JP2017183545A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
たとえば、処理ユニットに備えられる機構部分や消耗品の負荷が複数の処理ユニット間でばらつき、複数の処理ユニットでの機構部分や消耗品の経時変化が均等に生じず、その結果、特定の処理ユニットにおいて部品交換等のメンテナンス作業の間隔が短くなるおそれがある。このようなメンテナンス作業のためには基板処理装置全体の運転を停止する必要があるから、生産性に影響する。また、処理ユニット内において基板処理に用いられる消耗品の劣化(へたり)に差が生じると、基板処理に影響が現れるおそれもある。
そこで、この発明の一つの目的は、複数の処理ユニットの使用頻度のばらつきの低減に有利な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
また、予め一つのグループを選択することによって、制御ユニットは、その選択されたグループに属する処理ユニットから一つの処理ユニットを選択すればよい。このように段階的に処理ユニットを選択することにより、全ての処理ユニットを同等と見なして一つの処理ユニットを一段階で選択するよりも、制御ユニットの演算負荷を軽減することができる。それに応じて、制御ユニットが一つの処理ユニットを選択するまでの時間を短縮することもできるので、基板処理を早期に開始することができるようになり、それに応じて基板処理装置の生産性を高めることができる。
この構成により、処理流体供給源を共有する複数の処理ユニットが同じグループに属するので、グループを選択することによって、処理流体供給源を選択できる。それにより、処理流体供給源の使用頻度のばらつきを低減しやすくなる。
この発明の一実施形態では、前記グループ選択ステップが、各グループが基板の処理のために最後に使用された時刻であるグループ最終使用時刻を記録するステップと、グループ最終使用時刻に基づいてグループを選択(好ましくはグループ最終使用時刻が最も古いグループを選択)するステップとを含む。この構成により、グループを均等に選択しやすくなるので、それに応じて、処理ユニットの使用頻度のばらつきを低減しやすくなる。
この発明の一実施形態では、前記ユニット選択ステップが、各処理ユニットが基板処理のために最後に使用された時刻であるユニット最終使用時刻を記録するステップと、ユニット最終使用時刻が最も古い処理ユニットを選択するステップとを含む。この構成により、各グループ内での処理ユニットの使用頻度のばらつきを低減しやすくなる。
この発明の一実施形態の基板処理方法では、前記基板搬送ユニットが、第1搬送ロボットと、前記第1搬送ロボットとの間で基板を受け渡しする第2搬送ロボットとを含み、前記複数のグループが、前記第1搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第1グループと、前記第2搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第2グループとを含み、前記キャリヤ保持ユニットに保持されたキャリヤと前記第2グループの処理ユニットとの間での基板搬送を、前記第1搬送ロボットおよび前記第2搬送ロボットの両方によって行う。
この発明の一実施形態の基板処理方法では、前記グループ選択ステップが、前記複数のグループを均等に選択する。
この発明の一実施形態の基板処理方法では、前記グループ選択ステップが、各グループに属する処理ユニットが基板の処理のために使用されている割合であるグループ使用率を演算するステップと、グループ使用率に基づいてグループを選択(好ましくは使用率が最も低いグループを選択)するステップとを含む。
この発明の一実施形態の基板処理方法では、前記ユニット選択ステップが、各処理ユニットが基板処理のために最後に使用された時刻であるユニット最終使用時刻を記録するステップと、ユニット最終使用時刻が最も古い処理ユニットを選択するステップとを含む。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な平面図である。また、図2は、図1の切断面線II−IIに対応する図解的な断面図である。
この基板処理装置1は、キャリヤ保持部2と、インデクサ部3と、処理部4とを含む。キャリヤ保持部2は、複数枚の基板Wを収容可能な基板収容器であるキャリヤCをそれぞれ保持する複数のロードポートLPを含む。インデクサ部3は、インデクサロボットIRを含む。インデクサロボットIRは、キャリヤ保持部2に保持されたキャリヤCから未処理の基板Wを取り出して処理部4に渡す搬入動作と、処理部4から処理済みの基板Wを受け取ってキャリヤ保持部2に保持されたキャリヤCに収納する収納動作とを実行する。
複数の処理ユニットMPCは、複数のユニットタワーTW1〜TW6(以下総称するときには「ユニットタワーTW」という。)を形成するように分散して配置されている。各ユニットタワーTWは、複数の処理ユニットMPCを複数層(この実施形態では4層)に積層して形成されている。この実施形態では、各ユニットタワーTWは、4個の処理ユニットMPCを上下方向に積層して形成されている。複数のユニットタワーTWは、搬送路5の両側に振り分けられており、搬送路5に沿って配列されている。具体的には、この実施形態では、搬送路5の一方側に3個のユニットタワーTW1,TW3,TW5が配列されており、搬送路5の他方側に3個のユニットタワーTW2,TW4,TW6が配列されている。そして、搬送路5を挟んで3対のユニットタワーTW1,TW2;TW3,TW4;TW5,TW6がそれぞれ対向している。したがって、各対のユニットタワーTW1,TW2;TW3,TW4;TW5,TW6は、インデクサ部3との間の基板搬送距離がほぼ等しく、それに応じて、インデクサ部3との間の基板搬送時間がほぼ等しい。
第1処理区画PZ1、第2処理区画PZ2および第3処理区画PZ3にそれぞれ対応して3個の薬液キャビネットCC1,CC2,CC3(薬液供給源。処理流体供給源の一例。以下総称するときには「薬液キャビネットCC」という。)が設けられている。第1薬液キャビネットCC1は、第1処理区画PZ1を形成する複数の処理ユニットMPCに対して、基板Wを処理するための薬液(処理流体の一例)を供給する。すなわち、第1薬液キャビネットCC1は第1処理区画PZ1に含まれる複数の処理ユニットMPCによって共有されている。同様に、第2薬液キャビネットCC2は第2処理区画PZ2を形成する複数の処理ユニットMPCに対して、基板Wを処理するための薬液を供給する。すなわち、第2薬液キャビネットCC2は第2処理区画PZ2に含まれる複数の処理ユニットMPCによって共有されている。さらに同様に、第3薬液キャビネットCC3は第3処理区画PZ3を形成する複数の処理ユニットMPCに対して、基板Wを処理するための薬液を供給する。すなわち、第3薬液キャビネットCC3は第3処理区画PZ3に含まれる複数の処理ユニットMPCによって共有されている。
図4は、処理ユニットMPCの他の構成例を説明するための図解的な断面図である。対比のために、図3の対応部分に同一参照符号を付してある。この処理ユニットMPCは、基板Wの周端面をスクラブ洗浄する端面洗浄ユニットである。処理ユニットMPCは、処理チャンバ31と、処理チャンバ31内に配置されたスピンチャック33と、薬液ノズル34と、基板Wの端面をスクラブ洗浄するスクラブ部材37とを含む。スピンチャック33は、1枚の基板Wを水平姿勢で保持して鉛直な回転軸線36まわりに回転させる。薬液ノズル34は、スピンチャック33に保持された基板Wの表面に薬液を供給する。薬液ノズル34には、薬液キャビネットCCから薬液供給配管40を介して薬液が供給される。スクラブ部材37は、スピンチャック33に保持された基板Wの周端面に当接する。スピンチャック33の回転によって基板Wが回転されることにより、スクラブ部材37は基板Wの周端面を全周に渡ってスクラブ洗浄する。
薬液供給配管40は、一つの処理区画PZを構成する2つのユニットタワーTWに跨がって門形に配置された主供給路41を含む。主供給路41は、一方のユニットタワーTWに沿って立ち上げられた立ち上がり部41Aと、この立ち上がり部41Aに結合され、搬送路5の上方で他方のユニットタワーTWに渡る渡り部41Bと、この渡り部41Bに結合され、当該他方のユニットタワーTWに沿って垂れ下がる垂れ下がり部41Cとを含む。薬液キャビネットCCの薬液出口51に主供給路41の入口部が結合され、薬液キャビネットCCの薬液帰還口52に主供給路41の出口部が結合されている。薬液供給配管40は、さらに、立ち上がり部41AからユニットタワーTWを構成する複数の処理ユニットMPCにそれぞれ分岐した複数の分岐供給路42と、垂れ下がり部41CからユニットタワーTWを構成する複数の処理ユニットMPCにそれぞれ分岐した複数の分岐供給路43とを含む。各分岐供給路42,43には、流量調整バルブ45、流量計46、および薬液バルブ47が介装されている。各分岐供給路42,43の先端は、処理ユニットMPC内に導入されており、薬液ノズル34に結合されている。流量調整バルブ45は、分岐供給路42,43を流れる薬液の流量を調整するためのバルブである。流量計46は、分岐供給路42,43を流通する薬液の流量を計測する装置である。薬液バルブ47は、分岐供給路42,43を開閉し、それによって薬液ノズル34からの薬液の吐出/停止を制御するためのバルブである。
記憶部63に記憶されたプログラム70は、制御部61をスケジューリング機能部65として作動させるためのスケジュール作成プログラム71と、制御部61を処理実行指示部66として作動させるための処理実行プログラム72とを含む。
作成された仮タイムテーブルは、スケジュールデータ81の一部として記憶部63に格納される。仮タイムテーブルの作成段階では、別の基板Wに関するブロックとの干渉(時間軸上での重なり合い)は考慮されない。
処理区画選択処理(ステップS3)において、第2処理区画PZ2が選択されると、スケジューリング機能部65は、1枚の基板Wに対して、処理ユニットMPC9〜MPC16をそれぞれ通る経路に対応した仮タイムテーブル(処理ブロックを処理ユニットMPC9〜MPC16にそれぞれ配置した仮タイムテーブル)を作成する。それにより、一枚の基板Wに対して合計8経路分の仮タイムテーブルが作成される。処理ユニットMPC9を通る経路に対応した仮タイムテーブルを図8Bに示す。この仮タイムテーブルは、インデクサロボットIRによるキャリヤCからの基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板Wの第1受け渡しユニットPASS1への搬入(Put)を表すブロックと、第1主搬送ロボットCR1による第1受け渡しユニットPASS1からの当該基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、第1主搬送ロボットCR1による第2受け渡しユニットPASS2への搬入(Put)を表すブロックと、第2主搬送ロボットCR2による第2受け渡しユニットPASS2からの当該基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、第2主搬送ロボットCR2による当該基板Wの処理ユニットMPC9への搬入(Put)を表すブロックと、処理ユニットMPC9による当該基板Wに対する処理を表す処理ブロックと、第2主搬送ロボットCR2による処理ユニットMPC9からの処理済みの基板Wの搬出(Get)を表すブロックと、第2主搬送ロボットCR2による当該基板Wの第2受け渡しユニットPASS2への搬入(Put)を表すブロックと、第1主搬送ロボットCR1による第2受け渡しユニットPASS2からの当該基板の搬出(Get)を表すブロックと、第1主搬送ロボットCR1による当該基板Wの第1受け渡しユニットPASS1への搬入(Put)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板Wの第1受け渡しユニットPASS1からの搬出(Get)を表すブロックと、インデクサロボットIRによる当該基板WのキャリヤCへの搬入(Put)を表すブロックとを含む。スケジューリング機能部65は、これらのブロックを時間軸上で重なり合いのないように順番に配置することによって、仮タイムテーブルを作成する。さらに、図8Bの仮タイムテーブルは、処理ブロックが配置された期間中の所定の薬液処理期間において、第2薬液キャビネットCC2からの薬液の供給を表す薬液供給ブロックを含む。
処理区画選択処理は、複数の処理区画PZが均等に使用されるように処理区画PZを選択するように設計されている。
スケジューリング機能部65は、各基板Wの処理をすべき処理区画PZを選択するときに、処理区画データに基づいて、各処理ユニットMPCがいずれの処理区画PZに属するのか、および無効な処理ユニットMPCが存在するかを判断する(図9のステップS31)。そして、スケジューリング機能部65は、区画使用率を記憶部63から読み出し、区画使用率が最も低い処理区画PZを選択する(ステップS33)。区画使用率が最低の処理区画PZが複数存在するときは(ステップS32:YES)、スケジューリング機能部65は、区画最終使用時刻が最も古い処理区画PZを選択する(ステップS35)。区画最終使用時刻が最古の処理区画PZが複数存在するときは(ステップS34:YES)、スケジューリング機能部65は、区画番号が最も小さい(すなわち、予め付した優先順位が最も高い)処理区画PZを選択する(ステップS36)。
初期状態では、図11Aに示すように、第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3の区画使用率は、いずれも零であり、区画最終使用時刻には初期値(たとえば「0」)が登録されている。たとえば、第1処理区画PZ1のいずれかの処理ユニットMPCを使用して1枚の基板Wを処理するための本スケジューリングが完了すると、図11Bに示すように、スケジューリング機能部65は、第1処理区画PZ1の区画使用率および区画最終使用時刻として、初期値とは異なる有意な値を登録する。処理区画使用率は、たとえば、基板Wの処理のために要する時間を当該処理区画PZにおける有効な(利用可能な)処理ユニットMPCの数で除した値であってもよい。より具体的には、第1処理区画PZ1の一つの処理ユニットMPCに対して120秒かかる基板処理を計画した場合に、第1処理区画PZ1の有効処理ユニット数が8であり、他の処理ユニットMPCに対して実行未了の基板処理計画が存在しなければ、区画使用率は15(=120/8)となる。スケジューリング機能部65は、或る処理ユニットMPCを使用する1枚の基板Wの処理を計画すると、区画使用率を計算して記憶部30に登録するとともに、その処理ユニットMPCにおける処理を終了する時刻を推定し、その推定した時刻をユニット最終使用時刻として記憶部63に登録する。ユニット最終使用時刻は、使用履歴データ82の一部であり、図7のステップS13での判断に利用される。さらに、スケジューリング機能部65は、各処理区画PZに対して、当該処理区画PZに属する処理ユニットMPCのユニット最終使用時刻のうちで最も遅いものを区画最終使用時刻として記憶部63に登録する。
1枚目の基板W1の処理を計画するとき、第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3の区画使用率はいずれも零であり、かつ第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3の区画最終使用時刻はいずれも初期値である。そこで、スケジューリング機能部65は、最も番号の小さい第1処理区画PZ1を選択し、第1処理区画PZ1における有効な処理ユニットMPC1〜MPC8をそれぞれ通る8個の経路をそれぞれ表す8個の仮タイムテーブルを作成する。スケジューリング機能部65は、それらの仮タイムテーブルの各々に対して本スケジューリングを実行して、一つの処理ユニットMPC(たとえば処理ユニットMPC1)で1枚目の基板W1を処理する計画を作成する(図13A)。この基板W1の処理のために処理ユニットMPC1が要する処理時間が120秒であるとすれば、第1処理区画PZ1の区画使用率は15(=120/8)となる。また、処理ユニットMPC1での基板W1の処理が終了する時刻t1が、処理ユニットMPC1のユニット最終使用時刻であり、かつ第1処理区画PZ1の区画最終使用時刻T1となる。
第2プロセスジョブPJ2は、基板W1,W2の処理が完了した後の時刻a11にホストコンピュータ64から与えられる(図14B参照)。したがって、時刻a11では、第3処理区画PZ3はもちろん第1および第2処理区画PZ1,PZ2における区画使用率もいずれも零である。一方、第3処理区画PZ3の区画最終使用時刻は初期値であり、第1および第2処理区画PZ1,PZ2の区画最終使用時刻T1,T2はいずれも有意値である。そこで、スケジューリング機能部65は、第2プロセスジョブPJ2の1枚目の基板W3の処理のために、第3処理区画PZ3を選択する。さらに、スケジューリング機能部65は、第3処理区画PZ3における有効な処理ユニットMPC17〜MPC24をそれぞれ通る8個の経路をそれぞれ表す8個の仮タイムテーブルを作成する。スケジューリング機能部65は、それらの仮タイムテーブルの各々に対して本スケジューリングを実行して、一つの処理ユニットMPCを選択する。図14Bの例では、第2主搬送ロボットCR2が基板W3を搬入できる時刻a12では、第3処理区画PZ3の処理ユニットMPC17〜MPC24はいずれも基板Wを処理していないので、いずれの処理ユニットMPC17〜MPC24においても基板W3の処理を計画することができ、かつ基板処理終了推定時刻も実質的に等しい。また、いずれの処理ユニットMPC17〜MPC24においてもユニット最終使用時刻は初期値である。そこで、スケジューリング機能部65は、処理ユニットMPC17〜MPC24のうち、最も番号の小さい処理ユニットMPC17を通る仮タイムテーブルを用いた本スケジューリングを選択し、その処理ユニットMPC17で基板W3を処理する計画を作成する。この基板W3の処理のために処理ユニットMPC17が要する処理時間が120秒であるとすれば、第3処理区画PZ3の区画使用率は15(=120/8)となる。そして、処理ユニットMPC17での基板W3の処理が終了する時刻が、処理ユニットMPC17のユニット最終時刻t17であり、かつ第3処理区画PZ3の区画最終使用時刻T3となる。
このような課題は、第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3が均等に選択される上記の実施形態の構成によって解決される。
また、この実施形態では、各処理区画PZに属する処理ユニットMPCが基板の処理のために使用されている割合である区画使用率(グループ使用率)が演算され、その区画使用率に基づいて(区画使用率が最も低い)処理区画PZが選択される。それにより、区画使用率のばらつきが低減され、それに応じて、処理ユニットMPCの使用頻度のばらつきが低減される。
図15Aおよび図15Bは、この発明の他の実施形態に係る基板処理装置におけるスケジューリングの例を示す。この実施形態では、インデクサロボットIRは、2つのハンド11を有しており、2枚の基板Wを同時に搬送することができる。より具体的には、インデクサロボットIRは、キャリヤ保持部2に保持されたキャリヤCから2枚の未処理基板を搬出してそれらを同時に搬送して第1受け渡しユニットPASS1に載置する基板供給動作と、第1受け渡しユニットPASS1から処理済みの2枚の基板Wを搬出してそれらを同時に搬送してキャリヤCに収納する基板収納動作とを実行する。一方、第1および第2主搬送ロボットCR1,CR2を構成する基板搬送ロボットは、一対の進退機構の各々が2つのハンド21,22を備えており、合計で4つのハンド21,22を備えている。第1主搬送ロボットCR1は、第1受け渡しユニットPASS1から2枚の未処理基板Wを受け取ってそれらを同時に搬送し、第1処理区画PZ1内の異なる2つの処理ユニットMPCにそれぞれ搬入する基板搬入動作と、第1処理区画PZ1内の異なる2つの処理ユニットMPCから2枚の処理済み基板Wをそれぞれ搬出してそれらを同時に搬送して第1受け渡しユニットPASS1に渡す基板搬出動作と、第1受け渡しユニットPASS1から2枚の未処理基板Wを受け取ってそれらを同時に搬送して第2受け渡しユニットPASS2に渡す基板搬入仲介動作と、第2受け渡しユニットPASS2から2枚の処理済み基板Wを受け取ってそれらを同時に搬送して第1受け渡しユニットPASS1に渡す基板搬出仲介動作とを実行する。第2主搬送ロボットCR2は、第2受け渡しユニットPASS2から2枚の未処理基板Wを受け取ってそれらを同時に搬送し、同一処理区画PZ(第2または第3処理区画PZ2,PZ3のいずれか)内の異なる2つの処理ユニットMPCにそれぞれ搬入する基板搬入動作と、同一処理区画PZ(第2または第3処理区画PZ2,PZ3のいずれか)内の異なる2つの処理ユニットMPCから2枚の処理済み基板Wをそれぞれ搬出してそれらを同時に搬送して第2受け渡しユニットPASS2に渡す基板搬出動作とを実行する。
先ず、図15Aを参照する。いずれの基板処理も計画されていない段階では、プロセスジョブPJ1の1枚目および2枚目の基板W1,W2の処理を計画するとき、第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3の区画使用率はいずれも零であり、かつ第1〜第3処理区画PZ1,PZ2,PZ3の区画最終使用時刻はいずれも初期値である。そこで、スケジューリング機能部65は、最も番号の小さい第1処理区画PZ1を選択する。そして、スケジューリング機能部65は、1枚目の基板W1に対して、第1処理区画PZ1における有効な処理ユニットMPC1〜MPC8をそれぞれ通る8個の経路をそれぞれ表す8個の仮タイムテーブルを作成する。同様に、スケジューリング機能部65は、2枚目の基板W2に対して、第1処理区画PZ1における有効な処理ユニットMPC1〜MPC8をそれぞれ通る8個の経路をそれぞれ表す8個の仮タイムテーブルを作成する。さらに、スケジューリング機能部65は、1枚目の基板W1に対して作成された仮タイムテーブルの各々に対して本スケジューリングを実行して、一つの処理ユニットMPC(たとえば処理ユニットMPC1)で1枚目の基板W1を処理する計画を作成する。同様に、スケジューリング機能部65は、2枚目の基板W2に対して作成された仮タイムテーブルの各々に対して本スケジューリングを実行して、一つの処理ユニットMPC(たとえば処理ユニットMPC2)で2枚目の基板W2を処理する計画を作成する。基板W1,W2の処理のために処理ユニットMPC1,MPC2がそれぞれ120秒の処理時間を要するとすれば、第1処理区画PZ1の区画使用率は30(=2×120/8)となる。また、処理ユニットMPC1,MPC2での基板W1,W2の処理が終了する時刻がそれぞれユニット最終使用時刻t1,t2となり、それらのうち、いずれか遅い方が、第1処理区画PZ1の区画最終使用時刻T1となる。2枚の基板W1,W2のスケジューリングが終了すると、それらの基板W1,W2に対する搬送が開始される。
以上、この発明の具体的な実施形態について説明してきたが、この発明は、以下に例示的に列挙するとおり、さらに他の形態で実施することもできる。
1.前述の実施形態では、第1処理区画PZ1、第2処理区画PZ2および第3処理区画PZ3が等しい個数の処理ユニットMPCで構成されている。しかし、複数の処理区画PZが同数の処理ユニットMPCで構成されている必要はない。たとえば、第2処理区画PZ2および第3処理区画PZ3を合体して、第2主搬送ロボットCR2による直接アクセスを受ける16個の処理ユニットMPCで一つの第2処理区画PZ2を構成してもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
C キャリヤ
LP ロードポート
IR インデクサロボット
CR1 第1主搬送ロボット
CR2 第2主搬送ロボット
MPC,MPC1〜MPC24 処理ユニット
PASS1 第1受け渡しユニット
PASS2 第2受け渡しユニット
TW,TW1〜TW6 ユニットタワー
PZ,PZ1,PZ2,PZ3 処理区画
CC,CC1,CC2,CC3 薬液キャビネット
1 基板処理装置
2 キャリヤ保持部
3 インデクサ部
4 処理部
5 搬送路
11 インデクサロボットのハンド
12 多関節アーム
21,22 主搬送ロボットのハンド
23,24 ハンド進退機構
31 処理チャンバ
32 処理カップ
33 スピンチャック
34 薬液ノズル
35 リンス液ノズル
37 スクラブ部材
40 薬液供給配管
41 主供給路
42,43 分岐供給路
45 流量調整バルブ
46 流量計
47 薬液バルブ
55 薬液タンク
56 ポンプ
58 温度調節器
60 コンピュータ
61 制御部
62 出入力部
63 記憶部
64 ホストコンピュータ
65 スケジューリング機能部
66 処理実行指示部
70 プログラム
71 スケジュール作成プログラム
72 処理実行プログラム
80 プロセスジョブデータ
81 スケジュールデータ
82 使用履歴データ
Claims (18)
- 基板を収容するキャリヤを保持するキャリヤ保持ユニットと、
基板をそれぞれ処理する複数の処理ユニットと、
前記キャリヤ保持ユニットに保持されたキャリヤと前記複数の処理ユニットとの間で基板を搬送する基板搬送ユニットと、
前記複数の処理ユニットおよび前記基板搬送ユニットを制御する制御ユニットとを含み、
前記制御ユニットが、前記複数の処理ユニットを予め複数のグループに分類しており、基板を処理すべき処理ユニットを決定するときに、前記複数のグループのうちの一つを選択するグループ選択ステップと、前記グループ選択ステップで選択された一つのグループに属する一つの処理ユニットを選択するユニット選択ステップと、前記ユニット選択ステップで選択された処理ユニットに処理対象の基板を搬入するように前記基板搬送ユニットを制御するステップとを実行するようにプログラムされている、基板処理装置。 - 前記複数の処理ユニットが、前記キャリヤ保持ユニットと各処理ユニットとの間の搬送経路長または搬送時間に基づいて前記複数のグループに分類されている、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記基板搬送ユニットが、第1搬送ロボットと、前記第1搬送ロボットとの間で基板を受け渡しする第2搬送ロボットとを含み、
前記複数のグループが、前記第1搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第1グループと、前記第2搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第2グループとを含み、
前記キャリヤ保持ユニットに保持されたキャリヤと前記第2グループの処理ユニットとの間での基板搬送が、前記第1搬送ロボットおよび前記第2搬送ロボットの両方によって行われる、請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 前記複数の処理ユニットが、処理流体によって基板を処理するように構成されており、
前記複数の処理ユニットが、処理流体を供給する処理流体供給源を共有する複数の処理ユニット毎に前記複数のグループに分類されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記グループ選択ステップが、前記複数のグループを均等に選択する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記グループ選択ステップが、各グループが基板の処理のために最後に使用された時刻であるグループ最終使用時刻を記録するステップと、グループ最終使用時刻に基づいてグループを選択するステップとを含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記グループ選択ステップが、各グループに属する処理ユニットが基板の処理のために使用されている割合であるグループ使用率を演算するステップと、グループ使用率に基づいてグループを選択するステップとを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記ユニット選択ステップが、各グループ内の処理ユニットを均等に選択する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記ユニット選択ステップが、各処理ユニットが基板処理のために最後に使用された時刻であるユニット最終使用時刻を記録するステップと、ユニット最終使用時刻が最も古い処理ユニットを選択するステップとを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 基板をそれぞれ処理する複数の処理ユニットを予め複数のグループに分類するステップと、
前記複数のグループのうちの一つを選択するグループ選択ステップと、
前記グループ選択ステップで選択された一つのグループに属する一つの処理ユニットを選択するユニット選択ステップと、
基板搬送ユニットによって、前記ユニット選択ステップで選択された処理ユニットに処理対象の基板を搬入するステップとを含む、基板処理方法。 - 前記複数の処理ユニットが、基板を収容するキャリヤを保持するキャリヤ保持ユニットと各処理ユニットとの間の搬送経路長または搬送時間に基づいて前記複数のグループに分類され、
前記基板搬送ユニットが前記キャリヤから前記ユニット選択ステップで選択された処理ユニットまで基板を搬送する、請求項10に記載の基板処理方法。 - 前記基板搬送ユニットが、第1搬送ロボットと、前記第1搬送ロボットとの間で基板を受け渡しする第2搬送ロボットとを含み、
前記複数のグループが、前記第1搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第1グループと、前記第2搬送ロボットによって直接アクセスされる処理ユニットで構成された第2グループとを含み、
前記キャリヤ保持ユニットに保持されたキャリヤと前記第2グループの処理ユニットとの間での基板搬送を、前記第1搬送ロボットおよび前記第2搬送ロボットの両方によって行う、請求項11に記載の基板処理方法。 - 前記複数の処理ユニットが、処理流体によって基板を処理するように構成されており、
前記複数の処理ユニットが、処理流体を供給する処理流体供給源を共有する複数の処理ユニット毎に前記複数のグループに分類される、請求項10〜12のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記グループ選択ステップが、前記複数のグループを均等に選択する、請求項10〜13のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記グループ選択ステップが、各グループが基板の処理のために最後に使用された時刻であるグループ最終使用時刻を記録するステップと、グループ最終使用時刻に基づいてグループを選択するステップとを含む、請求項10〜14のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記グループ選択ステップが、各グループに属する処理ユニットが基板の処理のために使用されている割合であるグループ使用率を演算するステップと、グループ使用率に基づいてグループを選択するステップとを含む、請求項10〜15のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記ユニット選択ステップが、各グループ内の処理ユニットを均等に選択する、請求項10〜16のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記ユニット選択ステップが、各処理ユニットが基板処理のために最後に使用された時刻であるユニット最終使用時刻を記録するステップと、ユニット最終使用時刻が最も古い処理ユニットを選択するステップとを含む、請求項10〜17のいずれか一項に記載の基板処理方法。
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