WO2024034341A1 - 眼鏡レンズ及び眼鏡 - Google Patents

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WO2024034341A1
WO2024034341A1 PCT/JP2023/026444 JP2023026444W WO2024034341A1 WO 2024034341 A1 WO2024034341 A1 WO 2024034341A1 JP 2023026444 W JP2023026444 W JP 2023026444W WO 2024034341 A1 WO2024034341 A1 WO 2024034341A1
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layer
lens
film
refractive index
processing
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PCT/JP2023/026444
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English (en)
French (fr)
Inventor
繁樹 大久保
Original Assignee
ホヤ レンズ タイランド リミテッド
繁樹 大久保
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Publication date
Application filed by ホヤ レンズ タイランド リミテッド, 繁樹 大久保 filed Critical ホヤ レンズ タイランド リミテッド
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C11/00—Non-optical adjuncts; Attachment thereof
    • G02C11/02—Ornaments, e.g. exchangeable
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/02—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses

Definitions

  • the present invention relates to spectacle lenses and spectacles.
  • an eyeglass frame is also simply referred to as a frame, and of the eyeglass frame, the rim (a member into which a spherical eyeglass lens is fitted) will be specifically described.
  • Eyeglass lenses that have been processed into a spherical shape are also called spherical lenses.
  • the spherical processing is also called frame cutting.
  • the rim not only maintains the strength of the glasses, but also accentuates the appearance of the wearer's facial features by highlighting the contours of the spherical lenses. Ta.
  • An object of the present disclosure is to provide a technique for appropriately highlighting the outline of a spherical lens with or without a rim to improve its appearance.
  • the first aspect of the present invention is a lens base material having an optical surface; an antireflection film that covers the optical surface of the lens base material,
  • the anti-reflection film has a multilayer structure including a laminated layer of a low refractive index layer and a high refractive index layer,
  • the anti-reflection film includes a reactive layer that has a relatively higher reactivity to ultrashort pulse laser irradiation than other layers included in the anti-reflection film, At the removal location formed by at least partially removing a predetermined layer including the outermost layer of the multilayer structure, the high refractive index layer below the reaction layer or the reaction layer where a portion remains
  • This eyeglass lens has a bead-shaped marking that allows the removed portion to be visually recognized by visible light due to the exposed portion.
  • the second aspect of the invention is The eyeglass lens according to the first aspect, wherein the removed portion also constitutes a decorative pattern other than the bead-shaped marking.
  • the third aspect of the present invention is The eyeglass lens according to the second aspect, wherein the decorative pattern is provided on an inner edge of the bead-shaped marking.
  • the fourth aspect of the present invention is The eyeglass lens according to any one of the first to third aspects, wherein the bead-shaped marking is annular.
  • the fifth aspect of the present invention is A spherical eyeglass lens with a border around the outer edge, a frame on which the spherical eyeglass lens is attached,
  • the eyeglass lens is a lens base material having an optical surface; an antireflection film that covers the optical surface of the lens base material,
  • the anti-reflection film has a multilayer structure including a laminated layer of a low refractive index layer and a high refractive index layer,
  • the anti-reflection film includes a reactive layer that has a relatively higher reactivity to ultrashort pulse laser irradiation than other layers included in the anti-reflection film,
  • the border line so that it can be visually recognized by visible light
  • the sixth aspect of the present invention is The eyeglasses according to the fifth aspect, wherein the removed portion also constitutes a decorative pattern other than the border line.
  • the seventh aspect of the present invention is The eyeglasses according to the sixth aspect, wherein the decorative pattern is applied to an inner edge of the border line.
  • the eighth aspect of the present invention is The eyeglasses according to any one of the fifth to seventh aspects, wherein the border line is annular.
  • the ninth aspect of the present invention is The type of rim of the frame is rimless or half rim,
  • the border line is marked as a pseudo rim at least in a portion where the rim is not present.
  • the outline of the spherical lens can be appropriately highlighted and the appearance effect can be improved.
  • FIG. 1A is a front view showing a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a bottom view of a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2A is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 2B is a partial schematic front view of eyeglasses after cutting the eyeglass lenses of FIG. 2A and fitting them into a frame.
  • FIG. 2C is a partial schematic front view of the eyeglasses after frame-cutting the eyeglass lenses of FIG. 2A and fitting them into a half-rim type frame.
  • FIG. 3 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3A is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3B is a partial schematic front view of the eyeglasses after frame-cutting the eyeglass lenses of FIG. 3A and fitting them into a half-rim type frame.
  • FIG. 4 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a preferred example of the border line based on FIG. 4.
  • FIG. 8 is a front view showing an example of processing a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram showing a specific example, based on FIG.
  • FIG. 10 is a flow diagram illustrating an example of the procedure of a method for manufacturing a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a side sectional view showing an example of a laminated structure of thin films in a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of a schematic configuration of a laser processing apparatus used in a method for manufacturing a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of a main part configuration of a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1A is a front view showing a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a rear view of a spectacle lens according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2A is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 2B is a partial schematic front view of eyeglasses after cutting the eyeglass lenses of FIG. 2A and fitting them into a full-rim type frame.
  • FIG. 2C is a partial schematic front view of the eyeglasses after frame-cutting the eyeglass lenses of FIG. 2A and fitting them into a half-rim type frame.
  • FIG. 3A is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3A is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3B is a partial schematic front view of the eyeglasses after frame-cutting the eyeglass lenses of FIG. 3A and fitting them into a half-rim type frame.
  • FIG. 4 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a front view showing a spectacle lens according to another embodiment of the present invention.
  • the side of the optical center of the spectacle lens is referred to as the inside, and the side of the outermost edge of the spectacle lens is referred to as the outside.
  • the optical center is made to coincide with the geometric center and centering center.
  • the optical center will also be referred to as the lens center.
  • the side of the frame center is called the inside, and the side of the outermost edge of the spherical lens is called the outside.
  • the outline of the outermost edge of the spherical lens matches the outline of the spherical shape 5 of the spectacle lens 1 before frame cutting.
  • the frame center is the center position of the spherical lens (i.e., the area within the rim) when a third person views the eyeglasses from the front.
  • the center position of the spherical lens may be the geometric center of a rectangle (boxing) that circumscribes the spherical lens and includes the spherical lens.
  • the frame center may coincide with the optical center and the centering center.
  • the eyeglass lens according to this embodiment is a lens base material having an optical surface; an antireflection film that covers the optical surface of the lens base material,
  • the anti-reflection film has a multilayer structure including a laminated layer of a low refractive index layer and a high refractive index layer,
  • the anti-reflection film includes a reactive layer that has a relatively higher reactivity to ultrashort pulse laser irradiation than other layers included in the anti-reflection film, At the removal location formed by at least partially removing a predetermined layer including the outermost layer of the multilayer structure, the high refractive index layer below the reaction layer or the reaction layer where a portion remains
  • marking or patterning, hereinafter collectively referred to as marking
  • the method for manufacturing the spectacle lens according to this embodiment can also be achieved.
  • the markings are formed by partially removing the antireflection film.
  • This marking 2M is bead-shaped.
  • This "cut lens-like" may or may not be a cut lens shape 5 that is predetermined for a certain eyeglass lens before processing.
  • "bead shape” refers to a shape in front view on a spectacle lens that can be used as a bead shape.
  • the lens shape is mainly composed of arcuate lines (concave toward the center of the lens) and/or straight lines. If the predetermined spherical shape is complex, a curved line other than an arc may be used in accordance with the spherical shape.
  • one-point marks are excluded from this "ball-shaped marking 2M."
  • numbers and letters such as serial numbers are also excluded. Note that these letters, numbers, and one-point marks may be provided on the spectacle lens of this embodiment as a decoration pattern 3 (described later) that is separate from the marking 2M.
  • the spherical marking 2M may be formed as a band-shaped region of a predetermined width near the outer edge, following the shape of the outer edge of the lens after frame cutting. As described later, it may be formed along a part of the outer edge of the lens after frame cutting. In that case, it may be formed as a band-shaped region having a desired width and length as described below.
  • the marking 2M of this spherical shape may be rephrased as the "edging line 2M" for the spherical shape 5. That is, in this embodiment, it can be said that the edging line 2M is marked on the spectacle lens before processing.
  • border line 2M Each feature of the border line 2M described below also applies to the marking 2M.
  • the border line 2M will be mainly mentioned and explained.
  • the "edging line 2M” in this specification is a line that outlines the outline of the globe shape 5, which is the planned cutting position.
  • the border line 2M may have a similar shape to the outline of the globe shape 5.
  • this "similarity" does not necessarily have to be strictly the same size ratio. This is because a spherical lens is generally not completely circular and has different widths in the vertical and horizontal directions, so when simply enlarged or reduced, the distance between the outline of the spherical shape 5 and the border line 2M is This is because it differs depending on the direction.
  • the border line 2M has a similar shape to the outline of the lens shape 5, it is slightly deformed so that the difference in distance between the outline of the lens shape 5 and the border line 2M is within about 10%. It may also have a similar shape.
  • the outline of the spherical shape 5, which is the planned cutting position may or may not be marked on the spectacle lens. When marking the edge line 2M so as to overlap the outline of the spherical shape 5, this naturally leads to the outline of the spherical shape 5 being marked on the spectacle lens.
  • the edging line 2M protrudes from the rim shape 2 in the eyeglass lens 1A after being inserted into the frame 2F (FIGS. 2A and 2B).
  • the border line 2M may be marked in a non-contact state with the spherical shape 5 (more specifically, in a non-contact with the spherical shape 5 and inside it) (FIGS. 1A, 1B, 5, and 6). ).
  • the border line may be marked at a position that does not overlap the outline of the spherical shape 5 and is shifted inward from the outline of the spherical shape 5.
  • a “fringing line” it is better not to set it too far away from the outline of the globe shape 5.
  • the distance (shortest distance) from the outline of the spherical shape 5 to the edge line is preferably 3.0 mm or less, 2.0 mm, and 1.0 mm or less in this order.
  • the "edging line 2M" in this specification is mainly composed of arched lines and/or straight lines, similar to the marking 2M described above.
  • the edging line 2M may be a closed loop (annular) or an open loop (with a part of the annular edging line erased).
  • An open loop can also be said to be a state in which only a portion of the border line is provided.
  • border line 2M a part of the outline of the spherical lens may be marked with a border line 2M.
  • the locations of the border lines 2M at this time may be, for example, four locations (four corners) as shown in FIG. 4, or may be located at other locations.
  • the "edging line 2M" in this specification refers to a portion that can be visually recognized. For example, there is a case where a closed loop forming the border line 2M is visually recognized as a broken line.
  • the solid line portion of the broken line is formed by arranging in a line a portion of the antireflection film that is exposed in a linear manner by successively performing dot-like processing using laser processing, which will be described later.
  • the blank area indicated by the dashed line is not exposed in this way. Due to the difference in the processing conditions between the two, a broken border line 2M is visible when the spectacle lens is viewed from the front.
  • the "edging line 2M" in this specification refers to the above-mentioned linear portion that is actually processed.
  • the border line 2M is made visible by observing from the object plane side of the spectacle lens 1.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a preferred example of the border line based on FIG. 4.
  • a border line 2M is formed in the fan-shaped area a with a rotation angle of 15 to 60 degrees. is considered herein to be.
  • the edge line 2M is also formed in a fan-shaped area b with a rotation angle of 120 to 165 degrees, a fan-shaped area c with a rotation angle of 195 to 240 degrees, and a fan-shaped area d with a rotation angle of 300 to 345 degrees. deemed herein.
  • the fan-shaped areas a to d all have a central angle of 45 degrees. Each central angle is expressed as a1 to d1.
  • the "edging line 2M” refers to a processed portion that continuously connects two sides of one fan-shaped area centered on the lens center.
  • FIG. 7 there are a plurality of border lines 2M (a total of four corresponding to each of the fan-shaped areas a to d). If each border line 2M is extended, it can become one closed annular line.
  • Each border line 2M in FIG. 7 can also be said to be a solid line portion of the broken line.
  • a spectacle lens is always provided with a hidden mark, so that when it is attached to a frame, the left and right (horizontal) directions can be determined, and by extension, the up and down (vertical) directions can also be determined.
  • the total central angle of the entire spectacle lens is 60 degrees or more (preferably 90 degrees or more, 120 degrees or more, 150 degrees or more, 180 degrees or more, 210 degrees or more).
  • the border line 2M may be provided in the entire fan-shaped area (at least 240 degrees, at least 270 degrees, at least 300 degrees, at least 330 degrees).
  • the border line 2M may be the solid line part of the broken line mentioned above, the solid line itself, or the solid line part (for example, a dot in laser processing) of the dotted line.
  • the number of lines may be singular or plural (see FIG. 5). If there are multiple lines, the thickness of the lines may be changed. Further, different types of lines as described above may be mixed. Further, as shown in FIG. 6, a checkerboard pattern (hereinafter referred to as a checker pattern) border line may be provided in which solid line portions of broken lines and blank portions are alternately arranged in the vertical direction.
  • the specific value of the width of the border line 2M is, for example, the width of the border line 2M.
  • the minimum width may be 1.0 mm or more. Although there is no limitation on the maximum width, it may be, for example, 3.0 mm or less.
  • the following advantageous effects are achieved. That is, it is possible to improve the design of the eyeglass lens 1A after spherical processing (after being inserted into a frame).
  • the rims have the effect of accentuating the appearance of the wearer's facial features by highlighting the contours of the spherical lenses.
  • the border line functions as a so-called pseudo rim, and even in rimless glasses, the contours of the spherical lenses can be highlighted and the aesthetic appearance can be improved.
  • eyeglasses that include a frame and eyeglass lenses whose outer edges are marked with a border line.
  • the type of rim of the frame is rimless or half rim
  • the border line may be marked as a pseudo rim at least in a portion where there is no rim (FIGS. 2A, 3A, and 3B).
  • the edge line 2M exists during edging, and the eyeglass lens only needs to be discarded if there is a defect inside this edge line 2M. As a result, it becomes possible to utilize spectacle lenses that would otherwise have been discarded.
  • the spectacle lens according to this embodiment has an object-side surface and an eyeball-side surface as optical surfaces.
  • the "object side surface (object surface)” is a surface located on the object side when glasses equipped with spectacle lenses are worn by a wearer.
  • the "eyeball side surface (ocular surface)” is the opposite, that is, the surface located on the eyeball side when glasses equipped with spectacle lenses are worn by a wearer.
  • the object side surface is a convex surface and the eyeball side surface is a concave surface, that is, a spectacle lens is a meniscus lens. This also applies to eyeglass lenses after spherical processing (processed lenses).
  • FIG. 8 is a front view showing an example of processing the eyeglass lens according to the present embodiment.
  • an eyeglass lens 1 having a circular shape in front view (for example, outer diameter ⁇ 60 to 80 mm) is subjected to spherical processing (frame processing) in which the outer shape of the lens is shaved to match the rim shape 2 of the eyeglass frame worn by the wearer. Cut processing).
  • frame processing spherical processing
  • marking of the edging line 2M is performed on the eyeglass lens prior to edging.
  • markings on the optical surface of the decorative pattern 3 representing one-point marks such as logos and house marks, letters, symbols, designs, etc. are placed within the lens area after frame cutting.
  • markings on the optical surface of the decorative pattern 3 representing one-point marks such as logos and house marks, letters, symbols, designs, etc. are placed within the lens area after frame cutting.
  • decoration pattern 3 refers to a pattern different from the border line 2M. In this embodiment, both are manufactured using the same work content.
  • the decorative pattern may be provided on the inner side of the border line and at the end (for example, at least one of the four corners) of the spherical shape 5.
  • the decoration pattern 3 provided at the edge serves as a good accent, further improving the aesthetic appearance.
  • FIG. 9 shows this situation.
  • FIG. 9 is a diagram showing a specific example, based on FIG. 1A, in which the decorative pattern is provided inside the border line and at the end (for example, at least one of the four corners) of the spherical shape 5.
  • the character "HOY" in the decoration pattern 3 exists outside the inscribed circle (the long two-dot chain line in the figure).
  • marking can be done using laser irradiation processing that allows precise control of the irradiation position based on digital data, but it is undesirable to avoid marking that would cause deterioration in lens quality and functionality. do not have. Therefore, in this embodiment, the border line 2M
  • the marking of the decorative pattern 3 is performed according to the processing procedure described below.
  • FIG. 10 is a flow diagram illustrating an example of the procedure of the method for manufacturing a spectacle lens according to the present embodiment.
  • a lens base material which is an optical base material
  • the lens base material is polished according to the prescription information of the eyeglass wearer, and if necessary, dyed.
  • the lens base material for example, a resin material having a refractive index (nD) of about 1.50 to 1.74 is used.
  • the resin material include allyl diglycol carbonate, urethane resin, polycarbonate, thiourethane resin, and episulfide resin.
  • the resin material may be made of other resin materials that provide the desired degree of refraction, or it may be made of inorganic glass.
  • the lens base material has optical surfaces for configuring a predetermined lens shape on each of the object-side surface and the eyeball-side surface.
  • the predetermined lens shape may be a monofocal lens, a multifocal lens, a progressive power lens, etc., but in any case, each optical surface is specified based on the prescription information of the eyeglass wearer. It is composed of curved surfaces.
  • the optical surface is formed, for example, by a polishing process, but may be a cast (molded) product that does not require a polishing process. Note that the polishing treatment and dyeing treatment for the lens base material may be performed using known techniques, and detailed explanation thereof will be omitted here.
  • a hard coat film is formed on at least one optical surface of the lens base material, preferably on both optical surfaces (S102).
  • the HC film is, for example, a film formed using a curable material containing a silicon compound, and has a thickness of about 3 ⁇ m to 4 ⁇ m.
  • the refractive index (nD) of the HC film is close to the refractive index of the material of the lens base material described above, for example, about 1.49 to 1.74, and the film configuration is selected depending on the material of the lens base material. By coating with such an HC film, the durability of the eyeglass lens can be improved.
  • the HC film may be formed, for example, by a dipping method using a solution in which a curable material containing a silicon compound is dissolved.
  • an antireflection film (AR film) is subsequently formed so as to overlap the HC film (S103).
  • the AR film has a multilayer structure in which films with different refractive indexes are laminated, and is a film that prevents reflection of light by interference.
  • the AR film has a multilayer structure in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated.
  • the low refractive index layer is made of, for example, silicon dioxide (SiO 2 ) having a refractive index of about 1.43 to 1.47.
  • the high refractive index layer is made of a material having a higher refractive index than the low refractive index layer, such as zirconium oxide (ZrO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), tantalum oxide, etc. (Ta 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), mixtures thereof (for example, indium tin oxide (ITO)), etc. Ru.
  • the high refractive layer containing Sn and O has greater reactivity to ultrashort pulse lasers, which will be described later, than other layers, and thus functions as a reactive layer.
  • the above-mentioned SnO 2 and ITO correspond to this.
  • the term "reactive layer” as used herein refers to a layer that has low excitation energy when irradiated with a laser.
  • ultrashort pulse laser irradiation is performed.
  • the SnO 2 layer which can serve as a reaction layer, has extremely low excitation energy due to multiphoton absorption (for example, two-photon absorption) and is highly reactive. This also applies to the ITO layer, and the ITO layer can also serve as the reaction layer in this specification.
  • at least a portion of the SnO 2 layer (or ITO layer) sublimes or evaporates and disappears from the irradiated area together with the overlying SiO 2 layer.
  • a reactive layer that is relatively more reactive than other layers included in the multilayer structure refers to a SnO2 layer or an ITO layer in one embodiment of the present invention.
  • the reaction layer may be set to have the highest reactivity than other layers included in the multilayer structure.
  • the outermost layer of the multilayered AR film is configured to be a low refractive index layer (for example, two SiO layers).
  • a low refractive index layer for example, two SiO layers.
  • the lowest layer (on the base material side) of the multilayer structure is also a low refractive index layer (for example, two SiO 2 layers).
  • the AR film may be formed by applying ion-assisted vapor deposition, for example.
  • a water-repellent film may be formed on the low refractive index layer that is the outermost layer of the AR film.
  • the water-repellent film may also be referred to as an antifouling film.
  • the water-repellent film may be formed before marking according to this embodiment or after marking is performed.
  • the water-repellent film is a film that imparts water repellency to the surface, and can be constructed by applying a fluorine-based compound solution such as metaxylene hexafluoride, for example.
  • the water-repellent film may be formed by, for example, ion-assisted vapor deposition, as in the case of the AR film.
  • another functional layer may be formed on the AR film. There is no problem whether such a functional layer contains a metal component or not, as long as the effect of precise processing by laser irradiation can be obtained. Moreover, such a functional layer may be a uniform film or may be scattered on the surface.
  • FIG. 11 is a side sectional view showing an example of a laminated structure of thin films according to this embodiment.
  • the laminated structure in the illustrated example is constructed by laminating an HC film 12, an AR film 13, and a water-repellent film 14 in this order on the optical surface of a lens base material 11.
  • the AR film 13 has a multilayer structure in which a SiO 2 layer 13a, which is a low refractive index layer, and a SnO 2 layer 13b, and a ZrO 2 layer 13c, which are high refractive index layers, are laminated, and the outermost layer (i.e. The surface layer on the side of the water-repellent film 14) is configured to be a SiO 2 layer 13a.
  • the SnO 2 layer is both a high refractive index layer and a reactive layer.
  • the eyeglass lens on which the thin film is formed is marked with a border line 2M, a frame cut process is performed along the outline of the lens shape 5, and decoration is performed. Mark pattern 3.
  • a border line 2M is marked on the eyeglass lens after the thin film has been formed.
  • marking the edging line 2M first, mark the lens height of the processing area on the processed surface of the eyeglass lens (specifically, the optical surface on the non-blocked side) while it is in the blocked state.
  • the shape (that is, the three-dimensional shape of the processing area on the surface to be processed) is measured (S107).
  • the measurement method is not particularly limited, it is conceivable to use a non-contact three-dimensional measuring machine, for example.
  • the processing area is an area including a laser scan area, which will be described later.
  • laser processing is performed in which the processing area is irradiated with a laser beam, and the irradiation position of the laser beam is determined using prepared pattern data (i.e., contour data of the lens shape 5).
  • a raster scan for movement is performed based on (S108).
  • Vector scan may be used instead of raster scan.
  • the eyeglass lens is marked with a border line 2M based on the outline data of the frame shape.
  • a decorative process is to be performed after frame cutting (S104: after cutting)
  • one optical surface of the eyeglass lens to be processed (specifically, the optical surface that will not be subjected to the decorative process described later) is Jig blocking is performed for mounting on a dedicated jig (S105).
  • the blocked eyeglass lens is set in the eyeglass processing machine, and the eyeglass lens is subjected to eyeball processing (frame cutting processing), and the outer shape of the eyeglass lens is cut into a frame shape (S106).
  • Jig blocking and frame cutting may be performed using known techniques, so detailed description thereof will be omitted here.
  • a decoration process i.e., marking of a decoration pattern
  • the details of the decoration process, and further the details of the laser process for marking the decorative pattern, may be the same as the marking of the border line 2M.
  • jig deblocking is performed to remove the eyeglass lens from the special jig (S109), and the lens is removed from the removed eyeglass lens to remove any residue or deposits (foreign matter) from marking. Cleaning is performed (S110). After a final lens appearance inspection (S111), the production of the spectacle lens is completed.
  • the frame is to be cut after marking the edging line 2M and processing the decorative pattern 3 (S104: before cutting)
  • Execute S112
  • the lens height of the processed area that is, the three-dimensional shape of the processed area on the processed surface
  • the measurement method is the same as in the case where decoration is performed after frame cutting as described above.
  • laser processing is performed to irradiate the processing area with laser light
  • raster scanning is performed to move the laser light irradiation position based on pattern data prepared in advance ( S114).
  • Vector scan may be used instead of raster scan.
  • the decorative pattern is marked in the processing area of the processing surface of the eyeglass lens. Note that details of the laser processing for marking the decorative pattern will be described later.
  • frame cutting is performed on the marked eyeglass lens. That is, the blocked eyeglass lens is set in the eyeglass processing machine, and the eyeglass lens is subjected to eyeglass processing (frame cutting processing), and the outer shape of the eyeglass lens is cut into a frame shape (S115). After the frame cutting process, jig deblocking is performed to remove the eyeglass lens from the special jig (S116), and the removed eyeglass lens is cleaned to remove residues and deposits (foreign matter) from the process. Execute (S117). After a final lens appearance inspection (S118), the production of the spectacle lens is completed.
  • the AR film 13 covering the optical surface of the lens base material 11 is irradiated with a laser beam, thereby partially damaging a predetermined layer including the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13.
  • a decorative pattern can be marked.
  • the laser light transmitted through the outermost SiO 2 layer reaches the SnO 2 layer below it, the SnO 2 layer is sublimated or evaporated by the irradiation energy, and the SiO 2 layer on the upper layer side is sublimated or evaporated by the energy of the irradiation . It disappears from the irradiated area along with the layer.
  • a predetermined layer including the outermost SiO 2 layer 13a is partially removed by laser processing using laser beam irradiation.
  • the irradiated area is marked with a decorative pattern through a removal step that exposes the high refractive index layer below it.
  • the exposed high refractive index layer is, for example, the ZrO 2 layer 13c.
  • the SnO 2 layer 13b can be formed thin (for example, 3 to 20 nm, more preferably 3 to 10 nm). In this embodiment, the thickness was set to 5 nm.
  • SnO 2 functions as a reaction layer that has the highest reactivity to laser irradiation.
  • This reaction layer preferably contains Sn and O, and in addition to SnO2 , ITO can be used.
  • the reaction layer does not necessarily have to be completely removed. , a portion may remain in the irradiated area.
  • the reaction layer may be at least partially removed in the thickness direction of the layer by laser irradiation.
  • partial removal due to laser irradiation, a part of the reaction layer remains at the laser irradiation location not only in the thickness direction of the layer but also when viewed from the laser irradiation direction (front view). I don't mind.
  • ZrO 2 may be only partially exposed.
  • SnO 2 (or ITO) is also a high refractive index material, and when viewed from the front, there is no problem with visibility even if ZrO 2 is not completely exposed due to SnO 2 . be. Therefore, it is sufficient that the high refractive index layer on the lower layer side of the reaction layer or the reaction layer partially remaining together with the high refractive index layer is exposed.
  • the phenomena that occur during laser irradiation can be considered as follows.
  • the reaction layer (SnO 2 , ITO, etc.) is preferably a conductive layer that has higher conductivity than other layers included in the stacked structure.
  • the reaction layer made of SnO 2 exhibits a higher resistance to laser irradiation under the conditions described below than the SiO 2 layer on the upper layer side (the outermost surface side) and than the ZrO 2 layer on the lower layer side.
  • the energy corresponding to the bandgap where excitation occurs is small. Therefore, it tends to disappear most quickly due to sublimation/evaporation compared to the adjacent layers on the upper layer side and the lower layer side.
  • the irradiation conditions should be controlled to take advantage of the delay until such damage occurs. This allows substantially only the reaction layer and the layers above it to be removed. It has been found that it is advantageous to select an ultrashort pulse laser, which will be described later, for such precise processing control.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram showing a schematic configuration example of a laser processing apparatus used in the method for manufacturing a spectacle lens according to the present embodiment.
  • the laser processing apparatus used in this embodiment includes a laser light source section 21, an AOM (Acousto Optics Modulator) system section 22, a beam shaper section 23, a galvano scanner section 24, and an optical system 25, and is configured to irradiate the AR film 13 with laser light through these parts 21 to 25.
  • AOM Acoustic Optics Modulator
  • the laser light source section 21 emits laser light used for laser processing, and is configured to emit ultrashort pulse laser.
  • the lower limit value of the pulse width of the ultrashort pulse laser is not particularly limited and may be any value exceeding 0 femtoseconds, but it may be 0.01 pico (10 femtoseconds) or more.
  • the use of 0.1 picoseconds or more (including 1 picoseconds or more) is advantageous in terms of equipment maintenance and cost, and is more suitable for commercial use.
  • a pulse width of 0.01 picoseconds or more and less than 100 picoseconds preferably a pulse width of 0.01 picoseconds or more and less than 50 picoseconds, more preferably a pulse width of 0.01 picoseconds or more and less than 50 picoseconds.
  • 01 picoseconds or more and less than 15 picoseconds can also be used.
  • a pulse width of 0.1 picoseconds or more and less than 100 picoseconds preferably a pulse width of 0.1 picoseconds or more and less than 50 picoseconds, and more preferably a pulse width of 0.1 picoseconds or more and less than 50 picoseconds.
  • a time period of at least 1 second and less than 15 picoseconds can be used.
  • the wavelength of the ultrashort pulse laser for example, in addition to 355 nm THG (Third Harmonic Generation) or 532 nm SHG (Second Harmonic Generation), a fundamental wavelength of 1064 nm can be used.
  • the irradiation beam diameter can be selected depending on the desired processing design. In order to process fine designs with high resolution, it is effective to narrow down the beam diameter to a small size, but in this case, shorter wavelengths are more advantageous, so of the above wavelengths, 532 nm is preferable, and 355 nm is preferable. is more preferable. Alternatively, 266 nm FHG (Forth Harmonic Generation) is also suitable.
  • the pulse energy of the ultrashort pulse laser is, for example, 0.1 ⁇ J or more and 30 ⁇ J or less (maximum about 60 ⁇ J) at 50 kHz.
  • the beam diameter of the ultrashort pulse laser is, for example, 10 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is less than 0.1 picosecond Good processing can be performed at any wavelength from 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication. However, the production load is large in terms of equipment maintenance and cost.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is 0.1 picosecond or more and less than 1 picosecond Good processing can be performed at any wavelength from 266 to 1064 nm. A shorter wavelength is more advantageous in microfabrication.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is 1 picosecond or more and less than 100 picoseconds Good processing can be performed at any wavelength from 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication.
  • Non-uniform processing stability occurs depending on the applied wavelength. For example, if 266 nm, which is on the short wavelength side, is used as the applicable wavelength, the lower layer side is likely to be damaged along with the reaction of SnO 2 . Further, even at 355 nm, slight variations in irradiation conditions can cause loss of uniformity in processing, and it is not possible to prevent the phenomenon in which removal processing reaches layers below SnO 2 .
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser is 1 nanosecond or more. Processing that selectively removes SnO 2 and the layer on the surface side is not possible.
  • the AOM system section 22 suppresses excessive irradiation of the laser light, which causes uneven processing during laser processing, by canceling the beam output of the laser light immediately after the operation of the galvano scanner section 24 starts and just before the end of the operation. It is.
  • the beam shaper section 23 converts the laser beam from the laser light source section 21 from a Gaussian energy distribution to a top hat energy distribution, thereby making it possible to realize laser processing using a laser beam with a uniform energy distribution. It is. In particular, when a top hat type distribution is applied, stable and uniform processing can be achieved when a plurality of beam spots are partially overlapped to form a processing area of a predetermined area. This is because excessive local energy addition due to spot overlap is suppressed.
  • the galvano scanner section 24 enables scanning by the laser light by moving the irradiation position of the laser light from the laser light source section 21 in two or three dimensions, thereby making it possible to mark a desired pattern by laser processing. It is intended to do so. It is assumed that the scannable range 4 of the laser beam by the galvano scanner unit 24 (that is, the maximum laser processing area) 4 is set to a size and shape that can completely encompass the outer shape of the eyeglass lens to be processed. (See Figure 8).
  • the optical system 25 is configured by combining an optical lens such as a telecentric lens and a mirror, and guides the laser light from the laser light source section 21 so that it reaches the part to be processed on the eyeglass lens. be.
  • the laser processing apparatus used in this embodiment is capable of defocusing the irradiation of laser light (i.e., ultrashort pulse laser) to the AR film 13 through the optical system 25, etc. It is configured so that it can be done in the settings.
  • Defocus setting means that the focal position F of the laser beam to be irradiated is set to be a predetermined defocus distance away from the surface of the AR film 13, which is the part to be processed by the laser beam. If laser light is irradiated with such a defocus setting, the beam energy can be dispersed on the surface of the AR film 13 that is irradiated with the laser light, thereby making it possible to perform uniform film removal processing. becomes.
  • the height of the irradiated area may vary due to the surface shape of the AR film 13.
  • it is not necessarily limited to the defocus setting; for example, a focus setting in which the focal position F matches the surface of the AR film 13, or an in-focus setting in which the focal position F moves away in the opposite direction to the defocus setting.
  • Laser light irradiation may also be performed.
  • the spectacle lens For laser processing, first set the eyeglass lens to be processed into the laser processing device. At this time, the spectacle lens is set so that the optical surface of the spectacle lens, more specifically, the surface of the AR film 13 on the optical surface becomes the surface to be processed.
  • the optical surface to be processed may be either the object-side surface or the eyeball-side surface, but here, for example, the eyeball-side surface is used as the processed surface.
  • the laser light source section 21 and the galvano scanner section 24 are operated based on the pattern data prepared in advance (that is, the pattern data of a predetermined resolution created based on the decorative pattern to be obtained). make it work.
  • the processing area of the surface to be processed of the eyeglass lens is irradiated with the ultrashort pulse laser in a pattern shape corresponding to the decoration pattern.
  • the ultra-short pulse laser When the ultra-short pulse laser is irradiated, the ultra-short pulse laser passes through the water-repellent film 14 on the processed surface of the eyeglass lens and reaches the AR film 13 on the processed surface. When the ultra-short pulse laser reaches the AR film 13, non-heat processing by the ultra-short pulse laser will be performed on the AR film 13.
  • the ablation process of this embodiment is a technology that allows highly energy-efficient processing using the multiphoton absorption phenomenon of an ultrashort pulse laser. More specifically, it is a removal process in which the influence of heat around the processed area is suppressed as much as possible, and the area irradiated with laser light instantly melts, evaporates, or sublimates and scatters. According to this type of non-heat processing, highly reactive materials are instantly removed at the irradiated area, so there is less heat influence on the area around the processing area, and processing that suppresses thermal damage (deformation due to heat, etc.) It can be performed.
  • the laser processing according to this embodiment can be ablation processing as non-thermal processing.
  • Such processing can give rise to multiphoton absorption processes (eg, two-photon absorption processes) that result in the multiphoton absorption phenomena mentioned above. Therefore, even materials that are relatively transparent (high transmittance) to the laser can be processed efficiently and favorably by multiphoton absorption.
  • the range of applicable laser wavelengths is wide, and as the wavelength of the laser light, 1064 nm can be advantageously used in addition to 355 nm (THG) and 532 nm (SHG).
  • the pulse width can be less than 100 picoseconds, preferably less than 50 picoseconds, and more preferably less than 1 picosecond (ie, femtosecond).
  • the AR film 13 passes through SiO 2 of the multilayer structure constituting the AR film 13 and reaches the reaction layer (SnO 2 in this embodiment).
  • the reaction layer instantly reacts and sublimates/evaporates, the outermost SiO 2 layer 13a is removed.
  • the corresponding portion of the water-repellent film 14 is also removed.
  • the ZrO 2 layer 13c located below the SnO 2 layer 13b is exposed at the irradiation location.
  • the transmittance of visible light (wavelength 380 nm to 780 nm) of the border line 2M and the decorative pattern 3 should be 80% or more, for example, 80% to 95%, or 80 to 90%, or even 80 to 85%. Can be done.
  • the value obtained by subtracting the visible light transmittance of the area other than both from the transmittance of visible light (wavelength 380 nm to 780 nm) of the border line 2M and the decorative pattern 3 is 20% or less, 15% or less, or It is 10% or less. With this configuration, even if both of them enter the wearer's field of vision, they are unlikely to interfere with the wearer's field of vision, and a wide and bright field of view can be obtained.
  • FIG. 13(a) is an explanatory diagram showing an example of the main part configuration of the eyeglass lens according to the present embodiment.
  • FIG. 13(b) shows a specific example of the observation results of a cross section of the AR film 13 using an electron microscope.
  • the illustrated example is an enlarged display of portions A and B in FIG.
  • the spectacle lens according to the present embodiment is configured by laminating an HC film 12, an AR film 13, and a water-repellent film 14 in this order on the optical surface of a lens base material 11.
  • the AR film 13 has a multilayer structure in which a SiO 2 layer 13a, which is a low refractive index layer, and a SnO 2 layer 13b, and a ZrO 2 layer 13c, which are high refractive index layers, are laminated.
  • the eyeglass lens according to the present embodiment has an unprocessed area 15 where the optical surface of the lens base material 11 is covered with the HC film 12, the AR film 13, and the water-repellent film 14, and the outermost SiO layer in the AR film 13.
  • the second layer 13a, the SnO second layer 13b that is the layer immediately below it, and the water-repellent film 14 are partially removed, and the ZrO second layer 13cb, which is a high refractive index layer, is exposed in a laser scan area (patterned area). ) 16.
  • the non-processing area 15 and the laser scanning area 16 are covered with a SiO 2 layer 13a on one side and a ZrO 2 layer 13c (or the reaction layer, which is a high refractive layer if a part of the reaction layer remains) on the other side. Since the SiO 2 layer 13a is exposed, the light reflectance of each layer differs depending on the presence or absence of the SiO 2 layer 13a. Therefore, when the spectacle lens is irradiated with illumination light, the pattern shape formed by the laser scan area 16 can be visually recognized. In other words, if the laser scan area 16 is formed in a pattern shape corresponding to the decoration pattern, the decoration pattern can be visually recognized. In this way, the removed portion of the predetermined layer of the AR film 13 can be used as a part of a decorative pattern.
  • the reflectance of the border line 2M and the decorative pattern 3 is higher than the reflectance of areas other than both. That is, both may be constructed by exposing the ZrO 2 layer 13c, which is a high refractive index layer.
  • the laser scan area 16 constituting the decorative pattern is formed by removing the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13, and the SnO 2 layer 13b, which is the layer immediately below it. In other words, the object to be removed is stopped at a predetermined layer containing SnO 2 which is a reaction layer. Therefore, it is possible to suppress peeling of each layer of the multilayer structure constituting the AR film 13 due to the formation of the laser scan region 16.
  • Removal of the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13 can be achieved by non-heat processing using ultrashort pulse laser irradiation, as described above. According to such non-heat processing, there is little thermal influence on the periphery of the processing location, and it is possible to suppress the occurrence of thermal damage.
  • predetermined pulse width stable processing can be performed while suppressing damage to layers below the reaction layer.As a result, the ZrO 2 layer 13c as a high refractive index layer is exposed. , damage to the exposed surface of the ZrO 2 layer 13c can be suppressed.
  • the film thicknesses of the SiO 2 layer 13a, the SnO 2 layer 13b, the ZrO 2 layer 13c, etc. can be determined by acquiring an electron microscope image of a cross section of the AR film 13 and analyzing the acquired image.
  • FIG. 13(b) shows a specific example of the observation results of a cross section of the AR film 13 using an electron microscope.
  • the illustrated example is an enlarged display of portions A and B in FIG.
  • a SiO 2 layer 13a, a SnO 2 layer 13b, and a ZrO 2 layer 13c are laminated, but since the SnO 2 layer 13b is thin (for example, about 5 nm), it is difficult to recognize it in the image. It has become.
  • the SnO 2 layer 13b and the SiO 2 on the surface side thereof are removed, thereby exposing the ZrO 2 layer 13c.
  • the thickness t1 of the laser scan area 16 and the thickness t1 of the non-processed area 15 are It can be seen that there is no significant difference between the thicknesses of the portions and the thickness t2. More specifically, the ratio t1/t2 of the thickness t1 of the removed portion to the thickness t2 of the non-removed portion is, for example, in the range of 0.90 to 1.00, preferably 0.95 to 1.00. It is within the range of 00 or less, more preferably within the range of 0.99 or more and 1.00 or less.
  • the laser scan region 16 is formed by non-heat processing using ultra-short pulse laser irradiation, and no damage is caused to the underlying ZrO 2 layer 13c. This means that if the ratio t1/t2 of the thickness of the exposed ZrO 2 layer 13c is within the above range, the laser scan region 16 is formed without damaging the ZrO 2 layer 13c. This means that it can be assumed that the formation of the laser scan area 16 was performed using non-heat processing using an ultrashort pulse laser.
  • the reason why no damage occurs to the ZnO 2 layer 13 is because the reactivity of the reaction layer (here, the SnO 2 layer) by the ultrashort pulse laser is higher than that of ZnO 2 . This difference in reactivity can be significantly obtained by applying an ultrashort pulse laser having a predetermined pulse width, as will be described later.
  • the thickness of the ZrO 2 layer is at least 10 times, preferably 15 times or more, the thickness of the SnO 2 layer, even if the ZrO 2 layer is slightly thinned after the SnO 2 layer disappears, , there is no risk of film peeling or impact on the visibility of the decorative pattern.
  • the melting point of SnO 2 is about 1127° C., which is lower than that of SiO 2 on the upper layer side and lower than that of ZrO 2 on the lower layer side, which is also considered to be involved in the ease of control of ablation.
  • the spectacle lens configured as described above, even if a decorative pattern is marked, peeling of each layer constituting the multilayered AR film 13 can be suppressed, and the exposed ZrO 2 layer can be prevented from peeling off. No damage will be caused to 13c. Therefore, even when applied to eyeglass lens products, it is possible to mark the eyeglass lenses with a decorative pattern without deteriorating the quality of the product.
  • reaction layer (SnO 2 in the above embodiment) of the AR film 13 and the surface thereof are By partially removing the side layer and thereby exposing the ZrO 2 layer 13c, which is a high refractive index layer, a decorative pattern is marked on the eyeglass lens.
  • non-heat processing is performed by irradiation with an ultra-short pulse laser to partially remove the reaction layer (SnO 2 in the above embodiment) of the AR film 13 and the layer on the surface side thereof, This exposes the ZrO 2 layer 13c, which is a high refractive index layer, thereby marking the spectacle lens with a decorative pattern.
  • the removal processing is performed by the effect of the pulse width rather than the absorption energy effect of the laser beam, only a predetermined layer including the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer of the AR film 13, is selectively removed. This makes it possible to remove the particles uniformly.
  • it is a non-heating process it is possible to suppress thermal damage around the processed area, thereby suppressing damage to the exposed surface of the ZrO 2 layer 13c on the lower side of the reaction layer. can do.
  • the eyeglass lens is Mark the decorative pattern. Therefore, according to the present embodiment, peeling of each layer of the AR film 13 can be suppressed, and damage to the exposed ZrO 2 layer 13c can be prevented, so that it can be applied to eyeglass lens products. Even in cases where the eyeglass lenses are marked with a decorative pattern, it is possible to mark the eyeglass lenses without deteriorating the quality of the product.
  • the pulse width of the ultrashort pulse laser may be any width exceeding 0 femtoseconds, but is preferably at least 0.01 picoseconds (10 femtoseconds) and less than 100 picoseconds; .1 picosecond or longer (including 1 picosecond or longer) is advantageous in terms of equipment maintenance and cost, and is more suitable for commercial use. More specifically, the laser irradiation conditions have the following advantages depending on the pulse width. (1) When the pulse width of the ultrashort pulse laser is less than 0.1 picosecond Good processing can be performed at any wavelength from 266 to 1064 nm. Shorter wavelengths are more advantageous in microfabrication. However, the production load is large in terms of equipment maintenance and cost.
  • the AR film 13 is irradiated with the ultra-short pulse laser in a defocused setting. If laser light is irradiated with such a defocus setting, the beam energy can be dispersed on the surface of the AR film 13 that is irradiated with the laser light, thereby making it possible to perform uniform film removal processing. becomes. This is particularly useful when the height of the irradiated area may vary due to the surface shape of the AR film 13.
  • the ratio t1/t2 of the thickness t1 of the ZrO 2 layer 13c at the removed portion and the thickness t2 of the ZrO 2 layer 13c at the non-removed portion such as the SiO 2 layer 13a is, for example, 0.90 or more. It falls within the range of 1.00 or less, preferably within the range of 0.95 or more and 1.00 or less, more preferably within the range of 0.99 or more and 1.00 or less.
  • non-heating processing using an ultra-short pulse laser can be used as long as it is used to form some kind of pattern on the optical surface of an optical member, and it can be applied to markings other than the border line 2M (and decorative pattern 3) in exactly the same way. It is possible to apply.
  • the outermost layer of the AR film 13 is the SiO 2 layer 13a as a low refractive index layer, and the layer below the SiO 2 layer 13a is the SnO 2 layer 13b as a high refractive index layer.
  • the ZrO 2 layer 13c as a high refractive index layer on the lower layer side, and when SnO 2 reacts with laser irradiation and is partially removed, SiO 2 is also removed, thereby creating a high refractive index layer.
  • the ZrO 2 layer 13c as a layer is exposed has been exemplified, the present invention is not limited thereto.
  • the AR film 13 may be configured by laminating layers other than the SiO 2 layer 13a, the SnO 2 layer 13b, and the ZrO 2 layer 13c. Further, the outermost layer of the AR film 13 may be a layer other than the SiO 2 layer 13a as long as it is a low refractive index layer.
  • the high refractive index layer may be other than the SnO 2 layer 13b or the ZrO 2 layer 13c. For example, as for the SnO 2 layer 13b as the reaction layer, a thin ITO layer having conductivity may be used instead of the SnO 2 layer 13b.
  • the SnO 2 layer, which is the reaction layer included in the AR film 13, and the SiO 2 layer 13a, which is the outermost layer immediately above the SnO 2 layer, are removed by non-heat processing using an ultrashort pulse laser.
  • the case is given as an example. This has the effect of suppressing film peeling, as described above.
  • non-heat processing using an ultrashort pulse laser so as to remove a plurality of predetermined layers including the outermost layer.
  • non-heating processing using an ultrashort pulse laser can suppress damage to the exposed surface of the layer that will be exposed by removal, so removal processing is possible. It is also possible to suppress the decrease in film thickness caused by this.
  • the ratio t1/t2 of the thickness t1 of the removed portion to the thickness t2 of the non-removed portion for the layer immediately below the removed layer is, for example, , within the range of 0.90 or more and 1.00 or less, preferably within the range of 0.95 or more and 1.00 or less, and more preferably within the range of 0.99 or more and 1.00 or less.
  • the eyeglass lens before laser processing in this embodiment may be provided with an antireflection film on both sides.
  • a specific example of the eyeglass lens includes the content described in International Publication No. WO2020/067407. The entire description of this publication can be referred to herein.
  • the spectacle lenses having the configurations of Examples 1 and 2 described in the publication (Example 1 to name one) may be employed as a specific example.
  • a specific example of the spectacle lens before decoration in this embodiment is as follows.
  • eyeglass lenses comprising a multilayer film on both sides of a lens base material,
  • the sum of the average reflectances in the wavelength band of 360 to 400 nm on each surface of the eyeglass lens is 6.0% or less,
  • the sum of the average reflectances in the wavelength band of 400 to 440 nm on each surface of the eyeglass lens is 20.0% or more,
  • the spectacle lens has a sum of average reflectances in a wavelength band of 480 to 680 nm on each surface of the spectacle lens of 2.0% or less.
  • the sum of the average reflectances of each surface should be 20.0% or more (preferably more than 20.0%, more preferably more than 20.0%). 25.0% or more). In other words, the reflectance is locally increased in the purple region.
  • the sum of the average reflectances of each surface should be 6.0% or less (preferably less than 6.0%, more preferably 5.0%). (below), and the reflectance is locally decreased, contrary to the case in the violet region (400 to 440 nm).
  • the sum of the average reflectances of each surface is 2.0% or less (preferably less than 2.0%, more preferably 1 .5% or less), and in order to aim at transmitting visible light, the reflectance is particularly locally reduced in the main wavelength band of visible light.
  • the eyeglass lens of this specific example has a blocking effect against light in the blue region, that is, has a high reflectance for light in the blue region. Therefore, when the spectacle lens 1 is viewed from a third person facing the front of the wearer of the spectacle lens 1, the spectacle lens appears blue.
  • the area where the laser processing was performed appears to be the color of the layer exposed by the laser processing (in this one specific example, the color of the ZrO 2 layer is yellow, gold, or silver).
  • the decorative pattern 3 on the spectacle lens 1 fitted into the frame appears to stand out against the blue background.
  • a decorative pattern 3 with a high design effect can be obtained.
  • the background is not blue, that is, when the reflectance of light in the blue region is not high but the reflectance of light in other color regions is high.
  • the eyeglass lens 1 may be green or pearl-colored.
  • the aspect of good contrast during visual recognition of the above decorative pattern 3 can be achieved by laser processing each multilayer film on the object side surface of the eyeglass lens or by laser processing each multilayer film on the eyeball side surface. is also possible.
  • the spectacle lens provided with the decorative pattern 3 of this embodiment does not impede the wearer's clear vision.
  • the portion where the border line or decorative pattern is formed has a high transmittance to visible light, and the difference in transmittance from the portion without the decorative pattern is small, so it is easy for the wearer to Even if it comes into view, its existence is virtually unrecognizable.
  • this embodiment when this embodiment is applied to rimless or half-rim glasses, the following advantages can be obtained. That is, while applying a rimless or half rim, it is also possible to draw a pseudo rim near the outer edge of the lens using a coloring material such as a known pigment, or create a pseudo rim by forming irregularities on the lens surface.
  • the edging line of this embodiment formed by the laser irradiation described above prevents the limitations experienced with glasses with rims, such as the impression that the field of view is defined in a certain area, and the rim that limits the outer edge of the field of view. It is advantageous in that it is free from the restrictive feeling of wearing it, such as feeling dark, and allows a wide and bright field of vision.
  • the wearer's lens when observing the wearer's lens from another person (that is, when observing the wearer's lens from the object plane side), it is necessary to set a predetermined relative position (or angle) with respect to indoor illumination light or sunlight. ), the decorative pattern 3 is clearly visible, but when it is not in the above relative position, it is difficult to see. Therefore, the lens can be given added value in terms of design due to changes in visibility, such as the predetermined decorative pattern 3 appearing clearly or almost disappearing.
  • the lens is recognized as a normal clear lens (or a predetermined color lens, photochromic lens, or polarized lens) when viewed by another person. Therefore, unlike glasses with rims, a part of the wearer's face is not blocked or cast by the rim, and the wearer's face can be seen brightly.
  • the decorative pattern 3 of this embodiment is formed within the frame-cut lens area, it can carry desired characters, symbols, or designs on the lens, or create a desired design without affecting the function of the glasses. It can also be applied to lenses.
  • the decorative pattern 3 of this embodiment is a process that can be visually recognized both from the processed surface side of the lens and from the back surface side.
  • the designed anti-reflection property is reduced in the removed area where a part is removed (in this embodiment, SnO 2 and SiO 2 on the upper layer side are removed), and the gap between the area and the non-removed area is reduced. This is because contrast in the amount of reflected light can be obtained.
  • This embodiment has a major feature in that the lens shape is provided with a border line. If we pay attention to this point, it is no longer essential that the border line be configured to partially expose the antireflection film. From this point of view, the present embodiment can also be expressed as follows. The following expressions may be combined with each of the configurations described so far. "An eyeglass lens that has not yet been cut into a spherical shape to be attached to a frame, The eyeglass lens is marked with a border line that frames the outline of the spherical shape from the inside, which is the planned cutting position. ⁇ A pair of eyeglasses comprising a frame and eyeglass lenses marked with a border line that frames the outer edge.''

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Abstract

光学面を有するレンズ基材と、レンズ基材の光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、反応層の下層側にある高屈折率層、又は、一部残留する反応層が露出していることにより、除去箇所が可視光により視認しうるマーキング２Ｍが玉形状に施された眼鏡レンズ１及びその関連技術を提供する。

Description

眼鏡レンズ及び眼鏡
　本発明は、眼鏡レンズ及び眼鏡に関する。
　眼鏡レンズにおいて眼鏡フレーム内に該当する箇所に、彩色やデザインを施すことが知られている（例えば、特許文献１、２参照）。本明細書においては、眼鏡フレームのことを単にフレームともいい、眼鏡フレームのうち特にリム（玉形加工された眼鏡レンズが嵌め込まれる部材）について述べる。玉形加工された眼鏡レンズのことを玉形レンズともいう。玉形加工のことをフレームカットともいう。
特開２００４－００４７２７号公報 特開２００７－０５８１４６号公報
　現在、眼鏡レンズの素材のほとんどはプラスチックであって、素材改良の結果、破損に対する十分な強度をもつ。そのため、必ずしもリムによる保護の必要は無くなった。リムを含めフレームは、装用者の視野に入る。そのため、装用者によっては、リムを視界における不要な障害物とも感じ得る問題がある。また、眼鏡の軽量化が支持されている状況もある。
　それらの状況下では、フレームの自重や眼鏡に対する装飾物の重量も、可能な限り低減されることが好ましい。上記状況を鑑み、細いフレームや、軽量フレームが開発されている。軽量フレームの一例としては、リムが存在しないリムレスタイプのフレームや一部（例えば下半分）しかリムが存在しないハーフリムタイプのフレームが開発されている。
　上記状況が有る一方で、リムがある眼鏡を要望する人も多く存在することが知見された。この要望について本発明者が鋭意調査したところ、リムには以下の利点があることが知見された。
　即ち、リムには、眼鏡の強度を維持する利点のほか、玉形レンズの輪郭を際立たせることによって、装用者の顔立ちの見え方の上でもおいてアクセントになるといった効用があることが知見された。
　本開示は、リムの有無にかかわらず玉形レンズの輪郭を適度に際立たせて外観上の効果を向上させる技術を提供することを目的とする。
　本発明の第１の態様は、
　光学面を有するレンズ基材と、
　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが玉形状に施された
　眼鏡レンズである。
　本発明の第２の態様は、
　前記除去箇所は、前記玉形状のマーキング以外の加飾パターンも構成する
　第１の態様に記載の眼鏡レンズである。
　本発明の第３の態様は、
　前記加飾パターンは前記玉形状のマーキングの内側の端に施された
　第２の態様に記載の眼鏡レンズである。
　本発明の第４の態様は、
　前記玉形状のマーキングは環状である
　第１～第３のいずれか１つの態様に記載の眼鏡レンズである。
　本発明の第５の態様は、
　外縁を縁取る縁取り線が施された玉形の眼鏡レンズと、
　前記玉形の眼鏡レンズが装着されるフレームと、を備え、
　前記眼鏡レンズは、
　光学面を有するレンズ基材と、
　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが前記縁取り線として施され、
　前記眼鏡レンズを前記フレームに装着した状態で、前記眼鏡レンズの物体面側から観察するとき、前記縁取り線は視認可能である
　眼鏡である。
　本発明の第６の態様は、
　前記除去箇所は、前記縁取り線以外の加飾パターンも構成する
　第５の態様に記載の眼鏡である。
　本発明の第７の態様は、
　前記加飾パターンは前記縁取り線の内側の端に施された
　第６の態様に記載の眼鏡である。
　本発明の第８の態様は、
　前記縁取り線は環状である
　第５～第７のいずれか１つの態様に記載の眼鏡である。
　本発明の第９の態様は、
　前記フレームのリムの種類はリムレス又はハーフリムであり、
　前記縁取り線は、少なくとも前記リムが無い箇所に疑似リムとしてマーキングされた、
　第５～第７のいずれか１つの態様に記載の眼鏡である。
　本発明によれば、リムの有無にかかわらず玉形レンズの輪郭を適度に際立たせて外観上の効果を向上させられる。
図１Ａは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図１Ｂは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す底面図である。 図２Ａは、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図２Ｂは、図２Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。 図２Ｃは、図２Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてハーフリムタイプのフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図３Ａは、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図３Ｂは、図３Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてハーフリムタイプのフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。 図４は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図５は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図６は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。 図７は、図４をベースにしたときの縁取り線の好適例を説明するための説明図である。 図８は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す正面図である。 図９は、図１Ａをベースにしたときの、加飾パターンは縁取り線の内側であって玉形形状の端（例えば四隅の少なくともいずれか）に設けられる具体例を示す図である。 図１０は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。 図１１は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズにおける薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。 図１２は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図である。 図１３は、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。
＜本実施形態の主旨＞
　以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
　図１Ａは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　図１Ｂは、本発明の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す背面図である。
　図２Ａは、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　図２Ｂは、図２Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてフルリムタイプのフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。
　図２Ｃは、図２Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてハーフリムタイプのフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。
　図３Ａは、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　図３Ｂは、図３Ａの眼鏡レンズをフレームカットしてハーフリムタイプのフレームに嵌め入れた後の眼鏡の部分概略正面図である。
　図４は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　図５は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　図６は、本発明の別の一実施形態に係る眼鏡レンズを示す正面図である。
　本明細書においては、特に言及無い限り、眼鏡を装用した状態を第三者が正面視した際の状況を論じる。
　本明細書においては、眼鏡レンズの光学中心の側を内側、眼鏡レンズの最外縁の側を外側と称する。本明細書では該光学中心を幾何中心、芯取り中心と一致させた例を挙げる。
以降、光学中心のことをレンズ中心ともいう。
　フレームカットされた玉形レンズにおいてはフレームセンターの側を内側、玉形レンズの最外縁の側を外側と称する。玉形レンズの最外縁の輪郭は、フレームカット前の眼鏡レンズ１の玉形形状５の輪郭と一致する。フレームセンターは、その名の通り、眼鏡を装用した状態を第三者が正面視した際の玉形レンズ（即ちリム内の領域）の中心位置である。
玉形レンズの中心位置は、玉形レンズに外接して玉形レンズを包含する矩形（ボクシング）の幾何中心であってもよい。該フレームセンターは該光学中心、該芯取り中心と一致させてもよい。
　以降の眼鏡レンズに係る、レンズ中心という表現を使用した規定は、フレームカット後の玉形レンズをフレームに嵌めた眼鏡においては、「レンズ中心」を「フレームセンター」に置き換えて援用可能である。
　本実施形態に係る眼鏡レンズは、
　光学面を有するレンズ基材と、
　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうる前記マーキング（又はパターニング、以下総称してマーキングという）２Ｍが玉形状に施された
　眼鏡レンズである。
　また、上記マーキング２Ｍを玉形状に施すことにより、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法としても成り立つ。
　上記記載のうちレンズ基材と反射防止膜の具体例、好適例及び変形例については＜本実施形態の一具体例＞にて後で詳述し、以下では本実施形態の大きな特徴の一つである上記マーキング２Ｍについて述べる。
　本実施形態では、反射防止膜が部分的に除去されることによりマーキングが形成される。このマーキング２Ｍは玉形状である。この「玉形状（cut lens-like）」とは、加工前のある一つの眼鏡レンズに対して予め決められた玉形形状（cut lens shape）５であってもよいしそうでなくてもよい。本明細書では「玉形状」は、玉形として使用され得る、眼鏡レンズ上の正面視での形状を指す。具体的には、玉形状は、主に弧線（レンズ中心に向かって凹）及び／又は直線で構成される。予め決められた玉形形状が複雑な形状ならば、その玉形形状に合わせて弧線以外の曲線を使用してもよい。言い方を変えると、この「玉形状のマーキング２Ｍ」からは、ワンポイントマーク（ロゴやハウスマーク）は除外される。また、製造番号等の数字、文字等も除外される。なお、これらの文字、数字、ワンポイントマークは、上記マーキング２Ｍとは別の加飾パターン３（後掲）として本実施形態の眼鏡レンズに設けてもよい。
　また、玉形マーキング２Ｍは、フレームカット後のレンズ外縁形状にならって、外縁近傍に所定の幅の帯状の領域として形成されていてもよい。後述するように、フレームカット後のレンズ外縁の一部に沿って形成されていてもよい。その場合は、後述するような所望の幅および長さをもつ帯状の領域として形成されてもよい。
　加工前のある一つの眼鏡レンズに対して玉形形状５が決定した時、この玉形状のマーキング２Ｍは、玉形形状５に対する「縁取り線２Ｍ」と言い換えてもよい。つまり、本実施形態においては加工前の眼鏡レンズに対して縁取り線２Ｍをマーキングする、とも言える。
　以降に述べる縁取り線２Ｍの各特徴は上記マーキング２Ｍにも当てはまる。以降、説明の便宜上、縁取り線２Ｍを主に挙げて説明する。
　本明細書における「縁取り線２Ｍ」とは、その名の通り、切り出し予定位置である玉形形状５の輪郭を縁取った線である。縁取り線２Ｍは、玉形形状５の輪郭の相似形状であってもよい。
　但し、この「相似」は厳密に同一の寸法比でなくともよい。なぜなら、玉形レンズは一般的に完全な円形ではなく縦横で幅が異なるため、単純に拡大縮小したときに、玉形形状５の輪郭と縁取り線２Ｍとの間の距離が、例えば上方と左方とで異なるようになるためである。そのため、縁取り線２Ｍは玉形形状５の輪郭の相似形状でありつつも、玉形形状５の輪郭と縁取り線２Ｍとの間の距離の差が１０％程度に収まるように多少の変形を加えた相似形状であってもよい。
　なお、切り出し予定位置である玉形形状５の輪郭自体は、眼鏡レンズに対してマーキングしてもしなくても構わない。玉形形状５の輪郭に重複するよう縁取り線２Ｍをマーキングする場合、自ずと、玉形形状５の輪郭が眼鏡レンズに対してマーキングされることにつながる。例えば、本実施形態に係る眼鏡レンズ１において縁取り線２Ｍの幅を大きくすれば、フレーム２Ｆへの枠入れ後の眼鏡レンズ１Ａにおいて、縁取り線２Ｍがリム形状２からはみ出る（図２Ａ、図２Ｂ）。その一方、玉形形状５と非接触の状態で（詳しく言うと玉形形状５と非接触且つその内側に）縁取り線２Ｍをマーキングしてもよい（図１Ａ、図１Ｂ、図５、図６）。
　その一方、玉形形状５の輪郭に重複せず且つ玉形形状５の輪郭から内側にずれた位置に縁取り線をマーキングしてもよい。但し、「縁取り線」と銘打つ以上、玉形形状５の輪郭から離間し過ぎない方がよい。玉形形状５の輪郭からの縁取り線までの離間距離（最短距離）は３．０ｍｍ以下、２．０ｍｍ、１．０ｍｍ以下の順に好ましい。
　本明細書における「縁取り線２Ｍ」は、上記マーキング２Ｍと同様、主に弧線及び／又は直線で構成される。縁取り線２Ｍは、閉じたループ（環状）でもよいし、開いたループ（環状の縁取り線の一部を消した状態）であってもよい。開いたループは、縁取り線の一部のみを設けた状態とも言える。
　開いたループの具体例を挙げると、図４に記載のように玉形レンズの輪郭の一部のみに縁取り線２Ｍのマーキングを行ってもよい。その際の縁取り線２Ｍの箇所は、例えば図４に記載のように４箇所（四隅）であってもよいし、それ以外の箇所であってもよい。
　本明細書の「縁取り線２Ｍ」は目視にて視認可能な部分を指す。例えば、縁取り線２Ｍを構成する閉じたループが破線と視認される場合を挙げる。この破線の実線部分は、後掲のレーザ加工によりドット状の加工を連続して行って反射防止膜の一部を線状に露出させた部分を一列に並べることにより構成される。破線の空白部分は、そのような露出を行っていない。両者の加工状態の差により、眼鏡レンズを正面視した際に破線状の縁取り線２Ｍが視認される。本明細書の「縁取り線２Ｍ」は、実際に加工された上記線状の部分を指す。なお、フレームに装着した状態の眼鏡レンズ１の場合、眼鏡レンズ１の物体面側から観察することにより、縁取り線２Ｍが視認可能となるようにする。
　例えば図７を挙げて説明する。
　図７は、図４をベースにしたときの縁取り線の好適例を説明するための説明図である。
　図７だと、加工前の眼鏡レンズのレンズ中心から見て右方水平方向を０度として反時計回りに回転させるとき、回転角１５～６０度の扇状の領域ａには縁取り線２Ｍが形成されている、と本明細書ではみなす。同様に、回転角１２０～１６５度の扇状の領域ｂ、回転角１９５～２４０度の扇状の領域ｃ、回転角３００～３４５度の扇状の領域ｄにも縁取り線２Ｍが形成されている、と本明細書ではみなす。上記扇状の領域ａ～ｄはいずれも中心角４５度である。各中心角をａ１～ｄ１と表現する。
　つまり「縁取り線２Ｍ」は、レンズ中心を中心とした一つの扇状の領域の２つの側辺間を連続して繋ぐ加工部分を指す。図７だと、縁取り線２Ｍは複数（扇状の領域ａ～ｄの各々に対応して計４本）存在している。各縁取り線２Ｍを延長すれば一つの閉じた環状の線になり得る。図７の各縁取り線２Ｍは、破線における実線部分とも言える。
　つまり、本段落の例では、縁取り線２Ｍは、中心角の合計が１８０度（ａ１＋ｂ１＋ｃ１＋ｄ１＝４５度×４）の扇状の領域内全体に縁取り線２Ｍが設けられている。
　なお、眼鏡レンズには必ず隠しマークが設けられており、フレームに装着したときの左右（水平）方向は把握可能であり、ひいては上下（垂直）方向も把握可能である。
　このように縁取り線２Ｍを定義したうえで、本実施形態では、眼鏡レンズ全体における上記合計中心角が６０度以上（好適には９０度以上、１２０度以上、１５０度以上、１８０度以上、２１０度以上、２４０度以上、２７０度以上、３００度以上、３３０度以上）の扇状の領域内全体に縁取り線２Ｍを設けてもよい。
　縁取り線２Ｍは、先に挙げた破線における実線部分でもよいし、実線そのものであってもよいし、点線における実線（例えばレーザ加工でのドット）部分であってもよい。線の数も単数であってもよいし複数であってもよい（図５参照）。線の数が複数である場合は互いに線の太さを変えてもよい。また、上記のような異なる種類の線を混在させてもよい。また、図６に示すように、破線の実線部分と空欄部分とを垂直方向に交互に配置させた市松模様状（以降、チェッカー模様という。）の縁取り線を設けてもよい。
　縁取り線２Ｍの幅（縁取り線が複数の線により構成される場合は最外側の線の最外側箇所と最内側の線の最内側箇所における最小幅）の具体的な値としては、例えば該線の最小幅を１．０ｍｍ以上としてもよい。最大幅には限定は無いが、例えば３．０ｍｍ以下としてもよい。
　上記構成を採用することにより、以下の有利な効果が奏される。
　即ち、玉形加工後（フレームに枠入れされた後）の眼鏡レンズ１Ａの意匠性を向上させ得る点である。リムには、眼鏡の強度を維持する利点のほか、玉形レンズの輪郭を際立たせることによって、装用者の顔立ちの見え方の上でもおいてアクセントになるといった効用がある。そして、上記構成を採用することにより、縁取り線がいわば疑似リムとしての機能を発揮し、リムレスの眼鏡においても、玉形レンズの輪郭を際立たせて美観を向上させられる。
　すなわち、既存のリムによる重量や視野の制限を解消しつつ、リムの外観上の機能を備えた、代替リムもつ眼鏡を得ることができる。
　或いは、既存のリムよりも、存在感の小さい、控え目な疑似リムとして適用することも可能である。
　また、既存のリムとともに上記構成を適用すれば、リムの質感を変化させ、その存在を強調させるなどの応用が可能である。
　強調の度合いは、疑似リムの寸法（太さ）によって適宜選択可能である。
　上記有利な効果は、外縁を縁取る縁取り線がマーキングされた眼鏡レンズと、フレームと、を備える眼鏡についてももたらされる。また、フレームのリムの種類はリムレス又はハーフリムであり、縁取り線は、少なくともリムが無い箇所に疑似リムとしてマーキングされてもよい（図２Ａ、図３Ａ、図３Ｂ）。
　更に、以下の有利な効果も得られる。
　玉形加工前に眼鏡レンズに欠陥が存在する場合、従来だと、玉形加工した後でなければその欠陥が玉形レンズ内に存在するか否かがわからなかった。そうなると、万全を期するならば、欠陥が存在する眼鏡レンズは玉形加工前に全て廃棄する。
　その一方、本実施形態に係る眼鏡レンズならば、玉形加工時には縁取り線２Ｍが存在し、この縁取り線２Ｍの内側に欠陥がある場合のみ眼鏡レンズを廃棄すれば済む。その結果、従来ならば廃棄するはずだった眼鏡レンズを活かすことが可能となる。
＜本実施形態の一具体例＞
　本実施形態に係る眼鏡レンズは、光学面として、物体側の面と眼球側の面とを有する。
「物体側の面（物体面）」は、眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に物体側に位置する表面である。「眼球側の面（眼球面）」は、その反対、すなわち眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に眼球側に位置する表面である。物体側の面は凸面であり、眼球側の面は凹面であること、つまり眼鏡レンズはメニスカスレンズであることが一般的である。これは、玉形加工後の眼鏡レンズ（加工後レンズ）においても同様である。
　図８は、本実施形態に係る眼鏡レンズの加工例を示す正面図である。
　本実施形態においては、正面視円形状（例えば、外径φ６０～８０ｍｍ）の眼鏡レンズ１に対して、装用者が装用する眼鏡フレームのリム形状２に合わせてレンズ外形を削る玉形加工（フレームカット加工）を行う。
　本実施形態においては、玉形加工に先立ち、縁取り線２Ｍのマーキングが前記眼鏡レンズに対して行われている。
　それとともに、本実施形態では、フレームカット後のレンズ領域内に位置するようにロゴやハウスマーク等のワンポイントマーク、文字、記号、図柄などを表す加飾パターン３の光学面上へのマーキングを行う場合を例示する。
　本明細書においては「加飾パターン３」は縁取り線２Ｍとは別のパターンを指す。本実施形態においては両者を同じ作業内容で作製している。
　前記加飾パターンは前記縁取り線の内側であって前記玉形形状５の端（例えば四隅の少なくともいずれか）に設けられてもよい。本実施形態に係る縁取り線が疑似リムとしての機能を発揮することに加え、加飾パターン３が上記端に設けられることにより加飾パターン３が良いアクセントになり、美観が更に向上する。
　上記端の定義の一環として、例えば、玉形レンズにおけるフレームセンター（玉形加工前の眼鏡レンズだとレンズ中心）を中心とした内接円の外側に加飾パターン３の少なくとも一部が存在するようにしてもよい。
　言い方を変えると、上記マーキング２Ｍの内側であって上記マーキング２Ｍの内接円の外側に加飾パターン３の少なくとも一部が存在するようにしてもよい。
　この様子を示したのが図９である。
　図９は、図１Ａをベースにしたときの、加飾パターンは縁取り線の内側であって玉形形状５の端（例えば四隅の少なくともいずれか）に設けられる具体例を示す図である。
　図９だと、少なくとも加飾パターン３のうち“ＨＯＹ”の文字は上記内接円（図中の長二点鎖線）の外側に存在する。
　マーキングは、例えば、デジタルデータに基づいて照射位置を精緻に制御可能なレーザ照射加工を利用して行うことが考えられるが、マーキングに起因してレンズ品質や機能の低下を招いてしまうことは好ましくない。そこで、本実施形態においては、縁取り線２Ｍ
　と加飾パターン３のマーキングを、以下に説明する加工手順によって行う。
［１］眼鏡レンズの製造方法
　ここで、縁取り線２Ｍと加飾パターン３のマーキングを含む眼鏡レンズの加工手順、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順について、具体的に説明する。
　図１０は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法の手順の一例を示すフロー図である。
　眼鏡レンズの製造にあたっては、まず、光学基材であるレンズ基材を用意し、そのレンズ基材に対して眼鏡装用者の処方情報に応じた研磨処理を行うとともに、必要に応じて染色処理を行う（ステップ１０１、以下ステップを「Ｓ」と略す。）。
　レンズ基材としては、例えば、屈折率（ｎＤ）１．５０～１．７４程度の樹脂材料が用いられる。具体的には、樹脂材料として、例えば、アリルジグリコールカーボネート、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート、チオウレタン系樹脂及びエピスルフィド樹脂が例示される。ただし、これらの樹脂材料ではなく、所望の屈折度が得られる他の樹脂材料によって構成してもよいし、また無機ガラスによって構成したものであってもよい。また、レンズ基材は、所定のレンズ形状を構成するための光学面を、物体側の面と眼球側の面とのそれぞれに有する。所定のレンズ形状は、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等のいずれを構成するものであってもよいが、いずれの場合も各光学面が眼鏡装用者の処方情報を基に特定される曲面によって構成される。光学面は、例えば研磨処理によって形成されるが、研磨処理を要さないキャスト（成形）品であってもよい。
　尚、レンズ基材に対する研磨処理及び染色処理については、公知技術を利用して行えばよく、ここではその詳細な説明を省略する。
　その後は、レンズ基材の少なくとも一方の光学面上、好ましくは両方の光学面上に、ハードコート膜（ＨＣ膜）を成膜する（Ｓ１０２）。
　ＨＣ膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を用いて構成されたもので、３μｍ～４μｍ程度の厚さで形成された膜である。ＨＣ膜の屈折率（ｎＤ）は、上述したレンズ基材の材料の屈折率に近く、例えば１．４９～１．７４程度であり、レンズ基材の材料に応じて膜構成が選択される。このようなＨＣ膜の被覆によって、眼鏡レンズの耐久性向上が図れるようになる。
　ＨＣ膜の成膜は、例えば、ケイ素化合物を含む硬化性材料を溶解させた溶液を用いた浸漬法（Ｄｉｐｐｉｎｇ　ｍｅｔｈｏｄ）によって行えばよい。
　ＨＣ膜の成膜後は、続いて、そのＨＣ膜に重ねるように、反射防止膜（ＡＲ膜）を成膜する（Ｓ１０３）。
　ＡＲ膜は、屈折率の異なる膜を積層させた多層構造を有し、干渉作用によって光の反射を防止する膜である。具体的には、ＡＲ膜は、低屈折率層と高屈折率層とが積層された多層構造を有して構成されている。低屈折率層は、例えば、屈折率１．４３～１．４７程度の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる。
　また、高屈折率層は、低屈折率層よりも高い屈折率を有する材料からなり、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、これらの混合物（例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））等を用いて構成される。
　このうち、ＳｎとＯを含む高屈折層は、後述の超短パルスレーザに対する反応性が、他の層に比べて大きいため、反応層として機能する。具体的には、上記のＳｎＯ２や、ＩＴＯがこれにあたる。
　本明細書における「反応層」は、レーザ照射を受けたときに励起エネルギーが低い層を指す。本発明の一実施例では、超短パルスレーザを照射する。そして、反応層となり得るＳｎＯ２層は、多光子吸収（例えば２光子吸収）により、励起エネルギーが極めて低くなり、反応性に富む。これは、ＩＴＯ層でも同様であり、ＩＴＯ層も、本明細書における反応層となり得る。
　その結果、本発明の一実施例では、該ＳｎＯ２層（或いはＩＴＯ層）の少なくとも一部は昇華又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ２層とともに、照射箇所から消失する。多層構造に含まれる他の層よりも相対的に反応性の高い反応層とは、本発明の一実施例ではＳｎＯ２層又はＩＴＯ層を指す。該反応層を、多層構造に含まれる他の層よりも最も反応性の高い反応層と設定してもよい。
　尚、多層構造のＡＲ膜の最表層は、低屈折率層（例えば、ＳｉＯ２層）となるように構成されている。このようなＡＲ膜の被覆によって、本態様のレーザ加工によるパターンは、照明光の照射により生じる可視光の反射性の差異によって、視認性向上が図れるようになる。
　また、多層構造の最下層（基材側）の層も低屈折率層（例えばＳｉＯ２層）であることが好ましい。
　ＡＲ膜の成膜は、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
　ＡＲ膜の最表層である低屈折率層上には、撥水膜を成膜するようにしてもよい。撥水膜を防汚膜と称しても構わない。尚、撥水膜の成膜は、本実施形態に係るマーキングを行う前に実施してもよいし、マーキングを行った後に実施してもよい。
　撥水膜は、表面に撥水性を与える膜で、例えばメタキシレンヘキサフロライド等のフッ素系化合物溶液を塗布することによって構成することができる。
　撥水膜の成膜は、ＡＲ膜の場合と同様に、例えば、イオンアシスト蒸着を適用して行えばよい。
　また、ＡＲ膜上には他の機能性層が成膜されていてもかまわない。かかる機能性層は、金属成分を含んでいても、含まなくても、レーザ照射による精緻な加工の効果が得られる限りにおいて問題はない。また、かかる機能層は、均一な膜であっても、表面上に散在したものであってもかまわない。
　以上のような成膜処理を経ることで、レンズ基材の光学面上には、図１１に示すような積層構造の薄膜が形成される。
　図１１は、本実施形態に係る薄膜の積層構造の一例を示す側断面図である。
　図例の積層構造は、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ２層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、最表層（すなわち撥水膜１４の側の表層）がＳｉＯ２層１３ａとなるように構成されている。
　ここで、ＳｎＯ２層は、高屈折率層であるとともに、反応層でもある。
　薄膜形成後は、続いて、図１０に示すように、その薄膜が形成された眼鏡レンズに対して、縁取り線２Ｍのマーキング、該玉形形状５の輪郭に沿ったフレームカット加工、及び加飾パターン３のマーキングを行う。
　まず、薄膜形成後の眼鏡レンズに対し、縁取り線２Ｍのマーキングを行う。縁取り線２Ｍのマーキングにあたっては、まず、ブロッキングされた状態のまま、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面（具体的には、ブロッキングされていない側の光学面）について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１０７）。計測手法は特に限定されないが、例えば非接触タイプの三次元測定機を用いて行うことが考えられる。
　加工エリアとは、後述するレーザスキャン領域を含む領域である。
　加工エリアのレンズ高さの計測後は、続いて、加工エリアにレーザ光を照射するレーザ加工を行うとともに、レーザ光の照射位置を予め用意されたパターンデータ（すなわち玉形形状５の輪郭データ）に基づいて移動させるラスタースキャンを行う（Ｓ１０８）。ラスタースキャンではなく、ベクタースキャンであってもよい。そして、本実施形態においては、フレームカット加工の前に、眼鏡レンズに対し、フレーム形状の輪郭データに基づいて、縁取り線２Ｍのマーキングを行う。
　フレームカット後に加飾加工を行う場合であれば（Ｓ１０４：カット後）、まず、加工対象となる眼鏡レンズの一方の光学面（具体的には、後述する加飾加工が施されない光学面）を専用治具に装着する治具ブロッキングを行う（Ｓ１０５）。そして、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１０６）。治具ブロッキング及びフレームカット加工については、公知技術を利用して行えばよいため、ここでは詳細な説明を省略する。
　フレームカット加工後は、次いで、加飾加工（すなわち、加飾パターンのマーキング）を行う。加飾加工の詳細、ひいては加飾パターンのマーキングのためのレーザ加工の詳細は、縁取り線２Ｍのマーキングと同様とすればよい。
　加飾パターンのマーキング後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１０９）、取り外した眼鏡レンズについてマーキングの際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１０）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１１）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
　一方、例えば、縁取り線２Ｍのマーキング後かつ加飾パターン３の加工後にフレームカットを行う場合であれば（Ｓ１０４：カット前）、Ｓ１０５と同様にまず、加工対象となる眼鏡レンズの治具ブロッキングを行う（Ｓ１１２）。次いで、加工対象となる眼鏡レンズの被加工面について、その加工エリアのレンズ高さ（すなわち、被加工面における加工エリアの三次元形状）を計測する（Ｓ１１３）。計測手法は、上述したフレームカット後に加飾加工を行う場合と同様である。
　加工エリアのレンズ高さの計測後は、続いて、加工エリアにレーザ光を照射するレーザ加工を行うとともに、レーザ光の照射位置を予め用意されたパターンデータに基づいて移動させるラスタースキャンを行う（Ｓ１１４）。ラスタースキャンではなく、ベクタースキャンであってもよい。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンのマーキングがされることになる。尚、加飾パターンのマーキングのためのレーザ加工の詳細については後述する。
　縁取り線２Ｍのマーキング後かつ加飾パターン３のマーキング後は、そのマーキング後の眼鏡レンズに対してフレームカット加工を行う。すなわち、ブロッキングされた眼鏡レンズを玉形加工機にセットして、その眼鏡レンズに対する玉形加工（フレームカット加工）を行い、その眼鏡レンズの外形をフレーム形状にカットする（Ｓ１１５）。フレームカット加工後は、専用治具から眼鏡レンズを取り外す治具デブロッキングを行い（Ｓ１１６）、取り外した眼鏡レンズについて加工の際の残存物や付着物（異物）等を除去するためのレンズ洗浄を行う（Ｓ１１７）。そして、最終的なレンズ外観検査（Ｓ１１８）を経て、眼鏡レンズの製造が完了する。
［２］レーザ加工の詳細
　次に、縁取り線２Ｍのマーキングを行う際のレーザ加工、及び、加飾パターン３をマーキングする際のレーザ加工について、更に詳しく説明する。
　本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆するＡＲ膜１３に対してレーザ光を照射し、これによりＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層を部分的に除去することで、加飾パターンのマーキングを行うことができる。
　具体的には、最表層のＳｉＯ２層を透過したレーザ光が、その下層側にあるＳｎＯ２層に到達すると、ＳｎＯ２層が照射のエネルギーによって昇華、又は蒸発し、上層側にあるＳｉＯ２層とともに、照射箇所から消失する。つまり、レーザ光を照射するレーザ加工によって最表層のＳｉＯ２層１３ａを含む所定層を部分的に除去する。このとき、照射箇所には、その下層側の高屈折率層を露出させる除去工程を経て、加飾パターンのマーキングがされるようになっている。露出させる高屈折率層は、例えば、ＺｒＯ２層１３ｃである。
　ＳｎＯ２層１３ｂについては、薄厚（例えば、３～２０ｎｍ、より好ましくは、３～１０ｎｍ）に形成することが可能となる。本態様では５ｎｍとした。
　尚、上記においてＳｎＯ２は、レーザ照射に対して最も反応性の高い、反応層として機能する。この反応層は、ＳｎとＯが含まれていることが好ましく、ＳｎＯ２のほか、ＩＴＯが使用できる。
　また、上記においては、ＳｎＯ２が昇華又は蒸発によって除去され、その下層側にある高屈折率層としてのＺｒＯ２が照射箇所に露出するが、反応層は、必ずしも完全に除去される必要はなく、照射箇所に一部が残留していてもよい。例えば、レーザ照射によって、反応層は、層の厚み方向に、少なくとも部分的に除去されてもよい。また、部分的な除去の他の一例として、レーザ照射によって、層の厚み方向のみならず、レーザ照射方向から見たとき（正面視したとき）、レーザ照射箇所において反応層が一部残存しても構わない。本段落の例で言うと、ＺｒＯ２が部分的にのみ露出していても構わない。なぜなら、ＺｒＯ２と同様、ＳｎＯ２（或いはＩＴＯ）も高屈折率材料であり、正面視した時にＳｎＯ２のせいでＺｒＯ２が完全には露出していなくとも視認性に問題は生じないためである。そのため、反応層の下層側にある高屈折率層、又は、前記高屈折率層とともに一部残留する反応層が露出していればよい。
　レーザ照射の際に生じる現象は以下のように考えられる。反応層（ＳｎＯ２やＩＴＯなど）は、積層構造に含まれる他の層にくらべて導電性の高い、導電層であることが好ましい。
　発明者の検討によると、ＳｎＯ２からなる反応層は、上層側（最表面側）のＳｉＯ２よりも、また下層側のＺｒＯ２層よりも、後述する条件でのレーザ照射を受けた際に励起が生じるバンドギャップに対応するエネルギーが小さい。このため、上層側、下層側の隣接層に比べて、最も迅速に昇華／蒸発による消失を生じやすい。
　この際、いわゆる多光子吸収（例えば２光子吸収）と呼ばれる現象が生じていると考えられ、非常に高いエネルギー効率で、加工が行い得る。そして、この際にＳｎＯ２が導電層であることが有利に作用するとみられる。
　尚、ＳｎＯ２が消失後、下層側のＺｒＯ２が照射のエネルギーによって、蒸発や溶解などによるダメージを受ける懸念については、かかるダメージの発生段階までの遅延を利用すべく、照射条件を制御することにより、実質的に反応層及びそれより上層側の層のみを除去することができる。そして、このような精緻な加工制御には、後述する超短パルスレーザを選択することが有利であることが見いだされた。
　ここで、レーザ加工に用いるレーザ加工装置について簡単に説明する。
　図１２は、本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法で用いるレーザ加工装置の概略構成例を示す説明図である。
　本実施形態において用いるレーザ加工装置は、図１２（ａ）に示すように、レーザ光源部２１と、ＡＯＭ（Ａｃｏｕｓｔｏ　Ｏｐｔｉｃｓ　Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）システム部２２と、ビームシェイパー部２３と、ガルバノスキャナ部２４と、光学系２５とを備え、これらの各部２１～２５を経てレーザ光をＡＲ膜１３に対して照射するように構成されている。図１２では、
　レーザ光源部２１は、レーザ加工に用いるレーザ光を出射するものであり、超短パルスレーザを出射するように構成されている。
　本実施形態において、超短パルスレーザのパルス幅の下限値については、特に限定されるものではなく０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。
　例えば、パルス幅が０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．０１ピコ秒以上１５ピコ秒未満であるものも使用可能である。
　更に、例えば、パルス幅が０．１ピコ秒以上１００ピコ秒未満であるもの、好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上５０ピコ秒未満であるもの、より好ましくはパルス幅が０．１ピコ秒以上１５ピコ秒未満下であるものを用いることができる。
　また、パルス幅が０．０１ピコ秒以上１ピコ秒未満（又は、０．１ピコ秒未満）であるものも使用可能である。
　超短パルスレーザの波長は、例えば、３５５ｎｍのＴＨＧ（Ｔｈｉｒｄ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）又は５３２ｎｍのＳＨＧ（Ｓｅｃｏｎｄ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）のほか、１０６４ｎｍの基本波長を用いることができる。照射においては所望の加工デザインに応じて、照射ビーム径を選択することができる。微細なデザインを解像度高く加工するために、ビーム径を小さく絞ることが有効であるが、その際には、短波長側の方が有利であるので、上記の波長のうち、５３２ｎｍが好ましく、３５５ｎｍがより好ましい。又は２６６ｎｍのＦＨＧ（Ｆｏｒｔｈ　Ｈａｒｍｏｎｉｃ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）も好適である。
　超短パルスレーザのパルスエネルギーは、例えば、５０ｋＨｚで０．１μＪ以上３０μＪ以下（最大６０μＪ程度）である。超短パルスレーザのビーム径は、例えば、１０μｍ以上３０μｍ以下である。
　発明者の検討によると、レーザ照射条件について以下のことが判明した。
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の維持管理やコストの点で、生産負荷が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。装置の維持管理、コスト、生産条件の安定性などにおいて好適。
（４）超短パルスレーザのパルス幅が１００ピコ秒以上、１ナノ秒未満の場合
　適用波長により、加工安定性に不均一が生じる。例えば適用波長として、短波長側の２６６ｎｍを用いると、ＳｎＯ２の反応とともに、下層側にダメージが生じやすい。また、３５５ｎｍでもわずかな照射条件変動によって、加工の均一性が失われ、除去加工がＳｎＯ２より下層側に到達してしまう現象を防止できない。
（５）超短パルスレーザのパルス幅が１ナノ秒以上
　ＳｎＯ２及びそれより表面側の層を選択的に除去する加工ができない。
　上記（４）、（５）の場合には、加工されたパターンの視認性に影響が生じる。例えば、眼鏡レンズにおいて、装用者の視界に干渉するリスクが生じる。また、形成された加飾パターンを観察する際、照明条件によっては観察者に対してパターンとして認識されない不完全な視認状態が生じやすい。
　上記のような不都合を防止するためには、超短パルスレーザによる除去加工が、加工径や加工深さにおいて均一であることが肝要であり、そのためには、所定の超短パルス幅を適用することで、照射によるエネルギーの持続時間、及び、下層側材料のアブレーションの遅延を制御、利用することが有用であると考えられる。
　このような超短パルスレーザを出射可能であれば、レーザ光源部２１の具体的な構成或いは波長とパルス幅との組み合わせについては、特に限定されるものではない。
　ＡＯＭシステム部２２は、ガルバノスキャナ部２４の動作開始直後及び動作終了間際におけるレーザ光のビーム出力をキャンセルすることで、レーザ加工の際の加工ムラの原因となるレーザ光の過大照射を抑制するものである。
　ビームシェイパー部２３は、レーザ光源部２１からのレーザ光について、ガウシアン型のエネルギー分布からトップハット型のエネルギー分布に変換することで、均一なエネルギー分布のレーザ光によるレーザ加工を実現可能にするものである。
　特に、トップハット型の分布を適用すると、複数のビームスポットを部分的に重畳させて、所定面積の加工領域を形成しようとするときに、安定して均一な加工が行える。スポットの重畳に起因する局所的なエネルギーの過剰付加が抑制されるためである。
　ガルバノスキャナ部２４は、レーザ光源部２１からのレーザ光の照射位置を二次元又は三次元で移動させることで、そのレーザ光による走査を実現可能にし、これにより所望パターンのマーキングをレーザ加工によって行えるようにするものである。尚、ガルバノスキャナ部２４によるレーザ光の走査可能範囲（すなわち、レーザ最大加工エリア）４は、加工対象となる眼鏡レンズの外形を完全に包含し得る大きさ及び形状に設定されているものとする（図８参照）。
　光学系２５は、テレセントリックレンズ等の光学レンズやミラーを組み合わせて構成されたもので、レーザ光源部２１からのレーザ光が眼鏡レンズの被加工箇所に到達するように、そのレーザ光を導くものである。
　また、本実施形態において用いるレーザ加工装置は、図１２（ｂ）に示すように、光学系２５等を経て行うＡＲ膜１３へのレーザ光（すなわち、超短パルスレーザ）の照射を、デフォーカス設定で行い得るように構成されている。デフォーカス設定とは、照射するレーザ光の焦点位置Ｆが、当該レーザ光による被加工箇所であるＡＲ膜１３の表面から所定のデフォーカス距離の分だけ離れて設定されていることをいう。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。ただし、必ずしもデフォーカス設定に限定されることはなく、例えば、焦点位置ＦがＡＲ膜１３の表面に合致するフォーカス設定、又はデフォーカス設定とは逆方向に焦点位置Ｆが離れるインフォーカス設定で、レーザ光の照射を行うようにしても構わない。
　続いて、以上のような構成のレーザ加工装置を用いて行うレーザ加工の手順について説明する。
　レーザ加工にあたっては、まず、加工対象となる眼鏡レンズをレーザ加工装置にセットする。このとき、眼鏡レンズの光学面、更に詳しくは当該光学面におけるＡＲ膜１３の表面が被加工面となるように、当該眼鏡レンズのセットを行う。被加工面となる光学面は物体側の面と眼球側の面とのいずれであってもよいが、ここでは例えば眼球側の面を被加工面とする。
　眼鏡レンズのセット後は、予め用意されたパターンデータ（すなわち、得ようとする加飾パターンに基づいて作成された、所定解像度のパターンデータ）に基づいて、レーザ光源部２１及びガルバノスキャナ部２４を動作させる。これにより、眼鏡レンズの被加工面の加工エリアには、加飾パターンに対応するパターン形状で、超短パルスレーザが照射される。
　超短パルスレーザが照射されると、その超短パルスレーザは、眼鏡レンズの被加工面における撥水膜１４を透過し、その被加工面におけるＡＲ膜１３に到達する。超短パルスレーザが到達すると、ＡＲ膜１３では、超短パルスレーザによる非加熱加工が行われることになる。
　本態様のアブレーション加工は、超短パルスレーザの多光子吸収現象により、エネルギー効率の高い加工を行える技術である。更に詳しくは、加工箇所周辺の熱の影響を極力抑え、レーザ光の照射箇所が瞬時に溶融、蒸発、又は昇華し、飛散することで行われる除去加工である。このような非加熱加工によれば、反応性の高い材料が、照射箇所においてが瞬時に除去されるため、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷（熱による変形等）を抑えた加工を行うことができる。
　本実施形態に係るレーザ加工は、非熱加工としてのアブレーション加工とすることができる。このような加工は、先に挙げた多光子吸収現象をもたらす多光子吸収過程（例えば２光子吸収過程）を生じさせうる。このため、レーザに対して比較的透明な（透過率が高い）材料に対しても、多光子吸収によれば、効率的で良好な加工ができる。この場合、適用できるレーザ波長の範囲は広く、レーザ光の波長としては、３５５ｎｍ（ＴＨＧ）、５３２ｎｍ（ＳＨＧ）のほか、１０６４ｎｍを有利に用いることができる。
　そして上記にて触れたとおり、上記多光子吸収を誘起するためには、パルス幅の短いピコ秒レーザ、フェムト秒レーザが有利である。具体的な数値としては、例えば、パルス幅が１００ピコ秒未満、好ましくは５０ピコ秒未満、更に好ましくは１ピコ秒未満（すなわちフェムト秒）とすることができる。
　超短パルスレーザの照射による非加熱加工が行われると、ＡＲ膜１３では、そのＡＲ膜１３を構成する多層構造のうちのＳｉＯ２を透過して反応層（本態様ではＳｎＯ２）に到達し、反応層が瞬時に反応して昇華／蒸発することに伴い、最表層であるＳｉＯ２層１３ａが、除去される。このようにして、加飾パターンに対応するパターン形状で、反射防止膜の差異表面層を含む所定の層のみが、部分的に除去される。また、これに伴って、撥水膜１４の対応部分についても除去される。これにより、照射箇所では、ＳｎＯ２層１３ｂの下層側に位置するＺｒＯ２層１３ｃが露出することになる。
　以上のようなレーザ加工を行うことで、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層が部分的に除去されて（除去箇所が形成されて）、高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出するので、これにより眼鏡レンズの被加工面に対して加飾パターンのマーキングがされることになる。
　以上のように、所定のレーザ照射が行われた照射箇所が、被加工面の内において部分的に加工されることとなる。
　縁取り線２Ｍ及び加飾パターン３の、可視光（波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の透過率は、８０％以上、例えば８０％～９５％、或いは、８０～９０％、更には８０～８５％とすることができる。また、縁取り線２Ｍ及び加飾パターン３の、可視光（波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の透過率から、両者以外の領域の可視光の透過率を引いた値は、２０％以下、１５％以下、或いは１０％以下である。この構成により、両者が装用者の視野に入ったとしても視界の邪魔になりにくく、広く、明るい視野が得られる。
［３］眼鏡レンズの構成
　次に、以上の説明した手順の製造方法によって得られる眼鏡レンズの構成、すなわち本実施形態に係る眼鏡レンズの構成について、具体的に説明する。
　図１３（ａ）は、本実施形態に係る眼鏡レンズの要部構成例を示す説明図である。
　図１３（ｂ）は、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。図例は、図１３（ａ）中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。
　図１３（ａ）に示すように、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面上に、ＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３、撥水膜１４が順に積層されて構成されている。そして、ＡＲ膜１３は、低屈折率層であるＳｉＯ２層１３ａと高屈折率層であるＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃとが積層された多層構造を有しており、その多層構造の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定層（具体的には、反応層であるＳｎＯ２層、及びそれより表面側の層）が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃが露出するように構成されている。つまり、本実施形態に係る眼鏡レンズは、レンズ基材１１の光学面がＨＣ膜１２、ＡＲ膜１３及び撥水膜１４によって被覆されている非加工領域１５と、ＡＲ膜１３における最表層のＳｉＯ２層１３ａ、その直下の層であるＳｎＯ２層１３ｂ及び撥水膜１４が部分的に除去されて、高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃｂが露出することになるレーザスキャン領域（パターン化領域）１６と、を備えて構成されている。
　非加工領域１５とレーザスキャン領域１６とは、一方はＳｉＯ２層１３ａで覆われ他方はＺｒＯ２層１３ｃ（又は反応層が一部残留する場合には、高屈折層である該反応層）が露出しているので、ＳｉＯ２層１３ａの有無により、それぞれにおける光の反射率が相違する。そのため、眼鏡レンズに照明光が照射した状態を外観視したときに、レーザスキャン領域１６が形成するパターン形状を視認し得るようになる。つまり、加飾パターンに対応するパターン形状でレーザスキャン領域１６が形成されていれば、その加飾パターンを視認することができる。このように、ＡＲ膜１３の所定層の除去箇所は、加飾パターンを構成するものとして利用することが可能となる。
　縁取り線２Ｍ及び加飾パターン３の反射率は、両者以外の領域の反射率に比べて高いことが好ましい。つまり、両者は、高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃを露出させることにより構成してもよい。
　加飾パターンを構成するレーザスキャン領域１６は、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａと、その直下の層であるＳｎＯ２層１３ｂとが除去されて形成されている。つまり、除去対象が、反応層であるＳｎＯ２を含む所定の層に止められている。そのため、ＡＲ膜１３を構成する多層構造の各層について、レーザスキャン領域１６の形成に起因して剥がれが生じてしまうのを抑制することができる。
　ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａの除去は、既述のように、超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって実現可能である。このような非加熱加工によれば、加工箇所周辺への熱影響が少なく、熱損傷が生じてしまうのを抑えることができる。また、上記所定のパルス幅を適用することにより、反応層より下層側へのダメージを抑止しつつ、安定した加工が行えるこれにより高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出することになるが、そのＺｒＯ２層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
　ＺｒＯ２層１３ｃの露出表面へのダメージを抑制できれば、そのＺｒＯ２層１３ｃでは、除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。ＳｉＯ２層１３ａ、ＳｎＯ２層１３ｂ、ＺｒＯ２層１３ｃ等の膜厚については、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡画像を取得し、その取得画像を解析することによって特定することが可能である。
　図１３（ｂ）は、ＡＲ膜１３の断面の電子顕微鏡による観察結果の一具体例を示している。図例は、図１３（ａ）中におけるＡ部及びＢ部を拡大表示したものでレーザスキャン領域１６及び非加工領域１５の電子顕微鏡画像を示している。尚、非加工領域１５では、ＳｉＯ２層１３ａ、ＳｎＯ２層１３ｂ及びＺｒＯ２層１３ｃが積層されているが、ＳｎＯ２層１３ｂが薄厚（例えば５ｎｍ程度）のため、画像中においては認識し難くなっている。一方、レーザスキャン領域１６では、ＳｎＯ２層１３ｂ及びそれより表面側のＳｉＯ２が除去されて、これによりＺｒＯ２層１３ｃが露出している。
　図例の電子顕微鏡画像によれば、ＳｎＯ２及びそれより表面側の層の除去によって露出することになるＺｒＯ２層１３ｃにおいて、レーザスキャン領域１６の部分の厚さｔ１と、非加工領域１５の部分の厚さｔ２とで、それぞれに大きな違いがないことが分かる。更に具体的には、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになっている。
　このように、露出する高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃでは、除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。レーザスキャン領域１６が超短パルスレーザの照射による非加熱加工によって形成され、下層であるＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じないからである。このことは、露出するＺｒＯ２層１３ｃの厚さの比ｔ１／ｔ２が上述の範囲内に属していれば、そのＺｒＯ２層１３ｃにダメージが及ぶことなくレーザスキャン領域１６が形成されており、そのレーザスキャン領域１６の形成が超短パルスレーザによる非加熱加工を利用して行われたものと推定できることを意味する。
　ＺｎＯ２層１３へのダメージが生じないのは、超短パルスレーザによる反応層（ここではＳｎＯ２層）の反応性が、ＺｎＯ２より高いためである。そして、この反応性の差異は、後述するように、所定のパルス幅の超短パルスレーザの適用によって、顕著に得られる。
　尚、ＳｎＯ２層に対して、ＺｒＯ２層の厚さが１０倍以上、好ましくは１５倍以上であることにより、ＳｎＯ２層が消失したのち、ＺｒＯ２層がわずかに減膜した場合においても、膜剥れのリスクや加飾パターンの視認性に影響はない。
　更に、ＳｎＯ２の融点は、１１２７℃程度であり、上層側のＳｉＯ２よりも、下層側のＺｒＯ２よりも低いことも、アブレーションの制御の容易さに関与していると考えられる。
　以上のように構成された眼鏡レンズによれば、加飾パターンがマーキングされていても、多層構造のＡＲ膜１３を構成する各層の剥がれが生じてしまうのを抑制でき、また露出するＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じてしまうこともない。そのため、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能である。
［４］本実施形態による効果
　本実施形態によれば、まず、以下の有利な点を奏する。
　一つの有利な効果は、玉形加工後（フレームに枠入れされた後）の眼鏡レンズ（玉形レンズ）１Ａの意匠性を向上させ得る点である。
　更に、以下の有利な効果も得られる。
　本実施形態に係る眼鏡レンズならば、玉形加工時には縁取り線２Ｍが存在し、この縁取り線２Ｍの内側に欠陥がある場合のみ眼鏡レンズを廃棄すれば済む。その結果、従来ならば廃棄するはずだった眼鏡レンズを活かすことが可能となる。この効果は、本実施形態に係る眼鏡レンズにおいてももたらされるし、眼鏡レンズの製造方法においてももたらされる。
　本実施形態に係る眼鏡レンズの製造方法において、ロゴやハウスマーク等のようなワンポイントマーキングを施す際に、縁取り線２Ｍと共に一括してマーキングを行えるという利点もある。
　更に具体的には、以下に示す１つ又は複数の効果が得られる。
（ａ）本実施形態においては、レンズ基材１１の光学面を被覆する薄膜の一つであるＡＲ膜１３に対して、そのＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ２）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。
（ｂ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行って、ＡＲ膜１３の反応層（上記態様ではＳｎＯ２）及びそれより表面側の層を部分的に除去し、これにより高屈折率層であるＺｒＯ２層１３ｃを露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。このような非加熱加工によれば、レーザ光の吸収エネルギー効果よりもパルス幅の効果によって除去加工を行うため、ＡＲ膜１３の最表層であるＳｉＯ２層１３ａを含む所定の層のみを選択的に、均一に除去することが可能となる。しかも、非加熱加工であるが故に、加工箇所周辺に熱損傷が生じてしまうのを抑えることができ、これにより反応層の下層側にあるＺｒＯ２層１３ｃの露出表面にダメージが生じるのを抑制することができる。
（ｃ）以上のように、本実施形態においては、超短パルスレーザを利用しつつＡＲ膜１３の最表層を含む所定の層を除去し、高屈折率層を露出させることで、眼鏡レンズに加飾パターンのマーキングを行う。従って、本実施形態によれば、ＡＲ膜１３の各層に剥がれが生じてしまうことを抑制でき、また露出するＺｒＯ２層１３ｃにダメージが生じてしまうこともないので、眼鏡レンズの製品に適用した場合であっても、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行うことが実現可能となる。
（ｄ）本実施形態においては、超短パルスレーザのパルス幅は、０フェムト秒を超えるものであればよいが、０．０１ピコ（１０フェムト）秒以上１００ピコ秒未満のものが好ましく、０．１ピコ秒以上のもの（１ピコ秒以上のものを含む。）を用いると、装置の維持管理やコストの点で有利であり、商業的な利用により好適である。
　より具体的には、レーザ照射条件について、パルス幅に応じて以下の利点がある。
（１）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。但し、装置の維持管理やコストの点で、生産負荷が大きい。
（２）超短パルスレーザのパルス幅が０．１ピコ秒以上、１ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利である。
（３）超短パルスレーザのパルス幅が１ピコ秒以上、１００ピコ秒未満の場合
　２６６～１０６４ｎｍの波長のいずれかにおいても、良好な加工が行える。波長が短い方が微細加工においてより有利。装置の維持管理、コスト、生産条件の安定性などにおいて好適。
（ｅ）本実施形態においては、超短パルスレーザの照射による非加熱加工にあたり、ＡＲ膜１３に対する超短パルスレーザの照射をデフォーカス設定で行う。このようなデフォーカス設定でレーザ光の照射を行えば、当該レーザ光が照射されるＡＲ膜１３の表面ではビームエネルギーを分散させることができ、これにより均一な膜除去加工を行うことが実現可能となる。このことは、特に、ＡＲ膜１３の表面形状の影響で被照射箇所の高さに変動が生じ得る場合に非常に有用である。
（ｆ）本実施形態においては、所定条件にて超短パルスレーザの照射による非加熱加工を行うので、ＳｎＯ２及びそれより表面側の層の除去によって露出することになる高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃの露出表面のダメージを抑制することができる。具体的には、かかる除去箇所におけるＺｒＯ２層１３ｃの厚さｔ１とＳｉＯ２層１３ａ等の非除去箇所におけるＺｒＯ２層１３ｃの厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。このように、ＺｒＯ２層１３ｃでは、上記除去加工に伴う膜厚の減少が生じていないか、又は減少が生じていてもその減少量が極めて小さくなるように抑制されている。従って、眼鏡レンズの製品に適用した場合に、その製品の品質の低下を招くことなく、眼鏡レンズに対する加飾パターンのマーキングを行う上で、非常に好ましいものとなる。
［５］変形例等
　以上に本発明の実施形態を説明したが、上述した開示内容は、本発明の例示的な実施形態を示すものである。すなわち、本発明の技術的範囲は、上述の例示的な実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
　上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって縁取り線２Ｍ（及び加飾パターン３）のマーキングを行う場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。つまり、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、光学部材の光学面に何らかのパターニングを行うためのものであればよく、縁取り線２Ｍ（及び加飾パターン３）以外のマーキングにも全く同様に適用することが可能である。
　上述の実施形態では、ＡＲ膜１３の最表層が低屈折率層としてのＳｉＯ２層１３ａであり、ＳｉＯ２層１３ａの下方側の層が高屈折率層としての反応層であるＳｎＯ２層１３ｂであり、更に下層側に高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃがあり、ＳｎＯ２がレーザ照射によって反応し、部分的に除去されると、これに伴いＳｉＯ２も除去され、これにより高屈折率層としてのＺｒＯ２層１３ｃが露出する場合を例に挙げたが、本発明がこれに限定されることはない。ＡＲ膜１３は、ＳｉＯ２層１３ａ、ＳｎＯ２層１３ｂ、ＺｒＯ２層１３ｃ以外の各層が積層されて構成されたものであってもよい。また、ＡＲ膜１３の最表層は、低屈折率層であれば、ＳｉＯ２層１３ａ以外の物であってもよい。高屈折率層としては、ＳｎＯ２層１３ｂ又はＺｒＯ２層１３ｃ以外の物であってもよい。例えば、反応層としてのＳｎＯ２層１３ｂについては、該ＳｎＯ２層１３ｂに代わって導電性を有する薄厚のＩＴＯ層としてもよい。
　上述の実施形態では、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によって、ＡＲ膜１３に含まれる反応層であるＳｎＯ２層と、その直上であって最表層であるＳｉＯ２層１３ａが除去される場合を例に挙げている。これにより、既述のように、膜剥がれを抑制できるという効果を奏する。このように、超短パルスレーザを用いた非加熱加工は、最表層を含む所定の複数層を除去するように行うことが実現可能である。最表層を含む複数層を除去する場合であっても、超短パルスレーザを用いた非加熱加工によれば、除去によって露出することになる層の露出表面へのダメージを抑制できるので、除去加工に伴う膜厚の減少についても抑制することができる。つまり、最表層を含む複数層を除去する場合であっても、除去された層の直下の層について、除去箇所の厚さｔ１と非除去箇所の厚さｔ２との比ｔ１／ｔ２が、例えば、０．９０以上１．００以下の範囲内、好ましくは０．９５以上１．００以下の範囲内、より好ましくは０．９９以上１．００以下の範囲内に属するようになる。
　本実施形態におけるレーザ加工前の眼鏡レンズは、両面に反射防止膜が設けられてもよい。該眼鏡レンズの一具体例としては国際公開公報ＷＯ２０２０／０６７４０７号に記載の内容が挙げられる。該公報の記載は本明細書にて全て参照可能である。特に該公報に記載の実施例１、２の構成（いずれか一つを挙げるとするならば実施例１）の眼鏡レンズを一具体例として採用してもよい。本実施形態における加飾前の眼鏡レンズの一具体例としては以下の通りである。
　一具体例の眼鏡レンズは、
　レンズ基材の両面に多層膜を備える眼鏡レンズであって、
　前記眼鏡レンズの各面における３６０～４００ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は６．０％以下であり、
　前記眼鏡レンズの各面における４００～４４０ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は２０．０％以上であり、
　前記眼鏡レンズの各面における４８０～６８０ｎｍの波長帯域での平均反射率の和は２．０％以下である、眼鏡レンズである
　つまり、青色領域の光のうち、特に遮断すべき紫色領域（４００～４４０ｎｍ）では各面の平均反射率の和を２０．０％以上（好適には２０．０％を超え、更に好適には２５．０％以上）とする。つまり、前記紫色領域にて局所的に反射率を増大させる。
　その代わり、紫外領域ないし紫色領域の低波長側（３６０～４００ｎｍ）では各面の平均反射率の和を６．０％以下（好適には６．０％未満、更に好適には５．０％以下）とし、紫色領域（４００～４４０ｎｍ）の場合とは逆に、局所的に反射率を減少させる。
　更に、青色の波長領域のうちの高波長側ないし赤色領域（４８０～６８０ｎｍ）では各面の平均反射率の和を２．０％以下（好適には２．０％未満、更に好適には１．５％以下）とし、可視光線の透過を狙うべく、可視光の主な波長帯域では特に局所的に反射率を減少させる。
　このような一具体例ならば、前記青色領域の光に対する遮断効果を確保しつつも可視光線の透過も確保できる。
　この一具体例の眼鏡レンズに対して本実施形態に係るレーザ加工が行われると、以下の有利な効果を奏する。この一具体例の眼鏡レンズは、青色領域の光に対する遮断効果が確保されている、つまり青色領域の光の反射率が高い。そのため、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者から前記眼鏡レンズ１を見た時、眼鏡レンズは青色に見える。その一方、レーザ加工が行われた箇所（加飾パターン３）は、レーザ加工により露出した層の色（この一具体例においてはＺｒＯ２層の色である黄色ないし金色または銀色）に見える。その結果、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者にとっては、フレームに嵌め入れられた眼鏡レンズ１において、加飾パターン３が、青色の背景に浮かび上がるように見える。その場合、意匠的な効果が高い加飾パターン３が得らえる。これは、青色の背景ではない場合、すなわち青色領域の光の反射率が高いのではなく他の色の領域の光の反射率が高い場合でも同様である。背景となる色の一例としては、眼鏡レンズ１の装用者の正面に相対する第三者から前記眼鏡レンズ１を見た時、眼鏡レンズ１は緑色又はパール色が挙げられる。
　上記の加飾パターン３の視認時の良好なコントラストの態様は、眼鏡レンズの物体側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、眼球側の面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、実現可能である。
　尚、いずれの面の各多層膜に対するレーザ加工であっても、加飾パターンが装用者の視野に入ることによる視界への干渉は実質的に生じない。すなわち本態様の加飾パターン３が施された眼鏡レンズは、装用者のクリアな視界を阻害しない。
　したがって、本態様の縁取り線や加飾パターンの形成部分は、上述のとおり可視光に対して高い透過率を有し、加飾パターン等の無い部分との透過率差が小さいため、装用者の視野に入ってもその存在が実質的に認識されない。
　例えば、本態様をリムレス、又はハーフリムの眼鏡に適用した場合には、以下のような利点が得られる。すなわち、リムレスやハーフリムを適用しつつ、レンズ外縁近傍に、公知の顔料などの色材で疑似リムを描いたり、レンズ表面に凹凸を形成するなどして疑似リム化したりすることも考えうる。しかし上述のレーザ照射によって形成された、本態様の縁取り線によれば、リムのある眼鏡で経験されるような制約、すなわち、視野が一定の領域に画定される印象や、リムによって視野外縁が暗く感じられるといった制約のある装用感から解放され、広く明るい視野を感じることができる点で、有利である。
　また、他人から装用者のレンズを観察する際（すなわち、装用者のレンズを、その物体面側から観察する際）には、室内の照明光や太陽光に対して所定の相対位置（又は角度）に装用者のレンズがあるとき、加飾パターン３が明瞭に視認されるが、上記相対位置にない場合には、視認されにくくなる。従って、所定の加飾パターン３が明瞭に現れたり、ほぼ消失したりという、視認性の変化による、デザイン上の付加価値をレンズに付与することができる。
　一方、上記の所定の相対位置関係にないときには、他人から見たとき、通常のクリアなレンズ（又は、所定のカラーレンズ、調光レンズ、偏光レンズ）として認識される。従って、リムのある眼鏡に生じるような、リムによって、装用者の顔の一部が遮られたり、影が生じたりするという事象は無く、明るく視認できる。
　本態様の加飾パターン３は、フレームカットされたレンズ領域内に形成しても、眼鏡の機能に影響せずに、所望の文字や記号、又は図柄をレンズに担持させたり、所望のデザインをレンズに施したりすることができる。
　本態様の加飾パターン３は、レンズの加工面側からでも、裏面側からでも視認しうる加工である。多層構造の反射防止膜において、一部を除去（本態様ではＳｎＯ２及びその上層側のＳｉＯ２を除去）した除去箇所においては、設計された反射防止性が低減し、非除去箇所との間で、反射光量のコントラストが得られるからである。
　本実施形態は、玉型形状に縁取り線を設けたこと自体に大きな特徴がある。この点に着目すれば、縁取り線が反射防止膜を一部露出させて構成されることは必須ではなくなる。この観点から本実施形態を以下のように表現することも可能である。以下の表現に、これまで述べてきた各構成を組み合わせても構わない。
「フレームに装着される際の玉形形状に切り出される前の眼鏡レンズであって、
　切り出し予定位置である前記玉形形状の輪郭を内側から縁取る縁取り線がマーキングされた
　眼鏡レンズ。」「外縁を縁取る縁取り線がマーキングされた眼鏡レンズと、フレームと、を備える
　眼鏡。」
　１…（玉形加工前の）眼鏡レンズ、１Ａ…（玉形加工後の）眼鏡レンズ（玉形レンズ）、２…リム形状、２Ｆ…フレーム、２Ｍ…マーキング（縁取り線）、３…加飾パターン、４…走査可能範囲、５…玉形形状、１１…レンズ基材（光学基材）、１２…ＨＣ膜、１３…ＡＲ膜、１３ａ…ＳｉＯ２層（低屈折率層）、１３ｂ…ＳｎＯ２層（高屈折率層）、１３ｃ…ＺｒＯ２層（高屈折率層）、１４…撥水膜、１５…非加工領域、１６…レーザスキャン領域（パターン化領域）、２１…レーザ光源部、２２…ＡＯＭシステム部、２３…ビームシェイパー部、２４…ガルバノスキャナ部、２５…光学系

Claims (9)

  1. 　光学面を有するレンズ基材と、
    　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
    　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
    　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
    　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが玉形状に施された
    　眼鏡レンズ。
  2. 　前記除去箇所は、前記玉形状のマーキング以外の加飾パターンも構成する
    　請求項１に記載の眼鏡レンズ。
  3. 　前記加飾パターンは前記玉形状のマーキングの内側の端に施された
    　請求項２に記載の眼鏡レンズ。
  4. 　前記玉形状のマーキングは環状である
    　請求項１～３のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
  5. 　外縁を縁取る縁取り線が施された玉形の眼鏡レンズと、
    　前記玉形の眼鏡レンズが装着されるフレームと、を備え、
    　前記眼鏡レンズは、
    　光学面を有するレンズ基材と、
    　前記レンズ基材の前記光学面を被覆する反射防止膜と、を備え、
    　前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層の積層を含む多層構造を有し、
    　前記反射防止膜は、超短パルスレーザの照射に対する反応性が、前記反射防止膜に含まれる他の層よりも相対的に高い反応層を含み、
    　前記多層構造の最表層を含む所定の層が少なくとも部分的に除去されて形成された除去箇所には、前記反応層の下層側にある前記高屈折率層、又は、一部残留する前記反応層が露出していることにより、前記除去箇所が可視光により視認しうるマーキングが前記縁取り線として施され、
    　前記眼鏡レンズを前記フレームに装着した状態で、前記眼鏡レンズの物体面側から観察するとき、前記縁取り線は視認可能である
    　眼鏡。
  6. 　前記除去箇所は、前記縁取り線以外の加飾パターンも構成する
    　請求項５に記載の眼鏡。
  7. 　前記加飾パターンは前記縁取り線の内側の端に施された
    　請求項６に記載の眼鏡。
  8. 　前記縁取り線は環状である
    　請求項５～７のいずれか１項に記載の眼鏡。
  9. 　前記フレームのリムの種類はリムレス又はハーフリムであり、
    　前記縁取り線は、少なくとも前記リムが無い箇所に疑似リムとしてマーキングされた、
    　請求項５～７のいずれか１項に記載の眼鏡。
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