JPH0625035A - イソプレン誘導体の製造方法 - Google Patents
イソプレン誘導体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イソプレン誘導体の新規な製造方法を提供す
る。 【構成】 (E)−または(Z)−形で存在する一般式 【化1】 [式中、R、nおよび任意に存在している不斉中心は上
記の意味を有する]の化合物を光学的活性アトロプ異性
ジホスフィンのルテニウム錯体を用いて不斉水素化する
ことにより、一般式 【化2】
る。 【構成】 (E)−または(Z)−形で存在する一般式 【化1】 [式中、R、nおよび任意に存在している不斉中心は上
記の意味を有する]の化合物を光学的活性アトロプ異性
ジホスフィンのルテニウム錯体を用いて不斉水素化する
ことにより、一般式 【化2】
Description
【0001】本発明は、一般式
【0002】
【化7】
【0003】[式中、不斉中心はそれぞれ(R)−または
(S)−構造を有することができ、Rは式
(S)−構造を有することができ、Rは式
【0004】
【化8】
【0005】の残基を表し、R1は低級アルキルを表す
か、または2個のR1は一緒になってエチレンもしくは
プロピレンを表し、そしてnは数0、1または2を示
す]のイソプレン誘導体類の新規な製造方法に関し、該
方法は(E)−または(Z)−形で存在する一般式
か、または2個のR1は一緒になってエチレンもしくは
プロピレンを表し、そしてnは数0、1または2を示
す]のイソプレン誘導体類の新規な製造方法に関し、該
方法は(E)−または(Z)−形で存在する一般式
【0006】
【化9】
【0007】[式中、R、nおよび場合により存在して
いてもよい不斉中心は上記の意味を有する]の化合物を
光学的活性アトロプ異性ジホスフィンのルテニウム錯体
を用いて不斉水素化すること(asymmetrica
lly hydroganating)からなる。
いてもよい不斉中心は上記の意味を有する]の化合物を
光学的活性アトロプ異性ジホスフィンのルテニウム錯体
を用いて不斉水素化すること(asymmetrica
lly hydroganating)からなる。
【0008】上記の式Iの化合物類は既知であるかまた
は一部は新規な化合物類であり、そして例えば(R,R,
R)−α−トコフェロール、ビタミンK1またはフィトー
ルなどの合成において適する中間生成物類である。
は一部は新規な化合物類であり、そして例えば(R,R,
R)−α−トコフェロール、ビタミンK1またはフィトー
ルなどの合成において適する中間生成物類である。
【0009】出発物質として使用される式IIの化合物類
は大部分既知の化合物類である。新規な化合物類は既知
の化合物類の製造と同様な方法で容易に製造することが
できる。式IIの出発物質は場合により他の二重結合を指
示された位置に含有することもでき、そしてこの結合も
不斉水素化条件下で水素化される。
は大部分既知の化合物類である。新規な化合物類は既知
の化合物類の製造と同様な方法で容易に製造することが
できる。式IIの出発物質は場合により他の二重結合を指
示された位置に含有することもでき、そしてこの結合も
不斉水素化条件下で水素化される。
【0010】アトロプ異性ジホスフィンのルテニウム錯
体として、一般式:
体として、一般式:
【0011】
【化10】 [式中、ZはBF4 -、ClO4 -、B(フェニル)4 -または
PF6 -を表し、Z1はハロゲンまたは基Y−COO-また
はY−SO3 -を意味し、Yは低級アルキル、フェニル、
ハロゲン化された低級アルキルまたはハロゲン化された
フェニルを意味し、Z2はハロゲンを表し、Xはベンゼ
ン、ヘキサメチルベンゼンまたはp−シメンを表し、そ
してmは数1または2を表し、Z3はハロゲン、B
F4 -、ClO4 -またはB(フェニル)4 -を意味し、そして
Lは光学的活性アトロプ異性ジホスフィン配位子を意味
する]の化合物類が本発明の範囲内で特に考えられる。
PF6 -を表し、Z1はハロゲンまたは基Y−COO-また
はY−SO3 -を意味し、Yは低級アルキル、フェニル、
ハロゲン化された低級アルキルまたはハロゲン化された
フェニルを意味し、Z2はハロゲンを表し、Xはベンゼ
ン、ヘキサメチルベンゼンまたはp−シメンを表し、そ
してmは数1または2を表し、Z3はハロゲン、B
F4 -、ClO4 -またはB(フェニル)4 -を意味し、そして
Lは光学的活性アトロプ異性ジホスフィン配位子を意味
する]の化合物類が本発明の範囲内で特に考えられる。
【0012】光学的活性アトロプ異性ジホスフィン配位
子としては、(R)−または(S)−形の一般式
子としては、(R)−または(S)−形の一般式
【0013】
【化11】
【0014】[式中、R2およびR3はそれぞれ独立して
低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、または保
護されたヒドロキシを意味するか、あるいはR2および
R3は一緒になって−O−CH2−O−CH2−O−を意
味し、R4は低級アルキルまたは低級アルコキシを示
し、そしてpは数0、1または2を示し、そしてR5お
よびR6はそれぞれ独立してアリール、5員のヘテロ芳
香族基を意味するか、または燐原子と一緒になって式
低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、または保
護されたヒドロキシを意味するか、あるいはR2および
R3は一緒になって−O−CH2−O−CH2−O−を意
味し、R4は低級アルキルまたは低級アルコキシを示
し、そしてpは数0、1または2を示し、そしてR5お
よびR6はそれぞれ独立してアリール、5員のヘテロ芳
香族基を意味するか、または燐原子と一緒になって式
【0015】
【化12】
【0016】の基を意味する]の化合物類が本発明の範
囲内で特に考えられる。
囲内で特に考えられる。
【0017】「低級アルキル」という語は、本発明の範
囲内では、炭素数が1−4の直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチルおよびターシャリー−
ブチルを意味する。「低級アルコキシ」は、アルキル残
基が上記の意味を有する基を意味する。ヒドロキシ基の
ための保護基としては、一般的なエーテル−生成基、例
えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級ア
ルコキシメチル、並びに2−メトキシエトキシメチルな
どが本発明の範囲内で特に考えられる。「5員のヘテロ
芳香族基」(five‐membered heter
oaromatic group)という語は、本発明
の範囲内では、式
囲内では、炭素数が1−4の直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチルおよびターシャリー−
ブチルを意味する。「低級アルコキシ」は、アルキル残
基が上記の意味を有する基を意味する。ヒドロキシ基の
ための保護基としては、一般的なエーテル−生成基、例
えばベンジル、アリル、ベンジルオキシメチル、低級ア
ルコキシメチル、並びに2−メトキシエトキシメチルな
どが本発明の範囲内で特に考えられる。「5員のヘテロ
芳香族基」(five‐membered heter
oaromatic group)という語は、本発明
の範囲内では、式
【0018】
【化13】
【0019】の置換基を示す。
【0020】さらに、式(a)−(d)の置換基中で、
Aは酸素、硫黄または−NR8を意味する。置換基R7は
水素、低級アルキル、特にメチル、または低級アルコキ
シ、特にメトキシを意味し、そしてR8は低級アルキ
ル、好適にはメチル、を意味する。
Aは酸素、硫黄または−NR8を意味する。置換基R7は
水素、低級アルキル、特にメチル、または低級アルコキ
シ、特にメトキシを意味し、そしてR8は低級アルキ
ル、好適にはメチル、を意味する。
【0021】「ハロゲン」という語は、本発明の範囲内
では、弗素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。
では、弗素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。
【0022】「ハロゲン化されたアルキル」という語
は、本発明の範囲内では、可変数のハロゲン原子、特に
塩素または弗素を有し、それにより好適には少なくとも
1個のハロゲン原子が−COO−基に対するα−位置に
位置しているような低級アルキル基を意味する。
は、本発明の範囲内では、可変数のハロゲン原子、特に
塩素または弗素を有し、それにより好適には少なくとも
1個のハロゲン原子が−COO−基に対するα−位置に
位置しているような低級アルキル基を意味する。
【0023】好適なハロゲン化された低級アルキル基は
過弗素化されたおよび過塩素化された低級アルキル基、
例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルな
ど、である。
過弗素化されたおよび過塩素化された低級アルキル基、
例えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルな
ど、である。
【0024】「アリール」という語は、本発明の範囲内
では、特に未置換であるだけではなくオルト−、メタ−
もしくはパラ−位置において置換されていてもまたは多
重−置換されていてもよいフェニル残基を意味する。置
換基としては、フェニル、低級アルキルもしくは低級ア
ルコキシ基、好適にはメチルもしくはメトキシ基、また
はジ−低級アルキルアミノ基、好適にはジメチルアミノ
基、並びに弗素、トリアルキルシリル、例えばトリメチ
ルシリルまたはスルファモイル、例えばN,N−ジメチ
ルアミノスルファモイル、などが考えられる。さらに、
この語はナフチルを意味することもできる。「ハロゲン
化されたフェニル」という語はペルフルオロフェニルま
たはペルフェニルビフェニルを意味する。
では、特に未置換であるだけではなくオルト−、メタ−
もしくはパラ−位置において置換されていてもまたは多
重−置換されていてもよいフェニル残基を意味する。置
換基としては、フェニル、低級アルキルもしくは低級ア
ルコキシ基、好適にはメチルもしくはメトキシ基、また
はジ−低級アルキルアミノ基、好適にはジメチルアミノ
基、並びに弗素、トリアルキルシリル、例えばトリメチ
ルシリルまたはスルファモイル、例えばN,N−ジメチ
ルアミノスルファモイル、などが考えられる。さらに、
この語はナフチルを意味することもできる。「ハロゲン
化されたフェニル」という語はペルフルオロフェニルま
たはペルフェニルビフェニルを意味する。
【0025】註(*)は、当該C原子が不斉C原子である
ことを意味する。
ことを意味する。
【0026】本発明に従い使用される式VIのジホスフィ
ン配位子は既知化合物類であるかまたは既知化合物類の
製造と同様な方法で容易に製造することができる既知化
合物の同族体類である。
ン配位子は既知化合物類であるかまたは既知化合物類の
製造と同様な方法で容易に製造することができる既知化
合物の同族体類である。
【0027】式IVおよびVの錯体類も既知化合物類であ
るか、または例えばヨーロッパ特許第397 042号
に従う既知化合物類の製造と同様な方法で容易に製造す
ることができる既知化合物の同族体類である。
るか、または例えばヨーロッパ特許第397 042号
に従う既知化合物類の製造と同様な方法で容易に製造す
ることができる既知化合物の同族体類である。
【0028】式IIIの化合物類も既知化合物類であるか
または例えばタカヤ(Takaya)他、ザ・ジャーナ
ル・オブ・ザ・オーガニック・ケミストリイ(J.Or
g.Chem.)、1987、52、3174−317
77に従いそれ自体は既知である方法で容易に製造する
ことができる。
または例えばタカヤ(Takaya)他、ザ・ジャーナ
ル・オブ・ザ・オーガニック・ケミストリイ(J.Or
g.Chem.)、1987、52、3174−317
77に従いそれ自体は既知である方法で容易に製造する
ことができる。
【0029】本発明に従う不斉水素化は一般的には反応
条件下で不活性である有機溶媒の中で行われる。そのよ
うな溶媒としては特に、低級アルコール類、例えばメタ
ノール、エタノールまたはトリフルオロエタノール、或
いは該アルコール類とハロゲン化された炭化水素類、例
えば塩化メチレン、クロロホルム、ヘキサフルオロベン
ゼンなどとのまたはエーテル類、例えばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランもしくはジオキサンなどとの混
合物が挙げられる。さらに、ケトン類、例えばアセト
ン、ジエチルケトン、メチルエチルケトンなど、エステ
ル類、例えば酢酸メチル、カルボン酸類、例えば蟻酸、
酢酸など、または水も挙げられる。
条件下で不活性である有機溶媒の中で行われる。そのよ
うな溶媒としては特に、低級アルコール類、例えばメタ
ノール、エタノールまたはトリフルオロエタノール、或
いは該アルコール類とハロゲン化された炭化水素類、例
えば塩化メチレン、クロロホルム、ヘキサフルオロベン
ゼンなどとのまたはエーテル類、例えばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランもしくはジオキサンなどとの混
合物が挙げられる。さらに、ケトン類、例えばアセト
ン、ジエチルケトン、メチルエチルケトンなど、エステ
ル類、例えば酢酸メチル、カルボン酸類、例えば蟻酸、
酢酸など、または水も挙げられる。
【0030】式III、IVおよびVの錯体中のルテニウム
対配位子Lの比は、1モルの配位子当たり一般的には約
0.5−約2モルの間、好適には少なくとも約1モル、
のルテニウムである。ルテニウム対水素化しようとする
物質の比は約0.01−約1モル%の間、好適には約0.
05−約0.5モル%の間、である。
対配位子Lの比は、1モルの配位子当たり一般的には約
0.5−約2モルの間、好適には少なくとも約1モル、
のルテニウムである。ルテニウム対水素化しようとする
物質の比は約0.01−約1モル%の間、好適には約0.
05−約0.5モル%の間、である。
【0031】式III、IVおよびVの錯体を用いる不斉水
素化は一般的には約0℃−約100℃の温度において実
施される。この水素化は一般的には圧力下で、好適には
約5−約200バールの、特に約30−約100バール
の、圧力下で、実施される。式VIの光学的活性アトロプ
異性配位子の使用と同様にして、下記の一般式
素化は一般的には約0℃−約100℃の温度において実
施される。この水素化は一般的には圧力下で、好適には
約5−約200バールの、特に約30−約100バール
の、圧力下で、実施される。式VIの光学的活性アトロプ
異性配位子の使用と同様にして、下記の一般式
【0032】
【化14】
【0033】[式中、R5およびR6は上記の意味を有す
る]のビナフチル型の光学的活性化合物類を使用するこ
ともできる。
る]のビナフチル型の光学的活性化合物類を使用するこ
ともできる。
【0034】ビナフチル環は一般的方法で置換されてい
てもよい。
てもよい。
【0035】下記の実施例は本発明を説明するためのも
のであり、限定しようとするものではない。これらの実
施例において、選択されている略語は下記の意味を有す
る: GC=毛管ガスクロマトグラフィー e.e.=エナンチオマー過剰 TLC=薄層クロマトグラフィー RT=室温 OAc=アセチル TFA=トリフルオロアセチル THF=テトラヒドロフラン 全ての温度は摂氏°で示されている。
のであり、限定しようとするものではない。これらの実
施例において、選択されている略語は下記の意味を有す
る: GC=毛管ガスクロマトグラフィー e.e.=エナンチオマー過剰 TLC=薄層クロマトグラフィー RT=室温 OAc=アセチル TFA=トリフルオロアセチル THF=テトラヒドロフラン 全ての温度は摂氏°で示されている。
【0036】2−フリール−BIPHEMP=(6,6
−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2
−フリールホスフィン) 2−フリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−
フリールホスフィン) MeOBIPHEP=(6,6′−ジメトキシビフェニ
ル−2,2′−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン) 3,5−TMS−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−
[3,5−ジ(トリメチルシリル)フェニル]ホスフィ
ン} (3,4,5−MeO)−MeOBIPHEP=(6,
6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス
[ビス−(3,4,5−トリメトキシフェニル)ホスフィ
ン] p−DMAS−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−[p−
(N,N−ジメチルアミノ−スルファモイル)フェニル]
ホスフィン} 2−チエニル2BIPHEMP=P,P−ジフェニル−
P′,P′−ジ−2−チエニ ル−(6,6′−ジメチル
ビフェニル−2,2′−ジイル)ホスフィン BIPHEP−DIPHOL=5,5′−(6,6′−ジ
メチルビフェニル−2,2′−ジイル)−ジ−5H−ベ
ンゾ[b]ホスフィンドール HO/IpropO−BIPHEP=(6−イソプロポ
キシ−6′−ヒドロキシビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ジフェニルホスフィン) IpropO−BIPHEP=(6,6′−ジイソプロ
ポキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジフェニ
ルホスフィン) p−ビフェニル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−4
−ビフェニリルホスフィン) BnO−BIPHEP=(6,6′−ジベンジルオキシ
ビフェニル−2,2′−ジイ ル)ビス(ジフェニルホス
フィン) p−DMAPh−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−
[p−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]ホスフィ
ン} p−アニシル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−(p−メ
トキシフェニル)ホスフィン] 2−チエニル−BIPHEMP=(6,6′−ジメチル
ビフェニル−2,2′−ジイ ル)ビス(ジ−2−チエニ
ルホスフィン) 2−チエニル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−チ
エニルホスフィン) TriMeO−BIPHEP=(4,4′,5,5′,6,
6′−ヘキサメトキシビフェ ニル−2,2′−ジイル)
ビス(ジフェニルホスフィン) BIPHOMP=(5,7−ジヒドロ−ジベンズ[c,
e]オキセピン−1,11−ジイル)ビス(ジフェニル
ホスフィン) p−トリル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメト
キシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−p−ト
リルホスフィン] 3−フリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−3−
フリールホスフィン) ベンゾフリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−
(2−ベンゾ[b]フラニル)ホスフィン] Meフリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ビス(5
−メチルフラニ−2−ル)ホスフィン]
−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2
−フリールホスフィン) 2−フリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−
フリールホスフィン) MeOBIPHEP=(6,6′−ジメトキシビフェニ
ル−2,2′−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン) 3,5−TMS−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−
[3,5−ジ(トリメチルシリル)フェニル]ホスフィ
ン} (3,4,5−MeO)−MeOBIPHEP=(6,
6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス
[ビス−(3,4,5−トリメトキシフェニル)ホスフィ
ン] p−DMAS−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−[p−
(N,N−ジメチルアミノ−スルファモイル)フェニル]
ホスフィン} 2−チエニル2BIPHEMP=P,P−ジフェニル−
P′,P′−ジ−2−チエニ ル−(6,6′−ジメチル
ビフェニル−2,2′−ジイル)ホスフィン BIPHEP−DIPHOL=5,5′−(6,6′−ジ
メチルビフェニル−2,2′−ジイル)−ジ−5H−ベ
ンゾ[b]ホスフィンドール HO/IpropO−BIPHEP=(6−イソプロポ
キシ−6′−ヒドロキシビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ジフェニルホスフィン) IpropO−BIPHEP=(6,6′−ジイソプロ
ポキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジフェニ
ルホスフィン) p−ビフェニル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−4
−ビフェニリルホスフィン) BnO−BIPHEP=(6,6′−ジベンジルオキシ
ビフェニル−2,2′−ジイ ル)ビス(ジフェニルホス
フィン) p−DMAPh−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス{ビス−
[p−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル]ホスフィ
ン} p−アニシル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−(p−メ
トキシフェニル)ホスフィン] 2−チエニル−BIPHEMP=(6,6′−ジメチル
ビフェニル−2,2′−ジイ ル)ビス(ジ−2−チエニ
ルホスフィン) 2−チエニル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−チ
エニルホスフィン) TriMeO−BIPHEP=(4,4′,5,5′,6,
6′−ヘキサメトキシビフェ ニル−2,2′−ジイル)
ビス(ジフェニルホスフィン) BIPHOMP=(5,7−ジヒドロ−ジベンズ[c,
e]オキセピン−1,11−ジイル)ビス(ジフェニル
ホスフィン) p−トリル−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメト
キシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−p−ト
リルホスフィン] 3−フリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−3−
フリールホスフィン) ベンゾフリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジ
メトキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ジ−
(2−ベンゾ[b]フラニル)ホスフィン] Meフリール−MeOBIPHEP=(6,6′−ジメ
トキシビフェニル−2,2′−ジイル)ビス[ビス(5
−メチルフラニ−2−ル)ホスフィン]
【0037】
【実施例】実施例1 a) グローブボックス中で8.33mg(0.0255
ミリモル)のB.ハイセル(Heisel)他、テトラ
ヘドロン(Tetrahedron):アシンメトリー
(Asymmetry)、2、51(1991)に従い
製造されたジ(η2−シクロオクタ−1,5−ジエン)ル
テニウム(II)および13.8mg(0.0255ミリモ
ル)の(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′
−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィン)を1m
lの塩化メチレンおよび1mlのメタノール中に溶解さ
せ、そして橙色溶液を室温で18時間撹拌した。0.5
mlのメタノール中の8.9mg(0.051ミリモル)
の50%水性HBF4の添加後に、黄色触媒溶液を5分
間撹拌した。
ミリモル)のB.ハイセル(Heisel)他、テトラ
ヘドロン(Tetrahedron):アシンメトリー
(Asymmetry)、2、51(1991)に従い
製造されたジ(η2−シクロオクタ−1,5−ジエン)ル
テニウム(II)および13.8mg(0.0255ミリモ
ル)の(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′
−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィン)を1m
lの塩化メチレンおよび1mlのメタノール中に溶解さ
せ、そして橙色溶液を室温で18時間撹拌した。0.5
mlのメタノール中の8.9mg(0.051ミリモル)
の50%水性HBF4の添加後に、黄色触媒溶液を5分
間撹拌した。
【0038】b) グローブボックス(<1ppmの酸
素)中で30mlオートクレーブのガラス容器に1.0
0g(5.09ミリモル)の(Z)−6,10−ジメチルウ
ンデセノ−2−ン、8mlのメタノールおよびa)に従
い製造された触媒溶液を充填した。水素化を25°およ
び60バールの水素において18時間行った。水素化溶
液を回転蒸発器上で20°/20ミリバールにおいて蒸
発させ、残渣をエーテル中に溶解させ、そして触媒を分
離するために溶液をシリカゲルのパッドを通して濾過し
た。溶離液を上記の如くして蒸発させた。残渣(0.9
6gの黄色油)は毛管GCによると8.6%の遊離体、
72.9%の(R)−6,10−ジメチルウンデカノ−2−
ンおよび13.6%の対応するジメチルアセタールから
なっていた。生成物のe.e.は91.4%であった。e.
e.測定はA.ニエルジンゲル(Knierzinge
r)他(ヘルベチカ・シミカ・アクタ(Helv.Ch
im.Acta)、1990、73、1087)により
記されている方法に従い行われた。
素)中で30mlオートクレーブのガラス容器に1.0
0g(5.09ミリモル)の(Z)−6,10−ジメチルウ
ンデセノ−2−ン、8mlのメタノールおよびa)に従
い製造された触媒溶液を充填した。水素化を25°およ
び60バールの水素において18時間行った。水素化溶
液を回転蒸発器上で20°/20ミリバールにおいて蒸
発させ、残渣をエーテル中に溶解させ、そして触媒を分
離するために溶液をシリカゲルのパッドを通して濾過し
た。溶離液を上記の如くして蒸発させた。残渣(0.9
6gの黄色油)は毛管GCによると8.6%の遊離体、
72.9%の(R)−6,10−ジメチルウンデカノ−2−
ンおよび13.6%の対応するジメチルアセタールから
なっていた。生成物のe.e.は91.4%であった。e.
e.測定はA.ニエルジンゲル(Knierzinge
r)他(ヘルベチカ・シミカ・アクタ(Helv.Ch
im.Acta)、1990、73、1087)により
記されている方法に従い行われた。
【0039】実施例2 a) グローブボックス(<1ppmの酸素)中で6.
1mg(0.0188ミリモル)のジ(η2−アセタト)
−η4−シクロオクタ−1,5−ジエン)ルテニウム(II)
および10.2mg(0.0188ミリモル)の(R)−
(6,6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイル)
ビス(ジ−2−フリールホスフィン)を1mlの塩化メ
チレンおよび1mlのメタノール中に溶解させ、そして
橙色溶液を室温で18時間撹拌した。0.5mlのメタ
ノール中の6.6mg(0.0375ミリモル)の50%
水性HBF4の添加後に、黄色触媒溶液を5分間撹拌し
た。
1mg(0.0188ミリモル)のジ(η2−アセタト)
−η4−シクロオクタ−1,5−ジエン)ルテニウム(II)
および10.2mg(0.0188ミリモル)の(R)−
(6,6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイル)
ビス(ジ−2−フリールホスフィン)を1mlの塩化メ
チレンおよび1mlのメタノール中に溶解させ、そして
橙色溶液を室温で18時間撹拌した。0.5mlのメタ
ノール中の6.6mg(0.0375ミリモル)の50%
水性HBF4の添加後に、黄色触媒溶液を5分間撹拌し
た。
【0040】b) グローブボックス中で30mlオー
トクレーブのガラス容器に1.00g(3.75ミリモ
ル)の(R,Z)−6,10,14−トリメチルペンタデ
セ−5−ノ−2−ン(95.8%、e.e.)、8mlの
メタノールおよびa)に従い製造された触媒溶液を充填
した。水素化を25°および60バールの水素において
24時間行った。水素化溶液を回転蒸発器上で20°/
20ミリバールにおいて蒸発させ、残渣(0.99gの
黄色油)を40gのシリカゲル上でn−ヘキサン−エー
テル5:1でクロマトグラフィーにかけて873mgの
無色油を溶離し、それは毛管GCによると0.6%の遊
離体および99.2%の6,10,14−トリメチルペン
タデカノ−2−ンからなっていた。A.ニエルジンゲル
(Knierzinger)他(ヘルベチカ・シミカ・
アクタ(Helv.Chim.Acta)、1990、
73、1087)により4種の可能な異性体類の測定に
関して記されている方法に従うと、(R,R)−6,1
0,14−トリメチルペンタデカノ−2−ンの含有量は
93.9%であった。(非対称性中心C−6に関して9
1.2%のe.e.に相当していた。)実施例3 20.4mg(0.0255ミリモル)のRu(OAc)
2[(S)−MeOBIPHEP](B.ハイセル(Hei
sel)他、テトラヘドロン(Tetrahedro
n):アシンメトリー(Asymmetry)、2、5
1(1991)に従い製造された)および8.94mg
(0.0509ミリモル)の50%水性HBF4の4ml
のメタノール中溶液を1時間撹拌した。1.01g(5.
09ミリモル)のラセミ体(E)−6,10−ジメチルウ
ンデセ−5−ノ−2−ールおよびさらに5mlのメタノ
ールの添加後に、水素化を25°および35バールにお
いて18時間行った。水素化溶液を回転蒸発器上で20
°/20ミリバールにおいて蒸発させ、残渣(0.95
gの黄色油)をエーテル中に溶解させ、そして溶液をシ
リカゲルのパッドを通して濾過した。溶離液を上記の如
くして蒸発させた。残渣(670mgの黄色油)は毛管
GCによると16.8%の遊離体および83.2%の6,
10−ジメチルウンデカノ−2−ールからなっていた。
トクレーブのガラス容器に1.00g(3.75ミリモ
ル)の(R,Z)−6,10,14−トリメチルペンタデ
セ−5−ノ−2−ン(95.8%、e.e.)、8mlの
メタノールおよびa)に従い製造された触媒溶液を充填
した。水素化を25°および60バールの水素において
24時間行った。水素化溶液を回転蒸発器上で20°/
20ミリバールにおいて蒸発させ、残渣(0.99gの
黄色油)を40gのシリカゲル上でn−ヘキサン−エー
テル5:1でクロマトグラフィーにかけて873mgの
無色油を溶離し、それは毛管GCによると0.6%の遊
離体および99.2%の6,10,14−トリメチルペン
タデカノ−2−ンからなっていた。A.ニエルジンゲル
(Knierzinger)他(ヘルベチカ・シミカ・
アクタ(Helv.Chim.Acta)、1990、
73、1087)により4種の可能な異性体類の測定に
関して記されている方法に従うと、(R,R)−6,1
0,14−トリメチルペンタデカノ−2−ンの含有量は
93.9%であった。(非対称性中心C−6に関して9
1.2%のe.e.に相当していた。)実施例3 20.4mg(0.0255ミリモル)のRu(OAc)
2[(S)−MeOBIPHEP](B.ハイセル(Hei
sel)他、テトラヘドロン(Tetrahedro
n):アシンメトリー(Asymmetry)、2、5
1(1991)に従い製造された)および8.94mg
(0.0509ミリモル)の50%水性HBF4の4ml
のメタノール中溶液を1時間撹拌した。1.01g(5.
09ミリモル)のラセミ体(E)−6,10−ジメチルウ
ンデセ−5−ノ−2−ールおよびさらに5mlのメタノ
ールの添加後に、水素化を25°および35バールにお
いて18時間行った。水素化溶液を回転蒸発器上で20
°/20ミリバールにおいて蒸発させ、残渣(0.95
gの黄色油)をエーテル中に溶解させ、そして溶液をシ
リカゲルのパッドを通して濾過した。溶離液を上記の如
くして蒸発させた。残渣(670mgの黄色油)は毛管
GCによると16.8%の遊離体および83.2%の6,
10−ジメチルウンデカノ−2−ールからなっていた。
【0041】e.e.測定のために、200mgのアルコ
ールを0.3gのクロロクロム酸ピリジニウムを用いて
塩化メチレン中で25°において2時間にわたり酸化し
た。褐色の反応溶液から、シリカゲルを通しての濾過後
に、0.19gの無色油が得られ、それはGCによると
75.9%の(R)−6,10−ジメチルウンデカノ−2−
ール(74.1%e.e.)を含有していた。
ールを0.3gのクロロクロム酸ピリジニウムを用いて
塩化メチレン中で25°において2時間にわたり酸化し
た。褐色の反応溶液から、シリカゲルを通しての濾過後
に、0.19gの無色油が得られ、それはGCによると
75.9%の(R)−6,10−ジメチルウンデカノ−2−
ール(74.1%e.e.)を含有していた。
【0042】実施例4 20.4mg(0.0255ミリモル)のRu(OAc)
2[(S)−MeOBIPHEP]および5.33mg(0.
028ミリモル)のHBF4−ジエチルエーテル錯体
(アルドリッヒ)の4mlのメタノール中溶液を1時間
撹拌した。1.23g(5.09ミリモル)の(E)−6,
10−ジメチル−2,2−ジメトキシ−ウンデセンおよ
びさらに5mlのメタノールの添加後に、水素化を25
°および35バールにおいて18時間行った。水素化溶
液を回転蒸発器上で20°/20ミリバールにおいて蒸
発させ、残渣(0.98gの黄色油)をエーテル中に溶
解させ、そして溶液をシリカゲルのパッドを通して濾過
した。溶離液を上記の如くして蒸発させた。残渣(79
0mgの黄色油)は毛管GCによると51%の遊離体お
よび37%の(R)−6,10−ジメチル−2,2−ジメト
キシウンデカン(70.4%e.e.)からなっていた。
e.e.値は実施例1中の対応するケトンに関して記され
ている方法で得られた。
2[(S)−MeOBIPHEP]および5.33mg(0.
028ミリモル)のHBF4−ジエチルエーテル錯体
(アルドリッヒ)の4mlのメタノール中溶液を1時間
撹拌した。1.23g(5.09ミリモル)の(E)−6,
10−ジメチル−2,2−ジメトキシ−ウンデセンおよ
びさらに5mlのメタノールの添加後に、水素化を25
°および35バールにおいて18時間行った。水素化溶
液を回転蒸発器上で20°/20ミリバールにおいて蒸
発させ、残渣(0.98gの黄色油)をエーテル中に溶
解させ、そして溶液をシリカゲルのパッドを通して濾過
した。溶離液を上記の如くして蒸発させた。残渣(79
0mgの黄色油)は毛管GCによると51%の遊離体お
よび37%の(R)−6,10−ジメチル−2,2−ジメト
キシウンデカン(70.4%e.e.)からなっていた。
e.e.値は実施例1中の対応するケトンに関して記され
ている方法で得られた。
【0043】実施例5−21 実施例1と同様な方法で別の水素化を行い、そして結果
は表1にまとめられている。
は表1にまとめられている。
【0044】
【表1】
【0045】実施例22−30 実施例1と同様な方法で別の水素化を行い、そして結果
は表2にまとめられている。
は表2にまとめられている。
【0046】
【表2】 表2 Ru(Z1)2[(R)-2-フリールMeOBIPHEP]または{Ru[(R)-2-フ リールMeOBIPHEP]}(Z)2 a)の存在下での(E)-または(Z)-6, 10-ジメチルウンデセ-5-ノ-2-ンの非対称性水素化 実施 遊離 Z 溶媒(ml) 圧力 温度 時間 転化 選択 e.e. 構造 例 体 ハ゛ール ℃ 時間 率%b)率%b) %b) 22 E BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 35 25 18 64 99 90.0 S 23 E BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 25 18 84 99 91.5 S 24 Z BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 25 18 90 97 91.4 R 25 E BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 80 6 100 86 84.4 S 26 Z BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 80 6 100 89 89.2 R 27 Z BF4 MeOH(0.5),Et2O(9.5) 60 80 6 100 95 89.8 R 28 Z BF4 MeOH(0.5),Et2O(9.5) 60 100 6 95 92 83.0 R 29 Z BF4 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 0 142 48 93 93.4 R 30 Z Z1 MeOH(9),CH2Cl2(1) 60 25 18 35 78 80.1 R TFAc} a)10mlの溶媒中の1gの遊離体、S/C200 b)表1を参照のこと c)Ru(TFA)2[(R)−2−フリールMeOBIPH
EP]は実施例1と同様な方法で[Ru(TFA)2COD]
2[B.ハイゼル他、テトラヘドロン:アシンメトリー、
2、51(1991)]および(R)−2−フリールMe
OBiPHEPから製造された。
EP]は実施例1と同様な方法で[Ru(TFA)2COD]
2[B.ハイゼル他、テトラヘドロン:アシンメトリー、
2、51(1991)]および(R)−2−フリールMe
OBiPHEPから製造された。
【0047】実施例31−49 実施例1と同様な方法で別の水素化を行い、そして結果
は表3にまとめられている。
は表3にまとめられている。
【0048】
【表3】 表3 [RuL]2+(Z)2を触媒として用いる(E)-または(Z)-6, 10-ジメチルウンデセ-5-ノ-2-ンの非対称性水素化 実施 遊離 偏光配位子 転化率 選択率 e.e. 構造 例 体 %a) %a) %a) 31 Z (S)-(3,5-TMS)-MeOBIPHEP 100 16b 87.6 S 32 Z (S)-(3,4,5-MeO)-MeOBIPHEP 100 71b) 75.4 S 33 E (R)-p-DMAS-MeOBIPHEP 18 75b) 84.2 S 34 E (R)-(2-チエニル)2BIPHEMP 76 85 70.0 S 35 E (R)-BIPHEMP-DIPHOL 54 89 83.1 S 36 E (R)-HO/IpropO-BIPHEP 100 88 76.7 S 37 E (R)-IpropO-BIPHEP 100 89 73.6 S 38 E (R)-p-BnO-BIPHEP 89 95 78.4 S 39 E (R)-p-ビフェニル-MeOBIPHEP 66 92 76.2 S 40 E (S)-p-DMAPh-MeOBIPHEP 100 86 70.6 R 41 E (R)-アニシル-MeOBIPHEP 100 73 74.6 S 42 Z (S)-2-チエニル-BIPHEP 99 42b) 80.0 S 43 Z (S)-2-チエニル-BIPHEMP 98 43b 73.6 S 44 E (S)-トリMeO-BIPHEP 100 91 78.7 R 45 E (S)-BIPHOMP 98 92 81.2 R 46 E (S)-p-トリル-MeOBIPHEP 100 90 72.1 R 47 E (S)-3-フリール-MeOBIPHEP 95 92 74.8 R 48 E (R)-ベンゾフリール-MeOBIPHEP 45 98 93.3 S 49 Z (R)-Meフリール-MeOBIPHEP 97 95 92.0 R a)表1を参照のこと b)対応するアルコールへの過剰水素化のために比較的
低い選択率実施例50 実施例1および2に従い使用された(R)−(6,6′−
ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2
−フリールホスフィン)は下記の如くして製造された。
低い選択率実施例50 実施例1および2に従い使用された(R)−(6,6′−
ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ジ−2
−フリールホスフィン)は下記の如くして製造された。
【0049】a) 0.30g(0.442ミリモル)の
(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ホスフィン酸ジフェニルエステル)の10m
lのテトラヒドロフラン中溶液を室温において15分以
内に10mlのテトラヒドロフラン中の1.5mlの2
−アイオドフラン(67%純度)および0.30g(1
2.3ミリモル)のマグネシウム片から製造されたグリ
ニヤール溶液に滴々添加した。添加の完了後に、混合物
を40°に1時間加熱した。処理のために、混合物を5
0mlの飽和NH4Cl溶液および50mlの酢酸エチ
ルで処理し、相を分離し、そして有機相を飽和NaCl
溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして
濃縮した。残渣を最少量のCH2Cl2中に溶解させ、そ
して溶液を50gのシリカゲルのカラムに適用した。酢
酸エチルそして次にテトラヒドロフランを用いる溶離で
0.20gの固体が生成し、それを10mlのターシャ
リー−ブチルメチルエーテルから再結晶化させた。0.
16gの(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,
2′−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィンオ
(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ホスフィン酸ジフェニルエステル)の10m
lのテトラヒドロフラン中溶液を室温において15分以
内に10mlのテトラヒドロフラン中の1.5mlの2
−アイオドフラン(67%純度)および0.30g(1
2.3ミリモル)のマグネシウム片から製造されたグリ
ニヤール溶液に滴々添加した。添加の完了後に、混合物
を40°に1時間加熱した。処理のために、混合物を5
0mlの飽和NH4Cl溶液および50mlの酢酸エチ
ルで処理し、相を分離し、そして有機相を飽和NaCl
溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして
濃縮した。残渣を最少量のCH2Cl2中に溶解させ、そ
して溶液を50gのシリカゲルのカラムに適用した。酢
酸エチルそして次にテトラヒドロフランを用いる溶離で
0.20gの固体が生成し、それを10mlのターシャ
リー−ブチルメチルエーテルから再結晶化させた。0.
16gの(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−2,
2′−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィンオ
【0050】b) コンデンサー、温度計、滴下漏斗お
よび機械的スタラーが備えられている0.5リットル4
首スルホン化フラスコにアルゴン下で2.90g(5.0
ミリモル)の(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−
2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィン
オキシド)、10ml(41.9ml)のジブチルアミ
ン、60mlのキシレン異性体混合物および4.0ml
(5.37g、39.6ミリモル)のトリクロロシランを
充填した。乳白色の混合物を還流下で4時間にわたり沸
騰させると、それによりほとんど透明な溶液が生じた。
冷却後に、内部温度が70°を越えないような方法で良
く撹拌しながら100mlの脱酸素化された30%水酸
化ナトリウム溶液を滴々添加し、そして混合物を70°
においてさらに1時間撹拌した。H2OおよびCH2Cl
2の添加後に、相を分離しそして有機相を2×50ml
の30%水酸化ナトリウム溶液、H2O、飽和NH4Cl
溶液および飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。得られた白色粉末
(4.40g)をCH2Cl2中に溶解させ、溶液をエタ
ノールで処理し、そしてCH2Cl2を回転蒸発器上で蒸
発させた。分離した固体を濾別し、エタノールおよびペ
ンタンで洗浄し、そして高真空(〜10Pa)中で1時
間にわたり100°で乾燥した。2.50gの(R)−
(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビ
ス(ジ−2−フリールホスフィン)が黄色結晶状で得ら
れた。
よび機械的スタラーが備えられている0.5リットル4
首スルホン化フラスコにアルゴン下で2.90g(5.0
ミリモル)の(R)−(6,6′−ジメチルビフェニル−
2,2′−ジイル)ビス(ジ−2−フリールホスフィン
オキシド)、10ml(41.9ml)のジブチルアミ
ン、60mlのキシレン異性体混合物および4.0ml
(5.37g、39.6ミリモル)のトリクロロシランを
充填した。乳白色の混合物を還流下で4時間にわたり沸
騰させると、それによりほとんど透明な溶液が生じた。
冷却後に、内部温度が70°を越えないような方法で良
く撹拌しながら100mlの脱酸素化された30%水酸
化ナトリウム溶液を滴々添加し、そして混合物を70°
においてさらに1時間撹拌した。H2OおよびCH2Cl
2の添加後に、相を分離しそして有機相を2×50ml
の30%水酸化ナトリウム溶液、H2O、飽和NH4Cl
溶液および飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。得られた白色粉末
(4.40g)をCH2Cl2中に溶解させ、溶液をエタ
ノールで処理し、そしてCH2Cl2を回転蒸発器上で蒸
発させた。分離した固体を濾別し、エタノールおよびペ
ンタンで洗浄し、そして高真空(〜10Pa)中で1時
間にわたり100°で乾燥した。2.50gの(R)−
(6,6′−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビ
ス(ジ−2−フリールホスフィン)が黄色結晶状で得ら
れた。
【0051】
【0052】 出発物質として使用された(R)−(6,6′−ジメチル
ビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホスフィン酸ジ
フェニルエステル)およびそれぞれに対応する(S)化合
物は下記の如くして製造された。
ビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホスフィン酸ジ
フェニルエステル)およびそれぞれに対応する(S)化合
物は下記の如くして製造された。
【0053】a) 76.5g(0.122モル)の(2
−アイオド−3−メトキシフェニル)ホスホン酸ジフェ
ニルエステル(75%純度)および25.0g(0.39
3モル)の活性化された銅粉末をアルゴン下でコンデン
サー、温度計、スタラーおよび不活性気体処理用の頭部
部品が備えられている1リットル4首スルホン化フラス
コ中に入れ、そして200mlのN,N−ジメチルホル
ムアミドを流入させた。濃褐色懸濁液を140°(油浴
温度)に1時間加熱すると、その時間後にTLC分析に
よると完全転化が起こっていた。冷却された反応混合物
を塩化メチレンと共に丸底フラスコ中に移し、そして回
転蒸発器上で70°で蒸発乾固した。残渣を200ml
の塩化メチレンで処理し、混合物を良く撹拌し、濾過
し、そしてフィルター残渣を100mlの塩化メチレン
で洗浄した。濾液を100mlの飽和NH4Cl溶液で
3回洗浄し、最初の洗浄操作で生じた少量の固体を濾別
し、次にMgSO4上で乾燥し、濾過しそして濃縮し
た。高真空(〜10Pa)中での80°における2時間
にわたる乾燥後に、59.6gの粗製(RS)−(6,6′
−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホス
ホン酸ジフェニルエステル)が得られた。
−アイオド−3−メトキシフェニル)ホスホン酸ジフェ
ニルエステル(75%純度)および25.0g(0.39
3モル)の活性化された銅粉末をアルゴン下でコンデン
サー、温度計、スタラーおよび不活性気体処理用の頭部
部品が備えられている1リットル4首スルホン化フラス
コ中に入れ、そして200mlのN,N−ジメチルホル
ムアミドを流入させた。濃褐色懸濁液を140°(油浴
温度)に1時間加熱すると、その時間後にTLC分析に
よると完全転化が起こっていた。冷却された反応混合物
を塩化メチレンと共に丸底フラスコ中に移し、そして回
転蒸発器上で70°で蒸発乾固した。残渣を200ml
の塩化メチレンで処理し、混合物を良く撹拌し、濾過
し、そしてフィルター残渣を100mlの塩化メチレン
で洗浄した。濾液を100mlの飽和NH4Cl溶液で
3回洗浄し、最初の洗浄操作で生じた少量の固体を濾別
し、次にMgSO4上で乾燥し、濾過しそして濃縮し
た。高真空(〜10Pa)中での80°における2時間
にわたる乾燥後に、59.6gの粗製(RS)−(6,6′
−ジメチルビフェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホス
ホン酸ジフェニルエステル)が得られた。
【0054】ba) 59.6gのa)に従い得られた
粗製ジフェニルエステルの50mlのジクロロメタン中
溶液を1リットル4首フラスコ中に入れ、そして35.
8g(0.10モル)の(o)−O,O′−ジベンゾイル−
L−酒石酸の100mlの酢酸エチル中溶液で処理し
た。次に溶液を回転蒸発器上で600ミリバールにおい
て蒸発させると、それによりCH2Cl2を蒸留除去しそ
して白色固体が分離した。これを吸引濾別し、20ml
の酢酸エチルおよび20mlのヘキサンで3回洗浄し、
そして高真空(〜10Pa)中で乾燥した。21.8g
の(R)−ジフェニ
粗製ジフェニルエステルの50mlのジクロロメタン中
溶液を1リットル4首フラスコ中に入れ、そして35.
8g(0.10モル)の(o)−O,O′−ジベンゾイル−
L−酒石酸の100mlの酢酸エチル中溶液で処理し
た。次に溶液を回転蒸発器上で600ミリバールにおい
て蒸発させると、それによりCH2Cl2を蒸留除去しそ
して白色固体が分離した。これを吸引濾別し、20ml
の酢酸エチルおよび20mlのヘキサンで3回洗浄し、
そして高真空(〜10Pa)中で乾燥した。21.8g
の(R)−ジフェニ
【0055】母液および洗浄溶液を他のエナンチオマー
の製造用に別に置いた。
の製造用に別に置いた。
【0056】bb) 磁気スタラー付きのエルレンマイ
ヤー中でba)に従い得られた物質を100mlのジク
ロロメタン、50mlの飽和NaHCO3溶液および5
0mlの脱塩水と共に全ての固体が溶液中を通過するま
で(30分間)撹拌した。相を分離し、そして有機相を
100mlの半−飽和NaHCO3溶液、50mlの脱
塩水および50mlの飽和NaCl溶液で2回洗浄し、
MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。油
状残渣を20mlのターシャリー−ブチルメチルエーテ
ルで処理すると、それにより結晶化が起きた。蒸発およ
び高真空(〜10Pa)中での60°における1時間の
乾燥後に、13.8gの(R)−(6,6′−ジメトキシビ
フェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホスホン酸ジフェ
ニルエス
ヤー中でba)に従い得られた物質を100mlのジク
ロロメタン、50mlの飽和NaHCO3溶液および5
0mlの脱塩水と共に全ての固体が溶液中を通過するま
で(30分間)撹拌した。相を分離し、そして有機相を
100mlの半−飽和NaHCO3溶液、50mlの脱
塩水および50mlの飽和NaCl溶液で2回洗浄し、
MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。油
状残渣を20mlのターシャリー−ブチルメチルエーテ
ルで処理すると、それにより結晶化が起きた。蒸発およ
び高真空(〜10Pa)中での60°における1時間の
乾燥後に、13.8gの(R)−(6,6′−ジメトキシビ
フェニル−2,2′−ジイル)ビス(ホスホン酸ジフェ
ニルエス
【0057】ca) 1リットル丸底フラスコ中でb
a)からの母液および洗浄溶液を蒸発させた。残渣を1
00mlのジクロロメタン中に加え、そして溶液を50
mlの飽和NaHCO3溶液および50mlの脱塩水と
共に撹拌した。相を分離し、そして有機相を100ml
の半−飽和NaHCO3溶液、50mlの脱塩水および
50mlの飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濾過し、そして濃縮した。得られた褐色の油を
50mlのジクロロメタン中に加え、そして溶液を1
8.0g(0.050モル)の(+)−O,O′−ジベンゾ
イル−D−酒石酸の100mlの酢酸エチル中溶液で処
理した。溶液を次に回転蒸発器上で600ミリバールに
おいて濃縮すると、それによりCH2Cl2が蒸留されそ
して白色固体が分離した。これを吸引濾別し、20ml
のヘキサンで3回洗浄し、そして高真空(〜10Pa)
中で乾燥した。22gの(S)−ジフェニルエステル/
(+)−D
a)からの母液および洗浄溶液を蒸発させた。残渣を1
00mlのジクロロメタン中に加え、そして溶液を50
mlの飽和NaHCO3溶液および50mlの脱塩水と
共に撹拌した。相を分離し、そして有機相を100ml
の半−飽和NaHCO3溶液、50mlの脱塩水および
50mlの飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4上で
乾燥し、濾過し、そして濃縮した。得られた褐色の油を
50mlのジクロロメタン中に加え、そして溶液を1
8.0g(0.050モル)の(+)−O,O′−ジベンゾ
イル−D−酒石酸の100mlの酢酸エチル中溶液で処
理した。溶液を次に回転蒸発器上で600ミリバールに
おいて濃縮すると、それによりCH2Cl2が蒸留されそ
して白色固体が分離した。これを吸引濾別し、20ml
のヘキサンで3回洗浄し、そして高真空(〜10Pa)
中で乾燥した。22gの(S)−ジフェニルエステル/
(+)−D
【0058】cb) ca)で得られた物質はbb)中
に記されている如くして製造された。13.9gの(S)
−(6,6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ホスホン酸ジフェニルエステル)が白色結晶
状で得られた。融点124−1
に記されている如くして製造された。13.9gの(S)
−(6,6′−ジメトキシビフェニル−2,2′−ジイ
ル)ビス(ホスホン酸ジフェニルエステル)が白色結晶
状で得られた。融点124−1
【0059】 d) 出発物質として使用された(2−アイオド−3−
メトキシフェニル)ホスフィン酸ジフェニルエステルは
下記の如くして製造された。
メトキシフェニル)ホスフィン酸ジフェニルエステルは
下記の如くして製造された。
【0060】daa) 13.0g(0.535モル)の
マグネシウム片の50mlの乾燥テトラヒドロフラン中
懸濁液をアルゴン下でスタラー、コンデンサー、温度計
および不活性気体処理用の頭部部品が備えられている
0.5リットル4首フラスコ中に入れた。そこに93.5
g(0.50モル)の3−ブロモアニソールの200m
lの乾燥テトラヒドロフラン中溶液を90分間にわたり
反応温度が35°を越えないような方法で滴々添加し
た。添加後に、グリニヤール試薬の沈澱を防止するため
に混合物をさらに150mlの乾燥テトラヒドロフラン
で希釈した。
マグネシウム片の50mlの乾燥テトラヒドロフラン中
懸濁液をアルゴン下でスタラー、コンデンサー、温度計
および不活性気体処理用の頭部部品が備えられている
0.5リットル4首フラスコ中に入れた。そこに93.5
g(0.50モル)の3−ブロモアニソールの200m
lの乾燥テトラヒドロフラン中溶液を90分間にわたり
反応温度が35°を越えないような方法で滴々添加し
た。添加後に、グリニヤール試薬の沈澱を防止するため
に混合物をさらに150mlの乾燥テトラヒドロフラン
で希釈した。
【0061】dab) 359.8g(0.967モル)
のクロロ燐酸ジフェニルおよび200mlの乾燥テトラ
ヒドロフランをスタラー、温度計、不活性気体処理用の
頭部部品およびCO2/アセトン冷却浴が備えられてい
る1.5リットル4首フラスコ中に入れ、そして溶液を
−78°に冷却した。それに2時間以内にbaa)に従
い製造されたグリニヤール試薬の溶液を反応温度が−7
0°を越えないような方法で滴々添加した。添加の完了
後に、混合物を撹拌しながら室温に一夜暖めた。10リ
ットルの撹拌されている容器中で、少量の微細白色沈澱
を含有している反応混合物を2リットルの氷水、2リッ
トルの飽和NaHCO3溶液および1リットルのジエチ
ルエーテルの混合物中に注いだ。10分間にわたり激し
く内部混合した後に、水相を分離しそして有機相を1リ
ットルの飽和NaHCO3溶液、200mlの25%ア
ンモニア、100mlの25%アンモニアで連続して洗
浄し、そして500mlの飽和NaCl溶液で3回洗浄
した。MgSO4上で乾燥した後に、溶液を蒸発させ、
残渣を1リットルのジエチルエーテル中に加え、そして
溶液を0°で一夜放置した。それにより分離した白色固
体(12g)を濾過により除去し、そして廃棄した。濾
液を蒸発させ、高真空(〜10Pa)中で乾燥し、得ら
れた残渣(163gの黄色油)を300mlのヘキサン
/トルエン1:1中に加え、そして溶液を500gのシ
リカゲル上で濾過した。最初に3リットルのヘキサンお
よび8リットルのヘキサン/酢酸エチル9:1でそして
その後2リットルのヘキサン/酢酸エチル4:1および
2リットルのヘキサン/酢酸エチル7:3で溶離するこ
とにより、高真空(〜10Pa)中での40°における
1時間にわたる乾燥後に、118gの(3−メトキシフ
ェニル)ホスホン酸ジフェニルエステルが薄黄色の油状
で得られた。
のクロロ燐酸ジフェニルおよび200mlの乾燥テトラ
ヒドロフランをスタラー、温度計、不活性気体処理用の
頭部部品およびCO2/アセトン冷却浴が備えられてい
る1.5リットル4首フラスコ中に入れ、そして溶液を
−78°に冷却した。それに2時間以内にbaa)に従
い製造されたグリニヤール試薬の溶液を反応温度が−7
0°を越えないような方法で滴々添加した。添加の完了
後に、混合物を撹拌しながら室温に一夜暖めた。10リ
ットルの撹拌されている容器中で、少量の微細白色沈澱
を含有している反応混合物を2リットルの氷水、2リッ
トルの飽和NaHCO3溶液および1リットルのジエチ
ルエーテルの混合物中に注いだ。10分間にわたり激し
く内部混合した後に、水相を分離しそして有機相を1リ
ットルの飽和NaHCO3溶液、200mlの25%ア
ンモニア、100mlの25%アンモニアで連続して洗
浄し、そして500mlの飽和NaCl溶液で3回洗浄
した。MgSO4上で乾燥した後に、溶液を蒸発させ、
残渣を1リットルのジエチルエーテル中に加え、そして
溶液を0°で一夜放置した。それにより分離した白色固
体(12g)を濾過により除去し、そして廃棄した。濾
液を蒸発させ、高真空(〜10Pa)中で乾燥し、得ら
れた残渣(163gの黄色油)を300mlのヘキサン
/トルエン1:1中に加え、そして溶液を500gのシ
リカゲル上で濾過した。最初に3リットルのヘキサンお
よび8リットルのヘキサン/酢酸エチル9:1でそして
その後2リットルのヘキサン/酢酸エチル4:1および
2リットルのヘキサン/酢酸エチル7:3で溶離するこ
とにより、高真空(〜10Pa)中での40°における
1時間にわたる乾燥後に、118gの(3−メトキシフ
ェニル)ホスホン酸ジフェニルエステルが薄黄色の油状
で得られた。
【0062】db) 300mlの乾燥テトラヒドロフ
ランをスタラー、温度計、不活性気体処理用の頭部部
品、圧力均衡付き滴下漏斗およびCO2/アセトン冷却
浴が備えられている1.5リットルの4首フラスコ中に
入れた。それに70ml(0.412モル)の2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンを注射器により加え、そし
て溶液を−78°に冷却した。210ml(0.336
モル)のヘキサン中1.6Nブチルリチウム溶液を滴下
漏斗中に鋼カニューラを介して充填した。ブチルリチウ
ム溶液を反応容器中に約10分以内に滴下すると、それ
により温度が約−50°に上昇し、そして白色沈澱が生
成した。CO2/アセトン冷却浴を氷/エタノール浴と
交換し、そして反応混合物を約−15°において30分
間撹拌し、次に再び−78°に冷却した。
ランをスタラー、温度計、不活性気体処理用の頭部部
品、圧力均衡付き滴下漏斗およびCO2/アセトン冷却
浴が備えられている1.5リットルの4首フラスコ中に
入れた。それに70ml(0.412モル)の2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンを注射器により加え、そし
て溶液を−78°に冷却した。210ml(0.336
モル)のヘキサン中1.6Nブチルリチウム溶液を滴下
漏斗中に鋼カニューラを介して充填した。ブチルリチウ
ム溶液を反応容器中に約10分以内に滴下すると、それ
により温度が約−50°に上昇し、そして白色沈澱が生
成した。CO2/アセトン冷却浴を氷/エタノール浴と
交換し、そして反応混合物を約−15°において30分
間撹拌し、次に再び−78°に冷却した。
【0063】250mlの乾燥テトラヒドロフランおよ
び95.2g(0.280モル)の(3−メトキシフェニ
ル)ホスホン酸ジフェニルエステル(dabからの物
質)をアルゴン下で別の1リットル丸底フラスコ中に入
れ、そして溶液を−78°に冷却した。この溶液を次に
鋼カニューラを介して約10分間以内に上記の反応混合
物中に流入させると、それにより温度は約−78°に上
昇し、そして透明なカラメル色の溶液が生成した。これ
を−78°においてさらに30分間撹拌した。
び95.2g(0.280モル)の(3−メトキシフェニ
ル)ホスホン酸ジフェニルエステル(dabからの物
質)をアルゴン下で別の1リットル丸底フラスコ中に入
れ、そして溶液を−78°に冷却した。この溶液を次に
鋼カニューラを介して約10分間以内に上記の反応混合
物中に流入させると、それにより温度は約−78°に上
昇し、そして透明なカラメル色の溶液が生成した。これ
を−78°においてさらに30分間撹拌した。
【0064】71.06g(0.280モル)のヨウ素の
150mlの乾燥テトラヒドロフラン中溶液をアルゴン
下で別の250mlのシュレンク管中で製造し、そして
溶液を鋼カニューラを介して反応装置の滴下漏斗中に移
した。反応混合物を次に15分以内にヨウ素溶液の急速
な滴々添加により滴定すると、それにより反応温度が約
−65°に上昇した。約170mlのヨウ素溶液のうち
の約145mlの滴々添加後に、反応混合物の赤色着色
が残っている時に、添加を中断しそして混合物を0°に
自然に暖めた。次に、反応混合物を150mlの100
gのチオ硫酸ナトリウム五水塩の200mlの脱塩水中
溶液で処理し、激しく撹拌し、そして次に100mlの
飽和NaHCO3溶液で処理した。生成した沈澱を除去
するために二相系を濾過し、そして相を分離した。水相
を250mlの酢酸エチルで1回再抽出し、そして一緒
にした有機相を250mlの飽和NaCl溶液で洗浄
し、MgSO4上で乾燥し、そして蒸発させた。残渣を
再び500mlの酢酸エチル中に加え、溶液を250m
lの脱塩水および250mlの飽和NaCl溶液で3回
洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮し
た。残渣(118gの黄色油)を170mlのトルエン
中に加え、そして溶液を115mlのヘキサンで処理す
ると、それにより白色沈澱が分離した。これを濾過によ
り除去し、そして濾液を450gのシリカゲルのカラム
に適用した。副生物を最初に2リットルのヘキサン/酢
酸エチル9:1および3リットルのヘキサン/酢酸エチ
ル8:2を用いて溶離した。次に、最終生成物を含有し
ている留分を2リットルのヘキサン/酢酸エチル7:3
を用いて溶離した。蒸発および高真空(〜10Pa)中
での60°における1時間にわたる乾燥後に、76.5
gの橙色の油が得られた。
150mlの乾燥テトラヒドロフラン中溶液をアルゴン
下で別の250mlのシュレンク管中で製造し、そして
溶液を鋼カニューラを介して反応装置の滴下漏斗中に移
した。反応混合物を次に15分以内にヨウ素溶液の急速
な滴々添加により滴定すると、それにより反応温度が約
−65°に上昇した。約170mlのヨウ素溶液のうち
の約145mlの滴々添加後に、反応混合物の赤色着色
が残っている時に、添加を中断しそして混合物を0°に
自然に暖めた。次に、反応混合物を150mlの100
gのチオ硫酸ナトリウム五水塩の200mlの脱塩水中
溶液で処理し、激しく撹拌し、そして次に100mlの
飽和NaHCO3溶液で処理した。生成した沈澱を除去
するために二相系を濾過し、そして相を分離した。水相
を250mlの酢酸エチルで1回再抽出し、そして一緒
にした有機相を250mlの飽和NaCl溶液で洗浄
し、MgSO4上で乾燥し、そして蒸発させた。残渣を
再び500mlの酢酸エチル中に加え、溶液を250m
lの脱塩水および250mlの飽和NaCl溶液で3回
洗浄し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、そして濃縮し
た。残渣(118gの黄色油)を170mlのトルエン
中に加え、そして溶液を115mlのヘキサンで処理す
ると、それにより白色沈澱が分離した。これを濾過によ
り除去し、そして濾液を450gのシリカゲルのカラム
に適用した。副生物を最初に2リットルのヘキサン/酢
酸エチル9:1および3リットルのヘキサン/酢酸エチ
ル8:2を用いて溶離した。次に、最終生成物を含有し
ている留分を2リットルのヘキサン/酢酸エチル7:3
を用いて溶離した。蒸発および高真空(〜10Pa)中
での60°における1時間にわたる乾燥後に、76.5
gの橙色の油が得られた。
【0065】1H−NMR分析によると、これは75モ
ル%の(2−アイオド−3−メトキシフェニル)ホスホ
ン酸ジフェニルエステルを含んでいた。
ル%の(2−アイオド−3−メトキシフェニル)ホスホ
ン酸ジフェニルエステルを含んでいた。
【0066】前記と同様な方法で他の配位子を製造する
ことができた。
ことができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 43/303 8619−4H C07F 9/50 7537−4H // C07B 53/00 B 7419−4H 61/00 300
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、 不斉中心はそれぞれ(R)−または(S)−立体配置を有す
ることができ、 Rは式 【化2】 の残基を表し、 R1は低級アルキルを表すか、または2個のR1は一緒に
なってエチレンもしくはプロピレンを表し、そしてnは
数0、1または2を示す]のイソプレン誘導体類を製造
する方法において、(E)−または(Z)−形で存在する一
般式 【化3】 [式中、 R、nおよび場合により存在していてもよい不斉中心は
上記の意味を有する]の化合物を光学的活性アトロプ異
性ジホスフィンのルテニウム錯体を用いて不斉水素化す
ることからなる方法。 - 【請求項2】 アトロプ異性ジホスフィンのルテニウム
錯体が一般式: 【化4】 [式中、 ZはBF4 -、ClO4 -、B(フェニル)4 -またはPF6 -を
表し、 Z1はハロゲンまたは基Y−COO-またはY−SO3 -を
意味し、 Yは低級アルキル、フェニル、ハロゲン化された低級ア
ルキルまたはハロゲン化されたフェニルを意味し、 Z2はハロゲンを表し、 Xはベンゼン、ヘキサメチルベンゼンまたはp−シメン
を表し、そしてmは数1または2を表し、 Z3はハロゲン、BF4 -、ClO4 -またはB(フェニル)4
-を意味し、そしてLは光学的活性アトロプ異性ジホス
フィン配位子を意味する]の化合物である請求項1に記
載の方法。 - 【請求項3】 アトロプ異性ジホスフィン配位子が(R)
−または(S)−形で存在する一般式 【化5】 [式中、 R2およびR3はそれぞれ独立して低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ヒドロキシ、または保護されたヒドロキシを
意味するか、あるいはR2およびR3は一緒になって−O
−CH2−O−CH2−O−を意味し、 R4は低級アルキルまたは低級アルコキシを示し、そし
てpは数0、1または2を示し、そしてR5およびR6は
それぞれ独立してアリール、5員のヘテロ芳香族基を意
味するか、あるいは燐原子と一緒になって式 【化6】 の基を意味する]の化合物である請求項1または2に記
載の方法。 - 【請求項4】 一般式IIIの化合物をルテニウム錯体と
して使用する請求項2または3に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH01270/92-0 | 1992-04-16 | ||
| CH127092 | 1992-04-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625035A true JPH0625035A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3310381B2 JP3310381B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=4206480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10983393A Expired - Fee Related JP3310381B2 (ja) | 1992-04-16 | 1993-04-14 | イソプレン誘導体の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5600015A (ja) |
| EP (1) | EP0565975B1 (ja) |
| JP (1) | JP3310381B2 (ja) |
| AT (1) | ATE142191T1 (ja) |
| DE (1) | DE59303616D1 (ja) |
| DK (1) | DK0565975T3 (ja) |
| ES (1) | ES2091509T3 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003509513A (ja) * | 1999-09-20 | 2003-03-11 | ザ ペン ステイト リサーチ ファンデーション | キラルホスフィン、その遷移金属錯体および不斉反応でのその使用 |
| JP2008524288A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-10 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | キラルイリジウム錯体を使用するアルケンの不斉水素化 |
| JP2016501269A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-01-18 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | ケタールおよびアセタールの不斉水素化の方法 |
| JP2016505571A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-02-25 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 添加剤を用いた効率的な不飽和ケトンの不斉水素化方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3214466B2 (ja) * | 1998-04-07 | 2001-10-02 | 日本電気株式会社 | 移動通信システム及びその通信制御方法並びにそれに用いる基地局及び移動局 |
| DE10056310A1 (de) * | 2000-11-14 | 2002-05-16 | Bayer Ag | Verbessertes Verfahren zur Herstellung von enantiomerenreinen(5,5`-Dichlor-6,6`-dimethoxybiphenyl-2,2`-diyl)-bis-(diphenylphosphinoxiden) |
| US7094725B2 (en) | 2003-07-11 | 2006-08-22 | The Hong Kong Polytechnic University | Biphenyldiphosphine compounds |
| CN104854068A (zh) * | 2012-12-18 | 2015-08-19 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 由(r)-6,10-14-三甲基十五碳-5-烯-2-酮制备的(6r,10r)-6,10,14-三甲基十五烷-2-酮 |
| US9611200B2 (en) | 2012-12-18 | 2017-04-04 | Dsm Ip Assets B.V. | (6R,10R)-6,10,14-trimetylpentadecan-2-one prepared from 6,10,14 trimetylpentadeca-5,9,13-trien-2-one or 6,10,14-trimetylpentadeca-5,9-dien-2-one |
| EA028852B1 (ru) * | 2012-12-18 | 2018-01-31 | ДСМ АйПи АССЕТС Б.В. | (6r,10r)-6,10,14-триметилпентадекан-2-он, получаемый из 6,10-диметилундец-5-ен-2-она или 6,10-диметилундека-5,9-диен-2-она |
| EP2935190B1 (en) * | 2012-12-18 | 2018-09-19 | DSM IP Assets B.V. | (6r,10r)-6,10,14-trimetylpentadecan-2-one prepared from 6,10-dimetylundeca-3,5,9-trien-2-one |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3006867C2 (de) * | 1980-02-23 | 1981-11-12 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von höheren gesättigten Ketonen |
| DE3018388A1 (de) * | 1980-05-14 | 1981-11-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von optisch aktiven verbindungen und deren verwendung zur herstellung von vitamin e |
| DE3781749T3 (de) * | 1986-08-27 | 1997-02-06 | Takasago Perfumery Co Ltd | Herstellungsverfahren von optisch aktiven Alkoholen. |
| DE3879551T2 (de) * | 1987-06-16 | 1993-07-08 | Hoffmann La Roche | Hydrogenationsverfahren. |
| EP0397042B1 (de) * | 1989-05-10 | 1995-08-16 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Herstellung von Isochinolinderivaten |
| EP0398132B1 (de) * | 1989-05-18 | 1995-09-20 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Phosphorverbindungen |
| JPH0753680B2 (ja) * | 1989-07-17 | 1995-06-07 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性ケトンの製造法 |
| DK0530336T3 (da) * | 1991-03-15 | 1996-05-20 | Hoffmann La Roche | Chirale phosphiner |
-
1993
- 1993-04-03 ES ES93105548T patent/ES2091509T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-03 EP EP19930105548 patent/EP0565975B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-03 AT AT93105548T patent/ATE142191T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-04-03 DE DE59303616T patent/DE59303616D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-03 DK DK93105548T patent/DK0565975T3/da not_active Application Discontinuation
- 1993-04-14 JP JP10983393A patent/JP3310381B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-05-19 US US08/445,068 patent/US5600015A/en not_active Expired - Fee Related
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| JP2003509513A (ja) * | 1999-09-20 | 2003-03-11 | ザ ペン ステイト リサーチ ファンデーション | キラルホスフィン、その遷移金属錯体および不斉反応でのその使用 |
| JP4947866B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2012-06-06 | ザ ペン ステイト リサーチ ファンデーション | キラルホスフィン、その遷移金属錯体および不斉反応でのその使用 |
| JP2008524288A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-10 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | キラルイリジウム錯体を使用するアルケンの不斉水素化 |
| JP2016501269A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-01-18 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | ケタールおよびアセタールの不斉水素化の方法 |
| JP2016505571A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-02-25 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 添加剤を用いた効率的な不飽和ケトンの不斉水素化方法 |
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| EP0565975A3 (de) | 1993-11-03 |
| EP0565975A2 (de) | 1993-10-20 |
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| EP0565975B1 (de) | 1996-09-04 |
| JP3310381B2 (ja) | 2002-08-05 |
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