JPH0635182A - ポジ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 - Google Patents
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法Info
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- JPH0635182A JPH0635182A JP19213992A JP19213992A JPH0635182A JP H0635182 A JPH0635182 A JP H0635182A JP 19213992 A JP19213992 A JP 19213992A JP 19213992 A JP19213992 A JP 19213992A JP H0635182 A JPH0635182 A JP H0635182A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 解像度及び耐熱性等の諸性能に優れたポジ型
レジスト組成物、並びに耐溶剤性及び微細度等の諸性能
に優れたカラーフィルターを容易に製造する方法を提供
する。 【構成】 熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋
剤、色素及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成
物、並びに該ポジ型レジスト組成物を基体上に塗布後、
マスクを通して露光し、該露光部を現像してポジ型レジ
ストパターンを形成させ、上記ポジ型レジストパターン
を全面露光し、次いで露光後のポジ型レジストパターン
を硬化させることからなるカラーフィルターの製造方
法。
レジスト組成物、並びに耐溶剤性及び微細度等の諸性能
に優れたカラーフィルターを容易に製造する方法を提供
する。 【構成】 熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋
剤、色素及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成
物、並びに該ポジ型レジスト組成物を基体上に塗布後、
マスクを通して露光し、該露光部を現像してポジ型レジ
ストパターンを形成させ、上記ポジ型レジストパターン
を全面露光し、次いで露光後のポジ型レジストパターン
を硬化させることからなるカラーフィルターの製造方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルターに用い
られるポジ型レジスト組成物、及びそれを用いるカラー
フィルターの製造方法に関する。
られるポジ型レジスト組成物、及びそれを用いるカラー
フィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルター、特に電荷結合素子
（CCD ）もしくは液晶表示素子（LCD ）等の固体撮像素
子用カラーフィルターは、初めにフォトレジストにより
パターンを形成し、次いで染色する方法、或いは色素又
は顔料等の色材を添加したフォトレジストによりパター
ンを形成する方法を用いて製作されている。しかしなが
ら、前者の方法においては、染色工程の複雑さ及び工程
管理の困難さ等の問題点がある。一方、後者の方法とし
ては、例えば特開平４−163552号公報に記載されている
ような、顔料を分散したレジスト等を用いるものが提案
されている。この方法では、顔料自体１μｍ前後の粒子
を含んでいるために高解像度が要求されるCCD 用カラー
フィルターの製作には不適である。又、特開平４−1287
03号公報に記載されているような、樹脂溶液に感光剤及
び色素を溶解した色材をパターニングし、スピンオング
ラス（SOG ）を保護膜とする方法では、色パターンの安
定性等に問題がある。さらに、特開平２−127602及び特
開平４−175753号公報に記載されているようなノボラッ
ク樹脂、キノンジアジド化合物及び染料を含むポジ型レ
ジスト組成物を用いる方法では、パターン形成後に高温
・長時間の加熱を要するため、ノボラック樹脂の耐熱性
等に問題がある。
（CCD ）もしくは液晶表示素子（LCD ）等の固体撮像素
子用カラーフィルターは、初めにフォトレジストにより
パターンを形成し、次いで染色する方法、或いは色素又
は顔料等の色材を添加したフォトレジストによりパター
ンを形成する方法を用いて製作されている。しかしなが
ら、前者の方法においては、染色工程の複雑さ及び工程
管理の困難さ等の問題点がある。一方、後者の方法とし
ては、例えば特開平４−163552号公報に記載されている
ような、顔料を分散したレジスト等を用いるものが提案
されている。この方法では、顔料自体１μｍ前後の粒子
を含んでいるために高解像度が要求されるCCD 用カラー
フィルターの製作には不適である。又、特開平４−1287
03号公報に記載されているような、樹脂溶液に感光剤及
び色素を溶解した色材をパターニングし、スピンオング
ラス（SOG ）を保護膜とする方法では、色パターンの安
定性等に問題がある。さらに、特開平２−127602及び特
開平４−175753号公報に記載されているようなノボラッ
ク樹脂、キノンジアジド化合物及び染料を含むポジ型レ
ジスト組成物を用いる方法では、パターン形成後に高温
・長時間の加熱を要するため、ノボラック樹脂の耐熱性
等に問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の技
術の問題点を解決して、解像度及び耐熱性等の諸性能に
優れたポジ型レジスト組成物、並びにそれを用いる、工
程管理等の容易なカラーフィルターの製造方法を提供す
る。
術の問題点を解決して、解像度及び耐熱性等の諸性能に
優れたポジ型レジスト組成物、並びにそれを用いる、工
程管理等の容易なカラーフィルターの製造方法を提供す
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は熱硬化性樹脂、
キノンジアジド化合物、架橋剤、色素及び溶剤を含有し
てなるポジ型レジスト組成物、並びに、それを基体上に
塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像してポ
ジ型レジストパターンを形成させ、上記ポジ型レジスト
パターンを全面露光し、次いで露光後のポジ型レジスト
パターンを硬化させることからなるカラーフィルターの
製造方法である。
キノンジアジド化合物、架橋剤、色素及び溶剤を含有し
てなるポジ型レジスト組成物、並びに、それを基体上に
塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像してポ
ジ型レジストパターンを形成させ、上記ポジ型レジスト
パターンを全面露光し、次いで露光後のポジ型レジスト
パターンを硬化させることからなるカラーフィルターの
製造方法である。
【０００５】熱硬化性樹脂としては熱により硬化する性
質を有するものであれば特に制限されないが、好ましく
は、フェノール性水酸基もしくはカルボキシル基を有す
る樹脂、或いはJ. Photopolym. Sci. Technol. vol.3,N
o.3(1990) の第235 〜247 頁に記載されているようなヒ
ドロキシスチレン構造を含む共重合体、即ち、ｐ−ヒド
ロキシスチレンとｐ−アセトキシメチルスチレンとの共
重合体等が挙げられる。カルボキシル基を有する樹脂と
しては、例えばポリメタクリレートとマレイン酸無水物
との共重合体等が挙げられる。上記フェノール性水酸基
を有する樹脂としては、例えばアルカリ可溶性のフェノ
ール樹脂もしくはノボラック樹脂等が挙げられる。ノボ
ラック樹脂としては、例えばフェノール類とアルデヒド
類とを酸触媒の存在下に縮合して得られるものが挙げら
れる。フェノール類としては、例えばフェノール、クレ
ゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレ
ノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノ
ール、ピロガロール、ナフトール、ビスフェノールＣも
しくはビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェ
ノール類は単独で、又は２種以上組合わせて用いられ
る。アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒドもしくはベンズアルデヒド等の脂肪族又は芳
香族アルデヒドが挙げられる。フェノール性水酸基を有
する樹脂等の熱硬化性樹脂は必要により、分別等の手段
を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノ
ールＡもしくはビスフェノールＣ等のフェノール類を熱
硬化性樹脂に添加してもよい。
質を有するものであれば特に制限されないが、好ましく
は、フェノール性水酸基もしくはカルボキシル基を有す
る樹脂、或いはJ. Photopolym. Sci. Technol. vol.3,N
o.3(1990) の第235 〜247 頁に記載されているようなヒ
ドロキシスチレン構造を含む共重合体、即ち、ｐ−ヒド
ロキシスチレンとｐ−アセトキシメチルスチレンとの共
重合体等が挙げられる。カルボキシル基を有する樹脂と
しては、例えばポリメタクリレートとマレイン酸無水物
との共重合体等が挙げられる。上記フェノール性水酸基
を有する樹脂としては、例えばアルカリ可溶性のフェノ
ール樹脂もしくはノボラック樹脂等が挙げられる。ノボ
ラック樹脂としては、例えばフェノール類とアルデヒド
類とを酸触媒の存在下に縮合して得られるものが挙げら
れる。フェノール類としては、例えばフェノール、クレ
ゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレ
ノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノ
ール、ピロガロール、ナフトール、ビスフェノールＣも
しくはビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェ
ノール類は単独で、又は２種以上組合わせて用いられ
る。アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒドもしくはベンズアルデヒド等の脂肪族又は芳
香族アルデヒドが挙げられる。フェノール性水酸基を有
する樹脂等の熱硬化性樹脂は必要により、分別等の手段
を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノ
ールＡもしくはビスフェノールＣ等のフェノール類を熱
硬化性樹脂に添加してもよい。
【０００６】架橋剤としては、例えば下式 −（ＣＨ2 ）s ＯＲ （式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表わし、ｓ
は１〜４の整数を表わす。）で示される基を有する化合
物及びメラミンが挙げられる。上式で示される基を有す
る化合物としては、例えば下式
は１〜４の整数を表わす。）で示される基を有する化合
物及びメラミンが挙げられる。上式で示される基を有す
る化合物としては、例えば下式
【０００７】
【化１】
【０００８】〔式中、Ｚは−ＮＲ1 Ｒ2 又はフェニル基
を表わす。Ｒ1 〜Ｒ6 はこれらの中、少なくとも１つが
−（ＣＨ2 ）s ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）s ＯＲ7 を表わす
という条件付きで各々、水素原子、−（ＣＨ2 ）s ＯＨ
又は−（ＣＨ2 ）s ＯＲ7 を表わす。Ｒ7 は低級アルキ
ル基を表わす。ｓは１〜４の整数を表わす。）で示され
る化合物、或いは下式
を表わす。Ｒ1 〜Ｒ6 はこれらの中、少なくとも１つが
−（ＣＨ2 ）s ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）s ＯＲ7 を表わす
という条件付きで各々、水素原子、−（ＣＨ2 ）s ＯＨ
又は−（ＣＨ2 ）s ＯＲ7 を表わす。Ｒ7 は低級アルキ
ル基を表わす。ｓは１〜４の整数を表わす。）で示され
る化合物、或いは下式
【０００９】
【化２】
【００１０】
【化３】
【００１１】で示される化合物等が挙げられる。Ｒ及び
Ｒ1 〜Ｒ7 で表わされる低級アルキル基としてはメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル又はｎ−ブチル基が挙げら
れ、好ましい低級アルキル基としてはメチル又はエチル
基が挙げられる。式(i) 〜(ii)で示される化合物は各
々、ｐ−クレゾール又はｔ−ブチルフェノールを塩基性
条件下でホルムアルデヒドと縮合させることにより製造
することができる。又、式(iii) 〜(vi)で示される化合
物は特開平１−293339号公報に記載された公知化合物で
ある。式−（ＣＨ2 ）s ＯＲで示される基を有する、好
ましい化合物としては、例えばヘキサメトキシメチロー
ル化メラミン、ヘキサメトキシエチロール化メラミン又
はヘキサメトキシプロピロール化メラミン等が挙げられ
る。
Ｒ1 〜Ｒ7 で表わされる低級アルキル基としてはメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル又はｎ−ブチル基が挙げら
れ、好ましい低級アルキル基としてはメチル又はエチル
基が挙げられる。式(i) 〜(ii)で示される化合物は各
々、ｐ−クレゾール又はｔ−ブチルフェノールを塩基性
条件下でホルムアルデヒドと縮合させることにより製造
することができる。又、式(iii) 〜(vi)で示される化合
物は特開平１−293339号公報に記載された公知化合物で
ある。式−（ＣＨ2 ）s ＯＲで示される基を有する、好
ましい化合物としては、例えばヘキサメトキシメチロー
ル化メラミン、ヘキサメトキシエチロール化メラミン又
はヘキサメトキシプロピロール化メラミン等が挙げられ
る。
【００１２】キノンジアジド化合物としては、例えばｏ
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル又は
スルホン酸アミド、或いはｏ−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド等が挙げ
られる。これらのエステル又はアミドは、例えば特開平
２−84650 及び特開平３−49437 号公報に一般式（Ｉ）
で記載されているフェノール化合物等を用いて公知の方
法により製造することができる。
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル又は
スルホン酸アミド、或いはｏ−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド等が挙げ
られる。これらのエステル又はアミドは、例えば特開平
２−84650 及び特開平３−49437 号公報に一般式（Ｉ）
で記載されているフェノール化合物等を用いて公知の方
法により製造することができる。
【００１３】色素としてはカラーフィルターとして望ま
しいスペクトルを有し、且つ、上記熱硬化性樹脂を溶解
する溶剤にそのままで、或いは変性した形で溶解する染
料等を用いることができる。これらの染料としては、例
えば油溶性染料、分散染料、反応性染料、酸性染料もし
くは直接染料等が挙げられる。これらの染料の具体例と
しては、例えば住友化学工業（株）製スミプラスト（Su
miplast ）もしくはオレオゾール（Oleosol ）染料、チ
バガイギー社製オラゾール染料或いはBASF社製Neozapon
染料等が挙げられる溶剤としては、例えばメチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ピルビン酸
エチルもしくはジメチルホルムアミド等が挙げられる。
これらの溶剤は単独で、或いは２種以上組合わせて用い
られる。
しいスペクトルを有し、且つ、上記熱硬化性樹脂を溶解
する溶剤にそのままで、或いは変性した形で溶解する染
料等を用いることができる。これらの染料としては、例
えば油溶性染料、分散染料、反応性染料、酸性染料もし
くは直接染料等が挙げられる。これらの染料の具体例と
しては、例えば住友化学工業（株）製スミプラスト（Su
miplast ）もしくはオレオゾール（Oleosol ）染料、チ
バガイギー社製オラゾール染料或いはBASF社製Neozapon
染料等が挙げられる溶剤としては、例えばメチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、酢酸エ
チル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ピルビン酸
エチルもしくはジメチルホルムアミド等が挙げられる。
これらの溶剤は単独で、或いは２種以上組合わせて用い
られる。
【００１４】熱硬化性樹脂は通常、溶剤中に２〜50重量
％程度の割合で溶解させる。キノンジアジド化合物、架
橋剤及び色素の使用量は通常、上記の熱硬化性樹脂溶液
に対して各々２〜20、２〜50及び0.1 〜20重量％程度で
ある。
％程度の割合で溶解させる。キノンジアジド化合物、架
橋剤及び色素の使用量は通常、上記の熱硬化性樹脂溶液
に対して各々２〜20、２〜50及び0.1 〜20重量％程度で
ある。
【００１５】ポジ型レジストは露光によりアルカリ現像
液に対する溶解度に差が生ずることを利用して、露光部
が除去され、未露光部がポジ型パターンとして残存する
ものである。即ち、上記キノンジアジド化合物は露光に
より分解してアルカリ現像液に可溶となるが、一方、未
露光部では上記樹脂のアルカリ現像液に対する溶解を抑
制するように作用する。露光には、例えば水銀ランプ等
の紫外線、遠紫外線、電子線もしくはＸ線等が用いられ
る。
液に対する溶解度に差が生ずることを利用して、露光部
が除去され、未露光部がポジ型パターンとして残存する
ものである。即ち、上記キノンジアジド化合物は露光に
より分解してアルカリ現像液に可溶となるが、一方、未
露光部では上記樹脂のアルカリ現像液に対する溶解を抑
制するように作用する。露光には、例えば水銀ランプ等
の紫外線、遠紫外線、電子線もしくはＸ線等が用いられ
る。
【００１６】図１〜図５に本発明方法の一態様を示す。
基体に、熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋
剤、色素及び溶剤を含む組成物を塗布後、溶剤を蒸発さ
せる（図１参照）。マスクを通した露光により露光部の
キノンジアジド化合物を分解する（図２参照）。現像
後、未露光部のポジ型レジストパターンを得る（図３参
照）。この未露光部のポジ型レジストパターンを全面露
光する（図４参照）。ポジ型レジストパターンを加熱す
ることにより硬化（保持）させる（図５参照）。全面露
光を行ってキノンジアジド化合物を分解させた後に、硬
化させる本発明方法は、ポジ型レジストパターンの耐溶
剤性を高める。
基体に、熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋
剤、色素及び溶剤を含む組成物を塗布後、溶剤を蒸発さ
せる（図１参照）。マスクを通した露光により露光部の
キノンジアジド化合物を分解する（図２参照）。現像
後、未露光部のポジ型レジストパターンを得る（図３参
照）。この未露光部のポジ型レジストパターンを全面露
光する（図４参照）。ポジ型レジストパターンを加熱す
ることにより硬化（保持）させる（図５参照）。全面露
光を行ってキノンジアジド化合物を分解させた後に、硬
化させる本発明方法は、ポジ型レジストパターンの耐溶
剤性を高める。
【００１７】
【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。実施例中、部は重量部を表わす。尚、以下の実
施例における共通の条件は次のとおりである。カラーフ
ィルターの製造方法については、シリコンウエハーに熱
硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、色素及び
溶剤を含むポジ型レジスト組成物をスピンコートし、加
熱により溶剤を蒸発させた後、マスクを通して露光を行
い、キノンジアジド化合物を分解させた。必要により、
加熱後、現像してモザイクパターンを得た。露光は日立
製作所（株）製ｉ線露光ステッパーHITACHI LD-5010-i
(NA＝0.40) により行った。又、現像液は住友化学工業
（株）製SOPD又はSOPD-Bを用いた。
明する。実施例中、部は重量部を表わす。尚、以下の実
施例における共通の条件は次のとおりである。カラーフ
ィルターの製造方法については、シリコンウエハーに熱
硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、色素及び
溶剤を含むポジ型レジスト組成物をスピンコートし、加
熱により溶剤を蒸発させた後、マスクを通して露光を行
い、キノンジアジド化合物を分解させた。必要により、
加熱後、現像してモザイクパターンを得た。露光は日立
製作所（株）製ｉ線露光ステッパーHITACHI LD-5010-i
(NA＝0.40) により行った。又、現像液は住友化学工業
（株）製SOPD又はSOPD-Bを用いた。
【００１８】実施例１ ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルムアルデヒド
（反応モル比＝５／５／7.5 ）混合物から得られたクレ
ゾールノボラック樹脂（ポリスチレン換算重量平均分子
量4300）3.4 部、下式
（反応モル比＝５／５／7.5 ）混合物から得られたクレ
ゾールノボラック樹脂（ポリスチレン換算重量平均分子
量4300）3.4 部、下式
【００１９】
【化４】
【００２０】で示されるフェノール化合物を用いて製造
されたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル（平均２個の水酸基がエステル化されている）1.8
部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン0.8 部、乳酸
エチル20部及び住友化学工業（株）製オレオゾールブル
ーEL１部を混合してポジ型レジスト組成物を得た。
されたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル（平均２個の水酸基がエステル化されている）1.8
部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン0.8 部、乳酸
エチル20部及び住友化学工業（株）製オレオゾールブル
ーEL１部を混合してポジ型レジスト組成物を得た。
【００２１】実施例２ 実施例１で得たポジ型レジスト組成物をシリコンウエハ
ーにスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリコン
ウエハーを露光後、100 ℃で加熱し、次いでアルカリ現
像により露光部を除去して0.8 μｍの解像度を有するポ
ジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、150 ℃・
15分加熱してシアンカラーフィルターを得た。
ーにスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリコン
ウエハーを露光後、100 ℃で加熱し、次いでアルカリ現
像により露光部を除去して0.8 μｍの解像度を有するポ
ジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、150 ℃・
15分加熱してシアンカラーフィルターを得た。
【００２２】実施例３ 住友化学工業（株）製オレオゾールブルーELに代えて住
友化学工業（株）製オレオゾールイエロー2Gを用いる以
外は、実施例１と同様にしてポジ型レジスト組成物を得
た。以下、実施例２と同様の操作を行ってイエローカラ
ーフィルターを得た。
友化学工業（株）製オレオゾールイエロー2Gを用いる以
外は、実施例１と同様にしてポジ型レジスト組成物を得
た。以下、実施例２と同様の操作を行ってイエローカラ
ーフィルターを得た。
【００２３】実施例４ 実施例１で用いたクレゾールノボラック樹脂10部、ヘキ
サメトキシメチロール化メラミン２部、実施例１の式で
示されるフェノール化合物のｏ−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸アミド1.8 部、エチルセロソルブアセ
テート60部、及びチバガイギー社製オラゾールピンク
（マゼンタ染料）１部を混合してポジ型レジスト組成物
を得た。このポジ型レジスト組成物をシリコンウエハー
にスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリコンウ
エハーを露光後、アルカリ現像して１μｍの解像度を有
するポジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、15
0 ℃・10分加熱してマゼンタカラーフィルターを得た。
サメトキシメチロール化メラミン２部、実施例１の式で
示されるフェノール化合物のｏ−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸アミド1.8 部、エチルセロソルブアセ
テート60部、及びチバガイギー社製オラゾールピンク
（マゼンタ染料）１部を混合してポジ型レジスト組成物
を得た。このポジ型レジスト組成物をシリコンウエハー
にスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリコンウ
エハーを露光後、アルカリ現像して１μｍの解像度を有
するポジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、15
0 ℃・10分加熱してマゼンタカラーフィルターを得た。
【００２４】実施例５ ポリメチルメタクリレートと無水マレイン酸との共重合
体10部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン２部、実
施例１で用いたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸エステル10部、ジメチルホルムアミド80部及び住友
化学工業（株）製オレオゾールブルーEL２部を混合して
ポジ型レジスト組成物を得た。このポジ型レジスト組成
物をシリコンウエハーにスピンコートした後、溶剤を蒸
発させた。シリコンウエハーを露光後、100 ℃で加熱し
た。次いで、アルカリ現像して１μｍの解像度を有する
ポジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、150 ℃
・10分加熱してシアンカラーフィルターを得た。
体10部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン２部、実
施例１で用いたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸エステル10部、ジメチルホルムアミド80部及び住友
化学工業（株）製オレオゾールブルーEL２部を混合して
ポジ型レジスト組成物を得た。このポジ型レジスト組成
物をシリコンウエハーにスピンコートした後、溶剤を蒸
発させた。シリコンウエハーを露光後、100 ℃で加熱し
た。次いで、アルカリ現像して１μｍの解像度を有する
ポジ型着色パターンを得た。これを全面露光後、150 ℃
・10分加熱してシアンカラーフィルターを得た。
【００２５】実施例６ 実施例１で用いたクレゾールノボラック樹脂10部、ヘキ
サメチロール化メラミン2.5 部、実施例１で用いたｏ−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５部、
エチルセロソルブアセテート60部及び実施例３で用いた
オレオゾールイエロー2G２部を混合してポジ型レジスト
組成物を得た。このポジ型レジスト組成物をシリコンウ
エハーにスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリ
コンウエハーを露光後、100 ℃で加熱した。次いで、ア
ルカリ現像して１μｍの解像度を有するポジ型着色パタ
ーンを得た。これを全面露光後、150 ℃・10分加熱して
イエローカラーフィルターを得た。別途、オレオゾール
イエロー2Gに代えて実施例４で用いたオラゾールピンク
を用いる以外は、上記同様に操作してポジ型レジスト組
成物を得た。このレジスト組成物を、上記イエローカラ
ーフィルターの上に塗布し、イエローカラーフィルター
を得た場合と同様にして操作し、マゼンタカラーフィル
ターを得た。さらに、実施例１で得たポジ型レジスト組
成物をマゼンタカラーフィルターの上に塗布し、実施例
２と同様に処理してシアンカラーフィルターを得た。こ
のようにして、イエロー、マゼンタ及びシアンの補色系
カラーフィルターを得た。
サメチロール化メラミン2.5 部、実施例１で用いたｏ−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル５部、
エチルセロソルブアセテート60部及び実施例３で用いた
オレオゾールイエロー2G２部を混合してポジ型レジスト
組成物を得た。このポジ型レジスト組成物をシリコンウ
エハーにスピンコートした後、溶剤を蒸発させた。シリ
コンウエハーを露光後、100 ℃で加熱した。次いで、ア
ルカリ現像して１μｍの解像度を有するポジ型着色パタ
ーンを得た。これを全面露光後、150 ℃・10分加熱して
イエローカラーフィルターを得た。別途、オレオゾール
イエロー2Gに代えて実施例４で用いたオラゾールピンク
を用いる以外は、上記同様に操作してポジ型レジスト組
成物を得た。このレジスト組成物を、上記イエローカラ
ーフィルターの上に塗布し、イエローカラーフィルター
を得た場合と同様にして操作し、マゼンタカラーフィル
ターを得た。さらに、実施例１で得たポジ型レジスト組
成物をマゼンタカラーフィルターの上に塗布し、実施例
２と同様に処理してシアンカラーフィルターを得た。こ
のようにして、イエロー、マゼンタ及びシアンの補色系
カラーフィルターを得た。
【００２６】比較例１ 全面露光の操作を行わない以外は、実施例３と同様にし
て得た（但し、150 ℃の加熱は10分行った）イエローカ
ラーフィルターの上に実施例４で得たマゼンタ色ポジ型
レジスト組成物を塗布したところ、イエローカラーフィ
ルターのポジ型レジストパターンが溶解してしまった。
て得た（但し、150 ℃の加熱は10分行った）イエローカ
ラーフィルターの上に実施例４で得たマゼンタ色ポジ型
レジスト組成物を塗布したところ、イエローカラーフィ
ルターのポジ型レジストパターンが溶解してしまった。
【００２７】
【発明の効果】本発明のポジ型レジスト組成物は解像度
及び耐熱性等の諸性能に優れている。又、本発明方法に
よれば熱硬化性樹脂及び架橋剤を含むポジ型レジストを
用いるため、耐溶剤性及び微細度等の諸性能に優れたカ
ラーフィルターを容易に製造することができる。
及び耐熱性等の諸性能に優れている。又、本発明方法に
よれば熱硬化性樹脂及び架橋剤を含むポジ型レジストを
用いるため、耐溶剤性及び微細度等の諸性能に優れたカ
ラーフィルターを容易に製造することができる。
【図１】基体に塗布されたレジスト組成物である。
【図２】マスクを通して露光する工程である。
【図３】現像後のポジ型レジストパターンである。
【図４】ポジ型レジストパターンを全面露光する工程で
ある。
ある。
【図５】硬化したポジ型レジストパターンである。
【図６】実施例１のレジスト組成物を用いて石英ウエハ
ー上に作製したシアンカラーフィルター（幅は約３μ
ｍ）の透過率曲線である〔大塚電子（株）製MCPD-1000
により測定〕。
ー上に作製したシアンカラーフィルター（幅は約３μ
ｍ）の透過率曲線である〔大塚電子（株）製MCPD-1000
により測定〕。
１ レジスト組成物 ２ キノンジアジド化合物 ３ 色素 ４ 基体 ５ マスク ６ ポジ型レジストパターン
Claims (4)
- 【請求項１】熱硬化性樹脂、キノンジアジド化合物、架
橋剤、色素及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成
物。 - 【請求項２】熱硬化性樹脂がノボラック樹脂であり、キ
ノンジアジド化合物がｏ−ナフトキノンジアジド化合物
である請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。 - 【請求項３】架橋剤が下式 −（ＣＨ2 ）s ＯＲ （式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表わし、ｓ
は１〜４の整数を表わす。）で示される基を有する化合
物である請求項１又は２に記載のポジ型レジスト組成
物。 - 【請求項４】請求項１に記載のポジ型レジスト組成物を
基体上に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現
像してポジ型レジストパターンを形成させ、上記ポジ型
レジストパターンを全面露光し、次いで露光後のポジ型
レジストパターンを硬化させることからなるカラーフィ
ルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19213992A JPH0635182A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19213992A JPH0635182A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0635182A true JPH0635182A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16286341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19213992A Pending JPH0635182A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635182A (ja) |
Cited By (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0917000A2 (en) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition and method for forming a resist pattern |
| US6033813A (en) * | 1997-06-20 | 2000-03-07 | Sony Corporation | Method of manufacturing color filter |
| WO2002083795A2 (en) | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coloring composition for image formation and method for improving ozone resistance of color image |
| JP2003075625A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Sony Corp | カラーフィルタおよびその製造方法 |
| US6713227B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-03-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a green filter layer |
| US6733934B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-05-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a red filter layer |
| US6770405B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-08-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a blue filter layer |
| US6864022B2 (en) | 2000-06-30 | 2005-03-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a yellow filter layer |
| JP2006058700A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| US7301012B2 (en) | 2003-10-14 | 2007-11-27 | Fujifilm Corporation | Azo dye, image-forming coloring composition, ink for ink jet recording, heat-sensitive recording material, color toner and color filter |
| EP1980592A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-15 | FUJIFILM Corporation | Coloring composition, thermal transfer recording ink sheet, thermal transfer recording method, color toner, inkjet ink, color filter, and azo dye |
| WO2009034971A1 (ja) | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Fujifilm Corporation | 置換基脱離化合物の製造方法、有機半導体膜およびその製造方法 |
| WO2009110557A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料組成物、アゾ顔料組成物の製造方法、アゾ顔料組成物を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2009110558A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料組成物、アゾ顔料組成物の製造方法、アゾ顔料組成物を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2009110553A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、該アゾ顔料を含む顔料分散物及び着色組成物 |
| EP2163586A1 (en) | 2005-02-07 | 2010-03-17 | Fujifilm Corporation | Coloring matter, ink, ink for ink jet, ink jet recording method, color toner, and color filter |
| WO2010035845A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、及びアゾ顔料を含む分散物、着色組成物 |
| WO2010067784A1 (ja) | 2008-12-09 | 2010-06-17 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、アゾ顔料を含む分散物、及び着色組成物 |
| EP2228409A2 (en) | 2009-03-11 | 2010-09-15 | FUJIFILM Corporation | Color composition for color filter, method for preparing it, and color filter |
| EP2230278A2 (en) | 2009-03-11 | 2010-09-22 | FUJIFILM Corporation | Color composition for color filter, method for preparing it, and color filter |
| KR101035260B1 (ko) * | 2003-03-10 | 2011-05-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 염료 함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 컬러필터 제조방법 |
| EP2390283A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Azo pigment or tautomer thereof, process for producing same, pigment dispersion, coloring composition, inkjet recording ink, coloring composition for color filter, and color filter |
| EP2402404A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-04 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, inkjet recording ink, coloring composition for color filter, and color filter |
| WO2013018680A1 (ja) | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、アゾ顔料を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2013018487A1 (ja) | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク並びに分散物の製造方法 |
| WO2013031428A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 富士フイルム株式会社 | トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー |
| WO2013069667A1 (ja) | 2011-11-08 | 2013-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2014077291A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2014077223A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、該着色組成物を用いたインクジェット記録用インク、該インクジェット記録用インクを用いたインクジェット記録方法、インクカートリッジ、及び、インクジェット記録物 |
| WO2015105108A1 (ja) | 2014-01-10 | 2015-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP19213992A patent/JPH0635182A/ja active Pending
Cited By (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100491434B1 (ko) * | 1997-06-20 | 2005-08-01 | 소니 가부시끼 가이샤 | 색필터의 제조방법 |
| US6033813A (en) * | 1997-06-20 | 2000-03-07 | Sony Corporation | Method of manufacturing color filter |
| EP0917000A3 (en) * | 1997-11-17 | 2000-08-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition and method for forming a resist pattern |
| EP0917000A2 (en) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition and method for forming a resist pattern |
| US6713227B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-03-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a green filter layer |
| US6733934B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-05-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a red filter layer |
| US6770405B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-08-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a blue filter layer |
| US6821691B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-11-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a red filter layer |
| US6864022B2 (en) | 2000-06-30 | 2005-03-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a yellow filter layer |
| US7078137B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-07-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a green filter layer |
| US7153619B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-12-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Color filter array having a blue filter layer |
| WO2002083795A2 (en) | 2001-04-09 | 2002-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coloring composition for image formation and method for improving ozone resistance of color image |
| JP2003075625A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Sony Corp | カラーフィルタおよびその製造方法 |
| KR101035260B1 (ko) * | 2003-03-10 | 2011-05-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 염료 함유 경화성 조성물, 컬러필터 및 컬러필터 제조방법 |
| US7301012B2 (en) | 2003-10-14 | 2007-11-27 | Fujifilm Corporation | Azo dye, image-forming coloring composition, ink for ink jet recording, heat-sensitive recording material, color toner and color filter |
| JP2006058700A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP4524155B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法 |
| EP2163586A1 (en) | 2005-02-07 | 2010-03-17 | Fujifilm Corporation | Coloring matter, ink, ink for ink jet, ink jet recording method, color toner, and color filter |
| EP1980592A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-15 | FUJIFILM Corporation | Coloring composition, thermal transfer recording ink sheet, thermal transfer recording method, color toner, inkjet ink, color filter, and azo dye |
| WO2009034971A1 (ja) | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Fujifilm Corporation | 置換基脱離化合物の製造方法、有機半導体膜およびその製造方法 |
| WO2009110558A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料組成物、アゾ顔料組成物の製造方法、アゾ顔料組成物を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2009110553A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、該アゾ顔料を含む顔料分散物及び着色組成物 |
| WO2009110557A1 (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料組成物、アゾ顔料組成物の製造方法、アゾ顔料組成物を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2010035845A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、及びアゾ顔料を含む分散物、着色組成物 |
| WO2010067784A1 (ja) | 2008-12-09 | 2010-06-17 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、アゾ顔料を含む分散物、及び着色組成物 |
| EP2228409A2 (en) | 2009-03-11 | 2010-09-15 | FUJIFILM Corporation | Color composition for color filter, method for preparing it, and color filter |
| EP2230278A2 (en) | 2009-03-11 | 2010-09-22 | FUJIFILM Corporation | Color composition for color filter, method for preparing it, and color filter |
| EP2390283A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-11-30 | FUJIFILM Corporation | Azo pigment or tautomer thereof, process for producing same, pigment dispersion, coloring composition, inkjet recording ink, coloring composition for color filter, and color filter |
| EP2402404A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-04 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, inkjet recording ink, coloring composition for color filter, and color filter |
| WO2013018680A1 (ja) | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料、アゾ顔料の製造方法、アゾ顔料を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2013018487A1 (ja) | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 富士フイルム株式会社 | アゾ顔料を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク並びに分散物の製造方法 |
| WO2013031428A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 富士フイルム株式会社 | トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー |
| WO2013069667A1 (ja) | 2011-11-08 | 2013-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2014077291A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2014077223A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、該着色組成物を用いたインクジェット記録用インク、該インクジェット記録用インクを用いたインクジェット記録方法、インクカートリッジ、及び、インクジェット記録物 |
| WO2015105108A1 (ja) | 2014-01-10 | 2015-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク |
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