JPH06230321A - 眼用レンズのマーキング方法 - Google Patents
眼用レンズのマーキング方法Info
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- JPH06230321A JPH06230321A JP5272121A JP27212193A JPH06230321A JP H06230321 A JPH06230321 A JP H06230321A JP 5272121 A JP5272121 A JP 5272121A JP 27212193 A JP27212193 A JP 27212193A JP H06230321 A JPH06230321 A JP H06230321A
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- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
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- B29C2035/0838—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser
Abstract
(57)【要約】
【目的】 確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識別の
極めて容易な明瞭なマークを形成することができる眼用
レンズのマーキング方法を提供する。 【構成】 コンタクトレンズ２０のマーキング用のレー
ザ光として、化学的な作用が大きく熱的効果が極めて小
さい紫外線レーザ光Ｌ０を用いる。ＫｒＦをレーザ媒質
とするエキシマレーザ光源４から出射した紫外線レーザ
光Ｌ０が、マスクホルダー８中のマスク１０に当接し
て、マークのパターンを有するレーザビームＬ１とな
り、反射鏡１４で向きを変えられた後に集光レンズ１６
で集光されて、コンタクトレンズ２０に照射される。Ｋ
ｒＦエキシマレーザ光が照射された部分には光学的に微
小な凹凸が形成されるため、マーク部分は不透明なすり
ガラス状となり、微小なマークでもレンズの透明部分と
の識別が極めて容易になる。レーザ光の作用はレンズ表
面にしか及ばないため、マーク深さは極めて浅くなる。
極めて容易な明瞭なマークを形成することができる眼用
レンズのマーキング方法を提供する。 【構成】 コンタクトレンズ２０のマーキング用のレー
ザ光として、化学的な作用が大きく熱的効果が極めて小
さい紫外線レーザ光Ｌ０を用いる。ＫｒＦをレーザ媒質
とするエキシマレーザ光源４から出射した紫外線レーザ
光Ｌ０が、マスクホルダー８中のマスク１０に当接し
て、マークのパターンを有するレーザビームＬ１とな
り、反射鏡１４で向きを変えられた後に集光レンズ１６
で集光されて、コンタクトレンズ２０に照射される。Ｋ
ｒＦエキシマレーザ光が照射された部分には光学的に微
小な凹凸が形成されるため、マーク部分は不透明なすり
ガラス状となり、微小なマークでもレンズの透明部分と
の識別が極めて容易になる。レーザ光の作用はレンズ表
面にしか及ばないため、マーク深さは極めて浅くなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザ光によってコ
ンタクトレンズや眼内レンズ等の眼用レンズに文字・記
号等のマークを形成するためのマーキング方法に関す
る。
ンタクトレンズや眼内レンズ等の眼用レンズに文字・記
号等のマークを形成するためのマーキング方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】眼用レンズの光学特性，種類，左右等の
識別を容易にするために、眼用レンズの周縁部に文字・
記号等のマークを形成するマーキングが行われている。
従来、このようなマーキングの方法としては、微小な刃
先の工具でマークに沿って眼用レンズの表面を削る機械
的加工法や、化学薬品を用いたエッチングによりマーク
を刻印するエッチング法等が実施されていた。近年、こ
れらの方法に変わって、レーザ光を用いてマーキングを
行う方法が開発されている。このレーザ光を用いるマー
キング方法は、上記の機械的加工法やエッチング法に比
較して、操作が極めて容易であり、再現性にも優れ、さ
らに短時間で多数個のマーキングができるといった長所
を備えている。このようなレーザ光によるマーキングの
例としては、特公昭６２−３７３６８号公報に記載され
たソフトコンタクトレンズのマーキング法の発明等があ
る。
識別を容易にするために、眼用レンズの周縁部に文字・
記号等のマークを形成するマーキングが行われている。
従来、このようなマーキングの方法としては、微小な刃
先の工具でマークに沿って眼用レンズの表面を削る機械
的加工法や、化学薬品を用いたエッチングによりマーク
を刻印するエッチング法等が実施されていた。近年、こ
れらの方法に変わって、レーザ光を用いてマーキングを
行う方法が開発されている。このレーザ光を用いるマー
キング方法は、上記の機械的加工法やエッチング法に比
較して、操作が極めて容易であり、再現性にも優れ、さ
らに短時間で多数個のマーキングができるといった長所
を備えている。このようなレーザ光によるマーキングの
例としては、特公昭６２−３７３６８号公報に記載され
たソフトコンタクトレンズのマーキング法の発明等があ
る。
【０００３】このようなマーキング用のレーザ光源とし
ては、従来、炭酸ガスレーザ（以下、「ＣＯ2 レーザ」
ともいう。）が用いられていた。このＣＯ2 レーザの発
振するレーザ光の波長（１０６００ｎｍ）は赤外線の領
域に属し、熱エネルギーが極めて大きい。このＣＯ2 レ
ーザ光が集光レンズ系で微細なビームスポットに集光さ
れて、コンタクトレンズの所定部位に照射される。これ
によって、熱エネルギーでレンズ材料が溶融して凹部が
形成され、文字・記号等のマーキングが行われるもので
ある。このようなＣＯ2 レーザを用いたマーキング方法
によるマークの一例を図２に示す。図２は、ＣＯ2 レー
ザを用いてマーキングしたマークの顕微鏡写真を模式的
に表した図である。図２（Ａ）は低倍率の顕微鏡写真を
表した模式図であり、図２（Ｂ）は高倍率の顕微鏡写真
を表した模式図である。図２に示されるように、コンタ
クトレンズの表面１２０の一部に、ＣＯ2 レーザの熱的
効果によって、マーク１２２が形成されている。
ては、従来、炭酸ガスレーザ（以下、「ＣＯ2 レーザ」
ともいう。）が用いられていた。このＣＯ2 レーザの発
振するレーザ光の波長（１０６００ｎｍ）は赤外線の領
域に属し、熱エネルギーが極めて大きい。このＣＯ2 レ
ーザ光が集光レンズ系で微細なビームスポットに集光さ
れて、コンタクトレンズの所定部位に照射される。これ
によって、熱エネルギーでレンズ材料が溶融して凹部が
形成され、文字・記号等のマーキングが行われるもので
ある。このようなＣＯ2 レーザを用いたマーキング方法
によるマークの一例を図２に示す。図２は、ＣＯ2 レー
ザを用いてマーキングしたマークの顕微鏡写真を模式的
に表した図である。図２（Ａ）は低倍率の顕微鏡写真を
表した模式図であり、図２（Ｂ）は高倍率の顕微鏡写真
を表した模式図である。図２に示されるように、コンタ
クトレンズの表面１２０の一部に、ＣＯ2 レーザの熱的
効果によって、マーク１２２が形成されている。
【０００４】しかしながら、かかるＣＯ2 レーザを用い
たマーキング方法においては、レーザビームの熱エネル
ギーが強いため、必要以上に深い凹部が形成される。図
２に示されるマーク１２２の場合には、その深さは１０
μｍ以上である。この結果、この深い凹部１２２に汚れ
やゴミ等が付着し易くなり、コンタクトレンズの装着の
際に眼に有害な影響を与える恐れがある。また、マーキ
ング部分１２２の機械的強度が低下して、コンタクトレ
ンズが破損し易くなる。さらに、マーキングの際にコン
タクトレンズの一部が熱エネルギーで溶融するため、図
２に示すようにマークに相当する凹部１２２の周辺部１
２４が盛り上がる。このため、マークが不鮮明になって
しまうのみならず、盛り上がり部分１２４のため装着時
に不快感を与えるという問題点があった。
たマーキング方法においては、レーザビームの熱エネル
ギーが強いため、必要以上に深い凹部が形成される。図
２に示されるマーク１２２の場合には、その深さは１０
μｍ以上である。この結果、この深い凹部１２２に汚れ
やゴミ等が付着し易くなり、コンタクトレンズの装着の
際に眼に有害な影響を与える恐れがある。また、マーキ
ング部分１２２の機械的強度が低下して、コンタクトレ
ンズが破損し易くなる。さらに、マーキングの際にコン
タクトレンズの一部が熱エネルギーで溶融するため、図
２に示すようにマークに相当する凹部１２２の周辺部１
２４が盛り上がる。このため、マークが不鮮明になって
しまうのみならず、盛り上がり部分１２４のため装着時
に不快感を与えるという問題点があった。
【０００５】そこで、必要最小限の深さで明瞭なマーク
を形成するために、紫外線レーザ等の短波長のレーザ光
を用いてマーキングを行う方法が開発されている。この
ようなマーキング方法の例としては、特開昭６４−１３
５２０号公報に記載された光学素子表面の幾何学的改良
方法の発明や、特開昭６１−１９３１１９号公報に記載
された半透明の角膜コンタクトレンズまたは眼内レンズ
およびその製造法の発明等がある。前者の発明において
は、ＡｒＦガスを媒質とするエキシマレーザ光源から発
振されるレーザ光を照射することによって、光学的レベ
ルで平滑な表面を有するマーク部分を形成している。ま
た、後者の発明は、エキシマレーザ等の短波長レーザ光
を微小スポットに集光して照射することによって、光学
的に微小な凹凸からなる不透明部分をレンズに形成する
ものである。いずれの技術においても、紫外線領域の波
長の短いレーザ光を用いており、このような紫外線レー
ザ光は化学的な作用が大きく、一方熱エネルギー（熱的
効果）は極めて小さい。このため、レーザ光の照射に際
してレンズ材料の溶融等も起こらず、形成されるマーク
の深さは極めて浅いものとなる。
を形成するために、紫外線レーザ等の短波長のレーザ光
を用いてマーキングを行う方法が開発されている。この
ようなマーキング方法の例としては、特開昭６４−１３
５２０号公報に記載された光学素子表面の幾何学的改良
方法の発明や、特開昭６１−１９３１１９号公報に記載
された半透明の角膜コンタクトレンズまたは眼内レンズ
およびその製造法の発明等がある。前者の発明において
は、ＡｒＦガスを媒質とするエキシマレーザ光源から発
振されるレーザ光を照射することによって、光学的レベ
ルで平滑な表面を有するマーク部分を形成している。ま
た、後者の発明は、エキシマレーザ等の短波長レーザ光
を微小スポットに集光して照射することによって、光学
的に微小な凹凸からなる不透明部分をレンズに形成する
ものである。いずれの技術においても、紫外線領域の波
長の短いレーザ光を用いており、このような紫外線レー
ザ光は化学的な作用が大きく、一方熱エネルギー（熱的
効果）は極めて小さい。このため、レーザ光の照射に際
してレンズ材料の溶融等も起こらず、形成されるマーク
の深さは極めて浅いものとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
発明においては、光学的に平滑な表面からなるマークを
形成するため、マークが小さい場合には識別しにくい。
特に、レンズを液体中に入れた場合には、マークの判読
が極めて困難になる。また、後者の場合には、不透明部
分を形成するためのレーザ波長等の条件が具体的に示さ
れていないため、識別し易いマークを確実に形成するこ
とができない。さらに、レーザ光を集光して照射しなが
ら、レーザビーム，レンズのいずれかを移動させること
によって記号等のマークを刻印する方式であることか
ら、移動機構のため装置が複雑になるとともにマーキン
グに時間がかかるという問題点があった。そこで、本発
明においては、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識
別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができる
眼用レンズのマーキング方法を提供することを目的とす
る。
発明においては、光学的に平滑な表面からなるマークを
形成するため、マークが小さい場合には識別しにくい。
特に、レンズを液体中に入れた場合には、マークの判読
が極めて困難になる。また、後者の場合には、不透明部
分を形成するためのレーザ波長等の条件が具体的に示さ
れていないため、識別し易いマークを確実に形成するこ
とができない。さらに、レーザ光を集光して照射しなが
ら、レーザビーム，レンズのいずれかを移動させること
によって記号等のマークを刻印する方式であることか
ら、移動機構のため装置が複雑になるとともにマーキン
グに時間がかかるという問題点があった。そこで、本発
明においては、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識
別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができる
眼用レンズのマーキング方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の発明に係るコンタクトレンズのマーキン
グ方法は次のように構成されている。すなわち、この眼
用レンズのマーキング方法は、ＫｒＦをレーザ媒質とす
るエキシマレーザを光源とするレーザ光を照射すること
によって眼用レンズの表面にマークを形成する眼用レン
ズのマーキング方法である。
に、請求項１の発明に係るコンタクトレンズのマーキン
グ方法は次のように構成されている。すなわち、この眼
用レンズのマーキング方法は、ＫｒＦをレーザ媒質とす
るエキシマレーザを光源とするレーザ光を照射すること
によって眼用レンズの表面にマークを形成する眼用レン
ズのマーキング方法である。
【０００８】さらに、上記課題を解決するために、請求
項２の発明に係る眼用レンズのマーキング方法として、
マスクを介してレーザ光を照射することにより眼用レン
ズの表面にマークを形成する眼用レンズのマーキング方
法において、前記レーザ光として紫外線領域の波長を有
するレーザ光を使用し、前記マスクとしてマークパター
ン形成用マスクとメッシュ状マスクとを併用することを
特徴とする眼用レンズのマーキング方法を創出した。こ
こで、マークパターン形成用マスクとは、マークの形状
に沿った穿孔部分が設けられたマスクをいい、メッシュ
状マスクとは、微細な孔が一面に設けられたマスクをい
う。
項２の発明に係る眼用レンズのマーキング方法として、
マスクを介してレーザ光を照射することにより眼用レン
ズの表面にマークを形成する眼用レンズのマーキング方
法において、前記レーザ光として紫外線領域の波長を有
するレーザ光を使用し、前記マスクとしてマークパター
ン形成用マスクとメッシュ状マスクとを併用することを
特徴とする眼用レンズのマーキング方法を創出した。こ
こで、マークパターン形成用マスクとは、マークの形状
に沿った穿孔部分が設けられたマスクをいい、メッシュ
状マスクとは、微細な孔が一面に設けられたマスクをい
う。
【０００９】
【作用】上記構成を備えた本発明の請求項１に記載の眼
用レンズのマーキング方法においては、マーキング用の
レーザ光として、ＫｒＦをレーザ媒質とするエキシマレ
ーザから発振される紫外線領域に属する波長のレーザ光
を用いている。このようなＫｒＦエキシマレーザ光が照
射された眼用レンズの表面には、光学的に微小な凹凸が
形成される。従って、形成されたマーク部分は光学的に
不透明なすりガラス状となり、微小なマークであっても
レンズ本体の透明部分との識別が極めて容易になる。ま
た、ＫｒＦエキシマレーザ光は、紫外線領域の波長を有
することから、化学的な作用が大きく、一方熱エネルギ
ー（熱的効果）は極めて小さい。このため、レーザ光の
照射に際してレンズ材料の溶融等も起こらず、形成され
るマークの深さは極めて浅いものとなる。このようにし
て、請求項１に記載の眼用レンズのマーキング方法によ
れば、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識別の極め
て容易な明瞭なマークを形成することができる。
用レンズのマーキング方法においては、マーキング用の
レーザ光として、ＫｒＦをレーザ媒質とするエキシマレ
ーザから発振される紫外線領域に属する波長のレーザ光
を用いている。このようなＫｒＦエキシマレーザ光が照
射された眼用レンズの表面には、光学的に微小な凹凸が
形成される。従って、形成されたマーク部分は光学的に
不透明なすりガラス状となり、微小なマークであっても
レンズ本体の透明部分との識別が極めて容易になる。ま
た、ＫｒＦエキシマレーザ光は、紫外線領域の波長を有
することから、化学的な作用が大きく、一方熱エネルギ
ー（熱的効果）は極めて小さい。このため、レーザ光の
照射に際してレンズ材料の溶融等も起こらず、形成され
るマークの深さは極めて浅いものとなる。このようにし
て、請求項１に記載の眼用レンズのマーキング方法によ
れば、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識別の極め
て容易な明瞭なマークを形成することができる。
【００１０】また、請求項２に記載の眼用レンズのマー
キング方法においては、レーザ光として紫外線領域の波
長を有するレーザ光が使用される。また、マークの形状
に沿った穿孔部分が設けられたマークパターン形成用マ
スクと、微細な孔が一面に設けられたメッシュ状マスク
とが併用される。これら二つのマスクを通過した紫外線
レーザ光が、眼用レンズの表面に照射される。これによ
って、刻印されるマークは、微細な孔がマークパターン
の形状に沿って多数集合したものとなる。従って、レン
ズ表面には物理的に点蝕されたマークが形成され、マー
ク部分には光学的に微細な凹凸が形成されることにな
る。また、紫外線領域の波長を有するレーザ光によっ
て、形成されるマークの深さは極めて浅いものとなる。
このようにして、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで
識別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができ
る。
キング方法においては、レーザ光として紫外線領域の波
長を有するレーザ光が使用される。また、マークの形状
に沿った穿孔部分が設けられたマークパターン形成用マ
スクと、微細な孔が一面に設けられたメッシュ状マスク
とが併用される。これら二つのマスクを通過した紫外線
レーザ光が、眼用レンズの表面に照射される。これによ
って、刻印されるマークは、微細な孔がマークパターン
の形状に沿って多数集合したものとなる。従って、レン
ズ表面には物理的に点蝕されたマークが形成され、マー
ク部分には光学的に微細な凹凸が形成されることにな
る。また、紫外線領域の波長を有するレーザ光によっ
て、形成されるマークの深さは極めて浅いものとなる。
このようにして、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで
識別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができ
る。
【００１１】
実施例１ 次に、本発明を具現化した実施例１について、図１〜図
３を参照して説明する。図１は、本発明に係る眼用レン
ズのマーキング方法の実施例１に用いられるマーキング
装置の主要部の構成を示す斜視図である。図１に示され
るように、本実施例に用いられる眼用レンズのマーキン
グ装置２は、紫外線レーザ光を発振するエキシマレーザ
光源４，マークのパターンを形成するためのマスク１０
とマスクホルダー８，反射鏡１４および集光レンズ１６
を中心として構成されている。エキシマレーザ光源４の
レーザ出射口６からから出射した紫外線レーザ光Ｌ０
は、マスクホルダー８中のマスク１０に当接して、マー
クのパターンを有するレーザビームＬ１となる。そし
て、反射鏡１４で向きを変えられて、集光レンズ１６で
微細なスポットに集光され、コンタクトレンズ２０に照
射される。
３を参照して説明する。図１は、本発明に係る眼用レン
ズのマーキング方法の実施例１に用いられるマーキング
装置の主要部の構成を示す斜視図である。図１に示され
るように、本実施例に用いられる眼用レンズのマーキン
グ装置２は、紫外線レーザ光を発振するエキシマレーザ
光源４，マークのパターンを形成するためのマスク１０
とマスクホルダー８，反射鏡１４および集光レンズ１６
を中心として構成されている。エキシマレーザ光源４の
レーザ出射口６からから出射した紫外線レーザ光Ｌ０
は、マスクホルダー８中のマスク１０に当接して、マー
クのパターンを有するレーザビームＬ１となる。そし
て、反射鏡１４で向きを変えられて、集光レンズ１６で
微細なスポットに集光され、コンタクトレンズ２０に照
射される。
【００１２】次に、本実施例における眼用レンズのマー
キング方法に用いられるマスクパターンについて、図６
を参照しつつ説明する。図６は、眼用レンズのマーキン
グ方法の実施例１に使用されるマスクパターンを示す平
面図である。眼用レンズに刻印されるマークとしては、
製造者のロゴ，レンズ規格，ロット番号，ソフトコンタ
クトレンズの裏表の識別記号，左右いずれの眼用かを区
別するための記号等の、記号，番号，文字パターン等が
ある。本実施例においては、図６に示されるような、記
号３０ａおよび文字３０ｂのパターンを有するマスクが
使用される。これらのパターン３０ａ，３０ｂが、図１
に示されるマスク１０に穿設されている。このマスク１
０に紫外線レーザ光Ｌ０が当接することによって、パタ
ーン３０ａ，３０ｂに相当する部分のみのレーザ光が通
過して、マークのパターンを有するレーザビームＬ１と
なる。
キング方法に用いられるマスクパターンについて、図６
を参照しつつ説明する。図６は、眼用レンズのマーキン
グ方法の実施例１に使用されるマスクパターンを示す平
面図である。眼用レンズに刻印されるマークとしては、
製造者のロゴ，レンズ規格，ロット番号，ソフトコンタ
クトレンズの裏表の識別記号，左右いずれの眼用かを区
別するための記号等の、記号，番号，文字パターン等が
ある。本実施例においては、図６に示されるような、記
号３０ａおよび文字３０ｂのパターンを有するマスクが
使用される。これらのパターン３０ａ，３０ｂが、図１
に示されるマスク１０に穿設されている。このマスク１
０に紫外線レーザ光Ｌ０が当接することによって、パタ
ーン３０ａ，３０ｂに相当する部分のみのレーザ光が通
過して、マークのパターンを有するレーザビームＬ１と
なる。
【００１３】さて、以上のように構成された本実施例の
マーキング装置２によるマーキングの手順について、図
１を参照して説明する。まず、マスクホルダー８に図６
に示されるパターンを有するマスク１０がセットされ、
図示しない支持台上にコンタクトレンズ２０が載置され
る。次に、エキシマレーザ光源４の出射口６から紫外線
レーザ光Ｌ０が出射される。この紫外線レーザ光Ｌ０が
マスク１０に当接して、マークのパターンを有するレー
ザビームＬ１となる。このレーザビームＬ１が、反射鏡
１４に当接して、コンタクトレンズ２０の表面に垂直に
向いたレーザビームＬ２となる。そして、このレーザビ
ームＬ２が、集光レンズ１６において微細なスポットに
集光されたレーザビームＬ３となり、コンタクトレンズ
２０のマーキング位置に照射される。このようにして、
図６に示されるパターンを有する微小なマークがコンタ
クトレンズ２０の表面に形成される。
マーキング装置２によるマーキングの手順について、図
１を参照して説明する。まず、マスクホルダー８に図６
に示されるパターンを有するマスク１０がセットされ、
図示しない支持台上にコンタクトレンズ２０が載置され
る。次に、エキシマレーザ光源４の出射口６から紫外線
レーザ光Ｌ０が出射される。この紫外線レーザ光Ｌ０が
マスク１０に当接して、マークのパターンを有するレー
ザビームＬ１となる。このレーザビームＬ１が、反射鏡
１４に当接して、コンタクトレンズ２０の表面に垂直に
向いたレーザビームＬ２となる。そして、このレーザビ
ームＬ２が、集光レンズ１６において微細なスポットに
集光されたレーザビームＬ３となり、コンタクトレンズ
２０のマーキング位置に照射される。このようにして、
図６に示されるパターンを有する微小なマークがコンタ
クトレンズ２０の表面に形成される。
【００１４】以上の手順に従って行われたマーキングの
結果について、表１および図３を参照しつつ説明する。
マーキングは、以下の表１に示す条件１〜条件４の四条
件に従って行われた。マーキングを行うコンタクトレン
ズとしては、含水性ソフトコンタクトレンズ（以下、
「ＳＣＬ」とも略する。）と、ハードコンタクトレンズ
（以下、「ＨＣＬ」とも略する。）の二種類のレンズを
用いた。ＳＣＬは、Ｎ−ビニルピロリドンを主成分とす
るものである。また、ＨＣＬは、トリス（トリメチルシ
ロキシ）シリルプロピルメタクリレートとメチルメタク
リレートを主成分とするものである。なお、ＳＣＬに対
するマーキングは乾燥状態において実施した。エキシマ
レーザ４のレーザ媒質としては、全てＫｒＦを使用し
た。ＫｒＦをレーザ媒質とするエキシマレーザの発振波
長は２４８ｎｍである。また、エキシマレーザ４のパル
スエネルギー密度は、７００〜９００ｍＪ／ｃｍ2 の間
で固定した。なお、比較のため、従来のＣＯ2 レーザ
（発振波長１０６００ｎｍ）を用いた方法についても、
表１の最右欄に記載した。
結果について、表１および図３を参照しつつ説明する。
マーキングは、以下の表１に示す条件１〜条件４の四条
件に従って行われた。マーキングを行うコンタクトレン
ズとしては、含水性ソフトコンタクトレンズ（以下、
「ＳＣＬ」とも略する。）と、ハードコンタクトレンズ
（以下、「ＨＣＬ」とも略する。）の二種類のレンズを
用いた。ＳＣＬは、Ｎ−ビニルピロリドンを主成分とす
るものである。また、ＨＣＬは、トリス（トリメチルシ
ロキシ）シリルプロピルメタクリレートとメチルメタク
リレートを主成分とするものである。なお、ＳＣＬに対
するマーキングは乾燥状態において実施した。エキシマ
レーザ４のレーザ媒質としては、全てＫｒＦを使用し
た。ＫｒＦをレーザ媒質とするエキシマレーザの発振波
長は２４８ｎｍである。また、エキシマレーザ４のパル
スエネルギー密度は、７００〜９００ｍＪ／ｃｍ2 の間
で固定した。なお、比較のため、従来のＣＯ2 レーザ
（発振波長１０６００ｎｍ）を用いた方法についても、
表１の最右欄に記載した。
【００１５】
【表１】
【００１６】このような条件１〜条件４に従ってマーキ
ングされたマークの深さを、表面粗さ測定器（Taylor H
obson 社製 "Form Talysurf"）を使用して測定した。測
定結果が、表１の最下段に示されている。被加工物とし
て、ＨＣＬに対してマーキングを行った条件４の結果
と、同一のＨＣＬについて実施した従来例と比較してみ
ると、従来例では１ショットのマーキングでもマーク深
さが１２μｍ以上の深いものになってしまうのに対し
て、条件４によるものでは、２ショットのマーキングで
もその十分の一のマーク深さとなる。また、ＳＣＬを被
加工物とした条件１〜３の場合にも、同様に従来例に比
べて良好な結果が得られている。このように、本実施例
のマーキング方法により形成されたマークの深さは、従
来のＣＯ2 レーザを用いる方法に比べて、極めて浅くな
る。これによって、マーク部分に汚れやゴミ等が付着し
たり、機械的強度が低下してコンタクトレンズが破損し
易くなるといった問題が回避される。
ングされたマークの深さを、表面粗さ測定器（Taylor H
obson 社製 "Form Talysurf"）を使用して測定した。測
定結果が、表１の最下段に示されている。被加工物とし
て、ＨＣＬに対してマーキングを行った条件４の結果
と、同一のＨＣＬについて実施した従来例と比較してみ
ると、従来例では１ショットのマーキングでもマーク深
さが１２μｍ以上の深いものになってしまうのに対し
て、条件４によるものでは、２ショットのマーキングで
もその十分の一のマーク深さとなる。また、ＳＣＬを被
加工物とした条件１〜３の場合にも、同様に従来例に比
べて良好な結果が得られている。このように、本実施例
のマーキング方法により形成されたマークの深さは、従
来のＣＯ2 レーザを用いる方法に比べて、極めて浅くな
る。これによって、マーク部分に汚れやゴミ等が付着し
たり、機械的強度が低下してコンタクトレンズが破損し
易くなるといった問題が回避される。
【００１７】このようにしてマーキングされたマーク部
分の状態について、従来例の図２と比較しつつ、図３を
参照して説明する。図３は、表１に示される条件１に従
って、本実施例のマーキング方法によってコンタクトレ
ンズに形成されたマークの記号部分の顕微鏡写真を模式
的に表した図である。図３（Ａ）は低倍率の顕微鏡写真
を表した模式図であり、図３（Ｂ）は高倍率の顕微鏡写
真を表した模式図である。なお、本実施例において用い
られたマスクのパターンは、図２の従来例と同じもので
あり、図６に示されるパターン３０ａとは若干異なって
いる。図３に示されるように、コンタクトレンズ（ＳＣ
Ｌ）２０の表面に形成されたマーク２２は、図２に示さ
れるようなマーク１２２の周辺の盛り上がり１２４が全
くみられない。これは、エキシマレーザ４から発振され
た紫外線レーザ光が、コンタクトレンズ２０に対して熱
的効果を及ぼしにくいためである。さらに図３に示され
るように、マーク部分２２が、その周辺部２０と異な
り、不透明なすりガラス状になっている。これは、エキ
シマレーザ４から発振された紫外線レーザ光の化学的な
作用等に基づくものである。これによって、マーク部分
２２の深さが、表１に示されるように１．５〜２．０μ
ｍと浅いにも関わらず、極めて鮮明な、識別し易いマー
クとなっている。
分の状態について、従来例の図２と比較しつつ、図３を
参照して説明する。図３は、表１に示される条件１に従
って、本実施例のマーキング方法によってコンタクトレ
ンズに形成されたマークの記号部分の顕微鏡写真を模式
的に表した図である。図３（Ａ）は低倍率の顕微鏡写真
を表した模式図であり、図３（Ｂ）は高倍率の顕微鏡写
真を表した模式図である。なお、本実施例において用い
られたマスクのパターンは、図２の従来例と同じもので
あり、図６に示されるパターン３０ａとは若干異なって
いる。図３に示されるように、コンタクトレンズ（ＳＣ
Ｌ）２０の表面に形成されたマーク２２は、図２に示さ
れるようなマーク１２２の周辺の盛り上がり１２４が全
くみられない。これは、エキシマレーザ４から発振され
た紫外線レーザ光が、コンタクトレンズ２０に対して熱
的効果を及ぼしにくいためである。さらに図３に示され
るように、マーク部分２２が、その周辺部２０と異な
り、不透明なすりガラス状になっている。これは、エキ
シマレーザ４から発振された紫外線レーザ光の化学的な
作用等に基づくものである。これによって、マーク部分
２２の深さが、表１に示されるように１．５〜２．０μ
ｍと浅いにも関わらず、極めて鮮明な、識別し易いマー
クとなっている。
【００１８】実施例２ 次に、本発明を具現化した実施例２について、図４を参
照して説明する。図４は、眼用レンズのマーキング方法
の実施例２によって形成されたマーク部分の顕微鏡写真
を模式的に示す図である。本実施例においても、ＫｒＦ
を媒質とするエキシマレーザを用いて、コンタクトレン
ズ（ＳＣＬ）にマーキングを行っているが、実施例１と
やや条件が異なっている。図４（Ａ），（Ｂ）に示され
るように、本実施例におけるマーク部分は、図３とやや
異なる微小な凹凸の模様を有する表面となっている。こ
れによって、マーク部分は光学的に不透明なすりガラス
状となり、必要最小限の深さで識別の容易なマークとな
る。
照して説明する。図４は、眼用レンズのマーキング方法
の実施例２によって形成されたマーク部分の顕微鏡写真
を模式的に示す図である。本実施例においても、ＫｒＦ
を媒質とするエキシマレーザを用いて、コンタクトレン
ズ（ＳＣＬ）にマーキングを行っているが、実施例１と
やや条件が異なっている。図４（Ａ），（Ｂ）に示され
るように、本実施例におけるマーク部分は、図３とやや
異なる微小な凹凸の模様を有する表面となっている。こ
れによって、マーク部分は光学的に不透明なすりガラス
状となり、必要最小限の深さで識別の容易なマークとな
る。
【００１９】比較例 ＫｒＦを媒質とするエキシマレーザを用いたレーザマー
キングの特長を明確にするために、比較例として、Ａｒ
Ｆを媒質とするエキシマレーザを光源とするマーキング
を行った。マーキングによって得られたマーク部分の顕
微鏡写真を表した模式図を、図５に示す。図５（Ａ），
（Ｂ）に示されるように、ＡｒＦエキシマレーザの場合
には、マーク部分が凹凸の少ない平坦な表面となり、Ｋ
ｒＦエキシマレーザを用いた図３，図４の場合とかなり
異なっている。このため、図５のマークは、見た目が透
明に近くなり、識別しにくいものとなる。このような図
５のマークと図４のマークとを比較すると、ＫｒＦエキ
シマレーザを用いたマーキングは、不透明で識別し易い
マークを形成するために非常に有効なものであることが
分かる。
キングの特長を明確にするために、比較例として、Ａｒ
Ｆを媒質とするエキシマレーザを光源とするマーキング
を行った。マーキングによって得られたマーク部分の顕
微鏡写真を表した模式図を、図５に示す。図５（Ａ），
（Ｂ）に示されるように、ＡｒＦエキシマレーザの場合
には、マーク部分が凹凸の少ない平坦な表面となり、Ｋ
ｒＦエキシマレーザを用いた図３，図４の場合とかなり
異なっている。このため、図５のマークは、見た目が透
明に近くなり、識別しにくいものとなる。このような図
５のマークと図４のマークとを比較すると、ＫｒＦエキ
シマレーザを用いたマーキングは、不透明で識別し易い
マークを形成するために非常に有効なものであることが
分かる。
【００２０】実施例３ 次に、本発明を具現化した実施例３について、図１，図
６〜図９を参照して説明する。図６および図７は、眼用
レンズのマーキング方法の実施例３に使用される二つの
マスクパターンをそれぞれ示す平面図である。本実施例
においては、図６の記号および文字のパターン３０ａ，
３０ｂを有するマスクと共に、図７に示されるような、
多数の円孔３２が縦横に規則的に配列されたパターンを
有するマスクが使用される。
６〜図９を参照して説明する。図６および図７は、眼用
レンズのマーキング方法の実施例３に使用される二つの
マスクパターンをそれぞれ示す平面図である。本実施例
においては、図６の記号および文字のパターン３０ａ，
３０ｂを有するマスクと共に、図７に示されるような、
多数の円孔３２が縦横に規則的に配列されたパターンを
有するマスクが使用される。
【００２１】次に、本実施例におけるこれらの二つのマ
スクの使用方法について、図８を参照して説明する。図
８は、眼用レンズのマーキング方法の実施例３における
マスクの使用状態を示す斜視図である。図８に示される
ように、本実施例においては、図６に示される記号・文
字パターン３０ａ，３０ｂを有する第１のマスク１０
と、図７に示される多数の円孔３２が配列された第２の
マスク１２とが重ねて用いられる。これらの二枚のマス
ク１０，１２が、図１に示されるマスクホルダー８に重
ねてセットされる。なお、必要に応じてマスクは何枚用
いてもよく、また、記号・文字パターン３０ａ，３０ｂ
および多数の円孔３２が一枚のマスクに形成されたもの
を使用することも可能である。ここで、メッシュ状マス
ク１２のメッシュ粗さ、すなわち円孔３２の孔径は、コ
ンタクトレンズに付与されるマークのメッシュ粗さが１
μｍ〜０．５ｍｍの範囲内になるように設定され、好ま
しくは５μｍ〜０．１ｍｍの範囲内になるように設定さ
れる。すなわち、製造の容易な種々の粗さのメッシュ状
マスクを用いて、これをレーザ光学系で縮小もしくは拡
大することによって、所望の好ましい範囲の粗さのメッ
シュパターンを形成することができる。
スクの使用方法について、図８を参照して説明する。図
８は、眼用レンズのマーキング方法の実施例３における
マスクの使用状態を示す斜視図である。図８に示される
ように、本実施例においては、図６に示される記号・文
字パターン３０ａ，３０ｂを有する第１のマスク１０
と、図７に示される多数の円孔３２が配列された第２の
マスク１２とが重ねて用いられる。これらの二枚のマス
ク１０，１２が、図１に示されるマスクホルダー８に重
ねてセットされる。なお、必要に応じてマスクは何枚用
いてもよく、また、記号・文字パターン３０ａ，３０ｂ
および多数の円孔３２が一枚のマスクに形成されたもの
を使用することも可能である。ここで、メッシュ状マス
ク１２のメッシュ粗さ、すなわち円孔３２の孔径は、コ
ンタクトレンズに付与されるマークのメッシュ粗さが１
μｍ〜０．５ｍｍの範囲内になるように設定され、好ま
しくは５μｍ〜０．１ｍｍの範囲内になるように設定さ
れる。すなわち、製造の容易な種々の粗さのメッシュ状
マスクを用いて、これをレーザ光学系で縮小もしくは拡
大することによって、所望の好ましい範囲の粗さのメッ
シュパターンを形成することができる。
【００２２】そして、図１のエキシマレーザ光源４から
紫外線レーザ光Ｌ０が照射されると、図８に示されるよ
うに、第１のマスク１０と第２のマスク１２を通過した
紫外線レーザ光Ｌ１１のみが、実施例１，２と同様にし
て集光されて、コンタクトレンズに照射される。本実施
例におけるマーキングの条件は、使用したマスクを除い
て、表１に示される条件３と同様である。本実施例によ
って得られたマークの深さを実施例１と同様に測定した
ところ、２回のショットを行っているにも関わらず、
１．０〜１．５μｍと極めて浅いものであった。さて、
このようにしてマーキングされたマーク部分の状態につ
いて、図９を参照しつつ説明する。図９は、本実施例の
マーキング方法によりコンタクトレンズに形成されたマ
ークの記号３０ａ部分の顕微鏡写真を模式的に表した図
であり、図９（Ａ）が低倍率の顕微鏡写真、図９（Ｂ）
が高倍率の顕微鏡写真を表した模式図である。
紫外線レーザ光Ｌ０が照射されると、図８に示されるよ
うに、第１のマスク１０と第２のマスク１２を通過した
紫外線レーザ光Ｌ１１のみが、実施例１，２と同様にし
て集光されて、コンタクトレンズに照射される。本実施
例におけるマーキングの条件は、使用したマスクを除い
て、表１に示される条件３と同様である。本実施例によ
って得られたマークの深さを実施例１と同様に測定した
ところ、２回のショットを行っているにも関わらず、
１．０〜１．５μｍと極めて浅いものであった。さて、
このようにしてマーキングされたマーク部分の状態につ
いて、図９を参照しつつ説明する。図９は、本実施例の
マーキング方法によりコンタクトレンズに形成されたマ
ークの記号３０ａ部分の顕微鏡写真を模式的に表した図
であり、図９（Ａ）が低倍率の顕微鏡写真、図９（Ｂ）
が高倍率の顕微鏡写真を表した模式図である。
【００２３】図９に示されるように、コンタクトレンズ
（ＳＣＬ）７０の表面に形成されたマーク７２は、微小
な円形のパターン７４が集合して形成されている。これ
は、図８に示されるように、記号・文字のマスクパター
ン３０ａ，３０ｂを通過したレーザ光が、さらに多数の
円孔３２のパターンを通過してレーザビームＬ１１とさ
れて、コンタクトレンズに照射されたためである。な
お、マーク７２の周辺に、図２に示されるような盛り上
がり１２４が全くみられない点については、実施例１，
２と同様である。このように、微小な円形のパターン７
４が集合して形成されていることにより、マーク部分７
２において光が乱反射されるため、マーク深さが１．０
〜１．５μｍと極めて浅いにも関わらず、極めて鮮明
な、識別し易いマークとなる。さらに、このような微小
パターン７４の集合からなるマーク７２においては、眼
用レンズの表面が液体に覆われている場合にもマークが
明瞭に識別できるという利点がある。
（ＳＣＬ）７０の表面に形成されたマーク７２は、微小
な円形のパターン７４が集合して形成されている。これ
は、図８に示されるように、記号・文字のマスクパター
ン３０ａ，３０ｂを通過したレーザ光が、さらに多数の
円孔３２のパターンを通過してレーザビームＬ１１とさ
れて、コンタクトレンズに照射されたためである。な
お、マーク７２の周辺に、図２に示されるような盛り上
がり１２４が全くみられない点については、実施例１，
２と同様である。このように、微小な円形のパターン７
４が集合して形成されていることにより、マーク部分７
２において光が乱反射されるため、マーク深さが１．０
〜１．５μｍと極めて浅いにも関わらず、極めて鮮明
な、識別し易いマークとなる。さらに、このような微小
パターン７４の集合からなるマーク７２においては、眼
用レンズの表面が液体に覆われている場合にもマークが
明瞭に識別できるという利点がある。
【００２４】実施例４ 次に、本発明を具現化した実施例４について、図１０お
よび図１１を参照して説明する。図１０は、本実施例に
おいて使用されるメッシュ状マスクのパターンを表した
図であり、図１１は、本実施例のマーキングによって得
られるマーク部分の顕微鏡写真を模式的に表した図であ
る。本実施例においては、図８におけるメッシュ状マス
ク１２の代わりに、図１０に示されるような穿孔がより
密に設けられたメッシュ状マスクが使用される。一方マ
ークパターン形成用マスクとしては、図８に示されるマ
スク１０と同様のものを用いている。マーキングの条件
は、表１に示される条件３と同様である。この結果得ら
れたマークは、図１１に示されるように、微小な凹凸の
パターンがマークの形状に沿って集合したものとなり、
マーク部分は不透明なすりガラス状の外観を呈すること
となる。このようにして、極めて識別し易いマークが形
成されることになる。
よび図１１を参照して説明する。図１０は、本実施例に
おいて使用されるメッシュ状マスクのパターンを表した
図であり、図１１は、本実施例のマーキングによって得
られるマーク部分の顕微鏡写真を模式的に表した図であ
る。本実施例においては、図８におけるメッシュ状マス
ク１２の代わりに、図１０に示されるような穿孔がより
密に設けられたメッシュ状マスクが使用される。一方マ
ークパターン形成用マスクとしては、図８に示されるマ
スク１０と同様のものを用いている。マーキングの条件
は、表１に示される条件３と同様である。この結果得ら
れたマークは、図１１に示されるように、微小な凹凸の
パターンがマークの形状に沿って集合したものとなり、
マーク部分は不透明なすりガラス状の外観を呈すること
となる。このようにして、極めて識別し易いマークが形
成されることになる。
【００２５】実施例５ 次に、本発明を具現化した実施例５について、図１２お
よび図１３を参照して説明する。本実施例においては、
図１２（Ａ）〜（Ｃ）に示される三種類のマークパター
ン形成用マスクを用いて、レーザマーキングを行ってい
る。メッシュ状マスクは図１０に示されるものを使用
し、マーキングの条件は表１に示される条件３と同様と
している。図１３（Ａ）〜（Ｃ）が、得られたマーク部
分の顕微鏡写真を模式的に表した図である。このよう
に、本実施例のマーキング方法においては、異なるマー
クパターンが穿設されたマスクをメッシュ状マスクと重
ねて用いるだけで、あらゆるマークパターンについて、
物理的に点蝕されて不透明な外観を呈するマークを形成
することができる。
よび図１３を参照して説明する。本実施例においては、
図１２（Ａ）〜（Ｃ）に示される三種類のマークパター
ン形成用マスクを用いて、レーザマーキングを行ってい
る。メッシュ状マスクは図１０に示されるものを使用
し、マーキングの条件は表１に示される条件３と同様と
している。図１３（Ａ）〜（Ｃ）が、得られたマーク部
分の顕微鏡写真を模式的に表した図である。このよう
に、本実施例のマーキング方法においては、異なるマー
クパターンが穿設されたマスクをメッシュ状マスクと重
ねて用いるだけで、あらゆるマークパターンについて、
物理的に点蝕されて不透明な外観を呈するマークを形成
することができる。
【００２６】なお、上記の実施例３〜７においては、エ
キシマレーザのレーザ媒質としてＫｒＦを用いた例につ
いて示したが、その他のエキシマレーザ用のレーザ媒質
を用いても同様な効果が得られる。この場合に、２９０
ｎｍ以下の固有波長を有するレーザ媒質を用いることが
特に好ましい。このようなレーザ媒質としては、ＫｒＦ
以外に、ＫｒＣｌ，ＡｒＦ，ＡｒＣｌ，ＸｅＢｒ等があ
る。また、紫外線レーザ光源としてエキシマレーザ光源
を用いた場合について示したが、その他の紫外線レーザ
光源を使用しても構わない。さらに、実施例３〜７にお
いては、メッシュ状マスクとして、円形の孔を有するマ
スクを使用しているが、孔の形状は円形に限られないこ
とは言うまでもない。例えば、格子状のメッシュ（正方
形，長方形の孔）や楕円形、三角形の孔等であってもよ
い。これらの場合にも、コンタクトレンズに付与された
マークのメッシュ粗さ（孔径および孔と孔の間隔）が、
１μｍ〜０．５ｍｍの範囲内になるように、好ましくは
５μｍ〜０．１ｍｍの範囲内になるように設定する。
キシマレーザのレーザ媒質としてＫｒＦを用いた例につ
いて示したが、その他のエキシマレーザ用のレーザ媒質
を用いても同様な効果が得られる。この場合に、２９０
ｎｍ以下の固有波長を有するレーザ媒質を用いることが
特に好ましい。このようなレーザ媒質としては、ＫｒＦ
以外に、ＫｒＣｌ，ＡｒＦ，ＡｒＣｌ，ＸｅＢｒ等があ
る。また、紫外線レーザ光源としてエキシマレーザ光源
を用いた場合について示したが、その他の紫外線レーザ
光源を使用しても構わない。さらに、実施例３〜７にお
いては、メッシュ状マスクとして、円形の孔を有するマ
スクを使用しているが、孔の形状は円形に限られないこ
とは言うまでもない。例えば、格子状のメッシュ（正方
形，長方形の孔）や楕円形、三角形の孔等であってもよ
い。これらの場合にも、コンタクトレンズに付与された
マークのメッシュ粗さ（孔径および孔と孔の間隔）が、
１μｍ〜０．５ｍｍの範囲内になるように、好ましくは
５μｍ〜０．１ｍｍの範囲内になるように設定する。
【００２７】また、上記の各実施例においては、マーキ
ングする眼用レンズとして、含水性ソフトコンタクトレ
ンズ（ＳＣＬ）およびハードコンタクトレンズ（ＨＣ
Ｌ）の場合について示したが、その他の酸素透過性ハー
ドコンタクトレンズや、非含水性ソフトコンタクトレン
ズについても、マーキングが可能である。また、コンタ
クトレンズのみならず、眼内レンズその他の眼用レンズ
にもマーキングすることができる。眼用レンズのマーキ
ング装置のその他の部分の構造，形状，大きさ，材質，
数，配置等についても、上記の各実施例に限定されるも
のではない。
ングする眼用レンズとして、含水性ソフトコンタクトレ
ンズ（ＳＣＬ）およびハードコンタクトレンズ（ＨＣ
Ｌ）の場合について示したが、その他の酸素透過性ハー
ドコンタクトレンズや、非含水性ソフトコンタクトレン
ズについても、マーキングが可能である。また、コンタ
クトレンズのみならず、眼内レンズその他の眼用レンズ
にもマーキングすることができる。眼用レンズのマーキ
ング装置のその他の部分の構造，形状，大きさ，材質，
数，配置等についても、上記の各実施例に限定されるも
のではない。
【００２８】
【発明の効果】請求項１に係る発明においては、眼用レ
ンズのマーキング用のレーザ光として、ＫｒＦをレーザ
媒質とするエキシマレーザを光源とするレーザ光を用い
た眼用レンズのマーキング方法を創出したため、確実か
つ簡単に、必要最小限の深さで識別の極めて容易な明瞭
なマークを形成することができる。これによって、マー
ク部分に汚れやゴミ等が付着したり機械的強度が低下し
て眼用レンズが破損し易くなるといった問題もなく、し
かも極めて鮮明な識別し易いマークを形成できる眼用レ
ンズのマーキング方法となる。さらに、本発明の波及的
な効果として、紫外線レーザ光として２９０ｎｍ以下の
波長を有するレーザ光を使用していることによって、２
９０ｎｍを越える波長のレーザ光を用いた場合に比べ
て、より少ないショット数（１回〜１０回程度）で鮮明
なマークを形成することができる。この結果、より効率
のよい眼用レンズのマーキング方法となる。
ンズのマーキング用のレーザ光として、ＫｒＦをレーザ
媒質とするエキシマレーザを光源とするレーザ光を用い
た眼用レンズのマーキング方法を創出したため、確実か
つ簡単に、必要最小限の深さで識別の極めて容易な明瞭
なマークを形成することができる。これによって、マー
ク部分に汚れやゴミ等が付着したり機械的強度が低下し
て眼用レンズが破損し易くなるといった問題もなく、し
かも極めて鮮明な識別し易いマークを形成できる眼用レ
ンズのマーキング方法となる。さらに、本発明の波及的
な効果として、紫外線レーザ光として２９０ｎｍ以下の
波長を有するレーザ光を使用していることによって、２
９０ｎｍを越える波長のレーザ光を用いた場合に比べ
て、より少ないショット数（１回〜１０回程度）で鮮明
なマークを形成することができる。この結果、より効率
のよい眼用レンズのマーキング方法となる。
【００２９】また、請求項２に係る発明においては、眼
用レンズのマーキング方法において紫外線領域の波長を
有するレーザ光を使用するともに、マークを付与するた
めのマスクとしてマークパターン形成用マスクとメッシ
ュ状マスクとを併用する眼用レンズのマーキング方法を
創出したため、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識
別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができ
る。さらに、本発明の波及的な効果として、レーザ媒質
やレーザの種類が制限されず、種々のレーザ光源が自由
に使用できるという利点がある。
用レンズのマーキング方法において紫外線領域の波長を
有するレーザ光を使用するともに、マークを付与するた
めのマスクとしてマークパターン形成用マスクとメッシ
ュ状マスクとを併用する眼用レンズのマーキング方法を
創出したため、確実かつ簡単に、必要最小限の深さで識
別の極めて容易な明瞭なマークを形成することができ
る。さらに、本発明の波及的な効果として、レーザ媒質
やレーザの種類が制限されず、種々のレーザ光源が自由
に使用できるという利点がある。
【図１】本発明に係る眼用レンズのマーキング方法の実
施例１〜実施例５に用いられるマーキング装置の主要部
の構成を示す斜視図である。
施例１〜実施例５に用いられるマーキング装置の主要部
の構成を示す斜視図である。
【図２】従来例の眼用レンズのマーキング方法によるマ
ークの顕微鏡写真を模式的に表した図である。
ークの顕微鏡写真を模式的に表した図である。
【図３】眼用レンズのマーキング方法の実施例１による
マークの顕微鏡写真を模式的に表した図である。
マークの顕微鏡写真を模式的に表した図である。
【図４】眼用レンズのマーキング方法の実施例２によっ
て形成されたマーク部分の顕微鏡写真を模式的に示す図
である。
て形成されたマーク部分の顕微鏡写真を模式的に示す図
である。
【図５】実施例２における比較例によって形成されたマ
ーク部分の顕微鏡写真を模式的に示す図である。
ーク部分の顕微鏡写真を模式的に示す図である。
【図６】眼用レンズのマーキング方法の実施例１〜実施
例３におけるマスクパターンを示す平面図である。
例３におけるマスクパターンを示す平面図である。
【図７】眼用レンズのマーキング方法の実施例３におけ
るメッシュ状マスクのパターンを示す平面図である。
るメッシュ状マスクのパターンを示す平面図である。
【図８】眼用レンズのマーキング方法の実施例３〜実施
例５におけるマスクの使用状態を示す斜視図である。
例５におけるマスクの使用状態を示す斜視図である。
【図９】眼用レンズのマーキング方法の実施例３により
コンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写真
を模式的に表した図である。
コンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写真
を模式的に表した図である。
【図１０】眼用レンズのマーキング方法の実施例４およ
び実施例５におけるメッシュ状マスクのパターンを示す
平面図である。
び実施例５におけるメッシュ状マスクのパターンを示す
平面図である。
【図１１】眼用レンズのマーキング方法の実施例４によ
りコンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写
真を模式的に表した図である。
りコンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写
真を模式的に表した図である。
【図１２】眼用レンズのマーキング方法の実施例５にお
けるマークパターンを模式的に表した図である。
けるマークパターンを模式的に表した図である。
【図１３】眼用レンズのマーキング方法の実施例５によ
りコンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写
真を模式的に表した図である。
りコンタクトレンズに形成されたマーク部分の顕微鏡写
真を模式的に表した図である。
２ 眼用レンズのマーキング装置 ４ ＫｒＦをレーザ媒質として用いたエキシマレーザ １０ マークパターン形成用マスク １２ メッシュ状マスク ２０ 眼用レンズ（コンタクトレンズ） ２２ マーク Ｌ０，Ｌ１ レーザ光
Claims (2)
- 【請求項１】 ＫｒＦをレーザ媒質とするエキシマレー
ザを光源とするレーザ光を照射することによって眼用レ
ンズの表面にマークを形成する眼用レンズのマーキング
方法。 - 【請求項２】 マスクを介してレーザ光を照射すること
により眼用レンズの表面にマークを形成する眼用レンズ
のマーキング方法において、 前記レーザ光として紫外線領域の波長を有するレーザ光
を使用し、 前記マスクとしてマークパターン形成用マスクとメッシ
ュ状マスクとを併用することを特徴とする眼用レンズの
マーキング方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5272121A JPH06230321A (ja) | 1992-12-09 | 1993-10-29 | 眼用レンズのマーキング方法 |
| EP93309910A EP0601857B1 (en) | 1992-12-09 | 1993-12-09 | Method of marking an ophthalmic lens |
| DE69317228T DE69317228T2 (de) | 1992-12-09 | 1993-12-09 | Verfahren zum Markieren einer ophthalmischen Linse |
| HK98109365A HK1008755A1 (en) | 1992-12-09 | 1998-07-23 | Method of marking an ophthalmic lens |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35252892 | 1992-12-09 | ||
| JP4-352528 | 1992-12-09 | ||
| JP5272121A JPH06230321A (ja) | 1992-12-09 | 1993-10-29 | 眼用レンズのマーキング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230321A true JPH06230321A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=26550041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5272121A Pending JPH06230321A (ja) | 1992-12-09 | 1993-10-29 | 眼用レンズのマーキング方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0601857B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06230321A (ja) |
| DE (1) | DE69317228T2 (ja) |
| HK (1) | HK1008755A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11326845A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-11-26 | Johnson & Johnson Vision Prod Inc | マ―ク入りコンタクトレンズ |
| US6042230A (en) * | 1998-12-14 | 2000-03-28 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Markings for contact lenses |
| JP2002244085A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Menicon Co Ltd | マーク付眼用レンズにおけるマーク読出方法 |
| JP2004535251A (ja) * | 2001-07-17 | 2004-11-25 | シノプトクス， インコーポレーテッド | 小切開レンズ及びその使用方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5936704A (en) | 1997-12-22 | 1999-08-10 | Gabrielian; Grant | Marked contact lens bearing optical marking element |
| US6024448A (en) * | 1998-03-31 | 2000-02-15 | Johnson & Johnson Vision Products, Inc. | Contact lenses bearing identifying marks |
| DE19833368C1 (de) * | 1998-07-24 | 2000-02-17 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung von Bauteilen aus sprödbrüchigen Werkstoffen |
| JP2001176311A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-06-29 | Koito Mfg Co Ltd | 車両用灯具およびそのマーキング方法 |
| ATE346323T1 (de) * | 2000-05-25 | 2006-12-15 | Novartis Pharma Gmbh | Kontaktlinse mit gespritzter inversionsmarkierung |
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| DE10050263A1 (de) * | 2000-10-09 | 2002-04-18 | Rodenstock Optik G | Verfahren zur Kennzeichnung und insbesondere zur Beschriftung von Oberflächen optischer Elemente mit UV-Licht |
| AUPR168000A0 (en) * | 2000-11-24 | 2000-12-21 | Sola International Holdings Ltd | Method of marking an optical element |
| DE10243737B3 (de) * | 2002-07-24 | 2004-07-15 | Optiray Laser Gmbh | Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrats mit Hilfe von Laserstrahlung |
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| JP4339316B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2009-10-07 | 株式会社メニコン | 眼用レンズの着色方法 |
| DE102009056810A1 (de) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | *Acri.Tec Gmbh | Intraokularlinse |
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| JPH01101512A (ja) * | 1987-09-18 | 1989-04-19 | Carl Zeiss:Fa | 眼鏡レンズに記号及び／又はマークを施す方法及び該方法により製造された眼鏡レンズ |
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1993
- 1993-10-29 JP JP5272121A patent/JPH06230321A/ja active Pending
- 1993-12-09 DE DE69317228T patent/DE69317228T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-09 EP EP93309910A patent/EP0601857B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-23 HK HK98109365A patent/HK1008755A1/xx not_active IP Right Cessation
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HK1008755A1 (en) | 1999-05-14 |
| EP0601857A1 (en) | 1994-06-15 |
| DE69317228T2 (de) | 1998-10-15 |
| EP0601857B1 (en) | 1998-03-04 |
| DE69317228D1 (de) | 1998-04-09 |
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