JP6481977B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
また、ホストコンピュータからのプロセスジョブ情報の入力順は、必ずしも、処理効率を考慮された順序であるとは限らない。たとえば、60℃の薬液温度を指定した第1プロセスジョブ情報、80℃の薬液温度を指定した第2プロセスジョブ情報、60℃の薬液温度を指定した第3プロセスジョブ情報が、この順序で入力される場合があり得る。このような場合に、プロセスジョブ情報の入力順にスケジュールを作成すると、第1プロセスジョブと第2プロセスジョブとの間、および第2プロセスジョブと第3プロセスジョブとの間に、それぞれ、基板処理装置の動作を一旦停止させて、薬液温度を変更しなければならない。つまり、薬液温度を60℃から80℃に変更し、その後に80℃から60℃に戻すことになる。薬液温度の変更には、数時間を要する場合もあるから、前述のようなプロセスジョブ情報の入力順で実際の基板処理を実行すると、生産効率が悪い。
第2処理スケジューリング工程よりも前に属性情報生成工程が完了していれば、第2プロセスジョブ情報および属性情報の両方に基づいて第2処理スケジュールを作成できる。それにより、無駄なスケジューリング処理が行われたり、基板処理装置の無駄な動作が生じたりすることを回避できる。
この発明の一実施形態では、前記第1プロセスジョブのカテゴリである基板の種類、レシピで指定された処理液の種類、およびレシピで指定された処理液の温度のうちの少なくとも一つに基づいて属性情報が生成される。
この発明の一実施形態では、前記属性情報生成工程が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成する工程(S111;S131,S139)を含む。
とくに、次のプロセスジョブのスケジューリングよりも前に禁止属性情報を予め生成しておけば、第1プロセスジョブとは異なるカテゴリの処理が同じ処理ユニットに対して計画されることを確実に回避できる。また、第1プロセスジョブが計画された処理ユニットにおいて、別のカテゴリの処理を実行するための無駄な準備動作が計画されることを回避することもできる。
たとえば、或るプロセスジョブ1(第1プロセスジョブ)の情報の次に情報が受信されたプロセスジョブ2(第2プロセスジョブ)のカテゴリがプロセスジョブ1のカテゴリとは異なり、プロセスジョブ2の情報の次に情報が受信されたプロセスジョブ3(別の第2プロセスジョブ)のカテゴリがプロセスジョブ1のカテゴリと同じである場合を考える。この場合、プロセスジョブ1が計画された処理ユニットにおけるプロセスジョブ2の計画は禁止され、当該処理ユニットにおけるプロセスジョブ3の計画が許容される。したがって、当該処理ユニットにおいて、プロセスジョブ1に続いてプロセスジョブ3が実行されるように、プロセスジョブ3の処理スケジュールが作成される。プロセスジョブ2については、たとえば、別の処理ユニットにおいて実行するように処理スケジュールが作成されてもよい。禁止属性情報が取り消されれば、プロセスジョブ1が計画された処理ユニットにおけるプロセスジョブ2の計画が許容される。このようにして、禁止属性情報を利用することによって、カテゴリに応じて、プロセスジョブの順序を適切に定めることができる。
たとえば、非製品基板の処理(プロセスジョブ1)を指定するプロセスジョブ情報、製品基板の処理(プロセスジョブ2)を指定するプロセスジョブ情報、非製品基板の処理(プロセスジョブ3)を指定するプロセスジョブ情報が順に受信された場合を想定する。この場合に、プロセスジョブ1に対応するプロセスジョブ情報に基づいて禁止属性情報が生成されることにより、プロセスジョブ1が計画された処理ユニットにおける製品基板の処理計画が禁止される。したがって、プロセスジョブ1が計画された処理ユニットで、プロセスジョブ1の次にプロセスジョブ2を実行するような計画は禁止される。一方、プロセスジョブ3を当該処理ユニットでプロセスジョブ1の次に実行する計画は許容される。その結果、当該処理ユニットにおいて、プロセスジョブ1およびプロセスジョブ3を連続して実行させることができる。このように、プロセスジョブ情報の受信順序によらずに、製品基板の処理に相当する複数のプロセスジョブを連続実行させる処理スケジューリングが可能になる。
この発明の一実施形態では、前記第1プロセスジョブ情報が前記第1基板に対する処理条件を表す第1処理条件情報を含み、前記第2プロセスジョブ情報が前記第2基板に対する処理条件を表す第2処理条件情報を含み、前記カテゴリの異同を判断する工程は、前記第1処理条件情報および前記第2処理条件情報に基づいて前記第1および第2基板に対する処理条件の異同を判断する工程(S132a,S134a,140a)を含む。
たとえば、基板処理装置が複数の温度に切り換えて処理液を供給可能な処理液供給ユニット(CC1)を備えている場合を考える。ただし、処理液の温度の変更は瞬時に行うことはできず、処理液の温度の変更には、温度調整のための一定以上の時間が必要である。このような場合には、等しい処理液温度での基板処理を規定する複数のプロセスジョブを連続して処理することができれば、生産性を向上できる可能性が高い。
基板処理装置が複数の処理ユニットを備えている場合に、処理条件の変更が複数の処理ユニットにおいて共通に生じる場合がある。具体的には、処理液供給ユニットが複数の処理ユニットに対して共通に処理液を供給するように構成されている場合が一つの例である。この場合、プロセスジョブ1を或る処理ユニットで計画すると、当該処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットが処理液を供給する他の処理ユニットにおいても処理条件が切り換わる。このように、第1プロセスジョブを或る処理ユニットに対して計画することによって他の処理ユニットの処理条件が変化する場合には、処理条件が変化する複数の処理ユニットについて他の処理条件のプロセスジョブの計画を禁止するように禁止属性情報が生成されることが好ましい。
この発明の一実施形態では、前記属性情報生成工程が、前記第1プロセスジョブの実行のために無効となる処理条件を表す無効条件情報を生成する工程(S131)であり、前記第2処理スケジューリング工程が、前記無効条件情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブの処理条件と前記第2プロセスジョブの処理条件との異同を判断する処理条件判断工程(S132a,S134a,140a)と、前記処理条件判断工程において、前記第1および第2プロセスジョブの処理条件が異なると判断された場合には、前記無効条件情報が解除されるまで、前記第2処理スケジュールの作成を留保する工程(S133)とを含む。
この発明の一実施形態では、前記属性情報生成手段は、前記第1プロセスジョブのカテゴリである基板の種類、レシピで指定された処理液の種類、およびレシピで指定された処理液の温度のうちの少なくとも一つに基づいて属性情報を生成する。
この発明の一実施形態では、前記属性情報生成手段が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成する。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図であり、図2はその図解的な側面図である。この基板処理装置は、インデクサセクション1と、処理セクション2と、薬液キャビネットCC1とを含む。処理セクション2は、インデクサセクション1との間で基板Wを受け渡しするための受け渡しユニットPASSを備えている。インデクサセクション1は、未処理の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡し、受け渡しユニットPASSから処理済みの基板Wを受け取る。処理セクション2は、受け渡しユニットPASSから未処理の基板Wを受け取って、その基板Wに対して、処理剤(処理液または処理ガス)を用いた処理、紫外線等の電磁波を用いた処理、物理洗浄処理(ブラシ洗浄、スプレーノズル洗浄等)などの各種の処理を施す。そして、処理セクション2は、処理後の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡す。
ステージST1〜ST4は、複数枚の基板W(たとえば半導体ウエハ)を積層状態で収容した基板収容器Cをそれぞれ保持することができる基板収容器保持部である。基板収容器Cは、基板Wを密閉した状態で収納するFOUP(Front Opening Unified Pod)であってもよいし、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等であってもよい。たとえば、基板収容器CをステージST1〜ST4に載置したとき、基板収容器Cでは、水平姿勢の複数枚の基板Wが互いに間隔を開けて鉛直方向に積層された状態となる。
処理ユニットSPIN1〜SPIN12は、この実施形態では、立体的に配置されている。より具体的には、三層構造をなすように複数の処理ユニットSPIN1〜SPIN12が配置されており、各層部分に4つの処理ユニットが配置されている。すなわち、第1層部分に4つの処理ユニットSPIN1,SPIN4,SPIN7,SPIN10が配置され、第2層部分に別の4つの処理ユニットSPIN2,SPIN5,SPIN8,SPIN11が配置され、第3層部分にさらに別の処理ユニットSPIN3,SPIN6,SPIN9,SPIN12が配置されている。
記憶部23に記憶されたプログラム30は、制御部21をスケジューリング機能部25として作動させるためのスケジュール作成プログラム31と、制御部21を処理実行指示部26として作動させるための処理実行プログラム32とを含む。
レシピは、基板処理内容を定義したデータであり、基板処理条件および基板処理手順を含む。より具体的には、基板種情報、並行処理ユニット情報、使用処理液情報、処理時間情報等を含む。基板種情報は、処理対象の基板の種類を表す情報である。基板の種類の具体例は、製品を作り込むために使用される製品基板、処理ユニットのメンテナンス等のために使用され、製品の製造には使用されない非製品基板などである。並行処理ユニット情報とは、使用可能な処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報であり、指定された処理ユニットによる並行処理が可能であることを表す。換言すれば、指定処理ユニットのうちの一つが使用できないときには、それ以外の指定処理ユニットによる代替が可能であることを表す。「使用できないとき」とは、当該処理ユニットが別の基板Wの処理のために使用中であるとき、当該処理ユニットが故障中であるとき、オペレータが当該処理ユニットで基板Wの処理をさせたくないと考えているとき、などである。使用処理液情報とは、基板処理のために用いる処理液の種類を指定する情報である。具体例は、薬液の種類および薬液の温度を指定する情報である。処理時間情報とは、処理液を供給する継続時間などである。使用処理液情報および処理時間情報は、処理条件情報の例である。
一方、図4に示すように、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブデータに基づいて、プロセスジョブのカテゴリを判別する(ステップS4)。カテゴリとは、処理の種別である。より具体的には、処理対象の基板の種類は、カテゴリの一つの例である。カテゴリの他の例は、基板の処理条件である。より具体的には、プロセスジョブデータ中のレシピで指定された処理液(とくに薬液)の種類、処理液の温度などが基板の処理条件の例である。
薬液キャビネットCC1が同時に異なる2つ以上の温度の薬液供給が不可能な構成の場合には、同時には1種類の温度の薬液供給のみが計画可能である。異なる温度の薬液を供給するためには、タンク3(図2参照)内の薬液の温度を変更するための調節が必要である。したがって、異なる温度の薬液供給は、異なる時間に計画される必要がある。より具体的には、薬液温度の変更に要する充分な時間を空けた異なる期間に計画される必要がある。したがって、或る温度の薬液の使用が計画されている期間には、他の温度の薬液を使うプロセスジョブの計画は禁止される。この実施形態では、全ての処理ユニットSPIN1〜SPIN12に対して、一つの薬液キャビネットCC1からの薬液が供給されるように構成されており、かつ薬液キャビネットCC1は同時には一種類のみの温度の薬液供給が可能である。そこで、或る温度の薬液の使用がいずれかの処理ユニットに対して計画されると、いずれの処理ユニットにおいても、他の温度の薬液使用の計画は禁止される。
作成された仮タイムテーブルは、スケジュールデータ50の一部として記憶部23に格納される(図4のステップS7)。同様の仮タイムテーブルが同じプロセスジョブ符号が付与された基板Wの全てに対応して作成される(ステップS8)。仮タイムテーブルの作成段階では、別の基板Wに関するブロックとの干渉(時間軸上での重なり合い)は考慮されない。
図5は、全体スケジューリング(図4のステップS10)の詳細を説明するためのフローチャートである。スケジューリング機能部25は、基板Wの仮タイムテーブルを記憶部23から読み出して、その仮タイムテーブルを構成しているブロックを時間軸上に配置していく。
仮タイムテーブルを構成するブロックを配置すべき少なくとも一つのリソースが使用不可能であるときは(ステップS22:NO)、スケジューリング機能部25は、計画中の基板に係るプロセスジョブの計画全体を留保する(ステップS28)。そして、次のプロセスジョブデータがある場合には(ステップS29:YES)、スケジューリング機能部25は、次のプロセスジョブデータの仮タイムテーブルを記憶部23から読み出して(ステップS30)、ステップS22からの処理を繰り返す。次のプロセスジョブデータとは、受信時間が次のプロセスジョブデータである。次のプロセスジョブデータがなければ(ステップS29:NO)、スケジューリング機能部25の処理は、ステップS27に移る。
図6は、製品リソース占有状態設定(図5のステップS24)に関連する処理を説明するためのフローチャートである。スケジューリング機能部25は、処理を計画している基板が非製品基板かどうかを判断する(ステップS41)。非製品基板の場合には(ステップS41:YES)、スケジューリング機能部25は、さらに、最初の非製品基板かどうかを判断する(ステップS42)。具体的には、スケジューリング機能部25は、同じ処理ユニットに対して直前に処理が計画された基板が製品基板であれば、最初の非製品基板であると判断する。さもなければ(同じ処理ユニットに対して直前に処理が計画された基板がない場合を含む)、スケジューリング機能部25は、最初の非製品基板ではないと判断する。最初の非製品基板の場合には(ステップS42:YES)、スケジューリング機能部25は、当該非製品基板の処理を計画した処理ユニットに対応する製品リソースの以後の全期間を占有状態に設定する(ステップS43)。したがって、その占有状態の製品リソースを使う仮タイムテーブルの計画はできなくなる(図5のステップS22参照)。すなわち、最初の非製品基板の処理を計画した処理ユニットに対して、製品基板の処理の計画が禁止される。このように、製品リソースを占有状態に設定すること(ステップS43)は、対応する処理ユニットに対して製品基板の処理の計画を禁止する禁止属性情報を生成することに相当する。
最初の非製品基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリングを終えた後に、次の非製品基板のプロセスジョブデータの受信までに長い待機時間が生じるときには、ステップS41,S42の判断に依らずに、製品リソースの占有状態を解除してもよい。たとえば、最初の非製品基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、一定の待機時間内に次の非製品基板のプロセスジョブデータが受信されないときに、非製品リソースの占有状態を解除してもよい。また、最初の非製品基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、製品基板の処理を指定する一定数以上のプロセスジョブデータの受信が連続した場合に、非製品リソースの占有状態を解除してもよい。また、最初の非製品基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、一定枚数以上の製品基板のスケジューリングを完了するまで次の非製品基板のプロセスジョブデータが受信されないときに、非製品リソースの占有状態を解除してもよい。
或る薬液温度リソースを使う最初の基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリングを終えた後に、次の同じ薬液温度リソースを使う次の基板のプロセスジョブデータの受信までに長い待機時間が生じるときには、ステップS51,S52の判断に依らずに、他の薬液温度リソースの占有状態を解除してもよい。たとえば、或る薬液温度リソースを使う最初の基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、一定の待機時間内に同じ薬液温度リソースを使う次の基板のプロセスジョブデータが受信されないときに、他の薬液温度リソースの占有状態を解除してもよい。また、或る薬液温度リソースを使う最初の基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、他の薬液温度リソースを使う一定数以上のプロセスジョブデータの受信が連続した場合に、他の薬液温度リソースの占有状態を解除してもよい。また、或る薬液温度リソースを使う最初の基板の処理を含むプロセスジョブのスケジューリング終了後、他の薬液温度リソースを使う一定枚数以上の基板処理を指定する一つ以上のプロセスジョブデータが受信されたときに、他の薬液温度リソースの占有状態を解除してもよい。
以下のような内容のレシピを有するプロセスジョブPJ1,PJ2,PJ3,PJ4の情報(プロセスジョブデータ)をこの順序でホストコンピュータ24から受信し、処理のスタートを指示された場合について説明する(ステップS101,S102,S103,S104)。
PJ2:SPIN1〜SPIN2で2枚の製品基板を並行処理
PJ3:SPIN1で1枚の非製品基板を処理
PJ4:SPIN1〜SPIN2で2枚の製品基板を並行処理
使用者の意図は、処理ユニットSPIN1に関しては、製品基板を用いた処理を間に挟むことなく非製品基板を用いた内部洗浄処理等を2回連続して行うことである。たとえば、非製品基板をスピンチャック15に保持させた状態で処理液ノズル16から純水を吐出することで、処理ユニットSPIN1の内部を洗浄することができる。非製品基板を用いた内部洗浄処理の回数は、たとえば、製品基板に対して処理を行うときに要求される処理ユニット内部の清浄度に依存する。すなわち、その回数は、使用者が必要に応じて設定する。たとえば、準備できる非製品基板の枚数の制限などのために、2枚の非製品基板に対する処理を一つのプロセスジョブにまとめることができなかったり、連続する2つのプロセスジョブで非製品基板の使用を指定できなかったりすることがある。このような場合でも、この基板処理装置は、2枚以上の非製品基板による連続処理を実現する。
図11A〜図14は、全体スケジューリングの例を示す。
プロセスジョブPJ3の最後の基板の仮タイムテーブルを構成する全てのブロックの配置を終えると、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ3が非製品基板を基板種として指定する最後のプロセスジョブかどうかを判断する(ステップS114)。たとえば、スケジューリング機能部25は、受信済みのプロセスジョブデータを参照して、スケジューリングが未了のプロセスジョブのなかに非製品基板を基板種として指定しているものがあるかどうかを判断してもよい。また、プロセスジョブPJ3のためのプロセスジョブデータが、非製品基板を指定する最後のプロセスジョブであることを表す情報を有していてもよい。この場合、スケジューリング機能部25は、その情報に基づいて、プロセスジョブPJ3が非製品基板の最後のプロセスジョブかどうかを判断できる。
処理実行指示部26は、プロセスジョブPJ4のスケジューリング完了後、プロセスジョブPJ4に対して作成されたスケジュールに従って任意のタイミングで基板処理装置のリソースを作動させる。
次に、スケジューリングの第2の具体例について、図15A、図15Bおよび図15C等を参照して説明する。
PJ1:SPIN1〜SPIN2で、CC1の薬液を60℃で使用して1枚の基板を処理
PJ2:SPIN1〜SPIN2で、CC1の薬液を80℃で使用して1枚の基板を処理
PJ3:SPIN1〜SPIN2で、CC1の薬液を60℃で使用して1枚の基板を処理
PJ4:SPIN1〜SPIN2で、CC1の薬液を80℃で使用して1枚の基板を処理
前述のとおり、薬液キャビネットCC1は、タンク3に貯留された薬液の温度を調節する温度調節ユニット4を備えている。しかし、温度調節ユニット4はタンク3内の薬液の温度を瞬時に変更できるわけではなく、たとえば、薬液の温度を60℃と80℃との間で変更するには、相応の時間(たとえば数時間)が必要である。したがって、薬液温度を変更し、変更後の薬液温度で安定した薬液供給を行える状態になるまでの待機時間には、基板を処理することができない。したがって、基板処理装置のダウンタイムが長くなり、生産性が悪くなる。
薬液キャビネットCC1は、同時に一つの処理ユニットのみに対して薬液が供給可能に構成されていてもよいし、複数の処理ユニットに対して薬液を供給できる能力を備えていてもよい。以下では、薬液キャビネットCC1は、少なくとも2つ(たとえば12個全部)の処理ユニットに対して同時に薬液を供給できる能力を備えている場合を想定する。
スケジューリング機能部25は、プロセスジョブデータを受信した順序に、各プロセスジョブの仮タイムテーブルを用いてスケジューリングを実行する(処理スケジューリング工程)。すなわち、スケジューリング機能部25は、まず、プロセスジョブPJ1の仮タイムテーブルから取得されたブロックを対応するリソースのスペースに時間軸上において最も早い位置に(すなわち前詰めで)順に配置していく(ステップS129。第1処理スケジューリング工程)。このとき、スケジューリング機能部25は、同一のリソースのスペースでブロックが重なり合わないように各ブロックを配置する。プロセスジョブPJ1は1枚の基板に対する処理を処理ユニットSPIN1またはSPIN2で行うべきことを指定する処理である。処理ユニットSPIN1,SPIN2のいずれにおいても処理が計画されていないときには、処理ブロックはいずれの処理ユニットに対応させてもよい。図17には、処理ブロックを処理ユニットSPIN1に対応するように配置した例を示す(ステップS129a)。
プロセスジョブPJ1に対するスケジューリング(ステップS129)の後、スケジューリング機能部25は、それが60℃の薬液温度での1枚目の基板を含むプロセスジョブの処理スケジューリングであると判断する(ステップS130)。そこで、スケジューリング機能部25は、次の基板の処理を計画する前に、図18に示すように、プロセスジョブPJ1で使用されない「CC1薬液80℃」リソースを占有状態とし、それによって、「CC1薬液80℃」リソースを無効化する(ステップS131。禁止属性情報の生成)。これは、薬液キャビネットCC1が、プロセスジョブPJ1の開始以降の全ての期間において、80℃の薬液供給のための使用が不可能な状態であることを表す。これにより、「CC1薬液80℃」リソースへの薬液温度ブロックの配置が禁止される。それによって、80℃の薬液を用いたプロセスジョブの計画が禁止される。「CC1薬液60℃」リソースは未占有の期間があるので、60℃の薬液を用いる別の基板処理の計画は許容される。
次に、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ1の次に情報(プロセスジョブデータ)が受信されたプロセスジョブPJ2に対するスケジューリングを開始する(ステップS132。第2処理スケジューリング工程)。プロセスジョブPJ2のレシピは、2つの処理ユニットSPIN1〜SPIN2のいずれかでの1枚の基板の処理を指定している。プロセスジョブPJ2について作成された仮タイムテーブルは、処理ユニットSPIN1およびSPIN2のいずれを使う仮タイムテーブルにおいても、「CC1薬液80℃」リソースに配置すべき「80℃薬液」ブロックを含む。ところが、「CC1薬液80℃」リソースは全期間において占有状態となっているため、「80℃薬液」ブロックを配置することができない(ステップS132a)。よって、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ2の計画を留保する(ステップS133)。
もしも、プロセスジョブPJ3が2枚以上の基板に対する処理である場合には、2枚目以降の基板に対しても同様にして処理ユニットSPIN1またはSPIN2での処理が繰り返し計画される。
次に、スケジューリング機能部25は、未計画のプロセスジョブPJ2,PJ4のうち、最先に受信したプロセスジョブPJ2に対するスケジューリングを開始する(ステップS137。第1処理スケジューリング工程)。プロセスジョブPJ2のレシピは、2つの処理ユニットSPIN1またはSPIN2での1枚の基板の処理を指定し、80℃の薬液の使用を指定しているので、仮タイムテーブルは「80℃薬液」ブロックを含む。「CC1薬液80℃」リソースの占有状態が開放されているので、プロセスジョブPJ2の仮タイムテーブルの全てのブロックが配置可能である。しかし、前述のとおり、薬液温度の変更には時間を要するので、スケジューリング機能部25は、図21に示すように、プロセスジョブPJ3の最後の薬液供給ブロックの後に、薬液キャビネットCC1に対応して、液交換(温度調節)ブロックを配置する(ステップS137a)。これにより、薬液キャビネットCC1における薬液温度の変更が計画される。
もしも、プロセスジョブPJ2が2枚以上の基板に対する処理である場合には、2枚目以降の基板に対しても同様にして処理ユニットSPIN1またはSPIN2での処理が繰り返し計画される。この場合、処理ブロックがより早い時刻に配置できるように、処理ユニットSPIN1またはSPIN2のいずれかを用いる仮タイムテーブルが選択される。
図23の例では、プロセスジョブPJ2のために処理ユニットSPIN1が用いられているので、処理ユニットSPIN2を用いるよりも処理ユニットSPIN2を用いる方が処理ブロックを早い時刻に配置できる。そこで、スケジューリング機能部25は、処理ユニットSPIN2を用いる仮タイムテーブルを採用し、その仮タイムテーブルを構成するブロックを、同一リソースの他のブロックと重複しないように時間軸上で前詰めに配置していく。これにより、処理ブロックが処理ユニットSPIN2に配置される。
もしも、プロセスジョブPJ4が2枚以上の基板に対する処理である場合には、2枚目以降の基板に対しても同様にして処理ユニットSPIN1またはSPIN2での処理が繰り返し計画される。
PJ1:薬液を60℃で使用して基板を処理
PJ2:薬液を60℃で使用して基板を処理
PJ3:薬液を80℃で使用して基板を処理
PJ4:薬液を60℃で使用して基板を処理
プロセスジョブPJ1,PJ2はいずれも60℃の薬液を使用するので、その順序で計画される。プロセスジョブPJ3は80℃の薬液を使用するので、プロセスジョブPJ1,PJ2の実行後に液交換(温度調節)が必要になる。そこで、図25(b)(実施例)に示すように、60℃の薬液を使用するプロセスジョブPJ4を先行して実行することにより、液交換(温度調節)が一回だけとなり、プロセスジョブPJ1〜PJ4の全体の処理時間を短縮できる。
液交換(温度調節)ブロックの時間だけ待機してプロセスジョブPJ4のプロセスジョブデータを受信し、プロセスジョブPJ4をプロセスジョブPJ3に先行して計画した例を図25(c)(実施例)に示す。この場合、プロセスジョブPJ1〜PJ4を受信順に計画して最短で処理を終える図25(a)の比較例の場合とほぼ同時刻にプロセスジョブPJ1〜PJ4の処理が終わる。
また、液交換ブロックに等しい待機時間を設定した場合に、その待機時間後にプロセスジョブPJ4のプロセスジョブデータを受信したときには、図25(e)(実施例)に示すように、プロセスジョブPJ3がプロセスジョブPJ4よりも前に計画されることになる。その結果、2回の液交換ブロックの配置が必要になり、全体の処理時間は、図25(a)の比較例よりも長くなる。
以上、この発明の一実施形態について説明してきたが、この発明はさらに他の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態で示した基板処理装置の構成や基板処理内容は一例に過ぎず、基板処理装置は他の構成を採ることができ、かつ別の基板処理内容に対してもこの発明を適用できる。
また、前述の実施形態では、レシピにおいて処理ユニットが指定されている例について説明したが、プロセスジョブデータは、処理ユニット指定情報を含んでいなくてもよい。この場合、スケジューリング機能部25は、レシピに基づいて、基板処理に使用すべき処理ユニットを特定すればよい。
処理対象の基板の種類はとくに限定されるものではなく、半導体基板、ガラス基板等に代表される基板一般に対して、この発明の適用が可能である。
PASS 受け渡しユニット
ST1〜ST4 ステージ
IR インデクサロボット
SPIN1〜SPIN12 処理ユニット
CC1 薬液キャビネット
CR 主搬送ロボット
C 基板収容器
G1〜G4 第1〜第4処理ユニット群
1 インデクサセクション
2 処理セクション
3 タンク
4 温度調節ユニット
5 ポンプ
6 基台部
7 多関節アーム
8A,8B ハンド
11 基台部
12 多関節アーム
13A,13B ハンド
15 スピンチャック
16 処理液ノズル
17 処理室
20 コンピュータ
21 制御部
22 出入力部
23 記憶部
24 ホストコンピュータ
25 スケジューリング機能部
26 処理実行指示部
30 プログラム
31 スケジュール作成プログラム
32 処理実行プログラム
40 プロセスジョブデータ
50 スケジュールデータ
Claims (20)
- 基板処理を実行するための処理ユニットを備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信工程と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1受信工程よりも後に受信する第2受信工程と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング工程と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成工程と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング工程と、
を含み、
前記属性情報生成工程が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成する工程を含む、基板処理方法。 - 前記第2処理スケジューリング工程が、
前記禁止属性情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブのカテゴリと前記第2プロセスジョブのカテゴリとの異同を判断する工程と、
前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが同じであれば、前記処理ユニットにおいて前記第2プロセスジョブを実行する第2処理スケジュールの作成を許容し、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが異なれば、前記処理ユニットにおいて前記第2プロセスジョブを実行する第2処理スケジュールの作成を禁止する工程とを含む、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記第1プロセスジョブ情報が前記第1基板の種類を表す第1基板種情報を含み、
前記第2プロセスジョブ情報が前記第2基板の種類を表す第2基板種情報を含み、
前記カテゴリの異同を判断する工程は、前記第1基板種情報および前記第2基板種情報に基づいて前記第1および第2基板の種類の異同を判断する工程を含む、請求項2に記載の基板処理方法。 - 前記第1プロセスジョブ情報が前記第1基板に対する処理条件を表す第1処理条件情報を含み、
前記第2プロセスジョブ情報が前記第2基板に対する処理条件を表す第2処理条件情報を含み、
前記カテゴリの異同を判断する工程は、前記第1処理条件情報および前記第2処理条件情報に基づいて前記第1および第2基板に対する処理条件の異同を判断する工程を含む、請求項2または3に記載の基板処理方法。 - 基板処理を実行するための処理ユニットを備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信工程と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1受信工程よりも後に受信する第2受信工程と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング工程と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成工程と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング工程と、
を含み、
前記第1処理スケジューリング工程が、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する第1処理ユニット特定工程を含み、
前記属性情報生成工程が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記第1処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成する工程であり、
前記第2処理スケジューリング工程が、前記禁止属性情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブのカテゴリと前記第2プロセスジョブのカテゴリとの異同を判断するカテゴリ判断工程と、前記カテゴリ判断工程の判断結果に基づいて前記第2基板に対する処理を実行する第2処理ユニットを特定する第2処理ユニット特定工程とを含み、
前記第2処理ユニット特定工程が、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが同じであれば、前記第1処理ユニットを前記第2処理ユニットとして特定し、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが異なれば、前記第1処理ユニットとは異なる処理ユニットを前記第2処理ユニットとして特定する、基板処理方法。 - 基板処理を実行するための処理ユニットを備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信工程と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1受信工程よりも後に受信する第2受信工程と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング工程と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成工程と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング工程と、
を含み、
前記属性情報生成工程が、前記第1プロセスジョブの実行のために無効となる処理条件を表す無効条件情報を生成する工程であり、
前記第2処理スケジューリング工程が、前記無効条件情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブの処理条件と前記第2プロセスジョブの処理条件との異同を判断する処理条件判断工程と、前記処理条件判断工程において、前記第1および第2プロセスジョブの処理条件が異なると判断された場合には、前記無効条件情報が解除されるまで、前記第2処理スケジュールの作成を留保する工程とを含む、基板処理方法。 - 前記第1プロセスジョブ情報が、前記第1基板に対する処理の内容を規定した第1レシピを含み、
前記第1処理スケジューリング工程が、前記第1レシピに基づいて、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記第1プロセスジョブ情報が、前記第1基板に対する処理を実行すべき処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報を含み、
前記第1処理スケジューリング工程が、前記処理ユニット指定情報に基づいて、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 基板処理を実行するための処理ユニットを備えた基板処理装置における基板処理方法であって、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信工程と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1受信工程よりも後に受信する第2受信工程と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング工程と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリである基板の種類、レシピで指定された処理液の種類、およびレシピで指定された処理液の温度のうちの少なくとも一つに基づいて属性情報を生成する属性情報生成工程と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング工程と、
を含む、基板処理方法。 - 前記属性情報生成工程が、前記第2処理スケジューリング工程の前に実行される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 基板処理を実行するための処理ユニットと、
前記処理ユニットを制御する制御ユニットとを含み、
前記制御ユニットが、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信手段と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1プロセスジョブ情報の受信よりも後に受信する第2受信手段と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング手段と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成手段と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング手段と、
を含み、
前記属性情報生成手段が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成する、基板処理装置。 - 前記第2処理スケジューリング手段が、
前記禁止属性情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブのカテゴリと前記第2プロセスジョブのカテゴリとの異同を判断する手段と、
前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが同じであれば、前記処理ユニットにおいて前記第2プロセスジョブを実行する第2処理スケジュールの作成を許容し、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが異なれば、前記処理ユニットにおいて前記第2プロセスジョブを実行する第2処理スケジュールの作成を禁止する手段とを含む、請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記第1プロセスジョブ情報が前記第1基板の種類を表す第1基板種情報を含み、
前記第2プロセスジョブ情報が前記第2基板の種類を表す第2基板種情報を含み、
前記カテゴリの異同を判断する手段は、前記第1基板種情報および前記第2基板種情報に基づいて前記第1および第2基板の種類の異同を判断する、請求項12に記載の基板処理装置。 - 前記第1プロセスジョブ情報が前記第1基板に対する処理条件を表す第1処理条件情報を含み、
前記第2プロセスジョブ情報が前記第2基板に対する処理条件を表す第2処理条件情報を含み、
前記カテゴリの異同を判断する手段は、前記第1処理条件情報および前記第2処理条件情報に基づいて前記第1および第2基板に対する処理条件の異同を判断する、請求項12または13に記載の基板処理装置。 - 基板処理を実行するための処理ユニットと、
前記処理ユニットを制御する制御ユニットとを含み、
前記制御ユニットが、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信手段と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1プロセスジョブ情報の受信よりも後に受信する第2受信手段と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング手段と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成手段と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング手段と、
を含み、
前記第1処理スケジューリング手段が、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する第1処理ユニット特定手段を含み、
前記属性情報生成手段が、前記第1プロセスジョブのカテゴリとは異なるカテゴリのプロセスジョブの前記第1処理ユニットにおける実行を禁止する禁止属性情報を生成し、
前記第2処理スケジューリング手段が、前記禁止属性情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブのカテゴリと前記第2プロセスジョブのカテゴリとの異同を判断するカテゴリ判断手段と、前記カテゴリ判断手段の判断結果に基づいて前記第2基板に対する処理を実行する第2処理ユニットを特定する第2処理ユニット特定手段とを含み、
前記第2処理ユニット特定手段が、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが同じであれば、前記第1処理ユニットを前記第2処理ユニットとして特定し、前記第1および第2プロセスジョブのカテゴリが異なれば、前記第1処理ユニットとは異なる処理ユニットを前記第2処理ユニットとして特定する、基板処理装置。 - 基板処理を実行するための処理ユニットと、
前記処理ユニットを制御する制御ユニットとを含み、
前記制御ユニットが、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信手段と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1プロセスジョブ情報の受信よりも後に受信する第2受信手段と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング手段と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリに基づいて属性情報を生成する属性情報生成手段と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング手段と、
を含み、
前記属性情報生成手段が、前記第1プロセスジョブの実行のために無効となる処理条件を表す無効条件情報を生成し、
前記第2処理スケジューリング手段が、前記無効条件情報が生成されている場合に、前記第1プロセスジョブの処理条件と前記第2プロセスジョブの処理条件との異同を判断する処理条件判断手段と、前記処理条件判断手段において、前記第1および第2プロセスジョブの処理条件が異なると判断された場合には、前記無効条件情報が解除されるまで、前記第2処理スケジュールの作成を留保する手段とを含む、基板処理装置。 - 前記第1プロセスジョブ情報が、前記第1基板に対する処理の内容を規定した第1レシピを含み、
前記第1処理スケジューリング手段が、前記第1レシピに基づいて、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する、請求項11〜16のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1プロセスジョブ情報が、前記第1基板に対する処理を実行すべき処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報を含み、
前記第1処理スケジューリング手段が、前記処理ユニット指定情報に基づいて、前記第1基板に対する処理を実行する第1処理ユニットを特定する、請求項11〜16のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 基板処理を実行するための処理ユニットと、
前記処理ユニットを制御する制御ユニットとを含み、
前記制御ユニットが、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第1基板に対する処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報を受信する第1受信手段と、
外部コンピュータから、1枚または複数枚の第2基板に対する処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報を、前記第1プロセスジョブ情報の受信よりも後に受信する第2受信手段と、
前記第1プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第1処理スケジュールを作成する第1処理スケジューリング手段と、
前記第1プロセスジョブのカテゴリである基板の種類、レシピで指定された処理液の種類、およびレシピで指定された処理液の温度のうちの少なくとも一つに基づいて属性情報を生成する属性情報生成手段と、
前記第2プロセスジョブ情報および前記属性情報に基づいて、前記第2プロセスジョブを前記処理ユニットで実行するための第2処理スケジュールを作成する第2処理スケジューリング手段と、
を含む、基板処理装置。 - 前記属性情報生成手段が、前記第2処理スケジューリング手段が前記第2処理スケジュールを作成する前に前記属性情報を生成する、請求項11〜19のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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