JP3330611B2 - キラルリガンドとしての複素環式芳香族ジホスフィン - Google Patents

キラルリガンドとしての複素環式芳香族ジホスフィン

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明の目的は、キラルジホスフィン、該ジホスフィ
ンと遷移金属との錯体、及び立体選択的（立体制御）反
応、例えば通常のジアステレオ選択還元反応やエナンチ
オ選択還元反応、もしくは通常の不斉異性化に於けるキ
ラル触媒としてのそれらの使用である。
本発明の他の目的は、該キラルジホスフィンの製造方
法、該キラル錯体の製造方法、及びジアステレオ選択反
応やエナンチオ選択反応に於ける触媒としてのそれらの
使用である。
本発明のまた別の目的は、該キラル触媒を利用する立
体選択的方法、特に通常のジアステレオ選択還元反応や
エナンチオ選択還元反応である。
先行技術 立体選択的反応、特に、例えばジアステレオ選択水素
化やエナンチオ選択水素化のような立体制御還元反応が
非常に重要であることは知られており、長い間研究がな
されている。実際、このような反応により、光学活性化
合物を直接形成させることができる。このような化合物
は、他の方法ではラセミ化合物としてしか得られず、後
でエナンチオマーを分離する必要があり、またこの分離
にあたり、純粋なエナンチオマーの形が得られない可能
性が高いという欠点がある。それだけではなく、これら
の場合、望んでいないエナンチオマーの存在により、更
に問題が生じることがあるので、それを再転化、もしく
は廃棄しなければならない。
通常、キラル触媒を用いて行われる立体制御還元反応
により、光学活性反応生成物が得られ、エナンチオマー
過剰率も高いことが多い。
例えば、不飽和化合物の最初のエナンチオ選択水素化
反応は、キラル支持体上に付着させた金属触媒を用いて
行われたが、この方法は30年代には衰退する。その後、
均質不斉水素化反応が研究され、遷移金属と、この金属
に対するリガンドとして作用するキラルホスフィンとか
らなる錯体により構成される特別なキラル触媒を用いる
ことにより反応を行うことが可能となったと記載されて
いる。
文献には、リガンドとして作用し、例えばルテニウム
（Ru）、ロジウム（Rh）、パラジウム（Pd）、イリジウ
ム（Ir）、及びプラチナ（Pt）のような遷移金属とキラ
ル錯体を形成することのできる、様々なタイプのキラル
ホスフィンが報告されている。特にキラルホスフィン
は、ステレオジェン原子としてリンを１個、もしくは２
個有することを特徴としている。このリンは、この場
合、例えば以下の式 を持つ（R,R）エナンチオマーである「DIPAMP」［KNOWL
ES W.S.、等J.Chem.Soc.Chem.Commun.,10（1972）;VINE
YARD B.D.等、J.Am.Chem.Soc.,99,5946（1977）］のよ
うに、三つの異なる置換基を有する。例えば「CHIRAPHO
S」として知られている化合物のような、炭素をベース
とした立体中心が存在する為にキラリティーのあるホス
フィンも記載されている。そのような（S,S）エナンチ
オマーは、以下の式 を有している［FRYZUK M.D.等、J.Am.Chem.Soc.,99,626
2（1977）］。キラリティーがアトロプ異性二元系、す
なわち二つのアリール基を結合している簡単な結合の回
りの回転が妨げられている系、が存在することによるも
のであるホスフィンも報告されている。例えば、WO92/1
6536には、ビフェニル構造をもつ新規ラセミ光学活性ジ
ホスフィン、もしくはキラルジホスフィンが開示されて
いる。このキラルジホスフィンは、第VIII族の金属と錯
体を作るときのリガンドとして記載されている。この錯
体は、不斉水素化用、及びプロキラルアリル系でのエナ
ンチオ選択水素移動用の触媒として有用である。上記の
ホスフィンのキラリティーは、ビフェニル構造の存在に
よるものであり、またビフェニル構造により、対応する
錯体がキラル触媒として用いるのに適当なものとなる。
EP643065にも、不斉水素化用の触媒として有用な新規
ジホスフィンが開示されている。開示されているこのジ
ホスフィンは、系にキラリティーをもたせるビフェニル
構造が存在しているのが特徴である。
このタイプのその他のジホスフィンは、例えば「BINA
P」、「BIPHEMP」、もしくは「BICHEP」である。これら
の（Ｒ）エナンチオマーは以下の式 をもつ［NOYORI R.等、J.Am.Chem.Soc.,102,7932（198
0）;SCHMID R.等、Helv.Chim.Acta.,71,897（1988）;MI
YASHITA A.等、Chem.Lett.,1849（1989）］。
現在のところ、第二キラルアルコールの最も良好なジ
アステレオマー過剰率やエナンチオマー過剰率をもたら
す、カルボニル基のジアステレオ選択水素化やエナンチ
オ選択水素化のような立体制御還元反応を行う為の触媒
は、遷移金属とアトロプ異性によるキラルジホスフィン
との錯体、特にRuと「BINAP」との錯体により構成され
ているものである。
勿論、主な問題は、リガンドとして作用するキラルジ
ホスフィンの合成の問題である。既述の場合に於いて
は、キラルジホスフィンの合成方法は、数多くの工程を
含んでいるのでかなり複雑である。その上、ラセミ化合
物として得られるジホスフィンは骨の折れる分割工程を
必要とし、収率は低く、コストが非常に高くつく。その
結果、このようなキラルジホスフィンと遷移金属との間
で錯体を形成することにより得られるキラル触媒は、非
常に高価なものとなる。
本発明の目的 本発明の目的は、非常に安定な配位結合を形成するこ
とにより、遷移金属に対するリガンドとして作用するの
に適したキラルジホスフィンを提供することである。
本発明の他の目的は、合成の観点からみて、公知の技
術に比べて、より容易に得ることのできるキラルジホス
フィンを提供することである。
本発明のまた別の目的は、遷移金属に対するリガンド
として作用するのに適したキラルジホスフィンを製造す
る方法であって、単純な工程からなり、コストが抑えら
れ、工業的に適用可能な方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、立体制御合成反応に用いる
為の新しいキラル触媒を提供することである。
本発明の他の目的は、反応性が高く、位置選択性、化
学選択性、ジアステレオ選択性、エナンチオ選択性のあ
る、立体制御合成反応に用いる為のキラル触媒を提供す
ることである。
本発明のまた別の目的は、穏やかな条件下で反応を行
うことができ、ともかく高い反応速度の得られる立体制
御合成反応に用いる為のキラル触媒を提供することであ
る。
本発明のその他の目的は、立体制御反応、特にキラル
触媒を用い、ジアステレオマー過剰率、もしくはエナン
チオマー過剰率の高い光学活性生成物を形成する還元反
応、もしくは異性化反応を可能にすることである。
本発明の説明 以下の説明からより明らかとなるであろうこれらの目
的やその他の目的、及び付随する利点は、芳香族五原子
二複素環式系により構成されているキラルジホスフィン
により達成される。
より詳しくは、芳香族五原子二複素環式系により構成
されている該キラルジホスフィンは、以下の一般式 （式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分
かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、COOR3（R3
は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アル
キル）から選ばれ、 Ｙはフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリー
ル、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC3〜C10ア
ルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリー
ル、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10ア
ルキル、OR5（R5は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環
状のC1〜C10アルキル）から選ばれる）をもつか、又は 以下の式のように、該系の各五原子複素環式芳香族環が
縮合して、置換、もしくは非置換のベンゼン環もしくは
ナフタリン環を形成しているものである。
式中、ｎは０〜６であり、R2も０であってよく、R4は水
素、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状の、置換もし
くは非置換のC1〜C10アルキルから選ばれるものであ
る。
上の図による説明は非限定的なものであって、例えば
以下の式のように、該五原子複素環式芳香族環のそれぞ
れが縮合して、置換、もしくは非置換のベンゼン環もし
くはナフタリン環を形成していてもよい。
式中、R4、ｎ、R2は上記の通りである。
芳香族五原子二複素環式系は、以下のものから選ばれ
る。
1,1'−ビピロール、2,2'−ビピロール、3,3'−ビピロ
ール 3,3'−ビチオフェン 3,3'−ビフラン 1,1'−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合（II A）、（II B）、（V
A）、（V B）、 4,4'−ビピラゾール、5,5'−ビピラゾール、 1,1'−ビ−1,3,4−トリアゾール 4,4'−ビイソオキサゾール 4,4'−ビイソチアゾール 5,5'−ビイミダゾール 3,3−ビベンゾチオフェン 3,3'−ビベンゾフラン 2,2'−ビインドール 1,1'−ビベンゾイミダゾール 本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンは、特に有利であることが
分かった。
また、本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンも、特に有利であることが
分かった。
また、本発明によれば、以下の式 を有するキラルジホスフィンも、特に有利であることが
分かった。
特にこれらのジホスフィン（I A）、（I B）、（II
A）、（II B）、（V A）、（V B）のキラリティーは、
五原子芳香族二複素環式系の存在によるものである。こ
の系は、C2対称アトロプ異性系である。すなわち二つの
複素環式系をつないでいる結合の回りに高い回転障壁を
もつことを特徴としている［Eliel;「炭素化合物の立体
化学」（Stereochemistry of Carbon Compounds）,Int.
Stud.Edition,McGraw Hill−東京、1962年、156頁以
降］。
更に、本発明による該ジホスフィンは、複素環式系が
エレクトロン・リッチである場合、リン原子の電子利用
性が増すという特徴を有する。これらの特性の為に、本
発明のジホスフィンは、遷移金属との錯体形成時にキラ
ルリガンドとして有利に利用される。錯体形成時の金属
との配位結合はまさに、複素環式系によりリン原子に与
えられるリガンドの電子利用性によるものである。この
ような錯体は、立体制御合成、特に、例えば水素化反応
のようなジアステレオ選択還元反応やエナンチオ選択還
元反応に於いて、キラル触媒として用いられる。
本発明によれば、該キラルジホスフィンは、簡単な工
程からなる方法により製造される。
一般式（I A）、（I B）を有するキラルジホスフィン
を製造する為の本発明による通常の方法を、単なる例と
して概略を説明する。該方法は、以下の工程からなるも
のである。
−五原子芳香族二複素環式系を、対応する五原子複素環
式アニオンの酸化カップリングにより合成する、 −二複素環式系のジアニオンを形成させる、 −該ジアニオンと、Ｐ（Ｙ）2Cl、もしくはPO（Ｙ）2Cl
（Ｙはフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリー
ル、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC3〜C10ア
ルキルから選ばれる）とを反応させて、ラセミジホスフ
ィン（I A）＋（I B）、もしくはラセミジホスフィンオ
キシドを得る、 −公知の手法を用いた酸化反応により、該ラセミジホス
フィン（I A）＋（I B）を対応するラセミジホスフィン
オキシドへ転化させる、 −該ラセミジホスフィンオキシドと酸キラル分割剤とを
反応させて、二種類のジアステレオマー付加物を得る、 −該ジアステレオマー付加物を分別結晶により分離す
る、 −分離した二種類のジアステレオマー付加物のそれぞれ
に対して塩基 処理を行い、対応するエナンチオマー的
に純粋なジホスフィンオキシドを得る、 −エナンチオマー的に純粋な該ジホスフィンオキシド
と、シランのような公知の還元剤とを反応させて、エナ
ンチオマー的に純粋なキラルジホスフィン（I A）及び
（I B）を生成させる。
この芳香族二複素環式系は、当業者に知られているそ
の他の手法によっても製造可能であるということは明ら
かである。また、窒素を含む複素環式環の場合、二複素
環式系のジアニオンの形成は窒素原子上でも生じる。
より詳しくは、本発明によれば、該ラセミジホスフィ
ン（I A）＋（I B）は、固定相、溶離剤系等のようなキ
ラル手法を用いるカラムクロマトグラフィにより、有利
に直接的に分割することができる。
また該酸キラル分割剤は、例えばジベンゾイル酒石
酸、ジトルイル酒石酸、樟脳スルホン酸等から選ぶのが
好ましい。
既に述べたように、本発明によるキラルジホスフィン
は、立体制御反応に於ける触媒として作用するキラル錯
体を形成する為に、遷移金属、特にRu、Rh、Pd、Pt、Ir
のような第VIII族の金属と錯体を形成するリガンドとし
て用いられる。
本発明によれば、キラルリガンドと金属との該錯体
は、キラルジホスフィンと、選んだ金属の錯体との間の
交換反応により得るのが好ましい。この反応に於いて、
金属とリンガンドとの間の結合は、金属とジホスフィン
との間に形成される結合よりも不安定でなければならな
い。このようにして、ジホスフィンは金属に配位してい
るリガンドと置き代わり、好ましい配位結合を形成す
る。特に上記の交換反応に於いては、金属は、例えば1,
5−シス，シス−シクロオクタジエン、ノルボルナジエ
ン、（エチレン）２、トリアリールスチビン、ベンゾニ
トリル等のようなリガンドと共に用いられる。
選んだ金属とリガンドとから構成されている錯体を適
当な溶剤に溶解し、その後、固体の状態か、もしくは適
当な溶剤に溶解したキラルジホスフィンを添加する。反
応の進行、従ってキラル錯体の形成を、色の変化をチェ
ックしたり、分光学的な方法、例えば13P−NMRやGCによ
りフォローする。反応終了後に溶剤を除去し、得られた
キラル錯体をそのまま利用してもよいし、公知の手法に
より更に精製してもよい。
キラル錯体の製造に用いるのに好ましい溶剤は、例え
ば塩素化溶剤、アルコール類、芳香族炭化水素（トルエ
ン）、エーテル類、ジメチルホルムアミドである。上記
のキラル錯体は、それらを立体制御反応に於いて触媒と
して用いる時に調製するのが好ましい。
本発明によれば、キラルジホスフィンと遷移金属との
錯体により構成されるキラル触媒は、公知の技術に用い
られているものよりも選択性が高い。事実、本発明によ
るジホスフィンリガンドの形状寸法により、公知のリガ
ンドとは異なる結合の長さや結合の角度が生じ、その結
果、該キラル触媒を用いる立体制御反応は、反応速度が
際立っている、圧や温度、また用いる触媒の量といった
反応条件が穏やかである、及び生態学的なインパクトの
少ない溶剤を使用できる、等の利点をもつ。
また、該キラル触媒は高い化学選択性、エナンチオ選
択性、及びジアステレオ選択性をもち、立体制御反応、
特にジアステレオ選択還元反応やエナンチオ選択還元反
応、例えばオレフィン（−Ｃ＝Ｃ−）の還元、ケトンカ
ルボニル基（−Ｃ＝Ｏ）の還元、イミン基（−Ｃ＝Ｎ
−）の還元、エナミン（−Ｎ−Ｃ＝Ｃ−）の還元を行う
のに有利に用いられ、ジアステレオマー過剰率やエナン
チオマー過剰率の高い光学活性化合物が得られる。
本発明によれば、該キラル触媒は、ヒドロホルミル化
反応、ヒドロシアノ化反応、及び二重結合異性化反応を
行うのに用いられる。本発明の非限定的な実施例によ
り、幾つかのキラルジホスフィン（III R）、（III
S）、（IV R）、（IV S）、（VI R）、（VI S）、（VII
R）、（VII S）、（VIII R）、（VIII S）の製造、該
ジホスフィンと金属RuやRhとのキラル錯体の製造、及び
該錯体の本発明のキラル触媒としての使用、例えば、該
錯体の３−オキソ−酪酸エチル、２−オキソシクロペン
タンカルボン酸メチル、α−アセトアミド桂皮酸、及び
その他のものの還元への使用、を以下に説明する。
例１ キラルジホスフィン（III R）及び（III S）の製造 ａ）4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕
チオフェンの合成 ３−ブロモ−4,6−ジメチル−ベンゾ〔ｂ〕チオフェ
ン4.1gを無水エーテル11mlに溶解したものを、1.6MのBu
Li（12ml）を無水エーテル11mlに溶解して得た溶液を−
70℃に冷却したものに、攪拌しながら滴下した。この反
応混合物を30分間放置した後、CuCl2を2.7g添加し、６
時間攪拌を続けた。その後０℃に冷却し、2MのHClを17m
l添加して一晩放置した。生成した有機塩を除去して有
機相をエーテルで抽出し、Na2SO4上で無水化し、溶剤を
減圧下で除去した。得られた残渣を、溶離剤としてヘキ
サンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、中間の画分を集めて減圧下で溶剤を除去したとこ
ろ、4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕
チオフェン（？）が0.70g得られた。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:1.9（6H,s,2C
H3）、2.4（6H,s,2CH3）、6.9（2H,s,5,5'位に芳香
族）、7.2（2H,s,チオフェン）、7.5（2H,s,7,7'位に芳
香族） 質量分析（e.i.）：（M+）322 ｂ）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィン）−4,4',6,6'
−テトラメチル−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェンの合
成 4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン0.35gとTMEDA0.39gを無水THF20mlに溶解して得
た溶液に、1.6MのBuLi（1.1ml）を不活性な雰囲気下
で、−50℃の温度で滴下した。30分後に温度を０℃に上
げて、ジフェニルクロロホスフィンを0.5ml滴下した。
この反応混合物を12時間反応させた後、減圧下で溶剤を
除去し水で処理した。有機相をエーテルで抽出してNa2S
O4上で無水化し、溶剤を減圧下で除去した。得られた残
渣をイソプロピルエーテルで処理すると、2,2'−ビス
（ジフェニルホスフィン）−4,4',6,6'−テトラメチル
−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェンが0.4g得られた。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:1.6（6H,s,2C
H3）、2.4（6H,s,2CH3）、6.7（2H,s,5,5'位に芳香
族）、6.9〜7.5（22H,m,7,7'位に芳香族＋4C6H5） 質量分析（e.i.）：（M+）690 31P−NMR（200MHz）（CDCl3）（ppm）：−24.98（2P,
s） ｃ）ラセミジホスフィンのジホスフィンオキシドへの酸
化 ｂ）に従って得たジホスフィン1.4gをCH2Cl280mlに溶
解して得た溶液を０℃に保ち、これにH2O2を2ml滴下し
た。温度を０℃に１時間、25℃に１時間保った後、水を
10ml添加して有機相を分離し、無水化して減圧下で溶剤
を除去した。
反応混合物1.5gを、AcOEt/CH2Cl2/Et3N（体積比3/7/
0.1）の混合溶離剤を用いたクロマトグラフィーにかけ
た。最終画分を集めたところ、ラセミジホスフィンオキ
シドが1.4g得られた。収率は96％であった。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:1.5（6H,s,2C
H3）、2.4（6H,s,2CH3）、6.7（2H,s,5,5'位に芳香
族）、7.0〜7.8（22H,m,7,7'位に芳香族＋4C6H5） 質量分析（e.i.）：（M+）772 31P−NMR（200MHz）（CDCl3）（ppm）:20.36（2P＝O,
s） ｄ）分割：ジホスフィンオキシド（−） ｃ）のようにして得られたラセミジホスフィンオキシ
ド混合物1.2gと（−）−O,O'−ジベンゾイル−Ｌ−酒石
酸（DBTA）0.63gとを、AcOEt/CHCl3（体積比50/8）混合
物58mlに加熱溶解した。24時間後にろ過を行い、ジホス
フィンオキシド（−）とDBTAとの付加物を500mg得た。
この付加物の融点は218〜220℃であり、〔α〕D 25は−1
43゜（EtOH中ｃ＝0.55）であった。
ｅ）ｄ）での付加物の処理 付加物500mgを0.75NのNaOH9.6mlで処理し、混合物を
9.6mlのCHCl3で二回抽出した。このようにして得られた
有機相を合わせ、0.75NのNaOH6.4mlと水6.4mlで洗浄
し、Na2SO4上で乾燥させた。
混合物をろ過し、減圧下で溶剤を蒸発させたところ、
キラルジホスフィンオキシド（−）320mgが得られた。
このようにして得られたジホスフィンオキシドの〔α〕
D 25の値は−226゜（ｃ＝0.45、溶剤ベンゼン）であっ
た。
ｆ）分割：ジホスフィンオキシド（＋） ｄ）の工程で得られたろ液から減圧下で溶剤を除去
し、残渣を1g得た。これを0.75NのNaOH18mlで処理し、1
8mlのCHCl3で二回抽出した。集めた有機相を0.75NのNaO
H12mlと水12mlで洗浄した後、Na2SO4上で無水化し、減
圧下で溶剤を蒸発させたところ、不純物としてジホスフ
ィンオキシド（−）を含むジホスフィンオキシド（＋）
が0.60g得られた。このようにして得られた混合物をDBT
A（＋）0.312gと合わせ、全体を、AcOEt/CHCl3（体積比
25/4）からなる溶液29mlに加熱溶解した。24時間後に混
合物をろ過したところ、ジホスフィンオキシド（＋）と
DBTA（＋）との付加物からなる固体0.4gが得られた。こ
の固体の融点は216〜220℃であり、〔α〕D 25は＋147゜
（ｃ＝0.55、EtOH）であった。
この付加物をｅ）に記載されているように処理して、
〔α〕D 25の値が＋229゜（ｃ＝0.56、ベンゼン）である
ことを特徴とするジホスフィンオキシド（＋）を得た。
ｇ）還元 ｆ）に記載されているようにして得られたジホスフィ
ンオキシド（＋）0.4gをキシレン6mlに溶解し、不活性
な条件下で、Et3Nを0.59mlとHSiCl3を0.42添加した。こ
の反応混合物を100℃で１時間、120℃で１時間、140℃
で６時間加熱した。残存しているキシレンとトリクロロ
シランを減圧下で除去し、残渣を水で処理し、CH2Cl220
mlで抽出した。その後、反応混合物を無水化し、溶剤を
減圧下で除去した。このようにして得られた粗生成物
を、不活性な雰囲気下でフラッシュクロマトラフィーに
かけた。溶離剤として、ヘキサン/CH2Cl2（体積比7/3）
を用いた。〔α〕D 25の値が＋215゜（ｃ＝0.4、ベンゼ
ン）であることを特徴とするジホスフィン（＋）が350m
g得られた。
ｅ）に記載されているようにして得たジホスフィンオ
キシド（−）を、同様の方法でジホスフィン（−）に還
元したところ、同様の収率が得られた。このジホスフィ
ン（−）の〔α〕D 25の値は−222゜（ｃ＝0.4、ベンゼ
ン）であった。
例２ キラルジホスフィン（IV R）及び（IV S）の製造 ａ）2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェンの
調製 ３−ブロモ−2,5−ジメチルチオフェン5.46gをエチル
エーテル5mlに溶解したものを、−70℃に保ったBuLiの
1.5M溶液（18ml）に、窒素雰囲気下で滴下した。30分後
に、激しく攪拌しながら無水塩化第二銅を4.13g添加
し、反応混合物を３時間攪拌し続けた。温度を０℃に上
げた後、6NのHCl溶液を添加して塩化第二銅を可溶化し
た。水性相をエーテル120mlで抽出し、エーテル相を水1
5mlで、その後炭酸ナトリウムの飽和溶液12mlで処理し
た後、再度水12mlで処理した。この溶液を硫酸ナトリウ
ム上で無水化し、溶剤を減圧下で除去した。このように
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサンで溶離した。中間の画分を集めたと
ころ、2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェン
が1.73g得られた。収率は55％であった。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:6.52（2H,ブロ
ードs,4,4'位に芳香族）、2.41（6H,s,2CH3）、2.27（6
H,s,2CH3） ｂ）4,4'−ジブロモ−2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'
−ジチオフェンの調製 2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェン1.97g
を四塩化炭素12mlに溶解して得た溶液を０℃に保ち、こ
れに、臭素0.5mlを四塩化炭素に溶解したものを滴下し
た。温度を上げ、15分後に温度を40℃に保ったまま、同
量の臭素を同体積の四塩化炭素に溶解したものを滴下し
た。30分後に、塩化メチレンを100ml添加した。この混
合物を炭酸ナトリウムの飽和溶液20mlと水20mlで洗浄し
た後、有機相を硫酸ナトリウム上で無水化した。溶剤を
減圧下で除去したところ、オイル状の残渣が3.60g得ら
れた。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にかけ、ヘキサンで溶離した。最初の画分を集めて減圧
下で溶剤を蒸発させたところ、4,4'−ジブロモ−2,2',
5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェンが1.47g得ら
れた。収率は44％であり、融点は93〜95℃であった。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:2.40（6H,s,2CH
3）、2.15（6H,s,2CH3） ｃ）4,4'−ビスジフェニルホスフィンオキシ−2,2',5,
5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェンの調製 4,4'−ジブロモ−2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−
ジチオフェン1.37gを無水THF25mlに溶解して得た溶液を
−15℃に保ち、これにBuLiの1.6M溶液5mlを２分かけて
滴下した。20分後に、０℃でジフェニルクロロホスフィ
ンを1.46ml滴下し、反応混合物を１時間30分放置した。
その後、エーテルを100ml添加し、混合物を水10mlで洗
浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で無水化した。溶剤を
減圧下で蒸発させて除去したところ、残渣が2.70g得ら
れた。この残渣をCH2Cl2100mlに溶解し、30％の過酸化
水素3.6mlを０℃で滴下して完全に酸化させてジホスフ
ィンオキシドとした。２時間後に水を15ml添加して有機
相を分離し、Na2SO4上で無水化した。溶剤を減圧下で蒸
発させて除去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにかけ、CH2Cl2/AcOEt/Et3N（体積比7/3
/0.2）混合物で溶離した。最終の画分を集め、溶剤を減
圧下で蒸発させたところ、オイルが得られた。このオイ
ルをエチルエーテルで処理して、4,4'−ビスジフェニル
ホスフィンオキシド−2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'
−ジチオフェンを0.190g得た。
1H−NMR（300MHz）（CDCl3）（ppm）:7.60（20H,m,芳
香族）、1.95（6H,d,2,2'位にCH3）、1.65（6H,s,5,5'
位にCH3） このような生成物は、例１のｄ）に類似の手順に従
い、DBTAを用い、THF中でジアステレオマー塩を結晶化
することにより分割できる。
ジホスフィンオキシド混合物0.70gと（−）−ジベン
ゾイル酒石酸（DBTA）0.42gとを、THF20mlに加熱溶解し
た。12時間後にろ過したところ、（−）−ジホスフィン
オキシドと（−）−DBTAとの付加物が0.2g得られた。こ
の付加物の融点は180℃であり、〔α〕Ｄは−44℃（ｃ
＝0.5、EtOH）であった。
この付加物を通常の手順に従って処理したところ、ホ
スフィンオキシドが560mg得られた。
（−）−ホスフィンオキシドを不純物として含む
（＋）−ホスフィンオキシド0.56gと、（＋）−DBTA0.3
4gとを、THF40mlに加熱溶解した。12時間後に、（＋）
−ジホスフィンオキシドと（＋）−DBTAとの付加物が0.
185g回収された。この付加物の融点は178℃であり、
〔α〕Ｄは＋39.5゜（ｃ＝0.55、EtOH）であった。
ｄ）4,4'−ビスジフェニルホスフィンオキシド−2,2',
5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェンの調製 4,4'−ビスジフェニルホスフィンオキシド−2,2',5,
5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェン0.053gをキシレ
ン5mlに溶解して得た溶液に、アルゴン雰囲気下で、ト
リエチルアミン0.14mlとトリクロロシラン0.10mlとを添
加した。この反応混合物を100℃で１時間、120℃で１時
間、140℃で１時間加熱した。水を4ml添加して反応混合
物を処理し、CH2Cl220mlで抽出した。有機相を硫酸ナト
リウム上で無水化し、溶剤をメカニカルポンプを用いて
蒸発させて除去したところ、4,4'−ビスジフェニルホス
フィン−2,2',5,5'−テトラメチル−3,3'−ジチオフェ
ンが得られた。
このようにして得たラセミジホスフィンを、HPLCを用
いて分割した。「DAICEL CHIRALCEL OD」（25cmx4mm）
をカラムをとして用い、ヘキサン／イソプロパノールを
溶離剤として用いた。フロー＝0.7ml/分。
例３ ｛Ru〔化合物（III）Ｒ）（＋）〕Cl2｝錯体の調製 側面にコックがあり、円錐形でテフロンをコートした
攪拌棒を取り付けた試験管を繰り返し排気し、アルゴン
で加圧した。この操作を少なくとも５回繰り返した。こ
の有底試験管に、光学的に純粋なキラルジホスフィン
（III R）（＋）16.0mg（2.3x10-2ミリモル）、文献に
報告されている手順に従って調製した〔RuCl2（C
6H6）〕25.6mg（1.15x10-2ミリモル）、及び不活性な雰
囲気下で新たに蒸留して15分間アルゴンで脱気したジメ
チルホルムアミド4mlを、この順序で入れた。この赤褐
色の懸濁液を、攪拌しながら100℃で15分間加熱した。
懸濁液は、急速に透明な黄橙色の溶液に変わった。この
溶液を50℃に冷却して、蒸発乾固させた。残渣を機械的
な真空下に１時間放置し、その後、アルゴンで加圧し
た。このようにして得られたルテニウム錯体を、これ以
上精製せずに、ケトエステルのエナンチオ選択還元に用
いた。
例４ ｛Ru〔1,5−シクロオクタジエン〕〔化合物（III S）
（−）〕ClO4｝錯体の調製 側面にコックがあり、円錐形でテフロンをコートした
攪拌棒を取り付けた試験管を繰り返し排気し、アルゴン
で加圧した。この操作を少なくとも５回繰り返した。光
学的に純粋なキラルジホスフィン（III S）（−）11.0m
g（1.59x10-2ミリモル）をこの試験管に入れ、不活性な
雰囲気下で蒸留し、使用前に15分間アルゴンで脱気した
CH2Cl210mlに溶解した。過剰の〔Rh（1,5−COD）２〕Cl
O4を計り、有底（tailed）試験管に導入してフラッシュ
させ、アルゴンで加圧した。体積を正確に計ったCH2Cl2
を添加して、黄色の溶液を得た。シリンジを用いて正確
に1.59x10-2ミリモル取り出し、それをジホスフィンIII
溶液に添加した。溶液は、急速に黄橙色に変わった。こ
の溶液を30分間攪拌し、｛Rh〔1,5−COD〕〔化合物（II
I S）（−）〕ClO4｝の黄橙色の固体が得られるまで蒸
発させた。このようにして得られたロジウム錯体を、こ
れ以上精製せずに、オレフィンのエナンチオ選択還元に
用いた。
例５ ３−オキソ−エチルブチレートの（Ｒ）−（−）−３−
エチルヒドロキシブチレートへの還元 ガラスで内張りし、電磁攪拌機と加熱装置を取り付け
たステンレス・スチール製の75mlのオートクレーブを、
水素で4.90MPa迄数回加圧して排気し（このサイクルを
少なくとも５回繰り返した）、70℃の恒温とした。３−
オキソ−エチルブチレート2.993g（23.0ミリモル）と、
予めアルゴンで15分間脱気しておいたメタノール20mlと
を、例３に記載されている方法に従って調製した触媒に
添加した。この溶液をシリンジでオートクレーブに移し
て、9.81MPaに加圧した。120分後にオートクレーブを冷
却し、オートクレーブを開け、褐色の油状の残渣が残る
まで溶剤を蒸発させた。サンプルをGC（PEG20Mカラム、
オーブン温度100℃、FID200℃、インジェクター200
℃）、及び1H−NMR分光分析法により試験した。その結
果、基質が定量的に転化し、３−エチル−３−ヒドロキ
シ−ブチレート選択率は95％であることが分かった。副
生物は、エチル−３−ジメトキシブチレートであった。
残渣を真空蒸留し、17mmHgで75〜80℃の間で通過する画
分を集めた。得られたサンプルは、化学的に純粋な水素
化生成物であった。
エチル−３−ヒドロキシブチレート:1H−NMR（200MH
z）（CDCl3）（ppm）:4.2（3H,qとｍが重複）、2.4（2
H,d）、1.2（6H,tとｄが重複） 立体誘導を旋光分析により、またシフトキラル剤とし
てトリス〔３−（＋）樟脳化トリフルオロメチルヒドロ
キシメチレン）〕Euを用いて1H−NMR分光分析法により
測定した。比旋光度である〔α〕D 20は−41.5（ｃ＝
１、CHCl3）であり、これはＲエナンチオマーについて
の光学的純度（O.P.）が99％であることに相当する
［（Ｓ）−（＋）エナンチオマーについての文献報告：
〔α〕D 20＝＋42±１（ｃ＝１、CHCl3）;A.FISCHLI,Mod
ernsynthetic methods,Vol.2,269,1980,R.Scheffold Pu
blishing House,Salle＋Sauerlander］。エナンチオマ
ー過剰率を、シフトキラル剤を用いて1H−NMR分光分析
法により測定した。シフト剤をラセミ還元生成物に添加
すると、1.2ppmでの三重項が、それぞれ1.40ppmと1.55p
pmの二つの三重項に分かれた。同一のキラルシフト剤を
エナンチオ選択還元生成物に添加すると、1.55ppmに三
重項の存在を何等示すことなく、三重項が1.4ppmにシフ
トした。この結果から、エナンチオマー過剰率が99％を
越えていることが確認された。
例６ ２−オキソシクロペンタンカルボン酸メチルの（R,R）
−（−）−２−ヒドロキシシクロペンタンカルボン酸メ
チルへの還元 装置の準備手順は例５と同様とした。２−オキソシク
ロペンタンカルボン酸メチル3.270g（23.0ミリモル）を
脱気したメタノール20mlに入れたものを、例３に記載さ
れている方法に従って調製した触媒に添加した。オート
クレーブを70℃の恒温にし、9.81MPaに加圧した。120分
後にオートクレーブを冷却し、オートクレーブを開け、
油状の褐色の残渣が残るまで溶剤を蒸発させた。サンプ
ルをGC（カラム:PEG20M、オーブン温度160℃、FID200
℃、インジェクター200℃）で試験した。結果から、転
化は定量的であり、トランス／シス比は30であり、従っ
てジアステレオマー過剰率が94％であることが分かっ
た。残渣を真空蒸留し、17mmHgで100〜110℃の間で通過
する画分を集めた。得られたサンプルは、化学的に純粋
な水素化生成物であった。
２−ヒドロキシシクロペンタンカルボン酸メチル:1H
−NMR（200MHz）（CDCl3）（ppm）:4.35（1H,m）、3.71
（3H,s）、2.65（1H,m）、2.4〜1.5（6H,m）。立体誘導
を、シフトキラル剤としてトリス〔（＋）樟脳化３−エ
プタフルオロメチルヒドロキシメチレン）〕Euを用い
て、1H−NMR分光分析法により測定した。シフト剤をラ
セミ還元生成物に添加すると、4.40ppmでの四重項が、
それぞれ5.2ppmと5.85ppmの二つの四重項に分かれた。
同一のキラルシフト剤を立体選択還元生成物に添加する
と、5.2ppmに四重項の存在を何等示すことなく、四重項
が5.85ppmにシフトした。この結果から、エナンチオマ
ー過剰率が99％を越えていることが確認された。
例７ α−アセトアミド桂皮酸の還元 電磁攪拌機を取り付けたガラス製の100mlのオートク
レーブを、水素で98.1KPa迄数回加圧して排気し（この
サイクルを少なくとも５回繰り返した）、30℃の恒温と
した。α−アセトアミド桂皮酸500mg（2.06ミリモル）
を、予めアルゴンで15分間脱気しておいたメタノール40
mlに溶解したものを、例４に記載されている方法に従っ
て調製した触媒に添加した。得られた溶液を、シリンジ
でオートクレーブに移した。オートクレーブを0.3MPaに
加圧した。反応の進行を、マノメーターの圧降下により
フォローした。180分後、水素の吸収が停止したのでオ
ートクレーブを開け、サンプルを1H−NMR分光分析法に
より分析した。基質のアセチル基を示すシグナル（2.1p
pm）がなくなり、1.90ppmにＮ−アセチルフェニルアラ
ニンのメチル基が表れた。これは、100％転化したこと
を示す。この溶液を短いシリカカラムに通してろ過し
て、ロジウム錯体を除去した。立体選択を、旋光分析法
により測定した。メタノール25mlに溶解した残渣（0.21
1g）のサンプルのαは＋0.193゜であり、これは〔α〕D
25＝＋22.9゜に相当する。
例８ キラルジホスフィン（VI R）と（VI S）の調製 ａ）Ｎ−（フェニルスルホニル）−３−メチルインドー
ルの調製 ３−メチルインドール（4g）を無水DMF（50ml）に溶
解したものを30℃以下の温度に保ち、これに50％の水素
化ナトリウム（1.1g）を添加した。15分間攪拌した後、
無水DMF（20ml）に溶解した塩化フェニルスルホニル
（4.7ml）を注意深く滴下して、25℃で２時間攪拌す
る。その後、メタノール（5ml）を添加して、存在して
いる可能性のある微量のBuLiを分解する。減圧下で溶剤
を除去し、水（20ml）を添加し、塩化メチレンで徹底的
に抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化し、減
圧下で溶剤を除去する。残渣（9.5g）を塩化メチレン／
ヘキサン（1:1）中で粉砕すると、Ｎ−（フェニルスル
ホニル）−３−メチルインドール（2g）（融点116〜120
℃）が得られる。母液をクロマトグラフィーにかけ、塩
化メチレン／ヘキサン（1:1）で溶離して生成物を更に
回収する。Ｎ−（フェニルスルホニル）−３−メチルイ
ンドール（7g）が、中間の画分から回収される。減圧下
で溶剤を除去する。
全反応収率:85％ 1H−NMRの詳細:7.99（1H,d,J＝8Hz,7位にＨ）、7.86
（1H,d,J＝8Hz,フェニル環のオルト位にＨ）、7.85（1
H,d,J＝8Hz,フェニル環のオルト位にＨ）、7.38（6H,m,
芳香族）、7.31（1H,s,2位にＨ）、2.25（3H,s,3位にCH
3） ｂ）N,N'−ビス（フェニルスルホニル）−3,3'−ジメチ
ル−2,2'−ビインドールの調製 Ｎ−フェニルスルホニル−３−メチルインドール（30
g）とTMEDA（100ml）を無水THF（10ml）に溶解して得た
溶液を−30℃に保ち、これに1.6MのBuLi（61ml）を滴下
する。この温度で30分攪拌後、無水塩化第二銅（13g）
を添加し、室温で１時間放置する。減圧下で溶剤を除去
した後、水（50ml）を添加し、塩化メチレンで徹底的に
抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化し、溶剤
を減圧下で除去する。
残渣をイソプロパノール中で加熱粉砕すると、N,N'−
ビス（フェニルスルホニル）−3,3'−ジメチル−2,2'−
ビインドール（6g）（融点234℃）が得られる。
1H−NMRの詳細:8.35（2H,d,J＝8Hz,7位と7'位に
Ｈ）、7.48（10H,m,芳香族）、7.3（6H,m,芳香族）、1.
62（6H,s,3位と3'位にCH3） 質量分析（e.i.）：（M+）540 ろ液をイソプロパノール中で冷却粉砕して、未反応の
Ｎ−フェニルスルホニル−３−メチルインドール（8g）
を回収する。母液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、塩化メチレン／ヘキサン（1:1）で溶離す
る。最初の画分から、Ｎ−フェニルスルホニル−３−メ
チルインドール（7g）が得られる。最終の画分を集めて
溶剤を除去すると、N,N'−ビス（フェニルスルホニル）
−3,3'−ジメチル−2,2'−ビインドール（4.5g）が得ら
れる。
２−〔２−（３−メチル−３−ヒドロキシ）−デルタ１
−インドリニル〕−３−メチルインドールの調製 N,N'−ビス（フェニルスルホニル）−3,3'−ジメチル
−2,2'−ジインドール（10g）、水酸化カリウム（8.3
g）、ジオキサン（80ml）をエタノール（300ml）に入れ
て得た懸濁液を５時間還流させ、その後溶剤を除去す
る。この反応混合物を水で処理して、塩化メチレンで徹
底的に抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で無水化し
て、減圧下で溶剤を除去する。得られた混合物を塩化メ
チレン中で24時間通気攪拌し、生成物をろ過して回収す
る。得られる固体は、２−〔２−（３−メチル−３−ヒ
ドロキシ）−デルタ１−インドリニル〕−３−メチルイ
ンドール（2g）（融点94℃）である。
1H−NMRの詳細:9（1H,s,NH）、7.52（1H,d,J＝7.9Hz,
4位にＨ）、7.29（1H,d,J＝5.6Hz,7位にＨ）、7.14（1
H,t,J＝7.9Hz,6'位にＨ）、７（5H,m,芳香族）、1.52
（3H,s,OHの近くにCH3） 母液をクロマトグラフィーにかけて塩化メチレンで、
その後塩化メチレン／酢酸エチル（10:0.1）で溶離す
る。最終画分から２−〔２−（３−メチル−３−ヒドロ
キシ）−デルタ１−インドリニル〕−３−メチルインド
ール（0.7g）が回収される。減圧下で溶剤を除去する。
ｄ）3,3'−ジメチル−2,2'−ジインドールの調製 ２−〔２−（３−メチル−３−ヒドロキシ）−デルタ
１−インドリニル〕−３−メチルインドール（2.5g）を
窒素気流下でエタノールに加熱溶解して、残存している
微量の酸素を全て除去する。最少量の水（10ml）に溶解
したホウ水素化ナトリウム（0.51g）を滴下し、25℃で
２時間攪拌する。10％の塩酸溶液を滴下してpHを６と
し、12時間攪拌する。窒素下で残渣をろ過すると、3,3'
−ジメチル−2,2'−ジインドール（融点146〜149℃）が
定量的な収率で得られる。
1H−NMRの詳細:8（2H,s,ブロード,NH）、7.63（2H,d,
J＝8Hz,4位と4'位にＨ）、7.39（2H,d,J＝8Hz,7位と7'
位にＨ）、7.25（2H,t,J＝8Hz,5位と5'位にＨ）、7.18
（2H,t,J＝8Hz,5位と5'位にＨ）、2.40（6H,s,3位と3'
位にCH3） ｅ）N,N'−ビス（ジフェニルホスフィン）−3,3'−ジメ
チル−2,2'−ジインドールの調製 3,3'−ジメチル−2,2'−ジインドール（0.24g）を無
水THF（85ml）に溶解して得た溶液を−20℃に保ち、良
く脱気したものに、1.6MのBuLi（1.1ml）を滴下し、２
分後に、無水THF（5ml）に溶解したジフェニルクロロホ
スフィン（0.4g）を滴下する。
16時間攪拌を続けた後、減圧下で溶剤を除去し、水
（20ml）を添加する。塩化メチレンで徹底的に抽出し、
硫酸ナトリウム上で無水化し、減圧下で溶剤を除去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、ヘキサン／塩化メチレン（8:2）で溶離する。残渣
を最初の画分から回収する。それをイソプロパノール中
で粉砕すると、N,N'−ビス（ジフェニルホスフィン）−
3,3'−ジメチル−2,2'−ジインドール（融点＞230℃）
が、収率95％で得られる。
1H−NMRの詳細:7.59（2H,d,J＝8Hz,4位と4'位に
Ｈ）、7.3（14H,m,芳香族）、7.1（6H,m,芳香族）、6.8
5（2H,t,J＝5Hz,6位と6'位にＨ）、6.7（2H,d,J＝8Hz,7
位と7'位にＨ）、2.05（6H,s,3位と3'位にCH3） 31PP−NMRの詳細:37（1P,s） 質量分析（e.i.）：（M+）628 ｆ）N,N'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,3'−ジ
メチル−2,2'−ジインドールの調製 N,N'−ビス（ジフェニルホスフィン）−3,3'−ジメチ
ル−2,2'−ジインドール（0.1g）をCH2Cl2（5ml）に溶
解して得た溶液を−30℃に保ち、これに35％のH2O2（0.
16ml）を滴下する。温度を−30℃に２時間保つ。水を添
加して有機相を分離して乾燥させ、減圧下で溶剤を除去
すると、ラセミN,N'−ビス（ジフェニルホスフィニル）
−3,3'−ジメチル−2,2'−ジインドール（0.1g）が得ら
れる。
1H−NMRの詳細:1.8（6H,s,3位と3'位に2CH3）、7.3
（28H,m,芳香族） ｇ）1,1'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,3'−ジ
メチル−2,2'−ジインドールの分割 ジホスフィンオキシド混合物0.28gとｄ−10−カンフ
ォスルホン酸0.21gとを、トルエン/CH2Cl2（体積比8:
1）からなる混合物9mlに加熱溶解した。60分後に、ジホ
スフィンオキシドとｄ−10−カンフォスルホン酸との付
加物が78mg得られた。この付加物の融点は125〜127℃で
あり、〔α〕Ｄは＋34゜（ｃ＝1.56、MeOH）であった。
ジホスフィンオキシドの還元を、例１のｇ）に記載さ
れているのと同じ方法により行った。
例９ キラルジホスフィン（VII R）及び（VII S）の調製 ａ）3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェンの調製 ３−ブロモ−ベンゾ〔ｂ〕チオフェン（15.1g）を無
水THF（40ml）に溶解したものを、−70℃に保った1.6M
のｎ−BuLi溶液（48ml）に、攪拌しながら滴下する。15
分間反応させ、CuCl2（13g）を添加して１時間攪拌す
る。温度を０℃に上げて、2MのHCl（98ml）を添加す
る。形成された有機塩をろ過して取り除き、溶剤を減圧
下で蒸発させ、残渣に水を添加する。CH2Cl2で抽出し
て、Na2SO4で無水化し、溶剤を減圧下で除去する。この
残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけて
ヘキサンで溶離する。中間の画分を集めると、3,3'−ジ
ベンゾ〔ｂ〕チオフェンが得られる（収率56％）。
1H−NMR:7.38（4H,m,5,6,5',6'位にＨ）、7.55（2H,
s,2位にＨ）、7.72〜7.98（4H,m,4,7,4',7'位にＨ） ｂ）2,2'−ビス−（ジフェニルホスフィン）−3,3'−ジ
ベンゾ〔ｂ〕チオフェンの調製 3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェン（1.7g）とテトラメ
チレンジアミン（1.15ml）を無水THF（40ml）に溶解し
て得た溶液を−50℃に保ち、これに1.6Mのｎ−BuLi（8.
4ml）を、窒素雰囲気下で攪拌しながら滴下し、温度を
０℃に上げる。Ph2PCl（2.4ml）を滴下して室温に放置
する。溶剤を減圧下で留去し、水を残渣に添加した後、
CH2Cl2で抽出する。有機相をNa2SO4で無水化し、溶剤を
減圧下で除去する。この残渣を石油エーテルを用いて粉
砕すると、2,2'−ビス−（ジフェニルホスフィン）−3,
3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェン（3.12g、融点177℃）が
得られる（収率99％）。
ｃ）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,3'−ジ
ベンゾ〔ｂ〕チオフェンの調製 2,2'−ビス−（ジフェニルホスフン）−3,3'−ジベン
ゾ〔ｂ〕チオフェン（3.49g）をCH2Cl2（100ml）に溶解
して得た溶液を０℃に保ち、これに35％のH2O2（5.5m
l）を滴下する。温度を０℃に１時間、25℃に１時間保
つ。水を添加して有機相を分離し、それを無水化して、
溶剤を減圧下で除去する。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶離剤AcOEt/CH2Cl2/Et3N（3/7/0.
1））にかけて最終画分を集めると、ラセミ2,2'−ビス
（ジフェニルホスフィニル）−3,3−ジベンゾ〔ｂ〕チ
オフェン（3.65g、融点286℃）が得られる（収率68.5
％）。
ｄ）（＋）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,
3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェンと（−）2,2'−ビス（ジ
フェニルホスフィニル）−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフ
ェンの調製 （±）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,3'
−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェン（2.15g）と（−）−O,O'
−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸（DBTA（1.2g）との混合物
を、AcOEt溶液（90ml）とCHCl3（43ml）で加熱溶解す
る。24時間後にろ過を行い、（＋）ホスフィンオキシド
と（−）−DBTAとの付加物（0.54g）を回収する。この
付加物の融点は185〜190℃であり、〔α〕D 25は＋100.6
゜（ｃ＝0.50、EtOH）である。この付加物を、溶離剤と
してCH2Cl2/AcOEt/TEA（7/3/0.1）の混合物を用いてシ
リカゲルのカラムに通してろ過し、（＋）ホスフィンオ
キシド（0.212g）を回収する。〔α〕D 25は＋325゜（ｃ
＝0.48、ベンゼン）であり、融点は206℃である。
（＋）ホスフィンオキシドを分割した母液から溶剤を
減圧下で除去して残渣を得、それを、溶離剤としてCH2C
l2/AcOEt/TEA（7/3/0.1）の混合物を用いてシリカゲル
のカラムに通してろ過する。不純物として（＋）ホスフ
ィンオキシドを含む（−）ホスフィンオキシド（6g）を
回収し、（＋）−DBTA（3.4g）で処理する。この混合物
を、AcOEt（255ml）とCHCl3（147ml）からなる溶液で加
熱溶解する。24時間後にろ過を行い、（−）ホスフィン
オキシドと（＋）−DBTAとの付加物（4g）を回収する。
この付加物の〔α〕D 25は−97.4゜（ｃ＝0.47、EtOH）
であり、融点は190℃である。この付加物を、溶離剤と
してCH2Cl2/AcOEt/TEA（7/3/0.1）の混合物を用いてシ
リカゲルのカラムに通してろ過し、（−）ホスフィンオ
キシド（2.7g）を回収する。〔α〕D 25は−329゜（ｃ＝
0.5、ベンゼン）であり、融点は206℃である。
ｅ）（＋）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィン）−3,3'
−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェンと（−）2,2'−ビス（ジフ
ェニルホスフィン）−3,3'−ジベンゾ〔ｂ〕チオフェン
の調製 例１のｇ）に記載されているのと同じ方法で、ジホス
フィンオキシドの還元を行った。ジホスフィン（＋）の
〔α〕D 25は＋119゜（ｃ＝0.51、DMF）であり、一方ジ
ホスフィン（−）の〔α〕D 25は−119゜（ｃ＝0.51、DM
F）である。生成物の融点は117℃である。
例10 （Ｒ）及び（Ｓ）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィン）
−1,1'−ジベンゾイミダゾールの調製 ａ）1,1'−ジベンゾイミダゾールの調製 2,2'−ジホルミル−1,1'−ジベンゾイミダゾール（3.
00g）を水（200ml）に入れて得た懸濁液、ベンゼン（70
ml）、及び炭酸ナトリウム1.12gに、過マンガン酸カリ
ウム（1.6g）溶液を200ml滴下する。この混合物を48時
間攪拌する。二酸化マンガンがなくなる迄亜硫酸水素ナ
トリウムを添加した後、10％の塩酸溶液を用いて溶液の
pHを酸性にする。有機相を塩化メチレンで抽出して、硫
酸ナトリウムで無水化し、溶剤を減圧下で蒸発させて残
渣を得る。この残渣からイソプロピルエーテルを用いて
クラストを除去すると、融点が188℃の生成物が1.5g得
られる（収率61.7％）。
1H−NMR:7.02（2H,d,4位と4'位に）、7.3〜7.5（4H,
m,5位と5'位、及び６位と6'位に）、7.92（2H,d,7位と
7'位に）、8.17（2H,s,2位と2'位に） M.W.（質量分析）:294 ｂ）2,2'−ビス−（ジフェニルホスフィン）−1,1'−ジ
ベンゾイミダゾールの調製 1,1'−ジベンゾイミダゾール（1.5g）を無水THF（70m
l）に溶解して得た溶液とTMEDA2.25mlに、不活性雰囲気
下、−60℃で1.6MのBuLiを9.4ml滴下する。温度を０℃
に上げて、クロロジフェニルホスフィンを2.78ml滴下す
る。この反応混合物を２時間攪拌し、温度を20℃に上げ
てメタノールを添加する。溶剤を減圧下で除去し、残渣
を水と塩化メチレンで処理する。有機相を硫酸ナトリウ
ムで無水化し、溶剤を減圧下で除去して残渣を得る。こ
れを酢酸エチル（450ml中3.00g）で結晶化すると、融点
が227℃の生成物が得られる（収率78％）。
1H−NMR:6.3（2H,d,7位と7'位にＨ）、6.93（2H,t,6
位と6'位にＨ）、7.11〜7.39（20H,m,パラ位とメタ位に
芳香族、５位と5'位に水素）、7.51〜7.59（2H,m,オル
ト位に芳香族）、7.88（2H,d,4位と4'位に芳香族）31P
−NMRスペクトルは、−28.3ppmに一重項を示す。
M.W.（質量分析）：分子ピークなし、525（M+−C
6H5） ｃ）ジホスフィンの分割 例２のｄ）と同じ方法で、HPLCによりラセミジホスフ
ィンの分割を行った。
例11 〔Ru｛化合物III S｝（−）〕Cl2の調製 調製方法は例３と同様であるが、但し〔（III S）
（−）〕を37.0mgと〔RuCl2（C6H5）〕２を13.0mg用い
る。
例12 ベンゾイル酢酸メチルの（Ｒ）−（＋）−３−フェニル
−３−ヒドロキシ−プロピオン酸メチルへの還元 ガラスで内張りし、電磁攪拌器と加熱装置を取り付け
た75mlのステンレススチール製のオートクレーブを、水
素で4.9MPaとなる迄数回加圧した後排気し（このサイク
ルを少なくとも５回繰り返す）、25℃の恒温とした。ベ
ンゾイル酢酸メチル9.25g（52ミリモル）を、予め15分
間アルゴンで脱気したメタノール50mlに溶解したもの
を、例11に記載した方法に従って調製した触媒に添加し
た。
この溶液をシリンジでオートクレーブに移し、10.2MP
aに加圧した。100時間後にオートクレーブの圧を抜き、
溶剤を蒸発させて固体を得た。1H−NMR分光測定により
求めた転化率は、92％であった。
反応生成物を分取カラムクロマトグラフィー（SiO2、
CH2Cl2）により精製した。エナンチオマー純度を、旋光
分析により測定した。生成物のサンプルに比旋光度
〔α〕Ｄは＋15.3゜（ｃ＝4.6、EtOH）であったが、こ
れは（Ｒ）−（＋）異性体についての光学的純度が90％
であることに相当する。（〔α〕D 25＝＋17.22（ｃ＝4.
6、EtOH）；［A.McKenzie及びG.Martin,J.Chem.Soc.,19
13,103,112］） 例13 フェニルグリオキシル酸メチルの（Ｓ）−（＋）−マン
デル酸メチルへの還元 ベンゾイル酢酸メチルをフェニルグリオキシル酸メチ
ル（8.5g、51.8ミリモル）に代えて、例12の手順を繰り
返した。
100時間後にオートクレーブを開けて、溶剤を蒸発さ
せた。転化率は90％（1H−NMR）であった。化学的に純
粋なマンデル酸メチルが、カラムクロマトグラフィー
（SiO2、ヘキサン/CH2Cl2（体積比7/3））により得られ
た。エナンチオマー純度を、キラル固定相を用いたHPLC
により測定した（DAICEL、Chiralcel OD;フロー0.5ml/
分、ヘキサン／イソプロパノール（90:10））ところ、
エナンチオマー（Ｓ）−（＋）についての純度は90％で
あった。
例14 ピルビン酸メチルの（Ｓ）−（−）−乳酸メチルへの還
元 ベンゾイル酢酸メチルをピルビン酸メチル（3.13mg、
30.74ミリモル）に代えて、例12の手順を繰り返した。
100時間後に転化率が100％（1H−NMR）となったの
で、溶剤を蒸発させ、乳酸メチルを蒸留した（50℃、17
mmHg）。通常の手順に従って乳酸メチルを対応する
（＋）MTPAのエステルに変えた後、e.e.をHPLC分析によ
り測定した。その結果、エナンチオマー（Ｓ）について
のe.e.は、88％であった。
例15 〔Ru〔（化合物VII S）（−）〕Cl2〕の調製 調製方法は例11と同様であるが、〔（VII S）
（−）〕を10.6mgと〔RuCl2（C6H5）〕２を3.7mg用い
た。
例16 ３−オキソ酪酸エチルの（Ｓ）（＋）３−ヒドロキシ−
酪酸エチルへの還元 ３−オキソ−酪酸エチルを1.95g計ってMeOH/H2O（体
積比19/1）に溶解し、また例15の触媒を用いる以外は、
例５と同じ手順を繰り返した。反応後、３−ヒドロキシ
酪酸エチルは91％となり、一方、３−ジメトキシ酪酸エ
チルは９％であった。立体誘導は、対掌体（Ｓ）につい
て＞99％であった。
例17 〔Ru〔（化合物III S）（−）CH3COO2）〕の調製 〔（III S）（−）〕を47mgと〔RuCl2（C6H5）〕２を
17mg用いて、例11と同様の方法により〔Ru〔（化合物II
I S）（−）〕Cl2〕錯体を調製した。このようにして得
られた残渣に、酢酸銀22.7mgと無水トルエン7mlを添加
した。この懸濁液を１時間攪拌し、その後、マイクロク
リスタリンセルロースの短いカラムに通してろ過し、ト
ルエンで洗浄して触媒を全て溶離した。
〔Ru〔（化合物III S）（−）CH3COO）２〕を含むトル
エン溶液をAr雰囲気下に置き、これ以上精製せずに、接
触還元反応に用いた。
例18 ゲラニオールの（Ｒ）−（＋）−β−シトロネロールへ
の還元 例17のようにして調製した触媒を0.015ミリモル含む
トルエン溶液のサンプルを蒸発乾固し、残渣にゲラニオ
ール889mgとメタノール10mlを添加した。得られた溶液
をスチール製のオートクレーブに移して10.2MPaに加圧
し、25℃の恒温浴中で85時間攪拌した。
反応終了後にオートクレーブを開け、溶剤を蒸発させ
た。転化率は100％（1H−NMR）であった。
残渣をバルブ間（bulb−to−bulb）蒸留した（110
℃、10mmHg）。（Ｒ）−（＋）−β−シトロネロールの
比旋光度〔α〕D 25は＋44.4（明瞭）であり、光学的純
度は83％（〔α〕D 25＝＋5.33（明瞭））であった。
例19 チグリン酸の（Ｓ）−（＋）−２−メチル酪酸への還元 ゲラニオールの代わりにチグリン酸を600mg用いる以
外は、例18と同じ手順を繰り返した。
オートクレーブを10.2MPaに加圧し、25℃の恒温浴中
に入れ、85時間電磁攪拌した。
通常の作業の後、転化率が100％（1H−NMR）となっ
た。この生成物をバルブ間蒸留した（78℃、15mmHg）。
エナンチオマー純度を、この酸とアニリンとの縮合によ
り得られたアミドに基づき、キラル固定相を用いたHPLC
により測定した（DAICEL、Chiralcel OD;フロー0.7ml/
分、ヘキサン／イソプロパノール（90:5））ところ、90
％であった。
例20 アトロパ酸の（Ｓ）−（＋）−２−フェニルプロピオン
酸への還元 ゲラニオールの代わりにアトロパ酸を742mg用いる以
外は、例18と同じ手順を繰り返した。オートクレーブを
10.2MPaに加圧し、25℃の恒温浴中に入れ、90時間電磁
攪拌した。
通常の作業の後、転化率が100％（1H−NMR）となっ
た。この生成物をバルブ間蒸留した（115℃、1mmHg）。
エナンチオマー純度を、この酸とアニリンとの縮合によ
り得られたアミドに基づき、キラル固定相を用いたHPLC
により測定した（DAICEL、Chiralcel OD;フロー0.5ml/
分、ヘキサン／イソプロパノール（95:10））ところ、
エナンチオマー（Ｓ）−（＋）についての純度は90％で
あった。
例21 〔Rh〔（化合物III S）（−）〕２〕ClO4の調製 AgClO4を無水トルエンに溶解して得た0.0424Mの溶液
1.1mlを、〔Ru（1,5−COD）Cl〕ｎを11.6ml入れた有底
試験管に、アルゴン雰囲気下で添加した。室温で１時間
攪拌した後、混合物を短いセライトのカラムに通してろ
過し、得られた淡黄色の溶液に（化合物III S）（−）
を32.5mg添加した。溶液を３時間攪拌した後、（化合物
III S）（−）を更に32.5mg添加した。水素雰囲気下で
混合物を更に16時間攪拌した後、減圧下で蒸発を行い、
得られた橙赤色の残渣を石油エーテルで３回洗浄して、
一晩真空乾燥した。このようにして得られた〔Ru〔（化
合物III S）（−）〕２〕ClO4錯体を、これ以上精製せ
ずにN,N−ジエチル−ゲラニルアミンの異性化に用い
た。MNRスペクトル、マススペクトル、及び元素分析の
結果から、この錯体が既述の構造を有することが確認さ
れた。
例22 N,N−ジエチル−ゲラニルアミンの異性化、（Ｒ）
（＋）シトロネラールの調製 例21に記載されているようにして調製した〔Ru〔（化
合物III S）（−）〕２〕ClO415mgを無水THF3mlに溶解
して得た溶液と、N,N−ジエチルゲラニルアミン0.99gを
THF12mlに溶解して得た溶液とを、予めアルゴン雰囲気
としたオートクレーブにシリンジで移した。このオート
クレーブを110℃の恒温浴に入れて電磁攪拌した。９時
間後に溶液のサンプル（1ml）を取り出し、ジイソプロ
ピルエーテル9mlで希釈し、氷酢酸／水（体積比1:4）溶
液5mlを用いて０℃で10分間処理した。20℃で更に10分
経過後、有機相を分離してNaHCO3の飽和溶液で洗浄し、
硫酸ナトリウム上で無水化して、GC分析を行った。転化
率は約80％であった。更に10時間反応させた後、溶液を
濃縮乾固し、ジイソプロピルエーテル20mlと氷酢酸／水
（体積比1:4）の溶液10mlを用いて上記のように処理し
た。最後に有機相を濃縮し、残渣を蒸留して、比旋光度
〔α〕D 25が＋15.2（明瞭）、すなわち光学的純度が約9
2％の（Ｒ）（＋）シトロネラールを得た。
例23 2,2'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−4,4'−テトラ
メチル−3,3'−〔ｂ〕フランの調製 ａ）２−（3,5−ジメチルフェニルオキシ）酢酸エチル 3,5−ジメチルフェノール（0.082モル）をメタノール
（30ml）に溶解して得た溶液を、ナトリウムメチラート
（0.098モル）をメタノールに溶解して得た溶液に滴下
して、30分間攪拌した。減圧下で混合物から溶剤を蒸発
させて、ナトリウム3,5−ジメチルフェネートを得た。
２−ブロモ酢酸エチル（0.098モル）をDMF（20ml）に溶
解させたものを、塩を無水DMF（150ml）に溶解して得た
溶液に滴下した。この混合物を室温で４時間攪拌し、溶
剤を減圧下で除去し、水で処理し、塩化メチレンで抽出
した。有機相を分離し、Na2SO4で無水化し、溶剤を減圧
下で除去すると、粗２−（3,5−ジメチルフェノキシ）
酢酸エチルが22.7g得られた。これを、これ以上精製せ
ずに次の反応に用いる（定量的収率）。
分析、及び分光分析の詳細 1H−NMR:δＨ（300MHz,CDCl3）1.28（3H,t,CH2C
H3）、2.25（6H,s,3,5−Me）、4.25（2H,q,CH2CH3）、
4.5（2H,s,CH2CO）、6.5（2H,s,2,6−Ｈ）、6.6（1H,s,
4−Ｈ） ｂ）２−（3,5−ジメチルフェノキシ）酢酸 ２−（3,5−ジメチルフェノキシ）酢酸エチル（0.11
モル）をエタノール（159ml）に溶解して得た溶液にKOH
（0.11モル）を滴下して、１時間加熱する。析出したカ
リウム塩をろ過して、水に溶解する。pHが酸性になる
迄、この溶液に20％塩酸を添加する。２−（3,5−ジメ
チルフェノキシ）酢酸をろ別する（収率80％）。
分析、及び分光分析の詳細 融点73℃ 1H−NMR:δＨ（80MHz,CDCl3）2.30（6H,s,3,5−M
e）、4.65（2H,s,CH2CO）、6.55（2H,s,2,6−Ｈ）、2.6
5（1H,s,4−Ｈ） ｃ）4,6−ジメチル−３−ベンゾフラノン ポリリン酸と２−（3,5−ジメチルフェノキシ）酢酸
との混合物を、50℃で８時間加熱した。この混合物を氷
に注ぎ入れ、pHが７になる迄アンモニアで処理した。こ
の混合物を塩化メチレンで抽出し、有機相を重炭酸塩溶
液で処理して無水化し（Na2SO4）、溶剤を減圧下で除去
したところ、4,6−ジメチル−３−ベンゾフラノンが得
られた（転化率40％、収率100％）。
分析、及び分光分析の詳細 融点55〜60℃ 1H−NMRδＨ（80MHz,CDCl3）2.25（3H,s,Me）、2.45
（3H,s,Me）、4.40（2H,s,CH2）、6.50（1H,s,芳香
族）、6.60（1H,s,芳香族） ｄ）4,6−ジメチル−３−ブロモベンゾフラノン 4,6−ジメチル−３−ベンゾフラノン（0.09モル）
を、予め100℃に加熱しておいた三臭化リン（30ml）に
ゆっくり添加した。この混合物を注意深く氷で処理し、
塩化メチレンで抽出する。有機相を無水化し（Na2S
O4）、溶剤を減圧下で除去すると、4,6−ジメチル−３
−ブロモベンゾフラノンが得られる（収率60％）。
分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδＨ（80MHz,CDCl3）2.40（3H,s,Me）、2.70
（3H,s,Me）、6.85（1H,s,5−Ｈ）、7.15（1H,s,7−
Ｈ）、7.50（1H,s,2−Ｈ） ｅ）4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ビベンゾ〔ｂ〕
フラン 無水THF（20ml）に溶解した4,6−ジメチル−３−ブロ
モベンゾフラノン（0.012モル）を、−105℃に保ったｎ
−BuLiの1.6Mヘキサン溶液（9ml）に、攪拌しながら滴
下する。この混合物を20分間反応させ、CuCl2（0.014モ
ル）を添加して３時間攪拌した。０℃で2MのHCl（20m
l）を添加した。溶剤を減圧下で留去し、残渣に水を添
加した。CH2Cl2で抽出した後、混合物を無水化し（Na2S
O4）、溶剤を減圧下で留去した。残渣を、溶離剤として
ヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にかけた。最終画分を集めると、4,4',6,6'−テトラメ
チル−3,3'−ビベンゾ〔ｂ〕フランが得られる（収率30
％）。
分析、及び分光分析の詳細 融点:98〜100℃ 1H−NMRδＨ（80MHz,CDCl3）2.10（6H,s,Me）、2.45
（6H,s,2Me）、6.85（2H,s,5,5'−Ｈ）、7.18（2H,s,7,
7'−Ｈ）、7.50（2H,s,2,2'−Ｈ） 質量分析:M+＝290 ｆ）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィン）−4,4',6,6'
−テトラメチル−3,3'−〔ｂ〕フラン 4,4',6,6'−テトラメチル−3,3'−ビベンゾ〔ｂ〕フ
ラン（0.0014ミリモル）とテトラメチレンジアミン（0.
5ml）とを無水THF（10ml）に溶解して得た溶液を−50℃
に保ち、これに1.6Mのｎ−BuLi（2ml）を窒素雰囲気下
で攪拌しながら滴下する。その後、温度を25℃に上げ
る。Ph2PCl（0.63ml）を滴下した。溶剤を減圧下で留去
し、残渣に水を添加し、有機相をCH2Cl2で抽出した。有
機相を無水化し（Na2SO4）、溶剤を減圧下で除去した。
残渣を石油エーテルを用いて粉砕すると、2,2'−ビス
（ジフェニルホスフィン）−4,4,6,6'−テトラメチル−
3,3'−〔ｂ〕フランが得られる（収率60％）。
分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδＨ（300MHz,CDCl3）1.90（6H,s,2Me）、2.4
0（6H,s,2Me）、6.75（2H,s,5,5'−Ｈ）、7.80（22H,m,
芳香族） 31PδＨ（200MHz,CDCl3）−32.15 質量分析:M+＝658 ｇ）2,2'−ビス（ジフェニルホスフィニル）−4,4',6,
6'−テトラメチル−3,3'−〔ｂ〕フラン 2,2'−ビス（ジフェニルホスフィン）−4,4',6,6'−
テトラメチル−3,3'−〔ｂ〕フラン（0.45g）をCH2Cl2
（30ml）に溶解して得た溶液を０℃に保ち、これに35％
のH2O2（5.5ml）を滴下する。温度を０℃に15分間、25
℃に１時間保つ。水を添加して、有機相を分離した。有
機相を無水化し、溶剤を減圧下で除去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにかけ（溶離剤:AcOEt
/CH2Cl2＝2/8）て最終画分を集めたところ、ラセミ2,2'
−ビス（ジフェニルホスフィニル）−3,3'−ビベンゾ
〔ｂ〕チオフェンが得られた（収率90％）。
分析、及び分光分析の詳細 1H−NMRδＨ（300MHz,CDCl3）1.80（6H,s,2Me）、2.2
0（6H,s,2Me）、6.35（2H,s,5,5'−Ｈ）、7.00〜7.80
（22H,m,芳香族） 31P＝＋16.9 例２のｄ）と同じ方法で、キラルカラムを用いたHPLC
により、分割を行った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｆ 9/655 Ｃ０７Ｆ 9/655 9/6553 9/6553 9/6558 9/6558 15/00 15/00 (72)発明者 サニーコロ，フランチェスコ イタリー国ミラノ、アルサイア、ナビグ リオ、グランデ、46 (72)発明者 トリマルコ，リチア イタリー国ミラノ、ビア、ミチェナー テ、23／２ 審査官 藤森 知郎 (56)参考文献 Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅ ｒｓ，Ｖｏｌ．35，Ｎｏ．８（1994) ｐ．1197−ｐ．1200 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】以下の一般式： （式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分
    かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、COOR3（R3
    は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アル
    キル）から選ばれ、 Ｙはフェニル、置換フェニル（置換基は直鎖状、枝分か
    れ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、O
    R6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、アリール、置換アリール（置換基は直
    鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキ
    ル，ハロゲン、OR6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし
    くは環状のC1〜C10アルキル））、直鎖状、枝分かれ鎖
    状、もしくは環状のC3〜C10アルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル（置換基は直鎖状、枝分か
    れ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、O
    R6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、アリール、置換アリール（置換基は直
    鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキ
    ル、ハロゲン、 OR6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状
    のC1〜C10アルキル、OR5（R5は直鎖状、枝分かれ鎖状、
    もしくは環状のC1〜C10アルキル）から選ばれる）の芳
    香族五原子二複素環式系により構成されているか、又は 以下の式 もしくは （式中、R4は水素、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環
    状の非置換C1〜C10アルキルから選ばれ、ｎは０〜６で
    あり、R2は水素であってよい）のように、該系の各五原
    子複素環式芳香族環が縮合して、直鎖状、枝分かれ鎖
    状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR
    6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10
    アルキル）で置換されているか、もしくは置換されてい
    ないベンゼン環もしくはナフタリン環を形成しているこ
    とを特徴とするキラルジホスフィン。
  2. 【請求項２】該芳香族五原子複素環式系が、 1,1'−ビピロール、2,2'−ビピロール、3,3'−ビピロー
    ル 3,3'−ビチオフェン 3,3'−ビフラン 1,1'−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合物（II A）、（II B）、（V
    A）、（V B）、 5,5'−ビイミダゾール 4,4'−ビイソチアゾール 4,4'−ビイソオキサゾール 4,4'−ビピラゾール、5,5'−ビピラゾール、 1,1'−ビ−1,3,4−トリアゾール 3,3'−ビベンゾチオフェン 3,3'−ビベンゾフラン 2,2'−ビインドール 1,1'−ビベンゾイミダゾール から選ばれることを特徴する、請求項１に記載のキラル
    ジホスフィン。
  3. 【請求項３】該R2が水素であり、該Ｙがフェニルであ
    り、該五原子芳香族環がチオフェンであって、これが縮
    合して式（II A）、（II B）（R4はメチル、ｎは２）に
    よる二置換芳香族環となっていることを特徴とする、以
    下の式 で表される、請求項１に記載のキラルジホスフィン。
  4. 【請求項４】該R2がメチルであり、該Ｙがフェニルであ
    り、該R1がメチルであり、該芳香族五原子二複素環式系
    が3,3'−ビチオフェンであることを特徴とする、以下の
    式 で表される、請求項１に記載のキラルジホスフィン。
  5. 【請求項５】以下の工程、 −五原子芳香族二複素環式系を、対応する五原子複素環
    式アニオンを酸化カップリングさせて合成する、 −二複素環式系のジアニオンを形成させる、 −該ジアニオンと、Ｐ（Ｙ）2ClもしくはPO（Ｙ）2Cl
    （Ｙはフェニル、置換フェニル、アリール、置換アリー
    ル、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC3〜C10ア
    ルキルから選ばれる）とを反応させて、ラセミジホスフ
    ィン（I A）＋（I B）、もしくはラセミジホスフィンオ
    キシドを得る、 −公知の手法を用いた酸化反応により、該ラセミジホス
    フィン（I A）＋（I B）を対応するラセミジホスフィン
    オキシドへ転化させる、 −該ラセミジホスフィンオキシドと酸キラル分割剤とを
    反応させて、二種類のジアステレオマー付加物を得る、 −該ジアステレオマー付加物を分別結晶により分離す
    る、 −分離した二種類のジアステレオマー付加物のそれぞれ
    に対して塩基処理を行い、対応するエナンチオマー的に
    純粋なジホスフィンオキシドを得る、 −エナンチオマー的に純粋な該ジホスフィンオキシド
    と、シランのような公知の還元剤とを反応させて、エナ
    ンチオマー的に純粋なキラルジホスフィン（I A）及び
    （I B）を得る ことからなることを特徴とする、請求項１に記載のキラ
    ルジホスフィンを製造する方法。
  6. 【請求項６】該ラセミジホスフィン（I A）＋（I B）を
    キラル手法を用いたカラムクロマトグラフィーにより直
    接分割することを特徴とする、請求項５に記載のキラル
    ジホスフィン製造方法。
  7. 【請求項７】請求項１に記載のキラルジホスフィンの、
    遷移金属との錯体を製造する際のキラルリガンドとして
    の使用。
  8. 【請求項８】遷移金属と、芳香族五原子二複素環式系に
    より構成されるキラルジホスフィンとの錯体からなるこ
    とを特徴とする立体制御合成用のキラル触媒であって、
    該キラルジホスフィンが、以下の一般式 （式中、R2は水素、フェニル、アリール、直鎖状、枝分
    かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、COOR3（R3
    は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アル
    キル）から選ばれ、 Ｙはフェニル、置換フェニル（置換基は直鎖状、枝分か
    れ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、O
    R6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、アリール、置換アリール（置換基は直
    鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキ
    ル，ハロゲン、OR6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もし
    くは環状のC1〜C10アルキル））、直鎖状、枝分かれ鎖
    状、もしくは環状のC3〜C10アルキルから選ばれ、 R1はフェニル、置換フェニル（置換基は直鎖状、枝分か
    れ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、O
    R6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、アリール、置換アリール（置換基は直
    鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10アルキ
    ル、ハロゲン、 OR6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C
    10アルキル））、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状
    のC1〜C10アルキル、OR5（R5は直鎖状、枝分かれ鎖状、
    もしくは環状のC1〜C10アルキル）から選ばれる）の芳
    香族五原子二複素環式系により構成されているか、又は 以下の式 もしくは （式中、R4は水素、直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環
    状の非置換C1〜C10アルキルから選ばれ、ｎは０〜６で
    あり、R2は水素であってよい）のように、該系の各五原
    子複素環式芳香族環が縮合して、直鎖状、枝分かれ鎖
    状、もしくは環状のC1〜C10アルキル、ハロゲン、OR
    6（R6は直鎖状、枝分かれ鎖状、もしくは環状のC1〜C10
    アルキル）で置換されているか、もしくは置換されてい
    ないベンゼン環もしくはナフタリン環を形成しており、
    芳香族五原子複素環式系が、 1,1'−ビピロール、2,2'−ビピロール、3,3'−ビピロー
    ル 3,3'−ビチオフェン 3,3'−ビフラン 1,1'−ビイミダゾール 及び対応するベンゾ縮合物（II A）、（II B）、（V
    A）、（V B）、 5,5'−ビイミダゾール 4,4'−ビイソチアゾール 4,4'−ビイソオキサゾール 4,4'−ビピラゾール、5,5'−ビピラゾール、 1,1'−ビ−1,3,4−トリアゾール 3,3'−ビベンゾチオフェン 3,3'−ビベンゾフラン 2,2'−ビインドール 1,1'−ビベンゾイミダゾール から選ばれるものであるキラル触媒。
  9. 【請求項９】請求項８に記載のキラル触媒の、立体制御
    還元反応への使用。
  10. 【請求項１０】該R2がメチルであり、該Ｙがフェニルで
    あり、該五原子複素環式芳香族環がピロールであって、
    それが式（V A）、（V B）（R4は水素であり、ｎは４）
    のように縮合して非置換のベンゼン環を形成している、
    以下の式 をもつ、請求項１に記載のキラルジホスフィン。
  11. 【請求項１１】該R2が水素であり、該Ｙがフェニルであ
    り、該五原子複素環式芳香族環がチオフェンであって、
    それが式（II A）、（II B）（R4は水素であり、ｎは
    ４）のように縮合してベンゼン環を形成している、以下
    の式 をもつ、請求項１に記載のキラルジホスフィン。
  12. 【請求項１２】請求項８に記載のキラル触媒の、立体制
    御異性化反応への使用。
  13. 【請求項１３】該R2が水素であり、該Ｙがフェニルであ
    り、該五原子複素環式芳香族環がフランであって、それ
    が式（II A）、（II B）（R4はメチルであり、ｎは２）
    のように縮合して二置換のベンゼン環を形成している、
    以下の式 をもつ、請求項１に記載のキラルジホスフィン。
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