JP2000514450A - 不斉触媒作用用配位子 - Google Patents

不斉触媒作用用配位子

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Abstract

(57)【要約】 式(I)または(II)[式中、R1、R2、R3およびR4は各々独立してH、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアルカリールを示す(但し、R1とR2の両方がHを示すことはない)、Xはリンと安定な結合を形成し得る基を示す]で表されるキラル化合物は不斉反応における配位子として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 不斉触媒作用用配位子 発明の分野 この発明は不斉反応に有用なホスフィン配位子、特に不斉接触水素化用キラル 配位子として有用なホスフィン配位子に関する。 発明の背景 キラルホスフィンは不斉触媒作用用配位子として有用である。特に、下式(1 )て表されるトランス−2,5−ジ置換ホスホランまたはこれと反対の鏡像体( 2)(式中、Rは線状もしくは分枝状アルキルを示す)を取り込んだ配位子はロ ジウムおよびルテニウムで触媒される不斉水素化に有効である。メチル−DUP HOSによって代表されるこの種の二座ホスフィン配位子は米国特許第5008 457号、同第5177230号、同第5206398号および同第53229 56号明細書に開示されている。 これらのホスホラン配位子は広範なタイプの基質の水素化において良好な立体 制御をもたらす[総説としては、バークら、Pure Appl.Chem.、第68巻、第 37頁〜第44頁(1996年)を参照されたい]。例えば、エナミドの水素化に よりアミノ酸誘導体が高い鏡像体過剰率で得られる[バークら、J.Am.Chem.S oc.、第115巻、第10125頁(1993年)参照]。キラルアルコールもこ れらの配位子を用いることによって高い光学純度で調製される[バークら、J.A m.Chem.Soc.、第117巻、第4423頁(1995年)参照]。 5員環ホスホラン配位子は不斉合成において有用であるが、該配位子自体の合 成か困難であるために該配位子を工業的規模で利用するには制限がある。このた め、5員環の構築に必要なキラル1,4−ジオール中間体の合成法が要請されて いる[バークら、Organometallics、第9巻、第2653頁(1990年)、米国 特許第5021131号および同第5329015号各明細書参照]。この合成 にはスケールアップに問題のあるコルベカップリング法のような特殊な方法が必 要である。 キラル1,4−ジオールを別の方法で合成することは困難である。例えば、1 ,4−ジケトンは不斉触媒条件下での水素化は困難であり、光学純度の低い生成 物が低収率で得られるだけであり、主としてアキラルメソ−1,4−ジオールが 生成する。 有機リン試薬とオレフィンとの反応[マリネッチら、Tetrahedron、第49巻 、第10291頁(1993年)参照]またはハロゲン化アルキルを用いるホスフ ィン錯体のアルキル化[ホックレスら、Organometallics、第15巻、第130 1頁(1996年)参照]によってホスフェタンが製造されている。 後者の方法は多量のポリマーの生成をもたらす。 発明の概要 本発明による新規な化合物は次式: または (式中、Xはリンと安定な結合を形成する基を示す) で表されるキラルホスフェタンてある。Xはさらにホスフェタン環を有していて もよく、この場合には、本発明による化合物は次式: または (式中、Yはリンと安定な結合を形成する2価基を示す) で表される。上記の式において、R1、R2、R3およびR4は各々H、アルキル、 シクロアルキル、アリールまたはアラルキルを示す。 容易に入手可能な1,3−ジオール前駆体から容易に調製されるこれらのホス フェタンは遷移金属(例えば、イリジウム、ロジウムおよびルテニウム)と錯体 を形成してもよい配位子であって、不斉合成、特に不斉水素化の触媒として使用 できる。本発明の一つの特徴は、このような触媒の性能が同族のホスホラン配位 子から誘導される対応する触媒の性能よりも優れているという知見に基づく。 発明の説明 ホスフェタンに結合する基XまたはYはリンと安定な結合を形成するいずれの 残基であってもよい。特に、該基は、有機アルキルもしくはアリール基、ヘテロ 環状基または有機金属残基(例えば、フェロセニル)等であってもよい。該基は 8個まで、12個までまたは20個までの炭素原子を有していてもよい。 一座化合物の場合、Xは好ましくはフェニルである。二座化合物の場合、Yは 好ましくは1,2−フェニレンまたは−(CH2)1-6−、例えば、−CH2−であ る。 ホスフェタンのキラル中心にある置換基R1およびR2は同一であるのが好まし く、各々は低級アルキル基、特にメチル、エチルおよびイソプロピルであるのが 好ましいが、アリールもしくはシクロアルキル(例えば、フルオロアルキル)で あってもよく、また、該置換基はホスフェタンの有用性を妨げないような置換基 を有していてもよい。R1またはR2の炭素原子数は8まで、10までまたは12 までであってもよい。R3およびR4は水素原子であるのが好ましいが、R1 の場合と同じ範囲の置換基から選択される基であってもよい。R3および/また はR4はR1およびR2のいずれかと結合して環を形成してもよい。 例えば、本発明によるキラルホスフェタンは下式(3)で表される一座配位子 または下式(4)および(5)で表される二座配位子であってもよい。少なくと も不斉水素化反応に対してはこの種のキラルホスフェタンが特に有用である。 本発明の有用性は、バークらの前記文献[Organometallics(1990年)]に 記載のホスホラン同族体から誘導される触媒に比べて一座配位子(3)[式中、 R1=R2=Me]から誘導されるロジウム系触媒が有効であることによって例証 される。この比較試験は後述の表1に示す官能基の異なる4種の基質の不斉水素 化についておこない、結果を表1に示す。表1から明らかなように、いずれの場 合も、ホスフェタン含有触媒は鏡像体選択率に関してはホスホラン触媒よりも優 れている。 さらに、表1はこのような反応において満足すべき基質としては認識されてい ないアセトフェノンを用いても望ましい効果が得られることを示す。 新規なホスフェタンの調製用出発物質として使用できるキラル1,3−ジオー ルは容易に入手し得る、これらのジオール類は対応する1,3−ジケトンの不斉 水素化によって非常に高い光学純度で調製することができる。例えば、ノヨリら による報文[J.Am.Chem.Soc.、第110巻、第629頁(1988年)]には 触媒としてRu−BINAPを用いることによる(R,R)−2,4−ペンタンジ オールの調製法が開示されている。この製法は、他のキラル1,3−ジオール、 例えば、ホスフェタン(R1=R2=イソプロピル)の前駆体である(3R,5R)− 2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオールにも適用できることが判明した。 Ru−BINAP触媒の調製に関しては、ハイザーの製法が知られている[Tetr ahedron Asymmetry、第2巻、第51頁(1991年)]。1,3−ジケトン前駆 体は市販品として入手してもよいが、プレンドストロムの方法[Akt.Kemi.、 第38巻、第365頁(1951年/52)]によって簡便に調製できる。容易 に入手し得る1,3−ジオールからキラルホスフィン配位子を直接調製する方法 は大規模な工業的用途に特に有用である。 キラル1,3−ジオールからキラルホスフェタンへの変換反応としては、次の スキームで示される1−フェニルホスフェタン(3)の合成が例示される: このスキームにおいては、最初に1,3−ジオールペンタン−2,4−ジオー ルを環状スルフェートに変換させ、次いで該スルフェートをリチウムフェニルホ スファイドを用いて処理した後、ブチルリチウムを用いる第2のリチウム化によ って環状ホスフェタンを形成させる。この方法が本発明によるいずれの化合物の 調製にも一般的に適用できる有用なものであることは当業者には明らかである。 例えば、本発明によるホスフェタンはXPH2のリチウム化を経由して調製する ことができる。 本明細書に記載の製法はホスフェタンの合成法としては新規な方法であり、こ の場合、反応中に生成する重合物は蒸留によって容易に除去できるという付加的 な利点がある。 以下の実施例は本発明による化合物の調製法と有用性を例示的に説明するもの である。 実施例1 (4S,6S)−4,6−ジメチル−2,2−ジオキソ−1,3,2 −ジオキサチアン a)(4S,6S)−4,6−ジメチル−2−オキソ−1,3,2−ジオキサチ アン(環状スルファイト):ジクロロメタン(60ml)に塩化チオニル(14.3 g;0.12mol)を加えた溶液を純粋な(2S,4S)−ペンタンジオール− 2,4(10.4g;0.1mol)に10分間かけて滴下した。得られた黄色溶 液をさらに10分間撹拌した後、溶剤を回転蒸発器を用いて除去することによっ て該環状スルファイトを得た: 1H−NMR(200MHz,CDCl3);δ1.37,1.55(2d,2*3 H,2CH3),1.85−2.20(m,2H,CH2),4.45(‘sext’,1 H,CH),5.03(m,1H,CH).13C−NMR(50MHz,CDCl3) :δ20.67,22.27(2CH3);37.76(CH2);62.16,71 .47(2CH). b)(4S.6S)−4,6−ジメチル−2,2−ジオキソ−1,3,2−ジオ キサチアン(環状スルフェート):上記のa)で得られた生成物をジクロロメタン (60ml)とアセトニトリル(60ml)の混合溶剤に再溶解させ、該溶液に、水 (100ml)にRuCl3・xH2O(200mg)を加えた溶液を添加した。得ら れた褐色の二相混合物を0℃まで冷却し、これにNaIO4(32.1g;0.1 5mol)を一度に添加した。2分間以内に温度は25℃まで上昇し、色は暗褐 色から淡褐色に変化した。この混合物をさらに1時間撹拌し、有機層を分離させ 、亜硫酸ナトリウム10%溶液(200ml)を用いて洗浄した。ペンタン(約2 00ml)を添加し、有機層を分離させてNa2SO4を用いて乾燥させた。溶剤 を除去して得られた流動性の無色液体を結晶化させることによって該環状スル フェートを14.3g得た(収率86%): 1H−NMR(200MHz,CDCl3):δ1.60(d,6H,CH3),2 .05(‘tr’,2H,CH2),5.08(‘sext’,2H,CH).13C−NM R(5OMHz,CDCl3):δ19.72(CH3),35.03(CH2),80 .18(CH). 実施例2 (2R,4R)−2,4−ジメチル−1−フェニルホスフェタン シュレンクフラスコ(100ml)をN2でパージした後、無水エーテル(25m l)とフェニルホスフィン(1.1g;10mmol)を該フラスコ内へ入れ、次 いでn−BuLiの2.5モル溶液(4.0ml)をシリンジを用いてゆっくりと 添加した。得られたリチウムフェニルホスファイドの黄色溶液を10分間撹拌し た後、THF(20ml)に(4S,6S)−4,6−ジメチル−2,2−ジオキソ −1,3,2−ジオキサチオキサン(1.66g;10mmol)を加えた溶液を 20分間かけて滴下した。滴下終了後、THF(5ml)を添加して油状物を溶解 させ、次いで、n−BuLiの2.5モル溶液(4.0ml)をペンタン(10m l)で希釈してから効率的な撹拌下において45分間かけて反応混合物に滴下し た。反応混合物をさらに15分間撹拌した後、溶剤を真空下で除去した。残渣を ペンタン(約10ml)を用いて処理し、沈殿した塩を濾去し、濾過ケークをペン タン(約10ml)を用いて洗浄した。濾液から溶剤を蒸発させることによって無 色油状物を得た。該油状物は(2R,4R)−2,4−ジメチル−1−フェニルホ スフェタンとポリマーの75:25の混合物であった。 13C−NMR(C66,50MHz):δ17.82(CH32P,C=4.8H z),20.54(CH32P,C=22.3Hz),24.36(CH,1p,C= 3.8Hz),25.09(CH,1P,C=8.2Hz),39.25(CH23P,C =1.4Hz),128.0(Ph p−C),128.67(Ph m−C3P, C =4.9Hz),131.95(Ph o−C2P,C=15.0Hz),139. 37(Ph ipso−C1P,C=35.1Hz),31P−NMR(C66,161MH z):δ24.28. ポリマーのスペクトルにおいてはδ=−13.05ppmにシングレットがみ られた。 標記化合物を大規模で製造するために、フェニルホスフィン(5g;45.5 mmol)および環状スルフェート(7.56g;45.5mmol)を同様にし て反応させ、蒸留後、(2R,4R)−2,4−ジメチル−1−フェニルホスフェ タン(bp120〜124℃/2.4mbar)を1.86g得た(収率23%)。該生成 物の分光分析による化学純度は>95%であった。 実施例3 ビス[(2R,4R)−2,4−ジメチル−1−フェニルホスフェタ ノ]−(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラフルオロ ボーレート 全ての操作は窒素ガス雰囲気下でおこなった。脱気したTHF(1.5ml)に (R,R)−2,4−ジメチル−1−フェニルホスフェタン(356mg;2.0 mmol)を加えた溶液にフルオロホウ酸ジエチルエーテレート(162mg;1 0mmol)を添加して不透明溶液を得た。この不透明溶液を、脱気したTHF( 1.5ml)に[Ph(COD)(acac)](310mg;1.0mmol)を加え た黄色溶液に滴下した。得られたオレンジ色の溶液を50℃で10分間加熱した 後、室温まで冷却し、次いで脱気したジエチルエーテル(5ml)を添加した。得 られたオレンジ色の油状物を放置して結晶化させることによってオレンジ色固体 を生成させた。溶剤をデカンテーションによって除去し、固体をTHF(2ml) を用いて洗浄した後、この洗浄溶剤をデカンテーションによって除去し、次いで 真空下で乾燥させることによって触媒(I)をオレンジ色固体として298mg得 た(収率45%)。 1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ0.56,1.47(2m,各々 3H,2CH3),2.05−2.35,2.35−2.65(2m,7Hおよび 1H,2ホスフェタンCH,ホスフェタンCH2,2COD−CH2),4.95 −5.25(m,2H,2COD−CH),7.31,7.52(2m,2Hおよ び3H,フェニル−H).13C−NMR(CDCl3,50MHz):δ16.87 ,18.70(2‘tr’2CH3),26.80,27.49(2‘d’,2ホスフ ェタンCH),29.89,30.52(2s,2COD−CH2),37.81( ‘tr’,ホスフェタン−CH2),96.54,101.48(2m,2COD−C H),129.05(m,フェニルipso−C),128.93,131.08,1 32.24(他のフェニル−C).31P−NMR(CDCl3,162MHz)δ6 5.59(d,Jp,C=145Hz). 実施例4 (3R,5R)−2,6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオール マロン酸ジエチル(264g)と無水イソ酪酸(500g)の反応で得られた2, 6−ジメチル−3,5−ヘプタンジオンとマロン酸ジエチルの蒸留混合物(20 lg;ジケトンを約150g含有する)をメタノール(200ml)に溶解させ、 この溶液に窒素ガスを20分間分散させた後、さらに減圧処理(約20mbarで5 分間)と窒素雰囲気下での撹拌処理(5分間)を3回おこなうことによって該溶液 の脱気処理をおこなった。(S)−tol−BINAP(494mg;0.729 mmol)とRu(COD)(メタリル)2(212mg;0.66mmol)から得ら れたRu−(S)−Tol−BINAPの溶液を該脱気溶液に添加した。この混合 物を空気を完全に遮断した状態で、窒素ガスで置換した2リットルのParr水 素化ボンベ内へ移した。ボンベ内へ水素ガスを導入し、水素化を100℃/11 5barの条件下で5時間おこなった。回転蒸発器を用いて反応混合物から溶剤 を除去し、残渣を30cmのVigreuxカラムを用いて真空蒸留(bp150℃/26 mm)することによって標記化合物を78g得た(針状晶、mp83〜84℃)。 1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ0.90,0.96(2d,12 H,3J=6.8Hz,2CH3);1.59(‘dd’2H,CH2);1.69(oct ,2H,CHMe2);2.40(br s,2H,OH);3.63(‘q’,2H,C HOH).13C−NMR(CDCl3,50MHz):δ16.07,18.64( 2CH3);33.64(CHMe2);36.47(CH2);73.90(CHOH) . 実施例5 (4R,6R)−4,6−ジイソプロピル−2,2−ジオキソ−1, 3,2−ジオキサチアン a)(4R,6R)−4,6−ジイソプロピル−2−オキソ−1,3,2−ジオ キサチアン(環状スルファイト):(3R,5R)−2.6−ジメチル−3,5−ヘ プタンジオール(16.02g;0.1mol)とジクロロメタン(100ml)を 500mlフラスコに入れ、この溶液に塩化チオニル(14.3g)をシリンジを 用いて2分間かけて滴下した。HClが発生しなくなったときに撹拌を停止し、 溶剤を回転エバポレーターを用いて除去することによって該環状スルファイトを 黄色油状物として得た。 13C−NMR(CDCl3,50MHz):δ17.52,17.70,18. 14,18.46(4CH3);31.27(CH3);32.16,32.63(2 CHMe2);71.18,78.97(2CHOH). b)(4R,6R)−4,6−ジイソプロピル−2,2−ジオキソ−1,3,2 −ジオキサチアン(環状スルフェート):上記のa)で得られた粗製環状スルファ イトを酢酸エチル(100ml)に溶解させ、この溶液にRuCl3・xH2O(2 0mg)、破砕氷(100g)およびNaIO4(25.7g;0.12mol)を添 加した。この混合物を素早く撹拌したところ、混合物の色は黄変した。有機層を デカントし、水性層を酢酸エチルを用いて抽出した(100×4ml)。一緒にし た有機層を激しく撹拌し、これにNa2SO4を添加した後、有機層の着色がほと んど完全に消失するまで撹拌を続行した(約25分間)。Na2SO4を用いて乾燥 させ、濾過後、濾液から溶剤を除去することによつて該環状スルフェートを黄色 油状物として得た。この油状物をペンタンから晶出させることによって標記化合 物を18.6g得た(収率83.4%)。 1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ0.97(d,6H,J=6.8 Hz,CH3);1.07(d,6H,J=6.6Hz,CH3);2.08(‘tr’ ,2H,CH2);2.15(m,2H,CHMe2);4.45(‘quart’,2H, OCH).13C−NMR(CDCl3,50MHz):δ18.02,18.10( 2CH3);28.81(CH2),31.45(CHMe2),88.03(OCH). 実施例6 (2S,4S)−2,4−ジイソプロピル−1−フェニルホスフェタ ン シュレンクフラスコ(100ml)内において、THF(60ml)にフェニルフ ォスフィン(7.7g;70mmol)を加えた溶液にn−BuLiの2.5n溶 液28ml(70mmol)をシリンジを用いて0℃で10分間かけて滴下するこ とによってリチウムフェニルホスファニド溶液を調製した。 環状スルフェート(4R,6R)−4,6−ジイソプロピル−2,2−ジオキソ −1,3,2−ジオキサチアン(16.32g;73.5mmol;5%過剰)の 溶液を窒素ガスで30分間パージして−78℃まで冷却した無水THF(700 ml)を用いてシュレンクフラスコ内において調製した。リチウムフェニルホス ファニド溶液をこの溶液にシリンジを用いて20分間かけて滴下した。淡黄色混 合物を−78℃でさらに1時間撹拌し、この反応混合物にn−BuLiの2.5 n溶液(30ml;75mmol)を30分間かけて滴下した。この混合物を一夜 かけて温めた後、溶剤を留去した。残渣に水(100ml)と硫酸(2mの硫酸1 0ml)を添加し、この混合物からペンタンを用いて配位子を抽出した。Na2S O4を用いて乾燥させ、溶剤を除去し、残渣(14.6g)を真空蒸留に2回付す ことによって配位子を無色の液体(bp120℃/2mbar)として8.68g得た( フェニルホスフィンに基づく収率:53%)。 1HNMR(CDCl3,400MHz):δ0.63,0.67(2d,6H, J=6.4Hz,2CH3);1.03,1.05(2d,6H,J=6.4Hz ,2CH3);1.28(m,1H,CHMe2);1.94−2.04(m,3H, CHMe2,2ホスフェタンCH);2.49−2.57,2.66−2.73( 2m,2H,ホスフェタンCH2);7.29−7.41(m,3H,フェニル− H);7.62−7.69(m,2H,フェニル−H).13C−NMR(CDCl3 ,50MHz);δ19.20(d,JP,C=5Hz,CH3);20.42(s,C H3);20.55(d,JP,C=6.5Hz,CH3);20.99(d,JP,C=1 2.2Hz,CH3);29.80(d,JP,C=3.3Hz,CHMe2);31. 29(d,JP,C=18.2Hz,CHMe2);33.40(d,JP,C=3.2H z,ホスフェタン−CH2);35.51(d,1P,C=8.7Hz,ホスフェタ ン−CH);37.77(d,1P,C=5.8Hz,ホスフェタン−C H);128.05(d,J=6.0Hz,m−C);128−31(s,p−C) ,133.64(d,J=17.6Hz,o−C);136.64(d,J=32 .6Hz,ipso−C). 31P−NMR(CDCl3,162MHz):δ19.92. 実施例7 ビス[(2S,4S)−2,4−ジイソプロピル−1−フェニルホスフ ェタノ]−(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)テトラヒド ロボーレート THF(8ml)にHBF4・OEt2(687mg;2.14mmol)と(2S ,4S)−2,4−ジイソプロピル−1−フェニルホスフェタン(1.0g;4, 27mmol)を加えた溶液をシリンジを用いて[Ph(COD)(acac)](66 2mg;2.14mmol)に2分間かけて添加した。得られたオレンジ色の溶 液を加熱還流させ、室温まで冷却した後、ジエチルエーテル(約10ml)をシリ ンジを用いて滴下した。自然に晶出した錯体を濾取し、乾燥させることによって 標記化合物を橙黄色結晶として1.38g得た(収率84.3%)。 1H−NMR(CDCl3,400MHz):δ0.54,0.78,1.16, 1.93(4d,J=6.4Hz,CH3);2.00−2.56(m,COD−C H2,2ホスフェタン−CH,2CHMe2,ホスフェタン−CH2),2.72( m,COD−CH2),5.10(‘br quart’COD−CH),5.72(‘br tr ’COD−CH),7.14−7.82(m,フェニル−H).13C−NMR(CD Cl3,50MHz):δ16.87(‘tr’CH3);20.61(‘tr’,CH3) ;21.55(‘s’,CH3);25.51(‘tr’,CH3);27.91(COD −CH2);29.76(‘tr’,CHMe2);30.61(CHMe2);39.9 8,42.87(2m,ホスフェタン−CH);95.41,100.64(2m ,COD−CH);129.57(‘m’,フェニルipso-C);128.58(‘tr ’);130.20(s);131.06(ブロードm)(他のフェニル−C).31P −NMR(CDCl3,162MHz):δ51.35(d,JP,Ph=144.5H z). 実施例8 (3S,5S)−ヘプタン−3,5−ジオール マロン酸ジエチル(317g)と無水プロピオン酸(515g)の反応から得られ たヘプタン−3,5−ジオンとマロン酸ジエチルの蒸留混合物(ジケトンを約1 50g含有する)をメタノール300mlに溶解させ、この溶液に窒素ガスを2 0分間分散させた後、減圧処理(約20mbarで5分間)と窒素雰囲気下での撹拌処 理(5分間)を3回おこなうことによって該溶液の脱気処理をおこなった。(S)− Tol−BINAP(247mg;0.36mmol)とRu(COD)(メタリル)2 (106mg;0.33mmol)から得られたRu−(S)−Tol−BINA Pの溶液を該脱気溶液に添加した。この混合物を空気を完全に遮断した状態で、 窒素で置換した2リットルのparr水素化ボンベ内へ移した。ボンベ内へ水素 ガスを導入し、水素化を100℃/115barの条件下で一夜おこなった。回転 蒸発器を用いて反応混合物から溶剤を除去し、残渣を30cmのVigreuxカラム を用いて真空蒸留(bp140℃/26mm)することによって標記化合物[ee= 98%(キラルGC)]を83g得た。該生成物は室温で放置すると固化した。 1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ0.90(tr,6H,3J=7.3 Hz,2CH3);1.34−1.66(m,6H,3CH2);3.47(br s,2 H,OH),3.80(‘pent’,2H,CHOH)13C−NMR(CDCl3,50 MHz):δ10.01(CH3);30.10(CH2Me);41.40(CH2); 70.39(CHOH).実施例9 (4S,6S)−4,6−ジエチル−2,2−ジオキソ−1,3,2 −ジオキサチアン a)(4S,6S)−4,6−ジエチル−2−オキソ−1,3,2−ジオキサチ アン(環状スルファイト):実施例5のa)に記載の手順に準拠して(3R,5R) −ヘプタン−3,5−ジオール(11.0g;0.83mol)と塩化チオニル( 12.0g;0.101mol)から標記化合物を黄色油状物として14.9g 得た。 1H−NMR(CDCl3,50MHz):δ0.95−1.20(m,6H,2 CH3);1.50−1.85(m4H),1.90−2.15(m,2H)(CH2) ;4.05−4.25(m1H),4.70−4.85(m,1H)(2CH). b)(4S,6S)−4,6−ジエチル−2,2−ジオキソ−1,3,2−ジオ キサチアン(環状スルフェート):上記のa)で得られた粗製環状スルファイトを 酢酸エチル(100ml)に溶解させた。この溶液にRuCl3・xH2O(100 mg)、氷(100g)およびNaIO4(25.7g;0.12mol)を添加した 。この混合物を素早く撹拌したところ、1.5分間以内に混合物は黄変した。有 機層をデカントし、水性層を酢酸エチルを用いて抽出した(100×4ml)。一 緒にした有機層を激しく撹拌し、これにNa2SO4を添加し、有機層の着色がほ ぼ完全に消失するまで撹拌を続行した(約25分間)。Na2SO4を用いて乾燥さ せた後、濾過し、濾液から溶剤を除去することによって標記の環状スルフェート を黄色油状物として15.1g得た(収率94%)。 1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ0.99(tr,6H,J=7.3 Hz,2CH3);1.59−1.89(m,2H,CH2);1.89−2.12( m,4H,2CH2CH3);4.75(m,2H,2CH).13C−NMR(CDC l3,50MHz):δ9.31(CH3),26.82(CH2);32.01(CH2 CH3),85.21(CH). 実施例10 (2S,4S)−2,4−ジエチル−1−フェニルホスフェタン シュレンクフラスコ(100ml)内において、THF(60ml)にフェニルホ スフィン(4.75g;43.lmmol)を加えた溶液をシリンジを用いてn− BuLiの2.5n溶液(17.3ml;43.lmmol)に8分間かけて0℃ で滴下した。 シュレンクフラスコ内において、無水THF(400ml)に環状スルフェート である(4S,6S)−4,6−ジエチル−2,2−ジオキソ−1,3,2−ジオ キサチアン(8.80g;45.3mmol;5%過剰)を加えて調製した溶液に 窒素ガスを30分間分散させた後、−78℃まで冷却した。この溶液にリチウム フェニルホスファニド溶液をシリンジを用いて15分間かけて滴下した。得られ た淡黄色の混合物を−78℃でさらに1時間撹拌し、反応混合物にn−BuLi の2.5n溶液(19ml;47.5mmol)を20分間かけて滴下した。得ら れた混合物を一夜かけて温めた後、溶剤を留去させた。残渣に水(100ml)を 添加し、配位子をペンタンを用いて抽出した。Na2SO4を用いて乾燥させ、濾 過し、濾液から溶剤を除去させ、残渣を真空蒸留することによって配位子を無色 の液体(bp110℃/2mbar)として得た:1H−NMR(CDCl3,200MHz);δ0.60,0.90(2tr,各々 3H,J=7.3Hz,2CH3),1.75−1.95(m,3H),2.20− 2,50(m,5H)(2CH2CH3,2ホスフェタン−CH,ホスフェタン−C H2),7.20−7.60(m,5H,フェニル−H).13C(CDCl3,50M Hz):δ11.92(d,J=4.7Hz,CH3),12.90(d,J=11 .7Hz,CH3),24.94(d,J=4.3Hz),27.60(d,J=2 0.5Hz,2CH2CH3),31.62(d,J=0.9Hz),31.76(d ,J=2.5Hz,2ホスフェタンCH),34.67(d,J=2.7Hz,ホ スフェタンCH2),127.69(s),127.97(d,J=5.4Hz),1 32.10(d,J=15.8HzO(他のフェニルC),133.43(d,J= 32.9Hz,フェニルipso−C).31P−NMR(CDCl3,162MHz): δ18.74. 実施例11 (R)−N−アセチル−3−(2−ナフチル)アラニンメチルエステ ル 脱気メタノール(10ml)にメチル(Z)−2−アセタミド−3−(2−ナフチ ル)プロペノエート(0.3g;1.11mmol)および触媒(I)(7mg;0. 011mmol;1.0mol%)を加えた溶液を窒素ガスでパージしたPar r圧力反応器(50ml)内へ移した。該反応器を水素ガスで3回パージした後、 水素ガス(4.13MPa;600psi)を充填した。2時間撹拌後、反応溶液か ら溶剤を蒸発させることによって標記化合物を定量的収率で0.31g得た(7 7.5%ee)。 実施例12 (R)−N−アセチルフェニルアラニン 脱気メタノール(10ml)にα−アセタミド−桂皮酸(0.5g;2.44m mol)と触媒(I)(16mg;0.024mmol;1.0mol%)を加えた 溶液を窒素ガスでパージしたParr圧力反応器(50ml)内へ移した。該反応 器を水素ガスで3回パージした後、水素ガス(4.34MPa;630psi)を充 填した。撹拌を2時間おこなった後、反応溶液から溶剤を蒸発させることによっ て標記化合物を定量的収率で0.52g得た(84.4%ee)。 実施例13 (R)−N−アセチルアラニンメチルエステル 酸素ガスを排除したGC−小型容器内において、脱気メタノール(1ml)にメ チル2−アセタミドアクリレート(22mg;0.15mmol)と触媒(I)(1 mg;0.0015;1mol%)を加えて溶液を調製した。この容器をPar r圧力反応器(50ml)内へ移し、該反応器を水素ガスでパージした後、水素ガ ス(3.41MPa;500psi)を充填した。水素化を一夜おこなった後、反応 溶液から溶剤を蒸発させることによって標記化合物を得た(完全転化;62.8 %ee)。 実施例14 2−メチルコハク酸ジメチルエステル 酸素ガスを排除してシュレンクフラスコ内において、脱気メタノール(10m l)にイタコン酸ジメチル(158mg;1mmol)と触媒(I)(6mg;1mm ol;1mol%)を加えて溶液を調製した。水素圧3.41MPa(500psi) の条件下で水素化を一夜おこない、反応溶液から溶剤を蒸発させることによって 標記化合物を得た(完全転化;11.7%ee;立体配置は不明)。 実施例15 1−フェニルエタノール 触媒(I)(1mg;0.0015mmol)を窒素雰囲気下において脱気メタノ ール(1ml)に加えた溶液をGC−小型容器内のアセトフェノン(18mg;0 .15mmol)に添加した。この容器を反応容器(50ml)内へ移し、該反応 容器を水素ガスでパージした後、水素ガス3.41MPa;500psi)を充填し た。撹拌を一夜おこなった後、反応溶液から溶剤を蒸発させ、残渣を分析した( 転化率:約5%;8.4%ee;立体配置は不明)。 ロジウム系触媒(6)および対応するホスホラン(7)を用いた実施例13、12 、14および15の結果を以下の表1に示す。前述のように、本発明によって得 られた結果はいずれの場合も優れている。表1
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 33/22 C07C 33/22 67/303 67/303 69/34 69/34 C07F 15/00 C07F 15/00 A B E // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07M 7:00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AU ,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CN, CU,CZ,EE,GB,GE,GH,HU,IL,I S,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK ,LR,LS,LT,LV,MD,MG,MK,MN, MW,MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SD,S G,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA ,UG,UZ,VN,YU,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.次式: または [式中、R1、R2、R3およびR4は各々独立してH、アルキル、シクロアルキル 、アリールまたはアルカリールを示し(但し、R1とR2の両方がHを示すことは ない)、Xはリンと安定な結合を形成し得る基を示す] で表されるキラル化合物。 2.次式: または (式中、Yはリンと安定な結合を形成し得る基を示す) で表される請求項1記載の化合物。 3.X/Yがアルキルまたはアリールである請求項1または2記載の化合物。 4.X/Yが有機金属残基である請求項1または2記載の化合物。 5.X/Yがフェロセニルである請求項4記載の化合物。 6.Xがフェニルである請求項1記載の化合物。 7.Yが1,2−フェニレンである請求項2記載の化合物。 8.Yが−(CH2)1-6−である請求項2記載の化合物。 9.Yが−CH2−である請求項8記載の化合物。 10.R1=R2である請求項1から9いずれかに記載の化合物。 11.R3とR4が各々Hを示す請求項10記載の化合物。 12.次式: R1−CHOH−CR34−CHOH−R2 で表される対応するキラル1,3−ジオールを出発原料とする請求項1から11 いずれかに記載の化合物の製造法。 13.請求項1から11いずれかに記載の化合物と遷移金属との錯体。 14.遷移金属がイリジウム、ロジウムまたはルテニウムである請求項13記載 の錯体。 15.請求項1から11いずれかに記載の化合物または請求項13もしくは14 記載の錯体の不斉反応における使用。 16.請求項1から11いずれかに記載の化合物または請求項13もしくは14 記載の錯体の不斉触媒作用用配位子としての使用。 17.請求項1から11いずれかに記載の化合物または請求項13もしくは14 記載の錯体の不斉水素化もしくはヒドロホルミル化用配位子としての使用。
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