JPH07502536A - ベンゾピラン及び関連のltb↓4アンタゴニスト - Google Patents

ベンゾピラン及び関連のltb↓4アンタゴニスト

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JPH07502536A JP51318493A JP51318493A JPH07502536A JP H07502536 A JPH07502536 A JP H07502536A JP 51318493 A JP51318493 A JP 51318493A JP 51318493 A JP51318493 A JP 51318493A JP H07502536 A JPH07502536 A JP H07502536A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ベンゾピラン及び関連のLTB4アンタゴニスト本発明は新規のベンゾピラン及 び他のベンゾ縮合ロイコトリエンB4(LTB4)アンタゴニスト、上記化合物 を含む薬剤組成物及びLTB4アンタゴニストとして上記化合物を使用する方法 に関わる。
本発明の化合物はLTB4の作用を阻止し、そのため、慢性関節リウマチ、変形 性関節症、炎症性腸疾患、乾癖及び湿疹、紅斑皮膚、掻痒症、ざ癒のような他の 皮膚疾患、脳卒中及び他の形態の再潅流(reperfusion)疾患、移植 片拒絶反応、自己免疫性疾患、喘息並びに顕著な好中球湿潤が発生している他の 状態を含む炎症性疾患のようなLTB4誘因の病気の治療に有用である。
LTB、アンタゴニストはヨーロッパ特許公告276064と292 977に 開示されており、これらの明細書はそれぞれ、ジフェニルエーテル、ベンゾフェ ノン及び2つのフェニル基を含む他の化合物、7−(3−アルコキシ−4−アル カノイル−フェノキシ)アルコキシベンゾビラン誘導体を言及している。
本発明によれば、式I AはO,CH2、S、NH,又はN(01〜c、アルキル)。
nは0,1又は2: の、b位又はC位における置換基: R2、R8、R9及びRIGは水素であるが又はそれぞれが独立してフルオロ、 クロロ、CI〜Caフルキル、c1〜C8アルコキン、01〜C4ペルフルオロ アルキル、01〜C4ペルフルオロアルコキン、01〜c6アルキルチオ、cl 〜C6アルキルスルフイニル又はC1〜c6アルキルスルホニルの1つもしくは 任意の2つ; R3は−(CH2) −CHR”RI2、− (CH2)、R”、0 (CH2 )、CHR”R”又は−(CH2)、RI2 (式中、pは0.1又は2、qは 0.1.2又は3である);R4はカルボキン、テトラゾリル又はR13S O zN HCO: R目は水素、C,−C,アルキル又はR8置換フェニル(式中、R8は上記定義 の通りである);R12及びR13は水素であるか又はそれぞれが独立してC1 〜C6アルキルもしくはC3〜C8シクロアルキル、又は、それぞれが任意でフ ェニル、R9もしくはR9置換フェニル(式中、R9は上記定義の通りである) で置換された、フェニル、チェニル、ピリジル、フリル、ナフチル、キノリル、 イソキノリル、ピリミジニルもしくはピラジニルである]の化合物、並びにカル ボキシ基を含む式lの上記化合物の塩及びエステル(前記エステルは、01〜C 6アルキル、フェニル(C,〜Cs)アルキル、C8〜C7シクロアルキル及び 、フルオロ、クロロ、CI−C,アルキルもしくは01〜C6アルコキンで置換 された、フェニル及びベンジルから成る群から選択されたエステル基を含む) がLTB4アンタゴニスト特性を有することが見いだされた。
本発明の好ましい化合物は、式Iの式中、Aが酸素である化合物、nが1である 化合物、R1がC位の置換基である化合物、R2が水素又はモノフルオロである 化合物、及びR3がペンシル、4−フルオロベンジル、4−フェニルベンジル、 4− (4−フルオロフェニル)ベンジル、フェネチル又はフェノキシ、好まし くはベンジル又は4−フェニルベンジルである化合物である。
より特定の式Iの化合物は、式中、Aが酸素、nが1、R1がC位の置換基であ る化合物、及び、Aが酸素、nが1、R1がC位にある、2−カルボキシフェニ ル、3−カルボキシフェニル、2−カルボキシ−3−フルオロフェニル、2−カ ルボキン−4−フルオロフェニル、2−カルボキン−5−フルオロフェニル、2 −カルボキシ−6−フルオロフェニル、2−カルボキシ−5−トリフルオロメチ ルフェニル、2−テトラゾリル−5−フルオロフェニル、2−カルボキシ−5− クロロフェニル又は2−カルボキシ−5−メトキノフェニル R2が水素又はモ ノフルオロ、R3がベンジル、4−フルオロベンジル、4−フェニルベンジル、 4−(4−フルオロフェニル)ベンジル、フェネチル又はフェノキンである化合 物である。
特定の化合物は、式中、Aが酸素、nが1、R2が水素、R3がベンジル、4− フルオロベンジル、4−フェニルベンジル、4− (4−フルオロフェニル)ベ ンジル、フェネチル又はフェノキシ及び、R1がC位にある、2−カルボキシフ ェニル、3−カルボキシフェニル、2−カルボキシ−3−フルオロフェニル、2 −カルボキシ−4−フルオロフェニル、2−カルボキシ−5−フルオロフェニル 、2−カルボキシ−6−フルオロフェニル、2−カルボキシ−5−トリフルオロ メチルフェニル、2−テトラゾリル−5−フルオロフェニル、2−カルボキシ− 5−クロロフェニル又は2−カルボキシ−5−メトキシフェニルである化合物、 及びこれらの特定の化合物のなかで、R3と隣接するヒドロキシ基がトランスで ある化合物である。
本発明はまた、LTB、誘因の病気の治療に有効な量の上記に定義された式■の 化合物及び薬学的に許容できるキャリヤを含む、LTB4誘因の病気の治療のた めの薬剤組成物に関わる。
本発明は更に、上記に定義された式Iの化合物をLTB4の受容体結合抑制が必 要な患者に投与することによる、前記抑制のための方法を包含する。
本発明は更に、式■ [式中、A、n、R2及びR3は式Iに関して上記定義の通りであり、R1は式 ■ (式中、RIOは式Iに関して上記定義の通りである)の、b又は0位における 置換基である]の中間化合物の製造方法を包含し、前記製造方法は、式■ (式中、R”は上記定義の通りである)の化合物をn−ブ(式中、R2、R3、 A及びnは式Iに関して上記定義の通りであり、CF3SO3基はb位又は0位 にある)の化合物(式中、Xはクロロ、ブロモ又はイオドであり、RIOは上記 定義の通りである)の化合物と反応させることからなる。
上記式Vの化合物は、式■ の中で星印で示されている2個の不斉炭素原子を有する。
チルリチウム、続いてZnXzC式中、Xは上記定義の通りである)と反応させ ることによって現場で(in 5itu)製造される。
r C+〜C6アルキル」という語がR1〜RI4の定義等の本文の説明に使用 される場合は常に、メチル、エチル、プロピル、t−ブチル、ヘキシル等の1〜 6個の炭素原子を有する一価の直鎖又は枝分かれ飽和脂肪族炭化水素基を指す。
同様に、C3〜C7シクロアルキル及び03〜C8ンクロアルキルという語はシ クロプロピル、シクロヘキシル、シクロオクチル等の3〜7又は8個の炭素原子 をそれぞれ有するシクロアルキル基を指す。
式■の化合物でAが酸素、nが1であるとき、前記化合物は3,4−ノヒドロペ ンゾピラン又はクロマンと記載してもよい。
本発明の化合物は式 その立体異性体は標準的な命名法に従ってR,S表示法によって示し得る。ここ で、S、R又はR,Sと表示されていれば、1つの鏡像体的に純粋な化合物を意 味し、一方S“、R及びR“、Slはラセミ混合物を示す。本発明は、式1のラ セミ混合物及び光学異性体を含む。
本発明の特定の方法によれば、上記の式■(式中、R1は式■の置換基である) の中間化合物は、上記に定義された式■の化合物を上記に定義された式Vの化合 物と反応させることによって製造される。この反応は一般的に、例えばテトラヒ ドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、1.4 −ジオキサン、好ましくはテトラヒドロフラン等のエーテル溶剤のような溶剤の 中で実施する。反応には、触媒Iの触媒、特に、反応条件の下でパラジウム(P d″)を与える任意のパラジウム源、特に、例えばテトラキストリフェニルホス フィンパラジウムのようなパラジウム触媒を存在させる。反応は普通、使用され る溶剤の還流温度又はほぼ還流温度、好ましくは約78℃で実施される。反応時 間は一般的に約1〜24時間、例えば約3時間である。
式Vの化合物は、上記の式■の化合物を約−78℃の低温でヘキサン中のn−ブ チルリチウム又は5ec−ブチルリチウムと反応させ、次に一般的に約0〜78 ℃で約1〜4時間、Z n X 2 (式中、Xはイオド、ブロモ又はクロロで ある)と反応させることによって現場で製造される。
式■のケトン(式中、A、n、R’、R2及びR3は式Iに関して定義された通 りである)は、水素化ホウ素ナトリウムとの反応によって、式Iの対応するヒド ロキシル化合物に還元され得る。一般的に還元は溶剤の中で実施される。
適当な溶剤は1〜6個の炭素原子を有する低級アルコール、低級アルコールと例 えばテトラヒドロフラン又はジオキサンのような有機溶剤との混合物及び水混和 性の低級アルコール又は他の水混和性の有機溶剤と水との混合物である。
前記溶剤は、好ましくはメタノール又はエタノールのような低級アルコールであ る。反応温度は一般的には約−780C〜約100°C1普通約0°C〜約25 ℃である。
還元工程の結果、 トランス シス の構造を有する式■の化合物の立体異性体混合物が生じる。
上記のシス及びトランス異性体は従来のカラムクロマトグラフィーによって分離 できる。
シス及びトランス異性体の分離後に生じる鏡像体混合物の分割は当業者に公知の 方法で実施され得る。1つの方法では、式I (式中、R+はカルボキシル基C ool−1を含む)の化合物をエーテルのような極性溶剤中でメチルベンジルア ミンのようなキラル塩基と反応させてジアステレオマー塩を生成し、前記塩を分 離してから水性又はメタノール性塩化水素のような酸との処理によって光学的に 純粋な酸に転化させる。別の方法では、式l(式中、R1はエステル基を含む) の化合物をR−マンデル酸又はN−t−ブトキシカルボニル−D−トリプトファ ンのような光学活性酸と反応させてジアステレオマーエステルを生成し、前記エ ステルを例えばクロマトグラフィーによって分離して光学的に純粋なエステルに 転化させる。分割エステル基の除去及びR1のカルボン酸エステル基の加水分解 は、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属のような水性塩基で、およそ室温 から使用される溶剤又は溶剤混合物の還流又沸騰温度までの間の温度で実施され るのが好都合である。反応をメタノール、エタノール又はテトラヒドロフラン等 の補助溶剤の存在下で実施してもよい。
式■ (式中、R4はオキサシリルである)の化合物は、まず任意にジメチルス ルホキシドの存在下で、ヨウ化メチルと反応させてから水性の水酸化ナトリウム 等の塩基と反応させることによって、対応する式I (式中、R4はカルボキシ である)の化合物に転化させる。
式■[式中、R3は(CH2) qCHR”RI2又は(CHz)QR’2であ る]の化合物は、式■(式中、A、n及びR2は式Iに関して上記定義の通りで ある)の化合物からスキーム1の反応に従って製造され得る。
式■の化合物をトリエチルアミンの存在下で塩化メチレンのような適当な溶剤の 中で(無水トリフリックともいわれる)無水トリフルオロメタンスルホン酸と反 応させて式■の化合物を生成する。
(CH2) −CHR”R”又は−(CH2) 、R12と定義される基R3は 、式R”R”CI((CH2) 、1−ICHO又はR” (CH2)、−+C HOのアルデヒドと反応させて式XA又はXBの化合物をそれぞれ生成し、次に 水素化することからなる2段階の手順によって式■の化合物に導入され得る。前 記アルデヒドとの反応はピロリジン触媒の存在下又は酢酸の中で塩酸触媒の存在 下で実施される。水素化は慣用の方法で水素及びパラジウム触媒を用いて実施さ れる。
式■の化合物は一般的に市販されている。さもなければ、先行技術の方法によっ て得られる。例えば、式■(式中、Aは酸素、nは1である)の化合物は、R2 置換2′、4′−ジヒドロキシ−3−クロロプロピオフェノン(以後、化合物1 )から水酸化ナトリウムでの環化によって得られる。化合物1は、酸、好ましく はトリフルオロメタンスルホン酸の存在下でR2置換レゾルシノール及び3−ク ロロプロピオン酸から製造され得る。式■(式中、Aは硫黄、nは1である)の 化合物は、同様に、R2置換4′−ヒドロキシ−2′ −スルフヒドリル−3− クロロ−プロピオフェノンから得られ、これはR2置換3−ヒドロキシチオフェ ノールから製造され得る。
式■(式中、nは2、AはO又はSである)の化合物は、同様に、R2置換レゾ ルシノールもしくは3−ヒドロキシチオフェノールと4−クロロ酪酸との反応及 び水酸化ナトリウムによる環化によって得られる。
−O(CH2)、CHRIIR”又は−〇 (CH2) −R12と定義される 基R3は、スキーム■に略述された方法によって式■の化合物に導入され得る。
スキーム■ 式Xの化合物は式■(式中、R3は水素である)の化合物を20%の水酸化カリ ウムと混合し、ヨウ化フェニルジアセトキ/を添加することによって製造され得 る。
式Xの化合物とBr (CH2)jcHR目R’2又はBr(CH2)、R12 から式■の化合物が生成され、これは塩酸のような酸による加水分解によって弐 XIの化合物に転化される。式X■の化合物は還元されて式■の化合物を生成す る。
上記の還元は周囲温度でアルコール溶剤中で水素化ホウ素ナトリウムで従来の方 法によって実施される。
上記の式■の化合物はスキーム■によって式I(式中、R1は式1に関して上記 定義の通りであり、R4はカルボキシである)の化合物に転化され得る。
IV 弐Xll’の化合物は、使用する基質1モルにつき約0.1〜約5モル当量のト リフェニルホスフィンのようなホスフィン配位子の存在下で、(CH3) 3S  n S n (CH3) 3及びテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ ム(Pd (PPh3)4)又は塩化ビスベンゾニトリルパラジウムのようなパ ラジウム触媒に式■の化合物を反応させることによって生成される。式XIVの 化合物は、式(式中、R10は式Iに関して上記定義の通りであり、RI4は0 1〜C6アルキル、フェニル又はベンジル、Zはイオド、ブロモ又はCF、SO 2である)のエステル保護化合物との反応によって式XVの化合物に転化される 。前記カップリング反応は、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム又は 塩化ビストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム触媒の存在下で実施 される。
式Xvのケトンエステルは最初に対応するヒドロキシル化合物Xl’l(式は示 さず)に還元し、次に式Iの対応する酸に加水分解される。上記還元は式■のケ トンの還元に関して前記したように水素化ホウ素ナトリウムによって実施する。
上記酸への加水分解はほぼ室温から使用される溶剤の還流温度又は沸点までの温 度で、メタノール又はエタノールのような補助溶剤の任意の存在下で、水酸化ナ トリウム等の水酸化アルカリ金属のような水性塩基で実施され得る。
式I [式中、R1は (式中、R”及びR′3は式Iに関して上記定義の通りである)である]の化合 物は、1,3−ジシクロへキシルカルボジイミド又は1− [3−(ジメチルア ミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミドのようなカップリング剤の存在下 及びピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ チルアミノ又はジアゾビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エンのような有機 塩基の存在下で、式I (式中、R1は、 である)の化合物を式R13S02NH2のスルホンアミドと反応させることに よって得られる。上記反応は、はぼ室温から使用される反応溶剤のほぼ沸点まで の間の温度で、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、トルエン及びクロロベ ンゼンのような溶剤中で実施される。
式I (式中、R4はテトラゾリルである)の化合物は、式I [式中、R4は カルボキシル01〜C4アルキルエステル基(−CO2(C−C< )アルキル )である]の対応するエステル化合物から得られる。前記エステル化合物を最初 に、好ましくはジメチルホルムアミドの極性非プロトン性溶剤中、トリエチルア ミンもしくはピリジン又は好ましくはイミダゾール等の有機塩基の存在下で塩化 t−ブチルジメチルシリルと反応させて、当業者に公知のようにヒドロキシル基 を保護する。前記保護されたエステル化合物をキシレン中でアンモニア及びトリ (CI−C4)アルキルアルミニウムと反応させてカルボキシルエステル基をシ アノと置換する。ンアノ基を約110℃でトルエン中でトリメチルスタンニルア ジドと反応させる。テトラヒドロフラン中での弗化テトラブチルアンモニウムと の反応によってテトラゾリルへ転換しシリル保護基を除去して、式■ (式中、 R4はテトラゾリルである)の化合物を得る。
カルボキシ基を含む式Iの化合物の塩は、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ 金属又は水酸化マグネシウム等の水酸化アルカリ土類金属のような塩基との反応 によって従来の方法で製造され得る。カルボキシ基を含む化合物■のエステルは 、エタノール、フェニル(C+〜Co)アルコール、C3〜C7シクロアルカノ ール、フェノール又は、1〜3つのフルオロ、クロロ、C3〜C6アルキルもし くはC1〜C6アルコキシによって置換されたフェノールのようなC,−C,ア ルコールと酸基を反応させることによって従来の方法で製造され得る。
本発明の化合物は、経口的、非経口的及び局所的方法を含む種々の経路並びに座 薬及び浣腸の使用によってLTB4誘因の病気の治療のためにヒトに投与され得 る。経口投与では、1日に約0.5〜1000mg、有利には1日に約5〜50 0mgの投与量レベルが1回の投与又は3回以下の分割投与で与えられ得る。静 脈内投与については、投与レベルは1日に約0.1〜500mg、有利には1日 に約1.0〜100mgである。静脈投与には連続点滴を含み得る。当業者には 公知のように、治療される患者の年齢、体重及び状態並びに選択された特定の投 与経路によって変えられる。
本発明の化合物は単独て投与してもよいが、一般的には宇 所望の投与経路及び標準的な薬刷技術に関して選択された薬剤的キャリヤと混合 して投与される。例えば前記化合物は、デンプン又は乳糖等の賦形剤を含む錠剤 の形で、又はカプセル単独でもしくは賦形剤と混合したカプセルで、又は着香剤 もしくは着色剤を含むエリキシル剤もしくは懸濁剤の形で経口投与され得る。前 記化合物は、例えば、筋肉内、静脈内又は皮下に非経口的に注射され得る。非経 口投与については、他の溶質、例えば溶液を等張にするのに十分な塩又はグルコ ースを含み得る無菌水溶液の形で使用するのが一番よい。
本発明の化合物のLTB、活性は、本発明の化合物が、モルモットの牌臓膜上の 特異的LTB、受容体サイトに対して放射線標識したLTB4と競合する能力を 比較することによって測定し得る。モルモットの牌臓膜をCheng他(J、P harmacology and Experimental Therape utics 232:80.1985)に記載されているように作成した。3H L T B 4結合アッセイは、5QmMのトリスpH7,3,10mMのMg Cl2.9%のメタノール、0.7nMの8HL T B 4(N E N 、 約200Ci/mmo I)及び0゜33mg/mlのモルモット牌臓膜を含む 150μl中で実施した。非標識LTB4を濃度5μMで添加して非特異的結合 を測定した。実験化合物を種々の濃度で添加して3H−LTB、結合への影響を 調べた。反応物を4℃で30分間インキュベートした。膜結合3H−LTB4を グラスファイバーのフィルターによるろ過によって収集し、結合量をンンチレー ションカウントで測定した。実験化合物に対するIC,。という値は、特異的3 H−LTB、結合が50%抑制される濃度である。
以下の実施例で、本発明の化合物の製造を示す。
レゾルシノール(200g、1.82mo 1)と3−りoロプロピオン酸(2 00g、1.84mo+)との撹拌混合物にトリフルオロメタンスルホン酸(1 kg)を一度に添加した。前記溶液を45分かけてゆっ(す80℃まで加熱、1 5分かけて室温に冷却し、クロロホルム(4,OL)に注入した。前記有機部分 をゆっくり水(4,OL)に注入し、層を分離した。水性層をクロロホルム(2 X 2゜OL)で抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄、硫酸ナトリウム 上で乾燥しろ過した。真空での濃縮によりオレンジの半固体244.1gが得ら れ、これをそのまま精製せず次の工程で使用した。
’H−NMR(300MHz、CDCI3): 12.56(IH,s) 、7 .63 (IH,d、J=7.6Hz)、6.37〜6.46 (2H,m)  、3.92 (2H1t。
J=6.3Hz) 、3.41 (2H,t、J=6.3Hz)2Nの水酸化ナ トリウムの冷却(5℃)溶液(10,OL)に工程Aの化合物(244,1g) を一度に添加した。
前記溶液を湯浴を使用して2時間かけて室温に加熱後、5℃に再冷却し、6Mの 硫酸(1,2L)にょつてpH2に調整した。前記混合物を3X3.OLの酢酸 エチルで抽出、ブライン(IX2.OL)で洗浄、硫酸ナトリウム上で乾燥しろ 過した。真空での濃縮により淡褐色の固体を得た。
ヘキサンによる摩砕及びろ過によって173.7g(収率58%)の表題化合物 を得た。M、P、136℃〜137℃。
工程Bの化合物(173,7g、1.05mo +)の−78℃の塩化メチレン (3,OL)中の撹拌溶液に、トリエチルアミン(320g、3.16mo 1 )及びジメチルアミノピリジン(2,5g)を添加した。完全な溶解後、無水ト リフルオロメタンスルホン酸(327gS1.16moりを20分かけて滴下添 加し、材料を一78℃で30分間撹拌し、2時間かけて室温に加温した。前記反 応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液(2,5L)に注入して層を分離した。水 性層を2X2.OLの塩化メチレンで抽出した。合わせた有機部分を水(lxl 、OL)で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥しろ過した。真空でのa縮により赤い 油を得た。ヘキサン:酢酸エチル(8: 1)によって溶離する、シリカゲル( 1kg)上でのクロマトグラフィーによって、溶剤除去後に211.1g(収率 69%)の表題化合物を得た。M、P、43〜44℃。
工程Cの生成物(27g、91.2mmol)の183mLのメタノール中の撹 拌溶液にベンズアルデヒド(11゜1mL、109mmo +) 、次にピロリ ジン(9,1mL。
109mmol)を添加した。前記混合物を一晩室温で撹拌、0℃に冷却し、ろ 過した。固体を水冷メタノール50mLで1度洗浄、次に真空で乾燥することに よって35゜2g(収率75%)の表題化合物を回収した。M、P、133〜1 35°c。
’H−NMR(300MHz、CDCI3): 8.11(IH,d、J=8. 7Hz) 、7.91 (IH,bs)、7.40〜7.51 (2H,m)  、7.24〜7.38(3H,m) 、6.97 (IH,dd、J=8.7H z。
2.4Hz) 、6.91 (IHXd、J=2.4Hz)、5.40 (IH ,bs)。
500mLのパールシェーカーフラスコに収容されている、工程りの化合物(2 6,6g、69.2mmo I)(7)250mLの酢酸エチル中の溶液に、炭 素上の10%のパラジウム触媒(1,3g)を添加した。約3時間後に水素捕捉 が終了するまで40ps iで前記混合物を水素化した。
前記混合物をセライト(珪藻土の商標名)を通してろ過してパラジウム触媒を除 去し、シリカゲル(ヘキサン−エーテル)上でクロマトグラフィーし、25.1 g(収率94%)の表題化合物を得た。M、P、55〜58℃。
’HNMR(300MHz%CDC13): 8.01 (1H,dS J=8 .5Hz) 、7.20〜7.35 (5H。
m) 、6.981〜6.96 (2H,m) 、4.42 (IH,dd、J =11.6.4. 4Hz) 、4.22 (LH。
ddS J=11.6Hz、8.7Hz) 、3.26 (IH。
ddS J=14.0.4.4Hz) 、2.90〜3.05(LH,m) 、 2. 70 (IHS dd、J=14.0.8゜工程Eの化合物(9,20g 、25.Qmmo ])の2QQmLのジオキサン中の撹拌溶液に、塩化リチウ ム(3゜20.75.Qmmo I) 、Pd (PPh3)4(1,15g、 1.Qmmo 1) 、ブチル化ヒドロキシトルエンの3結晶及びヘキサメチル ジチン(9,0g、27.5mm。
l)を添加した。前記混合物を1.5時間加熱還流し、室温に冷却し150mL の飽和水性塩化アンモニウム溶液に注入した。前記混合物を3X150mLのジ エチルエーテルで抽出し、合わせた有機部分をブラインで洗浄、硫酸ナトリウム 上で乾燥しろ過した。真空での蒸発によって得た黄色の半固体をシリカゲル(ヘ キサンニエーテル=5 : 1)上でクロマトグラフィーして8.90g(収率 89%)の表題生成物を得た。M、P、84〜86℃。
’HNMR(300MHz、CDCIs): 7.85 (LH,d、J=8. 7Hz) 、7.1.8〜7.37 (5H。
m) 、7.14 (IH,d、J=8..7Hz) 、7.11(IH,s)  、4.38 (IHSdd、J=11.6.4゜5Hz) 、4.17 (I H,dd、、J=11.6Hz、8゜4Hz) 、3.28 (IH,dd、1 J=14.0.4.4Hz) 、2.84〜2.95 (IHSm) 、2.7 1 (IH,dd、J=14HzSJ=11..0Hz) 、0.31工程Fの 化合物(7,0g、17.5mmol)のジメチルホルムアミド(DMF)(3 5mL)中の撹拌溶液に、Pd (PPhs)2C12(490mg10.7m mo +)、BITの3結晶及びメチル−3−イオドベンゾエート(5゜Og、 19.1mmolを添加した。前記混合物を還流で1.5時間撹拌し、室温に冷 却し150mLの飽和水性塩化アンモニウム溶液に注入した。前記混合物を3X 150mLのジエチルエーテルで抽出し、合わせた抽出物を2×100mLの水 、次にブラインで洗浄した。前記溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥、ろ過し真空で 蒸発して黄色の油を得た。シリカゲル(ヘキサン:エーテルが4;1の溶離)上 でのクロマトグラフィーによって、粘性な油として6゜51gの表題化合物を得 た。
’HNMR(300MHzSCDCIg): 8.29 (LH,tSJ−1, 6Hz) 、8.06 (IH1ddSJ=7.6.1.6Hz) 、8.00  (IH,dSJ=8.2Hz) 、7.79 (IHSddSJ=7.6Hz 、1.6Hz) 、7.53 (LHlt、J=7.6Hz) 、7.22〜7 .36(7H1m) 、4.41 (IHSddSJ=11.6.4.5Hz)  、4.21 (IHSdd、J=11.6.8.5Hz) 、3.94 (3 H,s) 、3.31(LH,ddSJ=14.0.4.4hz) 、2.91 〜2.99 (IH,m) 、2.73 (IH,dd、J=14゜シー3−フ ェニルメチル−ベンゾピラン工程Gの化合物(6,50g、17.5mmol) の室温のメタノール35mL中の撹拌溶液に、水素化ホウ素ナトリウム(940 mg、26.0mmol)を1度に添加した。暗色の混合物を室温で2時間撹拌 し、飽和水性塩化アンモニウム溶液(75mL)に注入し、3 X 75mLの ジエチルエーテルで抽出した。合わせた抽出物をブラインで洗浄、硫酸ナトリウ ム上で乾燥、ろ過、真空で濃縮してオフイエローの油を得た。ヘキサン:エーテ ル(4: 1)で溶離する、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによって、ま ず表題化合物のシス型環状異性体3.26g、次に粘性な油として表題化合物の トランス型異性体1.98gを得た。総酸率は81%であった。
シス型環状異性体:’HNMR(300MHz、CDCl5)+ 8.26 ( IHS t、J=1.7Hz) 、8.02 (IH,dtSJ=7.8.1. 7Hz) 、7.76(IH,dt、J=7.8.1.7Hz) 、7.50  (H。
t、J=7.8Hz) 、7.41 (IH,d、J=7.9Hz) 、7.3 1 (IH,d、7.3Hz) 、7.14〜7.25 (6H,m) 、4. 58 (IH,tSJ=7.2Hz)、4.28 (IH,dd、J=9.1. 2.5Hz)、4.03 (IH,ddSJ=9.1.5.4Hz) 、3゜9 3 (3HS s) 、2. 78 (IH) 、2. 77 (IH。
dd、J=13. 7.6. 2Hz) 、2. 58 (IH,dd、J=1 3. 7.9. 1Hz) 、2. 20〜2. 29(IH,m) 、1.  83 (IH,dS J=7. 2Hz) 。
トランス型環状異性体: ’HNMR(300MHz、CDCI3): 8.2 3 (IHS t、J=1.7Hz) 、7゜98 (LH,dtSJ=7.8 Hz) 、7.74 (IHlt、 J=7.8Hz、1.7Hz) 、7.4 8 (IH,t、J=7.8Hz) 、7.20〜7.36 (6H,m) 、 7゜15 (IH%dd、J=8.0.1.8Hz) 、7.09(1■]、d 、J=1.8Hz) 、4.56 (IH,dt。
J=4.7.3.8Hz) 、4.12〜4.19 (2H。
m) 、3.92 (3H,s) 、2.90 (IH,dd、J=13.6. 8.4Hz) 、2.70 (IH,dd、J=13.6.7.2Hz) 、2 .36〜2.39 (IH,m)、1.75 (IH1dSJ=4.7Hz)。
工程l]の化合物(2,5g、6.7mmol)のCHCH2C1z7O中の撹 拌溶液に、DMAP (897mg。
7、 34mmol、1. 1eq) 、DCC(1,51g17.34mmo  I、1.1eq)及びN−t−Boc−L−トリプトファン(2,4g、8. 01mmol、1.2eq)を添加した。前記混合物を室温で12時間撹拌、ろ 過し、1MのHCLとブラインとで洗浄した。有機層をMgSO4上で乾燥、ろ 過して真空で濃縮した。クロマトグラフィー(シリカゲル、シクロヘキサン:エ ーテル=3:1)によって860mgの低極性なジアステレオマー(Rf=0. 3)及び700mgのより極性な移動ジアステレオマー(Rf=0.2)を得た 。
低極性生成物(3S、4R):IH−NMR(300MHz、CDCIs);  8.29 (LH,s) 、8.03(2H,d、J−7,8Hz) 、7.7 7〜7.83 (2H,m) 、7.52 (2H,t、J=7.6Hz) 、 7゜02〜7.33 (5H,m) 、6.64 (IHSs) 、5゜65  (IHSs) 、5.06 (IH,d、J=8.4Hz)、4.58〜4.6 2 (LH,m) 、3.95 (3H,s)、3.73〜3.85 (2H1 m) 、3.18〜3.28(2H,m) 、2.45〜2.61 (2H,m ) 、2.09〜2.15(IHlbrd s) 、 1. 39 (9H,s )高極性生成物(3R,4S):’H−N’MR(300MHzS CDC+  3) : 8. 25 (IH,s) 、8. 01(IH,dS J=7.  8Hz) 、7. 94 (IHS brds) 、7. 74 (IHS d 、J=8. 2Hz) 、7. 54(IH,d、J=11. 9Hz) 、7 . 48 (IH,t。
J=7. 8Hz) 、7. 09〜7. 38 (H,m) 、6゜95 ( IH,s) 、5. 61 (IH,s) 、5. 08 (IH,d、J=8 . 2Hz) 、4. 55〜4. 60 (IH。
m) 、3. 94 (3H,s) 、3. 73〜3. 76 (2H。
m) 、3. 22〜3. 35 (2H,m) 、2. 42〜2゜60 ( 2H,m) 、1. 90〜1. 96 (IH,m) 、1゜39(9H,s ) 。
工程りの低極性4R,3Sトリプトフアンエステル(840mg、1.08mm ol)のメタノール10mL中の撹拌溶液に、10mLの2MのNaOH溶液を 添加した。
前記混合物を8時間還流し、冷却してIMのHCIでpH4に酸性化した。濁っ たエマルジョンを3×20mLの酢酸エチルで抽出し、合わせた有機部分をブラ インで洗浄してMg5O,上で乾燥した。ろ過及び真空での溶媒除去によって、 黄色のフオームを得た。クロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル:ヘキサ ン:酢酸=35 : 75 : 1)によって210mgの生成物を得た。IH −NMR(300MH2,CD3CN)+ 8.22 (IHSt、1.7Hz ) 、7.97 (IH,dt、J=7.8.1.7Hz)、7.87 (IH Sdt、J=7.8.1.7Hz) 、7゜55 (IH,t、J=7.8Hz ) 、7.42 (IH,d。
J=7゜9Hz) 、7.15〜7.36 (6H,m) 、7゜10 (IH ,d、J=1.8Hz) 、4.44 (IHSd。
J=4.9Hz) 、4.19 (IH,dd、J=9.1.2.5Hz) 、 3.97 (IH,dd、J=9.1.5゜4Hz) 、2.72 (IH,d d、J=13.7.6.2Hz) 、2.51 (IH,ddSJ=13.7. 9.1Hz) 、2.04〜2.20 (3H,m)、メタノール中のC=1. 00のとき[α]、=+11.1゜M、 P、 =210〜212℃。
高極性な3R,4SI−リブトファンエステル(700mg)を上記のようにけ ん化して、3R,4Sのエナンチオマーを得た。’H−NMR(300MHzS CD、CN):8.22 (LH,t、1.7Hz) 、7.97 (IHld t、J=7.8.1.7Hz) 、7.87 (IH,dt。
J=7.8.1.7Hz)、7.55 (IHS t、J=7゜8Hz) 、7 .42 (IH,d、J=7.9Hz) 、7゜15〜7.36 (6H,m)  、7.10 (IH,d、J=1.8Hz) 、4.44 (IH,d%J= 4.9Hz)、4.19 (IHSdd、J=9.1.2.5Hz) 、3゜9 7 (IHSdd、J=9.1.5.4Hz) 、2.72(If(Sdd、J =13.7.6.2Hz)、2.51(IHSdd、J=13.7.9.1Hz ) 、2.04〜2.20 (3HSm) 、メタノール中のC=1.01のと き[α] 、=−11,0,M、 P、 =209〜211℃。
L、トランス3−フェニルメチル−4−ヒドロキシ−7−(3−カルボキシフェ ニル)−2H−1−ペンゾビラン工程Hのトランス型環状異性体を工程にのよう にけん化して対応する酸を得た。’H−NMR(300MHz、 CD3CN) : 8.22 (IHSt、1.7Hz) 、7.97 (IH,dt、J=7 .8.1.7Hz) 、7.87(IH,dt、J=7.8.1.7Hz) 、 7.55 (IHl tS J=7.8Hz) 、7.42 (IHS d、J =7゜9Hz) 、7.15〜7.36 (6H,m) 、7.10(LH,d 、J =1.8Hz) 、4.44 (IHS d、J=4.9Hz) 、4. 19 (IH,ddS J=9.1,2゜5Hz) 、3.97 (LH,dd S、J=9.1.5.4Hz’) 、2.72 (IHS dd、J=13,7 .6.2Hz)、2.51 (IH,dd、J=13.7.9.1Hz)、2. 04〜2.20 (3HSm) 、M、P、=210〜2表1の以下の化合物を 実施例IJに従ってけん化して製造した。融点は℃である。
実施例3 実施例IJに従って対応するエステルをけん化して、融点158〜160℃(シ ス型)及び173〜175℃(トランス型)を有する7−(4−ヒドロキシ−3 −カルボキシフェニル)−4−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−28−1−ベ ンゾビランが生成された。
N2下で一78℃の2−(4−フルオロフェニル)−4゜4−ジメチル−2−オ キサゾリン(テトラヒドロフラン中1、Qeq、濃度5M)の撹拌溶液に、n− ブチルリチウムのヘキサン(1,1eq、2.5M溶液)を添加した。
上記混合物を一78℃で1時間撹拌後、ZnC1z(エーテル中IM溶液、1. 1ec+)を添加した。上記混合物を1時間かけて10℃に加温して、2− ( 4−フルオロフェニル−2−クロロ亜鉛)−4,4−ジエチル−2−オキサゾリ ンを得た(単離せず)。上記溶液に7−[((トリフルオロメチル)スルホニル )オキシュー3−フェニルメチレン−1−ベンゾビラン−4−オン(1,Oe  q)及びPd (PPh、)4(0,02eq)を添加した。前記混合物を3時 間還流(68℃)し、室温に冷却してNH4Cl溶液に注入した。溶液をジエチ ルエーテルで3回抽出し、合わせた有機部分をMg5O,上で乾燥した。ろ過後 の真空での溶剤除去及びカラムクフロマドグラフィー(シリカゲル、ヘキサン: エーテル=2 : 1)によって、黄色の固体として表題の化合物を得た。、収 率65%、m、p、110〜112℃。’HNMR(300MHz、 CDCl  g):8.04 (IH,d)、7.91 (IHSs)、7.78 (IH Sdd) 、7.41〜7.52 (3H,m) 、7゜31 (2HSd)  、7.06〜7.18 (3HSm) 、7゜02 (IH,s) 、5.40  (2H,s) 、3.86 (2H,s) 、1.31 C6H,s)。
4−ジメチル−2−オキサゾリニル)フェニル]−4−ヒドロキシー3−フェニ ルメチル−2H−1−ベンゾピラン工程Aの化合物の0℃のTHF (LM)中 の撹拌溶液にLiAlH4(エーテル中IM12.2eq)を10分かけて滴下 添加した。前記混合物を室温に加温し、12時間撹拌した。前記混合物を0℃に 冷却し、ロシエル塩でクエンチし、珪藻土を通してろ過した。水性層を酢酸エチ ルで04上で乾燥した。ろ過及び溶剤除去によって黄色の油を得た。シリカゲル 上でのクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン)によって収率60%の白い 固体を得た。M。
P、65〜70℃(分解)。C2□I4□、N03Fの計算値。
C175,15;H,6,07;N、3.25、実測値:C174,75;N1 6.02;N、a、09゜’H−NMR(300MHz、CDC13): 7. 70 (IH,dd) 、7.02〜7.37 (8H,m) 、6.96 ( IH。
dd) 、7.91 (IH,d) 、4.51 (IHSd)、4.23 ( IH,dd)、4.39 (IHSdd)、3゜87 (2H,dd) 、2. 74 (IH,dd) 、2.55(LH,dd) 、2.18〜2.28 ( IHSm) 、1゜31 (6HSd)。
工程Bの化合物をヨウ化メチル(0,5M)に室温で溶解し、24時間撹拌した 。ヨウ化メチルを真空で除去、油状固体をCH,C12に溶解して溶剤を真空で 除去した。この操作を繰り返し、ヨウ化メチルの痕跡を除去した。固体をメタノ ール(0,5M)に溶解し、2MのNaOH(0゜5M)を添加した。混合物を 5時間還流し、室温に冷却してIMのHCIでpH2に酸性化した。混合物を酢 酸エチルで2回抽出し、ブラインで洗浄しM g S OJ上で乾燥した。ろ過 及び真空での溶剤除去後、クロマトグラフィー(シリカゲル、塩化メチレン:メ タノール=10:1)によって収率93%で所望の酸を得た。’H−NMR(3 00MH2,CD3COCD3): 7.80 (LH−dd)、7.48 ( IH,d) 、7.18 (7H1m)、7.13(IH,dd)、6.91  (IH,dd)、6.80 (IH,d)、4.52 (IHSd) 、4.2 3 (LH,dd)、3.96 (IH,dd)、2.89 (IH,dd)  、2゜54 (IH,dd) 、2.19〜2.30 (IH,m)。
工程Cの化合物をジエチルエーテル(0,1M)に溶解し、加熱し還流する。前 記溶液に5(−)メチルベンジルアミン(leq)のジエチルエーテル(0,1 M)を10分かけて滴下添加した。前記混合物を室温に冷却し48時間撹拌した 。沈殿した塩をろ過し、24時間ジエチルエーテル(0,1M)中で還流しなが ら2回再撹拌し、次にろ過した。前記塩(M、P、=170〜173℃)を塩化 メチレン中に取り、IMのHCIで3回、ブラインで1回洗浄し、Mg5O,上 で乾燥してろ過した。真空での溶剤除去及び再結晶化(ヘキサン:エーテル=1  : 1)によって白い微細結晶を得たが、HPLC分析による鏡像体過剰率は 99.8%以上であった。[α] D”=+23.8、CHCl3中のc=0. 6゜M、P、=119〜121℃。C!s H+ o O4Fに対する計算値: C173,01;H,5,06゜実測値;C172,88;H,4,76゜D2 . (3R,4S)7− (2−カルボキン−5−フルオロフェニル)−4−ヒ ドロキシ−3−フェニルメチル−2H−1−ベンゾピラン 工程D1の結合塩のスラリーからのろ液をIMのHCIで3回、ブラインで1回 洗浄し、MgSO4上で乾燥した。
ろ過及び溶剤除去によって黄色の固体を得た。R(+)メチルベンジルアミンを 使用し、工程D1に記載されたのと同様の処理によって所望の生成物を得た。[ α]D25−−23.4 (CHCIj中(1)c=0.6)、M、P、=11 8〜120℃。Cz、H+eO4F ニ対する計)E値: C,73゜01 ; H,5,06゜実測値:C,73,03;H,4゜84゜ 国際調査報告 1−−A、〜・PCT/US 92109496フロントページの続き (51) Int、C1,’ 識別記号 庁内整理番号A61K 31/34  9454−4C31/35 9454−4C 31/38 9454−4C 31/40 ABE 9454−4C CO7C51/367 C07D 209/36 8217−4C307/80 8217−4C 311/22 9360−4C 3131089360−4C 333/64 9455−4C 3351069455−4C 3371089455−4C 401/12 257 7602−4C403/12 241 7602−4C 405/12 257 7602−4C407/12 307 7602−4C 409/12 257 7602−4C// A 61 K 31/47 94 54−4CC07C311151 CO7D413/10 311 7602−4CI フロントページの続き 、 CM、 GA、 GN、 ML、 MR,SN、 TD、 TG)

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 AはO、CH2、S、NH、又はN(C1〜C6アルキル)である; nは0、1又は2である: R1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の、b位又はc位における置換基である;R2、R8、R9及びR10は水素で あるか又はそれぞれが独立してフルオロ、クロロ、C1〜C6アルキル、C1〜 C6アルコキシ、C1〜C4ペルフルオロアルキル、CI〜C4ペルフルオロア ルコキシ、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルフィニル又はC1 〜C6アルキルスルホニルの1つもしくは任意の2つである; R3は−(CH2)qCHR11R12、−(CH2)pR12、−O(CH2 )pCHR11R12もしくは−O(CH2)pR12(式中、pは0、1又は 2、qは0、1、2又は3である)である; R4はカルボキシ、テトラゾリル又はR13SO2NHCOである; R11は水素、C1〜C6アルキル又はR8置換フェニル(式中、R8は上記定 義の通りである)である;R12及びR13は水素であるか又はそれぞれが独立 してC1〜C6アルキルもしくはC3〜C8シクロアルキル、又は、それぞれが 任意でフェニル、R9もしくはR9置換フェニル(式中、R9は上記定義の通り である)で置換された、フェニル、チエニル、ピリジル、フリル、ナフチル、キ ノリル、イソキノリル、ピリミジニル又はピラジニルである]の化合物、並びに カルボキシ基を含む式Iの上記化合物の塩及びエステル(前記エステルはC1〜 C6アルキル、フェニル(C1〜C6)アルキル、C3〜C7シクロアルキル及 び、フルオロ、クロロ、C1〜C6アルキルもしくはC1〜C6アルコキシで置 換された、フェニル及びベンジルから成る群がら選択されるエステル基を含む) 。
  2. 2.nが1である請求項1に記載の化合物。
  3. 3.Aが酸素である請求項1又は2に記載の化合物。
  4. 4.R3がベンジル、4−フルオロベンジル、4−フェニルベンジル、4−(4 −フルオロフェニル)ベンジル、フェネチル又はフェノキシである請求項1、2 又は3に記載の化合物。
  5. 5.R2が水素又はモノフルオロである請求項1〜4のいずれか一項に記載の化 合物。
  6. 6.R1がc位にあり、2−カルボキシフェニル、2−カルボキシ−5−クロロ フェニル、2−カルボキシ−4−クロロフェニル、2−カルボキシ−3−フルオ ロフェニル、2−カルボキシ−5−フルオロフェニル、2−カル補ボキシ−5− トリフルオロメチルフェニル、2−カルボキシ−4−フルオロフェニル、2−カ ルボキシ−6−フルオロフェニル、2−テトラゾリル−5−フルオロフェニル又 は3−カルボキシフェニルである請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物。
  7. 7.R3及び隣接のヒドロキシ基がトランスである請求項1〜6のいずれか一項 に記載の化合物。
  8. 8.R1が2−カルボキシ−5−フルオロフェニル、R2が水素、R3がベンジ ルである請求項7に記載の化合物。
  9. 9.R3の結合する位置での絶対立体化学はSであり、ヒドロキシ基が結合する 位置ではRである請求項8に記載の化合物。
  10. 10.R3の結合する位置での絶対立体化学はRであり、ヒドロキシ基が結合す る位置ではSである請求項8に記載の化合物。
  11. 11.R1が2−カルボキシ−5−フルオロフェニル又は2−カルボキシ−4− クロロフェニル、R2が水素、R3が4−フェニルベンジルである請求項7に記 載の化合物。
  12. 12.AがCH2、R3が4−フェニルフェノキシ、R1が2−カルボキシ−5 −フルオロフェニルである請求項2に記載の化合物。
  13. 13.請求項1〜12のいずれか一項に定義された式Iの化合物を含む、LTB 4誘因の病気の治療のための薬剤組成物。
  14. 14.薬剤として使用される請求項1〜12のいずれか一項に記載の化合物。
  15. 15.LTB4の受容体結合抑制が必要な患者に、請求項1に記載の式Iの化合 物を投与することを含む前記抑制のための方法。
  16. 16.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 AはO、CH2、S、NH、又はN(C1〜C6アルキル)である: nは0、1又は2である; R1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の、b位又はc位における置換基である;;R2、R8R9及びR10は水素で あるか又はそれぞれが独立してフルオロ、クロロ、C1〜C6アルキル、C1〜 C6アルコキシ、C1〜C4ペルフルオロアルキル、C1〜C4ペルフルオロア ルコキシ、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルフィニル又はC1 〜C6アルキルスルホニルの1つもしくは任意の2つである; R3は−(CH2)qCHR11R12、−(CH2)qR12、−O(CH2 )pCHR11R12もしくは−O(CH2)pR12(式中、pは0、1又は 2、qは0、1、2又は3である)である; R4はカルボキシ、テトラゾリル又はR13SO2NHCOである; R11は水素、C1〜C6アルキル又はR8置換フェニル(式中、R8は上記定 義の通りである)である:R12及びR13は水素であるか又はそれぞれが独立 してC1〜C6アルキルもしくはC3〜C8シクロアルキル、又は、それぞれが 任意でフェニル、R9もしくはR9置換フェニル(式中、R9は上記定義の通り である)で置換された、フェニル、チエニル、ピリジル、フリル、ナフチル、キ ノリル、イソキノリル、ピリミジニルもしくはピラジニルである]の化合物、並 びにカルボキシ基を含む式Iの上記化合物の塩及びエステル(前記エステルはC 1〜C6アルキル、フェニル(C1〜C6)アルキル、C3〜C7シクロアルキ ル及び、フルオロ、クロロ、C1〜C6アルキルもしくはC1〜C6アルコキシ で置換された、フェニル及びベンジルから成る群がら選択されるエステル基を含 む)の製造方法であって、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を還元することを特徴とする製造方法。
  17. 17.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 AはO、CH2、S、NH、又はN(C1〜C6アルキル)である; nは0、1又は2である: R1は式 オキサゾリル ▲数式、化学式、表等があります▼ III の、b位又はc位における置換基である;R2、R8、R9及びR10は水素で あるか又はそれぞれが独立してフルオロ、クロロ、C1〜C6アルキル、C1〜 C6アルコキシ、C1〜C4ペルフルオロアルキル、C1〜C4ペルフルオロア ルコキシ、C1〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルキルスルフィニル又はC1 〜C6アルキルスルホニルの1つもしくは任意の2つである; R3は−(CH2)qCHR11R12、−(CH2)qR12、−O(CH2 )pCHR11R12もしくは−(CH2)pR12(式中、Pは0、1又は2 、qは0、1、2又は3である)である; R11は水素、C1〜C6アルキル又はR8置換フェニル(式中、R8は上記定 義の通りである)である;R12はC1〜C6アルキルもしくはC3〜C8シク ロアルキル、又は、それぞれが任意でフェニル、R9もしくはR9置換フェニル (式中、R9は上記定義の通りである)で置換された、フェニル、チエニル、ピ リジル、フリル、ナフチル、キノリル、イソキノリル、ピリジニルもしくはピラ ジニルである]の化合物、並びに式Iの上記化合物の塩及びエステル(前記エス テルは、C1〜C6アルキル、フェニル(C1〜C6)アルキル、C3〜C7シ クロアルキル及び、フルオロ、クロロ、C1〜C6アルキルもしくはC1〜C6 アルコキシで置換された、フェニル及びベンジルから成る群がら選択されるエス テル基を含む)の製造方法であって、式 ▲数式、化学式、表等があります▼IV(式中、R2、R3、A及びnは上記定 義の通りで、CF3SO3基はb位又はc位にある)の化合物を、式(式中、X はクロロ、ブロモ又はイオドであり、R10は上記定義の通りである)の化合物 と反応させることを含み、上記式Vの化合物は、式 ▲数式、化学式、表等があります▼VIの化合物をn−ブチルリチウム、ZnX 2(式中、Xは上記定義の通りである)と順次反応させることによって現場で製 造されることを特徴とする方法。
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