JP3140211B2 - ウェーハ移載方法及び縦型拡散／ｃｖｄ装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造に使用され
る縦型拡散／ＣＶＤ装置に係り、特にモニタウェーハの
挿入パターンの変更に柔軟に対応することができ、製造
工程の自動化、安定化、量産化を図ることができるウェ
ーハ移載方法及び縦型拡散／ＣＶＤ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】まず、従来のウェーハ移載制御装置につ
いて図５〜図８を使って説明する。図５は、従来のウェ
ーハ移載機構を含む縦型拡散／ＣＶＤ装置の全体図であ
り、図６は、従来のウェーハ移載機構の制御装置を含む
縦型拡散／ＣＶＤ装置の構成概略図であり、図７は、ウ
ェーハ移載機構の制御機能の構成ブロック図であり、図
８は、ウェーハ移載機構のウェーハ移載制御装置の構成
ブロック図である。

【０００３】半導体デバイスの製造に用いられる縦型拡
散／化学気相成長法（Chemical Vapor Deposition 略し
てＣＶＤ）装置は、図５に示すように、基本的にウェー
ハを収納するカセット棚１と、カセット棚１からウェー
ハを移載するウェーハ移載機構２と、移載したウェーハ
を積み重ねるボート３とから成り、ウェーハ移載機構２
は、移載エレベータ４と炉側エレベータ５とカセット棚
スライド軸６と回転軸７とピッチ可変軸８とスライド軸
９とで構成されている。

【０００４】そして、図６に示すように、操作ターミナ
ル１１からの指示に従いウェーハ移載制御装置１０でウ
ェーハ移載機構２の図５に示した移載エレベータ４、炉
側エレベータ５、カセット棚スライド軸６、回転軸７、
ピッチ可変軸８及びスライド軸９を制御し、カセット棚
１に収納されたウェーハをボート３に移載するものであ
る。

【０００５】従来のウェーハ移載機構の制御機能は、図
７に示すように、ウェーハ移載の条件や方法等を入力す
る操作ターミナル１１と、各種センサからの情報を入力
する入力ポート２１と、操作ターミナル１１と入力ポー
ト２１からの情報に従ってウェーハ移載の制御を行うウ
ェーハ移載制御装置１０と、スライド軸９、回転軸７、
移載エレベータ４、ピッチ可変軸８又は炉側エレベータ
５をそれぞれコントロールするモーターコントローラ２
２と、モーターコントローラ２２により動作するモータ
ー２３と、モーター２３の回転状態を情報化してモータ
ーコントローラ２２に伝達するエンコーダ２４と、モー
ターコントローラ２２とウェーハ移載制御装置１０との
間の送受信を行う通信制御装置２５と、吸着用電磁弁２
６と、炉口シャッター用電磁弁２７とで構成されてい
る。尚、エンコーダ２４からモーターコントローラ２２
に伝達され情報は、更にモーターコントローラ２２から
ウェーハ移載制御装置１０に伝送されるものである。

【０００６】次に、従来のウェーハ移載制御装置１０の
構成について更に詳しく説明する。従来のウェーハ移載
制御装置１０は、図８に示すように、全体のコントロー
ルを行うプロセッサ３０と、入力ポート２１及び操作タ
ーミナル１１の入出力制御を行う入出力制御部３１と、
ボード上でのウェーハの配置を制御するウェーハアレン
ジメントパラメータを設定するウェーハアレンジメント
パラメータ設定部３２と、移載動作を制御する移載動作
パラメータを作成する移載動作パラメータ作成部３３
と、２つのパラメータを記憶するメモリ３４と、メモリ
３４に設定された移載動作パラメータに従って通信制御
装置２５を介して各モーターコントローラ２２に移載実
行の命令を出力する移載制御実行部３５と、各種電磁弁
を制御する電磁弁制御部３６とで構成されている。

【０００７】次に、図８の各構成要素を具体的に説明す
ると、入出力制御部３１は、プロセッサ３０と操作ター
ミナル１１との間のデータの入出力制御と、各種センサ
から入力ポート２１に入力される情報をプロセッサ３０
に入力する制御を行うものである。

【０００８】ウェーハアレンジメントパラメータ設定部
３２は、カセット棚１に収納されているウェーハの種別
や枚数等のボート３上のウェーハの配置を制御するため
の情報を示すウェーハアレンジメントパラメータを操作
ターミナル１１から設定し、メモリ３４上のウェーハア
レンジメントパラメータエリア３７に記憶させるもので
ある。

【０００９】移載動作パラメータ作成部３３は、ウェー
ハアレンジメントパラメータエリア３７に記憶されたウ
ェーハアレンジメントパラメータに従って、実際の移載
作業の動作を示す移載動作パラメータを自動的に作成
し、メモリ３４上の移載動作パラメータエリア３８に記
憶させるものである。

【００１０】移載制御実行部３５では、移載制御パラメ
ータエリア３８に記憶された移載制御パラメータに従っ
て、スライド軸９や回転軸７や移載エレベータ４やピッ
チ可変軸８や炉側エレベータ５をコントロールする命令
を通信制御装置２５を介して各モーターコントローラ２
２に送出するものである。

【００１１】次に、従来のウェーハ移載制御装置におけ
る制御方式について説明する。通常、縦型拡散／ＣＶＤ
装置により処理されたウェーハは、その膜厚、膜質及び
パーティクルの測定をする事になるが、検査のほとんど
がウェーハを破壊すものであるため、製品そのものでは
なく検査用のウェーハ（モニタウェーハ：Ｍ）を予め製
品の中に混ぜてＣＶＤ処理を行い、このモニタウェーハ
を検査している。そこでウェーハ移載機構２でウェーハ
をボート３に移す際に、製品になるウェーハ（プロセス
ウェーハ：Ｐ）の中に一定の間隔でモニタウェーハを挟
み込むことが多い。また、プロセスウェーハの両端に
は、サイドダミーウェーハ（Ｓ．Ｄ）を配置するように
なっている。これは、両端のウェーハは製品として不良
が多いため、ダミーとするものである。

【００１２】従来のウェーハ移載制御装置における制御
方式では、まずカセット棚１の各カセットに収納される
ウェーハの種別（プロセスウェーハかモニタウェーハか
又はサイドダミーウェーハか）と枚数とをウェーハアレ
ンジメントパラメータとして設定する。

【００１３】もし、ウェーハアレンジメントパラメータ
にモニタウェーハ有りの設定をすると、常にモニタウェ
ーハがプロセスウェーハの間に一定間隔で挿入されるこ
とになる。また、場合によってモニタウェーハが不要な
ケースがある時は、モニタウェーハ有りの設定のウェー
ハアレンジメントパラメータとモニタウェーハ無しの設
定のウェーハアレンジメントパラメータとを２つ用意
し、オペレータがその都度これらパラメータを切り替え
るようになっていた。

【００１４】従来のウェーハ移載制御装置における制御
方式について、更に詳しく図９を使って説明する。図９
は従来のウェーハ移載制御方式でウェーハをボード３に
移載した場合のボードの状態図である。１回の移載単位
の中で、プロセスウェーハ２５枚毎にモニタウェーハを
１枚挿入した場合は、図９（Ａ）に示すように初めにサ
イドダミーウェーハ（Ｓ．Ｄ）が１０枚移載され、次に
モニタウェーハ（Ｍ）が１枚挿入され、プロセスウェー
ハ（Ｐ１）が２５枚移載される。同様に３回繰り返して
モニタウェーハとプロセスウェーハ（Ｐ２〜４）を移載
して、最後にモニタウェーハ１枚とサイドダミーウェー
ハ（Ｓ．Ｄ）１０枚が移載され、全部で１２５枚のウェ
ーハが移載されることになる。

【００１５】それに対して、モニタウェーハを移載しな
い場合は、図９（Ｂ）に示すように両サイドのサイドダ
ミーウェーハ（Ｓ．Ｄ）２０枚とプロセスウェーハ
（Ｐ）２５枚×４で１００枚のプロセスウェーハ（Ｐ１
〜４）とで全部で１２０枚のウェーハが移載されること
になる。そしてモニタウェーハを移載する場合と移載し
ない場合の切り替えはオペレータがその都度行うように
なっていた。

【００１６】次に、従来のウェーハ移載制御装置の動作
について図１０及び図１１を用いて説明する。図１０
は、従来のウェーハ移載制御装置の動作フローを示すフ
ローチャート図であり、図１１は、移載動作パラメータ
作成フローを示すフローチャート図である。

【００１７】従来のウェーハ移載制御装置は、図１０に
示すように、まず、ウェーハアレンジメントパラメータ
設定部３２でウェーハアレンジメントパラメータが作成
され、メモリ３５上のウェーハアレンジメントパラメー
タエリア３７に該パラメータが設定され（１０１）、次
にウェーハアレンジメントパラメータエリア３７の内容
に従って移載動作パラメータが移載動作パラメータ作成
部３３で全カセット分作成されて、メモリ３５上の移載
動作パラメータエリア３８に設定され（１０２）、移載
動作パラメータエリア３８の内容に従い移載制御実行部
３５で移載動作を実行する（１０３）。

【００１８】また、移載動作パラメータの作成は、図１
１に示すように、プロセスウェーハを６カセット移載す
る場合を例にすると、まず、カウンタをクリアし（２０
０）、ウェーハアレンジメントパラメータの内容に従っ
てサイドダミーウェーハの移載動作パラメータを作成し
（２０１）、次にモニタウェーハ移載動作のパラメータ
を作成し（２０２）、プロセスウェーハ移載動作パラメ
ータを１カセット分作成し（２０３）、カウンタに１加
えて（２０４）、カウンタが６であるか判断し（２０
５）、６でない場合は処理２０２〜２０５を繰り返す。
カウンタが６になったらモニタウェーハ移載動作パラメ
ータを作成し（２０６）、サイドダミーウェーハの移載
動作パラメータを作成して（２０７）、処理を終了す
る。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のウェーハ移載制御装置の制御方式では、ウェーハア
レンジメントパラメータにモニタウェーハ有りの設定と
すると、どのバッチにもモニタウェーハが移載され、数
バッチに１回の検査で十分な場合は、モニタウェーハが
無駄に使われることになるという問題点があった。

【００２０】また、場合によってモニタウェーハが不要
なケースに対応するために、モニタウェーハ有りの設定
のウェーハアレンジメントパラメータとモニタウェーハ
無しの設定のウェーハアレンジメントパラメータとの２
つのパラメータを用意した場合、オペレータがその都度
パラメータを切り替えなければならず、半導体製造工程
の自動化、無塵化に支障を来すという問題点があった。

【００２１】更に、モニタウェーハ有りの場合とモニタ
ウェーハ無しの場合とでは、ボートに移載されるウェー
ハの数や配置が変動するため、それに続く処理のパラメ
ータや処理条件などを変更しなければならず、処理が複
雑化するという問題点があった。

【００２２】本発明は上記実情に鑑みて為されたもの
で、自動的にモニタウェーハ移載の有無を認識し、ま
た、モニタウェーハ移載の有無にかかわらずボード上の
ウェーハの数及び配置に変動が生じないウェーハ移載方
法及び縦型拡散／ＣＶＤ装置を提供することを目的とす
る。

【００２３】

【課題を解決するための手段】上記従来例の問題点を解
決するための請求項１記載の発明は、ウェーハ移載方法
において、ウェーハ処理状態を検査するモニタウェーハ
を何バッチに１回移載するかを示すモニタウェーハ移載
間隔を設定し、該移載間隔からバッチ毎にモニタウェー
ハの移載の有無を判断して、モニタウェーハ移載有の場
合に、移載するウェーハ中にモニタウェーハが含まれる
よう移載動作を実行することを特徴としている。

【００２４】上記従来例の問題点を解決するための請求
項２記載の発明は、ウェーハ移載方法において、ウェー
ハ処理状態を検査するモニタウェーハを何バッチに１回
移載するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定し、該
移載間隔からバッチ毎にモニタウェーハの移載の有無を
判断して、モニタウェーハ移載無の場合に、移載するウ
ェーハ中にモニタウェーハの代わりにダミーウェーハが
含まれるよう移載動作を実行することを特徴としてい
る。上記従来例の問題点を解決するための請求項３記載
の発明は、縦型拡散／ＣＶＤ装置において、ウェーハ処
理状態を検査する１枚以上のモニタウェーハを何バッチ
に１回移載するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定
する設定部と、前記モニタウェーハ移載間隔からバッチ
毎に前記モニタウェーハの移載の有無を判断し、前記モ
ニタウェーハ移載有の場合に移載するウェーハ中にモニ
タウェーハが含まれるよう移載動作を制御する移載動作
パラメータを作成する作成部と、前記移載動作パラメー
タに従ってウェーハの移載動作を実行させる実行部とを
備えることを特徴としている。 上記従来例の問題点を解
決するための請求項４記載の発明は、縦型拡散／ＣＶＤ
装置において、ウェーハ処理状態を検査する１枚以上の
モニタウェーハを何バッチに１回移載するかを示すモニ
タウェーハ移載間隔を設定する設定部と、前記モニタウ
ェーハ移載間隔からバッチ毎に前記モニタウェーハの移
載の有無を判断し、前記モニタウェーハ移載無の場合に
移載するウェーハ中にモニタウェーハの代わりにダミー
となるダミーウェーハが含まれるよう移載動作を制御す
る移載動作パラメータを作成する作成部と、前記移載動
作パラメータに従ってウェーハの移載動作を実行させる
実行部とを備えることを特徴としている。

【００２５】

【作用】請求項１記載の発明によれば、ウェーハ処理状
態を検査するモニタウェーハを何バッチに１回移載する
かを示すモニタウェーハ移載間隔を設定しておき、該移
載間隔からバッチ毎のモニタウェーハの移載の有無を判
断し、モニタウェーハ移載有の場合に、移載されるウェ
ーハ中にモニタウェーハが含まれるよう移載動作を実行
するウェーハ移載方法としているので、必要なバッチに
おいてのみモニタウェーハを使用するためモニタウェー
ハの使用効率が良く、モニタウェーハ移載の有無をモニ
タウェーハ移載間隔から判断できるため半導体製造工程
の自動化、無塵化を図ることができる。

【００２６】請求項２記載の発明によれば、ウェーハ処
理状態を検査するモニタウェーハを何バッチに１回移載
するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定しておき、
該移載間隔からバッチ毎のモニタウェーハの移載の有無
を判断し、モニタウェーハ移載無の場合に、移載される
ウェーハ中にモニタウェーハの代わりにダミーウェーハ
が含まれるよう移載動作を実行するウェーハ移載方法と
しているので、モニタウェーハが不要な場合であっても
モニタウェーハ要の場合と同様にボード上でのウェーハ
の枚数及び配置を常に一定に保つことができ、それに続
く処理の処理条件やパラメータの変更が不要となるた
め、製造工程の安定化を図ることができる。請求項３記
載の発明によれば、ウェーハ処理状態を検査する１枚以
上のモニタウェーハを何バッチに１回移載するかを示す
モニタウェーハ移載間隔を設定する設定部と、モニタウ
ェーハ移載間隔からバッチ毎にモニタウェーハの移載の
有無を判断し、モニタウェーハ移載有の場合に移載する
ウェーハ中にモニタウェーハが含まれるよう移載動作を
制御する移載動作パラメータを作成する作成部と、移載
動作パラメータに従ってウェーハの移載動作を実行させ
る実行部とを備える縦型拡散／ＣＶＤ装置としているの
で、必要なバッチにおいてのみモニタウェーハを使用す
るためモニタウェーハの使用効率が良く、モニタウェー
ハ移載の有無をモニタウェーハ移載間隔から判断できる
ため半導体製造工程の自動化、無塵化を図ることができ
る。 請求項４記載の発明によれば、ウェーハ処理状態を
検査する１枚以上のモニタウェーハを何バッチに１回移
載するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定する設定
部と、モニタウェーハ移載間隔からバッチ毎にモニタウ
ェーハの移載の有無を判断し、モニタウェーハ移載無の
場合に移載するウェーハ中にモニタウェーハの代わりに
ダミーとなるダミーウェーハが含まれるよう移載動作を
制御する移載動作パラメータを作成する作成部と、移載
動作パラメータに従ってウェーハの移載動作を実行させ
る実行部とを備える縦型拡散／ＣＶＤ装置としているの
で、モニタウェーハが不要な場合であってもモニタウェ
ーハ要の場合と同様にボード上でのウェーハの枚数及び
配置を常に一定に保つことができ、それに続く処理の処
理条件やパラメータの変更が不要となるため、製造工程
の安定化を図ることができる。

【００２７】

【実施例】本発明の一実施例について図面を参照しなが
ら説明する。本発明の一実施例に係るＣＶＤ装置の構成
は、従来と同様で、図５に示したように基本的にウェー
ハを収納するカセット棚１と、カセット棚からウェーハ
を移載するウェーハ移載機構２と、移載したウェーハを
積み重ねるボート３から成り、ウェーハ移載機構２は、
移載エレベータ４と炉側エレベータ５とカセット棚スラ
イド軸６と回転軸７とピッチ可変軸８とスライド軸９と
で構成されている。

【００２８】そして、図６に示したように、操作ターミ
ナル１１からの指示に従いウェーハ移載制御装置１０で
ウェーハ移載機構２の移載エレベータ４等の各部を制御
し、カセット棚１に収納されたウェーハをボート３に移
載するものである。

【００２９】本実施例のウェーハ移載機構の制御機能も
従来と同様で、図７に示したようにウェーハ移載の条件
や方法などを入力する操作ターミナル１１と、各種セン
サからの情報を入力する入力ポート２１と、操作ターミ
ナル１１と入力ポート２１からの情報に従ってウェーハ
移載の制御を行うウェーハ移載制御装置１０と、スライ
ド軸９、回転軸７、移載エレベータ４、ピッチ可変軸８
又は炉側エレベータ５をコントロールするモーターコン
トローラ２２と、モーターコントローラ２２により動作
するモーター２３と、モーター２３の回転状態を情報化
するエンコーダ２４と、モーターコントローラ２２とウ
ェーハ移載制御装置１０との間の送受信を行う通信制御
装置２５と、吸着用電磁弁２６と、炉口シャッター用電
磁弁２７とで構成されている。

【００３０】本実施例のウェーハ移載制御装置１０の構
成も従来と同様で、図８に示したように全体のコントロ
ールを行うプロセッサ３０と、入力ポート２１及び操作
ターミナル１１の入出力制御を行う入出力制御部３１
と、ボード上でのウェーハの配置を制御するウェーハア
レンジメントパラメータを設定するウェーハアレンジメ
ントパラメータ設定部３２と、移載動作を制御する移載
動作パラメータを作成する移載動作パラメータ作成部３
３と、２つのパラメータを記憶するメモリ３４と、メモ
リ３４に設定された移載動作パラメータに従って通信制
御装置２５を介して各モーターコントローラ２２に移載
実行の命令を出力する移載制御実行部３５と、各種電磁
弁を制御する電磁弁制御部３６とで構成されている。

【００３１】本実施例のウェーハ移載制御装置１０の各
構成要素の働きも従来とほぼ同様で、入出力制御部３１
は、プロセッサ３０と操作ターミナル１１との間のデー
タの入出力制御と、各種センサから入力ポート２１に入
力される情報をプロセッサ３０に入力する制御を行うも
のである。

【００３２】ウェーハアレンジメントパラメータ設定部
３２では、従来と同様のカセット棚１に収納されている
ウェーハの種別や数等の情報と、本実施例の特徴であ
る、モニタウェーハを何バッチ毎に移載するかを示すモ
ニタウェーハ移載間隔（ｎ）とを、ウェーハアレンジメ
ントパラメータとして操作ターミナル１１から設定し、
メモリ３４上のウェーハアレンジメントパラメータエリ
ア３７に記憶させるものである。このモニタウェーハ移
載間隔（ｎ）によって実行されるバッチにモニタウェー
ハを含まれるかどうか判断されるものである。

【００３３】移載動作パラメータ作成部３３では、ウェ
ーハアレンジメントパラメータエリア３７に記憶された
ウェーハアレンジメントパラメータに従って、実際の移
載作業の動作を示す移載動作パラメータを作成し、メモ
リ３４上の移載動作パラメータエリア３８に記憶させる
ものである。

【００３４】移載制御実行部３５では、移載制御パラメ
ータエリア３８に記憶された移載制御パラメータに従っ
て、スライド軸９や回転軸７や移載エレベータ４やピッ
チ可変軸８や炉側エレベータ５をコントロールする命令
を通信制御装置２５を介して各モーターコントローラ２
２に送出するものである。

【００３５】次に、本実施例のウェーハ移載制御方式に
ついて図面を参照しながら説明する。まず、本実施例の
ウェーハ移載制御方式の概要を図１を使って説明する。
図１は、本実施例のウェーハ移載制御方式でウェーハを
ボート３に移載した場合のボートの状態図である。本実
施例のウェーハ移載制御方式では、モニタウェーハの要
不要を自動的に切り替えるために、ウェーハアレンジメ
ントパラメータの中に何バッチに１回モニタウェーハを
移載するかを示すモニタウェーハ移載間隔（ｎ）を設定
する。そして、このモニタウェーハ移載間隔（ｎ）から
判断してモニタウェーハ要のバッチでは、モニタウェー
ハが移載されるよう移載動作パラメータが作成され、モ
ニタウェーハ不要のバッチでは、モニタウェーハ移載位
置に代わりにダミーウェーハ（フィルダミーウェーハ：
Ｆ．Ｄ）を移載するように、移載動作パラメータが作成
される。

【００３６】ここで、モニタウェーハ移載間隔（ｎ）は
１以上の値であり、１の時は、毎バッチモニタウェーハ
を移載する事になり、２では、２バッチに１回、３で
は、３バッチに１回モニタウェーハを移載する事にな
る。

【００３７】図１の例で具体的に説明すると、１回の移
載単位の中で、プロセスウェーハ２５枚毎にモニタウェ
ーハを１枚挿入する例では、モニタウェーハを移載する
バッチでは、図１（Ａ）に示すように、サイドダミーウ
ェーハ（Ｓ．Ｄ）が１０枚あり、次にモニタウェーハ
（Ｍ）が１枚挿入され、プロセスウェーハ（Ｐ１）が２
５枚移載される。同様に３回繰り返してモニタウェーハ
とプロセスウェーハ（Ｐ２〜Ｐ４）を移載して、最後に
モニタウェーハ１枚とサイドダミーウェーハ１０枚が移
載され、全部で１２５枚のウェーハが移載されることに
なる。

【００３８】それに対して、モニタウェーハを移載しな
いバッチでは、図１（Ｂ）に示すように、モニタウェー
ハ移載位置に、代わりにフィルダミーウェーハ（Ｆ．
Ｄ）が１枚ずつ移載され、全部で１２５枚のウェーハが
移載されることになり、全体の枚数やプロセスウェーハ
（Ｐ）の位置はモニタウェーハを移載したバッチと変わ
らないことになる。

【００３９】次に、本実施例のウェーハ移載制御方式を
用いた場合の移載動作パラメータの概要について図２を
使って説明する。図２は、本実施例の移載動作パラメー
タの概要を示す図である。本実施例の移載動作パラメー
タでは、モニタウェーハを移載する場合は、図２（Ａ）
に示すように、カセット棚１からボード３への移載時の
実行順序（移載順序）に従って、移載動作パラメータエ
リア（テーブル）の上からウェーハ１枚毎の、または複
数枚を１つの単位としたカセット単位の移載動作パラメ
ータが設定されるようになっている。

【００４０】例えば、移載動作パラメータエリア（テー
ブル）には、数個のカセット分のプロセスウェーハ移載
動作パラメータが記憶され、次に１枚分のモニタウェー
ハの移載動作パラメータが記憶され、またプロセスウェ
ーハの移載動作パラメータが続いて記憶されるようにな
る。カセット単位の移載動作パラメータの内容は、スキ
ップフラグと、カセット側のピッチ指定と、カセット側
のウェーハ種別と、カセット側のスリットＮｏ．と、ウ
ェーハ枚数指定と、ボート側のピッチ指定と、ボート側
のウェーハ種別と、ボート側のスリットＮｏ．とで構成
されている。

【００４１】また、モニタウェーハを移載しない場合
は、図２（Ｂ）に示すように、例えば、移載動作パラメ
ータエリアの上から移載順序に従って数個のプロセスウ
ェーハの移載動作パラメータが記憶され、次にモニタウ
ェーハの代わりに１枚分のダミーウェーハの移載動作パ
ラメータが記憶され、またプロセスウェーハの移載動作
パラメータが続いて記憶されるようになる。つまり、図
２（Ａ）のモニタウェーハの移載動作パラメータの位置
にダミーウェーハの移載動作パラメータが記憶されるこ
とになる。

【００４２】次に、本実施例のウェーハ移載制御装置の
動作について図３及び図４を用いて説明する。図３は、
本実施例のウェーハ移載制御装置の動作フローを示すフ
ローチャート図であり、図４は、移載動作パラメータ作
成フローを示すフローチャート図である。

【００４３】本実施例のウェーハ移載制御装置は、図３
に示すように、まず、ウェーハアレンジメントパラメー
タ設定部３２でウェーハアレンジメントパラメータが作
成され、メモリ３５上のウェーハアレンジメントパラメ
ータエリア３７に該パラメータが設定され（１１１）、
次にウェーハアレンジメントパラメータエリア３７の内
容に従って移載動作パラメータが全カセット分について
移載動作パラメータ作成部３３で作成されてメモリ３５
上の移載動作パラメータエリア３８に設定され（１１
２）、移載動作パラメータエリア３８の内容に従い移載
制御実行部３５で移載動作を実行する（１１３）。

【００４４】移載動作パラメータの作成は、図４に示す
ように、プロセスウェーハを６カセット移載する場合を
例にすると、まず、カウンタをクリアし（２５０）、ウ
ェーハアレンジメントパラメータの内容に従ってサイド
ダミーウェーハの移載動作パラメータを作成し（２５
１）、次に今回モニタウェーハの移載がある場合かどう
かモニタウェーハ移載間隔（ｎ）から判断し（２５
２）、モニタウェーハ有りであればウェーハアレンジメ
ントパラメータの内容に従ってモニタウェーハの移載動
作パラメータを作成し（２５３）、モニタウェーハ無し
であればウェーハアレンジメントパラメータの内容に従
ってフィルダミーウェーハの移載動作パラメータを作成
し（２５４）、次にプロセスウェーハの移載動作パラメ
ータを１カセット分作成し（２５５）、カウンタに１加
えて（２５６）、カウンタが６であるか判断し（２５
７）、６でない場合は処理２５２〜２５７を繰り返す。
カウンタが６になったら、再度今回モニタウェーハの移
載がある場合であるかどうか判断し（２５８）、モニタ
ウェーハ有りであればモニタウェーハの移載動作パラメ
ータを作成し（２５９）、モニタウェーハ無しであれば
フィルダミーウェーハの移載動作パラメータを作成し
（２６０）、最後にサイドダミーウェーハの移載動作パ
ラメータを作成し（２６１）、処理を終了する。

【００４５】本実施例のウェーハ移載制御方式によれ
ば、バッチ毎にモニタウェーハの有無を判断して、モニ
タウェーハがあればモニタウェーハ移載動作パラメータ
を含むように移載動作パラメータを移載動作パラメータ
作成部３３で作成して移載動作パラメータエリア３８に
設定し、モニタウェーハがなければモニタウェーハの代
わりにフィルダミーウェーハ移載動作パラメータを含む
ように移載動作パラメータを作成・設定するようにして
いるので、モニタウェーハを数バッチに１回移載するこ
とが容易にでき、モニタウェーハを効率よく使用するこ
とができる効果があり、また、モニタウェーハの有無に
よりオペレータがその都度パラメータを切り替える必要
がないために、半導体製造工程の自動化、安定化、無塵
化を図ることができる効果がある。

【００４６】また、モニタウェーハを移載しない場合
は、代わりにダミーウェーハを移載するようにしている
ので、ボート上でのウェーハの枚数及び配置を常に一定
に保つことができ、それに続く処理の処理条件やパラメ
ータの変更が不要となり、処理工程を簡略化して製造工
程の安定化を図ることができる効果がある。

【００４７】更に、モニタウェーハ移載間隔（ｎ）をパ
ラメータで設定し、自由にモニタウェーハ移載間隔
（ｎ）を変更することができるので、モニタウェーハ移
載枚数を容易に変更することができ、半導体製造工程の
自動化、安定化、無塵化を図ることができる効果があ
る。

【００４８】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、ウェーハ
処理状態を検査するモニタウェーハを何バッチに１回移
載するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定してお
き、該移載間隔からバッチ毎のモニタウェーハの移載の
有無を判断し、モニタウェーハ移載有の場合に、移載さ
れるウェーハ中にモニタウェーハが含まれるよう移載動
作を実行するウェーハ移載方法としているので、必要な
バッチにおいてのみモニタウェーハを使用するためモニ
タウェーハの使用効率が良く、モニタウェーハ移載の有
無をモニタウェーハ移載間隔から判断できるため半導体
製造工程の自動化、無塵化を図ることができる効果があ
る。

【００４９】請求項２記載の発明によれば、ウェーハ処
理状態を検査するモニタウェーハを何バッチに１回移載
するかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定しておき、
該移載間隔からバッチ毎のモニタウェーハの移載の有無
を判断し、モニタウェーハ移載無の場合に、移載される
ウェーハ中にモニタウェーハの代わりにダミーウェーハ
が含まれるよう移載動作を実行するウェーハ移載方法と
しているので、モニタウェーハが不要な場合であっても
モニタウェーハ要の場合と同様にボード上でのウェーハ
の枚数及び配置を常に一定に保つことができ、それに続
く処理の処理条件やパラメータの変更が不要となるた
め、製造工程の安定化を図ることができる効果がある。
請求項３記載の発明によれば、ウェーハ処理状態を検査
する１枚以上のモニタウェーハを何バッチに１回移載す
るかを示すモニタウェーハ移載間隔を設定する設定部
と、モニタウェーハ移載間隔からバッチ毎にモニタウェ
ーハの移載の有無を判断し、モニタウェーハ移載有の場
合に移載するウェーハ中にモニタウェーハが含まれるよ
う移載動作を制御する移載動作パラメータを作成する作
成部と、移載動作パラメータに従ってウェーハの移載動
作を実行させる実行部とを備える縦型拡散／ＣＶＤ装置
としているので、必要なバッチにおいてのみモニタウェ
ーハを使用するためモニタウェーハの使用効率が良く、
モニタウェーハ移載の有無をモニタウェーハ移載間隔か
ら判断できるため半導体製造工程の自動化、無塵化を図
ることができる効果がある。 請求項４記載の発明によれ
ば、ウェーハ処理状態を検査する１枚以上のモニタウェ
ーハを何バッチに１回移載するかを示すモニタウェーハ
移載間隔を設定する設定部と、モニタウェーハ移載間隔
からバッチ毎にモニタウェーハの移載の有無を判断し、
モニタウェーハ移載無の場合に移載するウェーハ中にモ
ニタウェーハの代わりにダミーとなるダミーウェーハが
含まれるよう移載動作を制御する移載動作パラメータを
作成する作成部と、移載動作パラメータに従ってウェー
ハの移載動作を実行させる実行部とを備える縦型拡散／
ＣＶＤ装置としているので、モニタウェーハが不要な場
合であってもモニタウェーハ要の場合と同様にボード上
でのウェーハの枚数及び配置を常に一定に保つことがで
き、それに続く処理の処 理条件やパラメータの変更が不
要となるため、製造工程の安定化を図ることができる効
果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るウェーハ移載制御方式
でウェーハをボートに移載した場合のボートの状態図で
ある。

【図２】本実施例の移載動作パラメータの概要を示す図
である。

【図３】本実施例のウェーハ移載制御装置の動作フロー
を示すフローチャート図である。

【図４】本実施例の移載動作パラメータ作成フローを示
すフローチャート図である。

【図５】従来のウェーハ移載機構を含む縦型拡散／ＣＶ
Ｄ装置の全体図である。

【図６】従来のウェーハ移載機構の制御装置を含む縦型
拡散／ＣＶＤ装置の構成概略図である。

【図７】従来のウェーハ移載機構の制御機能の構成ブロ
ック図である。

【図８】従来のウェーハ移載機構のウェーハ移載制御装
置の構成ブロック図である。

【図９】従来のウェーハ移載制御方式でウェーハをボー
トに移載した場合のボートの状態図である。

【図１０】従来のウェーハ移載制御装置の動作フローを
示すフローチャート図である。

【図１１】従来の移載動作パラメータ作成フローを示す
フローチャート図である。

【符号の説明】

１…カセット棚、 ２…ウェーハ移載機構、 ３…ボー
ト、 ４…移載エレベータ、 ５…炉側エレベータ、
６…カセット棚スライド軸、 ７…回転軸、８…ピッチ
可変軸、 ９…スライド軸、 １０…ウェーハ移載制御
装置、 １１…操作ターミナル、 ２１…入力ポート、
２２…モーターコントローラ、 ２３…モーター、
２４…エンコーダ、 ２５…通信制御装置、 ２６…吸
着用電磁弁、 ２７…炉口シャッター用電磁弁、 ３１
…入出力制御部、 ３２…ウェーハアレンジメントパラ
メータ設定部、 ３３…移載動作パラメータ作成部、３
４…メモリ、 ３５…移載制御実行部、 ３６…電磁弁
制御部

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウェーハ処理状態を検査するモニタウェ
   ーハを何バッチに１回移載するかを示すモニタウェーハ
   移載間隔を設定し、該移載間隔からバッチ毎にモニタウ
   ェーハの移載の有無を判断して、モニタウェーハ移載有
   の場合に、移載するウェーハ中にモニタウェーハが含ま
   れるよう移載動作を実行することを特徴とするウェーハ
   移載方法。
2. 【請求項２】 ウェーハ処理状態を検査するモニタウェ
   ーハを何バッチに１回移載するかを示すモニタウェーハ
   移載間隔を設定し、該移載間隔からバッチ毎にモニタウ
   ェーハの移載の有無を判断して、モニタウェーハ移載無
   の場合に、移載するウェーハ中にモニタウェーハの代わ
   りにダミーウェーハが含まれるよう移載動作を実行する
   ことを特徴とするウェーハ移載方法。
3. 【請求項３】 ウェーハ処理状態を検査する１枚以上の
   モニタウェーハを何バッチに１回移載するかを示すモニ
   タウェーハ移載間隔を設定する設定部と、前記モニタウ
   ェーハ移載間隔からバッチ毎に前記モニタウェーハの移
   載の有無を判断し、前記モニタウェーハ移載有の場合に
   移載するウェーハ中にモニタウェーハが含まれるよう移
   載動作を制御する移載動作パラメータを作成する作成部
   と、前記移載動作パラメータに従ってウェーハの移載動
   作を実行させる実行部とを備えることを特徴とする縦型
   拡散／ＣＶＤ装置。
4. 【請求項４】 ウェーハ処理状態を検査する１枚以上の
   モニタウェーハを何バッチに１回移載するかを示すモニ
   タウェーハ移載間隔を設定する設定部と、前記モニタウ
   ェーハ移載間隔からバッチ毎に前記モニタウェーハの移
   載の有無を判断し、前記モニタウェーハ移載無の場合に
   移載するウェーハ中にモニタウェーハの代わりにダミー
   となるダミーウェーハが含まれるよう移載動作を制御す
   る移載動作パラメータを作成する作成部と、前記移載動
   作パラメータに従ってウェーハの移載動作を実行させる
   実行部とを備えることを特徴とする縦型拡散／ＣＶＤ装
   置。