JPH10502387A - キラルリガンドとしての複素環式芳香族ジホスフィン - Google Patents

キラルリガンドとしての複素環式芳香族ジホスフィン

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JPH10502387A JP8504117A JP50411796A JPH10502387A JP H10502387 A JPH10502387 A JP H10502387A JP 8504117 A JP8504117 A JP 8504117A JP 50411796 A JP50411796 A JP 50411796A JP H10502387 A JPH10502387 A JP H10502387A
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イタルファルマコ、スド、ソシエタ、ペル、アチオニ
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Abstract

(57)【要約】 キラルリガンドとして作用するのに適した、芳香族五原子二複素環式系により構成されているキラルジホスフィン、該ジホスフィンと遷移金属との錯体、ジアステレオ選択還元反応やエナンチオ選択還元反応のような立体制御反応に於けるキラル触媒としてのそれらの使用。該キラルジホスフィンの製造方法、該錯体の製造方法、及びそれらの立体制御反応に於けるキラル触媒としての使用。

Description

【発明の詳細な説明】 キラルリガンドとしての複素環式芳香族ジホスフィン 本発明の目的は、キラルジホスフィン、該ジホスフィンと遷移金属との錯体、 及び立体選択的(立体制御)反応、例えば通常のジアステレオ選択還元反応やエ ナンチオ選択還元反応、もしくは通常の不斉異性化に於けるキラル触媒としての それらの使用である。 本発明の他の目的は、該キラルジホスフィンの製造方法、該キラル錯体の製造 方法、及びジアステレオ選択反応やエナンチオ選択反応に於ける触媒としてのそ れらの使用である。 本発明のまた別の目的は、該キラル触媒を利用する立体選択的方法、特に通常 のジアステレオ選択還元反応やエナンチオ選択還元反応である。 先行技術 立体選択的反応、特に、例えばジアステレオ選択水素化やエナンチオ選択水素 化のような立体制御還元反応が非常に重要であることは知られており、長い間研 究がなされている。実際、このような反応により、光学活性化合物を直接形成さ せることができる。このような化合物は、他の方法ではラセミ化合物としてしか 得られず、後でエナンチオマーを分離する必要があり、またこの分離にあたり、 純粋なエナンチオマーの形が得られない可能性が高いという欠点がある。それだ けではなく、これらの場合、望んでいないエナンチオマーの存在により、更に問 題が生じることがあるので、それを再転化、もしくは廃棄しなければならない。 通常、キラル触媒を用いて行われる立体制御還元反応により、光学活性反応生 成物が得られ、エナンチオマー過剰率も高いことが多い。 例えば、不飽和化合物の最初のエナンチオ選択水素化反応は、キラル支持体上 に付着させた金属触媒を用いて行われたが、この方法は30年代には衰退する。 その後、均質不斉水素化反応が研究され、遷移金属と、この金属に対するリガン ドとして作用するキラルホスフィンとからなる錯体により構成される特別なキラ ル触媒を用いることにより反応を行うことが可能となったと記載されている。 文献には、リガンドとして作用し、例えばルテニウム(Ru)、ロジウム(R h)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、及びプラチナ(Pt)のよう な遷移金属とキラル錯体を形成することのできる、様々なタイプのキラルホスフ ィンが報告されている。特にキラルホスフィンは、ステレオジェン原子としてリ ンを1個、もしくは2個有することを特徴としている。このリンは、この場合、 例えば以下の式 を持つ(R,R)エナンチオマーである「DIPAMP」[KNOWLES W.S.等、J.C hem.Soc.Chem.Commun.,10(1972); VINEYARD B.D.等、J.Am.Chem.Soc.,99 ,5946(1977)]のように、三つの異なる置換基を有する。例えば「CHIRAP HOS」として知られている化合物のような、炭素をベースとした立体中心が存 在する為にキラリティーのあるホスフィンも記載されている。そのような(S, S)エナンチオマーは、以下の式 を有している[FRYZUK M.D.等、J.Am.Chem.Soc.,99,6262(1977)]。キラ リティーがアトロプ異性二元系、すなわち二つのアリール基を結合している簡単 な結合の回りの回転が妨げられている系、が存在することによるものであるホス フィンも報告されている。例えば、WO92/16536には、ビフェニル構造 をもつ新規ラセミ光学活性ジホスフィン、もしくはキラルジホスフィンが開示さ れている。このキラルジホスフィンは、第VIII族の金属と錯体を作るときの リガンドとして記載されている。この錯体は、不斉水素化用、及びプロキラルア リル系でのエナンチオ選択水素移動用の触媒として有用である。上記のホスフィ ンのキラリティーは、ビフェニル構造の存在によるものであり、またビフェニル 構造により、対応する錯体がキラル触媒として用いるのに適当なものとなる。 EP643065にも、不斉水素化用の触媒として有用な新規ジホスフィンが 開示されている。開示されているこのジホスフィンは、系にキラリティーをもた せるビフェニル構造が存在しているのが特徴である。 このタイプのその他のジホスフィンは、例えば「BINAP」、「BIPHE MP」、もしくは「BICHEP」である。これらの(R)エナンチオマーは以 下の式 をもつ[NOYORI R.等、J.Am.Chem.Soc.,102,7932(1980); SCHMID R.等、H elv.Chim.Acta.,71,897(1988); MIYASHITA A.等、Chem.Lett.,1849(1989 )]。 現在のところ、第二キラルアルコールの最も良好なジアステレオマー過剰率や エナンチオマー過剰率をもたらす、カルボニル基のジアステレオ選択水素化やエ ナンチオ選択水素化のような立体制御還元反応を行う為の触媒は、遷移金属とア トロプ異性によるキラルジホスフィンとの錯体、特にRuと「BINAP」との 錯体により構成されているものである。 勿論、主な問題は、リガンドとして作用するキラルジホスフィンの合成の問題 である。既述の場合に於いては、キラルジホスフィンの合成方法は、数多くの工 程を含んでいるのでかなり複雑である。その上、ラセミ化合物として得られるジ ホスフィンは骨の折れる分割工程を必要とし、収率は低く、コストが非常に高く つく。その結果、このようなキラルジホスフィンと遷移金属との間で錯体を形成 することにより得られるキラル触媒は、非常に高価なものとなる。 本発明の目的 本発明の目的は、非常に安定な配位結合を形成することにより、遷移金属に対 するリガンドとして作用するのに適したキラルジホスフィンを提供することであ る。 本発明の他の目的は、合成の観点からみて、公知の技術に比べて、より容易に 得ることのできるキラルジホスフィンを提供することである。 本発明のまた別の目的は、遷移金属に対するリガンドとして作用するのに適し たキラルジホスフィンを製造する方法であって、単純な工程からなり、コストが 抑えられ、工業的に適用可能な方法を提供することである。 本発明の更に別の目的は、立体制御合成反応に用いる為の新しいキラル触媒を 提供することである。 本発明の他の目的は、反応性が高く、位置選択性、化学選択性、ジアステレオ 選択性、エナンチオ選択性のある、立体制御合成反応に用いる為のキラル触媒を 提供することである。 本発明のまた別の目的は、穏やかな条件下で反応を行うことができ、ともかく 高い反応速度の得られる立体制御合成反応に用いる為のキラル触媒を提供するこ とである。 本発明のその他の目的は、立体制御反応、特にキラル触媒を用い、ジアステレ オマー過剰率、もしくはエナンチオマー過剰率の高い光学活性生成物を形成する 還元反応、もしくは異性化反応を可能にすることである。 本発明の説明 以下の説明からより明らかとなるであろうこれらの目的やその他の目的、及び 付随する利点は、芳香族五原子二複素環式系により構成されているキラルジホス フィンにより達成される。 より詳しくは、芳香族五原子二複素環式系により構成されている該キラルジホ スフィンは、以下の一般式 (式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、COOR3(R3は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル)から選ばれ、 Yはフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリール、直鎖状、枝分かれ鎖 状、もしくは環状のC3〜C10アルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリール、直鎖状、枝分かれ 鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、OR5(R5は直鎖状、枝分かれ鎖状 、もしくは環状のC1〜C10アルキル)から選ばれる)をもつか、又は 以下の式のように、該系の各五原子複素環式芳香族環が縮合して、置換、もしく は非置換のベンゼン環もしくはナフタリン環を形成しているものである。 式中、nは0〜6であり、R2も0であってよく、R4は水素、直鎖状、枝分かれ 鎖状、もしくは環状の、置換もしくは非置換のC1〜C10アルキルから選ばれる ものである。 上の図による説明は非限定的なものであって、例えば以下の式のように、該五 原子複素環式芳香族環のそれぞれが縮合して、置換、もしくは非置換のベンゼン 環もしくはナフタリン環を形成していてもよい。 式中、R4、n、R2は上記の通りである。 芳香族五原子二複素環式系は、以下のものから選ばれる。 1,1’−ビピロール、2,2’−ビピロール、3,3’−ビピロール 3,3’−ビチオフェン 3,3’−ビフラン 1,1’−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合(IIA)、(IIB)、(VA)、(VB)、 4,4’−ビピラゾール、5,5’−ビピラゾール、 1,1’−ビ−1,3,4−トリアゾール 4,4’−ビイソオキサゾール 4,4’−ビイソチアゾール 5,5’−ビイミダゾール 3,3−ビベンゾチオフェン 3,3’−ビベンゾフラン 2,2’−ビインドール 1,1’−ビベンゾイミダゾール 本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンは、特に有利であることが分かった。 また、本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンも、特に有利であることが分かった。 また、本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンも、特に有利であることが分かった。 特にこれらのジホスフィン(IA)、(IB)、(IIA)、(IIB)、( VA)、(VB)のキラリティーは、五原子芳香族二複素環式系の存在によるも のである。この系は、C2対称アトロプ異性系である。すなわち二つの複素環式 系をつないでいる結合の回りに高い回転障壁をもつことを特徴としている[Elie l;「炭素化合物の立体化学」(Stereochemistry of Carbon Compounds), Int.St ud.Edition,McGraw Hill - 東京、1962年、156頁以降]。 更に、本発明による該ジホスフィンは、複素環式系がエレクトロン・リッチで ある場合、リン原子の電子利用性が増すという特徴を有する。これらの特性の為 に、本発明のジホスフィンは、遷移金属との錯体形成時にキラルリガンドとして 有利に利用される。錯体形成時の金属との配位結合はまさに、複素環式系により リン原子に与えられるリガンドの電子利用性によるものである。このような錯体 は、立体制御合成、特に、例えば水素化反応のようなジアステレオ選択還元反応 やエナンチオ選択還元反応に於いて、キラル触媒として用いられる。 本発明によれば、該キラルジホスフィンは、簡単な工程からなる方法により製 造される。 一般式(IA)、(IB)を有するキラルジホスフィンを製造する為の本発明 による通常の方法を、単なる例として概略を説明する。該方法は、以下の工程か らなるものである。 −五原子芳香族二複素環式系を、対応する五原子複素環式アニオンの酸化カッ プリングにより合成する、 −二複素環式系のジアニオンを形成させる、 −該ジアニオンと、P(Y)2Cl、もしくはPO(Y)2Cl(Yはフェニル 、置換フェニル、アリール、置換アリール、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC3〜C10アルキルから選ばれる)とを反応させて、ラセミジホスフィン( IA)+(IB)、もしくはラセミジホスフィンオキシドを得る、 −公知の手法を用いた酸化反応により、該ラセミジホスフィン(IA)+(I B)を対応するラセミジホスフィンオキシドへ転化させる、 −該ラセミジホスフィンオキシドと酸キラル分割剤とを反応させて、二種類の ジアステレオマー付加物を得る、 −該ジアステレオマー付加物を分別結晶により分離する、 −分離した二種類のジアステレオマー付加物のそれぞれに対して塩基 処理を 行い、対応するエナンチオマー的に純粋なジホスフィンオキシドを得る、 −エナンチオマー的に純粋な該ジホスフィンオキシドと、シランのような公知 の還元剤とを反応させて、エナンチオマー的に純粋なキラルジホスフィン(IA )及び(IB)を生成させる。 この芳香族二複素環式系は、当業者に知られているその他の手法によっても製 造可能であるということは明らかである。また、窒素を含む複素環式環の場合、 二複素環式系のジアニオンの形成は窒素原子上でも生じる。 より詳しくは、本発明によれば、該ラセミジホスフィン(IA)+(IB)は 、固定相、溶離剤系等のようなキラル手法を用いるカラムクロマトラフィーによ り、有利に直接的に分割することができる。 また該酸キラル分割剤は、例えばジベンゾイル酒石酸、ジトルイル酒石酸、樟 脳スルホン酸等から選ぶのが好ましい。 既に述べたように、本発明によるキラルジホスフィンは、立体制御反応に於け る触媒として作用するキラル錯体を形成する為に、遷移金属、特にRu、Rh、 Pd、Pt、Irのような第VIII族の金属と錯体を形成するリガンドとして 用いられる。 本発明によれば、キラルリガンドと金属との該錯体は、キラルジホスフィンと 、選んだ金属の錯体との間の交換反応により得るのが好ましい。この反応に於い て、金属とリンガンドとの間の結合は、金属とジホスフィンとの間に形成される 結合よりも不安定でなければならない。このようにして、ジホスフィンは金属に 配位しているリガンドと置き代わり、好ましい配位結合を形成する。特に上記の 交換反応に於いては、金属は、例えば1,5−シス,シス−シクロオクタジエン 、ノルボルナジエン、(エチレン)2、トリアリールスチビン、ベンゾニトリル 等のようなリガンドと共に用いられる。 選んだ金属とリガンドとから構成されている錯体を適当な溶剤に溶解し、その 後、固体の状態か、もしくは適当な溶剤に溶解したキラルジホスフィンを添加す る。反応の進行、従ってキラル錯体の形成を、色の変化をチェックしたり、分光 学的な方法、例えば13P−NMRやGCによりフォローする。反応終了後に溶剤 を除去し、得られたキラル錯体をそのまま利用してもよいし、公知の手法により 更に精製してもよい。 キラル錯体の製造に用いるのに好ましい溶剤は、例えば塩素化溶剤、アルコー ル類、芳香族炭化水素(トルエン)、エーテル類、ジメチルホルムアミドである 。上記のキラル錯体は、それらを立体制御反応に於いて触媒として用いる時に調 製するのが好ましい。 本発明によれば、キラルジホスフィンと遷移金属との錯体により構成されるキ ラル触媒は、公知の技術に用いられているものよりも選択性が高い。事実、本発 明によるジホスフィンリガンドの形状寸法により、公知のリガンドとは異なる結 合の長さや結合の角度が生じ、その結果、該キラル触媒を用いる立体制御反応は 、反応速度が際立っている、圧や温度、また用いる触媒の量といった反応条件が 穏やかである、及び生態学的なインパクトの少ない溶剤を使用できる、等の利点 をもつ。 また、該キラル触媒は高い化学選択性、エナンチオ選択性、及びジアステレオ 選択性をもち、立体制御反応、特にジアステレオ選択還元反応やエナンチオ選択 還元反応、例えばオレフィン(−C=C−)の還元、ケトンカルボニル基(−C =O)の還元、イミン基(−C=N−)の還元、エナミン(−N−C=C−)の 還元を行うのに有利に用いられ、ジアステレオマー過剰率やエナンチオマー過剰 率の高い光学活性化合物が得られる。 本発明によれば、該キラル触媒は、ヒドロホルミル化反応、ヒドロシアノ化反 応、及び二重結合異性化反応を行うのに用いられる。本発明の非限定的な実施例 により、幾つかのキラルジホスフィン(IIIR)、(IIIS)、(IVR) 、(IVS)、(VIR)、(VIS)、(VIIR)、(VIIS)、 (VIIIR)、(VIIIS)の製造、該ジホスフィンと金属RuやRhとの キラル錯体の製造、及び該錯体の本発明のキラル触媒としての使用、例えば、該 錯体の3−オキソ−酪酸エチル、2−オキソシクロペンタンカルボン酸メチル、 α−アセトアミド桂皮酸、及びその他のものの還元への使用、を以下に説明する 。 例1 キラルジホスフィン(IIIR)及び(IIIS)の製造 a)4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェン の合成 3−ブロモ−4,6−ジメチル−ベンゾ〔b〕チオフェン4.1gを無水エー テル11mlに溶解したものを、1.6MのBuLi(12ml)を無水エーテ ル11mlに溶解して得た溶液を−70℃に冷却したものに、攪拌しながら滴下 した。この反応混合物を30分間放置した後、CuCl2を2.7g添加し、6 時間攪拌を続けた。その後0℃に冷却し、2MのHClを17ml添加して一晩 放置した。生成した有機塩を除去して有機相をエーテルで抽出し、Na2SO4上 で無水化し、溶剤を減圧下で除去した。得られた残渣を、溶離剤としてヘキサン を用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、中間の画分を集めて減圧 下で溶剤を除去したところ、4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ジ ベンゾ〔b〕チオフェン(?)が0.70g得られた。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):1.9(6H,s,2CH3 )、2.4(6H,s,2CH3)、6.9(2H,s,5,5’位に芳香族) 、7.2(2H,s,チオフェン)、7.5(2H,s,7,7’位に芳香族) 質量分析(e.i.):(M+)322 b)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−4,4’,6,6’−テトラメ チル−3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェンの合成 4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェン0 .35gとTMEDA0.39gを無水THF20mlに溶解して得た溶液に、 1.6MのBuLi(1.1ml)を不活性な雰囲気下で、−50℃の温度で滴 下した。30分後に温度を0℃に上げて、ジフェニルクロロホスフィンを0.5 ml滴下した。この反応混合物を12時間反応させた後、減圧下で溶剤を除去し 水で処理した。有機相をエーテルで抽出してNa2SO4上で無水化し、溶剤を減 圧下で除去した。得られた残渣をイソプロピルエーテルで処理すると、2,2’ −ビス(ジフェニルホスフィン)−4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3 ’−ジベンゾ〔b〕チオフェンが0.4g得られた。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):1.6(6H,s,2CH3 )、2.4(6H,s,2CH3)、6.7(2H,s,5,5’位に芳香族) 、6.9〜7.5(22H,m,7,7’位に芳香族+4C65) 質量分析(e.i.):(M+)690 31P−NMR(200MHz)(CDCl3)(ppm):−24.98(2P,s) c)ラセミジホスフィンのジホスフィンオキシドへの酸化 b)に従って得たジホスフィン1.4gをCH2Cl280mlに溶解して得た 溶液を0℃に保ち、これにH22を2ml滴下した。温度を0℃に1時間、25 ℃に1時間保った後、水を10ml添加して有機相を分離し、無水化して減圧下 で溶剤を除去した。 反応混合物1.5gを、AcOEt/CH2Cl2/Et3N(体積比3/7/ 0.1)の混合溶離剤を用いたクロマトグラフィーにかけた。最終画分を集めた ところ、ラセミジホスフィンオキシドが1.4g得られた。収率は96%であっ た。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):1.5(6H,s,2CH3 )、2.4(6H,s,2CH3)、6.7(2H,s,5,5’位に芳香 族)、7.0〜7.8(22H,m,7,7’位に芳香族+4C65) 質量分析(e.i.):(M+)772 31P−NMR(200MHz)(CDCl3)(ppm):20.36(2P=O,s ) d)分割:ジホスフィンオキシド(−) c)のようにして得られたラセミジホスフィンオキシド混合物1.2gと(− )−O,O’−ジベンゾイル−L−酒石酸(DBTA)0.63gとを、AcO Et/CHCl3(体積比50/8)混合物58mlに加熱溶解した。24時間 後にろ過を行い、ジホスフィンオキシド(−)とDBTAとの付加物を500m g得た。この付加物の融点は218〜220℃であり、〔α〕D 25は−143°( EtOH中c=0.55)であった。 e)d)での付加物の処理 付加物500mgを0.75NのNaOH9.6mlで処理し、混合物を9. 6mlのCHCl3で二回抽出した。このようにして得られた有機相を合わせ、 0.75NのNaOH6.4mlと水6.4mlで洗浄し、Na2SO4上で乾燥 させた。 混合物をろ過し、減圧下で溶剤を蒸発させたところ、キラルジホスフィンオキ シド(−)320mgが得られた。このようにして得られたジホスフィンオキシ ドの〔α〕D 25の値は−226°(c=0.45、溶剤ベンゼン)であった。 f)分割:ジホスフィンオキシド(+) d)の工程で得られたろ液から減圧下で溶剤を除去し、残渣を1g得た。これ を0.75NのNaOH18mlで処理し、18mlのCHCl3で二回抽出し た。集めた有機相を0.75NのNaOH12mlと水12mlで洗浄した後、 Na2SO4上で無水化し、減圧下で溶剤を蒸発させたところ、不純物としてジホ スフィンオキシド(−)を含むジホスフィンオキシド(+)が0.60g得ら れた。このようにして得られた混合物をDBTA(+)0.312gと合わせ、 全体を、AcOEt/CHCl3(体積比25/4)からなる溶液29mlに加 熱溶解した。24時間後に混合物をろ過したところ、ジホスフィンオキシド(+ )とDBTA(+)との付加物からなる固体0.4gが得られた。この固体の融 点は216〜220℃であり、〔α〕D 25は+147°(c=0.55、EtO H)であった。 この付加物をe)に記載されているように処理して、〔α〕D 25の値が+22 9°(c=0.56、ベンゼン)であることを特徴とするジホスフィンオキシド (+)を得た。 g)還元 f)に記載されているようにして得られたジホスフィンオキシド(+)0.4 gをキシレン6mlに溶解し、不活性な条件下で、Et3Nを0.59mlとH SiCl3を0.42添加した。この反応混合物を100℃で1時間、120℃ で1時間、140℃で6時間加熱した。残存しているキシレンとトリクロロシラ ンを減圧下で除去し、残渣を水で処理し、CH2Cl220mlで抽出した。その 後、反応混合物を無水化し、溶剤を減圧下で除去した。このようにして得られた 粗生成物を、不活性な雰囲気下でフラッシュクロマトラフィーにかけた。溶離剤 として、ヘキサン/CH2Cl2(体積比7/3)を用いた。〔α〕D 25の値が+ 215°(c=0.4、ベンゼン)であることを特徴とするジホスフィン(+) が350mg得られた。 e)に記載されているようにして得たジホスフィンオキシド(−)を、同様の 方法でジホスフィン(−)に還元したところ、同様の収率が得られた。このジホ スフィン(−)の〔α〕D 25の値は−222°(c=0.4、ベンゼン)であっ た。 例2 キラルジホスフィン(IVR)及び(IVS)の製造 a)2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオフェンの調製 3−ブロモ−2,5−ジメチルチオフェン5.46gをエチルエーテル5ml に溶解したものを、−70℃に保ったBuLiの1.5M溶液(18ml)に、 窒素雰囲気下で滴下した。30分後に、激しく攪拌しながら無水塩化第二銅を4 .13g添加し、反応混合物を3時間攪拌し続けた。温度を0℃に上げた後、6 NのHCl溶液を添加して塩化第二銅を可溶化した。水性相をエーテル120m lで抽出し、エーテル相を水15mlで、その後炭酸ナトリウムの飽和溶液12 mlで処理した後、再度水12mlで処理した。この溶液を硫酸ナトリウム上で 無水化し、溶剤を減圧下で除去した。このようにして得られた残渣をシリカゲル カラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサンで溶離した。中間の画分を集めたと ころ、2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオフェンが1.73 g得られた。収率は55%であった。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):6.52(2H,ブ ロードs,4,4’位に芳香族)、2.41(6H,s,2CH3)、2.27 (6H,s,2CH3) b)4,4’−ジブロモ−2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチ オフェンの調製 2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオフェン1.97gを四 塩化炭素12mlに溶解して得た溶液を0℃に保ち、これに、臭素0.5mlを 四塩化炭素に溶解したものを滴下した。温度を上げ、15分後に温度を40℃に 保ったまま、同量の臭素を同体積の四塩化炭素に溶解したものを滴下した。30 分後に、塩化メチレンを100ml添加した。この混合物を炭酸ナトリウムの飽 和溶液20mlと水20mlで洗浄した後、有機相を硫酸ナトリウム上で無水化 した。溶剤を減圧下で除去したところ、オイル状の残渣が3.60g得られた。 この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサンで溶離した。 最初の画分を集めて減圧下で溶剤を蒸発させたところ、4,4’−ジブロモ−2 ,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオフェンが1.47g得られ た。収率は44%であり、融点は93〜95℃であった。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):2.40(6H,s ,2CH3)、2.15(6H,s,2CH3) c)4,4’−ビスジフェニルホスフィンオキシ−2,2’,5,5’−テトラ メチル−3,3’−ジチオフェンの調製 4,4’−ジブロモ−2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオ フェン1.37gを無水THF25mlに溶解して得た溶液を−15℃に保ち、 これにBuLiの1.6M溶液5mlを2分かけて滴下した。20分後に、0℃ でジフェニルクロロホスフィンを1.46ml滴下し、反応混合物を1時間30 分放置した。その後、エーテルを100ml添加し、混合物を水10mlで洗浄 し、有機相を硫酸ナトリウム上で無水化した。溶剤を減圧下で蒸発させて除去し たところ、残渣が2.70g得られた。この残渣をCH2Cl2100mlに溶解 し、30%の過酸化水素3.6mlを0℃で滴下して完全に酸化させてジホスフ ィンオキシドとした。2時間後に水を15ml添加して有機相を分離し、Na2 SO4上で無水化した。溶剤を減圧下で蒸発させて除去し、得られた残渣をシリ カゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、CH2Cl2/AcOEt/Et3N( 体積比7/3/0.2)混合物で溶離した。最終の画分を集め、溶剤を減圧下で 蒸発させたところ、オイルが得られた。このオイルをエチルエーテルで処理して 、4,4’−ビスジフェニルホスフィンオキシド−2,2’,5,5’−テトラ メチル−3,3’−ジチオフェンを0.190g得た。 1H−NMR(300MHz)(CDCl3)(ppm):7.60(20H,m, 芳香族)、1.95(6H,d,2,2’位にCH3)、1.65(6H,s, 5,5’位にCH3) このような生成物は、例1のd)に類似の手順に従い、DBTAを用い、TH F中でジアステレオマー塩を結晶化することにより分割できる。 ジホスフィンオキシド混合物0.70gと(−)−ジベンゾイル酒石酸(DB TA)0.42gとを、THF20mlに加熱溶解した。12時間後にろ過した ところ、(−)−ジホスフィンオキシドと(−)−DBTAとの付加物が0.2 g得られた。この付加物の融点は180℃であり、〔α〕Dは−44℃(c=0 .5、EtOH)であった。 この付加物を通常の手順に従って処理したところ、ホスフィンオキシドが56 0mg得られた。 (−)−ホスフィンオキシドを不純物として含む(+)−ホスフィンオキシド 0.56gと、(+)−DBTA0.34gとを、THF40mlに加熱溶解し た。12時間後に、(+)−ジホスフィンオキシドと(+)−DBTAとの付加 物が0.185g回収された。この付加物の融点は178℃であり、〔α〕Dは +39.5°(c=0.55、EtOH)であった。 d)4,4’−ビスジフェニルホスフィンオキシド−2,2’,5,5’−テ トラメチル−3,3’−ジチオフェンの調製 4,4’−ビスジフェニルホスフィンオキシド−2,2’,5,5’−テトラ メチル−3,3’−ジチオフェン0.053gをキシレン5mlに溶解して得た 溶液に、アルゴン雰囲気下で、トリエチルアミン0.14mlとトリクロロシラ ン0.10mlとを添加した。この反応混合物を100℃で1時間、120℃で 1時間、140℃で1時間加熱した。水を4ml添加して反応混合物を処理し、 CH2Cl220mlで抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化し、溶剤を メカニカルポンプを用いて蒸発させて除去したところ、4,4’−ビスジフェ ニルホスフィン−2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ジチオフェン が得られた。 このようにして得たラセミジホスフィンを、HPLCを用いて分割した。「DA ICEL CHIRALCEL OD」(25cmx4mm)をカラムをとして用い、ヘキサン/ イソプロパノールを溶離剤として用いた。フロー=0.7ml/分。 例3 {Ru〔化合物(III)R)(+)〕Cl2}錯体の調製 側面にコックがあり、円錐形でテフロンをコートした攪拌棒を取り付けた試験 管を繰り返し排気し、アルゴンで加圧した。この操作を少なくとも5回繰り返し た。この有底試験管に、光学的に純粋なキラルジホスフィン(IIIR)(+) 16.0mg(2.3x10-2ミリモル)、文献に報告されている手順に従って 調製した〔RuCl2(C66)〕25.6mg(1.15x10-2ミリモル)、及 び不活性な雰囲気下で新たに蒸留して15分間アルゴンで脱気したジメチルホル ムアミド4mlを、この順序で入れた。この赤褐色の懸濁液を、攪拌しながら1 00℃で15分間加熱した。懸濁液は、急速に透明な黄橙色の溶液に変わった。 この溶液を50℃に冷却して、蒸発乾固させた。残渣を機械的な真空下に1時間 放置し、その後、アルゴンで加圧した。このようにして得られたルテニウム錯体 を、これ以上精製せずに、ケトエステルのエナンチオ選択還元に用いた。 例4{Ru〔1,5−シクロオクタジエン〕〔化合物(IIIS)(−)〕ClO4 }錯体の調製 側面にコックがあり、円錐形でテフロンをコートした攪拌棒を取り付けた試験 管を繰り返し排気し、アルゴンで加圧した。この操作を少なくとも5回繰り返し た。光学的に純粋なキラルジホスフィン(IIIS)(−)11.0mg(1. 59x10-2ミリモル)をこの試験管に入れ、不活性な雰囲気下で蒸留し、 使用前に15分間アルゴンで脱気したCH2Cl210mlに溶解した。過剰の〔 Rh(1,5−COD)2〕ClO4を計り、有底(tailed)試験管に導入してフ ラッシュさせ、アルゴンで加圧した。体積を正確に計ったCH2Cl2を添加して 、黄色の溶液を得た。シリンジを用いて正確に1.59x10-2ミリモル取り出 し、それをジホスフィンIII溶液に添加した。溶液は、急速に黄橙色に変わっ た。この溶液を30分間攪拌し、{Rh〔1,5−COD〕〔化合物(IIIS )(−)〕ClO4}の黄橙色の固体が得られるまで蒸発させた。このようにし て得られたロジウム錯体を、これ以上精製せずに、オレフィンのエナンチオ選択 還元に用いた。 例53−オキソ−エチルブチレートの(R)−(−)−3−エチルヒドロキシブチレ ートへの還元 ガラスで内張りし、電磁攪拌機と加熱装置を取り付けたステンレス・スチール 製の75mlのオートクレーブを、水素で4.90MPa迄数回加圧して排気し (このサイクルを少なくとも5回繰り返した)、70℃の恒温とした。3−オキ ソ−エチルブチレート2.993g(23.0ミリモル)と、予めアルゴンで1 5分間脱気しておいたメタノール20mlとを、例3に記載されている方法に従 って調製した触媒に添加した。この溶液をシリンジでオートクレーブに移して、 9.81MPaに加圧した。120分後にオートクレーブを冷却し、オートクレ ーブを開け、褐色の油状の残渣が残るまで溶剤を蒸発させた。サンプルをGC( PEG20Mカラム、オーブン温度100℃、FID200℃、インジェクター 200℃)、及び1H−NMR分光分析法により試験した。その結果、基質が定 量的に転化し、3−エチル−3−ヒドロキシ−ブチレート選択率は95%である ことが分かった。副生物は、エチル−3−ジメトキシブチレートであった。残渣 を真空蒸留し、17mmHgで75〜80℃の間で通過する画分を集めた。得 られたサンプルは、化学的に純粋な水素化生成物であった。 エチル−3−ヒドロキシブチレート:1H−NMR(200MHz)(CDC l3)(ppm):4.2(3H,qとmが重複)、2.4(2H,d)、1. 2(6H,tとdが重複) 立体誘導を旋光分析により、またシフトキラル剤としてトリス〔3−(+)樟 脳化トリフルオロメチルヒドロキシメチレン)〕Euを用いて1H−NMR分光 分析法により測定した。比旋光度である〔α〕D 20は−41.5(c=1、CH Cl3)であり、これはRエナンチオマーについての光学的純度(O.P.)が 99%であることに相当する[(S)−(+)エナンチオマーについての文献報 告:〔α〕D 20=+42±1(c=1、CHCl3);A.FISCHLI,Modernsynthe tic methods,Vol.2,269,1980,R.Scheffold Publishing House,Salle + S auerlander]。エナンチオマー過剰率を、シフトキラル剤を用いて1H−NMR 分光分析法により測定した。シフト剤をラセミ還元生成物に添加すると、1.2 ppmでの三重項が、それぞれ1.40ppmと1.55ppmの二つの三重項 に分かれた。同一のキラルシフト剤をエナンチオ選択還元生成物に添加すると、 1.55ppmに三重項の存在を何等示すことなく、三重項が1.4ppmにシ フトした。この結果から、エナンチオマー過剰率が99%を越えていることが確 認された。 例62−オキソシクロペンタンカルボン酸メチルの(R,R)−(−)−2−ヒドロ キシシクロペンタンカルボン酸メチルへの還元 装置の準備手順は例5と同様とした。2−オキソシクロペンタンカルボン酸メ チル3.270g(23.0ミリモル)を脱気したメタノール20mlに入れた ものを、例3に記載されている方法に従って調製した触媒に添加した。オートク レーブを70℃の恒温にし、9.81MPaに加圧した。120分後にオートク レーブを冷却し、オートクレーブを開け、油状の褐色の残渣が残るまで溶剤を蒸 発させた。サンプルをGC(カラム:PEG20M、オーブン温度160℃、F ID200℃、インジェクター200℃)で試験した。結果から、転化は定量的 であり、トランス/シス比は30であり、従ってジアステレオマー過剰率が94 %であることが分かった。残渣を真空蒸留し、17mmHgで100〜110℃ の間で通過する画分を集めた。得られたサンプルは、化学的に純粋な水素化生成 物であった。 2−ヒドロキシシクロペンタンカルボン酸メチル:1H−NMR(200MH z)(CDCl3)(ppm):4.35(1H,m)、3.71(3H,s) 、2.65(1H,m)、2.4〜1.5(6H,m)。立体誘導を、シフトキ ラル剤としてトリス〔(+)樟脳化3−エプタフルオロメチルヒドロキシメチレ ン)〕Euを用いて、1H−NMR分光分析法により測定した。シフト剤をラセ ミ還元生成物に添加すると、4.40ppmでの四重項が、それぞれ5.2pp mと5.85ppmの二つの四重項に分かれた。同一のキラルシフト剤を立体選 択還元生成物に添加すると、5.2ppmに四重項の存在を何等示すことなく、 四重項が5.85ppmにシフトした。この結果から、エナンチオマー過剰率が 99%を越えていることが確認された。 例7 α−アセトアミド桂皮酸の還元 電磁攪拌機を取り付けたガラス製の100mlのオートクレーブを、水素で9 8.1KPa迄数回加圧して排気し(このサイクルを少なくとも5回繰り返した )、30℃の恒温とした。α−アセトアミド桂皮酸500mg(2.06ミリモ ル)を、予めアルゴンで15分間脱気しておいたメタノール40mlに溶解した ものを、例4に記載されている方法に従って調製した触媒に添加した。得られた 溶液を、シリンジでオートクレーブに移した。オートクレーブを0.3MPa に加圧した。反応の進行を、マノメーターの圧降下によりフォローした。180 分後、水素の吸収が停止したのでオートクレーブを開け、サンプルを1H−NM R分光分析法により分析した。基質のアセチル基を示すシグナル(2.1ppm )がなくなり、1.90ppmにN−アセチルフェニルアラニンのメチル基が表 れた。これは、100%転化したことを示す。この溶液を短いシリカカラムに通 してろ過して、ロジウム錯体を除去した。立体選択を、旋光分析法により測定し た。メタノール25mlに溶解した残渣(0.211g)のサンプルのαは+0 .193°であり、これは〔α〕D 25=+22.9°に相当する。 例8 キラルジホスフィン(VIR)と(VIS)の調製 a)N−(フェニルスルホニル)−3−メチルインドールの調製 3−メチルインドール(4g)を無水DMF(50ml)に溶解したものを3 0℃以下の温度に保ち、これに50%の水素化ナトリウム(1.1g)を添加し た。15分間攪拌した後、無水DMF(20ml)に溶解した塩化フェニルスル ホニル(4.7ml)を注意深く滴下して、25℃で2時間攪拌する。その後、 メタノール(5ml)を添加して、存在している可能性のある微量のBuLiを 分解する。減圧下で溶剤を除去し、水(20ml)を添加し、塩化メチレンで徹 底的に抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化し、減圧下で溶剤を除去す る。残渣(9.5g)を塩化メチレン/ヘキサン(1:1)中で粉砕すると、N −(フェニルスルホニル)−3−メチルインドール(2g)(融点116〜12 0℃)が得られる。母液をクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン/ヘキサン (1:1)で溶離して生成物を更に回収する。N−(フェニルスルホニル)−3 −メチルインドール(7g)が、中間の画分から回収される。減圧下で溶剤を除 去する。 全反応収率:85% 1H−NMRの詳細:7.99(1H,d,J=8Hz,7位にH)、7.8 6(1H,d,J=8Hz,フェニル環のオルト位にH)、7.85(1H,d ,J=8Hz,フェニル環のオルト位にH)、7.38(6H,m,芳香族)、 7.31(1H,s,2位にH)、2.25(3H,s,3位にCH3) b)N,N’−ビス(フェニルスルホニル)−3,3’−ジメチル−2,2’− ビインドールの調製 N−フェニルスルホニル−3−メチルインドール(30g)とTMEDA(1 00ml)を無水THF(10ml)に溶解して得た溶液を−30℃に保ち、こ れに1.6MのBuLi(61ml)を滴下する。この温度で30分攪拌後、無 水塩化第二銅(13g)を添加し、室温で1時間放置する。減圧下で溶剤を除去 した後、水(50ml)を添加し、塩化メチレンで徹底的に抽出する。有機相を 硫酸ナトリウム上で無水化し、溶剤を減圧下で除去する。 残渣をイソプロパノール中で加熱粉砕すると、N,N’−ビス(フェニルスル ホニル)−3,3’−ジメチル−2,2’−ビインドール(6g)(融点234 ℃)が得られる。 1H−NMRの詳細:8.35(2H,d,J=8Hz,7位と7’位にH) 、7.48(10H,m,芳香族)、7.3(6H,m,芳香族)、1.62( 6H,s,3位と3’位にCH3) 質量分析(e.i.):(M+)540 ろ液をイソプロパノール中で冷却粉砕して、未反応のN−フェニルスルホニル −3−メチルインドール(8g)を回収する。母液をシリカゲルカラムクロマト グラフィーにかけ、塩化メチレン/ヘキサン(1:1)で溶離する。最初の画分 から、N−フェニルスルホニル−3−メチルインドール(7g)が得られる。最 終の画分を集めて溶剤を除去すると、N,N’−ビス(フェニルスルホニル)− 3,3’−ジメチル−2,2’−ビインドール(4.5g)が得られる。 2−〔2−(3−メチル−3−ヒドロキシ)−デルタ1−インドリニル〕−3 −メチルインドールの調製 N,N’−ビス(フェニルスルホニル)−3,3’−ジメチル−2,2’−ジ インドール(10g)、水酸化カリウム(8.3g)、ジオキサン(80ml) をエタノール(300ml)に入れて得た懸濁液を5時間還流させ、その後溶剤 を除去する。この反応混合物を水で処理して、塩化メチレンで徹底的に抽出する 。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化して、減圧下で溶剤を除去する。得られた 混合物を塩化メチレン中で24時間通気攪拌し、生成物をろ過して回収する。得 られる固体は、2−〔2−(3−メチル−3−ヒドロキシ)−デルタ1−インド リニル〕−3−メチルインドール(2g)(融点94℃)である。 1H−NMRの詳細:9(1H,s,NH)、7.52(1H,d,J=7. 9Hz,4位にH)、7.29(1H,d,J=5.6Hz,7位にH)、7. 14(1H,t,J=7.9Hz,6’位にH)、7(5H,m,芳香族)、1 .52(3H,s,OHの近くにCH3) 母液をクロマトグラフィーにかけて塩化メチレンで、その後塩化メチレン/酢 酸エチル(10:0.1)で溶離する。最終画分から2−〔2−(3−メチル− 3−ヒドロキシ)−デルタ1−インドリニル〕−3−メチルインドール(0.7 g)が回収される。減圧下で溶剤を除去する。 d)3,3’−ジメチル−2,2’−ジインドールの調製 2−〔2−(3−メチル−3−ヒドロキシ)−デルタ1−インドリニル〕−3 −メチルインドール(2.5g)を窒素気流下でエタノールに加熱溶解して、残 存している微量の酸素を全て除去する。最少量の水(10ml)に溶解したホウ 水素化ナトリウム(0.51g)を滴下し、25℃で2時間攪拌する。10%の 塩酸溶液を滴下してpHを6とし、12時間攪拌する。窒素下で残渣をろ過する と、3,3’−ジメチル−2,2’−ジインドール(融点146〜149℃)が 定量的な収率で得られる。 1H−NMRの詳細:8(2H,s,ブロード,NH)、7.63(2H,d ,J=8Hz,4位と4’位にH)、7.39(2H,d,J=8Hz,7位と 7’位にH)、7.25(2H,t,J=8Hz,5位と5’位にH)、7.1 8(2H,t,J=8Hz,5位と5’位にH)、2.40(6H,s,3位と 3’位にCH3) e)N,N’−ビス(ジフェニルホスフィン)−3,3’−ジメチル−2,2’ −ジインドールの調製 3,3’−ジメチル−2,2’−ジインドール(0.24g)を無水THF( 85ml)に溶解して得た溶液を−20℃に保ち、良く脱気したものに、1.6 MのBuLi(1.1ml)を滴下し、2分後に、無水THF(5ml)に溶解 したジフェニルクロロホスフィン(0.4g)を滴下する。 16時間攪拌を続けた後、減圧下で溶剤を除去し、水(20ml)を添加する 。塩化メチレンで徹底的に抽出し、硫酸ナトリウム上で無水化し、減圧下で溶剤 を除去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン/塩 化メチレン(8:2)で溶離する。残渣を最初の画分から回収する。それをイソ プロパノール中で粉砕すると、N,N’−ビス(ジフェニルホスフィン)−3, 3’−ジメチル−2,2’−ジインドール(融点>230℃)が、収率95%で 得られる。 1H−NMRの詳細:7.59(2H,d,J=8Hz,4位と4’位にH) 、7.3(14H,m,芳香族)、7.1(6H,m,芳香族)、6.85(2 H,t,J=5Hz,6位と6’位にH)、6.7(2H,d,J=8Hz,7 位と7’位にH)、2.05(6H,s,3位と3’位にCH331PP−NMRの詳細:37(1P,s) 質量分析(e.i.):(M+)628 f)N,N’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジメチル−2,2 ’−ジインドールの調製 N,N’−ビス(ジフェニルホスフィン)−3,3’−ジメチル−2,2’− ジインドール(0.1g)をCH2Cl2(5ml)に溶解して得た溶液を−30 ℃に保ち、これに35%のH22(0.16ml)を滴下する。温度を−30℃ に2時間保つ。水を添加して有機相を分離して乾燥させ、減圧下で溶剤を除去す ると、ラセミN,N’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジメチル −2,2’−ジインドール(0.1g)が得られる。 1H−NMRの詳細:1.8(6H,s,3位と3’位に2CH3)、7.3( 28H,m,芳香族) g)1,1’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジメチル−2,2 ’−ジインドールの分割 ジホスフィンオキシド混合物0.28gとd−10−カンフォスルホン酸0. 21gとを、トルエン/CH2Cl2(体積比8:1)からなる混合物9mlに加 熱溶解した。60分後に、ジホスフィンオキシドとd−10−カンフォスルホン 酸との付加物が78mg得られた。この付加物の融点は125〜127℃であり 、〔α〕Dは+34°(c=1.56、MeOH)であった。 ジホスフィンオキシドの還元を、例1のg)に記載されているのと同じ方法に より行った。 例9 キラルジホスフィン(VIIR)及び(VIIS)の調製 a)3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェンの調製 3−ブロモ−ベンゾ〔b〕チオフェン(15.1g)を無水THF(40ml )に溶解したものを、−70℃に保った1.6Mのn−BuLi溶液(48ml ) に、攪拌しながら滴下する。15分間反応させ、CuCl2(13g)を添加し て1時間攪拌する。温度を0℃に上げて、2MのHCl(98ml)を添加する 。形成された有機塩をろ過して取り除き、溶剤を減圧下で蒸発させ、残渣に水を 添加する。CH2Cl2で抽出して、Na2SO4で無水化し、溶剤を減圧下で除去 する。この残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけてヘキサンで溶 離する。中間の画分を集めると、3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェンが得られ る(収率56%)。 1H−NMR:7.38(4H,m,5,6,5’,6’位にH)、7.55 (2H,s,2位にH)、7.72〜7.98(4H,m,4,7,4’,7’ 位にH) b)2,2’−ビス−(ジフェニルホスフィン)−3,3’−ジベンゾ〔b〕チ オフェンの調製 3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェン(1.7g)とテトラメチレンジアミン (1.15ml)を無水THF(40ml)に溶解して得た溶液を−50℃に保 ち、これに1.6Mのn−BuLi(8.4ml)を、窒素雰囲気下で攪拌しな がら滴下し、温度を0℃に上げる。Ph2PCl(2.4ml)を滴下して室温 に放置する。溶剤を減圧下で留去し、水を残渣に添加した後、CH2Cl2で抽出 する。有機相をNa2SO4で無水化し、溶剤を減圧下で除去する。この残渣を石 油エーテルを用いて粉砕すると、2,2’−ビス−(ジフェニルホスフィン)− 3,3’−ジベンゾ〔b〕チオフェン(3.12g、融点177℃)が得られる (収率99%)。 c)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジベンゾ〔b〕チ オフェンの調製 2,2’−ビス−(ジフェニルホスフィン)−3,3’−ジベンゾ〔b〕チオ フェン(3.49g)をCH2Cl2(100ml)に溶解して得た溶液を0℃ に保ち、これに35%のH22(5.5ml)を滴下する。温度を0℃に1時間 、25℃に1時間保つ。水を添加して有機相を分離し、それを無水化して、溶剤 を減圧下で除去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離剤Ac OEt/CH2Cl2/Et3N(3/7/0.1))にかけて最終画分を集める と、ラセミ2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジベンゾ〔 b〕チオフェン(3.65g、融点286℃)が得られる(収率68.5%)。 d)(+)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジベンゾ〔 b〕チオフェンと(−)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’ −ジベンゾ〔b〕チオフェンの調製 (±)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ジベンゾ〔b 〕チオフェン(2.15g)と(−)−O,O’−ジベンゾイル−L−酒石酸( DBTA(1.2g)との混合物を、AcOEt溶液(90ml)とCHCl3 (43ml)で加熱溶解する。24時間後にろ過を行い、(+)ホスフィンオキ シドと(−)−DBTAとの付加物(0.54g)を回収する。この付加物の融 点は185〜190℃であり、〔α〕D 25は+100.6°(c=0.50、E tOH)である。この付加物を、溶離剤としてCH2Cl2/AcOEt/TEA (7/3/0.1)の混合物を用いてシリカゲルのカラムに通してろ過し、(+ )ホスフィンオキシド(0.212g)を回収する。〔α〕D 25は+325°( c=0.48、ベンゼン)であり、融点は206℃である。 (+)ホスフィンオキシドを分割した母液から溶剤を減圧下で除去して残渣を 得、それを、溶離剤としてCH2Cl2/AcOEt/TEA(7/3/0.1) の混合物を用いてシリカゲルのカラムに通してろ過する。不純物として(+)ホ スフィンオキシドを含む(−)ホスフィンオキシド(6g)を回収し、(+)− DBTA(3.4g)で処理する。この混合物を、AcOEt(255ml)と CHCl3(147ml)からなる溶液で加熱溶解する。24時間後にろ過を行 い、(−)ホスフィンオキシドと(+)−DBTAとの付加物(4g)を回収す る。この付加物の〔α〕D 25は−97.4°(c=0.47、EtOH)であり 、融点は190℃である。この付加物を、溶離剤としてCH2Cl2/AcOEt /TEA(7/3/0.1)の混合物を用いてシリカゲルのカラムに通してろ過 し、(−)ホスフィンオキシド(2.7g)を回収する。〔α〕D 25は−329 °(c=0.5、ベンゼン)であり、融点は206℃である。 e)(+)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−3,3’−ジベンゾ〔 b〕チオフェンと(−)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−3,3’− ジベンゾ〔b〕チオフェンの調製 例1のg)に記載されているのと同じ方法で、ジホスフィンオキシドの還元を 行った。ジホスフィン(+)の〔α〕D 25は+119°(c=0.51、DMF )であり、一方ジホスフィン(−)の〔α〕D 25は−119°(c=0.51、 DMF)である。生成物の融点は117℃である。 例10(R)及び(S)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−1,1’−ジベン ゾイミダゾールの調製 a)1,1’−ジベンゾイミダゾールの調製 2,2’−ジホルミル−1,1’−ジベンゾイミダゾール(3.00g)を水 (200ml)に入れて得た懸濁液、ベンゼン(70ml)、及び炭酸ナトリウ ム1.12gに、過マンガン酸カリウム(1.6g)溶液を200ml滴下する 。この混合物を48時間攪拌する。二酸化マンガンがなくなる迄亜硫酸水素ナト リウムを添加した後、10%の塩酸溶液を用いて溶液のpHを酸性にする。有機 相を塩化メチレンで抽出して、硫酸ナトリウムで無水化し、溶剤を減圧下で蒸発 させて残渣を得る。この残渣からイソプロピルエーテルを用いてクラストを除去 す ると、融点が188℃の生成物が1.5g得られる(収率61.7%)。 1H−NMR:7.02(2H,d,4位と4’位に)、7.3〜7.5(4 H,m,5位と5’位、及び6位と6’位に)、7.92(2H,d,7位と7 ’位に)、8.17(2H,s,2位と2’位に) M.W.(質量分析):294 b)2,2’−ビス−(ジフェニルホスフィン)−1,1’−ジベンゾイミダゾ ールの調製 1,1’−ジベンゾイミダゾール(1.5g)を無水THF(70ml)に溶 解して得た溶液とTMEDA2.25mlに、不活性雰囲気下、−60℃で1. 6MのBuLiを9.4ml滴下する。温度を0℃に上げて、クロロジフェニル ホスフィンを2.78ml滴下する。この反応混合物を2時間攪拌し、温度を2 0℃に上げてメタノールを添加する。溶剤を減圧下で除去し、残渣を水と塩化メ チレンで処理する。有機相を硫酸ナトリウムで無水化し、溶剤を減圧下で除去し て残渣を得る。これを酢酸エチル(450ml中3.00g)で結晶化すると、 融点が227℃の生成物が得られる(収率78%)。 1H−NMR:6.3(2H,d,7位と7’位にH)、6.93(2H,t ,6位と6’位にH)、7.11〜7.39(20H,m,パラ位とメタ位に芳 香族、5位と5’位に水素)、7.51〜7.59(2H,m,オルト位に芳香 族)、7.88(2H,d,4位と4’位に芳香族)31P−NMRスペクトルは 、−28.3ppmに一重項を示す。 M.W.(質量分析):分子ピークなし、525(M+−C65) c)ジホスフィンの分割 例2のd)と同じ方法で、HPLCによりラセミジホスフィンの分割を行った 。 例11 〔Ru{化合物IIIS}(−)〕Cl2の調製 調製方法は例3と同様であるが、但し〔(IIIS)(−)〕を37.0mg と〔RuCl2(C65)〕2を13.0mg用いる。 例12ベンゾイル酢酸メチルの(R)−(+)−3−フェニル−3−ヒドロキシ−プロ ピオン酸メチルへの還元 ガラスで内張りし、電磁攪拌器と加熱装置を取り付けた75mlのステンレス スチール製のオートクレーブを、水素で4.90MPaとなる迄数回加圧した後 排気し(このサイクルを少なくとも5回繰り返す)、25℃の恒温とした。ベン ゾイル酢酸メチル9.25g(52ミリモル)を、予め15分間アルゴンで脱気 したメタノール50mlに溶解したものを、例11に記載した方法に従って調製 した触媒に添加した。 この溶液をシリンジでオートクレーブに移し、10.2MPaに加圧した。1 00時間後にオートクレーブの圧を抜き、溶剤を蒸発させて固体を得た。1H− NMR分光測定により求めた転化率は、92%であった。 反応生成物を分取カラムクロマトグラフィー(SiO2、CH2Cl2)により 精製した。エナンチオマー純度を、旋光分析により測定した。生成物のサンプル 比旋光度〔α〕Dは+15.3°(c=4.6、EtOH)であったが、これは (R)−(+)異性体についての光学的純度が90%であることに相当する。( 〔α〕D 25=+17.22(c=4.6、EtOH);[A.McKenzie 及びG.Mar tin,J.Chem.Soc.,1913,103,112]) 例13フェニルグリオキシル酸メチルの(S)−(+)−マンデル酸メチルへの還元 ベンゾイル酢酸メチルをフェニルグリオキシル酸メチル(8.5g、51.8 ミリモル)に代えて、例12の手順を繰り返した。 100時間後にオートクレーブを開けて、溶剤を蒸発させた。転化率は90% (1H−NMR)であった。化学的に純粋なマンデル酸メチルが、カラムクロマ トグラフィー(SiO2、ヘキサン/CH2Cl2(体積比7/3))により得ら れた。エナンチオマー純度を、キラル固定相を用いたHPLCにより測定した( DAICEL、Chiralcel OD; フロー0.5ml/分、ヘキサン/イソプロパノ ール(90:10))ところ、エナンチオマー(S)−(+)についての純度は 90%であった。 例14 ピルビン酸メチルの(S)−(−)−乳酸メチルへの還元 ベンゾイル酢酸メチルをピルビン酸メチル(3.13mg、30.74ミリモ ル)に代えて、例12の手順を繰り返した。 100時間後に転化率が100%(1H−NMR)となったので、溶剤を蒸発 させ、乳酸メチルを蒸留した(50℃、17mmHg)。通常の手順に従って乳 酸メチルを対応する(+)MTPAのエステルに変えた後、e.e.をHPLC 分析により測定した。その結果、エナンチオマー(S)についてのe.e.は、 88%であった。 例15 〔Ru〔(化合物VIIS)(−)〕Cl2〕の調製 調製方法は例11と同様であるが、〔(VIIS)(−)〕を10.6mgと 〔RuCl2(C65)〕2を3.7mg用いた。 例163−オキソ酪酸エチルの(S)(+)3−ヒドロキシ−酪酸エチルへの還元 3−オキソ−酪酸エチルを1.95g計ってMeOH/H2O(体積比19/ 1)に溶解し、また例15の触媒を用いる以外は、例5と同じ手順を繰り返した 。反応後、3−ヒドロキシ酪酸エチルは91%となり、一方、3−ジメトキシ酪 酸エチルは9%であった。立体誘導は、対掌体(S)について>99%であった 。 例17 〔Ru〔(化合物IIIS)(−)CH3COO)2〕の調製 〔(IIIS)(−)〕を47mgと〔RuCl2(C65)〕2を17mg用 いて、例11と同様の方法により〔Ru〔(化合物IIIS)(−)〕Cl2〕 錯体を調製した。このようにして得られた残渣に、酢酸銀22.7mgと無水ト ルエン7mlを添加した。この懸濁液を1時間攪拌し、その後、マイクロクリス タリンセルロースの短いカラムに通してろ過し、トルエンで洗浄して触媒を全て 溶離した。〔Ru〔(化合物IIIS)(−)CH3COO)2〕を含むトルエン 溶液をAr雰囲気下に置き、これ以上精製せずに、接触還元反応に用いた。 例18 ゲラニオールの(R)−(+)−β−シトロネロールへの還元 例17のようにして調製した触媒を0.015ミリモル含むトルエン溶液のサ ンプルを蒸発乾固し、残渣にゲラニオール889mgとメタノール10mlを添 加した。得られた溶液をスチール製のオートクレーブに移して10.2MPaに 加圧し、25℃の恒温浴中で85時間攪拌した。 反応終了後にオートクレーブを開け、溶剤を蒸発させた。転化率は100%(1 H−NMR)であった。 残渣をバルブ間(bulb−to−bulb)蒸留した(110℃、10mm Hg)。(R)−(+)−β−シトロネロールの比旋光度〔α〕D 25は+44. 4(明瞭)であり、光学的純度は83%(〔α〕D 25=+5.33(明瞭))で あった。 例19 チグリン酸の(S)−(+)−2−メチル酪酸への還元 ゲラニオールの代わりにチグリン酸を600mg用いる以外は、例18と同じ 手順を繰り返した。 オートクレーブを10.2MPaに加圧し、25℃の恒温浴中に入れ、85時 間電磁攪拌した。 通常の作業の後、転化率が100%(1H−NMR)となった。この生成物を バルブ間蒸留した(78℃、15mmHg)。エナンチオマー純度を、この酸と アニリンとの縮合により得られたアミドに基づき、キラル固定相を用いたHPL Cにより測定した(DAICEL、Chiralcel OD; フロー0.7ml/分、ヘキ サン/イソプロパノール(95:5))ところ、90%であった。 例20 アトロパ酸の(S)−(+)−2−フェニルプロピオン酸への還元 ゲラニオールの代わりにアトロパ酸を742mg用いる以外は、例18と同じ 手順を繰り返した。オートクレーブを10.2MPaに加圧し、25℃の恒温浴 中に入れ、90時間電磁攪拌した。 通常の作業の後、転化率が100%(1H−NMR)となった。この生成物を バルブ間蒸留した(115℃、1mmHg)。エナンチオマー純度を、この酸と アニリンとの縮合により得られたアミドに基づき、キラル固定相を用いたHPL Cにより測定した(DAICEL、Chiralcel OD; フロー0.5ml/分、ヘキ サン/イソプロパノール(90:10))ところ、エナンチオマー(S)−(+ )についての純度は90%であった。 例21 〔Ru〔(化合物IIIS)(−)〕2〕ClO4の調製 AgClO4を無水トルエンに溶解して得た0.0424Mの溶液1.1ml を、〔Rh(1,5−COD)Cl〕nを11.6ml入れた有底試験管に、ア ルゴン雰囲気下で添加した。室温で1時間攪拌した後、混合物を短いセライトの カラムに通してろ過し、得られた淡黄色の溶液に(化合物IIIS)(−)を3 2.5mg添加した。溶液を3時間攪拌した後、(化合物IIIS)(−)を更 に32.5mg添加した。水素雰囲気下で混合物を更に16時間攪拌した後、減 圧下で蒸発を行い、得られた橙赤色の残渣を石油エーテルで3回洗浄して、一晩 真空乾燥した。このようにして得られた〔Ru〔(化合物IIIS)(−)〕2 〕ClO4錯体を、これ以上精製せずにN,N−ジエチル−ゲラニルアミンの異 性化に用いた。MNRスペクトル、マススペクトル、及び元素分析の結果から、 この錯体が既述の構造を有することが確認された。 例22N,N−ジエチル−ゲラニルアミンの異性化、(R)(+)シトロネラールの調 例21に記載されているようにして調製した〔Ru〔(化合物IIIS)(− )〕2〕ClO415mgを無水THF3mlに溶解して得た溶液と、N,N−ジ エチルゲラニルアミン0.99gをTHF12mlに溶解して得た溶液とを、予 めアルゴン雰囲気としたオートクレーブにシリンジで移した。このオートクレー ブを110℃の恒温浴に入れて電磁攪拌した。9時間後に溶液のサンプル(1m l)を取り出し、ジイソプロピルエーテル9mlで希釈し、氷酢酸/水(体積比 1:4)溶液5mlを用いて0℃で10分間処理した。20℃で更に10分経過 後、有機相を分離してNaHCO3の飽和溶液 で洗浄し、硫酸ナトリウム上で無水化して、GC分析を行った。転化率は約80 %であった。更に10時間反応させた後、溶液を濃縮乾固し、ジイソプロピルエ ーテル20mlと氷酢酸/水(体積比1:4)の溶液10mlを用いて上記のよ うに処理した。最後に有機相を濃縮し、残渣を蒸留して、比旋光度〔α〕D 25が +15.2(明瞭)、すなわち光学的純度が約92%の(R)(+)シトロネラ ールを得た。 例232,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−4,4’−テトラメチル−3,3 ’−〔b〕フランの調製 a)2−(3,5−ジメチルフェニルオキシ)酢酸エチル 3,5−ジメチルフェノール(0.082モル)をメタノール(30ml)に 溶解して得た溶液を、ナトリウムメチラート(0.098モル)をメタノールに 溶解して得た溶液に滴下して、30分間攪拌した。減圧下で混合物から溶剤を蒸 発させて、ナトリウム3,5−ジメチルフェネートを得た。2−ブロモ酢酸エチ ル(0.098モル)をDMF(20ml)に溶解させたものを、塩を無水DM F(150ml)に溶解して得た溶液に滴下した。この混合物を室温で4時間攪 拌し、溶剤を減圧下で除去し、水で処理し、塩化メチレンで抽出した。有機相を 分離し、Na2SO4で無水化し、溶剤を減圧下で除去すると、粗2−(3,5− ジメチルフェノキシ)酢酸エチルが22.7g得られた。これを、これ以上精製 せずに次の反応に用いる(定量的収率)。 分析、及び分光分析の詳細 1H−NMR:δH(300MHz,CDCl3)1.28(3H,t,CH2 3 )、2.25(6H,s,3,5−Me)、4.25(2H,q,CH 2CH3 )、4.5(2H,s,CH2CO)、6.5(2H,s,2,6−H)、6. 6(1H,s,4−H) b)2−(3,5−ジメチルフェノキシ)酢酸 2−(3,5−ジメチルフェノキシ)酢酸エチル(0.11モル)をエタノー ル(159ml)に溶解して得た溶液にKOH(0.11モル)を滴下して、1 時間加熱する。析出したカリウム塩をろ過して、水に溶解する。pHが酸性にな る迄、この溶液に20%塩酸を添加する。2−(3,5−ジメチルフェノキシ) 酢酸をろ別する(収率80%)。 分析、及び分光分析の詳細 融点73℃ 1H−NMRδH(80MHz,CDCl3)2.30(6H,s,3,5−M e)、4.65(2H,s,CH2CO)、6.55(2H,s,2,6−H) 、2.65(1H,s,4−H) c)4,6−ジメチル−3−ベンゾフラノン ポリリン酸と2−(3,5−ジメチルフェノキシ)酢酸との混合物を、50℃ で8時間加熱した。この混合物を氷に注ぎ入れ、pHが7になる迄アンモニアで 処理した。この混合物を塩化メチレンで抽出し、有機相を重炭酸塩溶液で処理し て無水化し(Na2SO4)、溶剤を減圧下で除去したところ、4,6−ジメチル −3−ベンゾフラノンが得られた(転化率40%、収率100%)。 分析、及び分光分析の詳細 融点55〜60℃ 1H−NMRδH(80MHz,CDCl3)2.25(3H,s,Me)、2 .45(3H,s,Me)、4.40(2H,s,CH2)、6.50(1H, s,芳香族)、6.60(1H,s,芳香族) d)4,6−ジメチル−3−ブロモベンゾフラノン 4,6−ジメチル−3−ベンゾフラノン(0.09モル)を、予め100℃に 加熱しておいた三臭化リン(30ml)にゆっくり添加した。この混合物を注意 深く氷で処理し、塩化メチレンで抽出する。有機相を無水化し(Na2SO4)、 溶剤を減圧下で除去すると、4,6−ジメチル−3−ブロモベンゾフラノンが得 られる(収率60%)。 分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδH(80MHz,CDCl3)2.40(3H,s,Me)、2 .70(3H,s,Me)、6.85(1H,s,5−H)、7.15(1H, s,7−H)、7.50(1H,s,2−H) e)4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ビベンゾ〔b〕フラン 無水THF(20ml)に溶解した4,6−ジメチル−3−ブロモベンゾフラ ノン(0.012モル)を、−105℃に保ったn−BuLiの1.6Mヘキサ ン溶液(9ml)に、攪拌しながら滴下する。この混合物を20分間反応させ、 CuCl2(0.014モル)を添加して3時間攪拌した。0℃で2MのHCl (20ml)を添加した。溶剤を減圧下で留去し、残渣に水を添加した。CH2 Cl2で抽出した後、混合物を無水化し(Na2SO4)、溶剤を減圧下で留去し た。残渣を、溶離剤としてヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトラフィー にかけた。最終画分を集めると、4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’ −ビベンゾ〔b〕フランが得られる(収率30%)。 分析、及び分光分析の詳細 融点:98〜100℃ 1H−NMRδH(80MHz,CDCl3)2.10(6H,s,Me)、2 .45(6H,s,2Me)、6.85(2H,s,5,5’−H)、7.18 (2H,s,7,7’−H)、7.50(2H,s,2,2’−H) 質量分析 :M+=290 f)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−4,4’,6,6’−テトラ メチル−3,3’−〔b〕フラン 4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ビベンゾ〔b〕フラン(0. 0014ミリモル)とテトラメチレンジアミン(0.5ml)とを無水THF( 10ml)に溶解して得た溶液を−50℃に保ち、これに1.6Mのn−BuL i(2ml)を窒素雰囲気下で攪拌しながら滴下する。その後、温度を25℃に 上げる。Ph2PCl(0.63ml)を滴下した。溶剤を減圧下で留去し、残 渣に水を添加し、有機相をCH2Cl2で抽出した。有機相を無水化し(Na2S O4)、溶剤を減圧下で除去した。残渣を石油エーテルを用いて粉砕すると、2 ,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−4,4’,6,6’−テトラメチル− 3,3’−〔b〕フランが得られる(収率60%)。 分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδH(300MHz,CDCl3)1.90(6H,s,2Me) 、2.40(6H,s,2Me)、6.75(2H,s,5,5’−H)、7. 80(22H,m,芳香族) 31PδH(200MHz,CDCl3)−32.15 質量分析:M+=658 g)2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−4,4’,6,6’−テト ラメチル−3,3’−〔b〕フラン 2,2’−ビス(ジフェニルホスフィン)−4,4’,6,6’−テトラメチ ル−3,3’−〔b〕フラン(0.45g)をCH2Cl2(30ml)に溶解し て得た溶液を0℃に保ち、これに35%のH22(5.5ml)を滴下する。温 度を0℃に15分間、25℃に1時間保つ。水を添加して、有機相を分離した。 有機相を無水化し、溶剤を減圧下で除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト グラフィーにかけ(溶離剤:AcOEt/CH2Cl2=2/8)て最終画分を集 めたところ、ラセミ2,2’−ビス(ジフェニルホスフィニル)−3,3’−ビ ベンゾ〔b〕チオフェンが得られた(収率90%)。 分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδH(300MHz,CDCl3)1.80(6H,s,2Me) 、2.20(6H,s,2Me)、6.35(2H,s,5,5’−H)、7. 00〜7.80(22H,m,芳香族) 31P=+16.9 例2のd)と同じ方法で、キラルカラムを用いたHPLCにより、分割を行っ た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI C07F 9/655 9450−4H C07F 9/655 9/6553 9450−4H 9/6553 9/6558 9450−4H 9/6558 15/00 9450−4H 15/00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AU,BB,BG,BR,BY,CA,CN,C Z,EE,FI,GE,HU,IS,JP,KG,KP ,KR,KZ,LK,LR,LT,LV,MD,MG, MN,MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SG,S I,SK,TJ,TM,TT,UA,UG,US,UZ ,VN (72)発明者 チェザーロティ,エドアルド イタリー国ミラノ、ビア、マゾット、23 (72)発明者 サニーコロ,フランチェスコ イタリー国ミラノ、アルサイア、ナビグリ オ、グランデ、46 (72)発明者 トリマルコ,リチア イタリー国ミラノ、ビア、ミチェナーテ、 23/2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 以下の一般式: (式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、COOR3(R3は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル)から選ばれ、 Yはフェニル、置換フェニル(置換基は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状 のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしく は環状のC1〜C10アルキル))、アリール、置換アリール(置換基は直鎖状、 枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル,ハロゲン、OR6(R6は直 鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル))、直鎖状、枝分か れ鎖状、もしくは環状のC3〜C10アルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル(置換基は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし くは環状のC1〜C10アルキル))、アリール、置換アリール(置換基は直鎖状 、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は 直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル))、直鎖状、枝分 かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、OR5(R5は直 鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル)から選ばれる)の芳 香族五原子二複素環式系により構成されているか、又は 以下の式 もしくは (式中、R4は水素、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状の非置換C1〜C10ア ルキルから選ばれ、nは0〜6であり、R2は水素であってよい)のように、該 系の各五原子複素環式芳香族環が縮合して、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし くは環状のC1〜C10アルキル)で置換されているか、もしくは置換されていな いベンゼン環もしくはナフタリン環を形成していることを特徴とするキラル ジホスフィン。 2.該芳香族五原子複素環式系が、 1,1’−ビピロール、2,2’−ビピロール、3,3’−ビピロール 3,3’−ビチオフェン 3,3’−ビフラン 1,1’−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合物(IIA)、(IIB)、(VA)、(VB)、 5,5’−ビイミダゾール 4,4’−ビイソチアゾール 4,4’−ビイソオキサゾール 4,4’−ビピラゾール、5,5’−ビピラゾール、 1,1’−ビ−1,3,4−トリアゾール 3,3’−ビベンゾチオフェン 3,3’−ビベンゾフラン 2,2’−ビインドール 1,1’−ビベンゾイミダゾール から選ばれることを特徴する、請求項1に記載のキラルジホスフィン。 3.該R2が水素であり、該Yがフェニルであり、該五原子芳香族環がチオフ ェンであって、これが縮合して式(IIA)、(IIB)(R4はメチル、nは 2)による二置換芳香族環となっていることを特徴とする、以下の式 で表される、請求項1に記載のキラルジホスフィン。 4. 該R2がメチルであり、該Yがフェニルであり、該R1がメチルであり、 該芳香族五原子二複素環式系が3,3’−ビチオフェンであることを特徴とする 、以下の式 で表される、請求項1に記載のキラルジホスフィン。 5. 以下の工程、 −五原子芳香族二複素環式系を、対応する五原子複素環式アニオンを酸化カッ プリングさせて合成する、 −二複素環式系のジアニオンを形成させる、 −該ジアニオンと、P(Y)2ClもしくはPO(Y)2Cl(Yはフェニル、 置換フェニル、アリール、置換アリール、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状 のC3〜C10アルキルから選ばれる)とを反応させて、ラセミジホスフィン(I A)+(IB)、もしくはラセミジホスフィンオキシドを得る、 −公知の手法を用いた酸化反応により、該ラセミジホスフィン(IA)+(I B)を対応するラセミジホスフィンオキシドへ転化させる、 −該ラセミジホスフィンオキシドと酸キラル分割剤とを反応させて、二種類の ジアステレオマー付加物を得る、 −該ジアステレオマー付加物を分別結晶により分離する、 −分離した二種類のジアステレオマー付加物のそれぞれに対して塩基処理を行 い、対応するエナンチオマー的に純粋なジボスフィンオキシドを得る、 −エナンチオマー的に純粋な該ジホスフィンオキシドと、シランのような公知 の還元剤とを反応させて、エナンチオマー的に純粋なキラルジホスフィン(IA )及び(IB)を得る ことからなることを特徴とする、請求項1に記載のキラルジホスフィンを製造す る方法。 6. 該ラセミジホスフィン(IA)+(IB)をキラル手法を用いたカラム クロマトグラフィーにより直接分割することを特徴とする、請求項5に記載のキ ラルジホスフィン製造方法。 7. 請求項1に記載のキラルジホスフィンの、遷移金属との錯体を製造する 際のキラルリガンドとしての使用。 8. 遷移金属と、芳香族五原子二複素環式系により構成されるキラルジホス フィンとの錯体からなることを特徴とする立体制御合成用のキラル触媒であって 、該キラルジホスフィンが、以下の一般式 (式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、COOR3(R3は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル)から選ばれ、 Yはフェニル、置換フェニル(置換基は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状 のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしく は環状のC1〜C10アルキル))、アリール、置換アリール(置換基は直鎖状、 枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル,ハロゲン、OR6(R6は直 鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル))、直鎖状、枝分か れ鎖状、もしくは環状のC3〜C10アルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル(置換基は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし くは環状のC1〜C10アルキル))、アリール、置換アリール(置換基は直鎖状 、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は 直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル))、直鎖状、枝分 かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、OR5(R5は直鎖状、枝分かれ 鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル)から選ばれる)の芳香族五原子二複 素環式系により構成されているか、又は 以下の式 もしくは (式中、R4は水素、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状の非置換C1〜C10ア ルキルから選ばれ、nは0〜6であり、R2は水素であってよい)のように、該 系の各五原子複素環式芳香族環が縮合して、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環 状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR6(R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし くは環状のC1〜C10アルキル)で置換されているか、もしくは置換されていな いベンゼン環もしくはナフタリン環を形成しており、芳香族五原子複素環式系が 、 1,1’−ビピロール、2,2’−ビピロール、3,3’−ビピロール 3,3’−ビチオフェン 3,3’−ビフラン 1,1’−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合物(IIA)、(IIB)、(VA)、(VB)、 5,5’−ビイミダゾール 4,4’−ビイソチアゾール 4,4’−ビイソオキサゾール 4,4’−ビピラゾール、5,5’−ビピラゾール、 1,1’−ビ−1,3,4−トリアゾール 3,3’−ビベンゾチオフェン 3,3’−ビベンゾフラン 2,2’−ビインドール 1,1’−ビベンゾイミダゾール から選ばれるものであるキラル触媒。 9. 請求項8に記載のキラル触媒の、立体制御還元反応への使用。 10. 該R2がメチルであり、該Yがフェニルであり、該五原子複素環式芳 香族環がピロールであって、それが式(VA)、(VB)(R4は水素であり、 nは4)のように縮合して非置換のベンゼン環を形成している、以下の式 をもつ、請求項1に記載のキラルジホスフィン。 11. 該R2が水素であり、該Yがフェニルであり、該五原子複素環式芳香 族環がチオフェンであって、それが式(IIA)、(IIB)(R4は水素であ り、nは4)のように縮合してベンゼン環を形成している、以下の式 をもつ、請求項1に記載のキラルジホスフィン。 12. 請求項8に記載のキラル触媒の、立体制御異性化反応への使用。 13. 該R2が水素であり、該Yがフェニルであり、該五原子複素環式芳香 族環がフランであって、それが式(IIA)、(IIB)(R4はメチルであり 、nは2)のように縮合して二置換のベンゼン環を形成している、以下の式 をもつ、請求項1に記載のキラルジホスフィン。
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