JPH07284662A - 窒素の酸化物の排出を減少させるためのスピネルベースの触媒 - Google Patents
窒素の酸化物の排出を減少させるためのスピネルベースの触媒Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 内燃機関からの酸素を高い濃度で含有する排
気ガスを処理するための触媒を使用することに関する。 【構成】 これらの触媒はスピネル構造及びＺｎＡｌ2
Ｏ4 式を有する多量の酸化物を含むタイプのものにする
ことができ、或はＺｎＡｌ2 Ｏ4 の外の正の或は逆のス
ピネル構造を有する酸化物を含む。それらは、特にスピ
ネルの構成元素のプリカーサーを焼くことにより、或は
スピネルの構成元素の塩の溶液或は懸濁液を形成し、次
いで得られた媒体を乾燥及び焼成することにより、或は
スピネルの構成元素のプリカーサーと炭素及び窒素の源
との混合物を燃焼することによって得ることができる。
気ガスを処理するための触媒を使用することに関する。 【構成】 これらの触媒はスピネル構造及びＺｎＡｌ2
Ｏ4 式を有する多量の酸化物を含むタイプのものにする
ことができ、或はＺｎＡｌ2 Ｏ4 の外の正の或は逆のス
ピネル構造を有する酸化物を含む。それらは、特にスピ
ネルの構成元素のプリカーサーを焼くことにより、或は
スピネルの構成元素の塩の溶液或は懸濁液を形成し、次
いで得られた媒体を乾燥及び焼成することにより、或は
スピネルの構成元素のプリカーサーと炭素及び窒素の源
との混合物を燃焼することによって得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スピネルベースの触媒
を排気ガスを処理するために窒素の酸化物の排出を減少
させるために使用することに関する。
を排気ガスを処理するために窒素の酸化物の排出を減少
させるために使用することに関する。
【０００２】
【従来技術】排気ガス、特に自動車のエンジンからの窒
素の酸化物（ＮＯx ）の排出は、混合物中に存在する還
元性ガスを化学量論的に用いる「三元（ｔｈｒｅｅ ｗ
ａｙ）」触媒を使用して減少させることができる。酸素
が過剰に存在すれば触媒性能をひどく劣化させることに
なる。
素の酸化物（ＮＯx ）の排出は、混合物中に存在する還
元性ガスを化学量論的に用いる「三元（ｔｈｒｅｅ ｗ
ａｙ）」触媒を使用して減少させることができる。酸素
が過剰に存在すれば触媒性能をひどく劣化させることに
なる。
【０００３】ディーゼルエンジン或は希薄混合気燃焼エ
ンジンのようなある種のエンジンは燃料を節約するが、
恒久的に酸素を大過剰に、例えば少なくとも５％含有す
る排気ガスを放出する。これより、標準の三元触媒はこ
れらのエンジンからのＮＯx排出用に役に立たない。更
に、今このタイプのエンジンに及ぶ自動車の排気放出を
律する規制が一層厳しくなっているが故に、ＮＯx 排出
を制限することは避けられなくなってきた。
ンジンのようなある種のエンジンは燃料を節約するが、
恒久的に酸素を大過剰に、例えば少なくとも５％含有す
る排気ガスを放出する。これより、標準の三元触媒はこ
れらのエンジンからのＮＯx排出用に役に立たない。更
に、今このタイプのエンジンに及ぶ自動車の排気放出を
律する規制が一層厳しくなっているが故に、ＮＯx 排出
を制限することは避けられなくなってきた。
【０００４】これより、ＮＯx 排出を減少させることが
できる有効な触媒についての真の要求がある。これよ
り、発明の目的は、酸素を高い含有量で含有する排気ガ
スを処理するのに使用することができる触媒を提供する
にある。
できる有効な触媒についての真の要求がある。これよ
り、発明の目的は、酸素を高い含有量で含有する排気ガ
スを処理するのに使用することができる触媒を提供する
にある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これより、発明は、第
一の実施態様では、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 式を有するスピネル
構造を有する多量の酸化物を含む触媒を、酸素を高い濃
度で含有する排気ガスを処理して窒素の酸化物の排出を
減少させるために使用することに関する。発明は、第二
の実施態様では、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 の外の正の或は逆のス
ピネル構造を有する酸化物を含む触媒を、酸素を高い濃
度で含有する排気ガスを処理して窒素の酸化物の排出を
減少させるために使用することに関する。
一の実施態様では、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 式を有するスピネル
構造を有する多量の酸化物を含む触媒を、酸素を高い濃
度で含有する排気ガスを処理して窒素の酸化物の排出を
減少させるために使用することに関する。発明は、第二
の実施態様では、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 の外の正の或は逆のス
ピネル構造を有する酸化物を含む触媒を、酸素を高い濃
度で含有する排気ガスを処理して窒素の酸化物の排出を
減少させるために使用することに関する。
【０００６】本発明において用いる触媒は、少なくとも
４５０°〜６００℃の作業範囲を有する。それらは、ま
た、温度を６００℃より高く或は７００℃より高くさえ
上げる場合にさえ、依然活性なままである程に安定であ
る。発明のそれ以上の特徴、詳細及び利点は、下記の記
述及び制限するものではない具体例から明らかになるも
のと思う。
４５０°〜６００℃の作業範囲を有する。それらは、ま
た、温度を６００℃より高く或は７００℃より高くさえ
上げる場合にさえ、依然活性なままである程に安定であ
る。発明のそれ以上の特徴、詳細及び利点は、下記の記
述及び制限するものではない具体例から明らかになるも
のと思う。
【０００７】上述した通りに、本発明の触媒の２つの実
施態様があり、今、これらを一層詳細に説明することに
する。明細書全体を通して、「スピネル」なる用語は、
一般的な総括的なＡＢ2 Ｏ4式（式中、Ａ及びＢは通常
はぼ同じ大きさの遷移イオンであり、Ａは通常二価のイ
オンであり、Ｂは三価のイオンである）を有する化合物
を意味する。「逆のスピネル構造」なる用語は、一般式
Ｂ（ＡＢ）Ｏ4 を有する化合物を意味する。最後に、ス
ピネル構造に関する下記の記述はいずれも正の及び逆の
両方のスピネル構造に適用する。
施態様があり、今、これらを一層詳細に説明することに
する。明細書全体を通して、「スピネル」なる用語は、
一般的な総括的なＡＢ2 Ｏ4式（式中、Ａ及びＢは通常
はぼ同じ大きさの遷移イオンであり、Ａは通常二価のイ
オンであり、Ｂは三価のイオンである）を有する化合物
を意味する。「逆のスピネル構造」なる用語は、一般式
Ｂ（ＡＢ）Ｏ4 を有する化合物を意味する。最後に、ス
ピネル構造に関する下記の記述はいずれも正の及び逆の
両方のスピネル構造に適用する。
【０００８】第一の実施態様では、触媒はＺｎＡｌ2 Ｏ
4 式を有するスピネルを活性相として含む。この場合、
この活性相は多量の酸化物の形態である。これは、スピ
ネルＺｎＡｌ2 Ｏ4 が活性相の容積の全体にわたり均質
な様式で存在するのであって、例えば表面上に存在する
のではないことを意味する。
4 式を有するスピネルを活性相として含む。この場合、
この活性相は多量の酸化物の形態である。これは、スピ
ネルＺｎＡｌ2 Ｏ4 が活性相の容積の全体にわたり均質
な様式で存在するのであって、例えば表面上に存在する
のではないことを意味する。
【０００９】第二の実施態様では、触媒はＺｎＡｌ2 Ｏ
4 の外の式を有する正のスピネル或は逆のスピネルを含
む。一層詳細には、第二の場合、正の或は逆のスピネル
構造を有する酸化物は下記の包括的式（Ｉ）を有する： ＡＢ2 Ｏ4 式中：Ａは周期分類からのＩＩａ、Ｉｂ、ＩＩｂ、ＩＩ
Ｉｂ、ＩＶｂ及びＶｂ族、また遷移元素から選ぶ少なく
とも一種の元素であり；Ｂは周期分類のＩＶａ、ＶＩ
ａ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、Ｉｂ〜Ｖｂ族から選ぶ少なく
とも一種の元素である。
4 の外の式を有する正のスピネル或は逆のスピネルを含
む。一層詳細には、第二の場合、正の或は逆のスピネル
構造を有する酸化物は下記の包括的式（Ｉ）を有する： ＡＢ2 Ｏ4 式中：Ａは周期分類からのＩＩａ、Ｉｂ、ＩＩｂ、ＩＩ
Ｉｂ、ＩＶｂ及びＶｂ族、また遷移元素から選ぶ少なく
とも一種の元素であり；Ｂは周期分類のＩＶａ、ＶＩ
ａ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、Ｉｂ〜Ｖｂ族から選ぶ少なく
とも一種の元素である。
【００１０】ここで言う元素の周期分類とは、「Ｓｕｐ
ｐｌｅｍｅｎｔ ａｕ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｄｅ ｌａ
Ｓｏｃｉｅｔｅ Ｃｈｉｍｉｑｕｅ ｄｅ Ｆｒａｎ
ｃｅ」、１号（１９６６年１月）に発表されたものであ
る。「遷移元素」なる用語は、ＩＶａ〜ＶＩＩＩ族から
の元素を意味する。
ｐｌｅｍｅｎｔ ａｕ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｄｅ ｌａ
Ｓｏｃｉｅｔｅ Ｃｈｉｍｉｑｕｅ ｄｅ Ｆｒａｎ
ｃｅ」、１号（１９６６年１月）に発表されたものであ
る。「遷移元素」なる用語は、ＩＶａ〜ＶＩＩＩ族から
の元素を意味する。
【００１１】一層詳細には、正の或は逆のスピネル構造
を有する酸化物は、（Ｉ）式（式中、ＡはＭｇ、Ｔｉ、
Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ及びＳｎからなる
群より選ぶ少なくとも一種の元素であり；ＢはＴｉ、Ｍ
ｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ぶ少なくとも
一種の元素である）を有する。（Ｉ）式を有するスピネ
ルの例は、Ｂがアルミニウム或はガリウムであるもので
ある。
を有する酸化物は、（Ｉ）式（式中、ＡはＭｇ、Ｔｉ、
Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ及びＳｎからなる
群より選ぶ少なくとも一種の元素であり；ＢはＴｉ、Ｍ
ｎ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ぶ少なくとも
一種の元素である）を有する。（Ｉ）式を有するスピネ
ルの例は、Ｂがアルミニウム或はガリウムであるもので
ある。
【００１２】下記の記述は、また、正の或は逆の構造を
有するスピネルの混合物の形態の混合物を使用すること
にも適用する。更に、触媒組成物において、Ｚｎ、Ｃ
ｕ、Ｓｎ及びＳｂのような揮発性の元素を用いることを
述べた。これより、スピネルについての調製温度及びこ
れらの元素の揮発性の故に、これらの元素により形成さ
れる生成物は間隙を含有し、Ａ1- x Ｂx Ｂ2-x Ｏ4 式に
よって表わすことができる。これらの生成物が本発明に
おいて用いることができるのはもちろんである。同じタ
イプの間隙のある生成物を、また、完全な化学量論より
以下になる出発生成物を使用して製造することもできる
ことに留意すべきである。これらの生成物もまた本発明
において用いることができる。
有するスピネルの混合物の形態の混合物を使用すること
にも適用する。更に、触媒組成物において、Ｚｎ、Ｃ
ｕ、Ｓｎ及びＳｂのような揮発性の元素を用いることを
述べた。これより、スピネルについての調製温度及びこ
れらの元素の揮発性の故に、これらの元素により形成さ
れる生成物は間隙を含有し、Ａ1- x Ｂx Ｂ2-x Ｏ4 式に
よって表わすことができる。これらの生成物が本発明に
おいて用いることができるのはもちろんである。同じタ
イプの間隙のある生成物を、また、完全な化学量論より
以下になる出発生成物を使用して製造することもできる
ことに留意すべきである。これらの生成物もまた本発明
において用いることができる。
【００１３】本発明において用いる触媒は、上記のタイ
プの活性なスピネルベースの相に加えて、白金、パラジ
ウム、ロジウム、ルテニウム、銀、金、インジウム或は
レニウムのような通常触媒に用いられる任意の貴金属を
含むことができる。加えて、これらの触媒の活性な相
は、この分野において通常用いられる任意のタイプの担
体と共に用いることができる。担体は、例えば下記の通
りである：ランタニドオキシド、例えばＣｅＯ2 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、もしくはＳｉＯ2 （これ
らの担体は、必要に応じてドープする）、或はゼオライ
ト、シリケート、結晶性シリコアルミニウムホスフェー
ト、もしくは結晶性アルミニウムホスフェート；シリケ
ート或はホスフェートは、金属置換基、例えばチタン、
鉄、マグネシウム、亜鉛、マンガン、コバルト、ガリウ
ム、ランタン、銅、モリブデン、クロム、ゲルマニウム
もしくはホウ素を含有することができる。
プの活性なスピネルベースの相に加えて、白金、パラジ
ウム、ロジウム、ルテニウム、銀、金、インジウム或は
レニウムのような通常触媒に用いられる任意の貴金属を
含むことができる。加えて、これらの触媒の活性な相
は、この分野において通常用いられる任意のタイプの担
体と共に用いることができる。担体は、例えば下記の通
りである：ランタニドオキシド、例えばＣｅＯ2 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、もしくはＳｉＯ2 （これ
らの担体は、必要に応じてドープする）、或はゼオライ
ト、シリケート、結晶性シリコアルミニウムホスフェー
ト、もしくは結晶性アルミニウムホスフェート；シリケ
ート或はホスフェートは、金属置換基、例えばチタン、
鉄、マグネシウム、亜鉛、マンガン、コバルト、ガリウ
ム、ランタン、銅、モリブデン、クロム、ゲルマニウム
もしくはホウ素を含有することができる。
【００１４】本発明において用いる触媒は、異なる手順
を用いて調製することができる。第一の手順では、触媒
の活性な相を構成する正の或は逆のスピネル構造を有す
る酸化物を、スピネルの構成元素のプリカーサーを焼く
ことによって得る。これらのプリカーサーは酸化物であ
るのが普通である。それらを混合し、粉砕し、次いで必
要に応じて加圧下で、例えばペレット化することによっ
て成形する。混合物を、次いで所望の相を生成するのに
充分な温度で及び期間の間焼成する。温度は少なくとも
７００℃にするのが普通である。焼成する期間は、温度
が高くなる程、短くなる。焼成は空気中で行うのが普通
であり、静的雰囲気で或はガス流中で行うことができ
る。必要ならば、中間の粉砕及び成形を用いて数サイク
ルの焼成を行うことができる。
を用いて調製することができる。第一の手順では、触媒
の活性な相を構成する正の或は逆のスピネル構造を有す
る酸化物を、スピネルの構成元素のプリカーサーを焼く
ことによって得る。これらのプリカーサーは酸化物であ
るのが普通である。それらを混合し、粉砕し、次いで必
要に応じて加圧下で、例えばペレット化することによっ
て成形する。混合物を、次いで所望の相を生成するのに
充分な温度で及び期間の間焼成する。温度は少なくとも
７００℃にするのが普通である。焼成する期間は、温度
が高くなる程、短くなる。焼成は空気中で行うのが普通
であり、静的雰囲気で或はガス流中で行うことができ
る。必要ならば、中間の粉砕及び成形を用いて数サイク
ルの焼成を行うことができる。
【００１５】第二の手順では、初めにスピネルの構成元
素の塩の溶液或は懸濁液を形成する。必要ならば、担体
を、構成元素を有する懸濁液の中にいれることができ
る。塩の例は無機酸の塩、例えば硝酸塩、硫酸塩或は塩
化物であり、硝酸塩が好適である。有機酸酸の塩、特に
飽和脂肪族カルボン酸の塩或はヒドロキシカルボン酸の
塩もまた用いることができる。例はホルメート、アセテ
ート、プロピオネート、オキサレート及びシトレートで
ある。
素の塩の溶液或は懸濁液を形成する。必要ならば、担体
を、構成元素を有する懸濁液の中にいれることができ
る。塩の例は無機酸の塩、例えば硝酸塩、硫酸塩或は塩
化物であり、硝酸塩が好適である。有機酸酸の塩、特に
飽和脂肪族カルボン酸の塩或はヒドロキシカルボン酸の
塩もまた用いることができる。例はホルメート、アセテ
ート、プロピオネート、オキサレート及びシトレートで
ある。
【００１６】形成した溶液或は懸濁液を、次いで乾燥さ
せる。任意の知られている乾燥方法を用いることができ
るが、アトマイゼ−ション、すなわち混合物を高温雰囲
気の中にスプレーする（スプレー−乾燥）のが好まし
い。アトマイゼ−ションは、任意の知られているスプレ
ー手段、例えばディフューザータイプのスプレーノズル
を使用して行うことができる。タービンスプレー手段も
また使用することができる。本方法において用いるのに
適した種々のスプレー技術は、特にＭａｓｔｅｒｓ著
「Ｓｐｒａｙ−Ｄｒｙｉｎｇ」（第２版、１９７６、Ｇ
ｅｏｒｇｅ Ｇｏｄｗｉｎ、ロンドン）の標準テキスト
に記載されている。
せる。任意の知られている乾燥方法を用いることができ
るが、アトマイゼ−ション、すなわち混合物を高温雰囲
気の中にスプレーする（スプレー−乾燥）のが好まし
い。アトマイゼ−ションは、任意の知られているスプレ
ー手段、例えばディフューザータイプのスプレーノズル
を使用して行うことができる。タービンスプレー手段も
また使用することができる。本方法において用いるのに
適した種々のスプレー技術は、特にＭａｓｔｅｒｓ著
「Ｓｐｒａｙ−Ｄｒｙｉｎｇ」（第２版、１９７６、Ｇ
ｅｏｒｇｅ Ｇｏｄｗｉｎ、ロンドン）の標準テキスト
に記載されている。
【００１７】「フラッシュ」反応装置、例えば本出願人
が開発しかつ特にフランス特許出願第ＦＲ−Ａ−２ ２
５７ ３２６号、同ＦＲ−Ａ−２ ４１９ ７５４号及
び同ＦＲ−Ａ−２ ４３１ ３２１号に記載されている
タイプのスプレー−乾燥手順もまた用いることができる
ことに留意すべきである。この場合、処理ガス（高温ガ
ス）を螺旋形運動で移動させ、渦シャフトの中に流す。
乾燥させるべき混合物を、ガスの運動を処理すべき混合
物に完全に移すガスの螺旋形経路の対称の軸に一直線に
並べる経路に沿って注入する。これより、ガスは下記の
二重の作用を有する：初期混合物をスプレーして、すな
わち変形させて微細な滴にする、及び得られた滴を乾燥
させる。更に、粒子の反応装置における滞留時間が極め
て短い（通常、１秒の約１／１０より短い）ことは、取
り分け、高温ガスとの接触が長過ぎることによる過熱の
危険性を制限することの利点を有する。
が開発しかつ特にフランス特許出願第ＦＲ−Ａ−２ ２
５７ ３２６号、同ＦＲ−Ａ−２ ４１９ ７５４号及
び同ＦＲ−Ａ−２ ４３１ ３２１号に記載されている
タイプのスプレー−乾燥手順もまた用いることができる
ことに留意すべきである。この場合、処理ガス（高温ガ
ス）を螺旋形運動で移動させ、渦シャフトの中に流す。
乾燥させるべき混合物を、ガスの運動を処理すべき混合
物に完全に移すガスの螺旋形経路の対称の軸に一直線に
並べる経路に沿って注入する。これより、ガスは下記の
二重の作用を有する：初期混合物をスプレーして、すな
わち変形させて微細な滴にする、及び得られた滴を乾燥
させる。更に、粒子の反応装置における滞留時間が極め
て短い（通常、１秒の約１／１０より短い）ことは、取
り分け、高温ガスとの接触が長過ぎることによる過熱の
危険性を制限することの利点を有する。
【００１８】ガス及び乾燥させるべき混合物のそれぞれ
の流量に応じて、ガスの流入温度を、例えば４００°〜
９００℃、一層特には６００°〜８００℃にし、乾燥さ
れる固体の温度を１１０°〜２５０℃、例えば好ましく
は１２５°〜２００℃にする。乾燥させた後に、得られ
た生成物を焼成する。焼成は所望の相を形成するのに充
分な温度で行う。この温度は少なくとも６００℃にする
のが普通である。焼成期間は、例えば３０分〜１０時間
にすることができる。この期間は、焼成温度が高くなる
程、短くなる。焼成は空気中で行うのが普通であり、静
的雰囲気で或はガス流中で行うことができる。
の流量に応じて、ガスの流入温度を、例えば４００°〜
９００℃、一層特には６００°〜８００℃にし、乾燥さ
れる固体の温度を１１０°〜２５０℃、例えば好ましく
は１２５°〜２００℃にする。乾燥させた後に、得られ
た生成物を焼成する。焼成は所望の相を形成するのに充
分な温度で行う。この温度は少なくとも６００℃にする
のが普通である。焼成期間は、例えば３０分〜１０時間
にすることができる。この期間は、焼成温度が高くなる
程、短くなる。焼成は空気中で行うのが普通であり、静
的雰囲気で或はガス流中で行うことができる。
【００１９】発明の触媒を調製するための第三の手順で
は、スピネルの構成元素のプリカーサーと炭素及び窒素
の源との混合物を作成する。その混合物は溶液の形態に
することができる。通常用いるプリカーサーは元素の
塩、一層特には硝酸塩或は塩化物である。炭素及び窒素
の源は有機化合物、例えば尿素或はグリシンが普通であ
る。
は、スピネルの構成元素のプリカーサーと炭素及び窒素
の源との混合物を作成する。その混合物は溶液の形態に
することができる。通常用いるプリカーサーは元素の
塩、一層特には硝酸塩或は塩化物である。炭素及び窒素
の源は有機化合物、例えば尿素或はグリシンが普通であ
る。
【００２０】混合物は、次いで、それを十分な温度、大
概少なくとも３００℃、例えば５００℃に加熱すること
により燃焼を受ける。溶液の場合、これを炉において沸
騰させた後に、燃やす。混合物において、極めて高い焼
成温度を過渡的に生じさせることができる。反応温度
は、炭素及び窒素源／プリカーサーモル比を変更するこ
とによって変えることができる。燃焼させた後に、必要
ならば、生成物を粉砕する。
概少なくとも３００℃、例えば５００℃に加熱すること
により燃焼を受ける。溶液の場合、これを炉において沸
騰させた後に、燃やす。混合物において、極めて高い焼
成温度を過渡的に生じさせることができる。反応温度
は、炭素及び窒素源／プリカーサーモル比を変更するこ
とによって変えることができる。燃焼させた後に、必要
ならば、生成物を粉砕する。
【００２１】上記したのと異なる活性な相を調製するの
にプリカーサーを用いることが可能であるのはもちろん
である。例えば、ゾル−塩、ゾル−ゲル或は水性もしく
は有機沈殿技術を用いてもよい。触媒は、粒体、球、異
なる寸法のハネカムのシリンダーのような異なる形態で
用いることができる。それらは、また、上記した活性な
相をベースにしたコーティング（薄め塗膜）を、例えば
モノリシック金属或はセラミックの基材上に含む触媒系
において用いることができる。
にプリカーサーを用いることが可能であるのはもちろん
である。例えば、ゾル−塩、ゾル−ゲル或は水性もしく
は有機沈殿技術を用いてもよい。触媒は、粒体、球、異
なる寸法のハネカムのシリンダーのような異なる形態で
用いることができる。それらは、また、上記した活性な
相をベースにしたコーティング（薄め塗膜）を、例えば
モノリシック金属或はセラミックの基材上に含む触媒系
において用いることができる。
【００２２】発明は、酸素を過剰に含有する排気ガスを
処理するのに適用し得る。「過剰の酸素」なる用語は、
この元素の濃度（容積として表わして）少なくとも５
％、一層特には少なくとも１０％を意味し、この濃度
は、例えば５〜１５％である。この場合、触媒させよう
とする反応の内の一つはＨＣ（炭化水素）＋ＮＯx の反
応である。
処理するのに適用し得る。「過剰の酸素」なる用語は、
この元素の濃度（容積として表わして）少なくとも５
％、一層特には少なくとも１０％を意味し、この濃度
は、例えば５〜１５％である。この場合、触媒させよう
とする反応の内の一つはＨＣ（炭化水素）＋ＮＯx の反
応である。
【００２３】発明は、酸素を過剰に含有する排気ガスを
処理するための上記した触媒をベースにした上述したタ
イプの任意の触媒系を製造及び使用することに適用す
る。ＮＯx を除去するための還元性ガスとして用いるこ
とができる炭化水素は、特に飽和の、エチレン性、アセ
チレン性、或は芳香族の炭素含有化合物からのガス或は
液体及び石油カットからの炭化水素、例えばメタン、エ
タン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、エチレ
ン、プロピレン、アセチレン、ブタジエン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ケロシン及び軽油である。
処理するための上記した触媒をベースにした上述したタ
イプの任意の触媒系を製造及び使用することに適用す
る。ＮＯx を除去するための還元性ガスとして用いるこ
とができる炭化水素は、特に飽和の、エチレン性、アセ
チレン性、或は芳香族の炭素含有化合物からのガス或は
液体及び石油カットからの炭化水素、例えばメタン、エ
タン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、エチレ
ン、プロピレン、アセチレン、ブタジエン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ケロシン及び軽油である。
【００２４】有機の酸素含有化合物は、特にアルコー
ル、例えばメタノール、エタノール或はプロパノールの
ような飽和アルコール；メチルエーテル或はエチルエー
テルのようなエーテル；或はメチルアセテートのような
エステル或はケトンにすることができる。
ル、例えばメタノール、エタノール或はプロパノールの
ような飽和アルコール；メチルエーテル或はエチルエー
テルのようなエーテル；或はメチルアセテートのような
エステル或はケトンにすることができる。
【００２５】本発明によって処理することができるガス
は、例えばガスタービン、発電所炉或は内燃機関、特に
ディーゼルエンジン或は希薄混合気燃焼エンジンからの
ガスにすることができる。
は、例えばガスタービン、発電所炉或は内燃機関、特に
ディーゼルエンジン或は希薄混合気燃焼エンジンからの
ガスにすることができる。
【００２６】今、いくつかの例を挙げることにする。下
記の例では、得られた生成物を下記の通りにしてテスト
してそれらの触媒性能を評価した。粉末触媒１．５ｇを
石英反応装置に入れた。反応装置入口における反応混合
物は下記の組成（容積による）を有していた： ＮＯ ＝ ９００ｖｐｍ Ｃ3 Ｈ6 ＝ ９００ｖｐｍ Ｏ2 ＝ ５％ ＣＯ2 ＝ １０％ Ｈ2 Ｏ ＝ １０％ Ｎ2 ＝ ｑｓｐ １００％ 全流量は１０Ｎリットル／時であった。ＶＶＨは１００
００時-1程度であった。
記の例では、得られた生成物を下記の通りにしてテスト
してそれらの触媒性能を評価した。粉末触媒１．５ｇを
石英反応装置に入れた。反応装置入口における反応混合
物は下記の組成（容積による）を有していた： ＮＯ ＝ ９００ｖｐｍ Ｃ3 Ｈ6 ＝ ９００ｖｐｍ Ｏ2 ＝ ５％ ＣＯ2 ＝ １０％ Ｈ2 Ｏ ＝ １０％ Ｎ2 ＝ ｑｓｐ １００％ 全流量は１０Ｎリットル／時であった。ＶＶＨは１００
００時-1程度であった。
【００２７】ＨＣ（Ｃ3 Ｈ6 ）、ＮＯ及びＮＯx （ＮＯ
x ＝ＮＯ＋ＮＯ2 ）についてのシグナル並びに反応装置
における温度を常時報告した。ＨＣシグナルは、フレー
ムイオン化検出の原理に基づくＢＥＣＫＭＡＮ全ＨＣ検
出器によってもたらした。ＮＯ及びＮＯx シグナルは、
化学発光の原理に基づくＥＣＯＰＨＹＳＩＣＳＮＯx 分
析計によってもたらした。それはＮＯ、ＮＯx 及びＮＯ
2 についての値をもたらし、後者はＮＯx 及びＮＯシグ
ナルの間の差によって計算した。
x ＝ＮＯ＋ＮＯ2 ）についてのシグナル並びに反応装置
における温度を常時報告した。ＨＣシグナルは、フレー
ムイオン化検出の原理に基づくＢＥＣＫＭＡＮ全ＨＣ検
出器によってもたらした。ＮＯ及びＮＯx シグナルは、
化学発光の原理に基づくＥＣＯＰＨＹＳＩＣＳＮＯx 分
析計によってもたらした。それはＮＯ、ＮＯx 及びＮＯ
2 についての値をもたらし、後者はＮＯx 及びＮＯシグ
ナルの間の差によって計算した。
【００２８】触媒活性は、ＨＣ、ＮＯ、ＮＯ2 及びＮＯ
x シグナルから、２０℃から７００℃に３．７５℃／分
でプログラムによる昇温する間の温度の関数として並び
に下記の関係から測定した： ・％で表わすＮＯの転化比（ＴＮＯ）は下記によって与
えられる：ＴＣ（ＮＯ）＝１００（ＮＯ0 −ＮＯ）／Ｎ
Ｏ0 （ＮＯ0 は、温度プログラムの開始に相当するｔ＝
０におけるＮＯシグナルである）、 ・％で表わすＨＣの転化比（ＴＨＣ）は下記によって与
えられる：Ｔ（ＨＣ）＝１００（ＨＣ0 −ＨＣ）／ＨＣ
0 （ＨＣ0 は、温度プログラムの開始に相当するｔ＝０
におけるＨＣシグナルである）、 ・％で表わすＮＯx の転化比（ＴＮＯx ）は下記によっ
て与えられる：ＴＣ（ＮＯx ）＝１００（ＮＯx 0−ＮＯ
x ）／ＮＯx 0（ＮＯx 0は、温度プログラムの開始に相当
するｔ＝０におけるＮＯx シグナルである）。
x シグナルから、２０℃から７００℃に３．７５℃／分
でプログラムによる昇温する間の温度の関数として並び
に下記の関係から測定した： ・％で表わすＮＯの転化比（ＴＮＯ）は下記によって与
えられる：ＴＣ（ＮＯ）＝１００（ＮＯ0 −ＮＯ）／Ｎ
Ｏ0 （ＮＯ0 は、温度プログラムの開始に相当するｔ＝
０におけるＮＯシグナルである）、 ・％で表わすＨＣの転化比（ＴＨＣ）は下記によって与
えられる：Ｔ（ＨＣ）＝１００（ＨＣ0 −ＨＣ）／ＨＣ
0 （ＨＣ0 は、温度プログラムの開始に相当するｔ＝０
におけるＨＣシグナルである）、 ・％で表わすＮＯx の転化比（ＴＮＯx ）は下記によっ
て与えられる：ＴＣ（ＮＯx ）＝１００（ＮＯx 0−ＮＯ
x ）／ＮＯx 0（ＮＯx 0は、温度プログラムの開始に相当
するｔ＝０におけるＮＯx シグナルである）。
【００２９】最後に、「比表面積」なる用語は、「Ｔｈ
ｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅＡｍｅｒｉｃａｎ
Ｓｏｃｉｅｔｙ」、６０巻、３０９頁（１９３８）に記
載されるブルナウアー−エメット−テーラー法に基づく
ＡＳＴＭ Ｄ ３６６３−７８基準に従う窒素の吸収に
より求めるＢＥＴ比表面積を意味する。
ｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅＡｍｅｒｉｃａｎ
Ｓｏｃｉｅｔｙ」、６０巻、３０９頁（１９３８）に記
載されるブルナウアー−エメット−テーラー法に基づく
ＡＳＴＭ Ｄ ３６６３−７８基準に従う窒素の吸収に
より求めるＢＥＴ比表面積を意味する。
【００３０】
例１ 本例はＺｎＡｌ2 Ｏ4 式を有する触媒に関するものであ
った。酸化物（ＺｎＯ、Ａｌ2 Ｏ3 ）をめのうモルタル
中で混合及び粉砕し、次いで１トン／ｃｍ2 でペレット
化してプリカーサーとして用いた。混合物を、次いでア
ルミニウムるつぼにおいて空気中で焼成した。
った。酸化物（ＺｎＯ、Ａｌ2 Ｏ3 ）をめのうモルタル
中で混合及び粉砕し、次いで１トン／ｃｍ2 でペレット
化してプリカーサーとして用いた。混合物を、次いでア
ルミニウムるつぼにおいて空気中で焼成した。
【００３１】中間粉砕及びペレット化を用いた１０００
℃における１５時間の２焼成サイクルの後に、ＺｎＡｌ
2 Ｏ4 化合物が得られた。これらの条件下で、Ｘ線回折
は、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 の存在を示した。ＢＥＴ比表面積は
０．５０ｍ2 ／ｇより小さかった。触媒性能を下記の表
１に挙げる。これらの性能は下記を示す： ・比表面積が極めて小さい（＜０．５０ｍ2 ／ｇ）こと
を考慮すれば、良好なレベルの活性（５４０℃における
最大総括ＮＯx 転化率約２０％）； ・ＮＯx 転化域４５０°〜６００℃。
℃における１５時間の２焼成サイクルの後に、ＺｎＡｌ
2 Ｏ4 化合物が得られた。これらの条件下で、Ｘ線回折
は、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 の存在を示した。ＢＥＴ比表面積は
０．５０ｍ2 ／ｇより小さかった。触媒性能を下記の表
１に挙げる。これらの性能は下記を示す： ・比表面積が極めて小さい（＜０．５０ｍ2 ／ｇ）こと
を考慮すれば、良好なレベルの活性（５４０℃における
最大総括ＮＯx 転化率約２０％）； ・ＮＯx 転化域４５０°〜６００℃。
【００３２】
【表１】
【００３３】例２ 本例は例１と同じタイプの触媒を異なるルートで調製す
ることに関するものであった。Ｚｎ０．２モル／リット
ル及びＡｌ０．４モル／リットルを含有する硝酸塩の混
合物をＢＵＣＨＩを通すアトマイゼーションによって乾
燥させた。ガス流入温度は２４０℃であり、生成物流出
温度は１１５℃であり、アトマイゼーション流量は８０
０ｍリットル／時であった。得られた粉末をアルミニウ
ムボート中で、プログラムによる昇温５℃／分を用いて
８００℃において６時間焼成した。Ｘ線回折は、完全に
結晶化されたＺｎＡｌ2 Ｏ4 相を示した。この場合で
は、ＢＥＴ比表面積は３３ｍ2 ／ｇであった。
ることに関するものであった。Ｚｎ０．２モル／リット
ル及びＡｌ０．４モル／リットルを含有する硝酸塩の混
合物をＢＵＣＨＩを通すアトマイゼーションによって乾
燥させた。ガス流入温度は２４０℃であり、生成物流出
温度は１１５℃であり、アトマイゼーション流量は８０
０ｍリットル／時であった。得られた粉末をアルミニウ
ムボート中で、プログラムによる昇温５℃／分を用いて
８００℃において６時間焼成した。Ｘ線回折は、完全に
結晶化されたＺｎＡｌ2 Ｏ4 相を示した。この場合で
は、ＢＥＴ比表面積は３３ｍ2 ／ｇであった。
【００３４】触媒性能は下記の表２に挙げ、下記を示
す： ・触媒の比表面積（３３ｍ2 ／ｇ）を考慮すれば、著し
いレベルの活性（５５０℃における最大総括ＮＯx 転化
率約４０％）； ・大きいＮＯx 転化域３５０°〜６００℃。
す： ・触媒の比表面積（３３ｍ2 ／ｇ）を考慮すれば、著し
いレベルの活性（５５０℃における最大総括ＮＯx 転化
率約４０％）； ・大きいＮＯx 転化域３５０°〜６００℃。
【００３５】
【表２】
【００３６】例３ 本例はＳｎ0.025 Ｚｎ0.975 Ａｌ2 Ｏ4 式を有する触媒
に関するものであった。Ｚｎ０．１９５モル／リット
ル、Ａｌ０．４モル／リットル及びＳｎ０．００５モル
／リットルを含有する硝酸塩の混合物をＢＵＣＨＩを通
すアトマイゼーションによって乾燥させた。ガス流入温
度は２４５℃であり、生成物流出温度は１１５℃であ
り、アトマイゼーション流量は８５０ｍリットル／時で
あった。得られた粉末をアルミニウムボート中で、プロ
グラムによる昇温５℃／分を用いて８００℃において６
時間焼成した。粉末のＸ線回折は、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 と同
様のブラッグピークの系を有する純相を示した。ＢＥＴ
比表面積は３４ｍ2 ／ｇであった。
に関するものであった。Ｚｎ０．１９５モル／リット
ル、Ａｌ０．４モル／リットル及びＳｎ０．００５モル
／リットルを含有する硝酸塩の混合物をＢＵＣＨＩを通
すアトマイゼーションによって乾燥させた。ガス流入温
度は２４５℃であり、生成物流出温度は１１５℃であ
り、アトマイゼーション流量は８５０ｍリットル／時で
あった。得られた粉末をアルミニウムボート中で、プロ
グラムによる昇温５℃／分を用いて８００℃において６
時間焼成した。粉末のＸ線回折は、ＺｎＡｌ2 Ｏ4 と同
様のブラッグピークの系を有する純相を示した。ＢＥＴ
比表面積は３４ｍ2 ／ｇであった。
【００３７】触媒性能は下記の表３に挙げ、下記を示
す： ・触媒の比表面積を考慮すれば、著しいレベルの活性
（４９０℃における最大総括ＮＯx 転化率約４０％）； ・大きいＮＯx 転化域４００°〜６００℃。
す： ・触媒の比表面積を考慮すれば、著しいレベルの活性
（４９０℃における最大総括ＮＯx 転化率約４０％）； ・大きいＮＯx 転化域４００°〜６００℃。
【００３８】
【表３】
【００３９】例４ 本例はＺｎＧａ2 Ｏ4 式を有する触媒に関するものであ
った。酸化物ＺｎＯ及びＧａ2 Ｏ4 をめのうモルタル中
で混合及び粉砕し、次いで１トン／ｃｍ2 でペレット化
してプリカーサーとして用いた。混合物を、次いでアル
ミニウムるつぼにおいて空気中で焼成した。中間粉砕及
びペレット化を用いた１０００℃における１５時間の２
焼成サイクルの後に、ＺｎＧａ2 Ｏ4 化合物が得られ
た。これらの条件下で、Ｘ線回折は、ＺｎＧａ2 Ｏ4 の
存在を示した。ＢＥＴ比表面積は０．５０ｍ2 ／ｇより
小さかった。
った。酸化物ＺｎＯ及びＧａ2 Ｏ4 をめのうモルタル中
で混合及び粉砕し、次いで１トン／ｃｍ2 でペレット化
してプリカーサーとして用いた。混合物を、次いでアル
ミニウムるつぼにおいて空気中で焼成した。中間粉砕及
びペレット化を用いた１０００℃における１５時間の２
焼成サイクルの後に、ＺｎＧａ2 Ｏ4 化合物が得られ
た。これらの条件下で、Ｘ線回折は、ＺｎＧａ2 Ｏ4 の
存在を示した。ＢＥＴ比表面積は０．５０ｍ2 ／ｇより
小さかった。
【００４０】触媒性能は下記の表４に挙げ、下記を示
す： ・比表面積が極めて小さい（＜０．５０ｍ2 ／ｇ）こと
を考慮すれば、良好なレベルの活性（５３０℃における
最大総括ＮＯx 転化率約２５％）； ・ＮＯx 転化域４００°〜６５０℃。
す： ・比表面積が極めて小さい（＜０．５０ｍ2 ／ｇ）こと
を考慮すれば、良好なレベルの活性（５３０℃における
最大総括ＮＯx 転化率約２５％）； ・ＮＯx 転化域４００°〜６５０℃。
【００４１】
【表４】
【００４２】下記の例では、反応装置入口における反応
混合物は下記の組成（容積による）を有していた： ＮＯ ＝ ３００ｖｐｍ Ｃ3 Ｈ6 ＝ ３００ｖｐｍ Ｏ2 ＝ １０％ ＣＯ2 ＝ １０％ Ｈ2 Ｏ ＝ １０％ Ｎ2 ＝ ｑｓｐ １００％ 触媒装入量 ＝ ３００ ｍｇ 全流量は１０Ｎリットル／時であった。ＶＶＨは２００
００時-1程度であった。
混合物は下記の組成（容積による）を有していた： ＮＯ ＝ ３００ｖｐｍ Ｃ3 Ｈ6 ＝ ３００ｖｐｍ Ｏ2 ＝ １０％ ＣＯ2 ＝ １０％ Ｈ2 Ｏ ＝ １０％ Ｎ2 ＝ ｑｓｐ １００％ 触媒装入量 ＝ ３００ ｍｇ 全流量は１０Ｎリットル／時であった。ＶＶＨは２００
００時-1程度であった。
【００４３】加えて、触媒を下記の一般的な方法を用い
て調製した：塩を溶解し或はゾル及び酸化物を懸濁液中
に入れることにより、塩、ゾル或は酸化物の懸濁液中の
混合物を攪拌しながら作成した。これは、適当な容積の
水（塩濃度：０．２５〜１Ｍ／リットル；懸濁５０〜２
５０ｇ／リットル）において行った。この混合物を、Ｂ
ｕｃｈｉ乾燥機において、入口温度を２２０°〜２５０
℃にし、出口温度を１００°〜１５０℃にし、懸濁液流
量を１．５〜１５ｍリットル／分にして、共乾燥させ
た。得られた粉末を、プログラムによる昇温１〜５°／
分を用い、５００°〜９００℃で、この温度において２
〜６時間の段階を用いて焼成した。
て調製した：塩を溶解し或はゾル及び酸化物を懸濁液中
に入れることにより、塩、ゾル或は酸化物の懸濁液中の
混合物を攪拌しながら作成した。これは、適当な容積の
水（塩濃度：０．２５〜１Ｍ／リットル；懸濁５０〜２
５０ｇ／リットル）において行った。この混合物を、Ｂ
ｕｃｈｉ乾燥機において、入口温度を２２０°〜２５０
℃にし、出口温度を１００°〜１５０℃にし、懸濁液流
量を１．５〜１５ｍリットル／分にして、共乾燥させ
た。得られた粉末を、プログラムによる昇温１〜５°／
分を用い、５００°〜９００℃で、この温度において２
〜６時間の段階を用いて焼成した。
【００４４】例５ 本例はＺｎ0.9 Ａｌ2 Ｏ4 式を有する触媒に関するもの
であった。その触媒は、Ｚｎ（ＮＯ3 ）2 ・６Ｈ2 Ｏ及
びＡｌ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏを出発生成物として使用
し、上に挙げた方法を用いて調製した。性能を下記の表
５に挙げる。
であった。その触媒は、Ｚｎ（ＮＯ3 ）2 ・６Ｈ2 Ｏ及
びＡｌ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏを出発生成物として使用
し、上に挙げた方法を用いて調製した。性能を下記の表
５に挙げる。
【００４５】
【表５】
【００４６】例６ 本例は、アルミナ担体上に総括式ＳｎＺｎＧａ2 Ｏ4 を
有する触媒に関するものであった。スズ含量は１．６重
量％であった。その触媒は、出発生成物としての濃度
３．２４Ｍ／リットルの溶解したＺｎ（ＮＯ3 ）2 ・６
Ｈ2 Ｏ及びＧａ（ＮＯ3 ）3 並びに懸濁したアルミナを
使用して調製した。アルミナは８００℃で焼成したＣｏ
ｎｄｅａアルミナであった。触媒／アルミナ担体の割合
は２０／８０であった。性能を下記の表６に挙げる。
有する触媒に関するものであった。スズ含量は１．６重
量％であった。その触媒は、出発生成物としての濃度
３．２４Ｍ／リットルの溶解したＺｎ（ＮＯ3 ）2 ・６
Ｈ2 Ｏ及びＧａ（ＮＯ3 ）3 並びに懸濁したアルミナを
使用して調製した。アルミナは８００℃で焼成したＣｏ
ｎｄｅａアルミナであった。触媒／アルミナ担体の割合
は２０／８０であった。性能を下記の表６に挙げる。
【００４７】
【表６】
【００４８】例７ 本例は、アルミナ担体上にＺｎＧａ2 Ｏ4 式を有する触
媒に関するものであった。使用したアルミナは７５０℃
で２時間焼成したＣｏｎｄｅａアルミナであった。触媒
／アルミナ担体の割合は２０／８０であった。性能を下
記の表７に挙げる。
媒に関するものであった。使用したアルミナは７５０℃
で２時間焼成したＣｏｎｄｅａアルミナであった。触媒
／アルミナ担体の割合は２０／８０であった。性能を下
記の表７に挙げる。
【００４９】
【表７】
【００５０】例８ 本例はＭｇＡｌ2 Ｏ4 式を有する触媒に関するものであ
った。その触媒は、Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 ・６Ｈ2 Ｏ及びＡ
ｌ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏを出発生成物として使用し、
上に挙げた方法を用いて調製した。それを、例５〜７と
同じ条件下であるが、量１．５ｇ及びＶＶＨ１００００
時-1で使用した。性能を下記の表８に挙げる。
った。その触媒は、Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 ・６Ｈ2 Ｏ及びＡ
ｌ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏを出発生成物として使用し、
上に挙げた方法を用いて調製した。それを、例５〜７と
同じ条件下であるが、量１．５ｇ及びＶＶＨ１００００
時-1で使用した。性能を下記の表８に挙げる。
【００５１】
【表８】
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 21/10 ＺＡＢ Ａ 23/14 ＺＡＢ Ａ Ｂ０１Ｄ 53/36 １０４ Ａ (72)発明者 ティエリ・セグロン フランス国ナンテール、アブニュ・パブ ロ・ピカソ、121
Claims (12)
- 【請求項１】 ＺｎＡｌ2 Ｏ4 式を有するスピネル構造
を有する多量の酸化物を含有する触媒を、内燃機関から
の酸素を高い濃度で含有する排気ガスを処理して窒素の
酸化物の排出を減少させるのに使用する方法。 - 【請求項２】 ＺｎＡｌ2 Ｏ4 の外の正の或は逆のスピ
ネル構造を有する酸化物を含有する触媒を、内燃機関か
らの酸素を高い濃度で含有する排気ガスを処理して窒素
の酸化物の排出を減少させるのに使用する方法。 - 【請求項３】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸化
物が下記の包括的式（Ｉ）： ＡＢ2 Ｏ4 （式中、Ａは周期分類からのＩＩａ、Ｉｂ、ＩＩｂ、Ｉ
ＩＩｂ、ＩＶｂ及びＶｂ族、また遷移元素から選ぶ少な
くとも一種の元素であり；Ｂは周期分類のＩＶａ、ＶＩ
ａ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩａ、Ｉｂ〜Ｖｂ族から選ぶ少な
くとも一種の元素である）を有することを特徴とする請
求項２の方法。 - 【請求項４】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸化
物が（Ｉ）式（式中、ＡはＭｇ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ及びＳｎからなる群より選ぶ少な
くとも一種の元素であり；ＢはＴｉ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ
及びＳｂからなる群より選ぶ少なくとも一種の元素であ
る）を有することを特徴とする請求項３の方法。 - 【請求項５】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸化
物が（Ｉ）式（式中、ＢはＡｌ或はＧａである）を有す
ることを特徴とする請求項４の方法。 - 【請求項６】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸化
物を、スピネルの構成元素のプリカーサーを焼くことに
よって得ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一
の方法。 - 【請求項７】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸化
物を、スピネルの構成元素の塩の溶液或は懸濁液を形成
し、次いで得られた媒体を乾燥しかつ焼成するプロセス
によって得ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか
一の方法。 - 【請求項８】 酸化物を、乾燥をアトマイゼ−ションに
よって行うプロセスによって得ることを特徴とする請求
項７の方法。 - 【請求項９】 酸化物を、焼成を温度少なくとも６００
℃で行うプロセスによって得ることを特徴とする請求項
７又は８の方法。 - 【請求項１０】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸
化物を、スピネルの構成元素のプリカーサーと炭素及び
窒素の源との混合物を燃焼させることを含むプロセスに
よって得ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一
の方法。 - 【請求項１１】 正の或は逆のスピネル構造を有する酸
化物を、炭素及び窒素の源を尿素或はグリシンとするプ
ロセスによって得ることを特徴とする請求項１０の方
法。 - 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれか一の酸化物
を、内燃機関からの酸素を高い含量で含有する排気ガス
を処理して窒素の酸化物の排出を減少させるための触媒
系を製造するのに使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR94-04158 | 1994-04-08 | ||
| FR9404158A FR2718371B1 (fr) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Catalyseurs de réduction des oxydes d'azote à base de spinelles. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07284662A true JPH07284662A (ja) | 1995-10-31 |
| JP3017043B2 JP3017043B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=9461889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7107832A Expired - Fee Related JP3017043B2 (ja) | 1994-04-08 | 1995-04-10 | 窒素の酸化物の排出を減少させるためのスピネルベースの触媒 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5736114A (ja) |
| EP (1) | EP0676232B1 (ja) |
| JP (1) | JP3017043B2 (ja) |
| KR (1) | KR100391056B1 (ja) |
| CN (1) | CN1082385C (ja) |
| AT (1) | ATE220944T1 (ja) |
| AU (1) | AU699947B2 (ja) |
| BR (1) | BR9501501A (ja) |
| CA (1) | CA2146601C (ja) |
| DE (1) | DE69527459T2 (ja) |
| FR (1) | FR2718371B1 (ja) |
| HU (1) | HUT71068A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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