JPH03124486A - レーザマーキング方法 - Google Patents
レーザマーキング方法Info
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- JPH03124486A JPH03124486A JP1262799A JP26279989A JPH03124486A JP H03124486 A JPH03124486 A JP H03124486A JP 1262799 A JP1262799 A JP 1262799A JP 26279989 A JP26279989 A JP 26279989A JP H03124486 A JPH03124486 A JP H03124486A
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Landscapes
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、マーキング方法にかかり、例えば、眼鏡レン
ズその他のレンズあるいは透光性部材に所望のマークを
付す方法に関するものである。
ズその他のレンズあるいは透光性部材に所望のマークを
付す方法に関するものである。
[従来の技術]
例えば、眼鏡レンズ、あるいは、ミラー等の光学部品に
は、自社商品と他社商品との識別、あるいは、形番、規
格、特定位置の指示等の表示を目的とするマークを付す
ことが行われる。
は、自社商品と他社商品との識別、あるいは、形番、規
格、特定位置の指示等の表示を目的とするマークを付す
ことが行われる。
この場合、特に、眼鏡レンズの場合には、商品の性質上
、上記マークには、できるだけ目立たないことが要求さ
れているから、通常は肉眼で認識することができず、必
要に応じて(例えば特定の角度から観察することによっ
て)認識することが可能ないわゆる隠しマークを付すよ
うにしている。
、上記マークには、できるだけ目立たないことが要求さ
れているから、通常は肉眼で認識することができず、必
要に応じて(例えば特定の角度から観察することによっ
て)認識することが可能ないわゆる隠しマークを付すよ
うにしている。
従来、このような隠しマークを付すマーキング方法とし
ては、ダイヤモンド等の硬質材料からなる針により彫刻
する方法が最も一般的に行われていた。
ては、ダイヤモンド等の硬質材料からなる針により彫刻
する方法が最も一般的に行われていた。
しかしながら、この彫刻によるマーキングは、工具を所
定のマーキングパターンに沿って移動させることにより
行われるから作業能率が悪く、マキングに著しく長時間
を要するとともに、多数の対象物に同一のパターンを付
そうとする場合の再現性が悪いという問題がある。さら
に、針のような先の尖ったものを使用して彫刻すること
に起因して、眼鏡レンズの表面のマーキンク°゛部分が
■渦状になるから、この部分の光線反射状態か他の部分
と異なり、したがって、隠しマークとしての性能が不十
分になるという問題もあった。
定のマーキングパターンに沿って移動させることにより
行われるから作業能率が悪く、マキングに著しく長時間
を要するとともに、多数の対象物に同一のパターンを付
そうとする場合の再現性が悪いという問題がある。さら
に、針のような先の尖ったものを使用して彫刻すること
に起因して、眼鏡レンズの表面のマーキンク°゛部分が
■渦状になるから、この部分の光線反射状態か他の部分
と異なり、したがって、隠しマークとしての性能が不十
分になるという問題もあった。
このため、近年にいたり、例えば、付すべきマークのパ
ターンに沿った光透過部を設けた遮光性マスクを用い、
該マスクを介してマークを付す対象物の表面にレーザ光
を集束して照射し、このレーザ光が前記対象物に吸収さ
れて発生する熱によって対象物の表面部を前記マークの
パターンに沿って溶融あるいは変質させ、これによりマ
ークを付すという、いわゆるレーザマーキング方法が試
みられるようになった。
ターンに沿った光透過部を設けた遮光性マスクを用い、
該マスクを介してマークを付す対象物の表面にレーザ光
を集束して照射し、このレーザ光が前記対象物に吸収さ
れて発生する熱によって対象物の表面部を前記マークの
パターンに沿って溶融あるいは変質させ、これによりマ
ークを付すという、いわゆるレーザマーキング方法が試
みられるようになった。
[発明が解決しようとするB題]
ところで、前記従来のレーザ光照射によるマーキング方
法は、対象物たる光学部品の表面を溶融もしくは変質さ
せ、そのマークの部分を四部としたり、あるいは、反射
率や屈折率を池の部分と異ならしめるものである。この
ため、この凹部となったり、変質したマークの部分から
水分等が光学部品の内部に浸透し、該光学部品の強度を
低下させるというおそれがあった。
法は、対象物たる光学部品の表面を溶融もしくは変質さ
せ、そのマークの部分を四部としたり、あるいは、反射
率や屈折率を池の部分と異ならしめるものである。この
ため、この凹部となったり、変質したマークの部分から
水分等が光学部品の内部に浸透し、該光学部品の強度を
低下させるというおそれがあった。
また、これらの光学部品の洗浄の際、特に、洗浄液に対
して耐性の乏しい素材にあっては、洗浄液によってマー
クを付した部分が侵されるなどして、付したマークが消
えたり、あるい、識別が困難になる場合があった。
して耐性の乏しい素材にあっては、洗浄液によってマー
クを付した部分が侵されるなどして、付したマークが消
えたり、あるい、識別が困難になる場合があった。
また、プラスチック、あるいは、ガラス部材の表面をエ
ツチングし、そのエツチングされた部位に染色塗料を塗
布した、いわゆる、レチクルの場合、このレチクルを形
成した部材を使用する過程において、表面に擦過傷が入
り、識別性が劣化することもある。
ツチングし、そのエツチングされた部位に染色塗料を塗
布した、いわゆる、レチクルの場合、このレチクルを形
成した部材を使用する過程において、表面に擦過傷が入
り、識別性が劣化することもある。
さらに、これら光学部品の表面には、反射防止膜等の薄
膜をコーティングする機会が多くなってきているが、光
学部品の表面にマークを付すという方法では、このマー
クを付した部分が四部となる場合に、このマークの部分
から、薄膜か剥離するというおそれもあった。
膜をコーティングする機会が多くなってきているが、光
学部品の表面にマークを付すという方法では、このマー
クを付した部分が四部となる場合に、このマークの部分
から、薄膜か剥離するというおそれもあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、マーキン
グ対象物の内部にマークを施すことに、より、表面にマ
ークを付すということに起因して生ずるマーキング対象
物の強度低下、マークの識別性の劣化、あるいは、表面
に形成された薄膜の剥離のおそれ等の問題が生じないマ
ーキング方法を提供することを目的としたものである。
グ対象物の内部にマークを施すことに、より、表面にマ
ークを付すということに起因して生ずるマーキング対象
物の強度低下、マークの識別性の劣化、あるいは、表面
に形成された薄膜の剥離のおそれ等の問題が生じないマ
ーキング方法を提供することを目的としたものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、以下の構成とすることにより、上述の課題を
解決している。
解決している。
マークを付すべきマーキング対象物にレーザ光を集束さ
せて該マーキング対象物にマークを付すレーザマーキン
グ方法において、 前記マーキング対象物の内部にレーザ光を集束させて該
マーキング対象物の表面に損傷を与えることなく該マー
キング対象物の内部にマークを付すことを特徴とした構
成。
せて該マーキング対象物にマークを付すレーザマーキン
グ方法において、 前記マーキング対象物の内部にレーザ光を集束させて該
マーキング対象物の表面に損傷を与えることなく該マー
キング対象物の内部にマークを付すことを特徴とした構
成。
[作用]
上記構成によれば、前記マーキング対象物の内部にレー
ザ光を集束させることにより、該マーキング対象物の内
部にマークを付すことができる。
ザ光を集束させることにより、該マーキング対象物の内
部にマークを付すことができる。
つまり、レーザ光をマーキング対象物に照射する際、そ
のレーザ光のエネルギー密度がマーキング対象物の表面
部におけるレーザ光に対する破壊閾値より小さな値とな
り、内部の所定の位置における破壊閾値以上の値となる
ようにすればよい。
のレーザ光のエネルギー密度がマーキング対象物の表面
部におけるレーザ光に対する破壊閾値より小さな値とな
り、内部の所定の位置における破壊閾値以上の値となる
ようにすればよい。
例えば、一つのレーザ光を集束する場合であれば、マー
キング対象物に応じて、マーキング対象物の内部のマー
キング形成位置を該マーキング対象物の表面から所定距
離以上離間し、かつ、前記レーザ光の集束角度を所定値
以上とすることにより、前記マーキング対象物の表面に
は全く損傷を与えることなく、マーキング対象物の内部
にマークを付すことができる。なお、この場合、一般に
、マーキング対象物のレーザ光に対する破壊閾値は、マ
ーキング対象物の位置によって異なっており、例えば、
ガラスであれば、内部の破壊閾値は、表面の破壊閾値の
5〜20倍程度となっている。また、例えば、マーキン
グ対象物の表面における破壊閾値より小さなエネルギー
密度を有するレーザ光を複数本対象物の内部に集束させ
ることによっても、表面を損傷させることなく内部にマ
ークを付すことができる。
キング対象物に応じて、マーキング対象物の内部のマー
キング形成位置を該マーキング対象物の表面から所定距
離以上離間し、かつ、前記レーザ光の集束角度を所定値
以上とすることにより、前記マーキング対象物の表面に
は全く損傷を与えることなく、マーキング対象物の内部
にマークを付すことができる。なお、この場合、一般に
、マーキング対象物のレーザ光に対する破壊閾値は、マ
ーキング対象物の位置によって異なっており、例えば、
ガラスであれば、内部の破壊閾値は、表面の破壊閾値の
5〜20倍程度となっている。また、例えば、マーキン
グ対象物の表面における破壊閾値より小さなエネルギー
密度を有するレーザ光を複数本対象物の内部に集束させ
ることによっても、表面を損傷させることなく内部にマ
ークを付すことができる。
[実施例]
第1図は本発明の一実施例に係るレーザマーキング方法
の説明図、第2図は一実施例の方法を実施するための装
置の構成を示す図、第3図は第2図に示される装置によ
る一実施例の方法の実施手順の説明図である。以下、こ
れらの図面を参照しながら本発明の一実施例を詳述する
。
の説明図、第2図は一実施例の方法を実施するための装
置の構成を示す図、第3図は第2図に示される装置によ
る一実施例の方法の実施手順の説明図である。以下、こ
れらの図面を参照しながら本発明の一実施例を詳述する
。
第1図において、符号1はマーキング対象物、符号2は
レーザ光Qを集束させる集光レンズである。
レーザ光Qを集束させる集光レンズである。
第1図に示されるように、この一実施例の方法は、前記
マーキング対象物1の一方の表面1aから内部に71の
距離だけ離れた点Pにレーザ光0を集束させ、このP点
にマークを形成するものである。
マーキング対象物1の一方の表面1aから内部に71の
距離だけ離れた点Pにレーザ光0を集束させ、このP点
にマークを形成するものである。
前記マーキング対象物1は、厚さ5mm程度の透明プラ
スチック板(ポリメチルメタクリレート樹脂= P I
VIMA > 11の表面と裏面とに、SiO2膜とZ
r O2膜とを交互に積層した反射防止用多層WA1
2及び13(膜厚4000人程度)をそれぞれ形成した
ものである。前記プラスチック板11は、可視光を透過
し、レーザ光J7(波長1゜06μm )を吸収する光
学的特性を有している。なお、このマーキング対象物1
の表面1a、すなわち、前記反射防止膜12の表面の破
壊閾値は、5J/Cm2であり、その内部の破壊閾値は
10〜4o、1/C…2である。
スチック板(ポリメチルメタクリレート樹脂= P I
VIMA > 11の表面と裏面とに、SiO2膜とZ
r O2膜とを交互に積層した反射防止用多層WA1
2及び13(膜厚4000人程度)をそれぞれ形成した
ものである。前記プラスチック板11は、可視光を透過
し、レーザ光J7(波長1゜06μm )を吸収する光
学的特性を有している。なお、このマーキング対象物1
の表面1a、すなわち、前記反射防止膜12の表面の破
壊閾値は、5J/Cm2であり、その内部の破壊閾値は
10〜4o、1/C…2である。
この実施例では、前記レーザ光ρとして、波長1.06
メ1rrt、パルス幅9nSeCのパルスレーザ光を発
振するQスイッチYAGレーザ装置から得られるレーザ
光を用い、集光レンズ2として、倍率10倍、開口数0
.25、W 、 D 18.5m m、開口半角θ=1
4.5°の平凸レンズを用いる。そして、前記YAGレ
ーザ装置により、1シヨツト、0.12rrtJ程度の
エネルギーのレーザ光を発振し、このレーザ光を前記集
光レンズ2を介して前記P点に集束させる。このとき、
前記マーキング対象!P!11の表面1aからP点まで
の距tifz1は1.8mmとなっている。
メ1rrt、パルス幅9nSeCのパルスレーザ光を発
振するQスイッチYAGレーザ装置から得られるレーザ
光を用い、集光レンズ2として、倍率10倍、開口数0
.25、W 、 D 18.5m m、開口半角θ=1
4.5°の平凸レンズを用いる。そして、前記YAGレ
ーザ装置により、1シヨツト、0.12rrtJ程度の
エネルギーのレーザ光を発振し、このレーザ光を前記集
光レンズ2を介して前記P点に集束させる。このとき、
前記マーキング対象!P!11の表面1aからP点まで
の距tifz1は1.8mmとなっている。
このようにレーザ光QをP点に集束させると、該レーザ
光9の前記マーキング対象物1の表面1aでのビーム径
は0.9mmとなり、該表面1aでのエネルギー密度は
17.8m J / Cm2どなる。この表面1aでの
エネルギー密度の値<17.8mJ/Cm2)は、該表
面の破壊閾値(5J/cm2) ヨリ、はるかに小さい
ので、該表面1aは全く損傷をうけることがない。
光9の前記マーキング対象物1の表面1aでのビーム径
は0.9mmとなり、該表面1aでのエネルギー密度は
17.8m J / Cm2どなる。この表面1aでの
エネルギー密度の値<17.8mJ/Cm2)は、該表
面の破壊閾値(5J/cm2) ヨリ、はるかに小さい
ので、該表面1aは全く損傷をうけることがない。
一方、P点におけるエネルギー密度は、レーザ光Oの全
エネルギーが集中されるので、数百J/cm2程度とな
り、内部の破壊闇値(10〜40J/cm2)よりはる
かに大きい。その結果、前記P点近傍に、直径20〜4
0μm、深さ100〜250μm程度の範囲にわたって
溶融、変質等が生ずる。これにより、この変質等した部
分の屈折率や透過率等が他の部分と異なるものとなって
外部から識別可能となり、マークの作用をする。
エネルギーが集中されるので、数百J/cm2程度とな
り、内部の破壊闇値(10〜40J/cm2)よりはる
かに大きい。その結果、前記P点近傍に、直径20〜4
0μm、深さ100〜250μm程度の範囲にわたって
溶融、変質等が生ずる。これにより、この変質等した部
分の屈折率や透過率等が他の部分と異なるものとなって
外部から識別可能となり、マークの作用をする。
次に、第2図及び第3図を参照しながら、マーキング対
象物1内に所望の文字(F丁)のマークを付す科を説明
する。なお、この場合、マーキング対象物1、集光レン
ズ2及び用いるレーザ光Ω等の条件は第1図の場合と同
じである。
象物1内に所望の文字(F丁)のマークを付す科を説明
する。なお、この場合、マーキング対象物1、集光レン
ズ2及び用いるレーザ光Ω等の条件は第1図の場合と同
じである。
前記マーキング対象物1は、ステージ3に固定される。
このステージ3は直交するx、y、zの各軸に沿って移
動可能になっている。
動可能になっている。
前記集光レンズ2は、罪微鏡光学系4の鏡筒の先端部内
にマウンI・され、この顕微鏡光学系4の対物レンズを
兼用する。この顕微鏡光学系4は、前記集光レンズ2を
対物レンズとし、該集光レンズ2によって結像された像
をハーフミラ−4aで反射して接眼部4bを通して眼E
で観察する観察光学系と、前記顕微鏡光学系4の鏡筒の
基端部、すなわち、図中、上部に設けられたレーザ装置
5から発振されたレーザ光gをフィルター40及びハー
フミラ−4aを通して集光レンズ2によってマーキング
対象物1に集束させる集束光学系とからなる。
にマウンI・され、この顕微鏡光学系4の対物レンズを
兼用する。この顕微鏡光学系4は、前記集光レンズ2を
対物レンズとし、該集光レンズ2によって結像された像
をハーフミラ−4aで反射して接眼部4bを通して眼E
で観察する観察光学系と、前記顕微鏡光学系4の鏡筒の
基端部、すなわち、図中、上部に設けられたレーザ装置
5から発振されたレーザ光gをフィルター40及びハー
フミラ−4aを通して集光レンズ2によってマーキング
対象物1に集束させる集束光学系とからなる。
上述の構成の装置によってマーキングを付すには、以下
のようにして行う。
のようにして行う。
まず、顕微鏡光学系4の観察光学系によって前記マーキ
ング対象物1の表面1aに、該観察光学系のピントが合
うように前記ステージ3を調節する。この状態では、第
3図に点線で示されるように、前記レーザ光gは前記集
光レンズ2によって前記マーキング対象物1の表面1a
に集束される。
ング対象物1の表面1aに、該観察光学系のピントが合
うように前記ステージ3を調節する。この状態では、第
3図に点線で示されるように、前記レーザ光gは前記集
光レンズ2によって前記マーキング対象物1の表面1a
に集束される。
そこで、次に、前記ステージ3を調節して、前記マーキ
ング対象物1を2軸方向に距離Z 1だけ動かし、前記
レーザ光9の集束点が前記マーキング対象物1内のP点
に位置するように設定する。
ング対象物1を2軸方向に距離Z 1だけ動かし、前記
レーザ光9の集束点が前記マーキング対象物1内のP点
に位置するように設定する。
しかる後、この状態で前記レーザ装置を駆動してレーザ
光を照射する。同時に、前記ステージ3を調節して前記
マーキング対象物1をx、y方向に移動し、前記レーザ
光rの集束点が前記マーキング対象物1内において文字
■1を描くようにする。
光を照射する。同時に、前記ステージ3を調節して前記
マーキング対象物1をx、y方向に移動し、前記レーザ
光rの集束点が前記マーキング対象物1内において文字
■1を描くようにする。
これにより、前記マーキング対象物1内に、文字Hのマ
ーキングが付される。このとき、マーキング対象物1の
表面1aは全く損傷を受けることはない。
ーキングが付される。このとき、マーキング対象物1の
表面1aは全く損傷を受けることはない。
なお、開口数の異なるレンズ、すなわち、第3図中にお
ける角度θが異なるレンズによって前記集光レンズ2を
構成し、マーキング実験を行った結果は以下の通りであ
った。
ける角度θが異なるレンズによって前記集光レンズ2を
構成し、マーキング実験を行った結果は以下の通りであ
った。
−!アに、−いた集゛ルンズの坪?
レンズNol
開口数・・・0.40
倍率・・・・・・20
W、D・・・8.1
θ・・・・・・23,6゜
マーキング対象物1の表面
でのビーム径・・・・・・1.57m mマーキング対
象物1の表面 でのエネルギー密度・・・8..2 m J 7cm2
1点でのエネルギー密度・・・数百J/Cm2レンズN
o2 開口数・・・0.55 倍率・・・・・・50 W−D・・・6.0 θ・・・・・・33.4゜ マーキング対象物上の表面 でのビーム径・・・・・・2.37mmマーキング対象
物1の表面 でのエネルギー密度・・・2.7mJ/cm2P点での
エネルギー密度・・・数百J/Cm24 壱Pの表 か
らの距狽 0.5〜2.5 mm ■ いずれの場合においても、スポット径20〜40μmの
マークを付すことができた。なお、その際、マーキング
対象物の表面には全く損傷が認められなかった。
象物1の表面 でのエネルギー密度・・・8..2 m J 7cm2
1点でのエネルギー密度・・・数百J/Cm2レンズN
o2 開口数・・・0.55 倍率・・・・・・50 W−D・・・6.0 θ・・・・・・33.4゜ マーキング対象物上の表面 でのビーム径・・・・・・2.37mmマーキング対象
物1の表面 でのエネルギー密度・・・2.7mJ/cm2P点での
エネルギー密度・・・数百J/Cm24 壱Pの表 か
らの距狽 0.5〜2.5 mm ■ いずれの場合においても、スポット径20〜40μmの
マークを付すことができた。なお、その際、マーキング
対象物の表面には全く損傷が認められなかった。
上述の実施例にあっては、以下の利点がある。
すなわち、マーキング対象物の内部にマーキングを施す
ようにしていることから、表面にマークを付すというこ
とに起因して生ずるマーキング対象物の強度低下、マー
クの識別性の劣化、あるいは、表面に形成された薄膜の
剥離のおそれ等がない 第4図は本発明の他の実施例の説明図である。
ようにしていることから、表面にマークを付すというこ
とに起因して生ずるマーキング対象物の強度低下、マー
クの識別性の劣化、あるいは、表面に形成された薄膜の
剥離のおそれ等がない 第4図は本発明の他の実施例の説明図である。
この実施例は、5台の半導体レーザ装置51゜52.5
3,54.55から射出される5本のレーザ光ρ1.’
2.ρ3.’4.ρ5を、マーキング対象物1の内部の
所望の位置にある点Pに向けて照射・集束し、これら各
レーザ光のエネルギーをP点に集中させたものである。
3,54.55から射出される5本のレーザ光ρ1.’
2.ρ3.’4.ρ5を、マーキング対象物1の内部の
所望の位置にある点Pに向けて照射・集束し、これら各
レーザ光のエネルギーをP点に集中させたものである。
この場合、各半導体レーザ装置51,52,53,54
.55から射出されるそれぞれのレーザ光N1.N。
.55から射出されるそれぞれのレーザ光N1.N。
Q 3. 、Q 4. 、Q 5の強度は表面における
破壊閾値より小さいため、各レーザ光91〜g5によっ
ては、前記マーキング対象′PyJ1の表面が損傷され
ず、一方、これらレーザ光91〜15が全て集束された
P点においてはマーキング対象II 1のレーザ破壊閾
値以上のエネルギー密度を有するものとすることができ
る。
破壊閾値より小さいため、各レーザ光91〜g5によっ
ては、前記マーキング対象′PyJ1の表面が損傷され
ず、一方、これらレーザ光91〜15が全て集束された
P点においてはマーキング対象II 1のレーザ破壊閾
値以上のエネルギー密度を有するものとすることができ
る。
この実施例によっても、前記一実施例とほぼ同様の利点
が得られる。
が得られる。
なお、本発明は、上記各実施例に限られるものでなく、
例えば、マークを付す対象物は表面に薄膜を形成し、又
は、形成しない眼鏡用ガラスレンズあるいはプラスチッ
クレンズには勿論のこと、その池同様の表示が必要とさ
れる他の光学部品等にも適用できる。また、プラスチッ
クの光学部品の場合、前記一実施例に掲げたP M M
Aのほかに、例えば、ポリカーボネイト樹脂(P C
)にも適用でき、さらには、これらP M M A J
??P Cのような熱可塑性樹脂のほかに、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネイト樹脂(CR39:商
品名)等の熱硬化性樹脂等にも適用できる。
例えば、マークを付す対象物は表面に薄膜を形成し、又
は、形成しない眼鏡用ガラスレンズあるいはプラスチッ
クレンズには勿論のこと、その池同様の表示が必要とさ
れる他の光学部品等にも適用できる。また、プラスチッ
クの光学部品の場合、前記一実施例に掲げたP M M
Aのほかに、例えば、ポリカーボネイト樹脂(P C
)にも適用でき、さらには、これらP M M A J
??P Cのような熱可塑性樹脂のほかに、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネイト樹脂(CR39:商
品名)等の熱硬化性樹脂等にも適用できる。
なお、前記眼鏡レンズのように、表面が曲面をなした光
学部品にマークを付す場合には、この曲面の法線方向か
らレーザ光を照射するようにずれば好適である。
学部品にマークを付す場合には、この曲面の法線方向か
らレーザ光を照射するようにずれば好適である。
また、使用するレーザ光もYAGレーサ光以外の他のレ
ーザ光でもよいとともに、必ずしもパルス光のものでな
くてもよい。要するに、マーキング対象物にマークを施
す際、マーキング対象物の表面でのエネルギー密度が破
壊閾値より小さく、内部において破壊閾値以上となるよ
うに、レーザ光をマーキング対象物に照射すればよい。
ーザ光でもよいとともに、必ずしもパルス光のものでな
くてもよい。要するに、マーキング対象物にマークを施
す際、マーキング対象物の表面でのエネルギー密度が破
壊閾値より小さく、内部において破壊閾値以上となるよ
うに、レーザ光をマーキング対象物に照射すればよい。
例えば、上述の一実施例の場合のように、−本のレーザ
光を集束する場合であれば、レーザ光を集束する集光レ
ンズの焦点距離、マーキング対象物の表面からマークを
施す部位までの距離、レーザ光の光強度、レーザ光の波
長、もしくは、パルス幅等を前記粂件を満足するように
適宜選択すればよい。
光を集束する場合であれば、レーザ光を集束する集光レ
ンズの焦点距離、マーキング対象物の表面からマークを
施す部位までの距離、レーザ光の光強度、レーザ光の波
長、もしくは、パルス幅等を前記粂件を満足するように
適宜選択すればよい。
この場合、表面が反射防止膜で構成されているマーキン
グ対象物にあっては、この反射防止膜の反射防止効果が
得られる領域の波長のレーザ光を用いることが望ましい
。例えば、可視光の反射防止膜が施されている眼鏡レン
ズでは、YAGレーザ光(波長、1.06μm)の2倍
波を用いることで、表面の反射を押さえて、極めて効率
よくマーキング対象物の内部にマークを付すことができ
る。
グ対象物にあっては、この反射防止膜の反射防止効果が
得られる領域の波長のレーザ光を用いることが望ましい
。例えば、可視光の反射防止膜が施されている眼鏡レン
ズでは、YAGレーザ光(波長、1.06μm)の2倍
波を用いることで、表面の反射を押さえて、極めて効率
よくマーキング対象物の内部にマークを付すことができ
る。
さらに、前記一実施例では、文字等のマークを付すのに
、レーザ光を集束させる光学系を固定して、マーキング
対象物を文字等に沿って動かす例を掲げたが、これは、
逆に、マーキング対象物を固定しておいて前記光学系を
文字等に沿って動かずようにしてもよい。
、レーザ光を集束させる光学系を固定して、マーキング
対象物を文字等に沿って動かす例を掲げたが、これは、
逆に、マーキング対象物を固定しておいて前記光学系を
文字等に沿って動かずようにしてもよい。
また、−本のレーザ光を集束させる場合、集光レンズと
して、非球面レンズを用いれば、マーキング対象物の内
部のマークを形成するために溶融、もしくは、変買され
る領域の厚さ方向の範囲をより小さくすることができ、
マーキング対象物に余分な歪み等が加わるおそれをより
完全に除去できる。
して、非球面レンズを用いれば、マーキング対象物の内
部のマークを形成するために溶融、もしくは、変買され
る領域の厚さ方向の範囲をより小さくすることができ、
マーキング対象物に余分な歪み等が加わるおそれをより
完全に除去できる。
[発明の効果]
以上詳述したように、本発明は、要するに、マーキング
対象物の内部にレーザ光を集束させて該マーキング対象
物の表面部に損傷を与えることなく該マーキング対象物
の内部にマークを付すようにしたもので、これにより、
表面にマークを付すということに起因して生ずるマーキ
ング対象物の強度低下、マークの識別性の劣化、あるい
は、表面に形成された薄膜の剥離のおそれ等の問題が生
じないマーキング方法を得ているものである。
対象物の内部にレーザ光を集束させて該マーキング対象
物の表面部に損傷を与えることなく該マーキング対象物
の内部にマークを付すようにしたもので、これにより、
表面にマークを付すということに起因して生ずるマーキ
ング対象物の強度低下、マークの識別性の劣化、あるい
は、表面に形成された薄膜の剥離のおそれ等の問題が生
じないマーキング方法を得ているものである。
第1図は本発明の一実施例に係るレーザマーキング方法
の説明図、第2図は一実施例の方法を実施するための装
置の構成を示す図、第3図は第2図に示される装置によ
る一実施例の方法の実施年頭の説明図、第4図は本発明
の他の実施例の説明図である。 1・・・マーキング対象物、 1a・・・マーキング対象物の表面、 2・・・集光レンズ、 3・・・ステージ、 4・・・顕微鏡光学系、 5・・・レーザ装置、 12.13・・・反射防止膜、 51.52.53.54 55・・・半導体レーザ 装置。
の説明図、第2図は一実施例の方法を実施するための装
置の構成を示す図、第3図は第2図に示される装置によ
る一実施例の方法の実施年頭の説明図、第4図は本発明
の他の実施例の説明図である。 1・・・マーキング対象物、 1a・・・マーキング対象物の表面、 2・・・集光レンズ、 3・・・ステージ、 4・・・顕微鏡光学系、 5・・・レーザ装置、 12.13・・・反射防止膜、 51.52.53.54 55・・・半導体レーザ 装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マークを付すべきマーキング対象物にレーザ光を集束さ
せて該マーキング対象物にマークを付すレーザマーキン
グ方法において、 前記マーキング対象物の内部にレーザ光を集束させて該
マーキング対象物の表面に損傷を与えることなく該マー
キング対象物の内部にマークを付すことを特徴としたレ
ーザマーキング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1262799A JP2810151B2 (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1262799A JP2810151B2 (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03124486A true JPH03124486A (ja) | 1991-05-28 |
JP2810151B2 JP2810151B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=17380771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1262799A Expired - Lifetime JP2810151B2 (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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- 1989-10-07 JP JP1262799A patent/JP2810151B2/ja not_active Expired - Lifetime
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