JPH07111831B2 - ダイナミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路 - Google Patents
ダイナミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路Info
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- JPH07111831B2 JPH07111831B2 JP4150580A JP15058092A JPH07111831B2 JP H07111831 B2 JPH07111831 B2 JP H07111831B2 JP 4150580 A JP4150580 A JP 4150580A JP 15058092 A JP15058092 A JP 15058092A JP H07111831 B2 JPH07111831 B2 JP H07111831B2
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- clock signal
- bit line
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- transistor
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4091—Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はダイナミックランダムア
クセス記憶メモリ回路に関し、特にランダムアクセスメ
モリにおける電力節約のため改良された事前充電及び入
出力動作に関する。
クセス記憶メモリ回路に関し、特にランダムアクセスメ
モリにおける電力節約のため改良された事前充電及び入
出力動作に関する。
【0002】
【従来の技術】米国特許第4、387、449号は、周
辺記憶回路が作動を停止したパワーダウンモードにて作
動可能なメモリデバイスを開示している。そのパワーダ
ウンモードは、複数のチップイネーブル端子の任意の1
つにおける非選択信号に応じて仮定される。メモリの出
力端子における書き込み電位に応じて、検出器回路は出
力回路の作動を停止させたままだが、書き込み動作に必
要な任意の周辺回路を作動する。
辺記憶回路が作動を停止したパワーダウンモードにて作
動可能なメモリデバイスを開示している。そのパワーダ
ウンモードは、複数のチップイネーブル端子の任意の1
つにおける非選択信号に応じて仮定される。メモリの出
力端子における書き込み電位に応じて、検出器回路は出
力回路の作動を停止させたままだが、書き込み動作に必
要な任意の周辺回路を作動する。
【0003】米国特許第4、405、996号は、「選
択される」及び「選択されない」状態を有する回路と、
回路が「選択される」と作動可能になるネットワークを
生成する制御可能なパルスについて述べている。回路が
選択されなかったとき、ラッチは回路への所定の入力信
号の任意の1つの状態の変化について証明する信号を感
知し記憶する。パルスネットワークは記憶された信号に
応答し、回路が後に選択されるときに変化の発生を示す
パルスを生成する。
択される」及び「選択されない」状態を有する回路と、
回路が「選択される」と作動可能になるネットワークを
生成する制御可能なパルスについて述べている。回路が
選択されなかったとき、ラッチは回路への所定の入力信
号の任意の1つの状態の変化について証明する信号を感
知し記憶する。パルスネットワークは記憶された信号に
応答し、回路が後に選択されるときに変化の発生を示す
パルスを生成する。
【0004】米国特許第4、409、679号におい
て、一方の選択されたメモリセルの接地サイド電位を他
方の選択されていないメモリセルの接地サイド電位より
低く設定するため、複数の電位設定回路を含むMOSス
タティックタイプのメモリセルを組み込んだスタティッ
クメモリ回路が開示されている。従って、半分選択され
たメモリセル及び選択されていないメモリセルを介して
流れる電流を減らすことによって、読み出し速度を落と
すことなく電力の散逸を削減する。
て、一方の選択されたメモリセルの接地サイド電位を他
方の選択されていないメモリセルの接地サイド電位より
低く設定するため、複数の電位設定回路を含むMOSス
タティックタイプのメモリセルを組み込んだスタティッ
クメモリ回路が開示されている。従って、半分選択され
たメモリセル及び選択されていないメモリセルを介して
流れる電流を減らすことによって、読み出し速度を落と
すことなく電力の散逸を削減する。
【0005】米国特許第4、528、646号は、選択
制御信号によって制御される選択回路によって2つのグ
ループにそれぞれ分割されたビットライン事前充電回
路、センス増幅器(AMP) 回路、及び入出力ライン事前充
電回路を開示している。選択された事前充電回路とセン
ス増幅器(AMP) 回路だけが、読み出し動作の前に使用可
能になる。事前充電されるべき浮遊容量の減少のため、
従来の回路に比べてビットラインを事前充電するための
ピーク電流は半分に減少される。
制御信号によって制御される選択回路によって2つのグ
ループにそれぞれ分割されたビットライン事前充電回
路、センス増幅器(AMP) 回路、及び入出力ライン事前充
電回路を開示している。選択された事前充電回路とセン
ス増幅器(AMP) 回路だけが、読み出し動作の前に使用可
能になる。事前充電されるべき浮遊容量の減少のため、
従来の回路に比べてビットラインを事前充電するための
ピーク電流は半分に減少される。
【0006】米国特許第4、561、070号は、メモ
リ素子のアレイがアドレス信号に応じるデコーダ回路に
よってアドレス指定される集積回路メモリを開示してい
る。デコーダ回路は複数のセクションを含み、各々がア
レイの異なるセクションをアドレス指定するために用い
られる。アドレス指定信号に応じてアドレス指定される
アレイのセクションを決定して、そのようにアドレス指
定された複数のデコーダ回路セクション内の1つを電気
的に電源に結合すると共に、デコーダ回路の残りのセク
ションをそのような電源から電気的に結合解除するデコ
ーダセクション選択子が提供される。そのような配列に
よって、アレイをアドレス指定するとき、デコーダ回路
の一部だけが電源に電気的に結合されて、集積回路メモ
リの電力消費を減少する。
リ素子のアレイがアドレス信号に応じるデコーダ回路に
よってアドレス指定される集積回路メモリを開示してい
る。デコーダ回路は複数のセクションを含み、各々がア
レイの異なるセクションをアドレス指定するために用い
られる。アドレス指定信号に応じてアドレス指定される
アレイのセクションを決定して、そのようにアドレス指
定された複数のデコーダ回路セクション内の1つを電気
的に電源に結合すると共に、デコーダ回路の残りのセク
ションをそのような電源から電気的に結合解除するデコ
ーダセクション選択子が提供される。そのような配列に
よって、アレイをアドレス指定するとき、デコーダ回路
の一部だけが電源に電気的に結合されて、集積回路メモ
リの電力消費を減少する。
【0007】米国特許第4、570、243号は、正則
メモリセルと共に冗長メモリセルを含むワイドワード半
導体メモリに特に有用な小電力I/Oスキームについて
述べている。主データバスの従来のロードトランジスタ
は、電力を保存するため全書き込み動作の間オフにされ
る。更に、メモリセルと主データバスの間でデータを運
ぶ前データラインは、付加の電力を保存するため通常の
読み出し又は書き込み動作の間オフにされて、選択され
ていない正則セルの安定性を保つためスペアの読み出し
又は書き込み動作の間にオンにされる。前データライン
は、選択されていない列選択トランジスタの伝導を防ぐ
ため、読み出し又は書き込み動作の間、接地電位より上
に保持される。
メモリセルと共に冗長メモリセルを含むワイドワード半
導体メモリに特に有用な小電力I/Oスキームについて
述べている。主データバスの従来のロードトランジスタ
は、電力を保存するため全書き込み動作の間オフにされ
る。更に、メモリセルと主データバスの間でデータを運
ぶ前データラインは、付加の電力を保存するため通常の
読み出し又は書き込み動作の間オフにされて、選択され
ていない正則セルの安定性を保つためスペアの読み出し
又は書き込み動作の間にオンにされる。前データライン
は、選択されていない列選択トランジスタの伝導を防ぐ
ため、読み出し又は書き込み動作の間、接地電位より上
に保持される。
【0008】米国特許第4、616、342号は、1行
のメモリセルに接続されたワードライン、各々が異なる
列のメモリセルに接続された対をなすビットライン、ワ
ードラインを駆動するためのワードライン駆動手段、及
びデータ感知手段を含む半導体メモリデバイスについて
述べている。ワードライン駆動手段は、ワード選択信号
の持続時間よりも短い所定の持続時間でのみ選択された
ワードラインを駆動する。データ感知手段は、ベース電
極で一対のビットラインに接続された一対のバイポーラ
トランジスタを含んだ差動増幅器を含む。所定のより短
い時限内で、差動増幅器は選択されたメモリセルに記憶
されたデータを感知し、その感知されたデータがラッチ
ング回路によってラッチされる。
のメモリセルに接続されたワードライン、各々が異なる
列のメモリセルに接続された対をなすビットライン、ワ
ードラインを駆動するためのワードライン駆動手段、及
びデータ感知手段を含む半導体メモリデバイスについて
述べている。ワードライン駆動手段は、ワード選択信号
の持続時間よりも短い所定の持続時間でのみ選択された
ワードラインを駆動する。データ感知手段は、ベース電
極で一対のビットラインに接続された一対のバイポーラ
トランジスタを含んだ差動増幅器を含む。所定のより短
い時限内で、差動増幅器は選択されたメモリセルに記憶
されたデータを感知し、その感知されたデータがラッチ
ング回路によってラッチされる。
【0009】米国特許第4、751、683号は、書き
込みイネーブル信号WEと同様に、xアドレスにおける変
化を検出するためアドレス変化検出(ATD) 信号に応じて
作動し、読み出しモード及び書き込みモードに従って選
択されたワードラインの信号を変化させて電力の散逸を
減らすことが可能な、半導体メモリデバイスについて述
べている。
込みイネーブル信号WEと同様に、xアドレスにおける変
化を検出するためアドレス変化検出(ATD) 信号に応じて
作動し、読み出しモード及び書き込みモードに従って選
択されたワードラインの信号を変化させて電力の散逸を
減らすことが可能な、半導体メモリデバイスについて述
べている。
【0010】米国特許第4、760、562号は、メモ
リデバイスに列を単位にして配列される電圧変換器を開
示する。各電圧変換器は列デコーダに接続される。列デ
コータは列アドレス信号を受信し、電圧変換器に列選択
信号を供給する。電圧変換器は、選択された列のメモリ
セルの駆動トランジスタペアのソース接合に接地レベル
電圧を印加し、選択されていない列のメモリセルの駆動
トランジスタペアのソース接合に接地レベル電圧以上の
電圧を印加して、選択された列の電力消費と比べて選択
されていない列の電力消費を削減する。
リデバイスに列を単位にして配列される電圧変換器を開
示する。各電圧変換器は列デコーダに接続される。列デ
コータは列アドレス信号を受信し、電圧変換器に列選択
信号を供給する。電圧変換器は、選択された列のメモリ
セルの駆動トランジスタペアのソース接合に接地レベル
電圧を印加し、選択されていない列のメモリセルの駆動
トランジスタペアのソース接合に接地レベル電圧以上の
電圧を印加して、選択された列の電力消費と比べて選択
されていない列の電力消費を削減する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、DR
AM構造に新たな電力節約感知回路を提供することであ
る。
AM構造に新たな電力節約感知回路を提供することであ
る。
【0012】本発明の目的は更に、ビットラインペアの
基準ビットラインがセンス増幅器ラッチング及び後続の
I/O作動の間、事前充電電圧に保持されるDRAM構
造へ回路を提供することである。
基準ビットラインがセンス増幅器ラッチング及び後続の
I/O作動の間、事前充電電圧に保持されるDRAM構
造へ回路を提供することである。
【0013】本発明の更に他の目的は、作動されたセル
をもつビットラインだけが電圧スイングを受け、電力の
散逸を減らし、通常のアクセスとリフレッシュサイクル
の間のdi/dt を減少するDRAM回路を提供することで
ある。
をもつビットラインだけが電圧スイングを受け、電力の
散逸を減らし、通常のアクセスとリフレッシュサイクル
の間のdi/dt を減少するDRAM回路を提供することで
ある。
【0014】
【課題を解決するための手段と作用】本発明は、ダイナ
ミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路であっ
て、第1及び第2ビットラインと、第1及び第2ノード
と第1、第2、第3及び第4トランジスタデバイスを含
み、第1及び第2トランジスタデバイスがNデバイスク
ロス結合ペアを形成し且つ第3及び第4トランジスタデ
バイスがPデバイスクロス結合ペアを形成し、第1ノー
ドが第1ビットラインと第2及び第4トランジスタデバ
イスに接続され、第2ノードが第2ビットラインと第1
及び第3トランジスタデバイスに接続されるセンス増幅
器と、第1ビットラインに接続される第1隔離トランジ
スタデバイス及び第2ビットラインに接続される第2隔
離トランジスタデバイスと、第1隔離トランジスタデバ
イスに接続される第1クロック信号ライン及び第2隔離
トランジスタデバイスに接続される第2クロック信号ラ
インと、第1ビットラインに接続される第1等化トラン
ジスタデバイス及び第2ビットラインに接続される第2
等化トランジスタデバイスと、第1及び第2等化トラン
ジスタデバイスに接続され電圧値VEQを有する電圧信号
ラインと、第1等化トランジスタデバイスに接続される
第3クロック信号ラインと、第2等化トランジスタデバ
イスに接続される第4クロック信号ラインと、第1及び
第2Nデバイスに接続される第5クロック信号ライン
と、第3及び第4Pデバイスに接続される第6クロック
信号ラインとを備え、第1、第2、第3、第4、第5及
び第6クロック信号ラインが第1及び第2ノードを事前
充電電圧値VEQに事前充電するタイムシーケンスの間に
発生するクロック信号を有し、前記センス増幅器は前記
第5及び第6クロック信号ラインのシーケンスで発生す
る信号によって感知されて再書き込みされ、前記第1及
び第2等化デバイスと前記第3及び第4クロック信号ラ
インの前記クロック信号は前記第1及び第2ビットライ
ンの内の1つを一定の電圧レベルに保持するよう機能す
る。
ミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路であっ
て、第1及び第2ビットラインと、第1及び第2ノード
と第1、第2、第3及び第4トランジスタデバイスを含
み、第1及び第2トランジスタデバイスがNデバイスク
ロス結合ペアを形成し且つ第3及び第4トランジスタデ
バイスがPデバイスクロス結合ペアを形成し、第1ノー
ドが第1ビットラインと第2及び第4トランジスタデバ
イスに接続され、第2ノードが第2ビットラインと第1
及び第3トランジスタデバイスに接続されるセンス増幅
器と、第1ビットラインに接続される第1隔離トランジ
スタデバイス及び第2ビットラインに接続される第2隔
離トランジスタデバイスと、第1隔離トランジスタデバ
イスに接続される第1クロック信号ライン及び第2隔離
トランジスタデバイスに接続される第2クロック信号ラ
インと、第1ビットラインに接続される第1等化トラン
ジスタデバイス及び第2ビットラインに接続される第2
等化トランジスタデバイスと、第1及び第2等化トラン
ジスタデバイスに接続され電圧値VEQを有する電圧信号
ラインと、第1等化トランジスタデバイスに接続される
第3クロック信号ラインと、第2等化トランジスタデバ
イスに接続される第4クロック信号ラインと、第1及び
第2Nデバイスに接続される第5クロック信号ライン
と、第3及び第4Pデバイスに接続される第6クロック
信号ラインとを備え、第1、第2、第3、第4、第5及
び第6クロック信号ラインが第1及び第2ノードを事前
充電電圧値VEQに事前充電するタイムシーケンスの間に
発生するクロック信号を有し、前記センス増幅器は前記
第5及び第6クロック信号ラインのシーケンスで発生す
る信号によって感知されて再書き込みされ、前記第1及
び第2等化デバイスと前記第3及び第4クロック信号ラ
インの前記クロック信号は前記第1及び第2ビットライ
ンの内の1つを一定の電圧レベルに保持するよう機能す
る。
【0015】
【実施例】DRAM回路密度における技術の水準の向上
によって、不揮発性のためバッテリバックアップをもつ
超大規模固体メモリシステムに興味がもたらされた。リ
フレッシュサイクルの間のDRAM電力消費の減少は、
これらの適用、特にDRAMがバッテリによって動かさ
れる期間、における最大の関心である。従来のDRAM
において、第1にセルの状態をセンス増幅器に読み出
し、次にその状態をセルに再び書き込むことによってセ
ルはリフレッシュされる。例えば、VDD/2センシングを
用いると、ビットラインペアの両方のビットラインはV
DD/2に事前充電され、セルが感知され再書き込みされる
と、そのペアの一方のビットラインが接地に電圧スイン
グを受け、他方のビットラインがVDD/2にスイングを受
ける。次に、ビットラインは事前充電の間にVDD/2に再
びレストア(復元)される。このシーケンスにおいて、
両方のビットラインは以下に与えられる交流エネルギー
を散逸する。
によって、不揮発性のためバッテリバックアップをもつ
超大規模固体メモリシステムに興味がもたらされた。リ
フレッシュサイクルの間のDRAM電力消費の減少は、
これらの適用、特にDRAMがバッテリによって動かさ
れる期間、における最大の関心である。従来のDRAM
において、第1にセルの状態をセンス増幅器に読み出
し、次にその状態をセルに再び書き込むことによってセ
ルはリフレッシュされる。例えば、VDD/2センシングを
用いると、ビットラインペアの両方のビットラインはV
DD/2に事前充電され、セルが感知され再書き込みされる
と、そのペアの一方のビットラインが接地に電圧スイン
グを受け、他方のビットラインがVDD/2にスイングを受
ける。次に、ビットラインは事前充電の間にVDD/2に再
びレストア(復元)される。このシーケンスにおいて、
両方のビットラインは以下に与えられる交流エネルギー
を散逸する。
【0016】E=CBL(VDD/2)2 ここでCBLはビットライン容量、VDDは供給電圧であ
る。従って、DRAMメモリセルのリフレッシュは両方
のビットラインにエネルギーの散逸をもたらす。
る。従って、DRAMメモリセルのリフレッシュは両方
のビットラインにエネルギーの散逸をもたらす。
【0017】本発明は、センス増幅器のラッチング及び
セルへの後続の再書き込みの間、ビットラインペアの基
準ビットラインをビットライン事前充電電圧に保持する
ことによって、リフレッシュエネルギーが減少する新た
な感知スキームを提供している。基準ビットラインがセ
ルの感知/再書き込み及び書き込み動作において電圧ス
イングを受ける必要がないため、セルの感知/再書き込
み及び書き込み動作は影響されない。従って、従来のリ
フレッシュ、読み出し及び書き込み動作での基準ビット
ラインへの電圧スイングによって散逸される交流エネル
ギーは取り除かれる。
セルへの後続の再書き込みの間、ビットラインペアの基
準ビットラインをビットライン事前充電電圧に保持する
ことによって、リフレッシュエネルギーが減少する新た
な感知スキームを提供している。基準ビットラインがセ
ルの感知/再書き込み及び書き込み動作において電圧ス
イングを受ける必要がないため、セルの感知/再書き込
み及び書き込み動作は影響されない。従って、従来のリ
フレッシュ、読み出し及び書き込み動作での基準ビット
ラインへの電圧スイングによって散逸される交流エネル
ギーは取り除かれる。
【0018】図1は本発明の実施例の概略図を図解して
いる。図1の回路は従来技術の感知スキームにはない。
2つの主な違いは、ビットライン隔離デバイス10と1
2がそれぞれライン32と34のクロック信号によって
別々に制御されることと、ビットラインペア22Aと2
2Bを事前充電する等化デバイス18と20がそれぞれ
ライン26と24のクロック信号によって別々に制御さ
れることである。別々に制御された隔離デバイス10、
12及び等化デバイス18、20の付加によって、たと
え1本のビットラインだけが電圧スイングを受けるとし
ても、セル充電での適切な感知と復元が得られる。
いる。図1の回路は従来技術の感知スキームにはない。
2つの主な違いは、ビットライン隔離デバイス10と1
2がそれぞれライン32と34のクロック信号によって
別々に制御されることと、ビットラインペア22Aと2
2Bを事前充電する等化デバイス18と20がそれぞれ
ライン26と24のクロック信号によって別々に制御さ
れることである。別々に制御された隔離デバイス10、
12及び等化デバイス18、20の付加によって、たと
え1本のビットラインだけが電圧スイングを受けるとし
ても、セル充電での適切な感知と復元が得られる。
【0019】図1において、デバイス10と12のゲー
トそれぞれに接続されたクロックライン32と34の高
電圧レベルは、ライン28のフルハイ信号をセルにレス
トアするため、少なくともデバイス10とデバイス12
のスレショルド電圧VTN だけライン28のセンス増幅器
信号の最高レベルよりも高くなければならない。
トそれぞれに接続されたクロックライン32と34の高
電圧レベルは、ライン28のフルハイ信号をセルにレス
トアするため、少なくともデバイス10とデバイス12
のスレショルド電圧VTN だけライン28のセンス増幅器
信号の最高レベルよりも高くなければならない。
【0020】図2は、図1に示される回路の適切な作動
のためのタイミング図を示している。現世代DRAMに
一般的な200ns のサイクルタイムをもった2つのサイク
ルが示されている。
のためのタイミング図を示している。現世代DRAMに
一般的な200ns のサイクルタイムをもった2つのサイク
ルが示されている。
【0021】図1の作動において、リフレッシュサイク
ル開始時のライン24と26のクロック信号は初め高
く、デバイス18と20をオンにし、ビットラインペア
22A、22Bが事前充電電圧VEQに事前充電される。
ライン32と34の電圧レベルは高く、ビットラインペ
ア22Aと22Bはセンス増幅器40に電気的に接続さ
れる。ライン28と30は同じ事前充電電圧レベルのク
ロックに接続され、センス増幅器40の全てのデバイス
をオフにし、センス増幅器ノード42と44が事前充電
電圧VEQにある。クロック50ラインのレベルは低く、
I/Oラインペアデバイス46と48をオフにする。ペ
アはリフレッシュの間作動されない。事前充電電圧は、
ライン28の信号の最高のレベルとライン30の信号の
最低のレベルの平均で、一般的に1/2 VDDにあると仮定
されるが、回路の作動を変えずに他のレベルとするのも
可能である。特に、本実施例では、ライン30の信号は
1/2VDDと接地との間で変化し、ライン28の信号は1/2
VDDとVDDとの間で変化する。リフレッシュサイクル
が作動すると、リフレッシュされるべきセルに接続され
るビットラインペア22Aと22Bにおけるビットライ
ン(例えば、ビットライン22A)は、ライン24の電
圧を低くしてデバイス20をオフにすることによってV
EQ との接続が断たれる。しかしライン22Bは、デバイ
ス18を介してVEQに接続されたままである。選択され
たワードラインが作動されるにつれて、選択されたセル
33への又はセル33からの充電転送のため、ビットラ
イン22Aとセンス増幅器40の対応するノード44の
電圧が移動し、ノード42と44の間に差動信号を生成
する。ビットライン22Aにおける十分な差動信号の生
成の後、ライン32と34が引下げられて、デバイス1
0と12をオフにする。これはセンス増幅器40をビッ
トラインペア22A、22Bから隔離する。センス増幅
器40の設定は緩速感知と共に開始し、図2に示される
ようにライン30の信号を少し引下げることから始ま
る。ライン32と34の緩速感知信号の間のタイミング
は、図示されるようなシーケンスに制限されない。Nデ
バイスクロス結合ペア41とPデバイスクロス結合ペア
43を含むセンス増幅器40が設定される前に、センス
増幅器40をビットライン22A、22Bとの接続を断
つ必要があるため、ライン32と34の信号の降下によ
って適切なビットライン信号の生成が可能な限り、ライ
ン32と34は緩速感知の始まる前にいつでも降下する
ことができる。
ル開始時のライン24と26のクロック信号は初め高
く、デバイス18と20をオンにし、ビットラインペア
22A、22Bが事前充電電圧VEQに事前充電される。
ライン32と34の電圧レベルは高く、ビットラインペ
ア22Aと22Bはセンス増幅器40に電気的に接続さ
れる。ライン28と30は同じ事前充電電圧レベルのク
ロックに接続され、センス増幅器40の全てのデバイス
をオフにし、センス増幅器ノード42と44が事前充電
電圧VEQにある。クロック50ラインのレベルは低く、
I/Oラインペアデバイス46と48をオフにする。ペ
アはリフレッシュの間作動されない。事前充電電圧は、
ライン28の信号の最高のレベルとライン30の信号の
最低のレベルの平均で、一般的に1/2 VDDにあると仮定
されるが、回路の作動を変えずに他のレベルとするのも
可能である。特に、本実施例では、ライン30の信号は
1/2VDDと接地との間で変化し、ライン28の信号は1/2
VDDとVDDとの間で変化する。リフレッシュサイクル
が作動すると、リフレッシュされるべきセルに接続され
るビットラインペア22Aと22Bにおけるビットライ
ン(例えば、ビットライン22A)は、ライン24の電
圧を低くしてデバイス20をオフにすることによってV
EQ との接続が断たれる。しかしライン22Bは、デバイ
ス18を介してVEQに接続されたままである。選択され
たワードラインが作動されるにつれて、選択されたセル
33への又はセル33からの充電転送のため、ビットラ
イン22Aとセンス増幅器40の対応するノード44の
電圧が移動し、ノード42と44の間に差動信号を生成
する。ビットライン22Aにおける十分な差動信号の生
成の後、ライン32と34が引下げられて、デバイス1
0と12をオフにする。これはセンス増幅器40をビッ
トラインペア22A、22Bから隔離する。センス増幅
器40の設定は緩速感知と共に開始し、図2に示される
ようにライン30の信号を少し引下げることから始ま
る。ライン32と34の緩速感知信号の間のタイミング
は、図示されるようなシーケンスに制限されない。Nデ
バイスクロス結合ペア41とPデバイスクロス結合ペア
43を含むセンス増幅器40が設定される前に、センス
増幅器40をビットライン22A、22Bとの接続を断
つ必要があるため、ライン32と34の信号の降下によ
って適切なビットライン信号の生成が可能な限り、ライ
ン32と34は緩速感知の始まる前にいつでも降下する
ことができる。
【0022】センス増幅器40のラッチングは、高速感
知を開始するため、ライン28の信号をVDDに作動し、
ライン30の信号を接地に導くことによって更に続く。
センス増幅器40が完全にラッチされた後は、センス増
幅器ノード42と44の一方がVDD、他方が接地にあ
る。次にライン32の信号が引き上げられ、デバイス1
0をオンにする。従ってビットライン22Aの電圧が移
動し、フル「1」又は「0」信号レベルがセル33に再
書き込みされる。次に、選択されたワードラインが低レ
ベルに戻って、セル33の選択を中止し、クロックライ
ン24、26がハイに上げられて等化デバイス18と2
0をオンにし、クロックライン28と30が事前充電状
態のためVEQに戻る。
知を開始するため、ライン28の信号をVDDに作動し、
ライン30の信号を接地に導くことによって更に続く。
センス増幅器40が完全にラッチされた後は、センス増
幅器ノード42と44の一方がVDD、他方が接地にあ
る。次にライン32の信号が引き上げられ、デバイス1
0をオンにする。従ってビットライン22Aの電圧が移
動し、フル「1」又は「0」信号レベルがセル33に再
書き込みされる。次に、選択されたワードラインが低レ
ベルに戻って、セル33の選択を中止し、クロックライ
ン24、26がハイに上げられて等化デバイス18と2
0をオンにし、クロックライン28と30が事前充電状
態のためVEQに戻る。
【0023】図3は、ビットラインペア22A、22B
及びライン28と30の信号の波形をより詳細に示して
いる。ビットライン22Aの電圧のみが移動する一方
で、ビットライン22Bが事前充電電圧に留まっている
ことに注目すべきである。ビットラインスイングの後、
ワードラインはNMOSアレイに対し接地にリセットさ
れる。ライン28と30の信号はその元のレベルに戻
る。ライン24の信号はオンにされて、ビットライン2
2Aが次のサイクルのために事前充電される。ライン3
4の信号はオンにされて、センス増幅器40の内部ノー
ド28と30はVEQに事前充電される。
及びライン28と30の信号の波形をより詳細に示して
いる。ビットライン22Aの電圧のみが移動する一方
で、ビットライン22Bが事前充電電圧に留まっている
ことに注目すべきである。ビットラインスイングの後、
ワードラインはNMOSアレイに対し接地にリセットさ
れる。ライン28と30の信号はその元のレベルに戻
る。ライン24の信号はオンにされて、ビットライン2
2Aが次のサイクルのために事前充電される。ライン3
4の信号はオンにされて、センス増幅器40の内部ノー
ド28と30はVEQに事前充電される。
【0024】図4を参照すると、図1と図4の構造の間
の基本的な相違はビットライン隔離デバイスの配置であ
る。図1で先に述べたように、デバイス10と12のゲ
ートに接続されたクロックライン32と34の高電圧レ
ベルは、ライン28のフル信号をセルにレストアするた
め、少なくともデバイス10とデバイス12のスレショ
ルド電圧VTN だけライン28のセンス増幅器信号の最高
レベルよりも高くなければならない。
の基本的な相違はビットライン隔離デバイスの配置であ
る。図1で先に述べたように、デバイス10と12のゲ
ートに接続されたクロックライン32と34の高電圧レ
ベルは、ライン28のフル信号をセルにレストアするた
め、少なくともデバイス10とデバイス12のスレショ
ルド電圧VTN だけライン28のセンス増幅器信号の最高
レベルよりも高くなければならない。
【0025】図4において、ビットラインペア22Aと
22BがN隔離デバイスペア14と16及びP隔離デバ
イスペア11と13の間に設定される。デバイス10と
12が取り除かれる。また、ライン28に接続されたN
クロス結合ペア41とライン30に接続されたPクロス
結合ペア43は互いに分離される。この構成において、
ライン32、34のクロック信号とライン28の信号は
同じ高電圧レベルを有し、ライン30の信号とライン3
2と34のクロック信号は同じ低電圧レベルを有する。
22BがN隔離デバイスペア14と16及びP隔離デバ
イスペア11と13の間に設定される。デバイス10と
12が取り除かれる。また、ライン28に接続されたN
クロス結合ペア41とライン30に接続されたPクロス
結合ペア43は互いに分離される。この構成において、
ライン32、34のクロック信号とライン28の信号は
同じ高電圧レベルを有し、ライン30の信号とライン3
2と34のクロック信号は同じ低電圧レベルを有する。
【0026】
【発明の効果】本発明は上記より構成され、作動された
セルを持つビットラインペアのビットラインが読み出し
の間のセルの内容と書き込みの間のI/Oラインに強制
されたデータに従ってスイングを接続する一方、ビット
ラインペアの他方のビットラインが基準電圧に保持され
て電力の散逸を減少する。
セルを持つビットラインペアのビットラインが読み出し
の間のセルの内容と書き込みの間のI/Oラインに強制
されたデータに従ってスイングを接続する一方、ビット
ラインペアの他方のビットラインが基準電圧に保持され
て電力の散逸を減少する。
【図1】本発明の原理を図解するDRAM回路の実施例
の概略ブロック図である。
の概略ブロック図である。
【図2】図1のDRAM回路が作動する間の信号の波形
を図解する概略タイミング図である。
を図解する概略タイミング図である。
【図3】図1の回路の作動におけるより詳細な追加の波
形を示す概略タイミング図である。
形を示す概略タイミング図である。
【図4】本発明の原理を図解するDRAM回路の他の実
施例の概略ブロック図である。
施例の概略ブロック図である。
10、12 隔離デバイス 18、20 等化デバイス 22 ビットライン 24、26、28、30、32、34 ライン 33 セル 40 センス増幅器 41 Nデバイスクロス結合ペア 42、44 センス増幅器ノード 43 Pデバイスクロス結合ペア 46、48 I/Oラインペアデバイス 50 クロックライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルイス マディソン ターマン アメリカ合衆国10590、ニューヨーク州サ ウスセイレム、ツイン レイクス ロー ド、ボックス 178、アールアール 1 (56)参考文献 特開 昭60−239993(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】 ダイナミックランダムアクセスメモリ構
造の感知回路であって、 第1及び第2ビットラインと、 第1及び第2ノードと第1、第2、第3及び第4トラン
ジスタデバイスを含み、前記第1及び第2トランジスタ
デバイスがNデバイスクロス結合ペアを形成し且つ前記
第3及び第4トランジスタデバイスがPデバイスクロス
結合ペアを形成し、前記第1ノードが前記第1ビットラ
インと前記第2及び第4トランジスタデバイスに接続さ
れ、前記第2ノードが前記第2ビットラインと前記第1
及び第3トランジスタデバイスに接続されるセンス増幅
器と、 前記第1ビットラインに接続される第1隔離トランジス
タデバイス及び前記第2ビットラインに接続される第2
隔離トランジスタデバイスと、 前記第1隔離トランジスタデバイスに接続される第1ク
ロック信号ライン及び前記第2隔離トランジスタデバイ
スに接続される第2クロック信号ラインと、 前記第1ビットラインに接続される第1等化トランジス
タデバイス及び前記第2ビットラインに接続される第2
等化トランジスタデバイスと、 前記第1及び第2等化トランジスタデバイスに接続さ
れ、電圧値VEQを有する電圧信号ラインと、 前記第1等化トランジスタデバイスに接続される第3ク
ロック信号ラインと、 前記第2等化トランジスタデバイスに接続される第4ク
ロック信号ラインと、 前記第1及び第2Nデバイスに接続される第5クロック
信号ラインと、 前記第3及び第4Pデバイスに接続される第6クロック
信号ラインと、 を備え、 前記第1、第2、第3、第4、第5及び第6クロック信
号ラインが、前記第1及び第2ノードを事前充電電圧値
VEQに事前充電するタイムシーケンスの間に発生するク
ロック信号を有し、 前記センス増幅器は前記第5及び第6クロック信号ライ
ンのシーケンスで発生 する信号によって感知されて再書
き込みされ、 前記第1及び第2等化デバイスと前記第3及び第4クロ
ック信号ラインの前記クロック信号は前記第1及び第2
ビットラインの内の1つを一定の電圧レベルに保持する
よう機能する、 ダイナミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US729120 | 1991-07-12 | ||
US07/729,120 US5280452A (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Power saving semsing circuits for dynamic random access memory |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05159573A JPH05159573A (ja) | 1993-06-25 |
JPH07111831B2 true JPH07111831B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=24929675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4150580A Expired - Lifetime JPH07111831B2 (ja) | 1991-07-12 | 1992-06-10 | ダイナミックランダムアクセスメモリ構造の感知回路 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5280452A (ja) |
EP (1) | EP0522361B1 (ja) |
JP (1) | JPH07111831B2 (ja) |
DE (1) | DE69217748T2 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE40552E1 (en) | 1990-04-06 | 2008-10-28 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic random access memory using imperfect isolating transistors |
US5923430A (en) | 1993-06-17 | 1999-07-13 | Ultrapointe Corporation | Method for characterizing defects on semiconductor wafers |
KR0123841B1 (ko) * | 1994-07-07 | 1997-11-25 | 김주용 | 센스증폭기용 전류제어회로 |
US5623450A (en) * | 1995-09-08 | 1997-04-22 | International Business Machines Corporation | Conditional recharge for dynamic logic |
US5636170A (en) * | 1995-11-13 | 1997-06-03 | Micron Technology, Inc. | Low voltage dynamic memory |
US5677878A (en) * | 1996-01-17 | 1997-10-14 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for quickly restoring digit I/O lines |
KR100203142B1 (ko) * | 1996-06-29 | 1999-06-15 | 김영환 | 디램 |
US6148114A (en) | 1996-11-27 | 2000-11-14 | Ultrapointe Corporation | Ring dilation and erosion techniques for digital image processing |
KR100388318B1 (ko) * | 1998-12-24 | 2003-10-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 비트라인디커플링방법 |
US6141285A (en) * | 2000-02-22 | 2000-10-31 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Power down scheme for regulated sense amplifier power in dram |
DE10145556C2 (de) * | 2001-09-14 | 2003-10-30 | Infineon Technologies Ag | Bewerter für Halbleiterspeicher |
US20070070756A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor memory device sharing sense amplifier |
US7286425B2 (en) * | 2005-10-31 | 2007-10-23 | International Business Machines Corporation | System and method for capacitive mis-match bit-line sensing |
US7366047B2 (en) * | 2005-11-09 | 2008-04-29 | Infineon Technologies Ag | Method and apparatus for reducing standby current in a dynamic random access memory during self refresh |
US8116157B2 (en) * | 2007-11-20 | 2012-02-14 | Qimonda Ag | Integrated circuit |
JP2013531860A (ja) * | 2010-06-10 | 2013-08-08 | モサイド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | センス増幅器およびビット線分離を備える半導体メモリデバイス |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5667964A (en) * | 1979-11-08 | 1981-06-08 | Nec Corp | Integrated circuit |
JPS56143587A (en) * | 1980-03-26 | 1981-11-09 | Fujitsu Ltd | Static type memory circuit |
US4405996A (en) * | 1981-02-06 | 1983-09-20 | Rca Corporation | Precharge with power conservation |
JPS589285A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
US4570243A (en) * | 1982-07-16 | 1986-02-11 | Inmos Corporation | Low power I/O scheme for semiconductor memories |
JPS5968889A (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-18 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US4561070A (en) * | 1983-07-01 | 1985-12-24 | Raytheon Company | Integrated circuit memory |
JPS60239993A (ja) * | 1984-05-12 | 1985-11-28 | Sharp Corp | ダイナミツク型半導体記憶装置 |
US4715015A (en) * | 1984-06-01 | 1987-12-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Dynamic semiconductor memory with improved sense signal |
JPS6196599A (ja) * | 1984-10-18 | 1986-05-15 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JPS61104394A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
US4760562A (en) * | 1984-12-04 | 1988-07-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | MOS static memory circuit |
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US4816706A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-28 | International Business Machines Corporation | Sense amplifier with improved bitline precharging for dynamic random access memory |
JPH0758592B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1995-06-21 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ |
KR940008717B1 (ko) * | 1989-03-06 | 1994-09-26 | 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 | 다이내믹 ram의 판독회로 |
JPH0430388A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶回路 |
US5134588A (en) * | 1990-07-27 | 1992-07-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device |
-
1991
- 1991-07-12 US US07/729,120 patent/US5280452A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-10 JP JP4150580A patent/JPH07111831B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-25 DE DE69217748T patent/DE69217748T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-25 EP EP92110725A patent/EP0522361B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0522361B1 (en) | 1997-03-05 |
DE69217748D1 (de) | 1997-04-10 |
JPH05159573A (ja) | 1993-06-25 |
DE69217748T2 (de) | 1997-09-18 |
EP0522361A2 (en) | 1993-01-13 |
EP0522361A3 (ja) | 1994-02-16 |
US5280452A (en) | 1994-01-18 |
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