JP7112836B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 470
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 329
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 460
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 447
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 91
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 14
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 164
- 101710165590 Mitochondrial pyruvate carrier 1 Proteins 0.000 description 33
- 102100024828 Mitochondrial pyruvate carrier 1 Human genes 0.000 description 33
- 101710101695 Probable mitochondrial pyruvate carrier 1 Proteins 0.000 description 33
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 28
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- 101710165595 Mitochondrial pyruvate carrier 2 Proteins 0.000 description 4
- 102100025031 Mitochondrial pyruvate carrier 2 Human genes 0.000 description 4
- 101710101698 Probable mitochondrial pyruvate carrier 2 Proteins 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 4
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 4
- 238000012384 transportation and delivery Methods 0.000 description 4
- 101001051031 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) Mitochondrial pyruvate carrier 3 Proteins 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 101100238324 Arabidopsis thaliana MPC4 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
コントロールジョブは、ロットに対して基板処理装置が実行すべき処理である。コントロールジョブ情報とは、コントロールジョブの内容を規定する情報である。したがって、コントロールジョブ情報によって、ロットが規定され、かつそのロットに対する処理内容が規定されるということもできる。一つのコントロールジョブは、一つまたは複数のプロセスジョブを含む。それに応じて、コントロールジョブ情報は、一つまたは複数のプロセスジョブ情報を含む。
基板処理装置は、複数の処理ユニットを含んでいてもよい。この場合、レシピは、処理をすべき1または複数の処理ユニットを指定する処理ユニット指定情報を含んでいてもよい。
この発明では、第1コントロールジョブに含まれる全てのプロセスジョブが完了する前に第2コントロールジョブに含まれるプロセスジョブが実行される場合がある。より具体的には、第1コントロールジョブに含まれるプロセスジョブと共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブが第2コントロールジョブに含まれている場合に、コントロールジョブの枠を超えて、プロセスジョブの順序が入れ替えられる。すなわち、第1コントロールジョブが異なる属性のレシピが指定された第1プロセスジョブおよび第2プロセスジョブを含み、第2コントロールジョブが第1プロセスジョブのレシピと共通属性を有するレシピが指定された第3プロセスジョブを有する場合を考える。この場合、第1プロセスジョブ、第3プロセスジョブ、第2プロセスジョブの順にプロセスジョブを実行する計画が策定される。すなわち、第1コントロールジョブの完了よりも前に、第2コントロールジョブのプロセスジョブが割り込む。それにより、コントロールジョブの枠を超えてプロセスジョブの順序が入れ替えられ、共通属性のレシピが指定されたプロセスジョブをまとめて(連続して)実行できる。これにより、レシピの属性の切り替わり回数を減らすことができるので、生産効率の高い基板処理を実現できる。
この方法では、準備工程を必要とする属性に着目してレシピを分類し、共通属性のレシピを指定したプロセスジョブをまとめて(連続して)実行することができる。それにより、レシピの切替えに際して必要となる準備工程の回数を少なくできるから、生産効率の高い基板処理を実現できる。
「割込実行を計画する」とは、或るプロセスジョブの実行順序を繰り上げて割り込ませるように計画変更することをいう。
処理の継続状況は、一つの属性の処理の継続時間、処理の繰り返し回数などであってもよい。処理の繰り返し回数とは、一つの属性の処理を連続して施した基板枚数、プロセスジョブの数、またはコントロールジョブの数であってもよい。
この方法では、割込スケジューリングによって計画されたプロセスジョブに続いて、そのプロセスジョブのレシピと共通属性のレシピを指定したプロセスジョブの実行が計画される。これにより、プロセスジョブの割込実行を許容しながら、属性の切り替わりを抑制できる。したがって、割込スケジューリングによって適切な基板処理を確保しながら、処理効率の向上を図ることができる。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットを含み、前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、前記第1レシピおよび第3レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第2レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している。
処理液条件は、処理液の種類および処理液の温度の一方または両方を含んでいてもよい。
この発明の一実施形態では、共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記基板処理装置が、異なる属性のレシピによって処理すべき基板に対する処理を実行する。
この発明は、また、基板処理装置に備えられるコンピュータによって実行されるプログラムであって、前記基板処理装置において、前述のような特徴を有する基板処理方法を実行するようにステップ群が組みこまれたコンピュータプログラムを提供する。このコンピュータプログラムを基板処理装置に備えられたコンピュータによって実行させることによって、前述のような処理効率の高い基板処理方法を実現できる。
この発明の一実施形態では、前記スケジューリング手段が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、使用者による割込実行条件の入力を受け付ける手段をさらに含み、前記スケジューリング手段が、前記割込スケジューリングにおいて、前記受け付けられた割込実行条件を適用する。
この発明の一実施形態では、共通属性のレシピによる継続状況が所定の閾値に達すると、前記制御ユニットが、異なる属性のレシピによって処理すべき基板を前記基板搬送手段によって前記処理ユニットに搬送して処理させる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す図解的な平面図であり、図2はその図解的な側面図である。この基板処理装置は、インデクサセクション1と、処理セクション2と、薬液キャビネットCC1とを含む。処理セクション2は、インデクサセクション1との間で基板Wを受け渡しするための受け渡しユニットPASSを備えている。インデクサセクション1は、未処理の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡し、受け渡しユニットPASSから処理済みの基板Wを受け取る。処理セクション2は、受け渡しユニットPASSから未処理の基板Wを受け取って、その基板Wに対して、処理剤(処理液または処理ガス)を用いた処理、紫外線等の電磁波を用いた処理、物理洗浄処理(ブラシ洗浄、スプレーノズル洗浄等)などの各種の処理を施す。そして、処理セクション2は、処理後の基板Wを受け渡しユニットPASSに渡す。
ステージST1~ST4は、複数枚の基板W(たとえば半導体ウエハ)を積層状態で収容した基板収容器Cをそれぞれ保持することができる基板収容器保持部であり、基板待機場所を提供する。基板収容器Cは、基板Wを密閉した状態で収納するFOUP(Front Opening Unified Pod)であってもよいし、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等であってもよい。たとえば、基板収容器CをステージST1~ST4に載置したとき、基板収容器Cでは、水平姿勢の複数枚の基板Wが互いに間隔を開けて鉛直方向に積層された状態となる。
処理ユニットMPC1~MPC12は、この実施形態では、立体的に配置されている。より具体的には、三層構造をなすように複数の処理ユニットMPC1~MPC12が配置されており、各層部分に4つの処理ユニットが配置されている。すなわち、第1層部分に4つの処理ユニットMPC1,MPC4,MPC7,MPC10が配置され、第2層部分に別の4つの処理ユニットMPC2,MPC5,MPC8,MPC11が配置され、第3層部分にさらに別の処理ユニットMPC3,MPC6,MPC9,MPC12が配置されている。
コントロールジョブデータ40は、一つの基板収容器Cに収容された1枚または複数枚の基板によって定義される処理ロットに付与されたコントロールジョブ(CJ)符号と、一つまたは複数のプロセスジョブデータ41とを含む。プロセスジョブデータ41は、各基板Wに付与されたプロセスジョブ(PJ)符号と、プロセスジョブ符号に対応付けられたレシピとを含む。
制御部21は、各基板収容器C(ロット)に対応するコントロールジョブデータを、ホストコンピュータ24から出入力部22を介して取得し、記憶部23に記憶させる。それによって、制御部21は、コントロールジョブデータに含まれているプロセスジョブデータを取得して、記憶部23に記憶させる。プロセスジョブデータの取得および記憶は、各基板Wに対するスケジューリングが実行されるよりも前に行われればよい。たとえば、基板収容器CがステージST1~ST4に保持された直後に、ホストコンピュータ24から制御部21に当該基板収容器Cに対応するコントロールジョブデータが与えられてもよい。スケジューリング機能部25は、記憶部23に格納されたコントロールジョブデータ40に含まれるプロセスジョブデータ基づいて各プロセスジョブを計画し、その計画を表すスケジュールデータ50を記憶部23に格納する。処理実行指示部26は、記憶部23に格納されたスケジュールデータ50に基づいて、インデクサロボットIR、主搬送ロボットCR、処理ユニットMPC1~MPC12、および薬液キャビネットCC1を制御することにより、基板処理装置にプロセスジョブを実行させる。
一方、図4に示すように、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブデータに基づいて、プロセスジョブの属性を判別し、その属性を表す属性データを記憶部23に記憶する(ステップS4)。属性とは、処理の種別である。より具体的には、処理対象の基板の種類は、属性の一つの例である。属性の他の例は、基板の処理条件である。より具体的には、プロセスジョブデータ中のレシピで指定された処理液(とくに薬液)の種類、処理液の温度などが基板の処理条件の例である。図8に示す仮タイムテーブルの例では、薬液キャビネットCC1から60℃に温度調節された薬液の供給がレシピにおいて指定されている場合を示してある。したがって、この例では、60℃での薬液供給を表す属性データが記憶部23に格納される。
作成された仮タイムテーブルは、スケジュールデータ50の一部として記憶部23に格納される(図4のステップS5)。同様の仮タイムテーブルが同じプロセスジョブ符号が付与された基板Wの全てに対応して作成される。仮タイムテーブルの作成段階では、別の基板Wに関するブロックとの干渉(時間軸上での重なり合い)は考慮されない。
さらに具体的には、スケジューリング機能部25は、割込が発生したかどうかを判断し(ステップS21)、割込の発生がなければ、未計画のプロセスジョブがあるかどうかを判断する(ステップS22)。「未計画のプロセスジョブ」とは、一度も計画されたことのないプロセスジョブのほか、再スケジューリングのための割込が発生した場合には、当該再スケジューリングにおいて未計画のプロセスジョブも含む。つまり、スケジューリング対象のプロセスジョブのうちで未計画のプロセスジョブである。
仮タイムテーブルを読み出したプロセスジョブの属性が現在実行中のプロセスジョブの属性と異なる場合には(ステップS24:NO)、現在実行中のプロセスジョブと属性が共通する未計画のプロセスジョブが存在するかどうかが判断される(ステップS25)。該当するプロセスジョブが存在すれば、当該共通属性のプロセスジョブのうちで受信順序が最先のプロセスジョブの仮タイムテーブルが読み出される(ステップS26)。そして、この仮タイムテーブルに対して、ステップS27の処理が実行される。
割込が発生することによって、未実行の全てのプロセスジョブについての再スケジューリングが行われる。したがって、割込によって優先処理すべきプロセスジョブ(成立した割込実行条件に応じて選択されるプロセスジョブ)についての計画(ステップS27)の後には、その他の未実行のプロセスジョブが未計画のプロセスジョブとして扱われ(ステップS22:YES)、そのスケジューリングが実行される。
図9は、ホストコンピュータ24からコンピュータ20に入力されるコントロールジョブデータの一例を示す。この例では、3つのコントロールジョブCJ1,CJ2,CJ3に対応するコントロールジョブデータが、この順序でコンピュータ20に与えられた場合を想定している。
図10Aは薬液レシピC1が指定されたプロセスジョブPJ11,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ32,PJ33の各基板に対して作成される仮タイムテーブルを示し、図10Bは薬液レシピC2が指定されたプロセスジョブPJ12;PJ31の各基板に対して作成される仮タイムテーブルを示す。
想定している例では、プロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13;PJ21,PJ22,PJ23;PJ31,PJ32,PJ33のレシピデータが、いずれも、一つの処理ユニットMPC1での処理を指定しているので、一つの処理ユニットMPC1での処理を指定して基板に対する処理を行うための仮タイムテーブルが作成される。すなわち、処理ユニットMPC1に処理ブロックをそれぞれ配置した仮タイムテーブルが作成される。処理ブロックは、基板処理のために当該処理ユニットが占有されることを表す。もしも、或るプロセスジョブのレシピが複数の処理ユニットでの並行処理を許容している場合には、当該許容された複数の処理ユニットにそれぞれ処理ブロックを配置した複数の仮タイムテーブルが作成される。
スケジューリング機能部25は、まず、プロセスジョブPJ11の仮タイムテーブルから取得されたブロックを対応するリソースのスペースに時間軸上において最も早い位置に(すなわち前詰めで)順に配置していく。このとき、スケジューリング機能部25は、同一のリソースのスペースでブロックが重なり合わないように各ブロックを配置する。プロセスジョブPJ11は、たとえば1枚の基板に対する処理を処理ユニットMPC1で行うべきことを指定する処理である。そこで、スケジューリング機能部25は、処理ブロックを処理ユニットMPC1に対応するように配置する。
以下、同様にして、プロセスジョブがスケジューリングされていく。
図13は、第1の比較例に係るスケジューリングを示す。説明を簡単にするために、図13では、処理ブロック、薬液供給ブロックおよび準備工程ブロックのみを示す。準備工程ブロックとは、薬液レシピを実行するために必要な準備工程を指示するためのブロックである。より具体的には、薬液レシピC1の実行に先立って、薬液キャビネットCC1内では、薬液を第1の温度(たとえば60℃)に調整するための準備工程が行われる。同様に、薬液レシピC2の実行に先立って、薬液キャビネットCC1内では、薬液を第2の温度(たとえば80℃)に調整するための準備工程が行われる。薬液の温度が調整済みであれば、準備工程を計画する必要はない。
コントロールジョブCJ3は、直前に計画済みのプロセスジョブPJ23のレシピと同じ薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ32,PJ33を含む。そこで、プロセスジョブPJ31よりも前に、プロセスジョブPJ32,PJ33が順に計画され、その後に、薬液レシピC2(第2の温度の薬液)を指定するプロセスジョブPJ31が計画される。それにより、プロセスジョブPJ23,PJ32の処理ブロックの間に準備工程ブロックを配置する必要がなくなる。プロセスジョブPJ33とPJ31との間には、準備工程ブロックが配置される。この準備工程ブロックは、薬液キャビネットCC1において、第2の温度に薬液の温度を調整するための準備工程を指示するブロックである。
図15のスケジューリング例では、コントロールジョブCJ1の中で最初に実行されるプロセスジョブPJ11の実行開始から、最後に実行されるプロセスジョブPJ12の開始までに長時間を要し、それまでに、経過時間(コントロールジョブライフ)が閾値に達するおそれがある。それにより、プロセスジョブPJ11に対応した基板は、処理を終了して基板収容器Cに収容された後、最後のプロセスジョブPJ12の全ての基板が当該基板収容器Cに収容されるまで、長時間に渡って待機状態となる。たとえば、基板収容器Cが開閉蓋を備えている場合に、開閉蓋が長時間に渡って開放状態となり、基板収容器C内の基板が周囲の雰囲気に長時間に渡ってさらされる。図16A~図16Dのスケジューリング例は、このような課題を解決している。
時刻t1にコントロールジョブCJ1が受信されると、スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ11,PJ12,PJ13の実行を計画し、処理実行指示部26はその計画を即時に実行する。この時点では、コントロールジョブCJ2,CJ3は、未受信である。直前にいずれのプロセスジョブも計画されていない場合、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブCJ1の最初のプロセスジョブPJ11を計画する。スケジューリング機能部25は、図16Aに示すように、プロセスジョブPJ11の処理ブロックよりも前(より正確には、薬液供給ブロックよりも前)に、薬液レシピC1のための準備工程ブロックを配置する。スケジューリング機能部25は、プロセスジョブPJ11の次に、共通の薬液レシピC1を指定するプロセスジョブPJ13の実行を計画し、その後に、プロセスジョブPJ12の実行を計画する。プロセスジョブPJ13の処理ブロックとプロセスジョブPJ12の処理ブロックとの間には、薬液レシピC2のための準備工程ブロックが配置される。
この計画に従って処理を実行している間に、図16Cに示すように、プロセスジョブPJ22を実行開始し、プロセスジョブPJ23の実行を開始する前の時刻t11に、コントロールジョブCJ1の実行開始からの経過時間(コントロールジョブライフ)が閾値に到達したとする。すると、スケジューリング機能部25は、コントロールジョブCJ1のうち未実行のプロセスジョブPJ12の割込実行を計画する。
以上、この発明の一実施形態について説明してきたが、この発明は、さらに他の形態で実施することもできる。たとえば、前述の実施形態では、レシピによって規定される属性の例として、主として処理液の温度を例に説明したが、前述のとおり、処理液の種類についても、その変更に際して準備工程が必要な属性の例である。これらの例に限らず、開始または変更に際して準備が必要な属性がレシピで指定されている場合には、その属性が可能な限り連続するようにコントロールジョブの枠を越えてプロセスジョブの実行順序を入れ替えることにより、基板処理装置の生産効率を向上できる。
また、前述の実施形態では、処理セクション2に1台の主搬送ロボットCRが備えられている構成について説明したが、2台以上の主搬送ロボットが備えられていてもよい。それらの2台以上の主搬送ロボットは、それぞれがインデクサロボットIRとの間で直接的に(他の主搬送ロボットを介さずに)基板Wの受け渡しを行うように配置されていてもよい。また、2台以上の主搬送ロボットのうちの少なくとも一台が、他の主搬送ロボットを介してインデクサロボットIRとの間で基板Wをやりとりするように配置されていてもよい。
また、前述の実施形態では、主として、ホストコンピュータ24からコントロールジョブデータが与えられる場合について説明したが、使用者が操作する操作装置(出入力部22の一例)からの指示によってコントロールジョブデータが制御部21に与えられてもよい。
2 :処理セクション
3 :タンク
4 :温度調節ユニット
5 :ポンプ
15 :スピンチャック
16 :処理液ノズル
17 :処理室
20 :コンピュータ
21 :制御部
22 :出入力部
23 :記憶部
24 :ホストコンピュータ
25 :スケジューリング機能部
26 :処理実行指示部
30 :プログラム
31 :スケジュール作成プログラム
32 :処理実行プログラム
40 :コントロールジョブデータ
41 :プロセスジョブデータ
50 :スケジュールデータ
C :基板収容器
C1,C2 :薬液レシピ
CC1 :薬液キャビネット
CJ1~CJ3:コントロールジョブ
CR :主搬送ロボット
G1~G4 :処理ユニット群
IR :インデクサロボット
MPC1~MPC12:処理ユニット
PASS :受け渡しユニット
PJ11~PJ13:プロセスジョブ
PJ21~PJ23:プロセスジョブ
PJ31~PJ33:プロセスジョブ
ST1~ST4:ステージ
W :基板
Claims (17)
- 基板に対する処理を実行する処理ユニットを備えた基板処理装置によって基板を処理する基板処理方法であって、
前記基板処理装置が、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、
前記基板処理装置が、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付ける工程と、を含み、
前記第1コントロールジョブ情報が、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第2レシピによる処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報と、を含み、
前記第2コントロールジョブ情報が、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第3レシピによる処理である第3プロセスジョブを規定する第3プロセスジョブ情報を含み、
前記基板処理方法が、さらに
前記第1レシピおよび前記第3レシピが共通する属性を含み、前記第2レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第2プロセスジョブの間に前記第3プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定するスケジューリング工程と、
前記策定された実行計画に従って前記処理ユニットによって基板を処理する処理実行工程と、を含み、
前記属性が、処理の連続実行が可能かどうかという観点で分類されている、基板処理方法。 - 前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、
前記スケジューリング工程が、前記第3プロセスジョブの後に前記第2レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記スケジューリング工程が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む、請求項1または2に記載の基板処理方法。
- 前記第1コントロールジョブの実行開始からの経過を表すコントロールジョブライフを計測する工程をさらに含み、
前記スケジューリング工程が、前記コントロールジョブライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記第1コントロールジョブに含まれる未処理のプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記第1レシピおよび前記第3レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める工程をさらに含み、
前記スケジューリング工程が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリング工程を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記スケジューリング工程が、前記割込スケジューリング工程によって割込実行が計画されたプロセスジョブに続いて、当該プロセスジョブのレシピと共通する属性を有するプロセスジョブの実行を計画する、請求項3~5のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理装置に対する、使用者による割込実行条件の入力を受け付ける工程をさらに含み、
前記割込スケジューリング工程において、前記受け付けられた割込実行条件が適用される、請求項3~6のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記基板処理装置が、前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットを含み、
前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、
前記第1レシピおよび第3レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第2レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している、請求項1~7のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 基板処理装置に備えられるコンピュータによって実行されるプログラムであって、前記基板処理装置において、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法を実行するようにステップ群が組みこまれたコンピュータプログラム。
- 基板に対する処理を実行する処理ユニットと、
ロットに対する処理であるコントロールジョブを規定するコントロールジョブ情報であって、前記ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する処理であるプロセスジョブを規定するプロセスジョブ情報を含むコントロールジョブ情報の入力を受け付けるコントロールジョブ情報受け付け手段と、
前記プロセスジョブ情報に基づいて、基板に対する処理計画を策定するスケジューリング手段と、
前記スケジューリング手段によって策定された処理計画に従って前記処理ユニットによって基板処理を実行させる処理実行制御手段と、を含み、
前記コントロールジョブ情報受け付け手段が、第1ロットに対する処理である第1コントロールジョブを規定する第1コントロールジョブ情報を受け付け、前記第1コントロールジョブ情報を受け付けた後に、第2ロットに対する処理である第2コントロールジョブを規定する第2コントロールジョブ情報を受け付け、
前記第1コントロールジョブ情報が、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第1レシピによる処理である第1プロセスジョブを規定する第1プロセスジョブ情報と、前記第1ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第2レシピによる処理である第2プロセスジョブを規定する第2プロセスジョブ情報と、を含み、
前記第2コントロールジョブ情報が、前記第2ロットに含まれる1枚または複数枚の基板に対する第3レシピによる処理である第3プロセスジョブを規定する第3プロセスジョブ情報を含み、
前記スケジューリング手段が、前記第1レシピおよび前記第3レシピが共通する属性を含み、前記第2レシピが当該属性を含まない場合に、前記第1プロセスジョブおよび前記第2プロセスジョブの間に前記第3プロセスジョブを実行する順序で前記第1、第2および第3プロセスジョブの実行計画を策定し、
前記属性が、処理の連続実行が可能かどうかという観点で分類されている、基板処理装置。 - 前記属性が、前記処理ユニットでの処理開始前に準備工程を必要とする属性であり、
前記スケジューリング手段が、前記第3プロセスジョブの後に前記第2レシピに含まれる属性に対応する準備工程を実行する計画を策定する、請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記スケジューリング手段が、所定の割込実行条件が充足されると、未実行のプロセスジョブの計画を変更して、当該割込実行条件に基づいて選択されるプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する、請求項10または11に記載の基板処理装置。
- 前記第1コントロールジョブの実行開始からの経過を表すコントロールジョブライフを計測する手段をさらに含み、
前記スケジューリング手段が、前記コントロールジョブライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記第1コントロールジョブに含まれる未処理のプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する、請求項10~12のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1レシピおよび前記第3レシピに共通する共通属性を用いた処理の継続状況を表す属性ライフを求める手段をさらに含み、
前記スケジューリング手段が、前記属性ライフが所定の閾値に達することを含む割込実行条件が充足されると、前記共通属性を用いた処理を中断して、別の属性を有するレシピのプロセスジョブの割込実行を計画する割込スケジューリングを実行する、請求項10~13のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記スケジューリング手段が、前記割込スケジューリングによって割込実行が計画されたプロセスジョブに続いて、当該プロセスジョブのレシピと共通する属性を有するプロセスジョブの実行を計画する、請求項12~14のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 使用者による割込実行条件の入力を受け付ける手段をさらに含み、
前記スケジューリング手段が、前記割込スケジューリングにおいて、前記受け付けられた割込実行条件を適用する、請求項12~15のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記処理ユニットに処理液を供給する処理液供給ユニットをさらに含み、
前記属性が、前記処理液供給ユニットから供給される処理液に関する条件を含み、
前記第1レシピおよび第3レシピが第1処理液条件を共通に指定しており、前記第2レシピが前記第1処理液条件とは異なる第2処理液条件を指定している、請求項10~16のいずれか一項に記載の基板処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017099307A JP7112836B2 (ja) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2021130904A JP2021182433A (ja) | 2017-05-18 | 2021-08-10 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2023177145A JP2023182772A (ja) | 2017-05-18 | 2023-10-13 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021130904A Division JP2021182433A (ja) | 2017-05-18 | 2021-08-10 | 基板処理方法および基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018195145A JP2018195145A (ja) | 2018-12-06 |
JP7112836B2 true JP7112836B2 (ja) | 2022-08-04 |
Family
ID=64571376
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017099307A Active JP7112836B2 (ja) | 2017-05-18 | 2017-05-18 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2021130904A Pending JP2021182433A (ja) | 2017-05-18 | 2021-08-10 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2023177145A Pending JP2023182772A (ja) | 2017-05-18 | 2023-10-13 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2021130904A Pending JP2021182433A (ja) | 2017-05-18 | 2021-08-10 | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2023177145A Pending JP2023182772A (ja) | 2017-05-18 | 2023-10-13 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP7112836B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016139667A (ja) | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3200952B2 (ja) * | 1992-04-30 | 2001-08-20 | 松下電器産業株式会社 | マルチリアクタタイプのプロセス設備制御装置 |
JP3880348B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2007-02-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
JP2003086481A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
JP4181522B2 (ja) * | 2004-04-12 | 2008-11-19 | 沖電気工業株式会社 | 製造工程管理方法 |
JP2009037406A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-19 | Panasonic Corp | 生産管理方法および生産管理システム |
JP5552265B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-07-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置の制御方法及び記憶媒体 |
-
2017
- 2017-05-18 JP JP2017099307A patent/JP7112836B2/ja active Active
-
2021
- 2021-08-10 JP JP2021130904A patent/JP2021182433A/ja active Pending
-
2023
- 2023-10-13 JP JP2023177145A patent/JP2023182772A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016139667A (ja) | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021182433A (ja) | 2021-11-25 |
JP2023182772A (ja) | 2023-12-26 |
JP2018195145A (ja) | 2018-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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