제하도록, 반송 스케줄이 변경된다. 그 일례로서, 특허문헌 1에는, 복수의 처리 유닛이 동일한 처리를 병행하여 실시하는 기판 처리 장치에 있어서, 어느 처리 유닛이 고장난 경우에, 고장난 처리 유닛에 반송될 예정이었던 기판을 나머지 건전한 처리 유닛에 반송하여 처리를 행하는 기술이 기재되어 있다.
또한, 통상 운전시에 복수의 처리 유닛이 동일한 처리를 병행하여 실시하는 기판 처리 장치에 있어서, 제품 기판의 처리가 행해지고 있을 때에 모니터 기판의 처리를 인터럽트시키는 경우가 있다. 모니터 기판이란, 예컨대 새로운 프로세스 조건을 시험적으로 실시하기 위한 기판이다. 이 경우, 통상 운전시에 제품 기판의 처리를 행하는 복수의 처리 유닛으로부터 선택된 하나 또는 복수의 처리 유닛이 모니터 기판의 처리를 위해 할당된다. 즉 선택된 처리 유닛의 운용 모드를 모니터 모드로 설정한다. 비선택의 처리 유닛의 운용 모드는 제품 기판의 처리를 행하는 노멀 모드로 유지된다. 그리고, 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 대해서는 오로지 모니터 기판을 반입하도록 하고, 제품 기판의 반입을 금지하고 있다. 제품 기판의 처리는, 오로지 노멀 모드로 유지된 처리 유닛에서 행해지고 있다. 그러나, 이러한 운용에서는, 제품 기판에 대한 기판 처리 장치의 작업 처리량이 저하되어 버린다.
일본 특허 공개 평11-16983호 공보
본 발명은, 처리 유닛이 모니터 모드로 설정된 경우에도, 제품 기판에 대한 기판 처리 장치의 작업 처리량을 향상시키는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명은, 기판 처리 장치에 있어서, 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구와, 상기 기판 반송 기구를 제어하는 제어 장치와, 각 처리 유닛의 운용 모드로서, 사용하는 처리 조건과 관련한 모니터 모드의 설정 및 해제를 행할 수 있는 모니터 모드 설정 수단을 구비하고, 상기 제어 장치는, 상기 모니터 모드 설정 수단에 의해 설정된 운용 모드에 기초하여 상기 기판 반송 기구에 기판을 반송시키고, 또한, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 허가하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은, 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구를 구비한 기판 처리 장치의 운용 방법에 있어서, 상기 기판 반송 기구에, 상기 복수의 처리 유닛의 각각에 대하여 설정된 운용 모드에 기초하여 기판을 반송시키고, 또한, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나의 운용 모드가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 허가하는 것을 특징으로 하는 운용 방법을 제공한다.
또한 본 발명은, 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구와, 상기 기판 반송 기구를 제어하는 제어 장치와, 상기 기판 반송 기구를 제어하는 컴퓨터로 이루어진 제어 장치를 구비한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 컴퓨터에 의해 실행 가능한 프로그램을 기억하는 기억 매체로서, 상기 프로그램이 상기 컴퓨터에 의해 실행되면, 상기 제어 장치가, 상기 기판 처리 장치에 상기 운용 방법을 실행시키는 것을 특징으로 하는 기억 매체를 제공한다.
본 발명에 의하면, 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 대한 제품 기판의 반입을 일률적으로 금지하는 것이 아니라, 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판의 반입을 허용하고 있다. 이 때문에, 그 만큼 제품 기판의 처리 능력이 향상되고, 기판 처리 장치의 제품 기판의 작업 처리량을 향상시킬 수 있다.
도 1은 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 시스템(기판 처리 장치)의 개략 구성을 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 처리 유닛의 개략 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 3은 일부의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되었을 때의 기판 반송 순서를 나타내는 도면이다.
도 4는 일부의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되었을 때의 기판 반송 순서를 나타내는 도면이다.
도 5는 일부의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되었을 때의 기판 반송 순서를 나타내는 도면이다.
도 1은 본 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 이하에서는, 위치 관계를 명확하게 하기 위해, 서로 직교하는 X축, Y축 및 Z축을 규정하고, Z축 정방향을 연직 상향 방향으로 한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 시스템(1)은, 반입반출 스테이션(2)과, 처리 스테이션(3)을 구비한다. 반입반출 스테이션(2)과 처리 스테이션(3)은 인접하여 마련된다.
반입반출 스테이션(2)은, 캐리어 배치부(11)와, 반송부(12)를 구비한다. 캐리어 배치부(11)에는, 복수매의 기판, 본 실시형태에서는 반도체 웨이퍼[이하 웨이퍼(W)]를 수평 상태로 수용하는 복수의 캐리어(C)가 배치된다.
반송부(12)는, 캐리어 배치부(11)에 인접하여 마련되고, 내부에 기판 반송 장치(13)와, 전달부(14)를 구비한다. 기판 반송 장치(13)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(13)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 캐리어(C)와 전달부(14) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 스테이션(3)은, 반송부(12)에 인접하여 마련된다. 처리 스테이션(3)은, 반송부(15)와, 복수의 처리 유닛(16)을 구비한다. 복수의 처리 유닛(16)은, 반송부(15)의 양측에 배열되어 마련된다.
반송부(15)는, 내부에 기판 반송 장치(17)를 구비한다. 기판 반송 장치(17)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(17)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 전달부(14)와 처리 유닛(16) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 유닛(16)은, 기판 반송 장치(17)에 의해 반송되는 웨이퍼(W)에 대하여 정해진 기판 처리를 행한다.
또한, 기판 처리 시스템(1)은, 제어 장치(4)를 구비한다. 제어 장치(4)는, 예컨대 컴퓨터이며, 제어부(18)와 기억부(19)를 구비한다. 기억부(19)에는, 기판 처리 시스템(1)에 있어서 실행되는 각종 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(18)는, 기억부(19)에 기억된 프로그램을 읽어내어 실행함으로써 기판 처리 시스템(1)의 동작을 제어한다.
또한, 이러한 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어 장치(4)의 기억부(19)에 인스톨된 것이어도 좋다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체로서는, 예컨대 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.
상기한 바와 같이 구성된 기판 처리 시스템(1)에서는, 우선, 반입반출 스테이션(2)의 기판 반송 장치(13)가, 캐리어 배치부(11)에 배치된 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 취출하고, 취출된 웨이퍼(W)를 전달부(14)에 배치한다. 전달부(14)에 배치된 웨이퍼(W)는, 처리 스테이션(3)의 기판 반송 장치(17)에 의해 전달부(14)로부터 취출되어, 처리 유닛(16)에 반입된다.
처리 유닛(16)에 반입된 웨이퍼(W)는, 처리 유닛(16)에 의해 처리된 후, 기판 반송 장치(17)에 의해 처리 유닛(16)으로부터 반출되어, 전달부(14)에 배치된다. 그리고, 전달부(14)에 배치된 처리가 끝난 웨이퍼(W)는, 기판 반송 장치(13)에 의해 캐리어 배치부(11)의 캐리어(C)에 복귀된다.
다음으로, 처리 유닛(16)의 개략 구성에 관해 도 2를 참조하여 설명한다. 도 2는, 처리 유닛(16)의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 처리 유닛(16)은, 챔버(20)와, 기판 유지 기구(30)와, 처리 유체 공급부(40)와, 회수컵(50)을 구비한다.
챔버(20)는, 기판 유지 기구(30)와 처리 유체 공급부(40)와 회수컵(50)을 수용한다. 챔버(20)의 천장부에는, FFU(Fan Filter Unit)(21)가 마련된다. FFU(21)는, 챔버(20) 내에 다운 플로우를 형성한다.
기판 유지 기구(30)는, 유지부(31)와, 지주부(32)와, 구동부(33)를 구비한다. 유지부(31)는, 웨이퍼(W)를 수평으로 유지한다. 지주부(32)는, 연직 방향으로 연장되는 부재이며, 기단부가 구동부(33)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 선단부에 있어서 유지부(31)를 수평으로 지지한다. 구동부(33)는, 지주부(32)를 연직축 둘레로 회전시킨다. 이러한 기판 유지 기구(30)는, 구동부(33)를 이용하여 지주부(32)를 회전시킴으로써 지주부(32)에 지지된 유지부(31)를 회전시키고, 이에 의해, 유지부(31)에 유지된 웨이퍼(W)를 회전시킨다.
처리 유체 공급부(40)는, 웨이퍼(W)에 대하여 처리 유체를 공급한다. 처리 유체 공급부(40)는, 처리 유체 공급원(70)에 접속된다.
회수컵(50)은, 유지부(31)를 둘러싸도록 배치되고, 유지부(31)의 회전에 의해 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액을 포집한다. 회수컵(50)의 바닥부에는, 배액부(51)가 형성되어 있고, 회수컵(50)에 의해 포집된 처리액은, 이러한 배액부(51)로부터 처리 유닛(16)의 외부에 배출된다. 또한, 회수컵(50)의 바닥부에는, FFU(21)로부터 공급되는 기체를 처리 유닛(16)의 외부에 배출하는 배기구(52)가 형성된다.
본 실시형태에서는, 하나의 처리 유닛(16)에 대하여 각각 처리 유체 공급부(40) 및 처리 유체 공급원(70)의 세트가 복수 세트 설치되어 있다. 각 세트는, 웨이퍼(W)에 대하여 상이한 약액, 예컨대 저농도의 DHF(희불산), 초저농도의 DHF, SC-1, SC-2를 공급할 수 있다.
상기 제어 장치(4)는, 기판 반송 장치(13) 및 기판 반송 장치(17)에 의해 행해지는 캐리어(C) 및 처리 유닛(16) 사이의 반송을 제어한다.
제어 장치(4)에 대하여, 각 처리 유닛(16)의 운용 모드를 설정할 수 있다. 운용 모드의 설정은, 반도체 장치 제조 공장에 설치된 복수의 기판 처리 시스템의 제어 장치(여기에는 이 기판 처리 시스템(1)의 제어 장치(4)가 해당함)를 제어하는 도시하지 않은 상위의 제어 장치(호스트 컴퓨터)로부터 유선 또는 무선의 통신 회선을 통해 행할 수 있다. 이것 대신에, 운용 모드의 설정을, 기판 처리 시스템(1)에 부설된 도시하지 않은 사용자 인터페이스(디스플레이, 키보드, 터치패널 등)를 통해 행할 수도 있다. 설정된 각 처리 유닛(16)의 운용 모드는, 제어 장치(4)의 기억부(19)에 기억된다.
처리 유닛(16)의 운용 모드에는, 노멀 모드, 모니터 모드 및 메인터넌스 모드가 있다.
노멀 모드는, 지정된 처리 레시피에 따라서 제품 웨이퍼(PW)에 소정의 처리를 실시하기 위한 운용 모드이다.
모니터 모드는, 지정된 처리 레시피에 따라서 모니터 웨이퍼(MW)(제품 웨이퍼(W)가 아닌 시험용 웨이퍼)에 소정의 처리를 실시하기 위한 운용 모드이다. 모니터 웨이퍼(MW)란, 제품 웨이퍼(PW)에 적용되기 전의 신규 처리 레시피의 시험적인 실행, 또는, 임의의 처리 레시피의 그 처리 유닛(16)에 대한 적합성 확인(예컨대, 다른 처리 유닛(16) 또는 다른 기판 처리 시스템(1)에 있어서 실적이 있는 처리 레시피를 그 처리 유닛(16)가 적정하게 실행할 수 있는지의 여부의 확인) 등을 행하기 위한 웨이퍼이다.
메인터넌스 모드는, 정기적 내지 예정된 메인터넌스를 행하기 위해, 또는 트러블 대응을 위해, 그 처리 유닛(16)이 휴지됨과 함께 새로운 웨이퍼의 반입이 금지되는 운용 모드이다. 또, 어떤 처리 유닛(16)이 메인터넌스 모드로 설정되고 나서 메인터넌스 모드가 해제되기까지의 동안은, 그 처리 유닛(16)이 존재하지 않는 것으로 하여 웨이퍼의 반송 스케줄이 결정된다. 이하의 설명에서는, 설명의 간략화를 위해, 메인터넌스 모드로 설정되어 있는 처리 유닛(16)은 없는 것으로 한다.
본건 출원인에 의한 종래 기술에 있어서는, 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16)에서는 모니터 웨이퍼(MW)의 반입(주 : 웨이퍼는 처리 유닛(16)에 반입된 후에 그 처리 유닛(16)에서 처리되지만, 기재의 간략화를 위해 「반입」에 관해서만 기재하는 경우도 있음)만이 허가되고, 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 금지되었다. 즉, 그 처리 유닛(16)에는 모니터 웨이퍼(MW)의 반입만이 허가되고, 제품 웨이퍼(PW)의 반입은 금지되었다. 즉, 일단 하나 이상의 처리 유닛(16)에 대하여 모니터 모드가 설정되면, 제품 웨이퍼(PW)의 처리는 모니터 모드로 설정되어 있지 않은 나머지 처리 유닛(16)에서만 행하게 된다. 이 운용 룰 하에서는, 경우에 따라서는, 제품 웨이퍼(PW)에 대한 기판 처리 시스템(1)의 작업 처리량이 대폭 저하되게 된다.
그래서, 본 실시형태에서는, 모니터 모드의 설정은, 모니터 웨이퍼(MW)에 실시되는 처리를 특징짓는 처리 조건, 구체적으로는 예컨대 처리에 사용되는 처리액(특히 주요한 약액)과 관련지어 모니터 모드를 설정한다. 예컨대, 처리 유닛(16)에 반입된 모니터 웨이퍼(MW)에 대하여 DHF 약액 세정, DIW 린스, IPA(이소프로필알콜) 치환, 질소 가스 분위기에서의 스핀 건조가 순차적으로 실시되는 것으로 한다. 이 경우, DIW 린스, IPA(이소프로필알콜) 치환 및 질소 가스 분위기에서의 스핀 건조는, 약액 세정의 후에 행해지는 일반적인 처리이므로(단, 부분적인 변경은 있을 수 있지만), 모니터 웨이퍼(MW)에 대한 처리를 특징짓는 처리액은 DHF이다. 따라서, 이러한 처리가 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)가 기판 처리 시스템(1)에 반입되는 경우에는, 「모니터 모드(DHF)」라는 형식으로 모니터 모드를 설정한다.
또, 본 실시형태에서는, 농도가 상이한 동종의 약액은 상이한 약액으로서 취급하는 것으로 하고, 또한, 동일 조성이라 하더라도 온도가 상이한 약액은 상이한 약액으로서 취급하는 것으로 한다. 농도가 상이한 DHF를 이용할 수 있다면, 「모니터 모드(초저농도 DHF)」또는 「모니터 모드(저농도 DHF)」와 같이 모니터 모드를 설정할 수 있다. 또한, 온도가 상이한 DHF를 이용할 수 있다면, 「모니터 모드(60℃ DHF)」, 「모니터 모드(80℃ DHF)」와 같이 모니터 모드를 설정할 수 있다. 또한, 온도와 농도를 복합적으로 고려하여 「모니터 모드(60℃ 저농도 DHF)」와 같이 모니터 모드를 설정할 수 있다.
그리고 본 실시형태에서는, 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16)에 대한 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 일률적으로 금지하는 것은 아니다. 즉, 제품 웨이퍼(PW)에 실시되는 처리를 특징짓는 것으로서 그 처리에 관련된 처리액이, 모니터 모드의 설정시에 그 모니터 모드와 관련된 처리액과 일치하지 않는 경우에는, 그 처리 유닛(16)에 대한 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 허용하는 것으로 했다. 또, 「제품 웨이퍼(PW)에 실시되는 처리를 특징짓는 것으로서 그 처리에 관련된 처리액」은, 상기 모니터 웨이퍼(MW)에 실시되는 처리를 특징짓는 것으로서 그 처리에 관련된 처리액과 동일한 생각에 기초하여 결정할 수 있다.
이 점도 포함시켜, 복수의 처리 유닛(16) 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 제어 장치(4)는, 이하의 운용 룰에 따라서 웨이퍼(제품 웨이퍼(PW), 모니터 웨이퍼(MW))의 반송 스케줄을 결정한다.
(1) 그 모니터 모드와 관련된 처리액과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 웨이퍼(PW)를, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16) 중 어느 것에 반입하는 것이 허가된다.
(2) 그 모니터 모드와 관련된 처리액과 동일한 처리액에 관련된 처리를 행해야 할 제품 웨이퍼(PW)를, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16) 중 어느 것에 반입하는 것이 금지된다.
(3) 그 모니터 모드와 관련된 처리액을 이용하여 처리해야 할 모니터 웨이퍼(MW)를, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16) 중 어느 것에 반입한다.
(4) 그 모니터 모드와 관련된 처리액을 이용하여 처리해야 할 모니터 웨이퍼(MW)를, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16)에 제품 웨이퍼(PW)보다 우선적으로 반입한다.
상기 (1)은 본 실시형태에 있어서 반드시 지켜지는 운용 룰이다. 상기 (2), (3)은 본 실시형태에 있어서 임의 채택적인 운용 룰이며, 이 운용 룰에 따르는 것이 바람직하지만, 반드시 따를 필요는 없다. 상기 (4)도 임의 채택적인 운용 룰이며, 이 운용 룰에 따르는 것이 바람직하지만, 반드시 따를 필요는 없다. 임의 채택적인 운용 룰인 (2)∼(4)의 채택 우선도는 (2)>(3)>(4)이다.
제어 장치는, 상기에 기초하여 결정된 반송 스케줄에 기초하여, 이 기판 처리 시스템에서의 기판 반송 기구를 구성하는 기판 반송 장치(13, 17)를 동작시켜, 모니터 웨이퍼(MW) 및 제품 웨이퍼(PW)를 처리 유닛(16)에 반입한다.
이하에, 상기 운용 룰에 기초하여 실행되는 웨이퍼 반송의 구체예에 관해 설명한다.
설명의 편의상, 각 처리 유닛(16)에 ID 번호를 부여한다. 구체적으로는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 도면 중 하단의 좌측으로부터 순서대로 16-1, 16-2, 16-3, 16-4, 16-5, 16-6, 도면 중 상단의 좌측으로부터 순서대로 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12라는 ID 번호를 부여한다.
우선, 모든 처리 유닛(16)이 노멀 모드로 설정되어 있는 경우에 관해 간단히 설명한다. 이 경우, 캐리어 배치부(11)에 제품 웨이퍼(PW)를 수용하는 캐리어(C)로부터 취출된 제품 웨이퍼(PW)는, 비어 있는 처리 유닛(16)에 순차적으로 반송된다. 예컨대, 최초의 12장의 제품 웨이퍼(PW)는, 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3, 16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12)에 반송된다. 처리 유닛(16)에 있어서 트러블이 생기지 않는 한, 처리 유닛(16)에서의 처리가 완료되어 처리 유닛(16)이 비워지기 때문에, 13장째 이후의 제품 웨이퍼(PW)도 비어 있는 처리 유닛(16)에 반입된다.
다음으로, 적어도 하나의 처리 유닛(16)이 모니터 모드로 설정되고, 나머지 처리 유닛(16)이 노멀 모드로 설정되어 있는 경우에 관해 설명한다. 여기서는, 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)이 「모니터 모드(약액 A)」로 설정되고(도면 중 처리 유닛(16)의 프레임 내에 M으로 기재함), 나머지 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12)이 노멀 모드(도면 중 처리 유닛(16)의 프레임 내에 N으로 기재함)로 설정되어 있는 것으로 한다. 일례로서, 약액 A는 HF:DIW가 1:1000인 DHF이다.
[경우 1]
상기와 같이 운용 모드의 설정이 이루어진 후에, 캐리어 배치부(11)에, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 수용하는 캐리어(C)가 반입된 것으로 한다. 이 경우, 본 실시형태에 따른 전술한 운용 룰에 따르면, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 금지된다.
따라서, 도 3에 나타낸 바와 같이, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)는, 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12) 중 비어 있는 처리 유닛에 반입되고, 반입된 처리 유닛 내에서 약액 A와 관련된 처리가 실시된다.
[경우 2]
상기와 같이 운용 모드의 설정이 이루어진 후에, 캐리어 배치부(11)에, 약액 A와는 상이한 약액 B와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 수용하는 캐리어(C)가 반입된 것으로 한다. 이 경우, 본 실시형태에 따른 전술한 운용 룰에 따르면, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는, 약액 B에 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용된다.
따라서, 도 4에 나타낸 바와 같이, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)는, 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3, 16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12) 중 비어 있는 처리 유닛에 반입되고, 반입된 처리 유닛 내에서 약액 B를 이용한 액처리가 실시되게 된다.
[경우 3]
상기와 같이 운용 모드의 설정이 이루어진 후에, 캐리어 배치부(11)에, 약액 A와는 상이한 약액 B와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 수용하는 캐리어(C1)가 반입되고, 또한, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)를 수용하는 별도의 캐리어(C2)가 반입된 것으로 한다.
이 경우, 본 실시형태에 따른 전술한 반입 기준에 의하면, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용된다. 또한, 노멀 모드로 설정되어 있는 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12)에도 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용된다.
또한, 약액 A에 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)는, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에 대하여 반입이 허용된다.
또, 전술한 바와 같이, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용되지만, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에서는, 상기 운용 룰(4)에 따라서, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)의 반입이 우선된다. 따라서, 약액 A에 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 미반입(미처리)의 모니터 웨이퍼(MW)가 존재하는 한, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16)에는, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입은 행해지지 않는다.
따라서, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12) 중 비어 있는 처리 유닛에 순차적으로 반입되고, 반입된 처리 유닛 내에서 약액 B와 관련된 처리가 실시되게 된다. 또한, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)는, 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3) 중 비어 있는 처리 유닛에 순차적으로 반입되고, 반입된 처리 유닛 내에서 약액 A와 관련된 처리가 실시되게 된다.
단, 상기 경우 3에 있어서, 예컨대 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3) 중 처리 유닛(16-1, 16-2)에, 캐리어 배치부(11)에 반입된 모니터 웨이퍼(MW)의 최후의 2장이 반입된 경우, 즉, 요컨대 이제는 새로운 모니터 웨이퍼(MW)의 반입이 예정되어 있지 않은 처리 유닛(이 경우 처리 유닛(16-3))이 생긴 경우에는, 그 처리 유닛(처리 유닛(16-3))에 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 반입할 수 있다.
[경우 4]
상기와 같이 운용 모드의 설정이 이루어진 후에, 캐리어 배치부(11)에, 약액 A와는 상이한 약액 B와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 수용하는 캐리어(C1)가 반입되고, 또한, 약액 A와 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)를 수용하는 별도의 캐리어(C2)가 반입된 것으로 한다. 즉, 상기 경우 3과 동일한 상황이 된 것으로 한다. 또, 이 경우 4에 있어서는, 상기 경우 1∼3에 대하여 운용 룰의 일부가 변경되어 있다.
이 경우, 경우 3과 마찬가지로, 본 실시형태에 따른 전술한 반입 기준에 의하면, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용된다. 또한, 노멀 모드로 설정되어 있는 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12)에도 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용된다.
또한, 경우 3과 마찬가지로, 약액 A에 관련된 처리를 실시하는 것이 예정되어 있는 모니터 웨이퍼(MW)는, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에 대하여 반입이 허용된다.
또, 전술한 바와 같이, 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에는 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입이 허용되지만, 이미 모니터 웨이퍼(MW)가 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)에서 처리되고 있는 경우, 제품 웨이퍼(PW)는 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3)으로의 반송이 제외되어 이들의 처리 유닛으로의 반입은 행해지지 않는다. 즉, 경우 3과 마찬가지로 도 5에 나타내는 반송 상태가 된다.
따라서, 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)는, 처리 유닛(16-4, 16-5, 16-6, 16-7, 16-8, 16-9, 16-10, 16-11, 16-12) 중 비어 있는 처리 유닛에 반입되고, 반입된 처리 유닛 내에서 약액 B와 관련된 처리가 실시되게 된다.
단, 상기 경우 3에 있어서, 예컨대 「모니터 모드(약액 A)」로 설정된 처리 유닛(16-1, 16-2, 16-3) 중 처리 유닛(16-1, 16-2)에, 캐리어 배치부(11)에 반입된 모니터 웨이퍼(MW)의 최후의 2장이 반입된 경우, 즉, 요컨대 이제는 새로운 모니터 웨이퍼(MW)의 반입이 예정되어 있지 않은 처리 유닛(이 경우 처리 유닛(16-3))이 생긴 경우에는, 그 처리 유닛(처리 유닛(16-3))에 약액 B와 관련된 처리가 예정되어 있는 제품 웨이퍼(PW)를 반입할 수 있다.
각 처리 유닛(16)에서의 노멀 모드 및 모니터 모드 사이의 이행 타이밍의 일례에 관해 설명한다. 어떤 처리 유닛(16)에 관한 노멀 모드로부터 모니터 모드로의 이행의 지시가 제어 장치(4)에 입력된 경우, 그 처리 유닛(16)에 있어서 처리중인 웨이퍼가 없다면, 노멀 모드로부터 모니터 모드로의 이행이 즉시 행해진다. 그 처리 유닛(16)에 있어서 처리중인 웨이퍼가 있다면, 그 처리중인 웨이퍼가 그 처리 유닛(16)으로부터 반출된 후에 노멀 모드로부터 모니터 모드로의 이행이 행해진다.
어떤 처리 유닛(16)에 관한 모니터 모드로부터 노멀 모드로의 이행의 지시(모니터 모드 해제의 지시)가 제어 장치(4)에 입력된 경우, 현재 처리 대상으로 되어 있는 로트의 모든 제품 웨이퍼의 처리가 종료되고, 원래의 캐리어(C)로 복귀된 후에, 모니터 모드로부터 노멀 모드로의 이행이 행해진다.
상기는 일례이며, 노멀 모드 및 모니터 모드 사이의 이행 타이밍은 상기에 한정되는 것은 아니다. 노멀 모드 및 모니터 모드 사이의 이행이 어떠한 타이밍에 이루어지든 간에, 기판 처리 시스템(1)의 원활한 운용을 위해, 복수의 처리 유닛(16)에 대하여 모니터 모드를 설정한다면 그 모니터 모드의 설정은 이들 복수의 처리 유닛(16)에 대하여 동시에 이루어지는 것이 바람직하다. 또한 반송 스케줄의 설정 자유도를 높이기 위해서는, 모니터 모드를 설정해야 할 각 처리 유닛(16)에 대하여, 예정하고 있는 매수의 모니터 웨이퍼(MW)를 처리하기 위해 필요한 최소한의 모니터 모드 설정 시간을 확보하는 것이 바람직하다.
모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16)에 대하여 모니터 웨이퍼(MW)의 반입만을 허용하고 모든 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 금지하는 종래 기술에 있어서, 상기와 같이 여유있는 타이밍에 모니터 모드로의 이행 및 해제를 행하면 이하와 같은 문제가 생길 수 있다. 예컨대, 처리 유닛(16)이 필요 이상으로 빠른 타이밍에 모니터 모드로 이행해 버리면(예컨대 캐리어 배치부(11)에 모니터 웨이퍼(MW)를 수용한 캐리어(C)가 반입되기 전에, 하나 또는 복수의 처리 유닛(16)이 모니터 모드로 이행해 버리면), 모니터 모드로 이행한 처리 유닛(16)이 비어 있다 하더라도, 그 처리 유닛(16)에는 제품 웨이퍼(PW)가 반입되지 않게 된다. 또한, 처리해야 할 복수의 모니터 웨이퍼(MW) 중 최후의 모니터 웨이퍼(MW)가 어느 하나의 처리 유닛(16)에서 처리되고 있는 경우에, 모니터 모드로 되어 있는 다른 하나 또는 복수의 처리 유닛(16)이 비어 있다 하더라도, 그 비어 있는 처리 유닛(16)에는 제품 웨이퍼(PW)가 반입되지 않게 된다. 이렇게 함은, 단위시간 내의 제품 웨이퍼(PW)의 처리 매수의 저감, 즉 작업 처리량의 저감으로 이어진다.
이에 대해, 본 실시형태에 있어서는, 모니터 모드로 이행한 처리 유닛(16)에 대한 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 일률적으로 금지하는 것이 아니라, (a) 모니터 모드를 사용하는 약액과 관련시켜 설정하고, (b) 모니터 모드로 설정된 처리 유닛(16)에 관해서는, 모니터 모드의 설정에 맞춰 관련된 약액(처리액)과는 상이한 약액에 관련된 처리가 실시되게 되어 있는 제품 웨이퍼(PW)에 관해서는 그 처리 유닛(16)으로의 반입을 허용하도록 되어 있다. 그 처리 유닛(16)으로의 반입이 허용되지 않는 것은, 모니터 모드의 설정에 맞춰 관련된 약액과 동일한 약액에 관련된 처리가 실시되게 되어 있는 제품 웨이퍼(PW)뿐이다. 이 때문에, 제품 웨이퍼(PW)를 처리할 여유가 있는 처리 유닛(16)이 쓸데없이 휴지 상태가 되는 것이 방지되므로, 기판 처리 시스템(1)의 작업 처리량의 저하를 최소한으로 억제할 수 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서는, 모니터 모드의 설정에 맞춰 관련된 약액은, 모니터 모드가 설정되는 모든 처리 유닛(16)에 있어서 동일(상기 예에서는 전부 약액 A)하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 처리 유닛(16-1)에 대하여 「모니터 모드(약액 A)」를 설정하고, 처리 유닛(16-2)에 대하여 「모니터 모드(약액 B)」를 설정해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는, 모니터 모드의 설정에 맞춰 관련된 약액은 1종류였지만, 2종류 이상의 약액을 관련시켜도 좋다(예컨대 「모니터 모드(약액 A/약액 B)」). 「모니터 모드(약액 A/약액 B)」로 설정된 처리 유닛(16)에 대해서는, 약액 A 및 약액 B 양쪽과 관련된 처리가 실시되게 되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 금지해도 좋다. 또한, 이것 대신에, 약액 A 및 약액 B 중 적어도 어느 한쪽과 관련된 처리가 실시되게 되어 있는 제품 웨이퍼(PW)의 반입을 금지해도 좋다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는, 모니터 웨이퍼(MW)에 실시되는 처리를 특징짓는 처리 조건으로서 처리에 사용되는 처리액의 종류를 이용했지만, 이것에 한정되지는 않는다. 이러한 처리 조건으로서, 처리에 이용하는 처리 유체가 액체 또는 기체를 포함하는 경우에 있어서의 그 액체 또는 기체의 종류, 온도, 압력 및 농도, 처리에 이용하는 처리 유체가 액체 및 기체의 혼합 유체인 경우에 있어서의 이들 액체 및 기체의 혼합비, 및 처리가 세정 처리인 경우에 있어서의 그 세정 처리에 이용하는 물리적 세정 부재(예컨대 브러시 등)를 선택할 수도 있다.
상기 실시형태에서는, 기판은 반도체 웨이퍼였지만, 이것에 한정되지는 않고, 반도체 제조의 분야에 있어서 이용될 수 있는 임의의 종류의 기판, 예컨대 유리 기판, 세라믹 기판 등이어도 좋다.
1 : 기판 처리 장치(기판 처리 시스템)
4 : 제어 장치
13, 17 : 기판 반송 기구(기판 반송 장치)
16(16-1∼16-12) : 처리 유닛

Claims (12)

  1. 기판 처리 장치에 있어서,
    기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과,
    상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구와,
    상기 기판 반송 기구를 제어하는 제어 장치와,
    각 처리 유닛의 운용 모드로서, 사용하는 처리 조건과 관련시킨 모니터 모드의 설정 및 해제를 행할 수 있는 모니터 모드 설정 수단
    을 구비하고,
    상기 제어 장치는, 상기 모니터 모드 설정 수단에 의해 설정된 운용 모드에 기초하여 상기 기판 반송 기구에 기판을 반송시키고, 또한, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 허가하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여,
    그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 처리해야 할 모니터 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입시키고,
    그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과 동일한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 금지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 적어도 하나의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 처리해야 할 모니터 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 제품 기판보다 우선적으로 반입시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제어 장치는, 상기 적어도 하나의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 있어서 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 모니터 웨이퍼가 처리된 후에는, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 제품 기판의 반입을 금지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모니터 모드 설정 수단은, 상기 제어 장치에 지령을 보낼 수 있는 상위의 제어 장치, 또는 상기 제어 장치에 지령을 입력할 수 있는 사용자 인터페이스인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리 조건은,
    처리에 이용하는 처리 유체가 액체 또는 기체를 포함하는 경우에 있어서의 그 액체 또는 기체의 종류, 온도, 압력 및 농도,
    처리에 이용하는 처리 유체가 액체 및 기체의 혼합 유체인 경우에 있어서의 상기 액체 및 기체의 혼합비, 및
    처리가 세정 처리인 경우에 있어서의 그 세정 처리에 이용하는 물리적 세정 부재
    로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 조건인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구를 구비한 기판 처리 장치의 운용 방법에 있어서,
    상기 기판 반송 기구에, 상기 복수의 처리 유닛의 각각에 대하여 설정된 운용 모드에 기초하여 기판을 반송시키고, 또한, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나의 운용 모드가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에 대하여, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과는 상이한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 허가하는 것을 특징으로 하는 운용 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 복수의 처리 유닛 중 적어도 하나가 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에,
    그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 처리해야 할 모니터 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입시키고,
    그 모니터 모드와 관련된 처리 조건과 동일한 처리 조건에 관련된 처리를 행해야 할 제품 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 상기 적어도 하나의 처리 유닛 중 어느 것에 반입하는 것을 금지하는 것을 특징으로 하는 운용 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 적어도 하나의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 상기 기판 반송 기구에, 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 처리해야 할 모니터 기판을, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 제품 기판보다 우선적으로 반입시키는 것을 특징으로 하는 운용 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 적어도 하나의 처리 유닛이 모니터 모드로 설정되어 있을 때에, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 있어서 그 모니터 모드와 관련된 처리 조건을 이용하여 모니터 웨이퍼가 처리된 후에는, 그 모니터 모드로 설정된 처리 유닛에 제품 기판의 반입을 금지하는 것을 특징으로 하는 운용 방법.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리 조건은,
    처리에 이용하는 처리 유체가 액체 또는 기체를 포함하는 경우에 있어서의 그 액체 또는 기체의 종류, 온도, 압력 및 농도,
    처리에 이용하는 처리 유체가 액체 및 기체의 혼합 유체인 경우에 있어서의 상기 액체 및 기체의 혼합비, 및
    처리가 세정 처리인 경우에 있어서의 그 세정 처리에 이용하는 물리적 세정 부재
    로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 조건인 것을 특징으로 하는 운용 방법.
  12. 기판에 대하여, 복수 종류의 처리를 복수 종류의 처리 조건으로 실행할 수 있는 복수의 처리 유닛과, 상기 복수의 처리 유닛에 기판을 반송하는 기판 반송 기구와, 상기 기판 반송 기구를 제어하는 제어 장치와, 상기 기판 반송 기구를 제어하는 컴퓨터로 이루어진 제어 장치를 구비한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 컴퓨터에 의해 실행 가능한 프로그램을 기억하는 기억 매체로서,
    상기 프로그램이 상기 컴퓨터에 의해 실행되면, 상기 제어 장치가, 상기 기판 처리 장치에 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 운용 방법을 실행시키는 것을 특징으로 하는 기억 매체.
KR1020150002551A 2014-01-20 2015-01-08 기판 처리 장치, 그 운용 방법 및 기억 매체 KR102257244B1 (ko)

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