JPH0716774B2 - 複数の鋳型を使用する連続鋳造方法 - Google Patents

複数の鋳型を使用する連続鋳造方法

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JPH0716774B2
JPH0716774B2 JP60188749A JP18874985A JPH0716774B2 JP H0716774 B2 JPH0716774 B2 JP H0716774B2 JP 60188749 A JP60188749 A JP 60188749A JP 18874985 A JP18874985 A JP 18874985A JP H0716774 B2 JPH0716774 B2 JP H0716774B2
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  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、連続鋳造用鋳型の数に相当する数の制御可能
な出湯口閉鎖装置をもつ中間容器から金属溶湯をそれぞ
れ供給される複数の鋳型の充填レベルを測定区間内で監
視し、形成されるすべての鋳片を共通な鋳片引出し装置
により同じ速度で鋳型から引出す、中間容器から調整可
能な出湯口閉鎖装置により複数の連続鋳造鋳型へ金属溶
湯特に溶鋼を注入する複数の鋳型を使用する連続鋳造方
法に関する。
〔従来の技術〕
このような方法は欧州特許第19114号明細書から公知で
あり、その第4欄の下には、鋳造開始を容易にするた
め、鋳型の充填レベル測定装置へ非常に大きい高さ範囲
を与えて、鋳型の充填レベルの上昇速度を互いに比較で
きるようにすることが推奨されている。その際比較によ
り異なる流入量を早期に検出し、出湯口閉鎖装置として
用いられる電磁調整装置またはガスノズルで動作する調
整装置を目標充填レベルに達する前に駆動して、障害の
ない鋳造開始を可能にする。しかしこのような処置につ
いての説明はなされていない。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の課題は、簡単かつ改善された操業信頼性で、鋳
造の初期段階で複数の鋳型へ溶湯を注入し、かつ鋳型か
ら鋳片を同じ速度で引出す連続鋳造方法を提供すること
である。
〔課題を解決するための手段〕
この課題を解決するため本発明によれば、鋳造を開始す
るためすべての出湯口閉鎖装置を完全に開いて、各鋳型
の実際充填レベルを鋳型内のダミー鋳片頭部より上へ上
昇させ、測定区間内の第1の限界レベルへ最初に達する
実際充填レベルをもつ鋳型に属する出湯口閉鎖装置を絞
り、この鋳型の実際充填レベルと同じ実際充填レベルに
なる他の鋳型に属する出湯口閉鎖装置を絞り、すべての
鋳型の実際充填レベルがほぼ同じになるかまたは実際充
填レベルの1つが測定区間内で第1の限界レベルより上
にある第2の限界レベルへ達すると、鋳片引出し装置を
始動させ、鋳型の実際充填レベルが測定区間内で第2の
限界レベルより上にある目標充填レベルへ達するとき、
この実際充填レベルをもつ鋳型に属する出湯口閉鎖装置
の絞りを調整して、実際充填レベルをほぼこの目標充填
レベルに維持する。
〔発明の効果〕
こうしてすべての鋳型の実際充填レベルが、すべての鋳
片に共通な引出し装置の始動を可能にする高さへ早くも
たらされ、この高さが目標充填レベルへの移行を容易に
しかつ障害なしに保証する。それにより、まだ不充分に
しか鋳片表皮を形成しない鋳型から溶湯が流出して、設
備部分例えばその下にある二次冷却装置を使用不可能に
し、したがつて無傷な鋳片の送出しを阻止するという事
態が避けられる。
〔実施例〕
本発明を図面に基いて説明する。
第1図において1は取鍋を意味し、これから調整可能な
出湯口閉鎖装置2を経て溶鋼が中間容器3へ供給され、
この中間容器にある摺動閉鎖装置4の形の出湯口閉鎖装
置は、注入管5を通して連続鋳造鋳型A,B,Cへの溶湯の
流入を調整する。このため各摺動閉鎖装置4は操作素子
6へ機械的に連結され、この操作素子のそのつどの動作
位置は位置測定器7により固定される。注入管5の自由
端は鋳型A,B,Cへ入り込み、その通常操業のために設定
される目標充填レベル8は、各鋳型A,B,Cに付属して送
信器10と受信器11からなる充填レベル測定装置の測定区
間9の高さの約85%の所にある。
鋳型A,B,Cの後には、本発明に直接関係しないため図示
してない二次冷却装置と、駆動ロール12、駆動装置13、
駆動調整器14および引出し速度測定器15をもつ鋳片引出
し装置が、すべての鋳片18に対して共通に設けられてい
る。引出し速度測定器15はその測定値を駆動調整器14と
プロセツサ16とに与え、このプロセツサ16はさらに摺動
閉鎖装置4の開度を監視する位置測定器7と充填レベル
測定装置10,11の受信器11の測定値を受けて、処理す
る。得られたデータはプロセツサ16に統合された制御計
算機17へ達し、この計算機が適当な制御指令を摺動閉鎖
装置4の操作素子6と鋳片引出し装置12〜15の調整器14
とへ与える。そこで引出し速度が定数として固定され、
すなわち鋳型A,B,C内に形成される鋳片18は、共通な引
出し装置12〜15により不変な速度で引出され、このこと
は、鋳型に規定される目標充填レベル8は流入側からの
み摺動閉鎖装置4によつて調整されることを意味する。
このため摺動閉鎖装置4は通常の鋳造操業では絞り位置
に保たれて、開閉制御を可能にする。
鋳造開始のためダミー鋳片18が鋳型A,B,Cへ入れられ、
引出し駆動装置13が停止される。鋳造は摺動閉鎖装置4
の開放と共に始まり、この摺動閉鎖装置は鋳造すべき鋳
片の大きさに応じて完全にまたは一部のみ開かれるの
で、ダミー鋳片頭部19より上に実際充填レベル20が鋳型
A,B,Cに形成されるが、これらは同じレベルにあること
は少ない。
特に異なる通路断面したがつて単位時間あたり注入管5
から異なる流出量が生ずる。なぜならば、中間容器3お
よび摺動閉鎖装置4の通路に、例えば溶湯の凝固のため
鍋屑(スカル)の形成により、まだ充分加熱されない通
路壁個所に、断面の狭い部分が生ずるからである。同様
に中間容器において流れ区間が長いと、溶湯の冷却によ
り粘性が増大する。
第1図において鋳型A,B,Cの実際の充填レベル20はしば
しば非常に異なるが、これらの実際充填レベル20をほぼ
同じにする均一化は次のようにして行なわれる。すなわ
ちプロセツサ16および制御計算機17による摺動閉鎖装置
4の制御のため充填レベル測定装置10,11により監視さ
れる測定区間9において、この測定区間9の高さのなる
べく10%の所に第1の限界レベルとしての信号面21が設
定されている。この信号面21へ最初に達する実際充填レ
ベル20をもつ鋳型に属する摺動閉鎖装置4が絞られる。
摺動閉鎖装置4を絞られない他の鋳型の実際充填レベル
20は引続き上昇して、信号面21に達すると、この実際充
填レベルをもつ鋳型に属する摺動閉鎖装置が絞られる。
こうしてすべての鋳型の実際充填レベル20がほぼ同じに
なるまで、それぞれの鋳型A,B,Cに対応する摺動閉鎖装
置4が絞られる。すべての鋳型A,B,Cの実際充填レベル2
0の均一化が行なわれると、制御計算機17が駆動調整器1
4を介して鋳片引出し駆動装置13を始動させる。一方レ
ベル均一化が全く行なわれないか、または2つの鋳型の
間でしか行なわれないときにも、測定区間9内の第1の
限界レベル21より上にありかつ目標充填レベル8(測定
区間9の高さの約85%)より下にある第2の限界レベル
としての別の信号面22(測定区間9の高さの約70%)へ
最初に達する実際充填レベル20により、引出し駆動装置
13の始動指令が出され、この引出し駆動装置13が始動せ
しめられる。一方、信号面21よりまだ下にある実際充填
レベル20をもつ鋳型の摺動閉鎖装置は閉鎖指令を受け
る。実際充填レベル20が目標充填レベル8へ達すると、
鋳型の摺動閉鎖装置の絞りが調整されて、この実際充填
レベルを目標充填レベルに維持する。
このような制御を第2図ないし第5図についてさらに詳
細に説明する。第2図ないし第5図は、本発明による鋳
型の可能な4つの充填パターンを示すグラフである。そ
の縦軸には、第1図の測定区間9内における鋳型A,B,C
の実際充填レベル20がとられ、第1の限界レベルとして
の信号面21、第2の限界レベルとしての別の信号面22、
および目標充填レベル8も水平線で記入されている。横
軸には、摺動閉鎖装置4が開かれてから、すなわち鋳型
への注入が開始されてからの時間の経過がtで示されて
いる。第2図のグラフは、鋳型A,B,Cにおける充填レベ
ルが同じになるまでのこれら鋳型の充填パターンを示し
ている。第3図ないし第5図は、それぞれ鋳型A,B,Cの
摺動閉鎖装置4が開かれてから目標充填レベル8へ達す
るまでの間におけるこれら鋳型A,B,Cの実際充填レベル
の変化を示している。太い実線は実際充填レベルの変化
を示している。
第2図によれば、鋳型への注入開始の際すべての摺動閉
鎖装置4が同時に完全に開かれてから時間Ct後に、鋳型
Cの実際充填レベルが信号面21を最初に達し、したがつ
て鋳型Cに属する摺動閉鎖装置4が絞り位置へ動かされ
る。この瞬間から、まだ絞られない鋳型AおよびBの充
填レベルが、絞られている鋳型Cの充填レベルより速
く、時間tの経過後鋳型Cの充填レベルまで上昇する。
次の第3図ないし第5図では、目標充填レベル8に達す
るまで注入が継続される。
まず第3図からわかるように、鋳型Aの実際充填レベル
が、注入開始から時間At後に信号面21を超過し、それか
ら鋳型Bの実際充填レベルが時間Bt後に信号面21を超過
し、最後に鋳型Cの実際充填レベルが時間Ct後に信号面
21を超過する。その際これらの鋳型A,B,Cに属する摺動
閉鎖装置4が同じ順序で絞られる。鋳型AおよびBの摺
動閉鎖装置4を絞つた後、これらの鋳型AおよびBの実
際充填レベルが30の所で同じレベルに達する。鋳型Cの
実際充填レベルが通常速度の70%で点31において鋳型A
及びBの実際充填レベルに追い付いたとき、鋳型Cの摺
動閉鎖装置も絞られ、引出し駆動装置13が始動される。
引出し駆動装置13が始動すると、目標充填レベル8に達
するまで、3つの鋳型A,B,Cの実際充填レベルがゆるや
かな勾配の線32に沿つて徐々に上昇し、それからほぼ目
標充填レベル8に保たれる。
第4図の実施例では、すべての鋳型A,B,Cの実際充填レ
ベルが時間Ct,AtおよびBt後に信号面21を超過して、そ
れぞれの摺動閉鎖装置を絞られ、鋳型CおよびAの実際
充填レベルが33の所で一致しても、鋳型Bの実際充填レ
ベルは鋳型CおよびAの実際充填レベルと同じレベルを
とらない。点33の通過後、鋳型CおよびAの実際充填レ
ベルは、一緒に第2の限界レベルとしての信号面22へ達
し、この信号面22で引出し駆動装置13が始動される。そ
れからこれらの鋳型C,Aの実際充填レベルは最終的に目
標充填レベル8へ達し、このレベルに保たれる。鋳型B
の実際充填レベル上昇割合は34の所すなわち引出し駆動
装置13が始動される時点で減少し、注入開始から時間t
後に目標充填レベル8へ達する。
第5図では、鋳型BおよびAの実際充填レベルは、注入
開始から時間BtおよびAt後に信号面21を超過し、そこで
鋳型BおよびAの摺動閉鎖装置4が絞られ、点35で両方
の鋳型B,Aの実際充填レベルが等しくなり、それから第
2の限界レベルとしての信号面22まで上昇し、それから
時間t後に目標充填レベル8へ達する。これらの鋳型B
およびAが信号面22へ達することにより引出し駆動装置
13が始動する時点に、鋳型Cの実際充填レベルはまだ第
1の限界レベルとしての信号面21まで達せず、測定区間
9の原点0%より下にあり、したがつてこの鋳型Cに属
する摺動閉鎖装置4は自動的に閉鎖されている。
このような充填レベルの監視により、複数の鋳片用の引
出し装置をもつ連続鋳造設備は、目標充填レベルで確実
に始動される。
【図面の簡単な説明】
第1図は複数の鋳片を製造する連続鋳造設備の構成図、
第2図ないし第5図は鋳型への異なる充填パターンを示
すグラフである。 3……中間容器、4……出湯口閉鎖装置(摺動閉鎖装
置)、8……目標充填レベル、9……測定区間、13……
引出し駆動装置、19……ダミー鋳片頭部、20……実際充
填レベル、21,22……信号面。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続鋳造用鋳型の数に相当する数の制御可
    能な出湯口閉鎖装置をもつ中間容器から金属溶湯をそれ
    ぞれ供給される複数の鋳型の充填レベルを測定区間内で
    監視し、形成されるすべての鋳片を共通な鋳片引出し装
    置により同じ速度で鋳型から引出す連続鋳造方法におい
    て、鋳造を開始するためすべての出湯口閉鎖装置(4)
    を完全に開いて、各鋳型(A,B,C)の実際充填レベル(2
    0)を鋳型内のダミー鋳片頭部(19)より上へ上昇さ
    せ、測定区間(9)内の第1の限界レベル(21)へ最初
    に達する実際充填レベル(20)をもつ鋳型に属する出湯
    口閉鎖装置(4)を絞り、この鋳型の実際充填レベルと
    同じ実際充填レベルになる他の鋳型に属する出湯口閉鎖
    装置(4)を絞り、すべての鋳型の実際充填レベルがほ
    ぼ同じになるかまたは実際充填レベル(20)の1つが測
    定区間(9)内で第1の限界レベル(21)より上にある
    第2の限界レベル(22)へ達すると、鋳片引出し装置
    (12〜15)を始動させ、鋳型の実際充填レベル(20)が
    測定区間(9)内で第2の限界レベル(22)より上にあ
    る目標充填レベル(8)へ達するとき、この実際充填レ
    ベルをもつ鋳型に属する出湯口閉鎖装置の絞りを調整し
    て、実際充填レベルをほぼこの目標充填レベル(8)に
    維持することを特徴とする、複数の鋳型を使用する連続
    鋳造方法。
  2. 【請求項2】鋳片引出し装置(12〜15)が始動せしめら
    れるとき第1の限界レベル(21)に達しない実際充填レ
    ベル(20)をもつ鋳型(A,B,C)の出湯口閉鎖装置
    (4)を閉じることを特徴とする、特許請求の範囲第1
    項に記載の方法。
  3. 【請求項3】第1の限界レベル(21)、第2の限界レベ
    ル(22)および目標充填レベル(8)が、測定区間
    (9)の高さのそれぞれ約10%,70%および85%の所に
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の
    方法。
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