JPH05507503A

JPH05507503A - キラルなホスフイン

Info

Publication number: JPH05507503A
Application number: JP92505915A
Authority: JP
Inventors: フオリシエ，ジヨセフ; ハイザー，ベルント; シユミツト，ルドルフ
Original assignee: エフ・ホフマン―ラ　ロシユ　アーゲー
Priority date: 1991-03-15
Filing date: 1992-03-12
Publication date: 1993-10-28
Anticipated expiration: 2016-09-04
Also published as: EP0530335A1; EP0530335B1; DE59206900D1; DK0530335T3; US5302738A; JP3204668B2; WO1992016535A1; ATE141278T1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】キラルなホスフィン本発明は、一般式式中、Ｒは低級アルキル、低級アルコキシまたは保護されたヒドロキシであり、Ｒ＋は低級アルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、塩素または臭素であり、Ｒ２は低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてｎは０．１または２である、の新規なラセミ体の及び光学的に活性なリン化合物に関する。

本発明は、また、式Ｉのリン化合物の製造に関する。

用語「低級アルキル」は、本発明の範囲において、１〜４個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチルおよびｔ−ブチルを意味する。用語「低級アルコキシ」は、アルキル残基が上の意味を有する基を意味する。用語「フェノキシ」および「ベンジルオキシ」は、本発明の範囲において、フェニル残基が置換されていないばかりでなく、かつまたメタ−またはバラ−位置において置換されているか、あるいは多置換されていてもよい置換基を意味する。低級アルキル基、好ましくはメチル基は、ことにここで置換基として考えられる。ヒドロキシ基の保護基として、本発明の範囲において、ことに通常のエーテル形成基、例えば、ベンジル、アリル、ベンジルオキシカルボニル、低級アルコキシメチル、２ −メトキシエトキシメチルなどが考えられる。

式■のリン化合物は、ラセミ体の形態でばかりでなく、かつまた光学的に活性な形態で存在することができる。Ｒが低級アルキルである式■の組成物のうちで、光学的に活性な化合物は好ましい。

そのうえ、式Ｉの好ましい化合物は、ｎがＯであり、Ｒ１がフェノキシ、エトキシまたは塩素であり、そしてＲがメトキシ、メトキシメチルまたはメチル、ことにメトキシである化合物である。

弐Ｉのことに好ましい化合物は、次の通りである：（ＲＳ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２”　−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（Ｒ）−または（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛− ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（Ｒ３）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２°−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、（Ｒ）−または（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、（Ｒ５）−［６，６’−ビス（ジメトキシメトキシ）ビフェニル−２゜２゛　−ジイル〕ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（Ｒ）−または（Ｓ）−［６，６°−ビス（ジメトキシメトキシ）ビフェニル−２，２′　−ジイル］ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（Ｒ３）　−（６，６°−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（Ｒ）−または（Ｓ）　−（６，６’−ジメチルビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）、（ＲＳ）　−（６，６’−ジメチルビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、（Ｒ）−または（Ｓ）　−（６，６°−ジメチルビフェニル−２，２゜〜ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、（Ｒ３）−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２′　−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）、（Ｒ）−または（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）。

本発明による式Ｉの化合物は、例えば、式式中、Ｒ，Ｒ”およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ３は低級アルコキシ、フェノキシまたはベンジルオキシである、の化合物をウルマンカップリング（Ｕｌｌ■ａｎｎ　ｃｏｕｐｌｉｎｇ）に付し、必要に応じて、こうして得られる（Ｒ３）型で存在する式式中、Ｒ，Ｒ”、Ｒ３およびｎは上記の意味を有する、の化合物を、ジベンゾイル酒石酸またはジ−ｐ−トルイル酒石酸を使用して、（Ｒ）型および（Ｓ）型に分割しそして、必要に応じて、式ＩＩＩのラセミ体のまたは光学的に活性なリン化合物の中のＲ３により表される低級アルコキシ基を塩素または臭素で置換するすることによって、調製することができる。

式（Ｉ　Ｉ）の化合物を（Ｒ３）型で存在する式ＩＩＩの化合物に転化することは、本発明に従いウルマンカップリｌグにより実施する。これはそれ自体知られておりかつこれに通常のウルマンのカップリングにより実施することができる反応である。こうして、この反応は式ＩＩの化合物を不活性有機溶媒、例えば、Ｎ、　Ｎ−ジメチルホルムアミド中で、例えば、ヨウ素で活性化した銅粉末とともに約り１０℃〜約２００℃の温度に加熱することによって実施することができる。必要に応じて、反応は、また、溶媒の不存在下に、すなわち、溶融物中で実施することができる。

出発物質として使用する一般式■ｌの化合物は新規でありそして、また、本発明の目的である。Ｒが低級アルキルと異なるとき、それらは、例えば、一般式式中、Ｒ２、Ｒ３およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ４は低級アルコキシまたは保護されたヒドロキシである、の化合物をオルト−リチウム化／ヨウ素化反応にかけることによって製造することができる。

式Ｉｖの化合物のオルト−リチウム化はそれ自体知られている方法で実施することができる。例えば、この反応はは式ＩＶの化合物をリチウムアミド、例えば、リチウムジイソプロピルアミドまたはリチウム２゜２、　６．　６−チトラメチルビベリジンと、テトラヒドロフラン中で０℃以下、好ましくは約−５０℃〜約 −７８℃の温度において、反応させることによって実施することができる。引き続くヨウ素化は便利には分子状ヨウ素、ＩＣＩまたはＩＢｒを使用して、同様にテトラヒドロフラン中で同様に一５０℃以下の温度において実施することができる。

Ｒが低級アルキルである式ＩＩの出発物質は、例えば、式式中、Ｒ２、Ｒ３およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ４は低級アルキルである、の化合物から出発して製造することができる。

これは、便利には、ニトロ基のアミノ基への一般に知られている還元により、例えば、触媒、例えば、Ｐｄ／Ｃの存在下に水素により還元し、引き続いてそれ自体知られている方法によりジアゾ化／ヨウ素化することによって実施する。

出発物質として使用する式ＩＶおよび■の化合物は、既知の化合物であるか、あるいはそれ自体知られている方法により容易に調製することができる既知の化合物に類似する：化合物ＩＶ、例えば、Ｊ、Ｊ、モナグル（Ｍｏｎａｇｌｅ）ｅｔ　ａｌ、、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、）　、３２，２４７７　（１９６７）に従う、および化合物Ｖ、例えば、Ｋ、Ｓ、ペトラキス（Ｐｅｔｒｋｉｓ）ｅｔ　ａｌ、、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ−（Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）　、１９８７．１０９．２８３１に従う。

（ＲＳ）型で存在するＩＩＩの化合物の（−）−または（＋）　−０゜０゛　− ジベンゾイル酒石酸（Ｄ　Ｂ　Ｔ）または（−）−または（＋）　−０゜０゛− ジ−ｐ−トルイル酒石酸（ＤＴＴ）によるラセミ体の分割は、ホスフィンオキシトのラセミ体の分割に類似する方法で実施することができるが、これは実際には技術水準に関すると予期せざることであった。

これは便利には不活性有機溶媒中で約り℃〜約６０℃の温度において実施される。溶媒として、ここでことにクロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、アセトン、アルコール、例えば、メタノールまたはエタノールなど、ならびにそれらの混合物を述べることのできる。

式ＩＩＩの化合物と（−）−または（＋）−ＤＢＴまたはＤＴＴとのこうして得られた付加物は、引き続いて、無機塩基でホスフィンオキシトの付加物に類似する方法で処理することができ、これによりそれぞれの（Ｒ）または（Ｓ）型が遊離する。

Ｒ３が式ＩＩＩのラセミ体のまたは光学的に活性なリン化合物において低級アルコキシであるとき、これは塩素または臭素で置換することができる。この置換はそれ自体知られている方法で、例えば、塩化チオニル、臭化チオニルまたは五酸化リンとの反応により不活性有機溶媒中で実施することができる。

あるいは、Ｒが低級アルキルである式ＩＩＩの化合物は、式式中、Ｒ２およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ゛は低級アルキルである、から出発して得ることができる。

これは簡単なかつそれ自体知られている方法において、例えば、式Ｖ■の化合物を式式中、Ｒ３は上記の意味を有する、の化合物と、第三アミン、例えば、トリエチルアミンおよび触媒、例えば、Ｐｄ　（Ｐ−（フェニル）３）４の存在下にまたは触媒、例えば、Ｐｄｅｌ、またはＮｉＣ１□の存在下に反応させることによって実施することができる。

式ｌの化合物、ことに光学的に活性な形態は、既知であるばかりでなく、かつまた新規なジホスフィン配位子の調製における価値ある中間体である。さらに、これらは遷移金属、ことにＶＩＩＩ族の金属、例えば、ルテニウム、ロジウムまたはイリジウム、これらは、なかでも、非対称水素化において触媒として働く、との錯塩の価値ある構築ブリックである。

式■の化合物は述べたジホスフィン配位子の中に容易に転化することができる。

この場合において、Ｒ１が低級アルコキシである式Ｉの化合物を使用するとき、低級アルコキシは好ましくはまず塩素または臭素で置換することを考慮しなくてはならない。

この転化は、便利には、式％式％式中、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素である、のアリール−またはヘテロアリール−グリニヤール化合物またはリチウム化合物との反応により実施し、ここで式中中、ＲＳＲ”およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ５は、例えば、フェニル、置換フェニルまたはα−フリルである、の化合物が得られ、引き続いてこれを還元して、式中中、Ｒ，Ｒ”、ｎおよびＲ５は上記の意味を有する、のジホスフィン配位子にする。

ことに置換基Ｒ５の意味に依存して、式ＶＩＩＩの化合物は既知であるか、あるいは新規なジホスフィン配位子である。

式■の化合物とＲ’ＭｇＸまたはＲ’Ｌ　ｉとの反応はそれ自体知られている方法で実施することができる。好ましくは、これは、例えば、グリニヤール反応の条件下に実施する。好ましくは、Ｒ１がフェノキンである式■の化合物を式Ｒ５ＭｇＸの化合物と反応させ、モしてＲ１が塩素または臭素である化合物を式Ｒ’ −ＬｉまたはＲ’ＭｇＸの化合物と反応させる。

式Ｖ［ｉのラセミ体化合物または（Ｒ）または（Ｓ）型で存在する化合物の還元は、それ自体知られている方法で実施することができる。これは、例えば、シラン、例えば、トリクロロシランで芳香族炭化水素、例えば、沸騰するキシレンまたはアセトニトリルなどの中で、便利には補助塩基、例えば、トリエチルアミンまたは好ましくはトリブチルアミンの存在下に実施することができる。必要に応じて、この還元は圧力下にオートクレーブ中で実施することができる。

Ｒが低級アルキルである式ＩＩＩの化合物に関して、一般に、式ＶＩＩまたはＶＩＩＩの引き続く化合物の段階においてラセミ体の分割を実施することが好ましい。しかしながら、またこの場合において、ラセミ体の分割はそれ自体知られている方法、例えば、Ｓ、オーツカ（Ｏｔｓｕｋａ）ｅｔ　ａ＋、　、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ−（Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）　、１９７１．９３．４３０１に記載されている方法に従い実施することができる。

すべての前述の反応−ラセミ体の分割を除外するーは、便利には、不活性ガス、例えば、アルゴンまたは窒素の雰囲気下に実施する。

式■の化合物の製造および使用に類似して、次の式中中、Ｒ１は上記の意味を有する、のビナフチル型の化合物は、同様に製造しそして使用することができる。

ビナフチル環は通常の方法で置換することができる。

次の実施例によって、本発明をさらに説明する。これらの実施例は本発明を限定するものではない。これらの実施例において、選択した略号は次の意味を有する。

ＴＬＣ：薄層クロマトグラフィーＤＢＴ：Ｏ，ｏ’　−ジベンゾイル酒石酸すべての温度はセ氏である。

実施例１ａ）７６．５ｇ　（０，１２２モル）の（２−ヨード−３−メトキシフェニル）ホスホン酸ジフェニルエステル（７５％の純度）および２５．０ｇ　（０，３９３モル）の活性化銅粉末を、アルゴン雰囲気下に、凝縮器、温度計および不活性ガスの処理のためのへッドビースを装備した１リツトルの４首スルホン化フラスコの中に入れ、そして２００ｍ１のＮ、　Ｎ−ジメチルホルムアミドを流入させた。暗褐色懸濁液を１４０℃（油浴温度）に１時間加熱した後、ＴＬＣ分析に従うと完全な転化が起こった。

冷却した反応混合物を丸底フラスコの中に塩化メチレンで移し、そして７０℃で回転蒸発器により蒸発乾固した。残留物を２００ｍ１の塩化メチレンで処理し、この混合物をよく撹拌し、濾過し、そして濾過残留物を１００ｍ、Ｉの塩化メチレンで洗浄した。濾液を１００ｍ１の飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液で３回洗浄し、これにより少量の形成した固体を最初の洗浄操作で濾過し、引き続いて硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして濃縮した。高真空（約１０Ｐａ）下に８０℃で２時間乾燥した後、５９゜６ｇの粗製の（Ｒ３）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）が得られた。

ｂａ）５０ｍｌのジクロロメタン中のａ）に従い得られた５９．　６ｇの粗製のジフェニルエステルの溶液を１リツトルの丸底フラスコの中に入れ、そして１００ｍ１の酢酸エチル中の３５．８ｇ　（０，１０モル）の（−）　−０，０’　 −ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸で処理した。次いでこの溶液を回転蒸発器で６００ミリバールにおいて蒸発させ、これによりＣＨ２Ｃｌ２を蒸留除去し、そして白色固体が分離した。これを吸引濾過し、２０ｍ１の酢酸エチルおよび２０ｍ１のへキサンで３回洗浄し、そして高真空（約１０Ｐａ）下に乾燥した。２１．８ｇの（Ｒ）−ジフェニルエステル／　（−）−ＤＢＴ付加物が白色粉末として得られた。［α］ｏ”−−９５，６（ｃ＝１、エタノール中）。

母液および洗浄溶液を１つの側に配置して、他方の対車体を得た。

ｂｂ）機械的撹拌機を有する１リツトルのエルシンマイヤーフラスコ中で、ｂａ）に従い得られた物質を１００ｍ１のジクロロメタン、５０ｍ１の飽和Ｎ　ａ　ＨＣＯ、溶液および５０ｍ１の蒸留水で、固体のすべてが溶解するまで（３０分）、粉砕した。相を分離し、そして有機相をＩＱＱｍｌの半飽和ＮａＨＣ○３溶液で２回、５０ｍ１の蒸留水および５０ｍ１の飽和ＮａＣＩ溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。油状残留物を２０ｍ１のｔ −ブチルメチルエステルで処理し、これにより結晶化が開始した。蒸発および高真空（約１０Ｐａ）下に６０℃で１時間乾燥後、１３．８ｇの（Ｒ）　−（６，６゜−ジメチルビフェニルー２，２°−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）が白色結晶として得られた。融点１２５−１２５．５℃。

［α］　Ｄ”−１８，９（ｃ＝１、ＣＨＣｌ、中）。

ｃａ）ｌリットルの丸底フラスコ中でｂａ）からの母液および洗浄溶液を蒸発させた。残留物を１００ｍ１のジクロロメタンの中に取り、そしてこの溶液を５０ｍ１の飽和ＮａＨＣ○３溶液および５０ｍ１の脱イオン水と共に３０分間粉砕した。相を分離し、そして有機相をｌＱＱｍｌの半飽和ＮａＨＣＯ，溶液、５０ｍ１の脱イオン水および５０ｍ１の飽和ＮａＣｉ溶液で洗浄し、Ｍｇ５Ｏ，上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。得られた褐色油状物を５０ｍ１のジクロロメタン中に取り、そしてこの溶液を１００ｍ１の酢酸エチル中の１８．０ｇ　（０，０５０モル）のｏ、　ｏ’　−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸の溶液で処理した。次いでこの溶液を回転蒸発器で６００ミリバールにおいて濃縮し、これによりＣＨ，ＣＩ２を留去し、そして白色固体が分離した。これを吸引濾過し、２０ｍ１の酢酸エチルおよび２０ｍ１のヘキサンで３回洗浄し、そして高真空（約１０Ｐａ）下に乾燥した。２２ｇの（Ｓ）−ジフェニルエステル／　（＋）−ＤＢＴ付加物が淡黄色粉末として得られた。［α］　Ｄ２６”＋９６　（ｃ＝１、エタノール中）。

ｃｂ）ｃａ）に従い得られた物質をｂｂ）に記載するように処理した。

１３．９ｇの（Ｓ）　−（６，６’　−ジメトキシビフェニル−２，２’　−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）が白色結晶として得られた。融点１．２４−１２５℃：　［α］　Ｄ”＝＋１８．７　（ｃ＝１、ＣＨＣｈ中）。

ｄ）出発物質として使用した（２−ヨード−３−メトキシフェニル）ホスホン酸ジフェニルエステルは次のようにして製造した：ｄａａ）５０ｍｌの乾燥テトラヒドロフラン中の１３．　０ｇ　（０，５３５モル）のマグネシウム削り片の懸濁液を、アルゴン雰囲気下に５撹拌機、凝縮器、温度計および不活性ガス処理のためのへッドビースを装備した０、５リツトルの４つ首フラスコの中に入れた。

次いで２００ｍ１の乾燥テトラヒドロフラン中の９３．５ｇ　（０，５０モル）の３−ブロモアニソールの溶液を９０分以内に、反応温度が３５℃を越えないような方法で、滴々添加した。添加後、この混合物を追加の１５０ｍ１の乾燥テトラヒドロフランで希釈して、グリニヤール試薬の沈澱を防止した。

ｄａｂ）２５９．８ｇ　（０，９６７モル）のジフェニルクロロホスフェートおよび２００ｍ１の乾燥テトラヒドロフランを、撹拌機、凝縮器、温度計および不活性ガス処理のためのへッドビースおよびＣＯ２／アセトンの冷却浴を装備した領　５リツトルの４つ首フラスコの中に入れ、そしてこの溶液を一７８℃に冷却した。ここでこれにｂａａ）に従い調製したグリニヤール試薬の溶液を、反応温度が一７０℃を越えないような方法で、滴々添加した。添加の完結後、この混合物を撹拌しながら室温に一夜加温させた。反応混合物は、多少の微細な白色沈澱を含有し、１０リツトルの撹拌容器内で２リツトルの氷水、２リツトルの飽和ＮａＨＣＯ３溶液および１リツトルのジエチルエーテルの混合物の中に注いだ。１０分間激しく撹拌した後、水性相を分離し、そして有機相を順次に１リツトルの飽和Ｎ　ａ　ＨＣＯ３溶液、２００ｍ１の２５％のアンモニアで洗浄しそして５００ｍ１の飽和ＮａＣＩ溶液で３回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、この溶液を蒸発させ、残留物を１リツトルのジエチルエーテル中に取り、そしてこの溶液を０℃に一夜放置した。

これにより分離した白色固体（１２ｇ）を濾過により除去し、そして廃棄した。

濾液を蒸発させ、高真空（約１０Ｐａ）下に乾燥し、得られた残留物（１６３ｇの黄色性）を３００ｍ１のへキサン／トルエン１：１中に取り、そしてこの溶液を５００ｇのシリカゲルで濾過した。まず３リツトルのへキサンおよび８リツトルのヘキサン／酢酸エチル９：１で溶離し、その後２リットルのヘキサン／酢酸エチル４：１４：１および２リツトルのヘキサン／酢酸エチル７：３で洗浄することによって、高真空（約１０Ｐａ）下に４０℃で乾燥後、１１８ｇのわずかに黄色がかった油として（３−メトキシフェニル）ホスホン酸ジフェニルエステルが得られた。

ｄｂ）撹拌機、温度計、不活性ガス処理のためのへッドビース、圧力バランスをもつ滴下漏斗およびＣｏｔ／アセトン冷却浴を装備した、１゜５リツトルの４つ首フラスコの中に、３００ｍ１の乾燥テトラヒドロフランを入れた。７０ｍ１　（０，４１２モル）の２．２．　６．　６−チトラメチルピベリジンを注射器を使用してそれに添加し、そしてこの溶液を一７８℃に冷却した。２１０ｍ１　（０，３３６モル）のヘキサン中の１゜６Ｎのブチルリチウム溶液を鋼のカニユーレを経て滴下漏斗の中に充填した。ブチルリチウム溶液を反応器の中に約１０分以内に滴下して入れ、これにより温度は約−５０℃に上昇し、そして白色沈澱が形成した。Ｃ０、／アセトン冷却浴を氷／エタノール浴と置換し、そして反応混合物を約−１５℃にさらに３０分間撹拌し、次いで再び一７８℃に加熱した。

２５０ｍ１の乾燥テトラヒドロフランおよび９５．　２ｇ　（０，２８０モル）の（３−メトキシフェニル）ホスホン酸ジフェニルエステル（ｄａｂからの物質）をアルゴン雰囲気下に別の１リツトルの丸底フラスコの中に入れ、そしてこの溶液を一７８℃に冷却する。ここでこの溶液を鋼のカニユーレを経て上の反応混合物の中に約１０分以内に入れ、これにより温度は約−６８℃に上昇し、そして半透明のカラメル色の溶液が生じた。これは−７８℃でさらに３０分間撹拌した。

１５０ｍ１の乾燥テトラヒドロフラン中の７１．０６ｇ　（０，２８０モル）の溶液を別の２５０ｍ１のシュシンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）管の中でｔＩｌ製し、そしてこの溶液を鋼のカニユーレを経て反応装置の滴下漏斗の中に移した。ここで反応混合物を１５分以内にヨウ素溶液の急速滴々添加により滴定し、これにより反応温度は一６５℃に上昇した。約１７０ｍ１のヨウ素溶液のうちの約１４５ｍ１を添加した後、反応混合物の赤の着色が止まるとき、添加を中断し、そして反応混合物を放置して０℃に加温した。次いで、反応混合物を２００ｍ１の脱イオン水中の１００ｇのチオ硫酸ナトリウム５Ｈ，Ｏの溶液を１５０ｍ１で処理し、激しく撹拌し、引き続いて１００ｍ１の飽和Ｎ　ａ　ＨＣＯｓ溶液で処理した。

２相系を濾過して形成した沈澱を除去し、そして相を分離した。水性相を２５０ｍ１の酢酸エチルで再抽出し、そして−緒にした有機相を２５０ｍ１の飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発させた。残留物を５００ｍ１の酢酸エチル中に取り、そしてこの溶液を２５０ｍ１の脱イオン水で３回そして２５０ｍ１の飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして濃縮した。

残留物を５００ｍ１の酢酸エチル中に取り、そしてこの溶液を２５０ｍ１の脱イオン水で３回そして２５０ｍ１の飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過しそして濃縮した。残留物（１１８ｇの黄色相）を１７０ｍ１のトルエン中に取り、そしてこの溶液を１１５ｍ１のへキサンで処理し、これにより白色沈澱が分離した。これを濾過により除去し、そして濾液を４５０ｇのシリカゲルのカラムに適用した。

副生物をまず２リツトルのヘキサン／酢酸エチル９：１および３リツトルのヘキサン／酢酸エチル８：２で溶離した。引き続いて、最終生成物を含有する分画は２リツトルのヘキサン／酢酸エチル７：３で溶離した。

蒸発および高真空（約１０Ｐａ）下に６０℃で乾燥後、７６．５ｇのオレンジ色相が得られた。これはＩＨ−ＮＭＲ分析に従い７５モルにの（２−ヨード−３− メトキシフェニル）ホスホン酸ジフェニルエステルから実施例１に類似する方法で次の化合物を調製した：（Ｒ８）　−Ｌ　（６，６°−ジメトキシビフェニル −２，２゛　−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、融点１４５−１４６℃。

（Ｓ）〜（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、融点１２５−１２６℃：［α］　ｏ”＝−３３，３（ｃ＝Ｌ　ＣＨＣ１，中）。

（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステノの、融点Ｉ２５−１２６℃：［α］　ｏ”＝＋３２．７　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（２−ヨード−３−メトキシフェニル）ホスホン酸ジエチルエステル、融点９９ −１０１℃。

（Ｒ８）　−ｒ、６．　６“−ビス（ジメトキシメトキン）ビフェニル−２゜２゛　−ジイル］ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）。

（Ｒ）　−［６，６’−ビス（ジメトキシメトキシ）ビフェニル−２゜２°−ジイル］ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、融点１１９−１２０°Ｃ：　［α ］。”＝−２２（ｃ＝ｌ、ＣＨＣｌ　３中）。

（Ｓ）−［６，６’−ビス（ジメトキシメトキシ）ビフェニル−２゜２゛　−ジイル１ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、融点１１８−１１９℃；　［α］　ｏ２ｏ＝＋２０．　６　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

［２−ヨード−３−（メトキシメトキシ）フェニル］ホスホン酸ジエチルエステル。

実施例３２．４３ｇ（５，０モル）の（Ｒ３）　−（６，６’　−ジメトキシビフェニル −２，２°−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）（実施例２に従い調製した）　、３．６３ｍ１　（５，９３ｇ、５０ミリモル）の塩化チオニルおよび０．３８ｍ１の乾燥Ｎ、　Ｎ−ジメチルホルムアミドの溶液をアルゴン雰囲気下に３時間還流沸騰させた。過剰の塩化チオニルを引き続いて蒸留し、そして残留物を高真空（約１０Ｐａ）下に１００℃に１時間乾燥した。得られた粘性油をＣＨ２Ｃｌ２の中に取った。少量の不溶性物質を濾過した後、白色粉末を分離した。濾過し、エーテルで洗浄し、そして高真空（約１０Ｐａ）下に乾燥すると、１．６０ｇの（Ｒ３）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）が得られた、融点１９５−１９８℃。

上に類似する方法で次の化合物を調製した：（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）、融点１７２ −１７８℃：　〔α］　Ｄ２０．。

＋５１．３　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ５中）。

（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）、融点１７２−１７８℃：　［α］。２°＝−５０，２（ｃ＝１、ＣＨＣＩｊ中）。

実施例４実施例１ａに類似する方法で次の化合物を調製した：（Ｒ５）　−（６，６’− ジメチルビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）、黄色相として。

’Ｈ−ＮＭＲ；２５０　ＭＨｚ／ＣＤＣｌ５）ニア、８３　（ｄｄ、Ｊ＝７゜５．１４．５．　２芳香族のＨ）；７．４５−７．３０（ｍ、４芳香族のＨ）：４．０　３．６　（ｍ、２Ｐ　（ＯＣＨｚＣＨｌ）ｚ）；　１．９９（ｓ、２ＣＨｓ）：１．１４　（ｔ、Ｊ＝７．２Ｐ　（ＯＣＨ２ＣＣＨ２Ｃｌ２ＭＳ　（１９８，０３７）：　４５４　（７１，Ｍつ、３１７　（１００，Ｍ″″Ｆ　（０）　（ＯＥ　ｔ）　ｚ）。

出発物質として使用した（２−ヨード−３−メチルフェニル）ホスホン酸ジエチルエステルは次のようにして調製した：ａ）１５．５２ｇ　（５５ミリモル）のトリフルオロメタンスルホン酸無水物を、５０ｍ１のピリジン中の７．６６ｇ　（５０ミリモル）の３−メチル−２−二トロフェノールの溶液に一５℃において３０分以内に滴々添加した。反応混合物を一り℃〜室温において一夜撹拌し、エーテルで希釈し、そして氷水中に注いだ。有機相は分離し、ＩＮ塩酸、飽和ＮａＨｃＯｓおよび飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発した。残留物はヘキサン／エーテル１：１で濾過し、その後１２ｇのトリフルオロメタンスルホン酸（２−ニトロ−３−メチルフェニルエステル）が無色の結晶として得られた、融点２４−２６℃。

ｂ）１．４３ｇ　（５，０ミリモル）のトリフルオロメタンスルホン酸（２−ニトロ−３−メチルフェニルエステル）　、　０．　７６ｇ　（５，５ミリモル）のジエチルホスファイト、０．　７６ｇ　（７，５ミリモル）のトリエチルアミン、０．２０ｇ　（０，１７３ミリモル）のテトラキス（トリフェニル−ホスフィン）パラジウムおよび５ｍｌのトルエンの混合物を９０℃に４０時間加熱した。暗い黄色の溶液をエーテルおよびＨ２０処理し、相を分離し、そして有機相をＨ！０．２Ｎ塩酸、飽和ＮａＨＣＯ３溶液および飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。シリカゲルのクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル２５〜４０％）は、０．９０６ｇの２−二トロー３−メチルフェニルホスフィン酸ジエチルエステルが黄色液状として得られた。

Ｃ）５０ｍｌのエタノール中の３．６２ｇ　（１３，２５ミリモル）の２−二トロー３−メチルフェニルホスフィン酸ジエチルエステルを、２００ｍｇの５％Ｐｄ／Ｃの存在下に１気圧のＲ２下に水素化した。５時間後、この混合物を酢酸エチルで希釈し、少量のＳｔｏｗで濾過し、そして蒸発し、次いで３．３１ｇの（２−アミノ−３−メチルフェニル）ホスホン酸ジエチルエステルが赤味がかうた油として得られた。

ｄ）５ｍｌの［２０中の９１４ｍｇ　（１３，２５ミリモル）のＮａＮＯ２の溶液を、１２ｍ１の５０％Ｈ２Ｓ　ＯＡ中の３．　３１ｇ　（１３，２５ミリモル）の（２−アミノ−３−メチルフェニル）ホスホン酸ジエチルエステルの溶液に、０℃において２０分以内に滴々添加した。さらに１０分間撹拌した後、反応混合物を１０ｍ１のエーテルでカバーし、そして１２．５ｍｌのＨ，Ｏ中の３．３０ｇ　（１９，８８ミリモ／ｌ／）　（７）Ｋ　１の溶液を０〜５℃において滴々添加した。添加の完結後、この混合物を１０ｍ１のエーテルで処理し、モして２相系を０℃〜室温においてさらに２時間撹拌した。仕上げのために、この混合物を少量のＮ　ａ　２　Ｓ　ｚ　Ｏｓで、そしてエーテルおよびＨｔＯで処理し、相を分離し、そして有機相を２Ｎ塩酸、Ｈ，Ｏ，飽和ＮａＨＣＯ，溶液および飽和ＨＣＩ溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。シリカゲルのクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１：１）にかけ、次いで２０ｍ１のヘキサン／２ｍｌのエーテルから一１５℃において結晶化すると、３．４７ｇの（２−ヨード−３−メチルフェニル）ホスホン酸ジエチルエステルが白色結晶として得られた、融点５６−５８℃。

実施例５４．４０ｇ　（１０，１ミリモル）の（ＲＳ）　−２，２°　−ショート−６，６′−ジメチルビフェニル、７５ｍｇ　（０，４２ミリモル）のＰｄｅｌ、および４．０７ｇ　（２４，５ミリモル）のトリエチルホスファイトの混合物を１６０℃（浴温度）に撹拌しながら加熱した。形成した臭化エチルを蒸留ブリッジで弱いＮ、流の助けにより蒸留除去した。各場合において１時間の期間後、反応混合物をさらに各回３つの部分の４゜０７　（２４，５ミリモル）のトリエチルホスファイトで処理した。５時間後、過剰のトリエチルホスファイトを高真空（約１０Ｐａ）下に８０〜１００℃で蒸留した。残留する褐色相をシリカゲルのクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１：１、次いで酢酸エチル／ＥｔＯＨＯ％→１０％）にかけ、これにより１．８０ｇの（Ｒ３）　−（６，６’　−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）が得られた。分析試料をバルブチューブで約２２０℃（０，２ミリバール）において蒸留した。

ＩＲ（４１０４０９／１２０；ｆｉｌｍ）：１２４５　（Ｐ＝Ｏ）：１０５６．１０２６　（Ｐ−０）　、７８４　（１，２，３−３置換ベンゼン）。

’ＨＮＭＲ（３０３７４７；２５０　ＭＨ２／ＣＤＣ１３）ニア、８３　（ｄｄ、Ｊ＝７．５．　１４．５．　２芳香族のＨ）　；７．４５−７．３０　（ｍ、４芳香族のＨ）　；　４．０３　３．６　（ｍ、２Ｐ　（ＯＣＨｚＣＨｓ）ｚ）　；　１．９９　（Ｓ、２ＣＨｓ）：　１．１４　（ｔ、Ｊ＝７．２Ｐ　（ＯＣＨｚＣＨｓ）ｚ）。

ＭＳ（２４９４，３０）　コ４５４　（７０，Ｍ　つ　、３Ｉ７　（１００，Ｍ ”［Ｐ　（０）（ＯＥｔ）２］　）。

実施例６２０ｇ　（４６，０７ミリモル）の（Ｒ９）−２，２’　−ショート−６゜６゛ −ジメチルビフェニル、２３．７２ｇ　（１０１，３ミリモル）のジフェニルホスファイト、１２ｇ　（１１９ミリモル）のトリエチルアミンおよび２．６２ｇ　（２，２６ミリモル）のＰｄ（Ｐ−（フェニル）３）４をシュレンク管中で撹拌しながら１００℃に２０時間加熱した。その後、反応混合物を回転蒸発器で濃縮し、残留物をＣＨｚＣ１ｚ中に溶解し、そしてＮａＯＨ溶液で処理した。有機相を水で洗浄し、そして硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相の濃縮に得られた残留物をメタノールから再結晶化した。２１．１ｇの（Ｒ５）　−（６，６”　− ジメチルビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）が淡ベージュ色の粉末得られた。

ＩＲ（ＫＢｒ）＋１５９２．１４９０．１２７７．１２１４．１１８５．１１５７．９２６．７６４．７３３．６８７゜’ＨＮＭＲ；　（２５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ５）：８．１２−６．７４　（ｍ。

２６芳香族のＨ）　、１９８　（ｓ、２芳香族のＣＦ（３）。

ＭＳ　：　６４６　（０，３，Ｍ’）：　５５３　（１００，Ｍ”−ＯＣ，Ｈｓ）：　４１３（Ｍ“−Ｐ　（０）　（Ｏａ　Ｈｓ　）　ｚ。

実施例７ａ）６７８ｍｇ　（１０ミリモル）の（Ｒ）　−（６，６’　−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビ、ｂ（ホスホン酸ジフェニルエステル）（実施例１に従い調製した）を、１０ｍ１のテトラヒドロフラン中の１゜５７ｇ（１０ミリモル）のブロモベンゼンおよび２４３ｍｇ　（１０ミリモル）のマグネシウム削り片から調製したフェニルマグネシウムプロミドの中に室温において導入した。反応混合物を室温において３０分間撹拌し、引き続いて還流下に２時間沸騰させた。仕上げのために、この混合物を５０ｍ１の飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液および５０ｍ１の酢酸エチルで処理し、相を分離し、そして有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして濃縮した。残留物を少量のＣＨ２Ｃ１ｔ中に溶解し、そしてこの溶液を５０ｇのカラムに適用した。酢酸エチルで溶離し、次いでテトラヒドロフランで溶離すると、白色粉末が得られ、これをＣＨ２ＣＩ　２／　ｔ−ブチルメチルエーテルから結晶化した。

５１０ｍｇの（Ｒ）−（６，６’　−ジメトキシビフェニ／Ｌｚ−２，２’　− ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシト）。融点３３７℃（熱分析）；　［ａ］　ｏ”＝＋１２８．４　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

ｂ）凝縮器、温度計、滴下漏斗および機械的撹拌機を装備した０、５リツトルの４つ首フラスコに、アルゴン雰囲気下に、４．　５０ｇ　（６゜１２ミリモル）の（Ｒ）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシト）　、１０ｍ１　（４１゜９ミリモル）のトリブチルアミン、６０ｍ１のキシレン異性体混合物および４．０ｍｌ　（５，３７ｇ、３９．６ミリモル）のトリクロロキシレンを供給した。ミルク状白色混合物を還流下に４時間加熱し、これによりほとんど半透明の溶液が生じた。冷却後、１００ｍ１の脱酸素した３０％の水酸化ナトリウム溶液を撹拌しながら内部温度が７０℃を越えないような方法で添加し、そしてこの混合物を７０℃でさらに１時間撹拌した。Ｈ，ＯおよびＣＨ２Ｃｌ□の添加後、相を分離し、そして有機相を２Ｘ５０ｍｌの３０％の水酸化ナトリウム溶液、Ｒ２０および飽和ＮＨ。

Ｃ１溶液およびＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。得られた白色粉末（４，４０ｇ）をＣＨ，Ｃ１２中に溶解し、この溶液をエタノールで処理し、そしてＣＨ，Ｃ１，を回転蒸発器で蒸発させた。沈澱した固体を濾過し、エタノールおよびペンタンで洗浄し、そして高真空（約１０Ｐａ）下に１００℃で１時間乾燥した。３．９０ｇの（Ｒ）　−（６，６ ’　−ジメトキシビフェニル−２゜２゛−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィン）が白色結晶として得られた：融点２１４−２１５℃：［α］　ｏ”＝＋４２．４（ｃ＝１、ＣＨＣｌ。

中）。

類似する方法で次の化合物を調製した：（Ｓ）　−（６，６°−ジフトキンビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシト）、融点３３６．５℃（熱分析）：［αコ　ｏ”＝−１３０，４（ｃ＝１、　ＣＨＣｌ５中）　。

（Ｓ）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシト）、融点２１４−２１５℃：［α］　ｏ”＝−４１，、７（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（ＲＳ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２°−ジイル）ビス（ジー１）−トリルホスフィンオキシト）、融点３００℃（熱分析）。

（ＲＳ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛　−ジイル）ビス（ジー１）−）リルホスフィンオキシド）、融点２４７−２４９℃。

（Ｒ）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジ− ｐ−トリルホスフィンオキシト）、融点３１８℃；　［α］　ｏ２０＝＋１０３．５　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ジ− ｐ−トリルホスフィンオキシト）、融点３２１℃：　［α］。２Ｇ＝−１０５（ｃ＝１、ＣＨＣｌ５中）。

（Ｒ）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジ− ｐ−トリルホスフィンオキシト）、融点２０９−２１０℃：［αコ　ｏ”＝　＋３３．　２　（ｃ＝１、　ＣＨＣｉｓ中）。

（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ジーｐ−）リルホスフィンオキシド）、融点２０８−２０９°Ｃ：［α］　ｏ２０＝ −３２，５（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（ＲＳ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′　−ジイル）ビス［ビス（ｐ−メトキシフェニル）ホスフィンオキシト〕、融点２８２−２８３℃。

（Ｒ３）　−（６，６”−ジメトキシビフェニル−２，２′　−ジイル）ビス［ビス（ｐ−メトキンフェニル）ホスフインコ。

（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２°−ジイル）ビス〔ビス（ｐ−メトキシフェニル）ホスフィンオキジトコ、融点２１３−２１４℃、［α ］　ｔ＋”＝＋９２．　５　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（Ｓ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス［ビス（ｐ−メトキンフェニル）ホスフィンオキシト］、融点２０７−２０８℃；　［α ］　、２°＝−９３，６（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス［ビス（ｐ−メトキシフェニル）ホスフィン］、融点２２５−２２６℃；　Ｃαコ　ｏ ”＝＋　７．　５　（ｃ　＝　１、　ＣＨＣＪｓ中ン　。

（Ｓ）　−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス［ビス（ｐ−メトキシフェニル）ホスフィン］、融点２２５−２２６’Ｃ＋［α］　ｏ ”＝　７．３　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ５中）。

（Ｒ）−（６，６°−ジメトキシビフェニル−２，２°−ジイル）ビス（ジー４ −ビフェニルホスフィンオキシト）。

（Ｓ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ジー４−ビフェニルホスフィンオキシト）。

（Ｒ）−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジー４ −ビフェニルホスフィン）、［α］　ｏ２０＝＋３９　（ｃ＝１、Ｃ）ｆｃ１３中）。

（Ｓ）−（６，６’−ジフトキンビフェニル−２，２゛−ジイル）ビス（ジー４ −ビフェニルホスフィン）、［α］　０２°＝−３９，４（ｃ＝１、ＣＨＣｌ、中）。

ａ）１０ｍｌのテトラヒドロフラン中の１．５７ｇ　（１０，０ミリモル）のブロモベンゼンおよび０．２４３ｇ　（１０，０ミリモル）のから調製したフェニルマグネシウムプロミドの溶液を、−７８℃において、１００ｍ１のテトラヒドロフラン中の４４８ｍｇ　（１，０ミリモル）の（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２°−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）の溶液に滴々添加した。添加の完結後、冷却浴を除去し、そして反応混合物を室温に加温した。仕上げのために、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ溶液で処理し、有機相を分離し、飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。

残留物をＣＨ２Ｃｌ□中に取り、この溶液を酢酸エチルで処理し、そしてＣＨ，ＣＩ２を回転蒸発器で蒸発させた。濾過および乾燥すると、０．５０ｇの（Ｒ）　−（６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２゛　−ジイル）ビス（ジフェニルホスフィンオキシト）が白色粉末として得られた：［α］　ｏ”＝＝＋１２７．７　（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３中）。

要釣書式式中、Ｒは低級アルキル、低級アルコキシまたは保護されたヒドロキシであり、Ｒ１は低級アルコキシ、フェノキン、ベンジルオキシ、塩素また【よ臭素であり、Ｒ２は低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてｎは０，１または２である、の新規なラセミ体の及び光学的に活性なリン化合物を記載する。これらの化合物は、既知であるばかりでなく、かつまた新規なジホスフィン配位子の製造における価値ある中間体である。

国際調査報告

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼Ｉ式中、Ｒは低級アルキル、低級アルコキシまたは保護されたヒドロキシであり、Ｒ１は低級アルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、塩素または臭素であり、Ｒ２は低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてｎは０、１または２である、のラセミ体の及び光学的に活性なリン化合物。２、ｎは０である請求の範囲第１項記載のラセミ体の及び光学的に活性なリン化合物。３、Ｒ１がフェノキシ、エトキシまたは塩素であり、そしてＲがメトキシ、メトキシメチルまたはメチルである請求の範囲第１または２項記載のラセミ体の及び光学的に活性なリン化合物。４、（ＲＳ）−、（Ｒ）−または（Ｓ）−（６，６′−ジメトキシビフェニル− ２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）。５、（ＲＳ）−、（Ｒ）−または（Ｓ）−（６，６−ジメトキシビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）。６、（ＲＳ）−、（Ｒ）−または（Ｓ）−（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジフェニルエステル）。７、（ＲＳ）−、（Ｒ）−または（Ｓ）−（６，６′−ジメチルビフェニル−２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジエチルエステル）。８、（ＲＳ）−、（Ｒ）−または（Ｓ）−（６，６′−ジメトキシビフェニル− ２，２′−ジイル）ビス（ホスホン酸ジクロライド）。９、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼Ｉ式中、Ｒは低級アルキル、低級アルコキシまたは保護されたヒドロキシであり、Ｒ１は低級アルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、塩素または臭素であり、Ｒ２は低級アルキルまたは低級アルコキシであり、そしてｎは０、１または２である、のラセミ体のまたは光学的に活性なリン化合物の製造する方法であって、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＩ式中、Ｒ、Ｒ２およびｎは上記の意味を有し、そしてＲ３は低級アルコキシ、フェノキシまたはベンジルオキシである、の化合物をウルマンカップリングに付し、必要に応じて、こうして得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＩＩ式中、Ｒ、Ｒ２、Ｒ３およびｎは上記の意味を有する、の、（ＲＳ）型で存在する化合物を、ジベンゾイル酒石酸またはジ−ｐ−トルイル酒石酸を使用して、（Ｒ）型および（Ｓ）型に分割しそして、必要に応じて、式ＩＩＩのラセミ体のまたは光学的に活性なリン化合物中のＲ３により表される低級アルコキシ基を塩素または臭素で置換することを特徴とする方法。