JPH0772323A - カラーフィルター - Google Patents
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- JPH0772323A JPH0772323A JP2846494A JP2846494A JPH0772323A JP H0772323 A JPH0772323 A JP H0772323A JP 2846494 A JP2846494 A JP 2846494A JP 2846494 A JP2846494 A JP 2846494A JP H0772323 A JPH0772323 A JP H0772323A
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- color filter
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- alkali
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 解像度、色調、色再現性及び色濃度等の諸性
能に優れ、且つ厚みが小さいカラーフィルターを提供す
る。 【構成】 支持体上に複数の有色フィルター要素を有す
るカラーフィルターであって、該有色フィルター要素の
各々は400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を
具備する色素及びアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト材
料により形成され、該レジスト材料の厚みは３μｍ以下
であり、且つ上記レジスト材料における吸光特性を予め
定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値
で表現したときにその値が25％以下である、カラーフィ
ルター。
能に優れ、且つ厚みが小さいカラーフィルターを提供す
る。 【構成】 支持体上に複数の有色フィルター要素を有す
るカラーフィルターであって、該有色フィルター要素の
各々は400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を
具備する色素及びアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト材
料により形成され、該レジスト材料の厚みは３μｍ以下
であり、且つ上記レジスト材料における吸光特性を予め
定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値
で表現したときにその値が25％以下である、カラーフィ
ルター。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は固体撮像素子及び気体セ
ンサー等の有色化に用いられるカラーフィルターに関す
る。
ンサー等の有色化に用いられるカラーフィルターに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターはCCD 及びLCD 等に用
いられ、色素としては３原色系及び３補色系のものを組
み合わせて用いられている。カラーフィルターの製造法
としては染色法、電着法、印刷法及びレジスト法等が用
いられている。例えばゼラチンを材料とするフィルター
の染色では、染色むら或いは材料の膨潤、ひび割れ等の
問題点がある。又、電着法及び印刷法では濃色のカラー
フィルターを得る場合、カラーフィルターの厚みを大き
くしなければならないという問題点がある。一方、レジ
スト法ではカラーフィルターの厚みを小さくすることは
一般的に可能であるが、濃色のカラーフィルターを得る
ことが難しいという問題点がある。このように、従来の
カラーフィルターはその製造法に係わらず、何らかの問
題点を有していた。
いられ、色素としては３原色系及び３補色系のものを組
み合わせて用いられている。カラーフィルターの製造法
としては染色法、電着法、印刷法及びレジスト法等が用
いられている。例えばゼラチンを材料とするフィルター
の染色では、染色むら或いは材料の膨潤、ひび割れ等の
問題点がある。又、電着法及び印刷法では濃色のカラー
フィルターを得る場合、カラーフィルターの厚みを大き
くしなければならないという問題点がある。一方、レジ
スト法ではカラーフィルターの厚みを小さくすることは
一般的に可能であるが、濃色のカラーフィルターを得る
ことが難しいという問題点がある。このように、従来の
カラーフィルターはその製造法に係わらず、何らかの問
題点を有していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決して、解像度、色調、色再現性及び色濃度等の諸性
能に優れ、且つ厚みが小さいカラーフィルターを提供す
る。
解決して、解像度、色調、色再現性及び色濃度等の諸性
能に優れ、且つ厚みが小さいカラーフィルターを提供す
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に複
数の有色フィルター要素を有するカラーフィルターであ
って、該有色フィルター要素の各々は400 〜700 ｎｍの
波長範囲の予め定められた色を具備する色素及びアルカ
リ可溶性樹脂を含むレジスト材料により形成され、該レ
ジスト材料の厚みは３μｍ以下であり、且つ、上記レジ
スト材料における吸光特性を予め定められた色の波長範
囲に対応する光の透過率の最小値で表現したときにその
値が25％以下のカラーフィルターである。カラーフィル
ターとしては、レジスト材料の厚みが２μｍ（より好ま
しくは１μｍ）以下であり、且つ上記最小値が20％以下
であるものが好ましい。透過率は、例えば石英ガラス上
に形成された有色フィルター要素の各々を、色素に応じ
た波長範囲で分光光度計を用いて測定できる。
数の有色フィルター要素を有するカラーフィルターであ
って、該有色フィルター要素の各々は400 〜700 ｎｍの
波長範囲の予め定められた色を具備する色素及びアルカ
リ可溶性樹脂を含むレジスト材料により形成され、該レ
ジスト材料の厚みは３μｍ以下であり、且つ、上記レジ
スト材料における吸光特性を予め定められた色の波長範
囲に対応する光の透過率の最小値で表現したときにその
値が25％以下のカラーフィルターである。カラーフィル
ターとしては、レジスト材料の厚みが２μｍ（より好ま
しくは１μｍ）以下であり、且つ上記最小値が20％以下
であるものが好ましい。透過率は、例えば石英ガラス上
に形成された有色フィルター要素の各々を、色素に応じ
た波長範囲で分光光度計を用いて測定できる。
【０００５】本発明のカラーフィルターは上記の条件を
満足していればよく、その製造法は特に限定されない
が、通常はレジスト法により製造される。より好ましい
カラーフィルターとしては、レジスト材料が、 ａ）400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具
備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤を含むレ
ジスト組成物のコーティングを乾燥させて付着層を形成
する工程、 ｂ）上記付着層の予め定められた部分を照射線に露光す
る工程、 ｃ）露光した領域又は非露光領域をアルカリ現像してレ
ジストパターンを形成する工程、並びに ｄ）異なる色の上記レジスト組成物について、工程ａ）
〜ｃ）を繰り返す工程により得られるものが挙げられ
る。 さらに好ましいカラーフィルターとしては、レジストパ
ターンが架橋により硬化されたものが挙げられる。この
ようなレジストパターンを得るためには、400〜700 ｎ
ｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素、アル
カリ可溶性樹脂及び有機溶剤に加えて、さらに、下式 −（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0 （式中、Ｒ0 は水素原子又は低級アルキル基を、ｓは１
〜４の整数を、各々表わす。）で示される基を有する架
橋剤を含むレジスト組成物が用いられる。レジスト材料
は、色素、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び有機溶剤等
を含むレジスト組成物をフィルターで濾過後、通常、前
記ａ）〜ｄ）の工程を経て得られる。フィルターの孔径
は0.2 μｍ以下であることが好ましく、0.1 μｍ以下で
あることがより好ましい。
満足していればよく、その製造法は特に限定されない
が、通常はレジスト法により製造される。より好ましい
カラーフィルターとしては、レジスト材料が、 ａ）400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具
備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤を含むレ
ジスト組成物のコーティングを乾燥させて付着層を形成
する工程、 ｂ）上記付着層の予め定められた部分を照射線に露光す
る工程、 ｃ）露光した領域又は非露光領域をアルカリ現像してレ
ジストパターンを形成する工程、並びに ｄ）異なる色の上記レジスト組成物について、工程ａ）
〜ｃ）を繰り返す工程により得られるものが挙げられ
る。 さらに好ましいカラーフィルターとしては、レジストパ
ターンが架橋により硬化されたものが挙げられる。この
ようなレジストパターンを得るためには、400〜700 ｎ
ｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素、アル
カリ可溶性樹脂及び有機溶剤に加えて、さらに、下式 −（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0 （式中、Ｒ0 は水素原子又は低級アルキル基を、ｓは１
〜４の整数を、各々表わす。）で示される基を有する架
橋剤を含むレジスト組成物が用いられる。レジスト材料
は、色素、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び有機溶剤等
を含むレジスト組成物をフィルターで濾過後、通常、前
記ａ）〜ｄ）の工程を経て得られる。フィルターの孔径
は0.2 μｍ以下であることが好ましく、0.1 μｍ以下で
あることがより好ましい。
【０００６】アルカリ可溶性樹脂としては、例えばノボ
ラック樹脂、ポリイミド前駆体、スチレンと無水マレイ
ン酸との共重合体、ビニルフェノールとスチレンとの共
重合体やｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−アセトキシメチ
ルスチレンとの共重合体等のビニルフェノール共重合
体、或いはポリビニルフェノール等が挙げられる。ノボ
ラック樹脂としては半導体用等のポジ型レジスト組成物
に用いられる樹脂、例えばフェノール類とアルデヒド類
とを酸触媒の存在下に縮合して得られる公知の樹脂が挙
げられる。フェノール類としては上記公知樹脂の縮合に
用いられるものであれば特に制限されないが、例えばフ
ェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェ
ノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコー
ル、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、ビス
フェノールＣもしくはビスフェノールＡ等が挙げられ
る。これらのフェノール類は単独で、又は２種以上混合
して用いられる。アルデヒド類としては、例えばホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドもしくはベンズアルデヒド等
の脂肪族又は芳香族アルデヒドが挙げられる。ノボラッ
ク樹脂等のアルカリ可溶性樹脂は、例えば分別等の手段
を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノ
ールＣもしくはビスフェノールＡ等のポリフェノールを
アルカリ可溶性樹脂に添加してもよい。
ラック樹脂、ポリイミド前駆体、スチレンと無水マレイ
ン酸との共重合体、ビニルフェノールとスチレンとの共
重合体やｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−アセトキシメチ
ルスチレンとの共重合体等のビニルフェノール共重合
体、或いはポリビニルフェノール等が挙げられる。ノボ
ラック樹脂としては半導体用等のポジ型レジスト組成物
に用いられる樹脂、例えばフェノール類とアルデヒド類
とを酸触媒の存在下に縮合して得られる公知の樹脂が挙
げられる。フェノール類としては上記公知樹脂の縮合に
用いられるものであれば特に制限されないが、例えばフ
ェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェ
ノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコー
ル、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、ビス
フェノールＣもしくはビスフェノールＡ等が挙げられ
る。これらのフェノール類は単独で、又は２種以上混合
して用いられる。アルデヒド類としては、例えばホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドもしくはベンズアルデヒド等
の脂肪族又は芳香族アルデヒドが挙げられる。ノボラッ
ク樹脂等のアルカリ可溶性樹脂は、例えば分別等の手段
を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノ
ールＣもしくはビスフェノールＡ等のポリフェノールを
アルカリ可溶性樹脂に添加してもよい。
【０００７】有機溶剤としては、例えばジオキサン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチル
エーテル、乳酸メチル、ピルビン酸エチルもしくはジメ
チルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は単独
で、或いは２種以上組み合わせて用いられる。
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブ
チロラクトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチル
エーテル、乳酸メチル、ピルビン酸エチルもしくはジメ
チルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は単独
で、或いは２種以上組み合わせて用いられる。
【０００８】レジスト材料を得るための組成物にはポジ
及びネガ型の２種が有り、前記のアルカリ可溶性樹脂、
有機溶剤及び色素以外に、前者の場合には溶解抑制剤と
してキノンジアジド化合物を含み、後者の場合には酸発
生剤及び架橋剤を含む。又、ポジ型組成物は好ましくは
架橋剤を含み、さらに酸発生剤を含んでいてもよい。ポ
ジ型レジストは露光によりアルカリ現像液に対する溶解
度に差が生ずることを利用して、露光部が除去され、非
露光部がポジ型レジストパターンとして残存する。即
ち、上記キノンジアジド化合物は露光により分解してア
ルカリ現像液に可溶になるが、一方、非露光部ではアル
カリ可溶性樹脂のアルカリ現像液に対する溶解度を抑制
するように作用する。そして、架橋剤はポジ型レジスト
パターンを加熱した際にパターンを硬化させる作用を有
し、又、酸発生剤はポジ型レジストパターンを全面露光
した際に、分解して酸を発生し、パターンを硬化させる
作用を有する。ネガ型レジストは露光により酸発生剤か
ら発生した酸及び架橋剤により、アルカリ可溶性樹脂が
硬化することを利用するものである。即ち、未硬化の樹
脂を含む非露光部がアルカリ現像液により除去され、一
方、硬化した樹脂を含む露光部はアルカリ現像液に不溶
であるからネガ型レジストパターンとして残存する。
及びネガ型の２種が有り、前記のアルカリ可溶性樹脂、
有機溶剤及び色素以外に、前者の場合には溶解抑制剤と
してキノンジアジド化合物を含み、後者の場合には酸発
生剤及び架橋剤を含む。又、ポジ型組成物は好ましくは
架橋剤を含み、さらに酸発生剤を含んでいてもよい。ポ
ジ型レジストは露光によりアルカリ現像液に対する溶解
度に差が生ずることを利用して、露光部が除去され、非
露光部がポジ型レジストパターンとして残存する。即
ち、上記キノンジアジド化合物は露光により分解してア
ルカリ現像液に可溶になるが、一方、非露光部ではアル
カリ可溶性樹脂のアルカリ現像液に対する溶解度を抑制
するように作用する。そして、架橋剤はポジ型レジスト
パターンを加熱した際にパターンを硬化させる作用を有
し、又、酸発生剤はポジ型レジストパターンを全面露光
した際に、分解して酸を発生し、パターンを硬化させる
作用を有する。ネガ型レジストは露光により酸発生剤か
ら発生した酸及び架橋剤により、アルカリ可溶性樹脂が
硬化することを利用するものである。即ち、未硬化の樹
脂を含む非露光部がアルカリ現像液により除去され、一
方、硬化した樹脂を含む露光部はアルカリ現像液に不溶
であるからネガ型レジストパターンとして残存する。
【０００９】キノンジアジド化合物としては、例えばｏ
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミド、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸エステル又はスルホン酸アミド、及びｏ−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル又はスルホン酸ア
ミド等が挙げられる。これらのエステル又はアミドは、
例えば半導体用等のポジ型レジスト組成物に用いられて
おり、公知である。
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミド、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸エステル又はスルホン酸アミド、及びｏ−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル又はスルホン酸ア
ミド等が挙げられる。これらのエステル又はアミドは、
例えば半導体用等のポジ型レジスト組成物に用いられて
おり、公知である。
【００１０】式 −（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0 （式中、Ｒ0 及びｓは前記と同じ意味を表わす。）で示
される基を有する架橋剤としては、例えば下式
される基を有する架橋剤としては、例えば下式
【００１１】
【化６】
【００１２】〔式中、Ｚは−ＮＲ1'Ｒ2'又はフェニル基
を表わす。Ｒ1'〜Ｒ6'は各々水素原子、−（ＣＨ2 ）S
ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 を表わすが、Ｒ1'〜Ｒ6'
の中少なくとも１つは−（ＣＨ2 ）S ＯＨ又は−（ＣＨ
2 ）S ＯＲ0 を表わすものとする。Ｒ0 は低級アルキル
基を表わす。ｓは１〜４の整数を表わす。〕で示される
化合物、或いは下式
を表わす。Ｒ1'〜Ｒ6'は各々水素原子、−（ＣＨ2 ）S
ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 を表わすが、Ｒ1'〜Ｒ6'
の中少なくとも１つは−（ＣＨ2 ）S ＯＨ又は−（ＣＨ
2 ）S ＯＲ0 を表わすものとする。Ｒ0 は低級アルキル
基を表わす。ｓは１〜４の整数を表わす。〕で示される
化合物、或いは下式
【００１３】
【化７】
【００１４】で示される化合物等が挙げられる。好まし
い−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 で示される基を有する架橋剤と
しては、例えばヘキサメチロールメラミンのヘキサメチ
ルエーテル、ヘキサエチルエーテル又はヘキサプロピル
エーテル等が挙げられる。
い−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 で示される基を有する架橋剤と
しては、例えばヘキサメチロールメラミンのヘキサメチ
ルエーテル、ヘキサエチルエーテル又はヘキサプロピル
エーテル等が挙げられる。
【００１５】酸発生剤としては紫外線、遠紫外線、電子
線及びＸ線等の照射線により直接もしくは間接的に酸を
発生するものであれば特に限定されないが、例えば特開
平４−163552号公報に記載されているトリハロメチルト
リアジン系化合物、特開平１−57777 号公報に記載され
ているジスルホン化合物、下式 Ｚ8 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ9 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ10 （式中、Ｚ8 及びＺ10は各々独立して置換されていても
よいアリール、アラルキル、アルキル、シクロアルキル
又は複素環基を表わし、Ｚ9 は置換されていてもよいア
リール基を表わす。）で示される化合物、特開平１−29
3339号公報に記載されているスルホン酸エステル基を含
む酸発生剤、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−（ＣＨ2 ）p −Ｚ11 （式中、Ｚ11は置換されていてもよいアリール基をｐは
０又は１を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−〔Ｃ（Ｚ12）（Ｚ13）〕q −Ｃ
（Ｏ）−Ｚ14 （式中、Ｚ12及びＺ13は各々独立して置換されていても
よいアルキル、アルコキシもしくはアリール基を、Ｚ14
は置換されていてもよいアリール基を、ｑは１又は２
を、各々表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ（Ｚ15）−Ｃ（Ｏ）−Ｚ16 （式中、Ｚ15は置換されていてもよいアルキル基を、Ｚ
16は置換されていてもよいアリール基を、各々表わ
す。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ17）（Ｚ18） （式中、Ｚ17は水素原子又は置換されていてもよいアル
キルもしくはアリール基を、Ｚ18は置換されていてもよ
いアリール基を、各々表わす。）で示される化合物等が
挙げられる。これら酸発生剤の具体例としては、下式
線及びＸ線等の照射線により直接もしくは間接的に酸を
発生するものであれば特に限定されないが、例えば特開
平４−163552号公報に記載されているトリハロメチルト
リアジン系化合物、特開平１−57777 号公報に記載され
ているジスルホン化合物、下式 Ｚ8 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ9 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ10 （式中、Ｚ8 及びＺ10は各々独立して置換されていても
よいアリール、アラルキル、アルキル、シクロアルキル
又は複素環基を表わし、Ｚ9 は置換されていてもよいア
リール基を表わす。）で示される化合物、特開平１−29
3339号公報に記載されているスルホン酸エステル基を含
む酸発生剤、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−（ＣＨ2 ）p −Ｚ11 （式中、Ｚ11は置換されていてもよいアリール基をｐは
０又は１を表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−〔Ｃ（Ｚ12）（Ｚ13）〕q −Ｃ
（Ｏ）−Ｚ14 （式中、Ｚ12及びＺ13は各々独立して置換されていても
よいアルキル、アルコキシもしくはアリール基を、Ｚ14
は置換されていてもよいアリール基を、ｑは１又は２
を、各々表わす。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ（Ｚ15）−Ｃ（Ｏ）−Ｚ16 （式中、Ｚ15は置換されていてもよいアルキル基を、Ｚ
16は置換されていてもよいアリール基を、各々表わ
す。）で示される化合物、下式 ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ17）（Ｚ18） （式中、Ｚ17は水素原子又は置換されていてもよいアル
キルもしくはアリール基を、Ｚ18は置換されていてもよ
いアリール基を、各々表わす。）で示される化合物等が
挙げられる。これら酸発生剤の具体例としては、下式
【００１６】
【化８】
【００１７】〔式中、Ｙ3 〜Ｙ5 は各々独立して置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アラ
ルキルもしくはピペリジノ基、又は−Ｎ（Ｙ6 ）
（Ｙ7 ）、−ＯＹ8 もしくは−ＳＹ9 を表わすが、少な
くとも１つはモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロゲン置換
アルキル基を表わすものとする。Ｙ6 〜Ｙ9 は各々独立
して水素原子、又は置換されていてもよいアルキルもし
くはアリール基を表わす。〕で示されるトリアジン系化
合物、下式
れていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アラ
ルキルもしくはピペリジノ基、又は−Ｎ（Ｙ6 ）
（Ｙ7 ）、−ＯＹ8 もしくは−ＳＹ9 を表わすが、少な
くとも１つはモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロゲン置換
アルキル基を表わすものとする。Ｙ6 〜Ｙ9 は各々独立
して水素原子、又は置換されていてもよいアルキルもし
くはアリール基を表わす。〕で示されるトリアジン系化
合物、下式
【００１８】
【化９】
【００１９】〔式中、Ｙ1 及びＹ2 は各々独立して水素
原子又は低級アルキル基を表わす。〕で示されるアセト
フェノン誘導体、下式
原子又は低級アルキル基を表わす。〕で示されるアセト
フェノン誘導体、下式
【００２０】
【化１０】
【００２１】〔式中、Ａ1 及びＡ2 は各々独立して水素
もしくはハロゲン原子又は低級アルキルもしくは低級ア
ルコキシ基を表わす。〕で示されるジスルホン化合物、
下式
もしくはハロゲン原子又は低級アルキルもしくは低級ア
ルコキシ基を表わす。〕で示されるジスルホン化合物、
下式
【００２２】
【化１１】
【００２３】等で示されるスルホン酸誘導体、下式
【００２４】
【化１２】
【００２５】等で示されるオニウム塩等が挙げられる。
【００２６】400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められ
た色を具備する色素としては、好ましくは有機溶剤及び
アルカリ現像液に可溶である３原色系並びに３補色系色
素が挙げられる。このような色素としては、シアン、マ
ゼンタ、イエロー、赤、青及び緑色を呈する色素の骨格
に、置換基として水素原子が１個置換されたスルホンア
ミド基を有するものが好ましい。色素の骨格としては、
例えばクマリン、スチリル、アゾ、アントラキノン、キ
サンテニウム及びフタロシアニン系等が挙げられる。
た色を具備する色素としては、好ましくは有機溶剤及び
アルカリ現像液に可溶である３原色系並びに３補色系色
素が挙げられる。このような色素としては、シアン、マ
ゼンタ、イエロー、赤、青及び緑色を呈する色素の骨格
に、置換基として水素原子が１個置換されたスルホンア
ミド基を有するものが好ましい。色素の骨格としては、
例えばクマリン、スチリル、アゾ、アントラキノン、キ
サンテニウム及びフタロシアニン系等が挙げられる。
【００２７】好ましいイエロー色素としては、例えば一
般式（Ｉ） Ｂ−Ａ−Ｍ （Ｉ） 〔式中、Ｍは下式
般式（Ｉ） Ｂ−Ａ−Ｍ （Ｉ） 〔式中、Ｍは下式
【００２８】
【化１３】
【００２９】（式中、Ｒ1 〜Ｒ3 は少なくとも１つが−
ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで、各々独立し
て水素原子、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2
−ＮＨ−Ｒを表わし、Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原
子又は４級アルキルアンモニウム塩（好ましくは水素原
子）を表わし、Ｒは置換されていてもよいアルキル、シ
クロヘキシルアルキル、アルキルカルボニルアミノアル
キル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、ア
ラルキルもしくはシクロアルキル基を表わす。）で示さ
れる基を、Ａは下式
ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで、各々独立し
て水素原子、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2
−ＮＨ−Ｒを表わし、Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原
子又は４級アルキルアンモニウム塩（好ましくは水素原
子）を表わし、Ｒは置換されていてもよいアルキル、シ
クロヘキシルアルキル、アルキルカルボニルアミノアル
キル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、ア
ラルキルもしくはシクロアルキル基を表わす。）で示さ
れる基を、Ａは下式
【００３０】
【化１４】
【００３１】（式中、Ｒ4 〜Ｒ12は水素原子、メチル
基、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒを表わす。）で示される架橋基を、ＢはＭ或いは下式
基、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒを表わす。）で示される架橋基を、ＢはＭ或いは下式
【００３２】
【化１５】
【００３３】で示される基を、それぞれ表わす。〕で示
される色素等が挙げられる。好ましいマゼンタ色素とし
ては、例えば一般式（II）
される色素等が挙げられる。好ましいマゼンタ色素とし
ては、例えば一般式（II）
【００３４】
【化１６】
【００３５】〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は各々独立して水素原
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わす。Ｒ17〜Ｒ19は少なくとも１つが−ＳＯ2 −Ｎ
Ｈ−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール
基、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。
Ｍ′及びＲはそれぞれ上記と同じ意味を有する。〕で示
される色素等が挙げられる。好ましいシアン色素として
は、例えば一般式（III)
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基
を表わす。Ｒ17〜Ｒ19は少なくとも１つが−ＳＯ2 −Ｎ
Ｈ−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原
子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール
基、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。
Ｍ′及びＲはそれぞれ上記と同じ意味を有する。〕で示
される色素等が挙げられる。好ましいシアン色素として
は、例えば一般式（III)
【００３６】
【化１７】
【００３７】〔式中、Ｐｃはフタロシアニン核を表わ
し、ｈ及びｉは各々−ＳＯ3 Ｍ′及び−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒの平均置換数を表わし、Ｍ′及びＲは各々前記と同じ
意味を表わす。但し、ｈ及びｉは各々、ｈ＋ｉ≦４であ
り、ｈ≦３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとす
る。〕で示される色素等が挙げられる。
し、ｈ及びｉは各々−ＳＯ3 Ｍ′及び−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒの平均置換数を表わし、Ｍ′及びＲは各々前記と同じ
意味を表わす。但し、ｈ及びｉは各々、ｈ＋ｉ≦４であ
り、ｈ≦３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとす
る。〕で示される色素等が挙げられる。
【００３８】一般式（Ｉ）で示される色素としては、例
えば
えば
【００３９】
【化１８】
【００４０】
【化１９】
【００４１】等が挙げられる。一般式（II）で示される
色素としては、例えば
色素としては、例えば
【００４２】
【化２０】
【００４３】
【化２１】
【００４４】等が挙げられる。上記例示において、Ｘ、
Ｙ及びＺ′はそれらの中、少なくとも１つが−ＳＯ2 −
ＮＨ−Ｒであるという条件つきで各々−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒ又は−ＳＯ3 Ｍ′を表わす。Ｒ及びＭ′は上記と同じ
意味を有する。本発明で用いられる色素は、例えばスル
ホン酸基を有する色素を常法によりクロル化して相当す
るスルホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン
等と反応させて製造することができる。或いは、本発明
で用いられる色素の前駆体をクロル化して相当するスル
ホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン等と反
応させた後、目的とする色素を製造しても良い。スルホ
ン酸基を有する色素としては、例えばカラーインデック
ス記載のC.I. Acid Colour 又はDirect Colour等から
選択されるものが挙げられる。好ましいポジ型レジスト
組成物は色素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化
合物及び有機溶剤に加えてさらに架橋剤を含む。色素の
使用量は通常、キノンジアジド化合物１００重量部に対
して１〜３００重量部である。好ましくは、色素使用量
はキノンジアジド化合物と同量以上である。
Ｙ及びＺ′はそれらの中、少なくとも１つが−ＳＯ2 −
ＮＨ−Ｒであるという条件つきで各々−ＳＯ2 −ＮＨ−
Ｒ又は−ＳＯ3 Ｍ′を表わす。Ｒ及びＭ′は上記と同じ
意味を有する。本発明で用いられる色素は、例えばスル
ホン酸基を有する色素を常法によりクロル化して相当す
るスルホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン
等と反応させて製造することができる。或いは、本発明
で用いられる色素の前駆体をクロル化して相当するスル
ホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン等と反
応させた後、目的とする色素を製造しても良い。スルホ
ン酸基を有する色素としては、例えばカラーインデック
ス記載のC.I. Acid Colour 又はDirect Colour等から
選択されるものが挙げられる。好ましいポジ型レジスト
組成物は色素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化
合物及び有機溶剤に加えてさらに架橋剤を含む。色素の
使用量は通常、キノンジアジド化合物１００重量部に対
して１〜３００重量部である。好ましくは、色素使用量
はキノンジアジド化合物と同量以上である。
【００４５】アルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂を含
む場合、アルカリ可溶性樹脂のより好ましい使用量は色
素量に対して重量比で1.5 倍量以下である。架橋剤及び
光酸発生剤の使用量は適宜設定される。
む場合、アルカリ可溶性樹脂のより好ましい使用量は色
素量に対して重量比で1.5 倍量以下である。架橋剤及び
光酸発生剤の使用量は適宜設定される。
【００４６】
【発明の効果】本発明のカラーフィルターは解像度、色
調、色再現性及び色濃度等の諸性能に優れ、且つ厚みが
小さい。
調、色再現性及び色濃度等の諸性能に優れ、且つ厚みが
小さい。
【００４７】
【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。実施例中、部は重量部を表わす。尚、以下の実
施例における共通の条件は次のとおりである。カラーフ
ィルターを製造する際、アクリル系樹脂をコーティング
したCCD （支持体）に色素、アルカリ可溶性樹脂及び有
機溶剤等を含むレジスト組成物をスピンコートし、加熱
により溶剤を蒸発させた後、マスクを通して露光を行い
〔ネガ型の場合は必要に応じて加熱（180 ℃、20分）
後〕現像して帯状パターン又はモザイクパターンを得た
〔露光は日立製作所（株）製ｉ線露光ステッパーHITACH
ILD-5010-i(NA＝0.40）又はニコン社製ｉ線露光ステッ
パーNIKON NSR （NA＝0.50）により行った。又、現像液
は住友化学工業（株）製SOPD又は３％テトラメチルアン
モニウムハイドロオキサイド水溶液を用いた〕。さら
に、ポジ型の場合はパターンを全面露光後、加熱（180
℃、20分）してカラーフィルターを得た。
明する。実施例中、部は重量部を表わす。尚、以下の実
施例における共通の条件は次のとおりである。カラーフ
ィルターを製造する際、アクリル系樹脂をコーティング
したCCD （支持体）に色素、アルカリ可溶性樹脂及び有
機溶剤等を含むレジスト組成物をスピンコートし、加熱
により溶剤を蒸発させた後、マスクを通して露光を行い
〔ネガ型の場合は必要に応じて加熱（180 ℃、20分）
後〕現像して帯状パターン又はモザイクパターンを得た
〔露光は日立製作所（株）製ｉ線露光ステッパーHITACH
ILD-5010-i(NA＝0.40）又はニコン社製ｉ線露光ステッ
パーNIKON NSR （NA＝0.50）により行った。又、現像液
は住友化学工業（株）製SOPD又は３％テトラメチルアン
モニウムハイドロオキサイド水溶液を用いた〕。さら
に、ポジ型の場合はパターンを全面露光後、加熱（180
℃、20分）してカラーフィルターを得た。
【００４８】参考例１ 下式
【００４９】
【化２２】
【００５０】で示される酸性染料〔住友化学工業（株）
製のSuminol Milling Yellow MR 〕２０ｇ、塩化チオニ
ル１００ml及びジメチルホルムアミド１５ｇの混合物を
還流下に３０分反応後、得られた反応混合物を氷水中に
注いだ。有機溶剤で抽出し、水洗、乾燥後、濃縮して対
応するスルホニルクロリドを得た。これをテトラヒドロ
フラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル
アミンとモル比１：２で反応させてスルホンアミド化合
物を得た。
製のSuminol Milling Yellow MR 〕２０ｇ、塩化チオニ
ル１００ml及びジメチルホルムアミド１５ｇの混合物を
還流下に３０分反応後、得られた反応混合物を氷水中に
注いだ。有機溶剤で抽出し、水洗、乾燥後、濃縮して対
応するスルホニルクロリドを得た。これをテトラヒドロ
フラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル
アミンとモル比１：２で反応させてスルホンアミド化合
物を得た。
【００５１】参考例２ 下式
【００５２】
【化２３】
【００５３】で示される染料を用いる以外は、参考例１
と同様にしてスルホニルクロリドを得た。これをテトラ
ヒドロフラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プ
ロピルアミンとモル比１：１で反応させてスルホンアミ
ド化合物を得た。
と同様にしてスルホニルクロリドを得た。これをテトラ
ヒドロフラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プ
ロピルアミンとモル比１：１で反応させてスルホンアミ
ド化合物を得た。
【００５４】参考例３及び４ ヘキサエトキシメチロール化メラミン0.２部、ｍ−クレ
ゾール／ｐ−クレゾール／ホルマリン（反応モル比＝５
／５／7.５）混合物から得られたクレゾールノボラック
樹脂１部、下式
ゾール／ｐ−クレゾール／ホルマリン（反応モル比＝５
／５／7.５）混合物から得られたクレゾールノボラック
樹脂１部、下式
【００５５】
【化２４】
【００５６】で示されるフェノール化合物のｏ−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の
水酸基がエステル化されている）0.７部、参考例１で得
たスルホンアミド化合物1.０部、ジメチルホルムアミド
３部及び乳酸エチル６部を混合後、孔径0.２μｍのメン
ブランフィルターを用いて加圧濾過してポジ型レジスト
組成物を調製した。又、スルホンアミド化合物を参考例
２で得た化合物に代える以外は上記と同様にして、ポジ
型レジスト組成物を調製した。
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の
水酸基がエステル化されている）0.７部、参考例１で得
たスルホンアミド化合物1.０部、ジメチルホルムアミド
３部及び乳酸エチル６部を混合後、孔径0.２μｍのメン
ブランフィルターを用いて加圧濾過してポジ型レジスト
組成物を調製した。又、スルホンアミド化合物を参考例
２で得た化合物に代える以外は上記と同様にして、ポジ
型レジスト組成物を調製した。
【００５７】参考例５ スルホンアミド化合物を田岡化学（株）製オレオゾール
ファストブルーRL（銅フタロシアニン骨格を有する）に
代える以外は、参考例３と同様にしてポジ型レジスト組
成物を調製した。
ファストブルーRL（銅フタロシアニン骨格を有する）に
代える以外は、参考例３と同様にしてポジ型レジスト組
成物を調製した。
【００５８】実施例１ 前記支持体（ＣＣＤ）上に参考例３〜５で得たレジスト
組成物を順番にパターニングしてカラーフィルターを得
た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現性
及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最小
透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レジ
スト材料の厚みが１μｍ以下であった。
組成物を順番にパターニングしてカラーフィルターを得
た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現性
及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最小
透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レジ
スト材料の厚みが１μｍ以下であった。
【００５９】実施例２ スルホンアミド化合物を、各々、下式
【００６０】
【化２５】
【００６１】で示される化合物に変える以外は、各々、
参考例３及び４と同様にしてポジ型レジスト組成物を調
製した。これらのレジスト組成物及び参考例５で得たレ
ジスト組成物を用いて、実施例１と同様にカラーフィル
ターを得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、
色再現性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、
光の最小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且
つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
参考例３及び４と同様にしてポジ型レジスト組成物を調
製した。これらのレジスト組成物及び参考例５で得たレ
ジスト組成物を用いて、実施例１と同様にカラーフィル
ターを得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、
色再現性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、
光の最小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且
つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
【００６２】参考例６ ３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンを、
１，５−ジメチル−ヘプチルアミンに変える以外は、参
考例１と同様にしてスルホンアミド化合物を得た。
１，５−ジメチル−ヘプチルアミンに変える以外は、参
考例１と同様にしてスルホンアミド化合物を得た。
【００６３】参考例７ 参考例６で得たスルホンアミド化合物0.7 部、参考例３
で用いたクレゾールノボラック樹脂１部、下式
で用いたクレゾールノボラック樹脂１部、下式
【００６４】
【化２６】
【００６５】で示されるフェノール化合物を用いて製造
されたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.7
部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン0.3 部及び乳
酸エチル9.5 部を混合し、参考例３と同様にしてポジ型
レジスト組成物を得た。
されたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.7
部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン0.3 部及び乳
酸エチル9.5 部を混合し、参考例３と同様にしてポジ型
レジスト組成物を得た。
【００６６】参考例８ 参考例３で用いたクレゾールノボラック樹脂１部に代え
て、下式
て、下式
【００６７】
【化２７】
【００６８】で示される化合物とホルムアルデヒドとの
混合物（モル比＝0.95／１）から得られたノボラック樹
脂0.3 部及びマルカリンカーCST-70〔丸善石油製のスチ
レン−ビニルフェノール共重合体〕0.7 部の混合樹脂を
用いる以外は、参考例７と同様にしてポジ型レジスト組
成物を得た。
混合物（モル比＝0.95／１）から得られたノボラック樹
脂0.3 部及びマルカリンカーCST-70〔丸善石油製のスチ
レン−ビニルフェノール共重合体〕0.7 部の混合樹脂を
用いる以外は、参考例７と同様にしてポジ型レジスト組
成物を得た。
【００６９】実施例３及び４ 参考例３で得たポジ型レジスト組成物に代えて各々参考
例７及び８で得たポジ型レジスト組成物を用いる以外
は、実施例１と同様にして得たカラーフィルターは、各
々、解像度、色調、色再現性及び色濃度（３種の色素の
波長範囲における、光の最小透過率が各々25％以下）等
の諸性能に優れ、且つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以
下であった。
例７及び８で得たポジ型レジスト組成物を用いる以外
は、実施例１と同様にして得たカラーフィルターは、各
々、解像度、色調、色再現性及び色濃度（３種の色素の
波長範囲における、光の最小透過率が各々25％以下）等
の諸性能に優れ、且つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以
下であった。
【００７０】参考例９〜11 ｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル
（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.7 部に
代えて下式
（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.7 部に
代えて下式
【００７１】
【化２８】
【００７２】で示される酸発生剤0.2 部を用い、且つ乳
酸エチル9.5 部に代えてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
3.5 部と乳酸エチル６部との混合溶剤を用いる以外は、
参考例８と同様にしてネガ型レジスト組成物を得た。参
考例６で得たスルホンアミド化合物に代えて、田岡化学
（株）製オレオゾールファストブルーRL（銅フタロシア
ニン骨格を有する）及び参考例２で得たスルホンアミド
化合物を各々用いる以外は、上記と同様にして各々、ネ
ガ型レジスト組成物を得た。
酸エチル9.5 部に代えてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
3.5 部と乳酸エチル６部との混合溶剤を用いる以外は、
参考例８と同様にしてネガ型レジスト組成物を得た。参
考例６で得たスルホンアミド化合物に代えて、田岡化学
（株）製オレオゾールファストブルーRL（銅フタロシア
ニン骨格を有する）及び参考例２で得たスルホンアミド
化合物を各々用いる以外は、上記と同様にして各々、ネ
ガ型レジスト組成物を得た。
【００７３】実施例５ 参考例９〜11で得たネガ型レジスト組成物を、実施例１
と同様に、順番にパターニングしてカラーフィルターを
得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現
性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最
小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レ
ジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
と同様に、順番にパターニングしてカラーフィルターを
得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現
性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最
小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レ
ジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
Claims (10)
- 【請求項１】支持体上に複数の有色フィルター要素を有
するカラーフィルターであって、該有色フィルター要素
の各々は400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色
を具備する色素及びアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト
材料により形成され、該レジスト材料の厚みは３μｍ以
下であり、且つ上記レジスト材料における吸光特性を予
め定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小
値で表現したときにその値が25％以下である、カラーフ
ィルター。 - 【請求項２】レジスト材料の厚みが２μｍ以下であり、
且つ、上記レジスト材料における吸光特性を予め定めら
れた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値で表現
したときにその値が20％以下である、請求項１に記載の
カラーフィルター。 - 【請求項３】レジスト材料が、 ａ）400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具
備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤を含むレ
ジスト組成物のコーティングを乾燥させて付着層を形成
する工程、 ｂ）上記付着層の予め定められた部分を照射線に露光す
る工程、 ｃ）露光した領域又は非露光領域をアルカリ現像してレ
ジストパターンを形成する工程、並びに ｄ）異なる色の上記レジスト組成物について、工程ａ）
〜ｃ）を繰り返す工程により得られるものである、請求
項１又は２に記載のカラーフィルター。 - 【請求項４】レジストパターンが架橋により硬化された
ものである、請求項３に記載のカラーフィルター。 - 【請求項５】架橋により硬化されたレジストパターンが
ポジ型又はネガ型である、請求項４に記載のカラーフィ
ルター。 - 【請求項６】400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められ
た色を具備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤
を含むレジスト組成物が、さらに、下式 −（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0 （式中、Ｒ0 は水素原子又は低級アルキル基を、ｓは１
〜４の整数を、各々表わす。）で示される基を有する架
橋剤を含むものである、請求項３〜５のいずれかに記載
のカラーフィルター。 - 【請求項７】400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められ
た色を具備する色素が一般式（Ｉ） Ｂ−Ａ−Ｍ （Ｉ） 〔式中、Ｍは下式 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ 3は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ
−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原子、
ハロゲン原子、−ＳＯ 3Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを
表わし、Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原子又は４級ア
ルキルアンモニウム塩を表わし、Ｒは置換されていても
よいアルキル、シクロヘキシルアルキル、アルキルカル
ボニルアミノアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキ
ル、アリール、アラルキルもしくはシクロアルキル基を
表わす。）で示される基を、Ａは下式 【化２】 （式中、Ｒ4 〜Ｒ12は水素原子、メチル基、ハロゲン原
子、−ＳＯ 3Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。）
で示される架橋基を、ＢはＭ或いは下式 【化３】 で示される基を、それぞれ表わす。〕で示される色素、
一般式（II） 【化４】 〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は各々独立して水素原子、置換され
ていてもよいアルキルもしくはアリール基を表わす。Ｒ
17〜Ｒ19は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒである
という条件付きで、各々独立して水素原子、置換されて
いてもよいアルキルもしくはアリール基、−ＳＯ 3Ｍ′
又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。Ｍ′及びＲはそれぞ
れ上記と同じ意味を有する。〕で示される色素、並びに
一般式（III) 【化５】 〔式中、Ｐｃはフタロシアニン核を表わし、ｈ及びｉは
各々ＳＯ 3Ｍ′及びＳＯ 2 −ＮＨ−Ｒの平均置換数を表
わし、Ｍ′及びＲは各々前記と同じ意味を表わす。但
し、ｈ及びｉは各々、ｈ＋ｉ≦４であり、ｈ≦３であ
り、且つｉ＝１〜４を満足するものとする。〕で示され
る色素である、請求項１に記載のカラーフィルター。 - 【請求項８】レジスト組成物が400 〜700 ｎｍの波長範
囲の予め定められた色を具備する色素、アルカリ可溶性
樹脂及び有機溶剤に加えてさらに、キノンジアジド化合
物及び架橋剤を含むものである、請求項３に記載のカラ
ーフィルター。 - 【請求項９】レジスト組成物中の色素量がキノンジアジ
ド化合物量に対して、重量比で１：１以上である請求項
８に記載のカラーフィルター。 - 【請求項１０】レジスト組成物中のアルカリ可溶性樹脂
がノボラック樹脂を含み、且つ、該アルカリ可溶性樹脂
量が色素量に対して、重量比で1.5 ：１以下である請求
項８又は９に記載のカラーフィルター。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2846494A JP3575045B2 (ja) | 1993-06-21 | 1994-02-25 | カラーフィルター |
| KR1019940013869A KR100332564B1 (ko) | 1993-06-21 | 1994-06-20 | 컬러필터 |
| US08/263,353 US5478680A (en) | 1993-06-21 | 1994-06-21 | Color filter |
| EP94109555A EP0631180B1 (en) | 1993-06-21 | 1994-06-21 | Color filter |
| DE69407349T DE69407349T2 (de) | 1993-06-21 | 1994-06-21 | Farbfilter |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-149086 | 1993-06-21 | ||
| JP14908693 | 1993-06-21 | ||
| JP2846494A JP3575045B2 (ja) | 1993-06-21 | 1994-02-25 | カラーフィルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772323A true JPH0772323A (ja) | 1995-03-17 |
| JP3575045B2 JP3575045B2 (ja) | 2004-10-06 |
Family
ID=26366582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2846494A Expired - Fee Related JP3575045B2 (ja) | 1993-06-21 | 1994-02-25 | カラーフィルター |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5478680A (ja) |
| EP (1) | EP0631180B1 (ja) |
| JP (1) | JP3575045B2 (ja) |
| KR (1) | KR100332564B1 (ja) |
| DE (1) | DE69407349T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853952A (en) * | 1995-08-30 | 1998-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color developing organic material, color developing resin composition and colored thin film pattern |
| KR100620853B1 (ko) * | 2002-11-08 | 2006-09-13 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 염료 함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법 |
| JP2010256709A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用青色着色組成物およびカラーフィルタ |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3433017B2 (ja) * | 1995-08-31 | 2003-08-04 | 株式会社東芝 | 感光性組成物 |
| JP4111281B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2008-07-02 | 共同印刷株式会社 | 液晶表示用カラーフィルタ |
| JP4266648B2 (ja) * | 2003-01-21 | 2009-05-20 | 三洋電機株式会社 | エレクトロルミネッセンス表示装置 |
| JP4303560B2 (ja) * | 2003-10-31 | 2009-07-29 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルターおよびその製造方法 |
| KR101259491B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2013-05-06 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색제함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법 |
| JP4926552B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2012-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有感光性組成物並びにそれを用いたカラーフィルター及びその製造方法 |
| JP4624943B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2011-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型感光性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| TW201036941A (en) * | 2009-03-30 | 2010-10-16 | Sumitomo Chemical Co | Method for producing sulfonamide compound |
| KR101486559B1 (ko) * | 2010-09-20 | 2015-01-26 | 제일모직 주식회사 | 컬러필터용 황색 수지 조성물 및 이를 이용한 황색 컬러필터 |
| US10268078B2 (en) * | 2013-08-23 | 2019-04-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113435A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-30 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性組成物 |
| EP0362441A1 (en) * | 1985-10-15 | 1990-04-11 | Polaroid Corporation | A method for making a color filter as well as a color filter thus made |
| JPH02144502A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JPH0491173A (ja) * | 1990-08-06 | 1992-03-24 | Chisso Corp | 光硬化性インキ |
| JPH04153657A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-05-27 | Nippon Kayaku Co Ltd | カラーフィルター形成用の光重合性組成物 |
| JPH04177203A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-24 | Toyo Gosei Kogyo Kk | カラーフィルターの着色画像形成方法 |
| JPH04301802A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JPH0534514A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-02-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフイルター用組成物溶液及びカラーフイルター |
| JPH0539450A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 顔料分散組成物、カラーフイルター用光重合性組成物溶液及びカラーフイルター |
| JPH0545879A (ja) * | 1991-08-20 | 1993-02-26 | Fujitsu Ltd | レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| JPH0566399A (ja) * | 1991-09-06 | 1993-03-19 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置 |
| JPH0611831A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 着色硬化性組成物およびカラーフィルタ |
| JPH06148888A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-27 | Tosoh Corp | カラーフィルター形成用ポジ型感光材料 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69130701T2 (de) * | 1990-10-29 | 1999-08-26 | Toyo Gosei Kogyo Kk | Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix |
| US5368976A (en) * | 1992-03-27 | 1994-11-29 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Pigment-dispersed color-filter composition comprising an alkali-soluble block copolymer as a binder |
-
1994
- 1994-02-25 JP JP2846494A patent/JP3575045B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-20 KR KR1019940013869A patent/KR100332564B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-06-21 US US08/263,353 patent/US5478680A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-21 DE DE69407349T patent/DE69407349T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-21 EP EP94109555A patent/EP0631180B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113435A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-30 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性組成物 |
| EP0362441A1 (en) * | 1985-10-15 | 1990-04-11 | Polaroid Corporation | A method for making a color filter as well as a color filter thus made |
| JPH02144502A (ja) * | 1988-11-26 | 1990-06-04 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JPH0491173A (ja) * | 1990-08-06 | 1992-03-24 | Chisso Corp | 光硬化性インキ |
| JPH04153657A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-05-27 | Nippon Kayaku Co Ltd | カラーフィルター形成用の光重合性組成物 |
| JPH04177203A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-24 | Toyo Gosei Kogyo Kk | カラーフィルターの着色画像形成方法 |
| JPH04301802A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JPH0539450A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 顔料分散組成物、カラーフイルター用光重合性組成物溶液及びカラーフイルター |
| JPH0534514A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-02-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフイルター用組成物溶液及びカラーフイルター |
| JPH0545879A (ja) * | 1991-08-20 | 1993-02-26 | Fujitsu Ltd | レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| JPH0566399A (ja) * | 1991-09-06 | 1993-03-19 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置 |
| JPH0611831A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 着色硬化性組成物およびカラーフィルタ |
| JPH06148888A (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-27 | Tosoh Corp | カラーフィルター形成用ポジ型感光材料 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5853952A (en) * | 1995-08-30 | 1998-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color developing organic material, color developing resin composition and colored thin film pattern |
| KR100620853B1 (ko) * | 2002-11-08 | 2006-09-13 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 염료 함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법 |
| JP2010256709A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用青色着色組成物およびカラーフィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0631180A1 (en) | 1994-12-28 |
| KR100332564B1 (ko) | 2002-09-25 |
| DE69407349T2 (de) | 1998-04-09 |
| JP3575045B2 (ja) | 2004-10-06 |
| DE69407349D1 (de) | 1998-01-29 |
| US5478680A (en) | 1995-12-26 |
| KR950001359A (ko) | 1995-01-03 |
| EP0631180B1 (en) | 1997-12-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040217 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040628 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716 Year of fee payment: 4 |
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| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090716 Year of fee payment: 5 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100716 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110716 Year of fee payment: 7 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110716 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120716 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120716 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 9 |
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