JP2004513951A - キラルジホスフィン及びその金属錯体 - Google Patents
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Abstract
本発明は、新規なキラルジホスフィン(R)又は(S)、及びジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子としてのその使用を対象とする。本発明は、前記キラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体、及び官能基を担持する不飽和化合物の不斉触媒作用方法において触媒としての前記ジホスフィン−金属錯体の使用にも関する。
Description
【0001】
本発明は、不斉アトロプ異性体(atropoisomeres)ジホスフィン、その合成及びジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子としてのその使用を対象とする。本発明は、配位子としての不斉キラルジホスフィンを含むジホスフィン−金属錯体、及びこれらの錯体を利用する不斉触媒作用方法にも関する。本発明は、所望のキラリティーを有する有機生成物を合成するための不斉水素添加又は水素転移方法におけるこれらのジホスフィン−金属錯体の使用を特に検討する。
【0002】
先行技術において、水素添加のエナンチオ選択的触媒特性を有するジホスフィン−金属錯体を合成するために使用される不斉アトロプ異性体配位子、FUPMOPが知られている(M.Murataら、Synlett、1991、827頁)。
【0003】
出願人は今般、非常に高い収率及びエナンチオ選択性を有する所望のキラリティーを持った、有機生成物の合成に特に有用な、光学活性配位子として不斉アトロプ異性体ジホスフィンを含む新規なジホスフィン−金属錯体の構想を得た。
【0004】
従って、本発明は一般式(I):
【0005】
【化1】
[式中:
−同一又は異なるR1、R2、R3、R4、R5及びR6は、水素原子、塩素、臭素又はフッ素のようなハロゲン、飽和又は不飽和のC1−4のアルキル基、飽和又は不飽和のC1−4のアルコキシ基、C4−6のアリールオキシ基から選択され、前記アルキル基、アルコキシ基又はアリールオキシ基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はベンジルによって場合により置換され、
−又はR2及びR3又はR4及びR5は、場合により置換されるベンゼン環、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、場合により置換されるシクロヘキシルのような、飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル基、又は式(II):
【0006】
【化2】
(式中、同一又は異なるW及びQは、酸素原子、スルホキシド基(−SO)、スルホン基(−SO2)、又はメチレン基から選択され、かつnは、0又は1に等しい)の複素環を共に形成し、
−又はR3及びR4は、メチレンジオキシ、エチレンジオキシのようなC2−4のアルキレンジオキシのような環、場合により置換されるシクロヘキシルのような飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はC1−5のアルコキシによって場合により置換される式(II)の複素環を形成し;
−同一又は異なるR7及びR8は、例えばフェニル、トリル、トリメチルフェニル又はt−ブチルフェニルのようなアルコキシ、ハロゲン、又はアルキルによって場合により置換されるアリールを表すか、又は例えばアルキル、ハロゲン又はアルコキシによって場合により置換されるシクロヘキシル、シクロペンチルのようなC5−6のシクロアルキルを表す]のキラルジホスフィン(R)又は(S)を対象とする。
【0007】
本発明は、式(I)(式中、R3及び/又はR4は水素原子を表し、R1はR6と同じ意味を有し、R2はR5と同じ意味を有し、かつR3はR4と同じ意味を有する)の化合物を対象外とする。
【0008】
本発明の式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)は、添付図面の図1に表した反応図に従って式(XIII)次に(XII)の化合物から、D.CAIら(J.Org.Chem.1994、p7180)によって開示されたタイプの方法によって調製される。
【0009】
この方法は、以下の式(XII):
【0010】
【化3】
の化合物を形成するために、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(トリフリン酸無水物)との以下の式(XIII):
【0011】
【化4】
の化合物のスルホニル化反応を特徴とする。
【0012】
この式(XII)の化合物に対して、式(I)の化合物を得るための式HP(R7)(R8)のホスフィンとリン酸化反応を行う。
【0013】
式(XII)及び(XIII)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、式(I)中と同じ意味を有する。
【0014】
これらの化合物、及び特には式(XIII)の化合物も同様に本発明の一部をなす。従って、本発明は、以下の一般式(XXIV):
【0015】
【化5】
[式中、R1からR6は、上記式(I)中と同じ意味を有し、かつ同一のR及びR’は、−OH基又は式−P(R7)(R8)(式中、R7及びR8は、式(I)中と同じ意味を有する)の基を表す]の化合物に関する。
【0016】
例として、式(I)の不斉キラルジホスフィンで:
−6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(R)、
−6−メトキシ−5’,6’−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−6’−メトキシ−5,6−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、を挙げることができる。
【0017】
本発明に従った一般式(I)の環A及びBの相違により不斉である、アトロプ異性体キラリティーのジホスフィン(R)又は(S)は、ジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子として注目に値する。
【0018】
式(I)の混合アトロプ異性体ジホスフィンは、本発明に従えば、水素添加方法において不斉触媒作用で活性な幾つかのタイプのジホスフィン−金属錯体を調製するために使用される。
【0019】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第1の群は、次式(III):
MxHyXz(L)2(Sv)p (III)
(式中:
−Mは、ルテニウム、ロジウム又はイリジウムのような金属を表し;
−Xは、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素のようなハロゲンを表し;
−Svは、第3アミン、ケトン、エーテルを表し;
−Lは、上記式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)を表し;
−yは、0又は1に等しい整数であり;
−xは、1又は2に等しい整数であり;
−zは、1、2又は4に等しい整数であり;
−pは、0又は1に等しい整数である)に対応する。
【0020】
式(III)のジホスフィン−金属錯体の中で、本発明は特には式(IIIA)及び(IIIB)の錯体を検討する。
【0021】
式(IIIA)の錯体は、次式:
M2X4L2(Sv) (IIIA)
(式中:M、X、L及びSvは、式(III)中と同じ意味を有する)に対応する、式(III)(式中y=0、その場合x=2、z=4及びp=1)の錯体である。
【0022】
式(IIIB)の化合物は、次式:
MHXL2 (IIIB)
(式中:M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつHは、水素原子を表す)に対応する、式(III)(式中y=1、その場合x=1、z=1及びp=0)の化合物である。
【0023】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第2の群は、次式(IV):
MXj(Ar)mLYn (IV)
[式中:
−M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、
−Arは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロヘキサジエン、ノルボナジエン、1,5−シクロオクタジエンのようなオレフィン、π−アリル(pi−allyle)、アセトニトリルのようなニトリル、式(V):
【0024】
【化6】
(式中、同一又は異なるR9、R10、R11、R12、R13及びR14は、水素原子、C1−5のアルキル基、イソアルキル基、第3アルキル基、アルコキシ基から選択され、前記基は、O、N及びSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み得る)のアレーンを表し、
−Yは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表し;かつ
−jは、0又は1に等しい整数であり、mは、1、2又は4に等しい整数であり、かつnは、1又は2に等しい整数である]に対応する。
【0025】
本発明の式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第3の群は、次式(VI):
[MX(P(R15)2(R16))L]2X (VI)
(式中:M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつ同一又は異なるR15及びR16は、フェニル、又はアルキル、アルコキシ又はジアルキルアミノによって置換されるフェニルを表す)に対応する。
【0026】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第4の群は、次式(VII):
M(L)Z2 (VII)
[式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつZは、式R17COO−の酢酸基、式−OOCR17COO−のジ酢酸基、式R17CH(NH2)COO−のアミノ酢酸塩(式中、R17は、C1−4のアルキル、C1−4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表す]に対応する。
【0027】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第5の群は、次式(VIII):
[M(L)WXk]nZ’p (VIII)
[式中:
−M、L及びXは、式(III)中と同じ意味を有し;
−Wは亜鉛、アルミニウム、チタン又はスズを表し;
−Z’は:
・式R18COO−の酢酸基(式中、R18は、C1−4のアルキル、C1− 4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表し、かつこの場合n=1及びp=2であり、かつWがZnである時k=2であり、WがAlである時k=3であり、かつWがTi又はSnである時k=4であるか、又は、
・トリエチルアミンのような第3アミンを表し、かつこの場合n=2及びp=1であり、かつWがZnである時k=4であり、WがAlである時k=5であり、かつWがTi又はSnである時k=6である]に対応する。
【0028】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第6の群は、次式(IX):
MH(L)2Y (IX)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、Hは、水素原子を表し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0029】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第7の群は、次式(X):
M(L)Y2 (X)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0030】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第8の群は、次式(XI):
M(L)2Y (XI)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0031】
以上で示したように、本発明の式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)は、添付図面の図1に表した反応図に従って式(XIII)次に(XII)の化合物から、D.CAIら(J.Org.Chem.1994、p7180)によって開示されたタイプの方法によって調製される。
【0032】
この方法は、以下の式(XII):
【0033】
【化7】
の化合物を形成するために、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(トリフリン酸無水物)との以下の式(XIII):
【0034】
【化8】
の化合物のスルホニル化反応を特徴とする。
【0035】
この式(XII)の化合物に対して、式(I)の化合物を得るための式HP(R7)(R8)のホスフィンとリン酸化反応を行う。
【0036】
式(XII)及び(XIII)中、R1からR6は、式(I)中と同じ意味を有する。
【0037】
式(XIII)の化合物は、添付図面の図2に表した反応図に従って、式(XV)及び(XIV)の化合物から調製される。
【0038】
図2に表した反応図で、以下の式(XIV):
【0039】
【化9】
のジアステレオ異性体的に純粋な化合物を形成するための、B.H.Lipschutzによって開発された方法に従って、以下の式(XV):
【0040】
【化10】
の化合物の結合反応を利用する。
【0041】
式(XIV)のジアステレオ異性体的に純粋な化合物は、式(XIII)の対応するビフェノールを形成するための従来の方法によって保護が取り除かれる。
【0042】
式(XV)及び(XIV)中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、式(I)中と同じ意味を有し、R19は、メチル、エチルのようなアルキル、又はフェニルのようなアリールを表し、X’は、臭素又はヨウ素原子を表し、かつn’は、0、1、2、3又は4に等しい整数を表す。
【0043】
式(XV)の化合物は、以下の式(XVI)及び(XVII):
【0044】
【化11】
(式中、R1からR6、R19及びX’は、式(XV)及び(XIV)中と同じ意味を有し、かつR17は、メチル、エチル、フェニル又はベンジルのような、アルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表す)の化合物間のミツノブタイプの反応によって得られる。
【0045】
式(XVI)の化合物は、次式(XVIIIA):
【0046】
【化12】
の化合物、及び式:
【0047】
【化13】
の光学反応性アルカンジオールからのミツノブタイプの反応によって得られる。
【0048】
式(XVI)及び(XVII)中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、式(I)中と同じ意味を有し、かつX’は、臭素又はヨウ素原子を表す。
【0049】
これら2つの相次ぐミツノブタイプの反応は、添付図面の図3に表す反応図に表す。
【0050】
式(XVII)の化合物は、次式の式(XVIIIB):
【0051】
【化14】
の化合物から調製される。
【0052】
このようにして、式(XVI)及び(XVII)の化合物は、添付図面の図4に表す反応図に従って、以下の式(XIXA)及び(XIXB):
【0053】
【化15】
のフェノール化合物からそれぞれ得られる式(XVIIIA)及び(XVIIIB)自体の2−ハロゲンフェノール化合物からそれぞれ得られる。
【0054】
これらの式中、R1からR6は、以前と同じ意味を有する。
【0055】
式(III)、(IV)及び(VI)の錯体は、先行技術に開示された方法に従って、類推により調製され得る。
【0056】
実際、第174057号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(III)の錯体は、式(XX):
MX2(COD)2 (XX)
(式中、M及びXは、式(III)中と同じ意味を有し、かつCODは、シクロオクタジエンを表す)の化合物から調製され得る。
【0057】
同様に、第366390号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(IV)の錯体は、式(XXI):
[MX2(Ar)]2 (XXI)
(式中、M及びXは、式(III)中と同じ意味を有する)の化合物から調製され得る。
【0058】
最後に、第470756号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(VI)の化合物は、式(XXII):
[MX(P(R15)2(R16))(DMA)]2X (XXII)
(式中、M、X、R15及びR16は、式(VI)中と同じ意味を有し、かつDMAは、ジメチルアセトアミドを表す)の化合物から調製され得る。
【0059】
式(VII)、(VIII)、(IX)、(X)及び(XI)の錯体も同様に先行技術に開示された方法に従って類推により調製され得る。実際、式(VII)及び(VIII)の錯体は、第245960号及び第271310号で公開された欧州特許願に開示された方法の類推により式(IIIA)の化合物から得ることができる。式(IX)、(X)及び(XI)の錯体は、第256634号、第245959号及び第271310号で公開された欧州特許願に開示された方法の類推により式(IIIB)の化合物から得ることができる。
【0060】
本発明は、式(III)、(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)及び(XI)のジホスフィン−金属錯体、並びに不斉触媒作用方法における触媒としてのその使用、及び特に、次式(XXIII):
【0061】
【化16】
[式中:
−A及びBは、異なっており、かつC1−5のアルキル基、アリール基、C1−7のヒドロキシカルボニル基、C1−7のアルコキシカルボニル基、C1−10のアリールオキシカルボニル基、C1−7のハロゲンアルキル基、ヘテロアリール基、飽和又は不飽和シクロアルキル基から選択され、前記アルキル基、アリール基、シクロアルキル基は、場合により塩素、フッ素、臭素のようなハロゲン、NO2基、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシ、C1−7の溶融又は非溶融シクロアルキル、場合によりハロゲン、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシによって置換される溶融又は非溶融アリール基から選択される1つ又は幾つかの置換基を含み、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N又はSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−又はA及びBは、C2−6で置換されるアルキル基、C3−9の飽和又は不飽和シクロアルキル基、C5−10のアリール基を共に形成し、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C5−10のアルコキシによって置換され、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルコキシ、−NH2、−NHR20、−N(R20)2のようなアミノ、スルフィノ、スルホニルによって置換され(式中、R20は、アルキル、アルコキシ又はアルキルカルボニルを表す)、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N、S、Siのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−Q1は、酸素、−NR21基、−NOR21基、又は−C(R21)2基(式中、R21は、C1−5のアルキル、アリール基、C1−4のアルキルによって置換されるヘテロアリール基から選択される)を表す]の官能基を担持する不飽和化合物の不斉水素添加又は水素転移方法におけるその使用に同様に関する。
【0062】
式(XXIII)の化合物では、非限定的な例として、次のものを挙げることができる:エン(ene)−酸又はエステル誘導体、エン−アルコール又はエーテル誘導体、エン−アミド誘導体、エン−アミン誘導体、β−ケト酸又はエステル誘導体、γ−ケト酸又はエステル誘導体、β,γ−ジケト酸又はエステル誘導体、ハロゲン−ケトン誘導体、ヒドロキシ又はアルコキシ−ケトン誘導体、イミン誘導体。
【0063】
本発明に従った好ましい不斉水素添加方法は、好ましくは次の作業条件で、触媒としての、式(III)、(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)又は(XI)の触媒錯体の存在下で、式(XXIII)の化合物を適切な溶剤中で処理することを含む:
−0から+150℃の温度、
−1から100バールの水素圧力、
−1/50000から1/10、好ましくは1/10000から1/10、非常に好ましくは、1/10000から1/1000の基質量に対する触媒量。
【0064】
水素添加時間は、一般的に1時間以上である。基質及び触媒に応じて、例えば1時間から70時間であっても良い。
【0065】
あらゆる溶剤が、基質を溶解させ得、かつ反応に影響しない限りにおいて、単離して又は混合で使用され得る。上記方法において使用される可能性がある溶剤で、水、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン及びキシレンのような炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル及びジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル、アセトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及びアセチルアセトンのようなケトン、ジメチルホルムアミドのようなアミド、メタノール、エタノール、n−プロパノール及びイソプロパノールのようなアルコール、アセトニトリルのようなニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム及び1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化アルキル、トリエチルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、エチルジイソプロピルアミン、N−メチルシクロヘキシルアミン及びピリジンのようなアミン、酢酸、プロピオン酸及び蟻酸のような有機酸を挙げることができる。
【0066】
本発明のその他の利点及び特徴は、非限定的に示す、これに続く実施例において現れるであろう。
【0067】
【実施例1】2−ヨードナフトールの合成
等圧付加アンプルを備えた500mlのフラスコ中で、β−ナフトール10g(69.4ミリモル)、ヨウ化ナトリウム10.4g(69.4ミリモル、1当量)、及び水酸化ナトリウム2.8g(69.4ミリモル、1当量)をアルゴンの不活性雰囲気下、メタノール250ml中で可溶化させる。温度を、−5℃に低下させる。次亜塩素酸ナトリウム104ml(69.4ミリモル、1当量)を、一滴ずつ加える。一滴毎に現れる赤色は、1秒未満で消える。反応媒体を、1時間、0℃で撹拌し、次に室温に上昇させる。溶液は、10%の塩酸250mlで処理する。このようにして形成した沈殿物を、焼結ガラス上で濾過し、次に低圧で乾燥させる。固体を、メタノール/水混合物中に再度沈殿させ、90%の収率で褐色の固体16.8g(62.4ミリモル)が得られる。
【0068】
NMR 1H:5.78(1H,s)、7.26(1H,d,8Hz)、7.39(1H,t,6Hz)、7.56(1H,t,6Hz)、7.75(2H,d,8Hz)、7.93(1H,d,8Hz)
【0069】
NMR 13C:86.3;116.4;124.2;128.2;129.7;130.2;130.6;134.8;153.7
【0070】
M=270 C10H7OI
【0071】
【実施例2】2−ヨードレソルシノールの合成
等圧付加アンプルを備えた500mlのフラスコ中で、レソルシノール5.5g(0.05モル)を、水125ml中に溶解させる。塩酸4.15ml(4.15ミリモル、1当量)を、一滴ずつ加える。水125ml中の過ヨウ素酸カリウム3.55g(0.0165モル、0.33当量)、ヨウ化カリウム5.55g(0.033モル、0.66当量)の溶液を、30分、反応媒体に一滴ずつ加える。撹拌を2時間継続する。酢酸エチル4×100mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。このようにして得た油を、クロロホルム50ml中に取り、次に石油エーテル中に沈殿させる。得られた結晶質固体を低圧で乾燥させる。白色の結晶4.4gが、37%の収率で得られる。
【0072】
NMR 1H:5.42(2H,s)、6.56(2H,d,8Hz)、7.12(1H,t,8Hz)
【0073】
NMR 13C:107.2;130.3;155.6
【0074】
M=236 C6H5O2I
【0075】
【実施例3】2−ヨード 3−メトキシフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、2−ヨードレソルシノール708mg(3ミリモル)及びジエチルアゾジカルボキシレート561μl(3.3ミリモル、1.1当量)を、無水THF20ml中に溶解させる。THF20ml中のメタノール121μl(3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン945mg(3.6ミリモル、1.2当量)を、静かに注入する。12時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。無色の油341mgが、45%の収率で得られる。
【0076】
NMR 1H:3.87(3H,s)、5.57(1H,s)、6.39(1H,dd,8Hz及び1.2Hz)、6.67(1H,dd,8Hz及び1.2Hz)、7.18(1H,t,8Hz)
【0077】
NMR 13C:56.6、78.2、103.2、108.1、130.3、156.2、158.9
【0078】
M=250 C7H7O2I
【0079】
【実施例4】(2R,4S)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)2−ペンタノールの合成
不活性雰囲気下、500mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート12.5ml(80.76ミリモル、1.2当量)を、THF100ml中の2−ヨードナフトール18.2g(67.3ミリモル)に加える。THF100ml中の(2S,4S)−ペンタンジオール7g(67.3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン21.15g(80.76ミリモル、1.2当量)を、30分間、5℃で一滴ずつ注入する。48時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油19gが、80%の収率で得られる。
【0080】
NMR 1H:1.27(3H,d,6Hz)、1.35(3H,d,6Hz)、1.79(1H,m)、2.10(1H,m)、3.07(1H,s)、4.13(1H,m)、4.77(1H,m)、7.16(1H,d,8Hz)、7.37(1H,t,8Hz)、7.52(1H,t,8Hz)、7.70(1H,d,8Hz)、7.75(1H,d,8Hz)、8.13(1H,d,8Hz)
【0081】
NMR 13C:20.2;23.8;45.6;66.5;75.9;90.4;115.6;124.5;128.0;128.1;130.1;131.3;135.6;154.4
【0082】
[αD]=−49.5(c=1;CHCl3)
【0083】
M=356 C15H17O2I
【0084】
【実施例5】(2R,4R)−2−(2’−ヨード−3’−メトキシ−1’−フェノキシ)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタンの合成
不活性雰囲気下、50mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート187μl(1.2ミリモル、1.2当量)を、THF10ml中の2−ヨード 3−メトキシレソルシノール250mg(1ミリモル、1当量)に加える。THF10ml中の4−(1−ヨードナフトキシ)−ペンタン−2−オール356mg(1ミリモル)及びトリフェニルホスフィン315mg(1.2ミリモル、1.2当量)を、10分間、5℃で一滴ずつ注入する。24時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油407mgが、70%の収率で得られる。
【0085】
NMR 1H:1.44(3H,d,6Hz)、1.46(3H,d,6Hz)、2.16(2H,m)、3.83(3H,s)、4.90(2H,m)、6.26(1H,d,8Hz)、6.31(1H,d,8Hz)、6.91(1H,t,8Hz)、6.96(1H,d,8Hz)、7.32(1H,t,8Hz)、7.46−7.65(3H,m)、8.08(1H,d,8Hz)
【0086】
NMR 13C:20.8;26.8;45.1;56.3;72.7;73.8;103.5;106.7;116.1;124.1;127.6;127.9;129.4;129.9;131.2;154.3;158.2;158.9
【0087】
M=588 C22H22O3I2
【0088】
【実施例6】3−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2R,4R)−ペンタンジオキシ]ビフェニルの合成
不活性雰囲気下、100mlの二つ口フラスコ中で、二ヨウ化化合物1.18g(2ミリモル)を、無水THF30ml中に可溶化させる。温度は、−78℃に低下させる。ヘキサン中2.3MでnBuLi2.6ml(6ミリモル、3当量)を、温度が−65℃を超えることなしに、一滴ずつ加える。反応媒体を、1時間、−78℃で撹拌する。THF30ml中のシアン化銅270mg(3ミリモル、1.5当量)を10分で注入する。撹拌を、2時間維持する。酸素の流れは、2時間、−78℃で媒体中に気泡を作る。溶液を、室温に上昇させ、次にNH4Clの飽和溶液で処理する。反応媒体を、エーテル3×50mlで抽出する。有機相を、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。薄い黄色の固体331mgが、50%の収率で得られる。可能な2つのジアステレオ異性体の一方が、極めて十分に多く得られる。それを、再結晶後に単離する。
【0089】
NMR 1H:1.29(3H,d,6Hz)、1.42(3H,d,6Hz)、1.85(2H,m)、3.67(3H,s)、4.64(2H,m)、6.78(1H,d,8Hz)、6.87(1H,d,8Hz)、7.35(4H,m)、7.55(1H,m)、7.85(2H,m)
【0090】
NMR 13C:22.1;22.7;41.7;55.6;75.1;105.5;111.1;117.7;118.7;122.2;123.8;125.7;126.5;127.9;129.0;129.2;130.2;133.1;154.3;158.2;158.9
【0091】
[αD]=+250(c=1;CHCl3)
【0092】
質量=334 C22H22O3
【0093】
【実施例7】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2−ビフェノールの合成
50mlのフラスコ中で、CH2Cl2中の三臭化ホウ素1M6.5ml(3.9ミリモル、2当量)を、不活性雰囲気下、−50℃でCH2Cl210ml中の3−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2R,4R)−ペンタンジオキシ]ビフェニル651mg(1.95ミリモル)に加える。撹拌を1時間継続する。溶液は、10%のHCl、20mlで処理する。酢酸エチル3×20mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体400mgが、78%の収率で得られる。
【0094】
NMR 1H:3.71(3H,s)、4.77(1H,s)、5.26(1H,s)、6.69(1H,d,8Hz)、6.79(1H,d,8Hz)、7.38(5H,m)、7.95(2H,m)
【0095】
NMR 13C:55.7;103.3;107.3;108.7;109.8;117.6;123.6;123.8;127.0;128.2;129.1;130.8;130.9;132.8;152.2;155.2;158.5
【0096】
[αD]=−51(c=1;CHCl3)
【0097】
質量=266 C17H14O3
【0098】
【実施例8】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−(2,2−ビストリフレート)ビフェニルの合成
50mlのフラスコ中で、ピリジン368μl(3.6ミリモル、3当量)を、0℃でCH2Cl210ml中の1−(6’−メトキシ−2’−フェノール)−ナフト−2−オール320mg(1.26ミリモル)に加える。トリフリン酸無水物770μlを加え、かつ撹拌を0℃で30分維持する。反応媒体を室温に至らせ、かつ撹拌を12時間継続する。溶液を濃縮させ、かつ残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(CH2Cl2)。白色の固体468mgが、70%の収率で得られる。
【0099】
NMR 1H:3.74(3H,s)、7.12(1H,d,8Hz)、7.16(1H,d,8Hz)、7.58(5H,m)、7.95(1H,d,8Hz)、8.03(1H,d,8Hz)
【0100】
NMR 13C:56.0;110.7;113.3;115.2;115.9;118.8;122.1;126.1;126.9;127.5;128.1;131.3;132.1;132.6;145.2;148.1;159.0
【0101】
[αD]=+34(c=1;CHCl3)
【0102】
質量=530 C19H14O7S2F6
【0103】
【実施例9】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)(配位子A)の合成
不活性雰囲気下、NiCl2dppe125mg(0.24ミリモル、20%)を無水DMF2ml中に溶解させ、次に脱気HPPh2130μl(0.71ミリモル、0.6当量)を加える。反応混合物は、45分間、100℃に加熱される。DMF4ml中のビストリフレート630mg(1.18ミリモル)及び(無水かつ再結晶)DABCO531mg(4.72ミリモル、4当量)の溶液を触媒に対して1回のみ加える。100℃で1時間撹拌した後に、脱気ジフェニルホスフィン130μlの3回の付加を1時間、3時間、8時間後に行う。次に反応媒体を、100℃で72時間撹拌する。媒体を−5から0℃の間に冷却した後に、沈殿物が現れる。濾過後に、塊は水分を取られ、かつ脱気メタノール2×2mlにより洗浄される。緑色の反射を有する白色の固体193mgが得られる。濾液を濃縮し、次に調製シリカ板上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体237mgが、得られる。
【0104】
反応の総収率は、60%である。
【0105】
ジホスフィンのエナンチオマー純度は、HPLCにより、更に決定されるべきである。
【0106】
NMR 1H:3.10(3H,s)、6.84(1H,d,8Hz)、6.93(1H,d,8Hz)、7.01−7.40(25H,m)、7.77(2H,d,8Hz)
【0107】
NMR 31P:−14.8(1P,d,4Hz)、−12.9(1P,d,4Hz)
【0108】
[αD]=−80(c=0.1;CHCl3)
【0109】
質量=602 C41H32OP2
【0110】
微量分析:計算値 C:81.71 H:5.35、得られた値 C:80.14 H:5.29
【0111】
同一の合成が、配位子(A)の他のエナンチオマー(R)を得るために再現された([αD]=+80(c=0.5;CHCl3))
【0112】
【実施例10】2−ブロモ 3,4,5−トリメチルフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、3,4,5−トリメトキシフェノール9g(66.2ミリモル)を、無水DMF70ml中に溶解させる。N−ブロモスクシンイミド11.77g(66.2ミリモル、1当量)を、0℃で小部分にして静かに加える。12時間の撹拌後に、水30mlを反応媒体中に加える。反応媒体は、CH2Cl23×50mlにより抽出する。有機相を、Na2S2O3の飽和溶液2×20mlで洗浄し、乾燥させ、次に低圧で濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 7/3)。白色の固体12.35mgが、87%の収率で得られる。
【0113】
NMR 1H:2.18(3H,s)、2.25(3H,s)、2.41(3H,s)、5.57(1H,sl)、6.78(1H,s)
【0114】
M=215 C9H11OBr
【0115】
【実施例11】(2S,4R)−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタノールの合成
不活性雰囲気下、500mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート12.5ml(80.76ミリモル、1.2当量)を、THF100ml中の2−ヨードナフトール18.2g(67.3ミリモル)に加える。THF100ml中の(2R,4R)−ペンタンジオール7g(67.3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン21.15g(80.76ミリモル、1.2当量)を、30分間、5℃で一滴ずつ注入する。48時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油19gが、80%の収率で得られる。
【0116】
NMR 1H:1.27(3H,d,6Hz)、1.35(3H,d,6Hz)、1.79(1H,m)、2.10(1H,m)、3.07(1H,s)、4.13(1H,m)、4.77(1H,m)、7.16(1H,d,8Hz)、7.37(1H,t,8Hz)、7.52(1H,t,8Hz)、7.70(1H,d,8Hz)、7.75(1H,d,8Hz)、8.13(1H,d,8Hz)
【0117】
NMR 13C:20.2;23.8;45.6;66.5;75.9;90.4;115.6;124.5;128.0;128.1;130.1;131.3;133.6;154.4
【0118】
[αD]=+49.5(c=1;CHCl3)
【0119】
M=356 C15H17O2I
【0120】
【実施例12】(2S,4S)−2−(2’−ブロモ−3’,4’,5’−トリメチル−1’−フェノキシ)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタンの合成
不活性雰囲気下、500mlのフラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート8.9ml(56.28ミリモル、1.2当量)を、THF200ml中の2−ブロモ 3,4,5−トリメチルフェノール10.08g(46.9ミリモル、1当量)に加える。THF200ml中の4−(1−ヨードナフトキシ)ペンタン−2−オール16.7g(46.9ミリモル)及びトリフェニルホスフィン14.7g(56.28ミリモル、1.2当量)を、40分間、5℃で一滴ずつ注入する。24時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。オレンジ色の油15gが、58%の収率で得られる。
【0121】
NMR 1H:1.35−1.48(6H,m)、1.79(3H,s)、1.84(3H,s)、2.01(2H,m)、2.28(3H,s)、4.94(2H,m)、6.34(1H,s)、6.98(1H,d,8Hz)、7.28−7.73(4H,m)、8.11(1H,d,8Hz)
【0122】
[αD]=+107(c=1;CHCl3)
【0123】
M=553 C24H26O2Ibr
【0124】
【実施例13】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2S,4S)−ペンタンジオキシ]ビフェニルの合成
不活性雰囲気下、250mlの二つ口フラスコ中で、前の化合物14.9g(27ミリモル)を、無水THF100ml中に可溶化させる。温度は、−78℃に低下させる。ヘキサン中2.3MでnBuLi35.2ml(71ミリモル、3当量)を、温度が−65℃を超えることなしに、一滴ずつ加える。反応媒体を、1時間、−78℃で撹拌する。THF50ml中のシアン化銅3.62g(40.5ミリモル、1.5当量)を10分で注入する。撹拌を、2時間維持する。酸素の流れは、1時間、−78℃で媒体中に気泡を作る。溶液を、室温に上昇させ、次にNH4Clの飽和溶液で処理する。反応媒体を、エーテル3×100mlで抽出する。有機相を、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体2.4gが、(再結晶後に)30%の収率で得られる。可能な2つのジアステレオ異性体の一方が、極めて十分に多く得られる。
【0125】
NMR 1H:1.31(3H,d,6Hz)、1.42(3H,d,6Hz)、1.8(2H,m)、1.99(3H,s)、2.16(3H,s)、2.41(3H,s)4.62(2H,m)、6.93(1H,s)、7.41(4H,m)、7.64(1H,m)、7.85(2H,m)
【0126】
質量=346 C24H26O2
【0127】
【実施例14】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、CH2Cl2中の三臭化ホウ素1M12ml(12ミリモル、3当量)を、不活性雰囲気下、−10℃でCH2Cl250ml中の3,4,5−トリメトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2S,4S)−ペンタンジオキシ]ビフェニル1.4g(4ミリモル)に加える。撹拌を3時間継続する。溶液は、10%のHCl、20mlで処理する。酢酸エチル3×20mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体712mgが、64%の収率で得られる。
【0128】
NMR 1H:1.90(3H,s)、2.20(3H,s)、2.38(3H,s)、4.47(1H,s)、5.15(1H,s)、6.84(1H,s)、7.24−7.40(4H,m)、7.83−7.91(2H,m)
【0129】
質量=278 C19H18O2
【0130】
【実施例15】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−(2,2’−ビストリフレート)−ビフェニルの合成
100mlのフラスコ中で、ピリジン610μl(6.79ミリモル、3.5当量)を、0℃でCH2Cl240ml中の3,4,5−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビフェノール540mg(1.94ミリモル)に加える。トリフリン酸無水物1.27mlを加え、かつ撹拌を0℃で30分維持する。反応媒体を室温に至らせ、かつ撹拌を12時間継続する。溶液を濃縮させ、かつ残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(CH2Cl2)。白色の固体850mgが、81%の収率で得られる。
【0131】
NMR 1H:1.99(3H,s)、2.44(3H,s)、2.47(3H,s)、6.96(1H,s)、7.17−7.64(4H,m)、7.90(1H,d,8Hz)、8.05(1H,d,8Hz)
【0132】
質量=542 C21H16O6S2F6
【0133】
【実施例16】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(R)(配位子B)の合成
不活性雰囲気下、NiCl2dppe170mg(0.31ミリモル、20%)を無水DMF3ml中に溶解させ、次に脱気HPPh2170μl(0.94ミリモル、0.6当量)を加える。反応混合物は、45分間、100℃に加熱される。DMF6ml中のビストリフレート850mg(1.57ミリモル)及び(無水かつ再結晶)DABCO710mg(6.28ミリモル、4当量)の溶液を触媒に対して1回のみ加える。100℃で1時間撹拌した後に、脱気ジフェニルホスフィン170μlの3回の付加を1時間、3時間、8時間後に行う。次に反応媒体を、100℃で84時間撹拌する。反応媒体を濃縮する。次に反応原油を保存するために、ボランにより保護する。このようにして得られた化合物のボラン錯体部分は、保護が取り除かれる。触媒作用テスト及び必要な分析を行うために、残渣を、メタノール中で再結晶化する。
【0134】
NMR 1H:1.35(3H,s)、2.11(3H,s)、2.28(3H,s)、6.86−7.35(25H,m)、7.74(2H,m)
【0135】
NMR 31P:−14.05(1P,d,4Hz)、−13.85(1P,d,4Hz)
【0136】
質量=614 C43H36P2
【0137】
【実施例17】触媒作用テスト
全ての触媒作用テストは、次の方法に従って行われた:
−条件:(COD)Ru(メタリル)21%、配位子1.2%、HBr(MeOH中に0.18N)2.2当量。
【0138】
使用される条件は、配位子BINAPに対して最適化されたものである。これら2つの配位子に関して得られた結果を、得られたそれと比較する。Ruによって触媒作用を及ぼされたカルボニル基質のこれらの水素添加結果を、添付図面の図5の表(表中、(a)は、変換がNMR 1Hで測定されたことを示し、(b)は、eeがモッシャー(Mosher)エステルの通過後に、GC lipodex A又はDB 1701によって決定されたことを示す)に示す。d.e.は、NMR 13Fで測定された。
【0139】
【実施例18】一般式(LRuBr 2 ) 2 (CH 3 COCH 3 )(式中、Lは上記に定義した式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)を表す)の触媒の一般的合成
管状反応装置中に、錯体(COD)Ru(2−メチルアリル)20.01ミリモル及びキラルジホスフィン1.5当量を導入する。反応装置を相次ぐ真空/アルゴンの3つのシーケンスによりパージした後、蒸留し、かつ脱気したアセトン2ml、及び臭化水素酸脱気溶液2.2当量をメタノール中に導入する。溶液は、色を変え、オレンジ色になる。室温で30分の撹拌後に、溶剤をウィングポンプで蒸発させる。残渣は、そのままで水素添加に使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図2】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図3】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図4】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図5】
Ruによって触媒作用を及ぼされたカルボニル基質の水素添加結果を示す表である。
本発明は、不斉アトロプ異性体(atropoisomeres)ジホスフィン、その合成及びジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子としてのその使用を対象とする。本発明は、配位子としての不斉キラルジホスフィンを含むジホスフィン−金属錯体、及びこれらの錯体を利用する不斉触媒作用方法にも関する。本発明は、所望のキラリティーを有する有機生成物を合成するための不斉水素添加又は水素転移方法におけるこれらのジホスフィン−金属錯体の使用を特に検討する。
【0002】
先行技術において、水素添加のエナンチオ選択的触媒特性を有するジホスフィン−金属錯体を合成するために使用される不斉アトロプ異性体配位子、FUPMOPが知られている(M.Murataら、Synlett、1991、827頁)。
【0003】
出願人は今般、非常に高い収率及びエナンチオ選択性を有する所望のキラリティーを持った、有機生成物の合成に特に有用な、光学活性配位子として不斉アトロプ異性体ジホスフィンを含む新規なジホスフィン−金属錯体の構想を得た。
【0004】
従って、本発明は一般式(I):
【0005】
【化1】
[式中:
−同一又は異なるR1、R2、R3、R4、R5及びR6は、水素原子、塩素、臭素又はフッ素のようなハロゲン、飽和又は不飽和のC1−4のアルキル基、飽和又は不飽和のC1−4のアルコキシ基、C4−6のアリールオキシ基から選択され、前記アルキル基、アルコキシ基又はアリールオキシ基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はベンジルによって場合により置換され、
−又はR2及びR3又はR4及びR5は、場合により置換されるベンゼン環、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、場合により置換されるシクロヘキシルのような、飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル基、又は式(II):
【0006】
【化2】
(式中、同一又は異なるW及びQは、酸素原子、スルホキシド基(−SO)、スルホン基(−SO2)、又はメチレン基から選択され、かつnは、0又は1に等しい)の複素環を共に形成し、
−又はR3及びR4は、メチレンジオキシ、エチレンジオキシのようなC2−4のアルキレンジオキシのような環、場合により置換されるシクロヘキシルのような飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はC1−5のアルコキシによって場合により置換される式(II)の複素環を形成し;
−同一又は異なるR7及びR8は、例えばフェニル、トリル、トリメチルフェニル又はt−ブチルフェニルのようなアルコキシ、ハロゲン、又はアルキルによって場合により置換されるアリールを表すか、又は例えばアルキル、ハロゲン又はアルコキシによって場合により置換されるシクロヘキシル、シクロペンチルのようなC5−6のシクロアルキルを表す]のキラルジホスフィン(R)又は(S)を対象とする。
【0007】
本発明は、式(I)(式中、R3及び/又はR4は水素原子を表し、R1はR6と同じ意味を有し、R2はR5と同じ意味を有し、かつR3はR4と同じ意味を有する)の化合物を対象外とする。
【0008】
本発明の式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)は、添付図面の図1に表した反応図に従って式(XIII)次に(XII)の化合物から、D.CAIら(J.Org.Chem.1994、p7180)によって開示されたタイプの方法によって調製される。
【0009】
この方法は、以下の式(XII):
【0010】
【化3】
の化合物を形成するために、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(トリフリン酸無水物)との以下の式(XIII):
【0011】
【化4】
の化合物のスルホニル化反応を特徴とする。
【0012】
この式(XII)の化合物に対して、式(I)の化合物を得るための式HP(R7)(R8)のホスフィンとリン酸化反応を行う。
【0013】
式(XII)及び(XIII)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、式(I)中と同じ意味を有する。
【0014】
これらの化合物、及び特には式(XIII)の化合物も同様に本発明の一部をなす。従って、本発明は、以下の一般式(XXIV):
【0015】
【化5】
[式中、R1からR6は、上記式(I)中と同じ意味を有し、かつ同一のR及びR’は、−OH基又は式−P(R7)(R8)(式中、R7及びR8は、式(I)中と同じ意味を有する)の基を表す]の化合物に関する。
【0016】
例として、式(I)の不斉キラルジホスフィンで:
−6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(R)、
−6−メトキシ−5’,6’−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−6’−メトキシ−5,6−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、を挙げることができる。
【0017】
本発明に従った一般式(I)の環A及びBの相違により不斉である、アトロプ異性体キラリティーのジホスフィン(R)又は(S)は、ジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子として注目に値する。
【0018】
式(I)の混合アトロプ異性体ジホスフィンは、本発明に従えば、水素添加方法において不斉触媒作用で活性な幾つかのタイプのジホスフィン−金属錯体を調製するために使用される。
【0019】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第1の群は、次式(III):
MxHyXz(L)2(Sv)p (III)
(式中:
−Mは、ルテニウム、ロジウム又はイリジウムのような金属を表し;
−Xは、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素のようなハロゲンを表し;
−Svは、第3アミン、ケトン、エーテルを表し;
−Lは、上記式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)を表し;
−yは、0又は1に等しい整数であり;
−xは、1又は2に等しい整数であり;
−zは、1、2又は4に等しい整数であり;
−pは、0又は1に等しい整数である)に対応する。
【0020】
式(III)のジホスフィン−金属錯体の中で、本発明は特には式(IIIA)及び(IIIB)の錯体を検討する。
【0021】
式(IIIA)の錯体は、次式:
M2X4L2(Sv) (IIIA)
(式中:M、X、L及びSvは、式(III)中と同じ意味を有する)に対応する、式(III)(式中y=0、その場合x=2、z=4及びp=1)の錯体である。
【0022】
式(IIIB)の化合物は、次式:
MHXL2 (IIIB)
(式中:M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつHは、水素原子を表す)に対応する、式(III)(式中y=1、その場合x=1、z=1及びp=0)の化合物である。
【0023】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第2の群は、次式(IV):
MXj(Ar)mLYn (IV)
[式中:
−M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、
−Arは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロヘキサジエン、ノルボナジエン、1,5−シクロオクタジエンのようなオレフィン、π−アリル(pi−allyle)、アセトニトリルのようなニトリル、式(V):
【0024】
【化6】
(式中、同一又は異なるR9、R10、R11、R12、R13及びR14は、水素原子、C1−5のアルキル基、イソアルキル基、第3アルキル基、アルコキシ基から選択され、前記基は、O、N及びSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み得る)のアレーンを表し、
−Yは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表し;かつ
−jは、0又は1に等しい整数であり、mは、1、2又は4に等しい整数であり、かつnは、1又は2に等しい整数である]に対応する。
【0025】
本発明の式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第3の群は、次式(VI):
[MX(P(R15)2(R16))L]2X (VI)
(式中:M、X及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつ同一又は異なるR15及びR16は、フェニル、又はアルキル、アルコキシ又はジアルキルアミノによって置換されるフェニルを表す)に対応する。
【0026】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第4の群は、次式(VII):
M(L)Z2 (VII)
[式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつZは、式R17COO−の酢酸基、式−OOCR17COO−のジ酢酸基、式R17CH(NH2)COO−のアミノ酢酸塩(式中、R17は、C1−4のアルキル、C1−4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表す]に対応する。
【0027】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第5の群は、次式(VIII):
[M(L)WXk]nZ’p (VIII)
[式中:
−M、L及びXは、式(III)中と同じ意味を有し;
−Wは亜鉛、アルミニウム、チタン又はスズを表し;
−Z’は:
・式R18COO−の酢酸基(式中、R18は、C1−4のアルキル、C1− 4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表し、かつこの場合n=1及びp=2であり、かつWがZnである時k=2であり、WがAlである時k=3であり、かつWがTi又はSnである時k=4であるか、又は、
・トリエチルアミンのような第3アミンを表し、かつこの場合n=2及びp=1であり、かつWがZnである時k=4であり、WがAlである時k=5であり、かつWがTi又はSnである時k=6である]に対応する。
【0028】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第6の群は、次式(IX):
MH(L)2Y (IX)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、Hは、水素原子を表し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0029】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第7の群は、次式(X):
M(L)Y2 (X)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0030】
本発明に従った式(I)のキラルジホスフィンを使用して調製されるジホスフィン−金属錯体の第8の群は、次式(XI):
M(L)2Y (XI)
(式中:M及びLは、式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応する。
【0031】
以上で示したように、本発明の式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)は、添付図面の図1に表した反応図に従って式(XIII)次に(XII)の化合物から、D.CAIら(J.Org.Chem.1994、p7180)によって開示されたタイプの方法によって調製される。
【0032】
この方法は、以下の式(XII):
【0033】
【化7】
の化合物を形成するために、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(トリフリン酸無水物)との以下の式(XIII):
【0034】
【化8】
の化合物のスルホニル化反応を特徴とする。
【0035】
この式(XII)の化合物に対して、式(I)の化合物を得るための式HP(R7)(R8)のホスフィンとリン酸化反応を行う。
【0036】
式(XII)及び(XIII)中、R1からR6は、式(I)中と同じ意味を有する。
【0037】
式(XIII)の化合物は、添付図面の図2に表した反応図に従って、式(XV)及び(XIV)の化合物から調製される。
【0038】
図2に表した反応図で、以下の式(XIV):
【0039】
【化9】
のジアステレオ異性体的に純粋な化合物を形成するための、B.H.Lipschutzによって開発された方法に従って、以下の式(XV):
【0040】
【化10】
の化合物の結合反応を利用する。
【0041】
式(XIV)のジアステレオ異性体的に純粋な化合物は、式(XIII)の対応するビフェノールを形成するための従来の方法によって保護が取り除かれる。
【0042】
式(XV)及び(XIV)中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、式(I)中と同じ意味を有し、R19は、メチル、エチルのようなアルキル、又はフェニルのようなアリールを表し、X’は、臭素又はヨウ素原子を表し、かつn’は、0、1、2、3又は4に等しい整数を表す。
【0043】
式(XV)の化合物は、以下の式(XVI)及び(XVII):
【0044】
【化11】
(式中、R1からR6、R19及びX’は、式(XV)及び(XIV)中と同じ意味を有し、かつR17は、メチル、エチル、フェニル又はベンジルのような、アルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を表す)の化合物間のミツノブタイプの反応によって得られる。
【0045】
式(XVI)の化合物は、次式(XVIIIA):
【0046】
【化12】
の化合物、及び式:
【0047】
【化13】
の光学反応性アルカンジオールからのミツノブタイプの反応によって得られる。
【0048】
式(XVI)及び(XVII)中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、式(I)中と同じ意味を有し、かつX’は、臭素又はヨウ素原子を表す。
【0049】
これら2つの相次ぐミツノブタイプの反応は、添付図面の図3に表す反応図に表す。
【0050】
式(XVII)の化合物は、次式の式(XVIIIB):
【0051】
【化14】
の化合物から調製される。
【0052】
このようにして、式(XVI)及び(XVII)の化合物は、添付図面の図4に表す反応図に従って、以下の式(XIXA)及び(XIXB):
【0053】
【化15】
のフェノール化合物からそれぞれ得られる式(XVIIIA)及び(XVIIIB)自体の2−ハロゲンフェノール化合物からそれぞれ得られる。
【0054】
これらの式中、R1からR6は、以前と同じ意味を有する。
【0055】
式(III)、(IV)及び(VI)の錯体は、先行技術に開示された方法に従って、類推により調製され得る。
【0056】
実際、第174057号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(III)の錯体は、式(XX):
MX2(COD)2 (XX)
(式中、M及びXは、式(III)中と同じ意味を有し、かつCODは、シクロオクタジエンを表す)の化合物から調製され得る。
【0057】
同様に、第366390号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(IV)の錯体は、式(XXI):
[MX2(Ar)]2 (XXI)
(式中、M及びXは、式(III)中と同じ意味を有する)の化合物から調製され得る。
【0058】
最後に、第470756号で公開された欧州特許願に開示された方法に従えば、式(VI)の化合物は、式(XXII):
[MX(P(R15)2(R16))(DMA)]2X (XXII)
(式中、M、X、R15及びR16は、式(VI)中と同じ意味を有し、かつDMAは、ジメチルアセトアミドを表す)の化合物から調製され得る。
【0059】
式(VII)、(VIII)、(IX)、(X)及び(XI)の錯体も同様に先行技術に開示された方法に従って類推により調製され得る。実際、式(VII)及び(VIII)の錯体は、第245960号及び第271310号で公開された欧州特許願に開示された方法の類推により式(IIIA)の化合物から得ることができる。式(IX)、(X)及び(XI)の錯体は、第256634号、第245959号及び第271310号で公開された欧州特許願に開示された方法の類推により式(IIIB)の化合物から得ることができる。
【0060】
本発明は、式(III)、(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)及び(XI)のジホスフィン−金属錯体、並びに不斉触媒作用方法における触媒としてのその使用、及び特に、次式(XXIII):
【0061】
【化16】
[式中:
−A及びBは、異なっており、かつC1−5のアルキル基、アリール基、C1−7のヒドロキシカルボニル基、C1−7のアルコキシカルボニル基、C1−10のアリールオキシカルボニル基、C1−7のハロゲンアルキル基、ヘテロアリール基、飽和又は不飽和シクロアルキル基から選択され、前記アルキル基、アリール基、シクロアルキル基は、場合により塩素、フッ素、臭素のようなハロゲン、NO2基、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシ、C1−7の溶融又は非溶融シクロアルキル、場合によりハロゲン、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシによって置換される溶融又は非溶融アリール基から選択される1つ又は幾つかの置換基を含み、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N又はSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−又はA及びBは、C2−6で置換されるアルキル基、C3−9の飽和又は不飽和シクロアルキル基、C5−10のアリール基を共に形成し、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C5−10のアルコキシによって置換され、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルコキシ、−NH2、−NHR20、−N(R20)2のようなアミノ、スルフィノ、スルホニルによって置換され(式中、R20は、アルキル、アルコキシ又はアルキルカルボニルを表す)、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N、S、Siのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−Q1は、酸素、−NR21基、−NOR21基、又は−C(R21)2基(式中、R21は、C1−5のアルキル、アリール基、C1−4のアルキルによって置換されるヘテロアリール基から選択される)を表す]の官能基を担持する不飽和化合物の不斉水素添加又は水素転移方法におけるその使用に同様に関する。
【0062】
式(XXIII)の化合物では、非限定的な例として、次のものを挙げることができる:エン(ene)−酸又はエステル誘導体、エン−アルコール又はエーテル誘導体、エン−アミド誘導体、エン−アミン誘導体、β−ケト酸又はエステル誘導体、γ−ケト酸又はエステル誘導体、β,γ−ジケト酸又はエステル誘導体、ハロゲン−ケトン誘導体、ヒドロキシ又はアルコキシ−ケトン誘導体、イミン誘導体。
【0063】
本発明に従った好ましい不斉水素添加方法は、好ましくは次の作業条件で、触媒としての、式(III)、(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)又は(XI)の触媒錯体の存在下で、式(XXIII)の化合物を適切な溶剤中で処理することを含む:
−0から+150℃の温度、
−1から100バールの水素圧力、
−1/50000から1/10、好ましくは1/10000から1/10、非常に好ましくは、1/10000から1/1000の基質量に対する触媒量。
【0064】
水素添加時間は、一般的に1時間以上である。基質及び触媒に応じて、例えば1時間から70時間であっても良い。
【0065】
あらゆる溶剤が、基質を溶解させ得、かつ反応に影響しない限りにおいて、単離して又は混合で使用され得る。上記方法において使用される可能性がある溶剤で、水、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン及びキシレンのような炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル及びジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル、アセトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及びアセチルアセトンのようなケトン、ジメチルホルムアミドのようなアミド、メタノール、エタノール、n−プロパノール及びイソプロパノールのようなアルコール、アセトニトリルのようなニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム及び1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化アルキル、トリエチルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、エチルジイソプロピルアミン、N−メチルシクロヘキシルアミン及びピリジンのようなアミン、酢酸、プロピオン酸及び蟻酸のような有機酸を挙げることができる。
【0066】
本発明のその他の利点及び特徴は、非限定的に示す、これに続く実施例において現れるであろう。
【0067】
【実施例1】2−ヨードナフトールの合成
等圧付加アンプルを備えた500mlのフラスコ中で、β−ナフトール10g(69.4ミリモル)、ヨウ化ナトリウム10.4g(69.4ミリモル、1当量)、及び水酸化ナトリウム2.8g(69.4ミリモル、1当量)をアルゴンの不活性雰囲気下、メタノール250ml中で可溶化させる。温度を、−5℃に低下させる。次亜塩素酸ナトリウム104ml(69.4ミリモル、1当量)を、一滴ずつ加える。一滴毎に現れる赤色は、1秒未満で消える。反応媒体を、1時間、0℃で撹拌し、次に室温に上昇させる。溶液は、10%の塩酸250mlで処理する。このようにして形成した沈殿物を、焼結ガラス上で濾過し、次に低圧で乾燥させる。固体を、メタノール/水混合物中に再度沈殿させ、90%の収率で褐色の固体16.8g(62.4ミリモル)が得られる。
【0068】
NMR 1H:5.78(1H,s)、7.26(1H,d,8Hz)、7.39(1H,t,6Hz)、7.56(1H,t,6Hz)、7.75(2H,d,8Hz)、7.93(1H,d,8Hz)
【0069】
NMR 13C:86.3;116.4;124.2;128.2;129.7;130.2;130.6;134.8;153.7
【0070】
M=270 C10H7OI
【0071】
【実施例2】2−ヨードレソルシノールの合成
等圧付加アンプルを備えた500mlのフラスコ中で、レソルシノール5.5g(0.05モル)を、水125ml中に溶解させる。塩酸4.15ml(4.15ミリモル、1当量)を、一滴ずつ加える。水125ml中の過ヨウ素酸カリウム3.55g(0.0165モル、0.33当量)、ヨウ化カリウム5.55g(0.033モル、0.66当量)の溶液を、30分、反応媒体に一滴ずつ加える。撹拌を2時間継続する。酢酸エチル4×100mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。このようにして得た油を、クロロホルム50ml中に取り、次に石油エーテル中に沈殿させる。得られた結晶質固体を低圧で乾燥させる。白色の結晶4.4gが、37%の収率で得られる。
【0072】
NMR 1H:5.42(2H,s)、6.56(2H,d,8Hz)、7.12(1H,t,8Hz)
【0073】
NMR 13C:107.2;130.3;155.6
【0074】
M=236 C6H5O2I
【0075】
【実施例3】2−ヨード 3−メトキシフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、2−ヨードレソルシノール708mg(3ミリモル)及びジエチルアゾジカルボキシレート561μl(3.3ミリモル、1.1当量)を、無水THF20ml中に溶解させる。THF20ml中のメタノール121μl(3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン945mg(3.6ミリモル、1.2当量)を、静かに注入する。12時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。無色の油341mgが、45%の収率で得られる。
【0076】
NMR 1H:3.87(3H,s)、5.57(1H,s)、6.39(1H,dd,8Hz及び1.2Hz)、6.67(1H,dd,8Hz及び1.2Hz)、7.18(1H,t,8Hz)
【0077】
NMR 13C:56.6、78.2、103.2、108.1、130.3、156.2、158.9
【0078】
M=250 C7H7O2I
【0079】
【実施例4】(2R,4S)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)2−ペンタノールの合成
不活性雰囲気下、500mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート12.5ml(80.76ミリモル、1.2当量)を、THF100ml中の2−ヨードナフトール18.2g(67.3ミリモル)に加える。THF100ml中の(2S,4S)−ペンタンジオール7g(67.3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン21.15g(80.76ミリモル、1.2当量)を、30分間、5℃で一滴ずつ注入する。48時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油19gが、80%の収率で得られる。
【0080】
NMR 1H:1.27(3H,d,6Hz)、1.35(3H,d,6Hz)、1.79(1H,m)、2.10(1H,m)、3.07(1H,s)、4.13(1H,m)、4.77(1H,m)、7.16(1H,d,8Hz)、7.37(1H,t,8Hz)、7.52(1H,t,8Hz)、7.70(1H,d,8Hz)、7.75(1H,d,8Hz)、8.13(1H,d,8Hz)
【0081】
NMR 13C:20.2;23.8;45.6;66.5;75.9;90.4;115.6;124.5;128.0;128.1;130.1;131.3;135.6;154.4
【0082】
[αD]=−49.5(c=1;CHCl3)
【0083】
M=356 C15H17O2I
【0084】
【実施例5】(2R,4R)−2−(2’−ヨード−3’−メトキシ−1’−フェノキシ)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタンの合成
不活性雰囲気下、50mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート187μl(1.2ミリモル、1.2当量)を、THF10ml中の2−ヨード 3−メトキシレソルシノール250mg(1ミリモル、1当量)に加える。THF10ml中の4−(1−ヨードナフトキシ)−ペンタン−2−オール356mg(1ミリモル)及びトリフェニルホスフィン315mg(1.2ミリモル、1.2当量)を、10分間、5℃で一滴ずつ注入する。24時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油407mgが、70%の収率で得られる。
【0085】
NMR 1H:1.44(3H,d,6Hz)、1.46(3H,d,6Hz)、2.16(2H,m)、3.83(3H,s)、4.90(2H,m)、6.26(1H,d,8Hz)、6.31(1H,d,8Hz)、6.91(1H,t,8Hz)、6.96(1H,d,8Hz)、7.32(1H,t,8Hz)、7.46−7.65(3H,m)、8.08(1H,d,8Hz)
【0086】
NMR 13C:20.8;26.8;45.1;56.3;72.7;73.8;103.5;106.7;116.1;124.1;127.6;127.9;129.4;129.9;131.2;154.3;158.2;158.9
【0087】
M=588 C22H22O3I2
【0088】
【実施例6】3−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2R,4R)−ペンタンジオキシ]ビフェニルの合成
不活性雰囲気下、100mlの二つ口フラスコ中で、二ヨウ化化合物1.18g(2ミリモル)を、無水THF30ml中に可溶化させる。温度は、−78℃に低下させる。ヘキサン中2.3MでnBuLi2.6ml(6ミリモル、3当量)を、温度が−65℃を超えることなしに、一滴ずつ加える。反応媒体を、1時間、−78℃で撹拌する。THF30ml中のシアン化銅270mg(3ミリモル、1.5当量)を10分で注入する。撹拌を、2時間維持する。酸素の流れは、2時間、−78℃で媒体中に気泡を作る。溶液を、室温に上昇させ、次にNH4Clの飽和溶液で処理する。反応媒体を、エーテル3×50mlで抽出する。有機相を、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。薄い黄色の固体331mgが、50%の収率で得られる。可能な2つのジアステレオ異性体の一方が、極めて十分に多く得られる。それを、再結晶後に単離する。
【0089】
NMR 1H:1.29(3H,d,6Hz)、1.42(3H,d,6Hz)、1.85(2H,m)、3.67(3H,s)、4.64(2H,m)、6.78(1H,d,8Hz)、6.87(1H,d,8Hz)、7.35(4H,m)、7.55(1H,m)、7.85(2H,m)
【0090】
NMR 13C:22.1;22.7;41.7;55.6;75.1;105.5;111.1;117.7;118.7;122.2;123.8;125.7;126.5;127.9;129.0;129.2;130.2;133.1;154.3;158.2;158.9
【0091】
[αD]=+250(c=1;CHCl3)
【0092】
質量=334 C22H22O3
【0093】
【実施例7】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2−ビフェノールの合成
50mlのフラスコ中で、CH2Cl2中の三臭化ホウ素1M6.5ml(3.9ミリモル、2当量)を、不活性雰囲気下、−50℃でCH2Cl210ml中の3−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2R,4R)−ペンタンジオキシ]ビフェニル651mg(1.95ミリモル)に加える。撹拌を1時間継続する。溶液は、10%のHCl、20mlで処理する。酢酸エチル3×20mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体400mgが、78%の収率で得られる。
【0094】
NMR 1H:3.71(3H,s)、4.77(1H,s)、5.26(1H,s)、6.69(1H,d,8Hz)、6.79(1H,d,8Hz)、7.38(5H,m)、7.95(2H,m)
【0095】
NMR 13C:55.7;103.3;107.3;108.7;109.8;117.6;123.6;123.8;127.0;128.2;129.1;130.8;130.9;132.8;152.2;155.2;158.5
【0096】
[αD]=−51(c=1;CHCl3)
【0097】
質量=266 C17H14O3
【0098】
【実施例8】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−(2,2−ビストリフレート)ビフェニルの合成
50mlのフラスコ中で、ピリジン368μl(3.6ミリモル、3当量)を、0℃でCH2Cl210ml中の1−(6’−メトキシ−2’−フェノール)−ナフト−2−オール320mg(1.26ミリモル)に加える。トリフリン酸無水物770μlを加え、かつ撹拌を0℃で30分維持する。反応媒体を室温に至らせ、かつ撹拌を12時間継続する。溶液を濃縮させ、かつ残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(CH2Cl2)。白色の固体468mgが、70%の収率で得られる。
【0099】
NMR 1H:3.74(3H,s)、7.12(1H,d,8Hz)、7.16(1H,d,8Hz)、7.58(5H,m)、7.95(1H,d,8Hz)、8.03(1H,d,8Hz)
【0100】
NMR 13C:56.0;110.7;113.3;115.2;115.9;118.8;122.1;126.1;126.9;127.5;128.1;131.3;132.1;132.6;145.2;148.1;159.0
【0101】
[αD]=+34(c=1;CHCl3)
【0102】
質量=530 C19H14O7S2F6
【0103】
【実施例9】6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)(配位子A)の合成
不活性雰囲気下、NiCl2dppe125mg(0.24ミリモル、20%)を無水DMF2ml中に溶解させ、次に脱気HPPh2130μl(0.71ミリモル、0.6当量)を加える。反応混合物は、45分間、100℃に加熱される。DMF4ml中のビストリフレート630mg(1.18ミリモル)及び(無水かつ再結晶)DABCO531mg(4.72ミリモル、4当量)の溶液を触媒に対して1回のみ加える。100℃で1時間撹拌した後に、脱気ジフェニルホスフィン130μlの3回の付加を1時間、3時間、8時間後に行う。次に反応媒体を、100℃で72時間撹拌する。媒体を−5から0℃の間に冷却した後に、沈殿物が現れる。濾過後に、塊は水分を取られ、かつ脱気メタノール2×2mlにより洗浄される。緑色の反射を有する白色の固体193mgが得られる。濾液を濃縮し、次に調製シリカ板上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体237mgが、得られる。
【0104】
反応の総収率は、60%である。
【0105】
ジホスフィンのエナンチオマー純度は、HPLCにより、更に決定されるべきである。
【0106】
NMR 1H:3.10(3H,s)、6.84(1H,d,8Hz)、6.93(1H,d,8Hz)、7.01−7.40(25H,m)、7.77(2H,d,8Hz)
【0107】
NMR 31P:−14.8(1P,d,4Hz)、−12.9(1P,d,4Hz)
【0108】
[αD]=−80(c=0.1;CHCl3)
【0109】
質量=602 C41H32OP2
【0110】
微量分析:計算値 C:81.71 H:5.35、得られた値 C:80.14 H:5.29
【0111】
同一の合成が、配位子(A)の他のエナンチオマー(R)を得るために再現された([αD]=+80(c=0.5;CHCl3))
【0112】
【実施例10】2−ブロモ 3,4,5−トリメチルフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、3,4,5−トリメトキシフェノール9g(66.2ミリモル)を、無水DMF70ml中に溶解させる。N−ブロモスクシンイミド11.77g(66.2ミリモル、1当量)を、0℃で小部分にして静かに加える。12時間の撹拌後に、水30mlを反応媒体中に加える。反応媒体は、CH2Cl23×50mlにより抽出する。有機相を、Na2S2O3の飽和溶液2×20mlで洗浄し、乾燥させ、次に低圧で濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 7/3)。白色の固体12.35mgが、87%の収率で得られる。
【0113】
NMR 1H:2.18(3H,s)、2.25(3H,s)、2.41(3H,s)、5.57(1H,sl)、6.78(1H,s)
【0114】
M=215 C9H11OBr
【0115】
【実施例11】(2S,4R)−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタノールの合成
不活性雰囲気下、500mlの三つ口フラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート12.5ml(80.76ミリモル、1.2当量)を、THF100ml中の2−ヨードナフトール18.2g(67.3ミリモル)に加える。THF100ml中の(2R,4R)−ペンタンジオール7g(67.3ミリモル、1当量)及びトリフェニルホスフィン21.15g(80.76ミリモル、1.2当量)を、30分間、5℃で一滴ずつ注入する。48時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 8/2)。オレンジ色の油19gが、80%の収率で得られる。
【0116】
NMR 1H:1.27(3H,d,6Hz)、1.35(3H,d,6Hz)、1.79(1H,m)、2.10(1H,m)、3.07(1H,s)、4.13(1H,m)、4.77(1H,m)、7.16(1H,d,8Hz)、7.37(1H,t,8Hz)、7.52(1H,t,8Hz)、7.70(1H,d,8Hz)、7.75(1H,d,8Hz)、8.13(1H,d,8Hz)
【0117】
NMR 13C:20.2;23.8;45.6;66.5;75.9;90.4;115.6;124.5;128.0;128.1;130.1;131.3;133.6;154.4
【0118】
[αD]=+49.5(c=1;CHCl3)
【0119】
M=356 C15H17O2I
【0120】
【実施例12】(2S,4S)−2−(2’−ブロモ−3’,4’,5’−トリメチル−1’−フェノキシ)−4−(1−ヨード−2−ナフトキシ)ペンタンの合成
不活性雰囲気下、500mlのフラスコ中で、ジエチルアザジカルボキシレート8.9ml(56.28ミリモル、1.2当量)を、THF200ml中の2−ブロモ 3,4,5−トリメチルフェノール10.08g(46.9ミリモル、1当量)に加える。THF200ml中の4−(1−ヨードナフトキシ)ペンタン−2−オール16.7g(46.9ミリモル)及びトリフェニルホスフィン14.7g(56.28ミリモル、1.2当量)を、40分間、5℃で一滴ずつ注入する。24時間の撹拌後に、反応媒体を濃縮する。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。オレンジ色の油15gが、58%の収率で得られる。
【0121】
NMR 1H:1.35−1.48(6H,m)、1.79(3H,s)、1.84(3H,s)、2.01(2H,m)、2.28(3H,s)、4.94(2H,m)、6.34(1H,s)、6.98(1H,d,8Hz)、7.28−7.73(4H,m)、8.11(1H,d,8Hz)
【0122】
[αD]=+107(c=1;CHCl3)
【0123】
M=553 C24H26O2Ibr
【0124】
【実施例13】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2S,4S)−ペンタンジオキシ]ビフェニルの合成
不活性雰囲気下、250mlの二つ口フラスコ中で、前の化合物14.9g(27ミリモル)を、無水THF100ml中に可溶化させる。温度は、−78℃に低下させる。ヘキサン中2.3MでnBuLi35.2ml(71ミリモル、3当量)を、温度が−65℃を超えることなしに、一滴ずつ加える。反応媒体を、1時間、−78℃で撹拌する。THF50ml中のシアン化銅3.62g(40.5ミリモル、1.5当量)を10分で注入する。撹拌を、2時間維持する。酸素の流れは、1時間、−78℃で媒体中に気泡を作る。溶液を、室温に上昇させ、次にNH4Clの飽和溶液で処理する。反応媒体を、エーテル3×100mlで抽出する。有機相を、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体2.4gが、(再結晶後に)30%の収率で得られる。可能な2つのジアステレオ異性体の一方が、極めて十分に多く得られる。
【0125】
NMR 1H:1.31(3H,d,6Hz)、1.42(3H,d,6Hz)、1.8(2H,m)、1.99(3H,s)、2.16(3H,s)、2.41(3H,s)4.62(2H,m)、6.93(1H,s)、7.41(4H,m)、7.64(1H,m)、7.85(2H,m)
【0126】
質量=346 C24H26O2
【0127】
【実施例14】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビフェノールの合成
100mlのフラスコ中で、CH2Cl2中の三臭化ホウ素1M12ml(12ミリモル、3当量)を、不活性雰囲気下、−10℃でCH2Cl250ml中の3,4,5−トリメトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−シクロ[(2S,4S)−ペンタンジオキシ]ビフェニル1.4g(4ミリモル)に加える。撹拌を3時間継続する。溶液は、10%のHCl、20mlで処理する。酢酸エチル3×20mlにより水性相を抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮させる。残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(シクロヘキサン/酢酸エチル 9/1)。白色の固体712mgが、64%の収率で得られる。
【0128】
NMR 1H:1.90(3H,s)、2.20(3H,s)、2.38(3H,s)、4.47(1H,s)、5.15(1H,s)、6.84(1H,s)、7.24−7.40(4H,m)、7.83−7.91(2H,m)
【0129】
質量=278 C19H18O2
【0130】
【実施例15】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−(2,2’−ビストリフレート)−ビフェニルの合成
100mlのフラスコ中で、ピリジン610μl(6.79ミリモル、3.5当量)を、0℃でCH2Cl240ml中の3,4,5−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビフェノール540mg(1.94ミリモル)に加える。トリフリン酸無水物1.27mlを加え、かつ撹拌を0℃で30分維持する。反応媒体を室温に至らせ、かつ撹拌を12時間継続する。溶液を濃縮させ、かつ残渣に、シリカゲル上でクロマトグラフィを行う(CH2Cl2)。白色の固体850mgが、81%の収率で得られる。
【0131】
NMR 1H:1.99(3H,s)、2.44(3H,s)、2.47(3H,s)、6.96(1H,s)、7.17−7.64(4H,m)、7.90(1H,d,8Hz)、8.05(1H,d,8Hz)
【0132】
質量=542 C21H16O6S2F6
【0133】
【実施例16】4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(R)(配位子B)の合成
不活性雰囲気下、NiCl2dppe170mg(0.31ミリモル、20%)を無水DMF3ml中に溶解させ、次に脱気HPPh2170μl(0.94ミリモル、0.6当量)を加える。反応混合物は、45分間、100℃に加熱される。DMF6ml中のビストリフレート850mg(1.57ミリモル)及び(無水かつ再結晶)DABCO710mg(6.28ミリモル、4当量)の溶液を触媒に対して1回のみ加える。100℃で1時間撹拌した後に、脱気ジフェニルホスフィン170μlの3回の付加を1時間、3時間、8時間後に行う。次に反応媒体を、100℃で84時間撹拌する。反応媒体を濃縮する。次に反応原油を保存するために、ボランにより保護する。このようにして得られた化合物のボラン錯体部分は、保護が取り除かれる。触媒作用テスト及び必要な分析を行うために、残渣を、メタノール中で再結晶化する。
【0134】
NMR 1H:1.35(3H,s)、2.11(3H,s)、2.28(3H,s)、6.86−7.35(25H,m)、7.74(2H,m)
【0135】
NMR 31P:−14.05(1P,d,4Hz)、−13.85(1P,d,4Hz)
【0136】
質量=614 C43H36P2
【0137】
【実施例17】触媒作用テスト
全ての触媒作用テストは、次の方法に従って行われた:
−条件:(COD)Ru(メタリル)21%、配位子1.2%、HBr(MeOH中に0.18N)2.2当量。
【0138】
使用される条件は、配位子BINAPに対して最適化されたものである。これら2つの配位子に関して得られた結果を、得られたそれと比較する。Ruによって触媒作用を及ぼされたカルボニル基質のこれらの水素添加結果を、添付図面の図5の表(表中、(a)は、変換がNMR 1Hで測定されたことを示し、(b)は、eeがモッシャー(Mosher)エステルの通過後に、GC lipodex A又はDB 1701によって決定されたことを示す)に示す。d.e.は、NMR 13Fで測定された。
【0139】
【実施例18】一般式(LRuBr 2 ) 2 (CH 3 COCH 3 )(式中、Lは上記に定義した式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)を表す)の触媒の一般的合成
管状反応装置中に、錯体(COD)Ru(2−メチルアリル)20.01ミリモル及びキラルジホスフィン1.5当量を導入する。反応装置を相次ぐ真空/アルゴンの3つのシーケンスによりパージした後、蒸留し、かつ脱気したアセトン2ml、及び臭化水素酸脱気溶液2.2当量をメタノール中に導入する。溶液は、色を変え、オレンジ色になる。室温で30分の撹拌後に、溶剤をウィングポンプで蒸発させる。残渣は、そのままで水素添加に使用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図2】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図3】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図4】
本発明の実施形態に係る化合物の反応図である。
【図5】
Ruによって触媒作用を及ぼされたカルボニル基質の水素添加結果を示す表である。
Claims (28)
- 式(I)(式中、R3及び/又はR4は水素原子を表し、R1はR6と同じ意味を有し、R2はR5と同じ意味を有し、かつR3はR4と同じ意味を有する)の化合物を除く、次式(XXIV):
[式中:
−同一又は異なるR1、R2、R3、R4、R5及びR6は、水素原子、塩素、臭素又はフッ素のようなハロゲン、飽和又は不飽和のC1−4のアルキル基、飽和又は不飽和のC1−4のアルコキシ基、C4−6のアリールオキシ基から選択され、前記アルキル基、アルコキシ基又はアリールオキシ基は、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はベンジルによって場合により置換され、
−又はR2及びR3又はR4及びR5は、場合により置換されるベンゼン環、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、場合により置換されるシクロヘキシルのような、飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル基、又は式(II):
(式中、同一又は異なるW及びQは、酸素原子、スルホキシド基(−SO)、スルホン基(−SO2)、又はメチレン基から選択され、かつnは、0又は1に等しい)の複素環を共に形成し、
−又はR3及びR4は、メチレンジオキシ、エチレンジオキシのようなC2−4のアルキレンジオキシのような環、場合により置換されるシクロヘキシルのような飽和又は不飽和のC3−7のシクロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルキル又はC1−5のアルコキシによって場合により置換される式(II)の複素環を形成し;
−同一のR及びR’は、−OH基又は式−P(R7)(R8)(式中、同一又は異なるR7及びR8は、例えばフェニル、トリル、トリメチルフェニル又はt−ブチルフェニルのようなアルコキシ、ハロゲン、又はアルキルによって場合により置換されるアリールを表すか、又は例えばアルキル、ハロゲン又はアルコキシによって場合により置換されるシクロヘキシル、シクロペンチルのようなC5−6のシクロアルキルを表す)の基を表す]の化合物。 - −6−メトキシ−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−4,5,6−トリメチル−5’,6’−ベンゾ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(R)、
−6−メトキシ−5’,6’−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、
−6’−メトキシ−5,6−メチレンジオキソ−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル(S)、から選択される請求項2に記載の一般式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)。 - ジホスフィン−金属錯体を調製するための光学活性配位子としての請求項2又は4のいずれかに記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)の使用。
- 次式(III):
MxHyXz(L)2(Sv)p (III)
(式中:
−Mは、ルテニウム、ロジウム又はイリジウムのような金属を表し;
−Xは、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素のようなハロゲンを表し;
−Svは、第3アミン、ケトン、エーテルを表し;
−Lは、請求項1に定義した式(I)のキラルジホスフィン(R)又は(S)を表し;
−yは、0又は1に等しい整数であり;
−xは、1又は2に等しい整数であり;
−zは、1、2又は4に等しい整数であり;
−pは、0又は1に等しい整数である)に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(IIIA):
M2X4L2(Sv) (IIIA)
(式中:M、X、L及びSvは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有する)に対応することを特徴とする請求項2に記載のジホスフィン−金属錯体。 - 次式(IIIB):
MHXL2 (IIIB)
(式中:M、X及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、かつHは、水素原子を表す)に対応することを特徴とする請求項2に記載のジホスフィン−金属錯体。 - 次式(IV):
MXj(Ar)mLYn (IV)
[式中:
−M、X及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、
−Arは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロヘキサジエン、ノルボナジエン、1,5−シクロオクタジエンのようなオレフィン、π−アリル(pi−allyle)、アセトニトリルのようなニトリル、式(V):
(式中、同一又は異なるR9、R10、R11、R12、R13及びR14は、水素原子、C1−5のアルキル基、イソアルキル基、第3アルキル基、アルコキシ基から選択され、前記基は、O、N及びSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み得る)のアレーンを表し、
−Yは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表し;かつ
−jは、0又は1に等しい整数であり、mは、1、2又は4に等しい整数であり、かつnは、1又は2に等しい整数である]に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(VI):
[MX(P(R15)2(R16))L]2X (VI)
(式中:M、X及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、かつ同一又は異なるR15及びR16は、フェニル、又はアルキル、アルコキシ又はジアルキルアミノによって置換されるフェニルを表す)に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(VII):
M(L)Z2 (VII)
[式中:M及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、かつZは、式R17COO−の酢酸基、式−OOCR17COO−のジ酢酸基、式R17CH(NH2)COO−のアミノ酢酸塩(式中、R17は、C1−4のアルキル、C1−4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表す]に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(VIII):
[M(L)WXk]nZ’p (VIII)
[式中:
−M、L及びXは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し;
−Wは亜鉛、アルミニウム、チタン又はスズを表し;
−Z’は:
・式R18COO−の酢酸基(式中、R18は、C1−4のアルキル、C1−4のハロゲンアルキル、置換又は非置換フェニルを表す)を表し、かつこの場合n=1及びp=2であり、かつWがZnである時k=2であり、WがAlである時k=3であり、かつWがTi又はSnである時k=4であるか、又は、
・トリエチルアミンのような第3アミンを表し、かつこの場合n=2及びp=1であり、かつWがZnである時k=4であり、WがAlである時k=5であり、かつWがTi又はSnである時k=6である]に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(IX):
MH(L)2Y (IX)
(式中:M及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、Hは、水素原子を表し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(X):
M(L)Y2 (X)
(式中:M及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 次式(XI):
M(L)2Y (XI)
(式中:M及びLは、請求項6に定義した式(III)中と同じ意味を有し、かつYは、ClO4 −、BF4 −、PF6 −のような陰イオンを表す)に対応することを特徴とする請求項2に記載のキラルジホスフィン(R)又は(S)を含むジホスフィン−金属錯体。 - 官能基を担持する不飽和化合物の不斉触媒作用方法における触媒としての請求項6から15のいずれかに記載のジホスフィン−金属錯体の使用。
- 官能基を担持する不飽和化合物は、次式(XXIII):
[式中:
−A及びBは、異なっており、かつC1−5のアルキル基、アリール基、C1−7のヒドロキシカルボニル基、C1−7のアルコキシカルボニル基、C1−10のアリールオキシカルボニル基、C1−7のハロゲンアルキル基、ヘテロアリール基、飽和又は不飽和シクロアルキル基から選択され、前記アルキル基、アリール基、シクロアルキル基は、場合により塩素、フッ素、臭素のようなハロゲン、NO2基、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシ、C1−7の溶融又は非溶融シクロアルキル、場合によりハロゲン、C1−5のアルキル、C1−5のアルコキシによって置換される溶融又は非溶融アリール基から選択される1つ又は幾つかの置換基を含み、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N又はSiのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−又はA及びBは、C2−6で置換されるアルキル基、C3−9の飽和又は不飽和シクロアルキル基、C5−10のアリール基を共に形成し、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C5−10のアルコキシによって置換され、前記基は、場合によりC1−5のアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、C1−5のアルコキシ、−NH2、−NHR20、−N(R20)2のようなアミノ、スルフィノ、スルホニルによって置換され(式中、R20は、アルキル、アルコキシ又はアルキルカルボニルを表す)、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基は、場合によりO、N、S、Siのような1つ又は幾つかのヘテロ原子を含み、
−Q1は、酸素、−NR21基、−NOR21基、又は−C(R21)2基(式中、R21は、C1−5のアルキル、アリール基、C1−4のアルキルによって置換されるヘテロアリール基から選択される)を表す]に対応することを特徴とする請求項16に記載の使用。 - 官能基を担持する不飽和化合物は、エン(ene)−酸又はエステル誘導体、エン−アルコール又はエーテル誘導体、エン−アミド誘導体、エン−アミン誘導体、β−ケト酸又はエステル誘導体、γ−ケト酸又はエステル誘導体、β,γ−ジケト酸又はエステル誘導体、ハロゲン−ケトン誘導体、ヒドロキシ又はアルコキシ−ケトン誘導体、イミン誘導体から選択されることを特徴とする請求項16又は17のいずれかに記載の使用。
- 不斉触媒作用方法は、不斉水素添加又は水素転移方法であることを特徴とする請求項16から18のいずれかに記載のジホスフィン−金属錯体の使用。
- 請求項17又は18のいずれかに定義した官能基を担持する不飽和化合物の不斉水素添加方法であって、0から+150℃の温度、1から100バールの水素圧力、1/50000から1/10、好ましくは1/10000から1/10、非常に好ましくは、1/10000から1/1000の官能基を担持する不飽和化合物量に対するジホスフィン−金属錯体量で、触媒としての、請求項4から13のいずれかに記載のジホスフィン−金属錯体の存在下で、前記化合物を適切な溶剤中で処理することを含むことを特徴とする方法。
- 水素添加時間は、1時間以上であることを特徴とする請求項20に記載の不斉水素添加方法。
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