JPH07335769A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPH07335769A JPH07335769A JP6128943A JP12894394A JPH07335769A JP H07335769 A JPH07335769 A JP H07335769A JP 6128943 A JP6128943 A JP 6128943A JP 12894394 A JP12894394 A JP 12894394A JP H07335769 A JPH07335769 A JP H07335769A
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- semiconductor integrated
- integrated circuit
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/06—Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
- G11C5/063—Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Geometry or layout of the interconnection structure
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/50—Peripheral circuit region structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、メモリーモジュールのノイズによ
る誤動作なく、任意の配線をメモリーモジュール上に配
置した半導体集積回路を提供することを目的とする。 【構成】 メモリーモジュール1のワード線3およびビ
ット線4とメモリーモジュール上配線のなす角を鋭角θ
(0<θ<90度)に保つようにする。 【効果】 デバイス面積の節約とこれに付随した低コス
ト化、低消費電力化、高速化が得られる。
る誤動作なく、任意の配線をメモリーモジュール上に配
置した半導体集積回路を提供することを目的とする。 【構成】 メモリーモジュール1のワード線3およびビ
ット線4とメモリーモジュール上配線のなす角を鋭角θ
(0<θ<90度)に保つようにする。 【効果】 デバイス面積の節約とこれに付随した低コス
ト化、低消費電力化、高速化が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、RAM,ROM等のメ
モリーモジュールとそれらの上を通過するメモリーモジ
ュール上配線を備えた半導体集積回路に関する。
モリーモジュールとそれらの上を通過するメモリーモジ
ュール上配線を備えた半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】RAM等のメモリー回路(以下メモリー
モジュールと呼ぶ)は格子状に配置されたビット線とワ
ード線を用いてメモリーセルのアレイに所望のデータの
読み書きを行う。メモリセルの読み書き時は単一のビッ
ト線とワード線が、選択された少数のメモリセルに接続
されるために、ビット線およびワード線(特にビット線
がプリチャージ動作を行うときノイズに弱い)に重畳す
るノイズで誤動作がしやすい。このため、メモリーモジ
ュールを備えた半導体集積回路はメモリモジュール上を
配線が通過しないようにしてブロック間配線をおこなっ
ていた。ブロック間配線がやむなくメモリーモジュール
上を通過させなけらばならない時は、配置配線後にSP
ICE等の回路シミュレータを用いてメモリーモジュー
ルの正常動作を確認する必要があった。
モジュールと呼ぶ)は格子状に配置されたビット線とワ
ード線を用いてメモリーセルのアレイに所望のデータの
読み書きを行う。メモリセルの読み書き時は単一のビッ
ト線とワード線が、選択された少数のメモリセルに接続
されるために、ビット線およびワード線(特にビット線
がプリチャージ動作を行うときノイズに弱い)に重畳す
るノイズで誤動作がしやすい。このため、メモリーモジ
ュールを備えた半導体集積回路はメモリモジュール上を
配線が通過しないようにしてブロック間配線をおこなっ
ていた。ブロック間配線がやむなくメモリーモジュール
上を通過させなけらばならない時は、配置配線後にSP
ICE等の回路シミュレータを用いてメモリーモジュー
ルの正常動作を確認する必要があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半導体
集積回路のシリコン面積を小さく押さえるにはメモリー
上の領域もブロック間配線に利用する必要がある。
集積回路のシリコン面積を小さく押さえるにはメモリー
上の領域もブロック間配線に利用する必要がある。
【0004】本発明は、メモリモジュール上にブロック
間配線(メモリーモジュール上配線と呼ぶ)を配置し
て、高密度な半導体集積回路を提供することが目的であ
る。
間配線(メモリーモジュール上配線と呼ぶ)を配置し
て、高密度な半導体集積回路を提供することが目的であ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
手段を述べる。
手段を述べる。
【0006】(1)ワード線とビット線を備えたメモリ
ーモジュール上を通過するメモリモジュール上配線が、
ワード線またはビット線に対して鋭角θ(0<θ<90
度)になるように配置する。
ーモジュール上を通過するメモリモジュール上配線が、
ワード線またはビット線に対して鋭角θ(0<θ<90
度)になるように配置する。
【0007】(2)ブロック間配線座標系とメモリモジ
ュールのビット線とワード線で構成されるメモリーモジ
ュール標系間の回転角を0度に保ち、メモリモジュール
上配線の配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対し
て回転角θ(0<θ<90度)に保つ。
ュールのビット線とワード線で構成されるメモリーモジ
ュール標系間の回転角を0度に保ち、メモリモジュール
上配線の配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対し
て回転角θ(0<θ<90度)に保つ。
【0008】(3)ブロック間配線を配置するブロック
間配線座標系とメモリモジュールのビット線とワード線
で構成されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ
(0<θ<90度)に保ち、メモリモジュール上配線の
配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対して回転角
を0度に保つ。
間配線座標系とメモリモジュールのビット線とワード線
で構成されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ
(0<θ<90度)に保ち、メモリモジュール上配線の
配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対して回転角
を0度に保つ。
【0009】(4)ブロック間配線を配置するブロック
間配線座標系とメモリモジュールのビット線とワード線
で構成されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ
(0<θ<90度)に保ち、メモリモジュール上配線の
配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対して回転角
を0度に保つ。そしてメモリモジュールと回路ブロック
の間に発生する三角状領域に外部と信号のやりとりを行
うパッド回路を設ける。
間配線座標系とメモリモジュールのビット線とワード線
で構成されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ
(0<θ<90度)に保ち、メモリモジュール上配線の
配線座標系を前記ブロック間配線座標系に対して回転角
を0度に保つ。そしてメモリモジュールと回路ブロック
の間に発生する三角状領域に外部と信号のやりとりを行
うパッド回路を設ける。
【0010】(5)メモリモジュール上配線を、相補的
な信号を伝送する配線を組として隣接させて配置する。
な信号を伝送する配線を組として隣接させて配置する。
【0011】(6)メモリモジュール上配線を、回路間
の信号接続をおこなうメモリーモジュール上配線と回路
間の信号接続をおこなわない疑似メモリーモジュール上
配線を組として隣接させて配置する。そしてメモリーモ
ジュール上配線の相補信号を隣接する疑似メモリーモジ
ュール上配線に印加する。
の信号接続をおこなうメモリーモジュール上配線と回路
間の信号接続をおこなわない疑似メモリーモジュール上
配線を組として隣接させて配置する。そしてメモリーモ
ジュール上配線の相補信号を隣接する疑似メモリーモジ
ュール上配線に印加する。
【0012】(7)一方の半導体集積回路のブロック間
配線を配置するブロック間配線座標系と他方の半導体集
積回路のメモリモジュールのビット線とワード線で構成
されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ(0<
θ<90度)になるように、半導体集積回路形成面を向
かい合わせに張り合わせる。
配線を配置するブロック間配線座標系と他方の半導体集
積回路のメモリモジュールのビット線とワード線で構成
されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ(0<
θ<90度)になるように、半導体集積回路形成面を向
かい合わせに張り合わせる。
【0013】
【作用】次に、本発明の作用を述べる。メモリモジュー
ル上を通過するメモリーモジュール上配線はメモリーモ
ジュールのビット線またはワード線に対して鋭角θ(0
<θ<90度)を保っている。このことによりメモリー
モジュール配線は複数のビット線またはワード線を横切
る。また単一のビット線に対して複数のメモリーモジュ
ール上配線が横切る。このため単一のメモリーモジュー
ル上配線は、平行配線人くらべて小さな結合容量で単一
ビット線またはワード線に結合し、単一ビット線または
ワード線へのノイズの影響は少ない。逆に単一ビット線
またはワード線に対しては複数のメモリーモジュール上
配線がそれぞれ小さな結合容量で結合している。複数の
メモリモジュール上配線によって発生する結合容量ノイ
ズは、信号遷移が同時に発生する確率が小さいことと、
論理の遷移方向が均等であることから、平均的に打ち消
されて小さくなる。(結合ノイズは、メモリモジュール
上配線の信号の結合容量による微分成分であり、Hから
Lメモリーモジュール上配線の信号が遷移する場合の結
合ノイズとLからHに信号が遷移する場合の結合ノイズ
は逆極性でうちけしあう。)またメモリーモジュール上
配線を相補信号の組として配置することにより、結合容
量によるノイズは確実に打ち消すことができる。
ル上を通過するメモリーモジュール上配線はメモリーモ
ジュールのビット線またはワード線に対して鋭角θ(0
<θ<90度)を保っている。このことによりメモリー
モジュール配線は複数のビット線またはワード線を横切
る。また単一のビット線に対して複数のメモリーモジュ
ール上配線が横切る。このため単一のメモリーモジュー
ル上配線は、平行配線人くらべて小さな結合容量で単一
ビット線またはワード線に結合し、単一ビット線または
ワード線へのノイズの影響は少ない。逆に単一ビット線
またはワード線に対しては複数のメモリーモジュール上
配線がそれぞれ小さな結合容量で結合している。複数の
メモリモジュール上配線によって発生する結合容量ノイ
ズは、信号遷移が同時に発生する確率が小さいことと、
論理の遷移方向が均等であることから、平均的に打ち消
されて小さくなる。(結合ノイズは、メモリモジュール
上配線の信号の結合容量による微分成分であり、Hから
Lメモリーモジュール上配線の信号が遷移する場合の結
合ノイズとLからHに信号が遷移する場合の結合ノイズ
は逆極性でうちけしあう。)またメモリーモジュール上
配線を相補信号の組として配置することにより、結合容
量によるノイズは確実に打ち消すことができる。
【0014】メモリーモジュール上配線とビット線また
はワード線間の角度を鋭角θ(0<θ<90度)に保つ
ためメモリーモジュールをブロック間配線の座標系にた
いしてθ回転するか、メモリーモジュール上配線のみを
ブロック間配線の座標系にたいしてθ回転する。メモリ
ーモジュールの回転の際に発生する三角形の領域にパッ
ド回路を配置しさらに面積の縮小を効果的にする。
はワード線間の角度を鋭角θ(0<θ<90度)に保つ
ためメモリーモジュールをブロック間配線の座標系にた
いしてθ回転するか、メモリーモジュール上配線のみを
ブロック間配線の座標系にたいしてθ回転する。メモリ
ーモジュールの回転の際に発生する三角形の領域にパッ
ド回路を配置しさらに面積の縮小を効果的にする。
【0015】このようにして本発明により、メモリモジ
ュール上にメモリモジュール上配線を備えた半導体集積
回路を実現することができる。
ュール上にメモリモジュール上配線を備えた半導体集積
回路を実現することができる。
【0016】
【実施例】本発明の半導体集積回路の一実施例につい
て、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の第1
の実施例における半導体集積回路の構成図である。
て、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の第1
の実施例における半導体集積回路の構成図である。
【0017】図1において、半導体集積回路7はメモリ
ーモジュール1を含んだ4層の金属配線を備えた半導体
集積回路である。メモリーモジュール1はメモリーセル
2に選択的にデータの読み書きを行うために格子状に配
置されたワード線3とビット線4が設けられている。ワ
ード線3は1層目の金属配線、ビット線4は2層目の金
属配線で形成される。メモリーモジュール1の上をブロ
ック間の配線接続の目的でメモリーモジュール上配線
5,6が配置されている。メモリーモジュール上配線5
は3層目の金属配線、メモリモジュール上配線6は4層
目の金属配線で形成されている。
ーモジュール1を含んだ4層の金属配線を備えた半導体
集積回路である。メモリーモジュール1はメモリーセル
2に選択的にデータの読み書きを行うために格子状に配
置されたワード線3とビット線4が設けられている。ワ
ード線3は1層目の金属配線、ビット線4は2層目の金
属配線で形成される。メモリーモジュール1の上をブロ
ック間の配線接続の目的でメモリーモジュール上配線
5,6が配置されている。メモリーモジュール上配線5
は3層目の金属配線、メモリモジュール上配線6は4層
目の金属配線で形成されている。
【0018】メモリーモジュール配線5,6はビット線
4またはワード線3に対して鋭角θ(0<θ<90度)
をなすように配置されている。図の場合、θは45度で
ある。メモリーモジュール配線5,6は複数のビット線
4またはワード線3に平行することなく横切る。このた
め単一のビットまたはワード線と、単一のメモリーセル
上配線間の結合容量は小さく押さえることができる。結
合容量が大きいとメモリーモジュールの誤動作の原因と
なる。例えば、メモリーの読みだし時に、プリチャージ
後のビット線に重畳するノイズによって誤動作が生じや
すい。
4またはワード線3に対して鋭角θ(0<θ<90度)
をなすように配置されている。図の場合、θは45度で
ある。メモリーモジュール配線5,6は複数のビット線
4またはワード線3に平行することなく横切る。このた
め単一のビットまたはワード線と、単一のメモリーセル
上配線間の結合容量は小さく押さえることができる。結
合容量が大きいとメモリーモジュールの誤動作の原因と
なる。例えば、メモリーの読みだし時に、プリチャージ
後のビット線に重畳するノイズによって誤動作が生じや
すい。
【0019】図5はθによる結合容量の分布変化を示す
説明図である。図5(A)においてビット線51とメモ
リーモジュール上配線52は平行して配置されている。
このとき、メモリーモジュール上配線53とビット線5
1の間の結合容量53は最大になる。このため、1本の
メモリーモジュール上配線から1本のビット線へのクロ
ーストークノイズは最大になり、メモリーモジュールの
誤動作を引き起こす可能性が高くなる。一方、5図
(B)ではビット線54とメモリーモジュール上配線5
5が鋭角θをなす様に配置されている。単一のメモリー
上配線に着目した場合、結合容量56は複数のビット線
に分配されている。単一のビット線と単一のメモリーセ
ル上配線に着目するとその結合容量は5図(A)の場合
にくらべて小さくなる。
説明図である。図5(A)においてビット線51とメモ
リーモジュール上配線52は平行して配置されている。
このとき、メモリーモジュール上配線53とビット線5
1の間の結合容量53は最大になる。このため、1本の
メモリーモジュール上配線から1本のビット線へのクロ
ーストークノイズは最大になり、メモリーモジュールの
誤動作を引き起こす可能性が高くなる。一方、5図
(B)ではビット線54とメモリーモジュール上配線5
5が鋭角θをなす様に配置されている。単一のメモリー
上配線に着目した場合、結合容量56は複数のビット線
に分配されている。単一のビット線と単一のメモリーセ
ル上配線に着目するとその結合容量は5図(A)の場合
にくらべて小さくなる。
【0020】1本のメモリーモジュール上配線から1本
のビット線へのクローストークノイズは平行配線にくら
べて十分に小さくなり、誤動作の原因になりにくい。
(メモリーモジュールのノイズ耐性に対する対策設計は
平行配線に関する場合に比べて容易になる。通常は対策
は不要である。)また、1本のメモリーセル上配線に
は、複数のメモリーモジュール上配線が交差する場合が
考えられる。このとき、メモリーセル上配線が同一時刻
に同一論理方向に遷移をおこすことは極めてまれで、通
常は遷移時刻は分散して、H→L、L→Hの遷移は平均
的に発生すると考えられる。逆方向論理に遷移するメモ
リーセル上配線からビット線に及ぼすノイズはお互いに
打ち消しあう方向にあること、同一時刻に同時に遷移す
ることが極めて希であることからメモリーモジュール上
配線によって誤動作は発生しにくくなる。しかし、確率
的にノイズの原因になる可能性もありうるので、半導体
集積回路の設計検証段階でメモリーモジュール上配線の
時系列信号を追跡して結合ノイズが実際に十分小さな値
になっていることを検証する事が望ましい。
のビット線へのクローストークノイズは平行配線にくら
べて十分に小さくなり、誤動作の原因になりにくい。
(メモリーモジュールのノイズ耐性に対する対策設計は
平行配線に関する場合に比べて容易になる。通常は対策
は不要である。)また、1本のメモリーセル上配線に
は、複数のメモリーモジュール上配線が交差する場合が
考えられる。このとき、メモリーセル上配線が同一時刻
に同一論理方向に遷移をおこすことは極めてまれで、通
常は遷移時刻は分散して、H→L、L→Hの遷移は平均
的に発生すると考えられる。逆方向論理に遷移するメモ
リーセル上配線からビット線に及ぼすノイズはお互いに
打ち消しあう方向にあること、同一時刻に同時に遷移す
ることが極めて希であることからメモリーモジュール上
配線によって誤動作は発生しにくくなる。しかし、確率
的にノイズの原因になる可能性もありうるので、半導体
集積回路の設計検証段階でメモリーモジュール上配線の
時系列信号を追跡して結合ノイズが実際に十分小さな値
になっていることを検証する事が望ましい。
【0021】図2は本発明の第2の実施例における半導
体集積回路の構成図である。図2において、半導体集積
回路21はメモリーモジュール23を含む回路ブロック
を多層の金属配線によって接続した半導体集積回路であ
る。
体集積回路の構成図である。図2において、半導体集積
回路21はメモリーモジュール23を含む回路ブロック
を多層の金属配線によって接続した半導体集積回路であ
る。
【0022】回路ブロック22および24は、ブロック
間配線26aで接続されている。ブロック間配線26a
はメモリーモジュール27と交差し、交差部分の配線を
メモリーモジュール上配線25と呼んでいる。ブロック
間配線26e,26a,26c,26f,26b,26
dはXY直交座標系であるブロック間配線座標系28の
座標軸に直交するように配置されている。一方メモリー
モジュール23のワード線およびビット線はメモリーモジ
ュール座標系27に直交するように構成されている。メ
モリーモジュール座標系27とブロック間配線座標系2
8の座標系間の回転角は0度に保たれ、メモリーモジュ
ール上配線25がメモリー上配線25がメモリモジュー
ル座標軸にたいしてθ(0<θ<90度)になるように
配線される。このような構成をとることによりメモリー
モジュール上配線25からビット線またはワード線への
結合ノイズの影響は実施例1に説明したように回避する
事ができる。また本実施例では従来の配置配線ツールで
メモリーモジュール上配線のみ配線アルゴリズムを変更
することにより対応する事ができる。
間配線26aで接続されている。ブロック間配線26a
はメモリーモジュール27と交差し、交差部分の配線を
メモリーモジュール上配線25と呼んでいる。ブロック
間配線26e,26a,26c,26f,26b,26
dはXY直交座標系であるブロック間配線座標系28の
座標軸に直交するように配置されている。一方メモリー
モジュール23のワード線およびビット線はメモリーモジ
ュール座標系27に直交するように構成されている。メ
モリーモジュール座標系27とブロック間配線座標系2
8の座標系間の回転角は0度に保たれ、メモリーモジュ
ール上配線25がメモリー上配線25がメモリモジュー
ル座標軸にたいしてθ(0<θ<90度)になるように
配線される。このような構成をとることによりメモリー
モジュール上配線25からビット線またはワード線への
結合ノイズの影響は実施例1に説明したように回避する
事ができる。また本実施例では従来の配置配線ツールで
メモリーモジュール上配線のみ配線アルゴリズムを変更
することにより対応する事ができる。
【0023】図3は本発明の第3の実施例における半導
体集積回路の構成図である。図3は図2に比べてメモリ
ーモジュール上配線35をブロック間座標系38の軸と直
交するように配置した点、メモリモジュール35を回転
して配置し、メモリーモジュール上配線35とビット線
またはワード線がθ(0<θ<90度)をなすように配
置した点が異なる。この方法によればメモリーモジュー
ルを回転して配置するだけで、従来の配置配線ツールを
なんら変更することなく用いることができる。
体集積回路の構成図である。図3は図2に比べてメモリ
ーモジュール上配線35をブロック間座標系38の軸と直
交するように配置した点、メモリモジュール35を回転
して配置し、メモリーモジュール上配線35とビット線
またはワード線がθ(0<θ<90度)をなすように配
置した点が異なる。この方法によればメモリーモジュー
ルを回転して配置するだけで、従来の配置配線ツールを
なんら変更することなく用いることができる。
【0024】図4は本発明の第4の実施例における半導
体集積回路の構成図である。図4は第3の実施例に沿っ
てメモリーモジュール47が配置されている。半導体集
積回路41は回路ブロック42a,42b,42dとメ
モリーモジュール47を備えチップの入出力はパッド回
路43a,43bを介して行われる。パッド回路43a
はメモリーモジュール47の四隅の三角状領域44に配
置されチップ面積を有効に利用している。
体集積回路の構成図である。図4は第3の実施例に沿っ
てメモリーモジュール47が配置されている。半導体集
積回路41は回路ブロック42a,42b,42dとメ
モリーモジュール47を備えチップの入出力はパッド回
路43a,43bを介して行われる。パッド回路43a
はメモリーモジュール47の四隅の三角状領域44に配
置されチップ面積を有効に利用している。
【0025】図6は本発明の第5の実施例における半導
体集積回路の構成図である。図6は第1の実施例の図1
と比べてメモリーモジュール上配線に隣接するように疑
似メモリーモジュール上配線を設けた点が異なる。図6
において疑似メモリモジュール上配線67a,67bは
それぞれに隣接するメモリーモジュール上配線66a,
66bの反転信号(相補信号)が印加される。ここで反
転信号を駆動するゲートの出力インピーダンスはメモリ
ーモジュール上配線の信号波形の反転になるように大き
さを調整することが重要である。この手続きにより疑似
メモリーモジュール上配線からビット線またはワード線
に生ずるノイズがメモリーモジュール上配線によって生
ずるノイズの反転であることが保証される。
体集積回路の構成図である。図6は第1の実施例の図1
と比べてメモリーモジュール上配線に隣接するように疑
似メモリーモジュール上配線を設けた点が異なる。図6
において疑似メモリモジュール上配線67a,67bは
それぞれに隣接するメモリーモジュール上配線66a,
66bの反転信号(相補信号)が印加される。ここで反
転信号を駆動するゲートの出力インピーダンスはメモリ
ーモジュール上配線の信号波形の反転になるように大き
さを調整することが重要である。この手続きにより疑似
メモリーモジュール上配線からビット線またはワード線
に生ずるノイズがメモリーモジュール上配線によって生
ずるノイズの反転であることが保証される。
【0026】このようにメモリーモジュール上配線をそ
の反転信号を伝送する疑似メモリーモジュール上配線と
組にして配置することにより、多数のメモリーモジュー
ル上配線が同一時刻に同一論理方向に遷移する事象が生
じても、H→L、L→Hの遷移が必ず同一割合でおこ
り、メモリーセル上配線からビット線に及ぼすノイズは
いつもお互いに打ち消しあう。こうして半導体集積回路
の設計検証段階でメモリーモジュール上配線の時系列信
号を追跡して結合ノイズが実際に十分小さな値になって
いることを検証する事は不要となる。
の反転信号を伝送する疑似メモリーモジュール上配線と
組にして配置することにより、多数のメモリーモジュー
ル上配線が同一時刻に同一論理方向に遷移する事象が生
じても、H→L、L→Hの遷移が必ず同一割合でおこ
り、メモリーセル上配線からビット線に及ぼすノイズは
いつもお互いに打ち消しあう。こうして半導体集積回路
の設計検証段階でメモリーモジュール上配線の時系列信
号を追跡して結合ノイズが実際に十分小さな値になって
いることを検証する事は不要となる。
【0027】なお本実施例ではメモリーモジュールが同
一半導体集積回路内にある場合を考えたが複数のチップ
の半導体回路形成面を張り合わせて構成する半導体集積
回路に関してもメモリーモジュールに交錯する配線には
同様の考え方が適用される。
一半導体集積回路内にある場合を考えたが複数のチップ
の半導体回路形成面を張り合わせて構成する半導体集積
回路に関してもメモリーモジュールに交錯する配線には
同様の考え方が適用される。
【0028】本発明の半導体集積回路で重要な点はメモ
リーモジュールのビット線またはワード線にブロック間
配線を平行に交錯させないこと、交錯させるブロック間
配線に対して相補的な信号を与える疑似メモリーモジュ
ール上配線を設けることである。
リーモジュールのビット線またはワード線にブロック間
配線を平行に交錯させないこと、交錯させるブロック間
配線に対して相補的な信号を与える疑似メモリーモジュ
ール上配線を設けることである。
【0029】
【発明の効果】以上のように本発明は、メモリーモジュ
ールのノイズによる誤動作なく、任意の配線をメモリー
モジュール上に配置することができて、デバイス面積を
節約することができる。その結果、低コスト化、低消費
電力化、高速化など効果が得られる。
ールのノイズによる誤動作なく、任意の配線をメモリー
モジュール上に配置することができて、デバイス面積を
節約することができる。その結果、低コスト化、低消費
電力化、高速化など効果が得られる。
【図1】本発明の半導体集積回路の第1の実施例におけ
る構成図
る構成図
【図2】本発明の半導体集積回路の第2の実施例におけ
る構成図
る構成図
【図3】本発明の半導体集積回路の第3の実施例におけ
る構成図
る構成図
【図4】本発明の半導体集積回路の第4の実施例におけ
る構成図
る構成図
【図5】本発明の説明図
【図6】本発明の半導体集積回路の第5の実施例におけ
る構成図
る構成図
【符号の説明】 1 メモリーモジュール 2 メモリーセル 3 ワード線 4 ビット線 5,6 メモリーモジュール上配線
Claims (7)
- 【請求項1】ワード線とビット線を備えたメモリーモジ
ュールを含む半導体集積回路であって、 メモリモジュール上を通過するメモリモジュール上配線
を備え、 前記メモリモジュール上配線がワード線またはビット線
に対して鋭角θ(0<θ<90度)をなすように配置し
たことを特徴とする半導体集積回路。 - 【請求項2】メモリモジュールを含む回路ブロックをブ
ロック間配線で接続した構成を備え、 ブロック間配線を配置するブロック間配線座標系とメモ
リモジュールのビット線とワード線で構成されるメモリ
ーモジュール標系との間の回転角を0度に保ち、メモリ
モジュール上配線の配線座標系を前記ブロック間配線座
標系に対して回転角θ(0<θ<90度)に保ったこと
を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。 - 【請求項3】メモリモジュールを含む回路ブロックをブ
ロック間配線で接続した構成を備え、 ブロック間配線を配置するブロック間配線座標系とメモ
リモジュールのビット線とワード線で構成されるメモリ
ーモジュール座標系間の回転角をθ(0<θ<90度)
に保ち、メモリモジュール上配線の配線座標系を前記ブ
ロック間配線座標系に対して回転角を0度に保ったこと
を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。 - 【請求項4】メモリモジュールと回路ブロックの間に発
生する三角状領域に外部と信号のやりとりを行うパッド
回路を設けたことを特徴とする請求項3記載の半導体集
積回路。 - 【請求項5】相補的な信号を伝送するメモリモジュール
上配線を組として隣接させて配置することを特徴とする
請求項1記載の半導体集積回路。 - 【請求項6】回路間の信号接続を行うメモリーモジュー
ル上配線と回路間の信号接続を行わない疑似メモリーモ
ジュール上配線を組として隣接させて配置し、メモリー
モジュール上配線の相補信号が隣接する疑似メモリーモ
ジュール上配線に印加されること特徴とする請求項5記
載の半導体集積回路。 - 【請求項7】メモリモジュールを含む回路ブロックと入
出力回路で構成された複数の半導体集積回路を、お互い
の入出パッド間の電気的接続がとれるよるに半導体集積
回路形成面を向かい合わせに張り合わせて構成する半導
体集積回路において、一方の半導体集積回路のブロック
間配線を配置するブロック間配線座標系と他方の半導体
集積回路のメモリモジュールのビット線とワード線で構
成されるメモリーモジュール座標系間の回転角をθ(0
<θ<90度)になるように張り合わせて構成すること
を特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12894394A JP3185540B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 半導体集積回路 |
US08/789,124 US5671173A (en) | 1994-06-10 | 1997-01-27 | Semiconductor integrated circuit device with oblique metallization lines over memory bit and word lines |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12894394A JP3185540B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 半導体集積回路 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07335769A true JPH07335769A (ja) | 1995-12-22 |
JP3185540B2 JP3185540B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=14997244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12894394A Expired - Fee Related JP3185540B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 半導体集積回路 |
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---|---|
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JP2009302425A (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体記憶装置 |
KR100944664B1 (ko) * | 2002-12-24 | 2010-03-04 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 노이즈 방지 기능을 갖는 반도체 메모리 소자 |
US7719115B2 (en) | 2004-10-15 | 2010-05-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor integrated circuit including a multi-level interconnect with a diagonal wire |
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WO2017149845A1 (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-08 | ソニー株式会社 | 半導体装置 |
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US7084413B2 (en) * | 2002-08-08 | 2006-08-01 | Micron Technology, Inc. | Photolithographic techniques for producing angled lines |
DE10241171A1 (de) * | 2002-09-05 | 2004-03-18 | Infineon Technologies Ag | Wort- und Bitleitungsanordnung für einen FINFET-Halbleiterspeicher |
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US3769108A (en) * | 1971-12-03 | 1973-10-30 | Bell Telephone Labor Inc | Manufacture of beam-crossovers for integrated circuits |
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-
1994
- 1994-06-10 JP JP12894394A patent/JP3185540B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-27 US US08/789,124 patent/US5671173A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5671173A (en) | 1997-09-23 |
JP3185540B2 (ja) | 2001-07-11 |
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