WO2023120117A1 - 眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズ、及び眼鏡 - Google Patents

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繁樹 大久保
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ホヤ レンズ タイランド リミテッド
繁樹 大久保
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Definitions

  • the present invention relates to a spectacle lens manufacturing method, a spectacle lens, and spectacles.
  • an antireflection film consisting of seven layers of alternately laminating low refractive index layers and high refractive index layers on a plastic substrate has a design dominant wavelength ⁇ 0 in the range of 480 nm or more and 550 nm or less, The layer on the substrate side is the first layer, and the layers are numbered outward in order, with the odd-numbered layers being SiO 2 layers and the even - numbered layers being TiO 2 layers.
  • An antireflection film having a total film thickness in the range of 180 nm or more and 250 nm or less, a physical film thickness ratio of the SiO 2 layer and the TiO 2 layer having a predetermined relationship, and an optical film thickness of each layer having a predetermined relationship.
  • a plastic lens for spectacles characterized by comprising:
  • the anti-reflection film of spectacle lenses does not necessarily have an anti-reflection function for the short wavelength side (for example, the ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less) or the long wavelength side (the infrared region with a wavelength of 800 nm or more), which is outside the wavelength range of visible light.
  • the short wavelength side for example, the ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less
  • the long wavelength side the infrared region with a wavelength of 800 nm or more
  • many lenses have a reflectance of more than 10%.
  • the wavelength of the processing laser is in the ultraviolet or infrared region, the irradiation energy does not reach the target material to be removed sufficiently, resulting in precise processing. It is easy to cause inconvenience that it is difficult to
  • An object of the present disclosure is to provide a technology capable of performing precise processing under efficient and stable conditions for a spectacle lens provided with an antireflection film on both the object-side surface and the eyeball-side surface.
  • Another object of the present disclosure is to provide a spectacle lens that is provided with an antireflection film on both the object-side surface and the eyeball-side surface and that is decorated.
  • a first aspect of the present invention is A method for manufacturing a spectacle lens, wherein one surface of the spectacle lens provided with antireflection films different from each other on the object side surface and the eyeball side surface is subjected to marking for desired processing by irradiating laser on one surface of the spectacle lens. and determining the applicable wavelength of the laser to be used; selecting, from the object-side surface and the eyeball-side surface, a surface on which an antireflection film having a relatively low reflectance for the applied wavelength is provided; A method for manufacturing a spectacle lens, wherein the selected surface is irradiated with a laser applying the applied wavelength.
  • a second aspect of the present invention is A method for manufacturing a spectacle lens, wherein one surface of the spectacle lens provided with antireflection films different from each other on the object side surface and the eyeball side surface is subjected to marking for desired processing by irradiating laser on one surface of the spectacle lens. in a surface having a relatively low reflectance with respect to light in a predetermined wavelength range is selected from the object-side surface and the eyeball-side surface, and a laser beam having a wavelength within the predetermined wavelength range is applied to the selected surface; A method for manufacturing a spectacle lens by applying light and performing laser irradiation.
  • a third aspect of the present invention is The spectacle lens manufacturing method according to the first or second aspect, wherein the applicable wavelength or the wavelength within the predetermined wavelength range is within the range of 200 to 400 nm or within the range of 800 to 1100 nm.
  • a fourth aspect of the present invention is The spectacle lens according to any one of the first to third aspects, wherein the antireflection coating on the selected surface has a reflectance of 10% or less for the applied wavelength or wavelengths within the predetermined wavelength range. is a manufacturing method.
  • a fifth aspect of the present invention is According to any one of the first to fourth aspects, the antireflection coating on the selected surface has a reflectance lower than that of the other surface by 10% or more for the applied wavelength or wavelengths within the predetermined wavelength range.
  • a sixth aspect of the present invention is An antireflection film having a multilayer structure including a lamination of a low refractive index layer and a high refractive index layer, which is formed so as to cover the optical surface of the lens substrate, is irradiated with an ultrashort pulse laser to obtain the multilayer structure.
  • a method for manufacturing a spectacle lens that performs desired laser processing by partially removing a predetermined layer including the outermost layer of The antireflection coating on the selected surface includes a reactive layer that is relatively more reactive to irradiation of the ultrashort pulse laser than other layers included in the multilayer structure, wherein the irradiation causes the
  • the spectacle lens manufacturing method according to any one of the first to fifth aspects, wherein the laser processing visible with visible light is performed by performing a removing step of removing at least part of the reaction layer.
  • a seventh aspect of the present invention is The method for manufacturing a spectacle lens according to the seventh aspect, wherein the ultrashort pulse laser has a pulse width of 10 femtoseconds or more and less than 100 picoseconds.
  • An eighth aspect of the present invention is A spectacle lens in which different antireflection films are provided on the object side surface and the eyeball side surface, respectively, and laser marking is applied to one surface of the spectacle lens,
  • the antireflection film provided on one surface has a lower reflectance than the antireflection film provided on the other surface, at least for light with a wavelength of 200 to 400 nm.
  • a ninth aspect of the present invention is A spectacle lens in which different antireflection films are provided on the object side surface and the eyeball side surface, respectively, and laser marking is applied to one surface of the spectacle lens,
  • the antireflection film provided on one surface has a lower reflectance than the antireflection film provided on the other surface, at least for light with a wavelength of 800 to 1100 nm.
  • a tenth aspect of the present invention is
  • the spectacle lens is a lens substrate having an optical surface; an antireflection film covering the optical surface of the lens substrate,
  • the antireflection film has a multilayer structure including a lamination of a low refractive index layer and a high refractive index layer,
  • the antireflection film includes a reaction layer whose reactivity to irradiation with an ultrashort pulse laser is relatively higher than other layers included in the antireflection film, At the removed portion formed by at least partially removing a predetermined layer including the outermost layer of the multilayer structure, the high refractive index layer on the lower layer side of the reaction layer or the partially remaining reaction layer.
  • An eleventh aspect of the present invention is a spectacle lens manufactured by the spectacle lens manufacturing method according to any one of the first to seventh aspects, or spectacles according to any one of the eighth to tenth aspects.
  • a spectacle lens provided with an antireflection film on both the object-side surface and the eyeball-side surface can be efficiently and precisely processed under stable conditions. Further, according to the present invention, it is possible to provide a spectacle lens provided with an antireflection film on both the object-side surface and the eyeball-side surface, and decorated by laser processing.
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of processing a spectacle lens according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart showing an example of the procedure of the spectacle lens manufacturing method according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a side cross-sectional view showing an example of a laminated structure of thin films in a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4A is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of a laser processing apparatus used in a spectacle lens manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
  • 1 is a diagram showing a state in which an AR film is irradiated with a laser beam through each part, including a section, a galvanometer scanner section, and an optical system.
  • FIG. 4B is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of a laser processing apparatus used in a method for manufacturing an eyeglass lens according to an embodiment of the present invention, in which a laser beam (that is, an ultra-short
  • FIG. 10 is a diagram showing a configuration in which irradiation with a pulsed laser) can be performed with a defocus setting.
  • FIG. 5A is an explanatory diagram showing a configuration example of the main parts of the spectacle lens according to one embodiment of the present invention, and is an explanatory diagram showing a configuration example of the main parts of the spectacle lens according to the present embodiment.
  • FIG. 5B is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of a spectacle lens according to an embodiment of the present invention, and shows a specific example of observation results of a cross section of an AR film with an electron microscope.
  • FIG. 6A is a photograph showing a result of processing an object-side surface of a spectacle lens of a specific example using a pulsed laser beam having a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico.
  • FIG. 6B is a photograph showing the result of processing the eyeball-side surface of the spectacle lens of one specific example using a pulsed laser beam with a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico.
  • FIG. 6A is a photograph showing a result of processing an object-side surface of a spectacle lens of a specific example using a pulsed laser beam having a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico.
  • FIG. 6C shows an antireflection film (1) (described later) and an antireflection film (2) (described later) of a spectacle lens as a specific example when the vertical axis is the reflectance (%) and the horizontal axis is the wavelength (nm). ) are reflection characteristics (simulation data).
  • FIG. 7 shows a specific range of laser power for obtaining stable processing conditions when antireflection film (1) and antireflection film (2) are processed in the same manner as in FIG. This is the result.
  • the spectacle lens according to this embodiment has an object-side surface and an eyeball-side surface as optical surfaces.
  • the "object-side surface” is the surface that is located on the object side when spectacles with spectacle lenses are worn by the wearer.
  • the "eye-side surface” is the opposite, ie the surface that lies on the eye-side when the spectacles with the spectacle lenses are worn by the wearer.
  • the object-side surface is convex and the eye-side surface is concave, that is, the spectacle lens is generally a meniscus lens. This is the same for the spectacle lens after edging (processed lens) in which the periphery is cut to match the shape of the spectacle frame.
  • the spectacle lens is provided with an antireflection film on both the object-side surface and the eyeball-side surface, and the object-side surface and the eyeball-side surface of the spectacle lens have wavelengths within a predetermined range.
  • antireflection films with different reflectances are formed, this difference is utilized. Then, an optical surface having a lower reflectance with respect to the wavelength of the applied laser is selected, and laser processing is performed from the optical surface side.
  • marking is performed by irradiating a laser on one surface of a spectacle lens provided with different antireflection films on the object-side surface and the eyeball-side surface, respectively. collectively referred to as marking), wherein, of the object-side surface and the eyeball-side surface, a surface having a relatively low reflectance for light in a predetermined wavelength range is selected, and the selected
  • a method for manufacturing a spectacle lens may be employed in which the surface is irradiated with a laser beam having a wavelength within the predetermined range.
  • wavelengths in the ultraviolet region within the wavelength range of 200 to 400 nm can be used. Specifically, it may be 355 nm (THG), which will be described later, or 266 nm (FHG).
  • the reflectance of the lens surface for any laser light within the above wavelength range varies depending on the optical properties of the antireflection coating formed on the lens surface.
  • the reflectance of one surface for example, the surface on the object side
  • the reflectance of the other surface for example, the eyeball
  • the value obtained by subtracting the reflectance of the side surface may be 10% or more (or 15% or more, or 20% or more).
  • the wavelength-dependent reflectance characteristics of the antireflection film can be adjusted by changing the composition and film thickness of each layer (high refractive index layer and low refractive index layer to be described later) of the multi-layer structure that constitutes the antireflection film. can do.
  • laser processing is performed on the eyeball side surface.
  • Laser processing may be removal processing from the outermost surface using ablation, and the details will be described later.
  • the spectacle lens according to the present embodiment is a spectacle lens in which the reflectance of at least light with a wavelength of 330 to 400 nm is lower on the eyeball side surface than on the object side surface of the spectacle lens, and It is a spectacle lens in which marking is performed on the surface side by a laser using a wavelength within the above wavelength range.
  • the object-side surface and the eyeball-side surface are respectively provided with antireflection films different from each other, and the reflectance with respect to light of a predetermined wavelength is relatively low. It is possible to provide a spectacle lens in which one surface is decorated by laser marking.
  • the wavelength applied to the laser irradiation may be a wavelength in the infrared region in the range of 800 to 1100 nm, for example. Specifically, a 1064 nm laser may be used.
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of processing a spectacle lens according to this embodiment.
  • the spectacle lens 1 having a circular shape (for example, an outer diameter of ⁇ 60 to 80 mm) in plan view is subjected to edging (frame shaping) in which the outer shape of the lens is cut to match the frame shape 2 of the spectacle frame worn by the wearer. cutting process).
  • edging frame shaping
  • marking may be performed within the area corresponding to the inside of the outline of the frame shape.
  • the case of marking on the optical surface of the decorative pattern 3 representing characters, symbols, designs, etc. such as logos and house marks so as to be positioned within the lens area after frame cutting will be exemplified.
  • marking for example, it is possible to use laser irradiation processing that can precisely control the irradiation position based on digital data, but it is preferable that the marking causes deterioration in lens quality and function. do not have.
  • the marking of the decorative pattern 3 is performed according to the processing procedure described below.
  • FIG. 2 is a flowchart showing an example of the procedure of the spectacle lens manufacturing method according to this embodiment.
  • a lens base material which is an optical base material
  • the lens base material is polished according to the prescription information of the spectacle wearer to obtain a lens shape having a predetermined optical performance. is obtained, and if necessary, a dyeing process is performed (step 101, hereinafter step is abbreviated as "S").
  • a resin material having a refractive index (nD) of about 1.50 to 1.74 is used as the lens base material.
  • examples of resin materials include allyl diglycol carbonate, urethane-based resins, polycarbonates, thiourethane-based resins, and episulfide resins.
  • these resin materials may be composed of other resin materials capable of obtaining a desired degree of refraction, or may be composed of inorganic glass.
  • the lens substrate has an optical surface for forming a predetermined lens shape on each of the object-side surface and the eyeball-side surface.
  • the predetermined lens shape may constitute a single focal lens, a multifocal lens, a progressive power lens, or the like. is composed of curved surfaces
  • the optical surface is formed, for example, by polishing, but may be a cast (molded) product that does not require polishing.
  • polishing treatment and dyeing treatment for the lens substrate may be performed using known techniques, and detailed description thereof will be omitted here.
  • a hard coat film is formed on at least one optical surface of the lens substrate, preferably on both optical surfaces (S102).
  • the HC film is composed of, for example, a curable material containing a silicon compound, and is a film formed with a thickness of about 3 ⁇ m to 4 ⁇ m.
  • the refractive index (nD) of the HC film is close to the refractive index of the lens substrate material described above, for example, about 1.49 to 1.74, and the film configuration is selected according to the lens substrate material.
  • Such HC film coating makes it possible to improve the durability of spectacle lenses.
  • the HC film may be formed, for example, by a dipping method using a solution in which a curable material containing a silicon compound is dissolved.
  • an antireflection film (AR film) is subsequently formed so as to overlap the HC film (S103).
  • the AR film has a multilayer structure in which films with different refractive indices are laminated, and is a film that prevents light reflection by interference.
  • the AR film has a multilayer structure in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated.
  • the low refractive index layer is made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a refractive index of about 1.43 to 1.47, for example.
  • the high refractive index layer is made of a material having a higher refractive index than the low refractive index layer, such as zirconium oxide (ZrO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), tantalum oxide. (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), mixtures thereof (for example, indium tin oxide (ITO)), etc. be.
  • ZrO 2 zirconium oxide
  • SnO 2 tin oxide
  • Nb 2 O 5 niobium oxide
  • tantalum oxide tantalum oxide.
  • Ti 2 O 5 titanium oxide
  • TiO 2 yttrium oxide
  • Al 2 O 3 aluminum oxide
  • mixtures thereof for example, indium tin oxide (ITO)
  • the high-refractive layer containing Sn and O functions as a reactive layer because it has a higher reactivity to an ultrashort pulse laser, which will be described later, than the other layers.
  • SnO 2 and ITO described above correspond to this.
  • the "reactive layer” in this specification refers to a layer with low excitation energy when subjected to laser irradiation.
  • an ultrashort pulsed laser is applied.
  • the SnO 2 layer which can serve as a reaction layer, has extremely low excitation energy due to multiphoton absorption (for example, two-photon absorption) and is highly reactive. This is the same for the ITO layer, and the ITO layer can also be the reaction layer in this specification.
  • At least part of the SnO2 layer (or ITO layer) sublimes or evaporates and disappears from the irradiated site together with the overlying SiO2 layer.
  • a reactive layer that is relatively more reactive than other layers in the multilayer structure refers to a SnO 2 layer or an ITO layer in one embodiment of the present invention.
  • the reactive layer may be set as the reactive layer with the highest reactivity as compared to other layers included in the multilayer structure.
  • the outermost layer of the multi-layered AR film is configured to be a low refractive index layer (for example, SiO 2 layer).
  • the laser-irradiated part of the surface layer side of the multilayer structure is removed to form a decorative pattern representing desired characters, symbols, designs, and the like.
  • the reflected light of that portion has a reflection characteristic different from that of other portions (other than the portion where a portion of the multilayer structure is removed).
  • the decorated part is visually recognized by others as a part with different brilliance and color tone from the other parts.
  • the lowest layer (substrate side) of the multilayer structure is also a low refractive index layer (for example, a SiO 2 layer). This makes it easy to visually recognize the laser-processed pattern even from the opposite side of the two surfaces of the spectacle lens to the laser-processed surface.
  • the front and back of the lens may have different visibility (appearance with different color tones and brilliance).
  • the film formation of the above-described film that constitutes the AR film may be performed by applying, for example, ion-assisted vapor deposition.
  • a water-repellent film may be formed on the low refractive index layer, which is the outermost layer of the AR film.
  • the water-repellent film may be called an antifouling film.
  • the formation of the water-repellent film may be performed before the marking according to the present embodiment is performed, or may be performed after the marking is performed.
  • the water-repellent film is a film that imparts water repellency to the surface, and can be constructed by applying a fluorine-based compound solution such as meta-xylene hexafluoride, for example.
  • the formation of the water-repellent film may be performed by applying, for example, ion-assisted vapor deposition in the same manner as in the case of the AR film.
  • another functional layer may be formed on the AR film. There is no problem whether such a functional layer contains a metal component or not, as long as the effect of precise processing by laser irradiation can be obtained. Also, such a functional layer may be a uniform film or may be scattered over the surface.
  • a thin film having a laminated structure as shown in FIG. 3 is formed on the optical surface of the lens substrate.
  • FIG. 3 is a side cross-sectional view showing an example of a laminated structure of thin films according to this embodiment.
  • the laminated structure of the illustrated example is constructed by laminating an HC film 12, an AR film 13, and a water-repellent film 14 in this order on the optical surface of a lens substrate 11.
  • the AR film 13 has a multilayer structure in which a SiO 2 layer 13a as a low refractive index layer and a SnO 2 layer 13b and a ZrO 2 layer 13c as high refractive index layers are laminated.
  • the surface layer on the side of the water-repellent film 14) is configured to be the SiO 2 layer 13a.
  • the SnO 2 layer is a high refractive index layer as well as a reaction layer.
  • the spectacle lens on which the thin film has been formed is frame-cut and marked with a decorative pattern.
  • marking is performed on the spectacle lens after thin film formation.
  • decoration processing is performed after frame cutting (S104: After cutting)
  • one optical surface of the spectacle lens to be processed (specifically, the optical surface not subjected to the decoration processing described later) is cut.
  • Jig blocking for mounting on a dedicated jig is performed (S105).
  • the blocked spectacle lens is set in an edging machine, edging (frame cutting) is performed on the spectacle lens, and the outer shape of the spectacle lens is cut into a frame shape (S106). Since jig blocking and frame cutting may be performed using known techniques, detailed description thereof is omitted here.
  • the lens height That is, the three-dimensional shape of the processing area on the surface to be processed is measured (S107).
  • the measurement method is not particularly limited, it is conceivable to use a non-contact or contact three-dimensional measuring machine, for example.
  • the processing area is an area including a laser scanning area, which will be described later.
  • laser processing After measuring the lens height of the processing area, perform laser processing. That is, based on pattern data prepared in advance, laser processing is performed by irradiating while performing raster scanning for moving the laser beam (S108). More preferably, the scan head is simultaneously controlled in the height direction based on the three-dimensional shape data obtained above, and focus control (or defocus control) of laser irradiation is performed according to the curved surface of the lens optical surface. It can be performed. It may be a vector scan instead of a raster scan. As a result, the area to be processed on the surface to be processed of the spectacle lens is marked.
  • jig deblocking is performed to remove the spectacle lens from the dedicated jig (S109), and the detached spectacle lens is used to remove residuals and adherents (foreign matter) during marking. Washing is performed (S110). After the final lens appearance inspection (S111), the manufacture of spectacle lenses is completed.
  • the lens height of the processing area (that is, the processing area The three-dimensional shape of the processing area on the surface) is measured (S112).
  • the measurement method is the same as in the above-described case of performing decoration processing after frame cutting.
  • laser processing is performed to irradiate the processing area with laser light.
  • the processing method can be the same as the above-described case of performing decoration processing after frame cutting.
  • the area to be processed on the surface to be processed of the spectacle lens is marked with a decorative pattern. Details of the laser processing for marking the decorative pattern will be described later.
  • frame cutting is performed on the marked eyeglass lens.
  • jig blocking is performed by mounting one optical surface of the spectacle lens to be processed in a dedicated jig (S114), and then the blocked spectacle lens is set in the edging machine. Then, edging (frame cutting) is performed on the spectacle lens, and the outer shape of the spectacle lens is cut into a frame shape (S115).
  • jig deblocking is performed to remove the spectacle lens from the dedicated jig (S116), and the removed spectacle lens is cleaned to remove residuals and adherents (foreign matter) during processing. It does (S117). After the final lens appearance inspection (S118), the manufacture of spectacle lenses is completed.
  • the AR film 13 covering the optical surface of the lens substrate 11 is irradiated with a laser beam, thereby localizing a predetermined layer including the SiO 2 layer 13a which is the outermost layer of the AR film 13.
  • the decoration pattern can be marked by at least partially removing it.
  • the SnO 2 layer is at least partially sublimated or evaporated by the energy of the irradiation, and the upper layer side disappears from the irradiated point together with the SiO 2 layer at . That is, a predetermined layer including the outermost SiO 2 layer 13a is locally removed by laser processing that irradiates laser light.
  • the irradiated portion is marked with a visible decorative pattern due to the difference in reflection characteristics from the portion where the removal is not performed by the removal step that exposes the high refractive index layer on the lower layer side. It has become.
  • the exposed high refractive index layer is, for example, the ZrO 2 layer 13c.
  • the SnO 2 layer 13b can be formed thin (for example, 3 to 20 nm, more preferably 3 to 10 nm). In this embodiment, the SnO 2 layer 13b is 5 nm.
  • SnO 2 functions as a reaction layer with the highest reactivity to laser irradiation.
  • This reaction layer preferably contains Sn and O, and in addition to SnO 2 , ITO can be used.
  • SnO 2 is removed by sublimation or evaporation, and ZrO 2 as a high refractive index layer on the lower layer side is exposed at the irradiation site, but the reaction layer does not necessarily have to be completely removed. , a part may remain in the irradiated part.
  • reaction layer may be at least partially removed in the thickness direction of the layer by laser irradiation.
  • the reaction layer partially remains at the laser irradiation location not only in the thickness direction of the layer but also when viewed from the laser irradiation direction (when viewed from above).
  • ZrO 2 may be only partially exposed. This is because, like ZrO 2 , SnO 2 (or ITO) is also a high refractive index material, and even if SnO 2 partially remains in plan view, there is no problem with visibility.
  • the high refractive index layer on the lower layer side of the reaction layer or the partially remaining reaction layer may be exposed.
  • the reactive layer (such as SnO 2 or ITO) is preferably a conductive layer that is highly conductive compared to other layers included in the laminate structure.
  • the reaction layer made of SnO2 is more excited than the upper layer side (outermost surface side) of the SiO2 layer and the lower layer side of the ZrO2 layer when subjected to laser irradiation under the conditions described later.
  • the energy corresponding to the bandgap is small. For this reason, it tends to disappear most quickly due to sublimation or evaporation compared to the adjacent layers on the upper and lower layers.
  • the lower layer ZrO 2 may be damaged by evaporation or dissolution due to the energy of the irradiation, so the irradiation conditions should be controlled to take advantage of the delay until the damage occurs. can substantially remove only the reaction layer and the layers above it. It was found that it is advantageous to select an ultrashort pulse laser, which will be described later, for such precise processing control.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of a laser processing apparatus used in the spectacle lens manufacturing method according to the present embodiment.
  • the laser processing apparatus used in this embodiment includes a laser light source unit 21, an AOM (Acousto Optics Modulator) system unit 22, a beam shaper unit 23, a galvanometer scanner unit 24, and an optical system 25. , and is configured to irradiate the AR film 13 with laser light through these respective portions 21 to 25 .
  • AOM Acoustic Optics Modulator
  • the laser light source unit 21 emits a laser beam used for laser processing, and is configured to emit an ultrashort pulse laser.
  • the lower limit of the pulse width of the ultrashort pulse laser is not particularly limited as long as it exceeds 0 femtoseconds.
  • 0.1 picosecond or more is advantageous in terms of maintenance and cost of the device, and is more suitable for commercial use.
  • the pulse width is 0.01 picoseconds (10 femtoseconds) or more and less than 100 picoseconds, preferably 0.01 picoseconds or more and less than 50 picoseconds, more preferably 0.01 picoseconds or more and less than 50 picoseconds. 01 picoseconds or more and less than 15 picoseconds can also be used.
  • a pulse width of 0.1 picoseconds or more and less than 100 picoseconds preferably a pulse width of 0.1 picoseconds or more and less than 50 picoseconds, more preferably a pulse width of 0.1 picoseconds or more. Seconds or more and less than 15 picoseconds can be used.
  • a pulse width of 0.01 picoseconds or more and less than 1 picoseconds (or less than 0.1 picoseconds) can also be used.
  • the wavelength of the ultrashort pulse laser for example, FHG (Fourth Harmonic Generation) of 266 nm in the ultraviolet region, THG (Third Harmonic Generation) of 355 nm, or a fundamental wavelength of 1064 nm in the infrared region can be used.
  • FHG Full Harmonic Generation
  • THG Tond Harmonic Generation
  • the irradiation beam diameter can be selected according to the desired processing design.
  • the shorter wavelength side is more advantageous, so 355 nm is more preferable among the above wavelengths.
  • 266 nm FHG Form Harmonic Generation
  • the pulse energy of the ultrashort pulse laser is, for example, 0.1 ⁇ J or more and 30 ⁇ J or less (up to about 60 ⁇ J) at 50 kHz.
  • the beam diameter of the ultrashort pulse laser is, for example, 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • the processing diameter can be, for example, 10 to 50 ⁇ m.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is less than 0.1 picoseconds, good processing can be performed at any wavelength of 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication. However, the initial investment and running costs of the equipment are large in terms of maintenance and costs.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is 0.1 picosecond or more and less than 1 picosecond, good processing can be performed at any wavelength of 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is 1 picosecond or more and less than 100 picoseconds, good processing can be performed at any wavelength of 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication.
  • Non-uniform processing stability occurs depending on the applied wavelength. For example, if 266 nm, which is on the short wavelength side, is used as the applicable wavelength, the reaction of SnO 2 and damage to the lower layer are likely to occur. Moreover, even at 355 nm, even a slight change in the irradiation conditions may cause the uniformity of the processing to be lost, and it is not possible to prevent the phenomenon in which the removal processing reaches the lower layer side of SnO 2 . (5) Processing for selectively removing SnO 2 and layers on the surface side of SnO 2 with a pulse width of 1 nanosecond or more of an ultrashort pulse laser cannot be performed.
  • the visibility of the processed pattern is affected.
  • spectacle lenses run the risk of interfering with the wearer's vision.
  • the lens when observing the formed decorative pattern, when the pattern is not clearly visible to the observer, except for predetermined lighting conditions, the lens may be recognized as a foreign object or a dirty lens instead of a clear lens. poor visibility is likely to occur.
  • the removal processing by the ultrashort pulse laser is uniform in processing diameter and processing depth, and for that purpose, a predetermined ultrashort pulse width is applied
  • a predetermined ultrashort pulse width is applied
  • the specific configuration of the laser light source unit 21 or the combination of the wavelength and the pulse width is not particularly limited.
  • the AOM system unit 22 cancels the beam output of the laser light immediately after the operation of the galvanometer scanner unit 24 starts and just before the operation ends, thereby suppressing excessive irradiation of the laser light that causes processing unevenness during laser processing. is.
  • the beam shaper unit 23 converts the Gaussian energy distribution of the laser light from the laser light source unit 21 into a top hat energy distribution, thereby enabling laser processing with laser light having a uniform energy distribution. is.
  • a top-hat distribution is applied, a plurality of beam spots are partially overlapped to form a processing region of a predetermined area, and stable and uniform processing can be performed. This is because local excessive energy addition due to superimposition of spots is suppressed.
  • the galvanometer scanner unit 24 moves the irradiation position of the laser light from the laser light source unit 21 two-dimensionally or three-dimensionally, thereby enabling scanning with the laser light, thereby marking a desired pattern by laser processing. It is intended to It should be noted that the scannable range of laser light by the galvanometer scanner unit 24 (that is, the maximum laser processing area) 4 is set to a size and shape that can completely encompass the outer shape of the spectacle lens to be processed. (See Figure 1).
  • the optical system 25 is configured by combining an optical lens such as a telecentric lens and a mirror, and guides the laser light from the laser light source unit 21 so that the laser light reaches the processed part of the spectacle lens. be.
  • the laser processing apparatus used in the present embodiment focuses the irradiation of the AR film 13 with laser light (that is, an ultrashort pulse laser) through the optical system 25 or the like on the AR film.
  • laser light that is, an ultrashort pulse laser
  • FIG. 4B it is preferably configured so that it can be performed with a defocus setting on the AR film.
  • the defocus setting means that the focal position F of the laser beam to be irradiated is set to be a predetermined defocus distance away from the surface of the AR film 13, which is the portion to be processed by the laser beam.
  • the beam energy can be dispersed on the surface of the AR film 13 irradiated with the laser beam, thereby realizing uniform film removal processing. becomes. This is particularly useful when the surface shape of the AR film 13 can cause variations in the height of the irradiated portion.
  • it is not necessarily limited to the defocus setting.
  • Laser light irradiation may be performed in the focus setting in which the focus position F matches the surface of the AR film 13, or in the infocus setting in which the focus position F is separated in the opposite direction to the defocus setting.
  • the spectacle lens to be processed is set in the laser processing device.
  • the spectacle lens is set so that the optical surface of the spectacle lens, more specifically, the surface of the AR film 13 on the optical surface is the surface to be processed.
  • the optical surface to be processed may be either the object-side surface or the eyeball-side surface.
  • the eyeball-side surface is the surface to be processed.
  • the laser light source unit 21 and the galvanometer scanner unit 24 are operated based on pattern data prepared in advance (that is, pattern data with a predetermined resolution created based on the decorative pattern to be obtained). make it work.
  • pattern data prepared in advance that is, pattern data with a predetermined resolution created based on the decorative pattern to be obtained.
  • the processing area of the surface to be processed of the spectacle lens is irradiated with the ultrashort pulse laser in a pattern shape corresponding to the decorative pattern.
  • the ultrashort pulse laser When the ultrashort pulse laser is irradiated, the ultrashort pulse laser penetrates the water-repellent film 14 on the surface to be processed of the spectacle lens and reaches the AR film 13 on the surface to be processed. When the ultrashort pulse laser reaches the AR film 13, non-heating processing is performed because of the ultrashort pulse laser.
  • the ablation processing of this mode is a technology that enables processing with high energy efficiency due to the multiphoton absorption phenomenon of an ultrashort pulse laser. More specifically, it is a removal process performed by minimizing the influence of heat around the processed area and instantaneously melting, evaporating, or sublimating and scattering the irradiated area of the laser beam. According to such non-heating processing, highly reactive materials are instantly removed from the irradiated area, so there is little thermal effect on the area around the processed area, and processing that suppresses thermal damage (deformation due to heat, etc.) can be achieved. It can be carried out.
  • Laser processing according to the present embodiment can be ablation processing as non-thermal processing.
  • Such processing can give rise to multiphoton absorption processes (eg, two-photon absorption processes) that lead to the multiphoton absorption phenomena listed above. Therefore, multiphoton absorption enables efficient and good processing even for materials that are relatively transparent (high transmittance) to lasers.
  • the range of applicable laser wavelengths is wide, and 266 nm (FHG), 355 nm (THG), 532 nm (SHG), and 1064 nm can be used as the wavelength of the laser light.
  • a particularly significant effect is obtained when the ultraviolet region (266 nm, 355 nm) or the infrared region (1064 nm) is used as the applied wavelength of irradiation.
  • the pulse width can be less than 100 picoseconds, preferably less than 50 picoseconds, and more preferably less than 1 picosecond (that is, femtoseconds). There is no particular lower limit, but 10 femtoseconds or more is desirable.
  • the AR film 13 penetrates SiO 2 in the multilayer structure constituting the AR film 13 and reaches the reaction layer (SnO 2 in this embodiment).
  • the SiO 2 layer 13a which is the outermost layer, is removed as the reaction layer instantaneously reacts and sublimes/evaporates.
  • the corresponding portion of the water-repellent film 14 is also removed.
  • the ZrO 2 layer 13c located on the lower layer side of the SnO 2 layer 13b is exposed at the irradiated portion.
  • the irradiated portion where the predetermined laser irradiation is performed is partially processed within the surface to be processed.
  • FIG. 5A is an explanatory diagram showing an example configuration of the main part of the spectacle lens according to this embodiment.
  • FIG. 5B shows a specific example of observation results of the cross section of the AR film 13 with an electron microscope.
  • the example of the figure is an enlarged display of parts A and B in FIG.
  • the spectacle lens according to this embodiment is constructed by laminating an HC film 12, an AR film 13, and a water-repellent film 14 in this order on the optical surface of a lens substrate 11.
  • the AR film 13 has a multilayer structure in which a SiO 2 layer 13a as a low refractive index layer and a SnO 2 layer 13b and a ZrO 2 layer 13c as high refractive index layers are laminated.
  • a predetermined layer including the SiO 2 layer 13a as the outermost layer specifically, the SnO 2 layer as the reaction layer and the layer on the surface side thereof
  • Layer 13c is configured to be exposed.
  • the spectacle lens according to the present embodiment includes the unprocessed region 15 in which the optical surface of the lens substrate 11 is covered with the HC film 12, the AR film 13, and the water-repellent film 14, and the SiO film as the outermost layer of the AR film 13.
  • 2 layer 13a, SnO 2 layer 13b and water-repellent film 14, which are the layers immediately below it, are partially removed to expose the high refractive index layer ZrO 2 layer 13cb (patterned region). ) 16.
  • the non-processing region 15 and the laser scanning region 16 are covered with a SiO 2 layer 13a on one side and a ZrO 2 layer 13c on the other side (or when the reaction layer partially remains, the reaction layer which is a high refractive layer). Since it is exposed, the light reflectance differs depending on the presence or absence of the SiO 2 layer 13a. Therefore, the pattern shape formed by the laser scanning area 16 can be visually recognized when the spectacle lens is irradiated with the illumination light and viewed from the outside. That is, if the laser scan area 16 is formed in a pattern shape corresponding to the decorative pattern, the decorative pattern can be visually recognized. In this manner, the removed portion of the predetermined layer of the AR film 13 can be used as one constituting the decorative pattern.
  • a laser scanning region 16 forming a decorative pattern is formed by removing the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13, and the SnO 2 layer 13b, which is the layer immediately below it. That is, the removal target is stopped at a predetermined layer containing SnO 2 which is the reaction layer. Therefore, it is possible to suppress peeling due to the formation of the laser scan area 16 for each layer of the multilayer structure that constitutes the AR film 13 .
  • the removal of the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13, can be realized by non-heating processing by irradiation with an ultrashort pulse laser, as described above. According to such non-heating processing, there is little thermal influence on the periphery of the processed portion, and it is possible to suppress the occurrence of thermal damage. Moreover, by applying the predetermined pulse width, stable processing can be performed while suppressing damage to the layers below the reaction layer. As a result, the ZrO 2 layer 13c as a high refractive index layer is exposed, but damage to the exposed surface of the ZrO 2 layer 13c can be suppressed.
  • the ZrO 2 layer 13c can also suppress reduction in film thickness due to removal processing of the SiO 2 layer 13a.
  • the film thicknesses of the SiO 2 layer 13a, the ZrO 2 layer 13c, and the like can be specified by acquiring an electron microscope image of the cross section of the AR film 13 and analyzing the acquired image.
  • FIG. 5B shows a specific example of observation results of the cross section of the AR film 13 with an electron microscope.
  • the example of the figure is an enlarged display of parts A and B in FIG.
  • the SiO 2 layer 13a, the SnO 2 layer 13b, and the ZrO 2 layer 13c are laminated, but the SnO 2 layer 13b is thin (for example, about 5 nm), so it is difficult to recognize in the image. It's becoming On the other hand, in the laser scanning region 16, the SnO 2 layer 13b and the SiO 2 on the surface side thereof are removed, thereby exposing the ZrO 2 layer 13c.
  • the thickness t1 of the portion of the laser scanning region 16 and the thickness of the non-processing region 15 are It can be seen that there is no significant difference between the thickness t2 of the portion and the thickness t2 of the portion. More specifically, the ratio t1/t2 between the thickness t1 of the removed portion and the thickness t2 of the non-removed portion is, for example, in the range of 0.90 or more and 1.00 or less, preferably 0.95 or more and 1.00. 00 or less, more preferably 0.99 or more and 1.00 or less.
  • the ZrO 2 layer 13c which is the exposed high refractive index layer, does not decrease in film thickness due to removal processing, or even if it does, it is suppressed so that the amount of decrease is extremely small. ing.
  • the laser scanning region 16 is formed by non-heating processing by irradiation with an ultrashort pulse laser, and no damage occurs in the underlying ZrO 2 layer 13c.
  • the thickness ratio t1/t2 of the exposed ZrO 2 layer 13c is within the above range, the laser scanning region 16 is formed without damaging the ZrO 2 layer 13c. This means that the formation of the laser scan area 16 can be presumed to have been performed using non-heating processing using an ultrashort pulse laser.
  • the reason why the ZrO 2 layer 13 is not damaged is that the reactivity of the reaction layer (here, the SnO 2 layer) with the ultrashort pulse laser is higher than that of ZrO 2 . As will be described later, this difference in reactivity is significantly obtained by applying an ultrashort pulse laser with a predetermined pulse width.
  • the thickness of the ZrO 2 layer is 10 times or more, preferably 15 times or more, that of the SnO 2 layer, even if the ZrO 2 layer is slightly reduced after the SnO 2 layer disappears, , There is no risk of film peeling and no impact on the visibility of decorative patterns.
  • the melting point of SnO 2 is about 1127° C., which is lower than that of SiO 2 on the upper layer side and that of ZrO 2 on the lower layer side.
  • the spectacle lens configured as described above, even if the decorative pattern is marked, it is possible to suppress the peeling of each layer constituting the AR film 13 of the multilayer structure, and the exposed ZrO 2 layer 13c will not be damaged. Therefore, even when applied to spectacle lens products, it is possible to mark the spectacle lens with a decorative pattern without deteriorating the quality of the product.
  • the spectacle lens is provided with an antireflection film on both sides, if the reflectance of the object-side surface and the eyeball-side surface are different for light of a predetermined range of wavelengths, this can be corrected.
  • Laser processing is performed by applying a wavelength included in the predetermined range from the optical surface with the lower reflectance.
  • non-heated processing is performed by irradiating an ultrashort pulse laser to partially remove the reaction layer (SnO 2 in the above embodiment) of the AR film 13 and the layer on the surface side thereof, By exposing the ZrO 2 layer 13c, which is a high refractive index layer, a decorative pattern is marked on the spectacle lens.
  • the removal processing is performed by the effect of the pulse width rather than the absorption energy effect of the laser beam, only a predetermined layer including the SiO 2 layer 13a which is the outermost layer of the AR film 13 is selectively removed. In addition, uniform removal becomes possible.
  • a predetermined layer including the outermost layer of the AR film 13 is removed using an ultrashort pulse laser to expose the high refractive index layer, thereby forming a spectacle lens. Mark the decoration pattern. Therefore, according to this embodiment, peeling of each layer of the AR film 13 can be suppressed, and the exposed ZrO 2 layer 13c is not damaged. Therefore, it is applied to eyeglass lens products. Even in such a case, it becomes possible to mark the spectacle lens with a decorative pattern without deteriorating the quality of the product.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser may exceed 0 femtoseconds, preferably 0.01 picoseconds (10 femtoseconds) or more and less than 100 picoseconds.
  • Use of 1 picosecond or more (including 1 picosecond or more) is advantageous in terms of maintenance and cost of the device, and is more suitable for commercial use.
  • the laser irradiation conditions have the following advantages depending on the pulse width. (1) When the pulse width of the ultra-short pulse laser is less than 0.1 picoseconds Good processing can be performed at both ultraviolet and infrared wavelengths. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication. However, the production load is large in terms of equipment maintenance and cost.
  • the AR film 13 in the non-heating processing by irradiation with an ultrashort pulse laser, the AR film 13 is irradiated with an ultrashort pulse laser in a defocus setting.
  • the beam energy can be dispersed on the surface of the AR film 13 irradiated with the laser beam, thereby realizing uniform film removal processing. becomes. This is particularly useful when the surface shape of the AR film 13 can cause variations in the height of the irradiated portion.
  • the high refractive index layer that will be exposed by removing SnO 2 and the layer on the surface side from SnO 2 Damage to the exposed surface of the ZrO 2 layer 13c can be suppressed.
  • the ratio t1/t2 between the thickness t1 of the ZrO 2 layer 13c at the removed portion and the thickness t2 of the ZrO 2 layer 13c at the unremoved portion such as the SiO 2 layer 13a is, for example, 0.90 or more.
  • the ZrO 2 layer 13c is not reduced in film thickness due to the removal process, or even if it is reduced, the amount of reduction is suppressed to be extremely small. Therefore, when it is applied to spectacle lens products, it is very preferable for marking a decorative pattern on the spectacle lens without degrading the quality of the product.
  • a method for manufacturing a spectacle lens wherein one surface of the spectacle lens provided with antireflection films different from each other on the object side surface and the eyeball side surface is subjected to marking for desired processing by irradiating laser on one surface of the spectacle lens. and
  • the spectral reflectance characteristics of the antireflection film provided on either the object-side surface or the eyeball-side surface are obtained, and the ultraviolet region (for example, within the range of 200 to 400 nm) or the infrared region (in the range of 800 to 1100 nm) In), the wavelength within the range where the reflectance is relatively low is determined as the laser wavelength to be applied to laser processing,
  • a spectacle lens manufacturing method can be provided in which laser processing is performed by applying the laser wavelength.
  • a method for manufacturing a spectacle lens wherein one surface of the spectacle lens provided with antireflection films different from each other on the object side surface and the eyeball side surface is subjected to marking for desired processing by irradiating laser on one surface of the spectacle lens.
  • the spectral reflectance characteristics of the antireflection films provided on the object-side surface and the eyeball-side surface are obtained, respectively, in the ultraviolet region (for example, within the range of 200 to 400 nm) or the infrared region (within the range of 800 to 1100 nm)
  • the surface with relatively low reflectance is determined as the surface to be laser processed
  • the laser wavelength applied to laser processing is within the range of the ultraviolet region or the infrared region, whichever region has the lower reflectance, on the determined surface. It can also be used as a method for manufacturing a spectacle lens.
  • non-heating processing using an ultrashort pulse laser may be used to perform some patterning on the optical surface of an optical member, and can be applied to markings other than decorative patterns in exactly the same way.
  • the outermost layer of the AR film 13 is the SiO 2 layer 13a as a low refractive index layer, and the layer below the SiO 2 layer 13a is the SnO 2 layer 13b as a reaction layer as a high refractive index layer. Furthermore, there is a ZrO 2 layer 13c as a high refractive index layer on the lower layer side . Although the case where the ZrO 2 layer 13c as the layer is exposed is taken as an example, the present invention is not limited to this.
  • the AR film 13 may be formed by stacking layers other than the SiO2 layer 13a, the SnO2 layer 13b, and the ZrO2 layer 13c.
  • the outermost layer of the AR film 13 may be a layer other than the SiO 2 layer 13a as long as it is a low refractive index layer.
  • the high refractive index layer may be a layer other than the SnO2 layer 13b or the ZrO2 layer 13c.
  • the SnO 2 layer 13b as the reaction layer may be replaced with a conductive thin ITO layer instead of the SnO 2 layer 13b.
  • the SnO 2 layer, which is the reaction layer included in the AR film 13, and the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer immediately above it, are removed by non-heating processing using an ultrashort pulse laser.
  • the case is given as an example.
  • non-heating processing using an ultrashort pulse laser can be implemented so as to remove predetermined multiple layers including the outermost layer. Even when removing multiple layers including the outermost layer, non-heating processing using an ultrashort pulse laser can suppress damage to the exposed surface of the layer that will be exposed by removal. It is also possible to suppress the decrease in the film thickness associated with this.
  • the ratio t1/t2 between the thickness t1 of the removed portion and the thickness t2 of the non-removed portion for the layer immediately below the removed layer is, for example, , within the range of 0.90 to 1.00, preferably within the range of 0.95 to 1.00, and more preferably within the range of 0.99 to 1.00.
  • the spectacle lens before laser processing in this embodiment is provided with an antireflection film on each of the object-side and eyeball-side surfaces.
  • the reflectance for the applicable wavelength of the laser used is higher than that of the antireflection film provided on the other surface (for example, the surface on the object side). and has a relatively low reflectance (hereinafter referred to as a first antireflection film).
  • the first antireflection film is also called antireflection film (1).
  • the applicable wavelength of laser irradiation is in the ultraviolet region, so the antireflection film described in Japanese Patent No. 6530765 can be applied as the first antireflection film.
  • it may be an antireflection film used on the rear surface (surface on the eyeball side) described in Japanese Patent No. 5966011. These are films whose reflectance is lower in the ultraviolet range than in other wavelength ranges.
  • the reflectance characteristics of the antireflection film (first antireflection film) on the surface on which laser irradiation is performed (for example, the surface on the eyeball side)
  • the reflectance is 10 at the applied wavelength set for laser irradiation. % or less, more preferably 5% or less.
  • the reflectance characteristic of the antireflection film (second antireflection film) provided on the other surface may be 20% or more, preferably 25% or more, with respect to the set applicable wavelength. may be
  • the reflectance characteristics of the antireflection film (first antireflection film) on the surface on which laser irradiation is performed are in the range of 355 ⁇ 10 nm when the applied wavelength is 355 nm.
  • the reflectance is preferably 10% or less, more preferably 5% or less.
  • the reflectance is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, with respect to wavelengths in the range of 266 ⁇ 10 nm.
  • the average reflectance in the wavelength range of 355 ⁇ 10 nm can be 10% or less, or the average reflectance in the wavelength range of 266 ⁇ 10% can be 10% or less.
  • a material having a reflectance of 10% or less, more preferably 8% or less for light of any wavelength within the wavelength range of 330 to 400 nm can be used.
  • the average reflectance in the wavelength range of 250 to 300 nm is 10% or less, preferably 8% or less, or the reflectance is 10% or less for light of any wavelength within the wavelength range of 250 to 300 nm. , more preferably 8% or less.
  • the first antireflection film can have a reflectance of 15% or less, preferably 10% or less, in the entire visible range of wavelengths from 350 to 700 nm.
  • the reflectance can be 10% or less in the entire visible range of wavelengths from 350 to 700 nm.
  • the spectacle lens before laser processing in this embodiment is provided with an antireflection film on each of the object-side and eyeball-side surfaces.
  • the antireflection film for example, the first antireflection film
  • the one described in WO2020/067409 can be used. This is a film with low reflectance in the infrared region, and is therefore useful when irradiating using the applicable wavelengths in the ultraviolet region.
  • the reflectance characteristics of the antireflection film (first antireflection film) on the surface on which laser irradiation is performed are as follows: , the reflectance is preferably 30% or less, more preferably 25% or less.
  • the reflectance characteristic of the antireflection film (second antireflection film) provided on the other surface may be 40% or more, preferably 50% or more, with respect to the set applicable wavelength.
  • the second antireflection film is also called antireflection film (2).
  • the reflectance characteristics of the antireflection film (first antireflection film) on the surface on which laser irradiation is performed are in the range of 1064 ⁇ 10 nm when the applied wavelength is 1064 nm.
  • the reflectance is preferably 30% or less, more preferably 25% or less.
  • the antireflection film provided on one surface (for example, the eyeball side) of the spectacle lens used in this aspect are as follows.
  • the average reflectance in the wavelength range of 1064 ⁇ 10 nm can be 25% or less.
  • one having a reflectance of 30% or less, more preferably 25% or less, can be used for light of any wavelength within the wavelength range of 1000 to 1100 nm.
  • the spectacle lens 1 when the spectacle lens 1 is viewed from a third party facing the front of the wearer of the spectacle lens 1, the spectacle lens appears blue.
  • the laser-processed portion looks like the color of the layer exposed by laser processing (in this specific example, yellow or gold, which is the color of the high refractive index layer).
  • the decorative pattern 3 is visually recognized with beauty in the spectacle lens 1 fitted in the frame, and the identification effect of the lens and , a design effect can be obtained.
  • the mode of good contrast when the decorative pattern 3 is viewed is laser processing for each multilayer film on the object side surface of the spectacle lens, and laser processing for each multilayer film on the eyeball side surface. is also feasible.
  • the decorative pattern entering the wearer's field of view will not interfere with the field of view. That is, the spectacle lens provided with the decorative pattern 3 of this aspect does not hinder the wearer's clear vision.
  • the decorative pattern 3 can be clearly recognized when the wearer's lens is at a predetermined relative position (or angle) with respect to indoor illumination light or sunlight.
  • a predetermined relative position or angle
  • the lenses carry desired characters, symbols, or patterns, or have desired designs without affecting the function of the spectacles. It can be applied to lenses.
  • the decorative pattern 3 of this aspect is a process that can be visually recognized from both the processed surface side and the rear surface side of the lens.
  • the technical idea of the present invention is that a spectacle lens that is an optical member manufactured by the method for manufacturing an optical member according to this embodiment, or a spectacle lens that is an optical member according to this embodiment is fitted into a frame. It also extends to eyeglasses.
  • Each multilayer film on each surface of the spectacle lens includes one or more high refractive index layers and one or more low refractive index layers, and the total number of layers is 10 layers or less (preferably 9 layers or less, more preferably 8 layers) below).
  • FIG. 6 shows a spectacle lens as a specific example, and shows the surface of the processing region when the sample is provided with an antireflection film on the object side and the eyeball side, respectively, when processed by a pulse laser.
  • FIG. 6A shows an antireflection film (2) provided on the object-side surface of the spectacle lens of this specific example, processed using a pulsed laser beam having a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico. It is a photograph showing the results. The right figure is an enlarged view.
  • FIG. 6B shows the result of processing using a pulsed laser beam having a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico, with the antireflection film (1) provided on the eyeball side surface of the spectacle lens of one specific example. is a photograph showing The right figure is an enlarged view.
  • the light-colored areas are the areas corresponding to the laser scan areas 16, and the dark-colored areas indicate the unprocessed areas.
  • FIG. 6C shows the reflection characteristics ( simulation data).
  • the antireflection film on the eyeball side is antireflection film (1) (CCV in the figure, symbol 1)
  • the antireflection film on the object side is antireflection film (2) (CVX in the figure, symbol 2).
  • the laser is moved in the horizontal direction by raster scanning, and finally the entire surface is processed.
  • FIG. 6B processing from the eyeball side surface provided with the antireflection film (1)
  • FIG. 6A processing from the object side surface provided with the antireflection film (2)
  • the laser Good surface properties after processing That is, the removal processing by laser irradiation is uniformly performed, and the smoothness of the exposed surface is high. Also, no damage to the lower layers is seen.
  • the reflectance of the antireflection film (1) for the applicable wavelength of laser processing is lower than the reflectance of the antireflection film (2).
  • the difference between the reflectance of the antireflection film (1) and the reflectance of the antireflection film (2) is 20% or more, and the former is lower.
  • the surface (object side) on which the antireflection film (2) is formed has a reflectance of more than 25%
  • the surface (eyeball side) on which the antireflection film (1) is formed has a reflectance of more than 25%. Since the reflectance is 5% or less, it is very advantageous for processing.
  • processing from the surface on the eyeball side does not require an excessive increase in output compared to processing from the surface on the object side, and sublimation or evaporation of the reaction layer can be efficiently caused under stable conditions. As a result, it means that the removal processing was performed uniformly without damaging the lower layer side.
  • FIG. 7 shows a specific range of laser power for obtaining stable processing conditions when antireflection film (1) and antireflection film (2) are processed in the same manner as in FIG. This is the result.
  • pulsed laser light with a wavelength of 355 nm and a pulse width of 10 pico or more and less than 20 pico was used.
  • the laser power at which stable processing conditions are obtained is indicated by hatching (part 1) (dots), and the laser power that provides the optimum conditions among them is indicated by hatching (part 2) (diagonal lines).
  • hatching part 1 (dots)
  • hatching part 2 (diagonal lines).
  • optical refers to conditions under which a stable processing state can be obtained even under the influence of slight fluctuations in laser output due to environmental factors such as temperature changes.
  • the stable processing area is four times or more wider than when the antireflection film (2) is used, confirming that it is suitable for mass production. rice field.
  • the object-side surface may also be processed.
  • the antireflection film (1) and the antireflection film (2) having the spectral reflection characteristics shown in FIG. It may be advantageous to work from the body side where (1) is formed.
  • lens substrate optical substrate
  • AR film AR film 13a SiO 2 layer (low refractive index layer), 13b... SnO 2 layer (high refractive index layer), 13c... ZrO 2 layer (high refractive index layer), 14... water-repellent film, 15... unprocessed area, 16... laser scan area (patterned area ), 21... Laser light source part, 22... AOM system part, 23... Beam shaper part, 24... Galvano scanner part, 25...

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Abstract

物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法であって、使用するレーザの適用波長を決定する工程と、物体側の面と眼球側の面のうち、適用波長に対する反射率が相対的に低い反射防止膜が設けられる面を選択し、選択された面に対して、適用波長を適用してレーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法及びその関連技術を提供する。

Description

眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズ、及び眼鏡
　本発明は、眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズ、及び眼鏡に関する。
　特許文献１には、プラスチック基板上に低屈折率層と高屈折率層を交互に積層して７層からなる反射防止膜において、設計主波長λ０を４８０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲に持ち、最も基材側にある層を第１層として順に外側へ向けて層番号をつけて奇数番号層をＳｉＯ２層とし、偶数番号層をＴｉＯ２層とした場合、１層目から３層目までの総膜厚を１８０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の範囲に設定し、且つそのＳｉＯ２層とＴｉＯ２層の物理膜厚比が所定の関係にあり、各層の光学膜厚が所定の関係にある反射防止膜を有することを特徴とする眼鏡用プラスチックレンズが開示されている。
特許３９８８５０４号
　眼鏡レンズの種類や処方に関するマークや文字を、レンズ表面に刻印等の手段で施すことが知られている。これらは、装用者の視界の妨げにならないマーキング方法によって形成される。
　一方、上記目的以外にも、所定の文字、記号、図柄などのマークをレンズ上に施すことにより、デザイン的効果や、識別効果、ブランド戦略的効果などを付与することが考えられる。
　眼鏡レンズに、文字など所望のパターン形成する方法として、レーザ光の照射により、レンズ表面に形成された膜の一部を除去する加工を行うことが考えられる。
　尚、市販の眼鏡レンズの多くは、その表面に、可視光に対する反射防止機能を備えている（例えば特許文献１）。反射防止膜は、主として、眼鏡の装用者が鮮明な視野を得られるように配慮し、設計されたものである。
　一方、眼鏡レンズの反射防止膜は、可視光の波長域外となる、短波長側（たとえば波長４００ｎｍ以下の紫外域）、あるいは長波長側（波長８００ｎｍ以上の赤外域）に対する反射防止機能を必ずしも備えず、１０％を超える反射率を有するレンズが多い。
　一方、レーザを用いた加工を行う際、加工用レーザの波長として、紫外、又は赤外域を使用すると、除去加工を行う目標物質に対して、照射によるエネルギーが十分に到達せず、精緻な加工が困難となる不都合が生じやすい。
　これに対して、仮にレーザの出力を上げると、加工が不均一になったり、除去加工の対象となる膜より下層側にダメージが生じ、ダメージ部分が装用者の視界の妨げになったり、その部分が膜剥がれを誘発するなどの課題があることが見いだされた。
　本開示は、物体側の面と眼球側の面の両方に反射防止膜が設けられている眼鏡レンズに対し、効率良く、安定した条件で精緻な加工を行える技術を提供することを目的とする。
　また、本開示は、物体側の面と眼球側の面の両方に反射防止膜が設けられ、しかも加飾が施された眼鏡レンズを提供することを目的とする。
　本発明の第１の態様は、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法であって、
　使用するレーザの適用波長を決定する工程と、
　前記物体側の面と前記眼球側の面のうち、前記適用波長に対する反射率が相対的に低い反射防止膜が設けられる面を選択し、
　前記選択された面に対して、前記適用波長を適用してレーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第２の態様は、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法において、
　前記物体側の面と眼球側の面のうち、所定の波長域の光に対する反射率が相対的に低い面を選択し、選択した前記面に対して、前記所定の波長域内の波長をもつレーザ光を適用して、レーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第３の態様は、
　前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長は、２００～４００ｎｍの範囲内、又は、８００～１１００ｎｍの範囲内である、第１又は第２の態様に記載の眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第４の態様は、
　前記選択された面の反射防止膜は、前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長に対して、１０％以下の反射率をもつ、第１～第３の態様のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第５の態様は、
　前記選択された面の反射防止膜は、他方の面に対し、前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長に対する反射率が１０％以上低い、第１～第４の態様のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第６の態様は、
　レンズ基材の光学面を被覆するように形成された、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造の反射防止膜に対して、超短パルスレーザの照射を行い、前記多層構造の最表層を含む所定の層を部分的に除去することにより、所望のレーザ加工を施す眼鏡レンズの製造方法であって、
　前記選択された面の反射防止膜は、前記超短パルスレーザの照射に対して、前記多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層を含み、前記照射によって、前記反応層が少なくとも部分的に除去する除去工程を行うことによって、可視光により視認しうる前記レーザ加工が施される、第１～第５のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第７の態様は、
　前記超短パルスレーザは、パルス幅が１０フェムト秒以上１００ピコ秒未満である、第７の態様に記載の眼鏡レンズの製造方法である。
　本発明の第８の態様は、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザマーキングが施された眼鏡レンズであって、
　前記一方の面に設けられた反射防止膜は、少なくとも波長２００～４００ｎｍの光に対して、他方の面に設けられた反射防止膜よりも低い反射率を有する、眼鏡レンズである。
　本発明の第９の態様は、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザマーキングが施された眼鏡レンズであって、
　前記一方の面に設けられた反射防止膜は、少なくとも波長８００～１１００ｎｍの光に対して、他方の面に設けられた反射防止膜よりも低い反射率を有する、眼鏡レンズである。
　本発明の第１０の態様は、
　前記眼鏡レンズは、
　光学面を有するレンズ基材と、
　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが施されている、第８又は第９の態様に記載の眼鏡レンズである。
　本発明の第１１の態様は、第１～第７の態様のいずれかに記載の眼鏡レンズの製造方法により製造された眼鏡レンズ、又は、第８～第１０の態様のいずれかに記載の眼鏡レンズがフレームに嵌め入れられている眼鏡である。
　本発明によれば、物体側の面と眼球側の面の両方に反射防止膜が設けられている眼鏡レンズに対して、効率良く、安定した条件で精緻な加工を行える。
　また、本発明によれば、物体側の面と眼球側の面の両方に反射防止膜が設けられ、しかもレーザ加工による加飾が行われた眼鏡レンズを提供できる。
図１は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す平面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。 図３は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズにおける薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。 図４Ａは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図であり、レーザ光源部と、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ　Ｏｐｔｉｃｓ　Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）システム部と、ビームシェイパー部と、ガルバノスキャナ部と、光学系とを備え、これらの各部を経てレーザ光をＡＲ膜に対して照射するように構成されている様子を示す図である。 図４Ｂは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図であり、光学系等を経て行うＡＲ膜へのレーザ光（すなわち、超短パルスレーザ）の照射を、デフォーカス設定で行い得るように構成されている様子を示す図である。 図５Ａは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図であり、本実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。 図５Ｂは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図であり、ＡＲ膜の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。 図６Ａは、一具体例の眼鏡レンズの物体側の面に対し、波長３５５ｎｍ、パルス幅を１０ピコ以上２０ピコ未満としたパルスレーザ光を用いて加工した結果を示す写真である。 図６Ｂは、一具体例の眼鏡レンズの眼球側の面に対し、波長３５５ｎｍ、パルス幅を１０ピコ以上２０ピコ未満としたパルスレーザ光を用いて加工した結果を示す写真である。 図６Ｃは、縦軸を反射率（％）、横軸を波長（ｎｍ）としたときの、一具体例の眼鏡レンズの反射防止膜（１）（後述）と反射防止膜（２）（後述）の反射特性（シミュレーションデータ）である。 図７は、反射防止膜（１）及び反射防止膜（２）に対して、図６と同様の加工を行ったときに、安定した加工条件の得られる具体的なレーザパワーの範囲を求めた結果である。
＜本実施形態の主旨＞
　以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
　本実施形態に係る眼鏡レンズは、光学面として、物体側の面と眼球側の面とを有する。
　「物体側の面」は、眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に物体側に位置する表面である。
　「眼球側の面」は、その反対、すなわち眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に眼球側に位置する表面である。
　物体側の面は凸面であり、眼球側の面は凹面であること、つまり眼鏡レンズはメニスカスレンズであることが一般的である。
　これは、眼鏡フレームの形状にあわせて周縁をカットする玉形加工後の眼鏡レンズ（加工後レンズ）においても同様である。
　つまり、本実施形態では、物体側、及び眼球側の両方の面に反射防止膜が設けられた眼鏡レンズであって、かつ物体側の面と眼球側の面とで所定範囲の波長の光において反射率が相違する反射防止膜が形成されているとき、この相違を利用する。
　そして、適用するレーザの波長に対して反射率が低い方の光学面を選択し、該光学面側からレーザ加工を行う。
 
　例えば、紫外領域の波長を適用してレーザ加工を行う場合には、紫外波長に対する反射率が相対的に低い反射防止膜が形成された面に対して、加工を行う。
　又は、物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキング（又はパターニング、本願ではまとめてマーキングという）を行う、眼鏡レンズの製造方法において、前記物体側の面と眼球側の面のうち、所定の波長域の光に対する反射率が相対的に低い面を選択し、選択した前記面に対して、前記所定域内の波長をもつレーザ光を適用して、レーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法としてもよい。
　レーザの照射に適用する波長の範囲には特に限定は無いが、例えば波長２００～４００ｎｍ範囲にある紫外域の波長とすることができる。具体的には、後述する３５５ｎｍ（ＴＨＧ）であってもよく、２６６ｎｍ（ＦＨＧ）であってもよい。
　また、上記波長範囲内のいずれかのレーザ光に対する、レンズ面の反射率は、該レンズ面に形成された反射防止膜の光学物性によって異なるものとなる。例えば、上記のように、両面のそれぞれに異なる反射防止膜を形成したことによって、レーザ照射に適用する波長に対し、一方の面（例えば物体側の面）の反射率から他方の面（例えば眼球側の面）の面の反射率を引いた値が１０％以上（或いは１５％以上、２０％以上）となるようにしてもよい。
　尚、反射防止膜の有する、波長による反射率特性は、反射防止膜を構成する多層構成の個々の層（後述する高屈折率層、低屈折率層）の組成や膜厚を変化させて調整することができる。
　例えば、レーザ照射に用いる適用波長が紫外域であって、該波長に対する眼球側の面の反射率が、物体側のそれに比べて相対的に低い場合において、眼球側の面にレーザ加工を施すことができる。レーザ加工は、アブレーションを利用した、最表面からの除去加工であってもよく、詳細は後述する。
　また、本実施形態に係る眼鏡レンズは、少なくとも波長３３０～４００ｎｍの光の反射率が、眼鏡レンズにおける物体側の面に比べて眼球側の面の方が低い眼鏡レンズであって、眼球側の面の側に、上記波長域範囲内にある波長を用いたレーザによって、マーキングが行われている眼鏡レンズである。
　本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法を適用することにより、物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられ、所定波長の光に対する反射率が相対的に低い方の面に、レーザマーキングによる加飾が行われた眼鏡レンズを提供できる。
　又は、赤外領域の波長を適用してレーザ加工を行う場合には、赤外波長に対する反射率が相対的に低い反射防止膜が形成された面に対して、加工を行う。例えば、レーザの照射に適用する波長として例えば８００～１１００ｎｍ範囲にある赤外域の波長とすることができる。具体的には、１０６４ｎｍレーザを使用してもよい。
　少なくとも波長８００～１１００ｎｍの光の反射率が、眼鏡レンズにおける物体側の面に比べて眼球側の面の方が低い眼鏡レンズであって、眼球側の面の側に、上記波長域範囲内にある波長を用いたレーザによって、マーキングが行われている眼鏡レンズとすることができる。
＜本実施形態の一具体例＞
　図１は、本実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す平面図である。
　本実施形態においては、平面視円形状（例えば、外径φ６０～８０ｍｍ）の眼鏡レンズ１に対して、装用者が装用する眼鏡フレームのフレーム形状２に合わせてレンズ外形を削る玉形加工（フレームカット加工）を行う。
　本実施形態においては、玉形加工に先立ち、フレーム形状の輪郭の内側に相当する領域内に、マーキングを行っても良い。
　本実施形態では、フレームカット後のレンズ領域内に位置するようにロゴやハウスマーク等、文字、記号、図柄などを表す加飾パターン３の光学面上へのマーキングを行う場合を例示する。
　マーキングは、例えば、デジタルデータに基づいて照射位置を精緻に制御可能なレーザ照射加工を利用して行うことが考えられるが、マーキングに起因してレンズ品質や機能の低下を招いてしまうことは好ましくない。
　そこで、本実施形態においては、加飾パターン３のマーキングを、以下に説明する加工手順によって行う。
（１）眼鏡レンズの製造方法
　ここで、加飾パターンのマーキングを含む眼鏡レンズの加工手順、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順について、具体的に説明する。
　図２は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。
　眼鏡レンズの製造にあたっては、まず、光学基材であるレンズ基材を用意し、そのレンズ基材に対して眼鏡装用者の処方情報に応じた研磨処理を行って所定の光学性能をもつレンズ形状を得るとともに、必要に応じて染色処理を行う（ステップ１０１、以下ステップを「Ｓ」と略す。）。
　レンズ基材としては、例えば、屈折率（ｎＤ）１．５０～１．７４程度の樹脂材料が用いられる。
　具体的には、樹脂材料として、例えば、アリルジグリコールカーボネート、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート、チオウレタン系樹脂及びエピスルフィド樹脂が例示される。
　ただし、これらの樹脂材料ではなく、所望の屈折度が得られる他の樹脂材料によって構成してもよいし、また無機ガラスによって構成したものであってもよい。
　また、レンズ基材は、所定のレンズ形状を構成するための光学面を、物体側の面と眼球側の面とのそれぞれに有する。
　所定のレンズ形状は、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれを構成するものであってもよいが、いずれの場合も各光学面が眼鏡装用者の処方情報を基に特定される曲面によって構成される。
　光学面は、例えば研磨処理によって形成されるが、研磨処理を要さないキャスト（成形）品であってもよい。
　尚、レンズ基材に対する研磨処理及び染色処理については、公知技術を利用して行えばよく、ここではその詳細な説明を省略する。
　その後は、レンズ基材の少なくとも一方の光学面上、好ましくは両方の光学面上に、ハードコート膜（ＨＣ膜）を成膜する（Ｓ１０２）。
　ＨＣ膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を用いて構成されたもので、３μｍ～４μｍ程度の厚さで形成された膜である。
　ＨＣ膜の屈折率（ｎＤ）は、上述したレンズ基材の材料の屈折率に近く、例えば１．４９～１．７４程度であり、レンズ基材の材料に応じて膜構成が選択される。
　このようなＨＣ膜の被覆によって、眼鏡レンズの耐久性向上が図れるようになる。
　ＨＣ膜の成膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を溶解させた溶液を用いた浸漬法（Ｄｉｐｐｉｎｇ　ｍｅｔｈｏｄ）によって行えばよい。
　ＨＣ膜の成膜後は、続いて、そのＨＣ膜に重ねるように、反射防止膜（ＡＲ膜）を成膜する（Ｓ１０３）。
　ＡＲ膜は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。
　具体的には、ＡＲ膜は、低屈折率層と高屈折率層とが積層された多層構造を有して構成されている。
　低屈折率層は、例えば、屈折率１．４３～１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる。
　また、高屈折率層は、低屈折率層よりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、これらの混合物（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））等を用いて構成される。
　このうち、ＳｎとＯを含む高屈折層は、後述の超短パルスレーザに対する反応性が、他の層に比べて大きいため、反応層として機能する。具体的には、上記のＳｎＯ２や、ＩＴＯがこれにあたる。
　本明細書における「反応層」は、レーザ照射を受けたときに励起エネルギーが低い層を指す。本発明の一実施例では、超短パルスレーザを照射する。
　そして、反応層となり得るＳｎＯ２層は、多光子吸収（例えば２光子吸収）により、励起エネルギーが極めて低くなり、反応性に富む。これは、ＩＴＯ層でも同様であり、ＩＴＯ層も、本明細書における反応層となり得る。
　その結果、本発明の一実施例では、該ＳｎＯ２層（或いはＩＴＯ層）の少なくとも一部は昇華又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ２層とともに、照射箇所から消失する。
　多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層とは、本発明の一実施例ではＳｎＯ２層又はＩＴＯ層を指す。該反応層を、多層構造に含まれる他の層よりも最も反応性の高い反応層と設定してもよい。
　尚、多層構造のＡＲ膜の最表層は、低屈折率層（例えば、ＳｉＯ２層）となるように構成されている。
　上記のように多層構造のうちの表層側の一部が、レーザ照射を受けた部分のみ除去され、所望の文字、記号、図柄などを表す加飾パターンが形成される。このような加飾パターンは、照明光や太陽光が入射したとき、その部分の反射光が、他の部分（多層構造の一部が除去された部分以外）と異なる反射特性をもつ。
　従って、このような加飾が施されたレンズを眼鏡として装用すると、他人からみて、加飾部分がそれ以外の部分とは異なる輝きや色調をもつ部分として視認される。
　また、多層構造の最下層（基材側）の層も低屈折率層（例えばＳｉＯ２層）であることが好ましい。これにより、眼鏡レンズの２つの面のうち、レーザ加工を施した面とは反対側の面からでも、レーザ加工によるパターンが視認しやすい。
　また、最表面層や最下層の材料の選択によっては、レンズの表裏で視認性が異なる（異なる色調や輝き方をもつ見え方となる）ようにしてもよい。
　ＡＲ膜を構成する上記の膜の成膜は、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
　ＡＲ膜の最表層である低屈折率層上には、撥水膜を成膜するようにしてもよい。撥水膜を防汚膜と称しても構わない。
　尚、撥水膜の成膜は、本実施形態に係るマーキングを行う前に実施してもよいし、マーキングを行った後に実施してもよい。
　撥水膜は、表面に撥水性を与える膜で、例えばメタキシレンヘキサフロライド等のフッ素系化合物溶液を塗布することによって構成することができる。
　撥水膜の成膜は、ＡＲ膜の場合と同様に、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
　また、ＡＲ膜上には他の機能性層が成膜されていてもかまわない。かかる機能性層は、金属成分を含んでいても、含まなくても、レーザ照射による精緻な加工の効果が得られる限りにおいて問題はない。また、かかる機能層は、均一な膜であっても、表面上に散在したものであってもかまわない。
　以上のような成膜処理を経ることで、レンズ基材の光学面上には、図３に示すような積層構造の薄膜が形成される。
　図３は、本実施形態に係る薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。
　図例の積層構造は、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。
　そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ２層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、最表層（すなわち撥水膜１４の側の表層）がＳｉＯ２層１３ａとなるように構成されている。ここで、ＳｎＯ２層は、高屈折率層であるとともに、反応層でもある。
　薄膜形成後は、続いて、図２に示すように、その薄膜が形成された眼鏡レンズに対して、フレームカット加工、及び加飾パターンのマーキングを行う。
　まず、薄膜形成後の眼鏡レンズに対し、マーキングを行う。フレームカット後に加飾加工を行う場合であれば（Ｓ１０４：カット後）、まず、加工対象となる眼鏡レンズの一方の光学面（具体的には、後述する加飾加工が施されない光学面）を専用治具に装着する治具ブロッキングを行う（Ｓ１０５）。そして、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１０６）。治具ブロッキング及びフレームカット加工については、公知技術を利用して行えばよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
　次に、レンズが治具にブロッキングされた状態のまま、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面（具体的には、ブロッキングされていない側の光学面）について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１０７）。計測手法は特に限定されないが、例えば非接触式又は接触式の三次元測定機を用いて行うことが考えられる。加工エリアとは、後述するレーザスキャン領域を含む領域である。
　加工エリアのレンズ高さの計測後、レーザ加工を行う。すなわち、予め用意されたパターンデータに基づいて、レーザ光を移動させるラスタースキャンを行いつつ照射するレーザ加工を行う（Ｓ１０８）。より好ましくは、スキャンヘッドに対して、上記で得た三次元形状データにもとづく、高さ方向の制御を同時に行い、レンズ光学面の曲面に応じた、レーザ照射のフォーカス制御（又はデフォーカス制御）を行うことができる。　ラスタースキャンではなく、ベクタースキャンであってもよい。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアにはマーキングがされることになる。
　加飾パターンのマーキング後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１０９）、取り外した眼鏡レンズについてマーキングの際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１０）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１１）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
　一方、例えば、加飾加工後に、フレームカットを行う場合であれば（Ｓ１０４：カット前）、まず、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１１２）。計測手法は、上述したフレームカット後に加飾加工を行う場合と同様である。
　加工エリアのレンズ高さの計測後は、続いて、加工エリアにレーザ光を照射するレーザ加工を行う。加工方法は、上述した、フレームカット後に加飾加工を行う場合と同様とすることができる。
　これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンのマーキングがされることになる。尚、加飾パターンのマーキングのためのレーザ加工の詳細については後述する。
　加飾パターンのマーキング後は、そのマーキング後の眼鏡レンズに対してフレームカット加工を行う。
　フレームカット加工にあたっては、まず、加工対象となる眼鏡レンズの一方の光学面を専用治具に装着する治具ブロッキングを行った上で（Ｓ１１４）、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１１５）。
　フレームカット加工後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１１６）、取り外した眼鏡レンズについて加工の際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１７）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１８）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
（２）レーザ加工の詳細
　次に、加飾パターンをマーキングする際のレーザ加工について、更に詳しく説明する。
　本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆するＡＲ膜１３に対してレーザ光を照射し、これによりＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層を、局所的に、少なくとも部分的に除去することで、加飾パターンのマーキングを行うことができる。
　具体的には、最表層のＳｉＯ２層を透過したレーザ光が、その下層側にあるＳｎＯ２層に到達すると、ＳｎＯ２層が照射のエネルギーによって少なくとも部分的に昇華、又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ２層とともに、照射箇所から消失する。つまり、レーザ光を照射するレーザ加工によって最表層のＳｉＯ２層１３ａを含む所定層を局所的に除去する。
　このとき、照射箇所には、その下層側の高屈折率層を露出させる除去工程により、当該除去がなされていない部分との反射特性の相違により、視認可能な加飾パターンのマーキングがされるようになっている。ここで、露出させる高屈折率層は、例えば、ＺｒＯ２層１３ｃである。
　ＳｎＯ２層１３ｂについては、薄厚（例えば、３～２０ｎｍ、より好ましくは、３～１０ｎｍ）に形成することが可能となる。本態様ではＳｎＯ２層１３ｂを５ｎｍとした。
　尚、上記においてＳｎＯ２は、レーザ照射に対して最も反応性の高い、反応層として機能する。この反応層は、ＳｎとＯが含まれていることが好ましく、ＳｎＯ２のほか、ＩＴＯが使用できる。
　また、上記においては、ＳｎＯ２が昇華又は蒸発によって除去され、その下層側にある高屈折率層としてのＺｒＯ２が照射箇所に露出するが、反応層は、必ずしも完全に除去される必要はなく、照射箇所に一部が残留していてもよい。
　例えば、レーザ照射によって、反応層は、層の厚み方向に、少なくとも部分的に除去されてもよい。
　また、部分的な除去の他の一例として、レーザ照射によって、層の厚み方向のみならず、レーザ照射方向から見たとき（平面視したとき）、レーザ照射箇所において反応層が一部残存しても構わない。本段落の例で言うと、ＺｒＯ２が部分的にのみ露出していても構わない。なぜなら、ＺｒＯ２と同様、ＳｎＯ２（或いはＩＴＯ）も高屈折率材料であり、平面視した時にＳｎＯ２が一部残存していても、視認性に問題は生じないためである。
　そのため、反応層の下層側にある高屈折率層、又は、一部残留する反応層が露出していればよい。
　レーザ照射の際に生じる現象は以下のように考えられる。反応層（ＳｎＯ２やＩＴＯなど）は、積層構造に含まれる他の層にくらべて導電性の高い、導電層であることが好ましい。
　検討によると、ＳｎＯ２からなる反応層は、上層側（最表面側）のＳｉＯ２よりも、また下層側のＺｒＯ２層よりも、後述する条件でのレーザ照射を受けた際に励起が生じるバンドギャップに対応するエネルギーが小さい。このため、上層側、下層側の隣接層に比べて、最も迅速に昇華又は蒸発による消失を生じやすい。
　この際、いわゆる多光子吸収（例えば２光子吸収）と呼ばれる現象が生じていると考えられ、非常に高いエネルギー効率で、加工が行い得る。そして、この際にＳｎＯ２が導電層であることが有利に作用するとみられる。
　尚、ＳｎＯ２が消失後、下層側のＺｒＯ２が照射のエネルギーによって、蒸発や溶解などによるダメージを受ける懸念については、かかるダメージの発生段階までの遅延を利用すべく、照射条件を制御することにより、実質的に反応層及びそれより上層側の層のみを除去することができる。そして、このような精緻な加工制御には、後述する超短パルスレーザを選択することが有利であることが見いだされた。
　ここで、レーザ加工に用いるレーザ加工装置について簡単に説明する。
　図４は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図である。
　本実施形態において用いるレーザ加工装置は、図４Ａに示すように、レーザ光源部２１と、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ　Ｏｐｔｉｃｓ　Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）システム部２２と、ビームシェイパー部２３と、ガルバノスキャナ部２４と、光学系２５とを備え、これらの各部２１～２５を経てレーザ光をＡＲ膜１３に対して照射するように構成されている。
　レーザ光源部２１は、レーザ加工に用いるレーザ光を出射するものであり、超短パルスレーザを出射するように構成されている。
　本実施形態において、超短パルスレーザのパルス幅の下限値については、特に限定されるものではなく０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。
　例えば、パルス幅が０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上１５ピコ秒未満であるものも使用可能である。
　更に、例えば、パルス幅が０．１ピコ秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上１５ピコ秒未満下であるものを用いることができる。
　また、パルス幅が０．０１ピコ秒以上１ピコ秒未満（又は、０．１ピコ秒未満）であるものも使用可能である。
　超短パルスレーザの波長は、例えば、紫外域の２６６ｎｍのＦＨＧ（Ｆｏｕｒｔｈ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）、又は、３５５ｎｍのＴＨＧ（Ｔｈｉｒｄ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）あるいは、赤外域の１０６４ｎｍの基本波長を用いることができる。照射においては所望の加工デザインに応じて、照射ビーム径を選択することができる。
　微細なデザインを解像度高く加工するために、ビーム径を小さく絞ることが有効であるが、その際には、短波長側の方が有利であるので、上記の波長のうち、３５５ｎｍがより好ましい。又は２６６ｎｍのＦＨＧ（Ｆｏｒｔｈ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）も好適である。
　超短パルスレーザのパルスエネルギーは、例えば、５０ｋＨｚで０．１μＪ以上３０μＪ以下（最大６０μＪ程度）である。超短パルスレーザのビーム径は、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下である。加工径としては例えば、１０～５０μｍとすることができる。
　発明者の検討によると、レーザ照射条件について以下のことが判明した。
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の初期投資やランニングコストなど、維持管理やコストの点で負担が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。装置の維持管理、コスト、生産条件の安定性などにおいて好適。
（４）超短パルスレーザのパルス幅が１００ピコ秒以上、１ナノ秒未満の場合適用波長により、加工安定性に不均一が生じる。例えば適用波長として、短波長側の２６６ｎｍを用いると、ＳｎＯ２の反応とともに、下層側にダメージが生じやすい。また、３５５ｎｍでもわずかな照射条件変動によって、加工の均一性が失われ、除去加工がＳｎＯ２より下層側に到達してしまう現象を防止できない。
（５）超短パルスレーザのパルス幅が１ナノ秒以上ＳｎＯ２及びそれより表面側の層を選択的に除去する加工ができない。
　上記（４）、（５）の場合には、加工されたパターンの視認性に影響が生じる。例えば、眼鏡レンズにおいて、装用者の視界に干渉するリスクが生じる。また、形成された加飾パターンを観察する際、観察者に対してパターンが明瞭に視認できる所定の照明条件以外の場合に、クリアなレンズではなく異物や汚れのあるレンズ認識されうる、不完全な視認状態が生じやすい。
　上記のような不都合を防止するためには、超短パルスレーザによる除去加工が、加工径や加工深さにおいて均一であることが肝要であり、そのためには、所定の超短パルス幅を適用することで、照射によるエネルギーの持続時間、及び、下層側材料のアブレーションの遅延を制御、利用することが有用であると考えられる。
　このような超短パルスレーザを出射可能であれば、レーザ光源部２１の具体的な構成或いは波長とパルス幅との組み合わせについては、特に限定されるものではない。
　ＡＯＭシステム部２２は、ガルバノスキャナ部２４の動作開始直後及び動作終了間際におけるレーザ光のビーム出力をキャンセルすることで、レーザ加工の際の加工ムラの原因となるレーザ光の過大照射を抑制するものである。
　ビームシェイパー部２３は、レーザ光源部２１からのレーザ光について、ガウシアン型のエネルギー分布からトップハット型のエネルギー分布に変換することで、均一なエネルギー分布のレーザ光によるレーザ加工を実現可能にするものである。特に、トップハット型の分布を適用すると、複数のビームスポットを部分的に重畳させて、所定面積の加工領域を形成しようとするときに、安定して均一な加工が行える。スポットの重畳に起因する局所的なエネルギーの過剰付加が抑制されるためである。
　ガルバノスキャナ部２４は、レーザ光源部２１からのレーザ光の照射位置を二次元又は三次元で移動させることで、そのレーザ光による走査を実現可能にし、これにより所望パターンのマーキングをレーザ加工によって行えるようにするものである。
尚、ガルバノスキャナ部２４によるレーザ光の走査可能範囲（すなわち、レーザ最大加工エリア）４は、加工対象となる眼鏡レンズの外形を完全に包含し得る大きさ及び形状に設定されているものとする（図１参照）。
　光学系２５は、テレセントリックレンズ等の光学レンズやミラーを組み合わせて構成されたもので、レーザ光源部２１からのレーザ光が眼鏡レンズの被加工箇所に到達するように、そのレーザ光を導くものである。
　また、本実施形態において用いるレーザ加工装置は、光学系２５等を経て行うＡＲ膜１３へのレーザ光（すなわち、超短パルスレーザ）の照射を、ＡＲ膜上にフォーカス設定（焦点合わせ）することが可能であるとともに、図４Ｂに示すように、ＡＲ膜上にデフォーカス設定で行い得るように構成されていることが好ましい。
　デフォーカス設定とは、照射するレーザ光の焦点位置Ｆが、当該レーザ光による被加工箇所であるＡＲ膜１３の表面から所定のデフォーカス距離の分だけ離れて設定されていることをいう。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。ただし、必ずしもデフォーカス設定に限定されることはなく、例えば、焦点位置ＦがＡＲ膜１３の表面に合致するフォーカス設定、又はデフォーカス設定とは逆方向に焦点位置Ｆが離れるインフォーカス設定で、レーザ光の照射を行うようにしても構わない。
　続いて、以上のような構成のレーザ加工装置を用いて行うレーザ加工の手順について説明する。
　レーザ加工にあたっては、まず、加工対象となる眼鏡レンズをレーザ加工装置にセットする。このとき、眼鏡レンズの光学面、更に詳しくは当該光学面におけるＡＲ膜１３の表面が被加工面となるように、当該眼鏡レンズのセットを行う。被加工面となる光学面は物体側の面と眼球側の面とのいずれであってもよいが、ここでは例えば眼球側の面を被加工面とする。
　眼鏡レンズのセット後は、予め用意されたパターンデータ（すなわち、得ようとする加飾パターンに基づいて作成された、所定解像度のパターンデータ）に基づいて、レーザ光源部２１及びガルバノスキャナ部２４を動作させる。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンに対応するパターン形状で、超短パルスレーザが照射される。
　超短パルスレーザが照射されると、その超短パルスレーザは、眼鏡レンズの被加工面における撥水膜１４を透過し、その被加工面におけるＡＲ膜１３に到達する。超短パルスレーザが到達すると、ＡＲ膜１３では、超短パルスレーザであるが故の非加熱加工が行われることになる。
　本態様のアブレーション加工は、超短パルスレーザの多光子吸収現象により、エネルギー効率の高い加工を行える技術である。更に詳しくは、加工箇所周辺の熱の影響を極力抑え、レーザ光の照射箇所が瞬時に溶融、蒸発、又は昇華し、飛散することで行われる除去加工である。このような非加熱加工によれば、反応性の高い材料が、照射箇所において瞬時に除去されるため、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷（熱による変形等）を抑えた加工を行うことができる。
　本実施形態に係るレーザ加工は、非熱加工としてのアブレーション加工とすることができる。このような加工は、先に挙げた多光子吸収現象をもたらす多光子吸収過程（例えば２光子吸収過程）を生じさせうる。このため、レーザに対して比較的透明な（透過率が高い）材料に対しても、多光子吸収によれば、効率的で良好な加工ができる。
この場合、適用できるレーザ波長の範囲は広く、レーザ光の波長としては、２６６ｎｍ（ＦＨＧ）、３５５ｎｍ（ＴＨＧ）、５３２ｎｍ（ＳＨＧ）のほか、１０６４ｎｍを用いることができる。本実施態様によれば、紫外域（２６６ｎｍ、３５５ｎｍ）、又は赤外域（１０６４ｎｍ）を照射の適用波長として用いるときに、特に有意義な効果が得られる。
　そして上記にて触れたとおり、上記多光子吸収を誘起するためには、パルス幅の短いピコ秒レーザ、フェムト秒レーザが有利である。具体的な数値としては、例えば、パルス幅が１００ピコ秒未満、好ましくは５０ピコ秒未満、更に好ましくは１ピコ秒未満（すなわちフェムト秒）とすることができる。また、特に下限の制限はないが、１０フェムト秒以上が望ましい。
　超短パルスレーザの照射による非加熱加工が行われると、ＡＲ膜１３では、そのＡＲ膜１３を構成する多層構造のうちのＳｉＯ２を透過して反応層（本態様ではＳｎＯ２）に到達し、反応層が瞬時に反応して昇華／蒸発することに伴い、最表層であるＳｉＯ２層１３ａが、除去される。このようにして、加飾パターンに対応するパターン形状で、反射防止膜の最表面層を含む所定の層のみが、部分的に除去される。また、これに伴って、撥水膜１４の対応部分についても除去される。これにより、照射箇所では、ＳｎＯ２層１３ｂの下層側に位置するＺｒＯ２層１３ｃが露出することになる。
　以上のようなレーザ加工を行うことで、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層が部分的に除去されて（除去箇所が形成されて）、高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出するので、これにより眼鏡レンズの被加工面に対して加飾パターンのマーキングがされることになる。尚、反応層が一部残留する場合においても、残留する反応層は、高屈折率層であるから、加飾パターンの視認性は損なわれない。
　以上のように、所定のレーザ照射が行われた照射箇所が、被加工面の内において部分的に加工されることとなる。
（３）眼鏡レンズの構成
　次に、以上の説明した手順の製造方法によって得られる眼鏡レンズの構成、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの構成について、具体的に説明する。
　図５Ａは、本実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。図５Ｂは、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。図例は、図５Ａ中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。
　図５Ａに示すように、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ２層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、その多層構造の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定層（具体的には、反応層であるＳｎＯ２層、及びそれより表面側の層）が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃが露出するように構成されている。つまり、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面がＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３及び撥水膜１４によって被覆されている非加工領域１５と、ＡＲ膜１３における最表層のＳｉＯ２層１３ａ、その直下の層であるＳｎＯ２層１３ｂ及び撥水膜１４が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃｂが露出することになるレーザスキャン領域（パターン化領域）１６と、を備えて構成されている。
　非加工領域１５とレーザスキャン領域１６とは、一方はＳｉＯ２層１３ａで覆われ他方はＺｒＯ２層１３ｃ（又は反応層が一部残留する場合には、高屈折層である該反応層）が露出しているので、ＳｉＯ２層１３ａの有無により、それぞれにおける光の反射率が相違する。そのため、眼鏡レンズに照明光が照射した状態を外観視したときに、レーザスキャン領域１６が形成するパターン形状を視認し得るようになる。つまり、加飾パターンに対応するパターン形状でレーザスキャン領域１６が形成されていれば、その加飾パターンを視認することができる。このように、ＡＲ膜１３の所定層の除去箇所は、加飾パターンを構成するものとして利用することが可能となる。
　加飾パターンを構成するレーザスキャン領域１６は、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａと、その直下の層であるＳｎＯ２層１３ｂとが除去されて形成されている。つまり、除去対象が、反応層であるＳｎＯ２を含む所定の層に止められている。そのため、ＡＲ膜１３を構成する多層構造の各層について、レーザスキャン領域１６の形成に起因して剥がれが生じてしまうのを抑制することができる。
　ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａの除去は、既述のように、超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって実現可能である。このような非加熱加工によれば、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷が生じてしまうのを抑えることができる。また、上記所定のパルス幅を適用することにより、反応層より下層側へのダメージを抑止しつつ、安定した加工が行える。これにより高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出することになるが、そのＺｒＯ２層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
　ＺｒＯ２層１３ｃの露出表面へのダメージを抑制できれば、そのＺｒＯ２層１３ｃでは、ＳｉＯ２層１３ａの除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。ＳｉＯ２層１３ａ、ＺｒＯ２層１３ｃ等の膜厚については、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡画像を取得し、その取得画像を解析することによって特定することが可能である。
　図５Ｂは、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。
　図例は、図５Ａ中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。尚、非加工領域１５では、ＳｉＯ２層１３ａ、ＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃが積層されているが、ＳｎＯ２層１３ｂが薄厚（例えば５ｎｍ程度）のため、画像中においては認識し難くなっている。一方、レーザスキャン領域１６では、ＳｎＯ２層１３ｂ及びそれより表面側のＳｉＯ２が除去されて、これによりＺｒＯ２層１３ｃが露出している。
　図例の電子顕微鏡画像によれば、ＳｎＯ２及びそれより表面側の層の除去によって露出することになるＺｒＯ２層１３ｃにおいて、レーザスキャン領域１６の部分の厚さｔ１と、非加工領域１５の部分の厚さｔ２とで、それぞれに大きな違いがないことが分かる。更に具体的には、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになっている。
　このように、露出する高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃでは、除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。レーザスキャン領域１６が超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって形成され、下層であるＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じないからである。このことは、露出するＺｒＯ２層１３ｃの厚さの比ｔ１／ｔ２が上述の範囲内に属していれば、そのＺｒＯ２層１３ｃにダメージが及ぶことなくレーザスキャン領域１６が形成されており、そのレーザスキャン領域１６の形成が超短パルスレーザによる非加熱加工を利用して行われたものと推定できることを意味する。
　ＺｒＯ２層１３へのダメージが生じないのは、超短パルスレーザによる反応層（ここではＳｎＯ２層）の反応性が、ＺｒＯ２より高いためである。そして、この反応性の差異は、後述するように、所定のパルス幅の超短パルスレーザの適用によって、顕著に得られる。
　尚、ＳｎＯ２層に対して、ＺｒＯ２層の厚さが１０倍以上、好ましくは１５倍以上であることにより、ＳｎＯ２層が消失したのち、ＺｒＯ２層がわずかに減膜した場合においても、膜剥れのリスクや加飾パターンの視認性に影響はない。
　更に、ＳｎＯ２の融点は、１１２７℃程度であり、上層側のＳｉＯ２よりも、下層側のＺｒＯ２よりも低いことも、アブレーションの制御の容易さに関与していると考えられる。
　以上のように構成された眼鏡レンズによれば、加飾パターンがマーキングされていても、多層構造のＡＲ膜１３を構成する各層の剥がれが生じてしまうのを抑制でき、また露出するＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じてしまうこともない。そのため、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能である。
（４）本実施形態による効果
　本実施形態によれば、まず、以下の有利な効果を奏する。
　本実施形態では、両方に反射防止膜が設けられた眼鏡レンズであっても、物体側の面と眼球側の面とで所定範囲の波長の光において反射率が相違する場合に、このことを利用し、反射率が低い方の光学面から上記所定範囲に含まれる波長を適用してレーザ加工を行う。
　本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法ならば、物体側の面と眼球側の面の両方に反射防止膜が設けられている眼鏡レンズであっても効率良く、安定した条件で精密な加飾を行える。
　更に具体的には、以下に示す１つ又は複数の効果が得られる。
（ａ）本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆する薄膜の一つであるＡＲ膜１３に対して、そのＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ２）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。
（ｂ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行って、ＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ２）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。このような非加熱加工によれば、レーザ光の吸収エネルギー効果よりもパルス幅の効果によって除去加工を行うため、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層のみを選択的に、均一に除去することが可能となる。しかも、非加熱加工であるが故に、加工箇所周辺に熱損傷が生じてしまうのを抑えることができ、これにより反応層の下層側にあるＺｒＯ２層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
（ｃ）以上のように、本実施形態においては、超短パルスレーザを利用しつつＡＲ膜１３の最表層を含む所定の層を除去し、高屈折率層を露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。従って、本実施形態によれば、ＡＲ膜１３の各層に剥がれが生じてしまうことを抑制でき、また露出するＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じてしまうこともないので、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能となる。
（ｄ）本実施形態においては、超短パルスレーザのパルス幅は、０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。より具体的には、レーザ照射条件について、パルス幅に応じて以下の利点がある。
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合紫外、赤外のいずれの波長においても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の維持管理やコストの点で、生産負荷が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合上記波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合上記波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。装置の維持管理、コスト、生産条件の安定性などにおいて好適。
（ｅ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工にあたり、ＡＲ膜１３に対する超短パルスレーザの照射をデフォーカス設定で行う。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。
（ｆ）本実施形態においては、所定条件にて超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行うので、ＳｎＯ２及びそれより表面側の層の除去によって露出することになる高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃの露出表面のダメージを抑制することができる。具体的には、かかる除去箇所におけるＺｒＯ２層１３ｃの厚さｔ１とＳｉＯ２層１３ａ等の非除去箇所におけるＺｒＯ２層１３ｃの厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。
　このように、ＺｒＯ２層１３ｃでは、上記除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。
従って、眼鏡レンズの製品に適用した場合に、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行う上で、非常に好ましいものとなる。
（５）その他
　以上に本発明の実施形態を説明したが、上述した開示内容は、本発明の例示的な実施形態を示すものである。
すなわち、本発明の技術的範囲は、上述の例示的な実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
　本発明の態様としては、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法であって、
　前記物体側の面又は眼球側の面のいずれかに設けられる反射防止膜の分光反射率特性を求め、紫外領域（例えば、２００～４００ｎｍの範囲内）又は、赤外領域（８００～１１００ｎｍの範囲内）における、反射率が相対的に低い範囲内の波長を、レーザ加工に適用するレーザ波長として決定し、
　該レーザ波長を適用して、レーザ加工を行う、眼鏡レンズの製造方法とすることができる。
　また、
　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法であって、
　前記物体側の面及び眼球側の面に設けられる反射防止膜の分光反射率特性をそれぞれ求め、紫外領域（例えば、２００～４００ｎｍの範囲内）又は、赤外領域（８００～１１００ｎｍの範囲内）における、前記反射率が相対的に低い方の面を、レーザ加工を行う面として決定し、
　レーザ加工に適用するレーザ波長は、前記決定された面において、前記紫外領域、又は前記赤外領域のうち、前記反射率がより低い方の領域の範囲内のものとする、
眼鏡レンズの製造方法とすることもできる。
　上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって加飾パターンのマーキングを行う場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。つまり、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、光学部材の光学面に何らかのパターニングを行うためのものであればよく、加飾パターン以外のマーキングにも全く同様に適用することが可能である。
　上述の実施形態では、ＡＲ膜１３の最表層が低屈折率層としてのＳｉＯ２層１３ａであり、ＳｉＯ２層１３ａの下方側の層が高屈折率層としての反応層であるＳｎＯ２層１３ｂであり、更に下層側に高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃがあり、ＳｎＯ２がレーザ照射によって反応し、部分的に除去されると、これに伴いＳｉＯ２も除去され、これにより高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出する場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。ＡＲ膜１３は、ＳｉＯ２層１３ａ、ＳｎＯ２層１３ｂ、ＺｒＯ２層１３ｃ以外の各層が積層されて構成されたものであってもよい。
　また、ＡＲ膜１３の最表層は、低屈折率層であれば、ＳｉＯ２層１３ａ以外の物であってもよい。高屈折率層としては、ＳｎＯ２層１３ｂ又はＺｒＯ２層１３ｃ以外の物であってもよい。例えば、反応層としてのＳｎＯ２層１３ｂについては、該ＳｎＯ２層１３ｂに代わって導電性を有する薄厚のＩＴＯ層としてもよい。
　上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって、ＡＲ膜１３に含まれる反応層であるＳｎＯ２層と、その直上であって最表層であるＳｉＯ２層１３ａが除去される場合を例に挙げている。これにより、既述のように、膜剥がれを抑制できるという効果を奏する。このように、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、最表層を含む所定の複数層を除去するように行うことが実現可能である。最表層を含む複数層を除去する場合であっても、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によれば、除去によって露出することになる層の露出表面へのダメージを抑制できるので、除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。
　つまり、最表層を含む複数層を除去する場合であっても、除去された層の直下の層について、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。
　本実施形態におけるレーザ加工前の眼鏡レンズは、物体側、及び眼球側のそれぞれの面に反射防止膜が設けられている。
　レーザ照射を行う面（例えば眼球側の面）に設けられる反射防止膜としては、使用するレーザの適用波長に対する反射率が、他方の面（例えば物体側の面）に設けられる反射防止膜に比べて、相対的に低い反射率を持つものとする（以下、第１の反射防止膜という）。第１の反射防止膜のことを反射防止膜（１）とも称する。
　例えば、本形態ではレーザ照射の適用波長を紫外域とするので、第１の反射防止膜として特許第６５３０７６５号記載の反射防止膜を適用することができる。
　又は、特許第５９６６０１１号に記載された、後面（眼球側の面）に用いる反射防止膜としてもよい。これらは、紫外域において反射率が他の波長域よりも低い膜である。
　又は、レーザ照射を行う方の面（例えば眼球側の面）の反射防止膜（第１の反射防止膜）の反射率特性としては、レーザ照射に設定した適用波長に対して、反射率が１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
他方の面（例えば物体側の面）に設けられる反射防止膜（第２の反射防止膜）の反射率特性は、設定した適用波長に対して、２０％以上であることができ、２５％以上であってもよい。
　あるいは、レーザ照射を行う方の面（例えば眼球側の面）の反射防止膜（第１の反射防止膜）の反射率特性としては、適用波長を３５５ｎｍとしたとき、３５５±１０ｎｍの範囲の波長に対して、反射率が１０％以下であることが好ましく、５％以下であればより好ましい。また、適用波長を２６６ｎｍとしたとき、２６６±１０ｎｍの範囲の波長に対して、反射率が１０％以下であることが好ましく、５％以下の反射防止膜であれば、より好ましい。
　本態様に用いる第１の反射防止膜としては、以下のものが例示される。たとえば、３５５±１０ｎｍの範囲の波長域における平均反射率が、１０％以下であるもの、又は、２６６±１０％の範囲の波長域における平均反射率が１０％以下であるものとすることができる。
　あるいは、３３０～４００ｎｍの波長範囲内の任意の波長光に対して、反射率が１０％以下、より好ましくは８％以下であるものが利用できる。又は、２５０～３００ｎｍの波長範囲の平均反射率が１０％以下、好ましくは８％以下であるもの、或いは、２５０～３００ｎｍの波長範囲内の任意の波長光に対して、反射率が１０％以下、より好ましくは８％以下であるものが利用できる。
　尚、第１の反射防止膜としては、波長３５０～７００ｎｍの可視域のすべてにおいて、反射率が１５％以下、好ましくは１０％以下とすることができる。又は、波長３５０～７００ｎｍの可視域のすべてにおいて、反射率が１０％以下とすることができる。
　更に、本実施形態におけるレーザ加工前の眼鏡レンズは、物体側、及び眼球側のそれぞれの面に反射防止膜が設けられているが、照射を行う面（例えば眼球側の面）に設けられる反射防止膜（例えば第１の反射防止膜）としては、ＷＯ２０２０／０６７４０９に記載のものを用いることができる。これは、赤外域において反射率が低い膜であるため、上記紫外域の適用波長を用いて照射する際に、有用である。
　上記の紫外光の場合と同様に、レーザ照射を行う方の面（例えば眼球側の面）の反射防止膜（第１の反射防止膜）の反射率特性としては、設定した適用波長に対して、反射率が３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましい。
　他方の面（例えば物体側の面）に設けられる反射防止膜（第２の反射防止膜）の反射率特性は、設定した適用波長に対して、４０％以上であることができ、５０％以上であってもよい。第２の反射防止膜のことを反射防止膜（２）とも称する。
　あるいは、レーザ照射を行う方の面（例えば眼球側の面）の反射防止膜（第１の反射防止膜）の反射率特性としては、適用波長を１０６４ｎｍとしたとき、１０６４±１０ｎｍの範囲の波長に対して、反射率が３０％以下であることが好ましく、２５％以下であればより好ましい。
　本態様に用いる眼鏡レンズの一方の面（例えば眼球側）に設けられた反射防止膜としては、以下のものが例示される。たとえば、１０６４±１０ｎｍの範囲の波長域における平均反射率が、２５％以下であるものとすることができる。
　あるいは、１０００～１１００ｎｍの波長範囲内の任意の波長光に対して、反射率が３０％以下、より好ましくは２５％以下であるものが利用できる。
　反射防止膜は、その膜設計に応じて、反射光が青色に見える（青色光の遮断効果を強化したいわゆるブルーカットレンズなど）ものや、緑色、紫色に見えるものなどがある。可視光域の反射色が、見る者の眼に入るためである。
　上記具体例の眼鏡レンズに対して本実施形態に係るレーザ加工が行われると、以下の有利な効果を奏する。
　例えば、青色領域の光の反射率が高い反射防止膜に対して、レーザ加工を行うと、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者から前記眼鏡レンズ１を見た時、眼鏡レンズは青色に見える。
　その一方、レーザ加工が行われた箇所（加飾パターン３）は、レーザ加工により露出した層の色（この一具体例においては高屈折率層の色である黄色ないし金色）に見える。
　その結果、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者にとっては、フレームに嵌め入れられた眼鏡レンズ１において、加飾パターン３が、美観を伴って視認され、かかるレンズの識別効果や、意匠的な効果が得らえる。
　上記の加飾パターン３の視認時の良好なコントラストの態様は、眼鏡レンズの物体側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、眼球側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、実現可能である。
　尚、いずれの面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、加飾パターンが装用者の視野に入ることによって視界に干渉することはない。すなわち本態様の加飾パターン３が施された眼鏡レンズは、装用者のクリアな視界を阻害しない。
　また、他人から装用者のレンズを観察する際には、室内の照明光や太陽光に対して所定の相対位置（又は角度）に装用者のレンズがあるとき、加飾パターン３が明瞭に視認されるが、上記相対位置にない場合には、視認されない。従って、所定の加飾パターン３が現れたり、消失したりという、視認性の変化による、デザイン上の付加価値をレンズに付与することができる。一方、上記の所定の相対位置関係にないときには、他人から見たとき、通常のクリアなレンズ（又は、所定のカラーレンズ、調光レンズ、偏光レンズ）として認識される。
　本態様の加飾パターン３は、フレームカットされたレンズ領域内に形成しても、眼鏡の機能に影響せずに、所望の文字や記号、又は図柄をレンズに担持させたり、所望のデザインをレンズに施したりすることができる。
　本態様の加飾パターン３は、レンズの加工面側からでも、裏面側からでも視認しうる加工である。
　そのため、本発明の技術的思想は、本実施形態に係る光学部材の製造方法で製造された光学部材である眼鏡レンズ、又は、本実施形態に係る光学部材である眼鏡レンズを、フレームに嵌め入れた眼鏡にも及ぶ。
　前記眼鏡レンズの各面における各多層膜は、高屈折率層及び低屈折率層をそれぞれ１層以上含み、且つ、層総数が１０層以下（好適には９層以下、更に好適には８層以下）であるのが好ましい。
　図６は、一具体例の眼鏡レンズであって、物体側と眼球側のそれぞれに、反射防止膜が設けられたサンプルにつき、パルスレーザによる加工を施したときの、加工領域の表面を示す。
　図６Ａは、この一具体例の眼鏡レンズの物体側の面に対し、反射防止膜（２）を設け、波長３５５ｎｍ、パルス幅を１０ピコ以上２０ピコ未満としたパルスレーザ光を用いて加工した結果を示す写真である。右図は拡大図である。
　図６Ｂは、一具体例の眼鏡レンズの眼球側の面に対し、反射防止膜（１）を設け、波長３５５ｎｍ、パルス幅を１０ピコ以上２０ピコ未満としたパルスレーザ光を用いて加工した結果を示す写真である。右図は拡大図である。
　図６Ａ、及び図６Ｂにおいて、明るい色の領域は、レーザスキャン領域１６に対応する領域であり、暗い色の領域は非加工領域を示す。
　図６Ｃは、縦軸を反射率（％）、横軸を波長（ｎｍ）としたときの、上記一具体例の眼鏡レンズの反射防止膜（１）と反射防止膜（２）の反射特性（シミュレーションデータ）である。ここでは、眼球側の面の反射防止膜を反射防止膜（１）（図中のＣＣＶ、符号１）、物体側の面の反射防止膜を反射防止膜（２）（図中のＣＶＸ、符号２）としている。
　図６Ａも図６Ｂも、レーザをラスタースキャンにより水平方向に照射させつつ移動させ、最終的に全面にわたって加工を行っている。
　図６Ｂ（反射防止膜（１）が設けられた眼球側の面からの加工）の方が、図６Ａ（反射防止膜（２）が設けられた物体側の面からの加工）に比べ、レーザ加工後の表面性が良好である。すなわち、レーザ照射による除去加工が均一に行われて、露出面の平滑性が高い。また、下層側へのダメージも見られない。
　これは、レーザ加工の適用波長に対する反射防止膜（１）の反射率が、反射防止膜（２）の反射率より低いことに関係する。ここで、採用した適用波長３５５ｎｍにおいては、反射防止膜（１）の反射率と、反射防止膜（２）の反射率との差異は２０％以上であり、前者の方が低い。また、適用波長において、反射防止膜（２）を形成した面（物体側）は、反射率が２５％を超えているのに対し、反射防止膜（１）を形成した面（眼球側）の反射率は５％以下であるから、加工に対して非常に有利である。
　すなわち、眼球側の面からの加工の方が、物体側の面からの加工に比べ、出力を過度に上げる必要がなく、安定した条件で、効率良く反応層の昇華又は蒸発を生じさせることができ、その結果、下層側へのダメージもなく、均一に除去加工が行われたことを意味する。
　図７は、反射防止膜（１）及び反射防止膜（２）に対して、図６と同様の加工を行ったときに、安定した加工条件の得られる具体的なレーザパワーの範囲を求めた結果である。
　ここで、図６におけると同様に、波長３５５ｎｍ、パルス幅を１０ピコ以上２０ピコ未満としたパルスレーザ光を用いた。
　また、図７において、安定した加工条件が得られるレーザパワーは、網掛け（その１）（ドット）で表し、その中でも最適条件となるレーザパワーは、網掛け（その２）（斜線）で表す。最適とは、気温変化などの環境によるレーザ出力のわずかな変動の影響によっても、安定した加工状態が得られる条件である。
　その結果、反射防止膜（１）においては、０．１０±０．０４（Ｗ）程度、反射防止膜（２）においては、０．２０程度（Ｗ）において、図６Ｂのような安定加工が得られ、適用すべき最適レーザ出力はそれぞれ０．０９Ｗ、０．２０Ｗであることがわかった。
　ここで、すなわち、反射防止膜（１）を用いることで、反射防止膜（２）を用いるときに比べて、安定加工域が４倍以上広いことがわかり、量産に適していることが確認された。
　尚、上記にて、眼鏡レンズの眼鏡側の面にレーザ加工を施す例を挙げたが、物体側の面に対して加工しても良い。その場合は、照射に適用するレーザの波長に対して、適切な反射特性をもつ、物体側面の反射防止膜に加工を行うことができる。例えば、図６Ｃに示す分光反射特性をもつ反射防止膜（１）、反射防止膜（２）を用いた場合、２８０ｎｍ又はそれ以下の波長をもつレーザ光による加工を行うのであれば、反射防止膜（１）を形成した物体側から加工することが有利である場合もある。
１…眼鏡レンズ、２…フレーム形状、３…加飾パターン、４…走査可能範囲、１１…レンズ基材（光学基材）、１２…ＨＣ膜、１３…ＡＲ膜、１３ａ…ＳｉＯ２層（低屈折率層）、１３ｂ…ＳｎＯ２層（高屈折率層）、１３ｃ…ＺｒＯ２層（高屈折率層）、１４…撥水膜、１５…非加工領域、１６…レーザスキャン領域（パターン化領域）、２１…レーザ光源部、２２…ＡＯＭシステム部、２３…ビームシェイパー部、２４…ガルバノスキャナ部、２５…光学系

Claims (11)

  1. 　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法であって、
    　使用するレーザの適用波長を決定する工程と、
    　前記物体側の面と前記眼球側の面のうち、前記適用波長に対する反射率が相対的に低い反射防止膜が設けられる面を選択し、
    　前記選択された面に対して、前記適用波長を適用してレーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法。
  2. 　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザを照射することによって所望の加工を施すマーキングを行う、眼鏡レンズの製造方法において、
    　前記物体側の面と眼球側の面のうち、所定の波長域の光に対する反射率が相対的に低い面を選択し、選択した前記面に対して、前記所定の波長域内の波長をもつレーザ光を適用して、レーザ照射を行う、眼鏡レンズの製造方法。
  3. 　前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長は、２００～４００ｎｍの範囲内、又は、８００～１１００ｎｍの範囲内である、請求項１又は２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  4. 　前記選択された面の反射防止膜は、前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長に対して、１０％以下の反射率をもつ、請求項１又は２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  5. 　前記選択された面の反射防止膜は、他方の面に対し、前記適用波長又は前記所定の波長域内の波長に対する反射率が１０％以上低い、請求項１又は２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  6. 　レンズ基材の光学面を被覆するように形成された、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造の反射防止膜に対して、超短パルスレーザの照射を行い、前記多層構造の最表層を含む所定の層を部分的に除去することにより、所望のレーザ加工を施す眼鏡レンズの製造方法であって、
    　前記選択された面の反射防止膜は、前記超短パルスレーザの照射に対して、前記多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層を含み、前記照射によって、前記反応層が少なくとも部分的に除去する除去工程を行うことによって、可視光により視認しうる前記レーザ加工が施される、請求項１又は２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  7. 　前記超短パルスレーザは、パルス幅が１０フェムト秒以上１００ピコ秒未満である、請求項６に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  8. 　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザマーキングが施された眼鏡レンズであって、
    　前記一方の面に設けられた反射防止膜は、少なくとも波長２００～４００ｎｍの光に対して、他方の面に設けられた反射防止膜よりも低い反射率を有する、眼鏡レンズ。
  9. 　物体側の面と眼球側の面のそれぞれに、互いに異なる反射防止膜が設けられた眼鏡レンズの一方の面に、レーザマーキングが施された眼鏡レンズであって、
    　前記一方の面に設けられた反射防止膜は、少なくとも波長８００～１１００ｎｍの光に対して、他方の面に設けられた反射防止膜よりも低い反射率を有する、眼鏡レンズ。
  10. 　前記眼鏡レンズは、
    　光学面を有するレンズ基材と、
    　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
    　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
    　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
    　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが施されている、請求項８又は９に記載の眼鏡レンズ。
  11. 　請求項１又は２に記載の眼鏡レンズの製造方法により製造された眼鏡レンズ、又は、請求項８又は９に記載の眼鏡レンズがフレームに嵌め入れられている眼鏡。
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