JPH06256035A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
Abstract
減圧雰囲気で加熱透明化する方法において、該加熱処理
が母材からのガスを除去する第1加熱工程、第1加熱工
程より高く透明化温度より低い温度で加熱収縮させる第
2工程及び透明ガラス化温度で透明化させる第3工程を
含むことを特徴とする。気泡の残留がなく、透明化して
得られたガラス物品の外径が長手方向に均一な良好なガ
ラス母材を製造できる。
Description
法に関し、特にそのまま光ファイバ母材とするか、光フ
ァイバ母材製造のための中間製品となる母材の製法に関
する。
合成法、例えば気相軸付法あるいは外付法により合成さ
れたガラス微粒子を電気炉にて高温加熱処理することに
より透明ガラス化する方法がある。従来、透明ガラス化
は、常圧においてヘリウムガスあるいはハロゲンガスを
微量に含んだ不活性ガスの充満した雰囲気中で加熱処理
することにより行われてきた。これらの方法では、透明
化する際、ガラス微粒子堆積体の粒子間に閉じ込められ
たガスが残留し、透明ガラス体内に気泡を生じる問題が
ある。これに対し、近年、特開昭63−21025号公
報に記載されるような真空雰囲気あるいは減圧雰囲気下
にて透明化する方法が提案されている。この方法では、
雰囲気が減圧されるために、ガラス微粒子堆積体中のガ
スが脱気され、ガラス体内に気泡が残留しないことが期
待される。
圧雰囲気で加熱処理する装置は、図2に示すような構成
となっている。すなわち、ガラス微粒子堆積体1の周囲
を囲む炉芯管2、この外側に加熱用ヒータ8が設置され
た均熱炉が、ヒートシールド9を挟んで真空容器10の
中に入った構成となっている。真空容器10内には、脱
気用配管6に接続された真空ポンプ7により減圧、真空
雰囲気となる構造となっており、この上端でヒータ温度
を上げることにより、炉心管2内に挿入されているガラ
ス微粒子堆積体1が透明化される。
空雰囲気で従来法により加熱処理する一例として、図3
に示す温度条件にて透明化温度(通常1550℃〜16
50℃)まで温度を上げ透明化したところ、期待に反し
気泡が残留する場合が散見された。また透明化したガラ
ス物品の外径が長手方向に均一とならず、図4に示す如
く両端で太く中間部で細くなるような形状と成ってしま
った。この方法で得られたガラスロッドを用いて高品質
なガラス物品を製造するためには、気泡の残留を安定し
て減少あるいは無くすことが必要であり、且つ仕上がっ
た透明ガラス物品を均一外径とすることが必要である。
本発明はこのような要求を満足できるガラスファイバ母
材の製造方法の改良をその課題とするものである。
明は気相合成法によりガラス微粒子堆積体を合成し、該
ガラス微粒子堆積体を真空または減圧雰囲気中で加熱処
理することにより透明ガラス化して光ファイバ母材を製
造する方法において、該加熱処理が母材からのガスを除
去する第1の加熱工程、前記第1の加熱工程より高く透
明化温度より低い温度で加熱収縮させる第2の加熱工
程、及び透明ガラス化温度で透明化させる第3の加熱工
程を含むことを特徴とする。本発明においては、上記第
1の加熱工程は1000℃〜1300℃の温度範囲で真
空度が10Pa以下に到達するまで当該加熱工程を継続
することが特に好ましく、また上記第2の加熱工程は1
0Pa以下の真空度において、1320℃〜1480℃
の温度を10分間〜120分間保持することが特に好ま
しく、さらに上記第2の加熱工程において、上記ガラス
微粒子堆積体を加熱処理する発熱体は上下方向に多段に
分割されてそれぞれ独立に温度を制御し、且つ下部の発
熱体の温度が上部の発熱体の温度以上になるように設定
されることが特に好ましい。また、上記第3の加熱工程
は10Pa以下の真空度において1490〜1600℃
の温度を1分間〜60分間保持することが望ましい。
気下で熱処理し、熱処理温度と真空度の変化を調べた。
熱処理5時間後の真空度は図5に示すごとく、1000
℃以上の条件において10Pa以下になっている。その
後さらに1550℃に昇温し、透明ガラス化させるプロ
セスにおいて、透明ガラス体内の気泡の数と最初の熱処
理温度の相関を調べた。結果を図5に示すが、最初の熱
処理温度が1000℃〜1300℃の場合、気泡は殆ど
生じないが、この温度範囲外の場合、気泡の数は急激に
増大する。ガラス微粒子堆積体からのガスの脱離は温度
が高い方が速いが、温度が高いと該ガラス微粒子堆積体
が収縮し、ガスが抜けにくくなる。従って1000℃以
下の熱処理では脱ガス速度が遅く、気泡が残り、130
0℃以上の場合、ガスが充分抜ける前にガラス微粒子堆
積体が収縮し、気泡が残ってしまうと考えられる。すな
わち、ガラス微粒子堆積体を図5の実験結果が示すよう
に、1000℃から1300℃の範囲において10Pa
以下まで減圧した後、昇温し、透明ガラス化することが
気泡のない透明ガラス体を得るのに重要である。
いことと同様に重要なのが、外径が均一である点であ
る。図6に示すごとく、本発明者等は第2ステップの温
度範囲1320℃〜1480℃での保持時間が外径差す
なわち、「下端径−中央径」と強い相関関係があること
を見い出した。また、図7に示す如く第2ステップの熱
処理温度と透明処理後のガラス径に相関があることがわ
かった。これは高温で処理した方が径方向への収縮が大
きいためと考えられる。この図7の結果より、下端部の
太径化を抑えるには、第2ステップの際下端部の温度を
上げ、上端部の温度を下げることが有効であると予想さ
れる。そこで、図1に示すように加熱に用いる発熱体と
して上下方向に多段に分割し、下部の温度を上部の温度
以上にすることも可能である。この装置を用いて、温度
差と外径差の関係を調べた結果を図8に示す。下部の温
度を上部よりも50℃以上高くすることにより、外径差
は6mm以下になることが判明した。
度域である1490℃〜1600℃で行うが、必要以上
に長くガラス微粒子堆積体を加熱すると、ガラスが軟化
しやすく、自重により垂れ下がる。そのため、必要最小
限の加熱で充分であり、1分間以上60分間以内が望ま
しいことが判明した。
が、本発明はこれに限定されるものではない。 〔実施例1〕VAD法で合成した純シリカからなるガラ
ス微粒子堆積体を本発明に従い透明化した。ガラス微粒
子堆積体の寸法は、φ200mm×1000mmのもの
を用いた。この母材を図1に示す炉内に挿入し、120
0℃まで昇温した。この時、炉内圧は20Paであった
が、3時間保持したところ、3Paに達したので、上部
ヒータを1330℃、中部ヒータを1400℃、下部ヒ
ータを1470℃に昇温した。この状態を1時間保持し
たが、炉内圧はほぼ3Paで一定であった。引き続き1
550℃まで各ヒータを昇温し15分間保持したが、真
空度は3Paで一定であった。その後降温し、得られた
ガラス体は全長にわたり気泡の見られない良好な透明体
であった。外径は全長にわたってφ90mm±1.2m
mと非常に均一なものが得られた。
合成したガラス微粒子堆積体を、図2に示す従来の構成
で炉内圧を30Paに減圧し、1600℃で30分間保
持し、次に冷却後炉から取り出した。この結果、直径
0.1mm以下の微小気泡が全長にわたり見られ、外径
は中央部が76mmと細く、下部がφ90mmと太く変
形していた。
合成したガラス微粒子堆積体を用いた。この母材を図1
に示す炉内に挿入したが、炉内は予め800℃に昇温し
てある。第1ステップは1300℃で2時間保持したと
ころ5Paまで達したので、第2ステップへ昇温を開始
した。第2ステップの温度は上部1320℃、中部13
90℃、下部1470℃とし、1時間保持した。引き続
き第3ステップでは上部1550℃、中部1525℃、
下部1500℃として、30分間保持し、降温した。こ
の加熱過程中、炉内圧は5Paで一定であった。この結
果、得られたガラス体は全長にわたり気泡が見られず、
透明な良好ガラス体であった。外径は全長にわたってφ
90mm±0.8mmと均一であった。
ラス微粒子堆積体内に存在するガスを充分に除去する条
件で製造するため、透明化後のガラス内に気泡の残留が
なく、またガラス微粒子堆積体の収縮が進行する温度域
での加熱及び分割された炉の発熱体の温度を下部ほど上
げることにより、ガラス径の均一なガラス体を得ること
ができる。
を有する加熱炉を用いる製法を概略説明する図である。
ある。
ス物品の形状を説明する図である。
と到達真空度と透明ガラス体内の気泡の数の相関関係を
示すグラフ図である。
関係を示すグラフ図である。
相関関係を示すグラフ図である。
相関関係を示すグラフ図である。
タ、 4 ヒータ、 5ヒータ、 6 脱気用配管、
7 真空ポンプ、 8 ヒータ、 9 ヒートシール
ド、 10 真空容器。
Claims (6)
- 【請求項1】 気相合成法によりガラス微粒子堆積体を
合成し、該ガラス微粒子堆積体を真空または減圧雰囲気
中で加熱処理することにより透明ガラス化して光ファイ
バ母材を製造する方法において、該加熱処理が母材から
のガスを除去する第1の加熱工程、前記第1の加熱工程
より高く透明化温度より低い温度で加熱収縮させる第2
の加熱工程、及び透明ガラス化温度で透明化させる第3
の加熱工程を含むことを特徴とする光ファイバ母材の製
造方法。 - 【請求項2】 上記第1の加熱工程は1000℃〜13
00℃の温度範囲で真空度が10Pa以下に到達するま
で当該加熱工程を継続することを特徴とする請求項1記
載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項3】 上記第2の加熱工程は10Pa以下の真
空度において、1320℃〜1480℃の温度を10分
間〜120分間保持することを特徴とする請求項1また
は請求項2記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項4】 上記第2の加熱工程において、上記ガラ
ス微粒子堆積体を加熱処理する発熱体は上下方向に多段
に分割されてそれぞれ独立に温度を制御し、且つ下部の
発熱体の温度が上部の発熱体の温度以上になるように設
定されることを特徴とする請求項1ないし請求項3のい
ずれかに記載される光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項5】 上記第3の加熱工程は10Pa以下の真
空度において1490〜1600℃の温度を1分間〜6
0分間保持することを特徴とする請求項1ないし請求項
4のいずれかに記載される光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項6】 上記ガラス微粒子堆積体が中心部より外
周部で屈折率の低い少なくとも二重の導波路構造を持つ
ガラスロッドの外周に、気相合成法によりガラス微粒子
を堆積させてなる複合体であることを特徴とする請求項
1ないし請求項5のいずれかに記載される光ファイバ母
材の製造方法。
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