JPH06210230A

JPH06210230A - スピン式コーティング装置

Info

Publication number: JPH06210230A
Application number: JP792193A
Authority: JP
Inventors: Hiroi Oketani; 大亥桶谷; Hirofumi Yamamoto; 博典山本
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1993-01-20
Filing date: 1993-01-20
Publication date: 1994-08-02
Anticipated expiration: 2017-10-21
Also published as: JP3337150B2

Abstract

(57)【要約】【構成】フォトレジスト用ノズル８を先端部に備える
アーム１１には、溶剤用ノズル１０が備えられており、
ワーク１を低速回転させながらワーク１中心部付近にフ
ォトレジストを吐出する際には、フォトレジストと所定
の距離をおいて、リング状に溶剤を吐出させる。【効果】フォトレジストの粘度が上昇して、フォトレ
ジストが拡がり難くなるワーク１の周辺部でフォトレジ
ストと溶剤が混じることにより、フォトレジストの粘度
が低下し、フォトレジストのスベリが向上するので、フ
ォトレジストの吐出量が少ない場合でも、ワーク１全面
に均一なコーティング膜を形成でき、製品のコストダウ
ンを図れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶ディスプレ
イや、ＩＣ(Integrated Circuit)、ＬＳＩ（Large Scal
e Integrated Circuit) 等の半導体の電子部品として使
用されるガラス基板やセラミックス基板等の基板上に、
フォトレジストや樹脂コート材等のコーティング材を均
一に塗布するスピン式コーティング装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】例えばＴＦＴ(Thin Film Transistor)液
晶ディスプレイの製造工程では、ガラス基板上にフォト
レジストを均一に塗布するために、図５に示すようなス
ピン式コーティング装置が用いられている。

【０００３】従来、このようなスピン式コーティング装
置では、フォトレジストによるコーティング膜が形成さ
れるガラス基板等のワーク２１が、真空吸着、もしくは
ピン等により円盤状のワーク保持チャック２２に保持さ
れている。このワーク保持チャック２２には、モータ２
７の回転駆動力が、歯付ベルト２９、ギヤ３２・３３、
及び駆動シャフト２６を介して伝達されるようになって
おり、上記ワーク２１が、このワーク保持チャック２２
と一体的に回転するようになっている。

【０００４】上記ワーク２１がワーク保持チャック２２
上にセットされると、ノズル２８が、待機位置からワー
ク２１上方に移動して、ワーク２１の中心部付近に所定
量のフォトレジストを吐出する。その後、ワーク２１を
高速回転させると、その遠心力によりフォトレジストが
ワーク２１表面に拡散される。

【０００５】また、ワーク２１を高速回転させる際に
は、上記ノズル２８がワーク２１の上方から待機位置に
戻り、同一のモータ２７の駆動力により上記ワーク保持
チャック２２と同期して回転する回転カップ２３の上面
に、トッププレート２５が当接する。このトッププレー
ト２５は、回転カップ２３と一体的に回転するので、こ
れら回転カップ２３及びトッププレート２５により、ワ
ーク２１は密閉空間に近い状態に保持される。したがっ
て、回転カップ２３内の空気も、ワーク２１と共に回転
することになり、ワーク２１周囲の気流の乱れを防止で
きるので、コーティング膜への悪影響を低減できる。

【０００６】また、上記回転カップ２３には、回転カッ
プ２３の内部と外部とを連通する連通孔２３ａ…が設け
られており、ワーク２１からはみ出した余剰なフォトレ
ジストはこの連通孔２３ａ…から回転カップ２３外部に
排出されるようになっている。さらに、回転カップ２３
から排出されたフォトレジストを受ける外部カップ２４
が設けられており、回転カップ２３から排出されたフォ
トレジストは、外部カップ２４の下部に設けられた排出
口２４ａ…から装置外部に排出されるようになってい
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
スピン式コーティング装置において、製品コストの低減
を図るために、フォトレジストの使用量を削減し、ノズ
ル２８からのフォトレジストの吐出量を減少させると、
ワーク２１の周辺部にコーティング不良部が発生すると
いう問題が生じている。

【０００８】つまり、ワーク２１を高速回転させると、
図６（ａ）に示すように、ワーク２１の中心部に略円形
状に塗布されたフォトレジスト３０は、同心円状に拡が
っていく。しかしながら、フォトレジスト３０がワーク
２１の周辺部に至るほど、時間の経過に伴ってその粘度
が上昇すると共に、ワーク２１の表面状態（接触角等）
も原因となって、ワーク２１周辺部ではフォトレジスト
３０のスベリが悪くなる。

【０００９】このため、フォトレジスト３０の吐出量が
少ない場合には、図６（ｂ）に示すように、上記ワーク
２１の周辺部に、フォトレジスト３０によりカバーでき
ない領域、すなわちコーティング不良部３１が生じるこ
とになる。特に、ワーク２１における短長辺の比が大き
くなる程、上記のようなコーティング不良部３１が発生
し易くなるため、フォトレジスト３０の使用量を削減し
て製品のコストダウンを図る上で大きな問題となってい
る。

【００１０】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、フォトレジスト等のコー
ティング材の使用量を削減した場合に、ワークがどのよ
うな形状のものであっても、コーティング不良部を生じ
ることなく、ワーク表面に均一にコーティング膜を形成
することができるスピン式コーティング装置を提供し、
製品コストの低減を実現することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るス
ピン式コーティング装置は、上記課題を解決するため
に、基板上に例えばフォトレジスト等のコーティング材
を吐出するコーティング材吐出手段が設けられ、コーテ
ィング材が吐出された上記基板を回転させることによ
り、基板上にコーティング膜を形成するスピン式コーテ
ィング装置において、上記基板上に例えばＥＣＡ(Ethyl
Cellosolve Acetate)、ＭＩＢＫ(Methyl Isobutyl Ket
one)、ＥＬ(Ethyl Alchol)等の溶剤を吐出する溶剤吐出
手段が設けられていることを特徴としている。

【００１２】また、請求項２の発明に係るスピン式コー
ティング装置は、上記課題を解決するために、請求項１
記載のスピン式コーティング装置において、上記溶剤吐
出手段は、コーティング材吐出手段による基板上のコー
ティング材吐出位置から所定の距離をおいた基板上の領
域に溶剤を吐出することを特徴としている。

【００１３】また、請求項３の発明に係るスピン式コー
ティング装置は、上記課題を解決するために、請求項１
記載のスピン式コーティング装置において、上記コーテ
ィング材吐出手段は、基板の中心部付近にコーティング
材を吐出する一方、上記溶剤吐出手段は、基板周辺部に
溶剤被膜を形成するように、例えばリング状に溶剤を吐
出することを特徴としている。

【００１４】

【作用】請求項１の構成によれば、本スピン式コーティ
ング装置には、溶剤吐出手段が設けられているので、基
板上にコーテング膜を形成する際には、コーティング材
と共に溶剤が吐出される。コーティング材は、時間が経
過するにつれて、粘度が上昇するため、回転による遠心
力を利用しても、基板上で次第に拡がり難くなるが、コ
ーティング材と共に基板上に吐出された溶剤により、こ
のような粘度の上昇を防ぐことができるので、基板上で
のコーティング材のスベリを向上させることが可能にな
る。したがって、少量のコーティング材で、基板全面に
均一なコーティング膜を形成することが可能になる。

【００１５】また、請求項２の構成では、上記溶剤吐出
手段は、基板上でのコーティング材の吐出位置と所定の
距離をおいた領域に、上記溶剤を吐出するようになって
いる。上記したように、コーティング材の粘度上昇は、
時間の経過に伴って現れるものなので、基板にコーティ
ング材を吐出してから、ある程度の時間が経過した後
に、コーティング材と溶剤とが接触するように、コーテ
ィング材から所定の距離をおいたところに、溶剤を吐出
させることにより、基板上にコーティング材を拡散させ
る際に、形成するコーティング膜の膜厚等に応じて、コ
ーティング材の粘度を適した範囲に保持することが可能
になる。

【００１６】また、請求項３の構成では、上記コーティ
ング材吐出手段により、基板の中心部付近にコーティン
グ材が吐出される一方、基板周辺部に溶剤被膜が形成さ
れるように、上記溶剤吐出手段から溶剤が、例えばリン
グ状に吐出されるようになっている。基板の中心部付近
にコーティング材を吐出した場合には、基板周辺部にコ
ーティング材が拡がっていくにつれて、粘度が上昇し、
コーティング不良部が生じ易くなるが、基板周辺部に溶
剤被膜を形成しておくことにより、基板周辺部でのコー
ティング材のスベリが向上し、短長辺の比が大きい方形
状の基板を用いた場合でも、少量のコーティング材で、
基板全面に均一なコーティング膜を形成することが可能
になる。

【００１７】

【実施例】本発明の一実施例について図１および図４に
基づいて説明すれば、以下の通りである。

【００１８】例えばＴＦＴ液晶ディスプレイの製造工程
においては、図１に示すようなスピン式コーティング装
置を用いて、ガラス基板へのフォトレジスト（コーティ
ング材）の塗布が行われている。このスピン式コーティ
ング装置には、盤状に成形されたガラス基板等のワーク
（基板）１を水平に、かつ安定に回転させるために、ワ
ーク１の一面を真空吸着もしくはピン等により同軸上に
保持して一体的に回転する円盤状のワーク保持チャック
２が設けられている。

【００１９】このワーク保持チャック２の下面側には、
駆動シャフト６の一端部が連結されている。駆動シャフ
ト６の他端部には、ギヤ１４が設けられており、モータ
７の駆動力が、このモータ７に設けられたギヤ１５か
ら、歯付ベルト９を介して、上記ギヤ１４に伝達され
る。これにより、駆動シャフト６が回転し、ワーク１を
保持するワーク保持チャック２が回転駆動されるように
なっている。

【００２０】また、上記駆動シャフト６により、ワーク
保持チャック２と同期して回転する円筒状の回転カップ
３が、上記ワーク１の下面及び側面を覆うように、かつ
回転するワーク１と接触しないように設けられている。
この回転カップ３には、回転カップ３の内部と外部とを
連通して、ワーク１からこぼれた余剰なフォトレジスト
を回転カップ３外部に排出する連通孔３ａ…が穿設され
ている。さらに、上記回転カップ３を下面側から覆うよ
うに、外部カップ４が設けられており、その下部には、
上記回転カップ３の連通孔３ａ…から排出されたフォト
レジストを装置外部に排出する排出口４ａ…が設けられ
ている。

【００２１】上記回転カップ３の上部には、上記ワーク
１を出し入れするための開口部３ｂが設けられている。
この開口部３ｂには、ワーク１を高速回転させて、ワー
ク１上にフォトレジストのコーティング膜を形成する
際、回転カップ３と略同径で円盤状のトッププレート５
が当接される。

【００２２】トッププレート５は、回転カップ３と一体
的に回転すると共に、回転する回転カップ３内を密閉空
間に近い状態に保持するので、回転カップ３内における
ワーク１周囲の気流の乱れが防止される。上記トッププ
レート５は、ワーク１の出し入れ時、コーティング膜形
成時等、必要に応じて図示しない駆動源からの駆動力に
より上下動し、回転カップ３の開口部３ｂを開閉するよ
うになっている。

【００２３】上記回転カップ３及び外部カップ４の上方
には、フォトレジストを上記ワーク１の中心部付近に吐
出するフォトレジスト用ノズル（コーティング材吐出手
段）８を先端部に備えたアーム１１が配設されている。
また、このアーム１１には、上記フォトレジスト用ノズ
ル８と所定の距離をおいた位置に、例えばＥＣＡ、ＭＩ
ＢＫ、ＥＬ等の溶剤をワーク１上に吐出する溶剤用ノズ
ル（溶剤吐出手段）１０が設けられている。

【００２４】尚、溶剤としては、上記したＥＣＡ、ＭＩ
ＢＫ、ＥＬ等に限定されるものではなく、使用するコー
ティング材の特性に応じて、相溶性の良いものを選択す
ればよい。

【００２５】上記アーム１１は、図示しない駆動源から
の駆動力により、上記フォトレジスト用ノズル８及び溶
剤用ノズル１０を伴って上下動すると共に、図２に示す
ように、アーム１１の先端部に設けられたフォトレジス
ト用ノズル８をワーク１上の中心部に略一致させるワー
ク１上の位置（図中実線で示すアーム１１の位置）と、
前記したトッププレート５の開閉動作を妨害しない待機
位置（図中二点鎖線で示すアーム１１の位置）との間を
水平に回動するようになっている。

【００２６】アーム１１が上記したワーク１上の位置に
あり、フォトレジスト用ノズル８及び溶剤用ノズル１０
からフォトレジスト及び溶剤をそれぞれ吐出させる場合
には、前記モータ７の回転駆動力により、ワーク１が低
速回転される。したがって、ワーク１の中心部には、フ
ォトレジスト用ノズル８から吐出されたフォトレジスト
により、略円形状のフォトレジスト膜１２が形成される
と共に、このフォトレジスト膜１２から所定の距離をお
いた位置に、溶剤用ノズル１０から吐出された溶剤によ
り、フォトレジスト膜１２と同心でリング状の溶剤被膜
１３が形成されるようになっている。

【００２７】また、本スピン式コーティング装置には、
アーム１１の位置や吐出量、トッププレート５の上下
動、モータ７の回転数等を検出する位置センサや回転数
センサなどの各種センサ（図示せず）が設けられてお
り、さらに、これらの各種センサからの検出信号に基づ
いて、上記アーム１１及びトッププレート５の位置、モ
ータ７の回転数等が予め記憶されているプログラムに従
って制御するマイクロコンピュータ等からなる制御手段
（図示せず）が設けられている。

【００２８】次に、上記のスピン式コーティング装置の
動作について、図３のタイミングチャートを参照しなが
ら説明する。まず、ワーク１をワーク保持チャック２の
同軸上に載置して、回転時の回転軸からのずれを防止す
るため真空吸着、もしくはピンなどでワーク１をワーク
保持チャック２上に保持する。

【００２９】このとき、回転カップ３の開口部３ｂを開
閉するトッププレート５は、回転カップ３の上面に当接
しない上方に位置しており、開口部３ｂおよび回転カッ
プ３の上方を開放しているので、回転カップ３内のワー
ク保持チャック２へのワーク１の搬入、搬出に支障はな
い。

【００３０】この後、アーム１１を上昇させて、上記待
機位置よりワーク１上に移動させ、アーム１１の先端部
に設けられたフォトレジスト用ノズル８と、ワーク１の
中心部とが略一致する位置までアーム１１を移動させる
と、再び下降させる。これにより、フォトレジスト用ノ
ズル８及び溶剤用ノズル１０を備えたアーム１１が、ワ
ーク１上の所定の位置にセッティングされたことにな
る。

【００３１】一方、回転カップ３は、アーム１１のセッ
ティングが終了した時点で、所定の回転数ｎ₁rpmで低速
回転（数十rpm 以下）するように、所定のプログラムに
従って前記モータ７の駆動力により回転駆動される。こ
れにより、回転カップ３と同一の駆動機構により駆動さ
れるワーク保持チャック２も、ワーク１を保持しながら
回転カップ３と同期して回転する。

【００３２】また、アーム１１のセッティング終了と同
時に、フォトレジスト用ノズル８及び溶剤用ノズル１０
からフォトレジスト及び溶剤が、ワーク１上にそれぞれ
所定量吐出される。これらフォトレジスト及び溶剤の吐
出が終了すると、アーム１１を再度上昇させて、待機位
置まで移動させ、アーム１１が待機位置に達すると、ア
ーム１１を再び下降させる。一方、回転カップ３の回転
は、フォトレジスト及び溶剤の吐出終了後、ｎ₁rpmの低
速回転で所定の時間継続される。

【００３３】上記回転カップ３の低速回転を停止させた
時刻Ｔ₁において、回転カップ３と同期して回転してい
たワーク１上には、図４（ａ）に示すように、その中心
部付近にフォトレジスト膜１２が円形状に形成されてい
ると共に、フォトレジスト膜１２から所定の距離をおい
てフォトレジスト膜１２を囲むように、溶剤被膜１３が
リング状に形成されている。

【００３４】アーム１１がワーク上の位置から待機位置
に戻ると、図３に示すように、上記トッププレート５を
下降させて回転カップ３の上面に当接させ、回転カップ
３の開口部３ｂを閉じることにより、回転カップ３内を
密閉空間に近い状態とする。よって、回転カップ３内の
空気においては、回転カップ３外の空気との間に生じる
対流などの相互干渉が制限される。

【００３５】次に、モータ７の駆動力により、再度回転
カップ３を回転させる。このとき、モータ７を所定のプ
ログラムに従って、回転数をｎ₂rpm（約1000rpm ）まで
上昇させる。これにより、モータ７からギヤ１４・１
５、歯付ベルト９、及び駆動シャフト６を介して伝達さ
れる回転駆動力によって、回転カップ３、ワーク保持チ
ャック２、ワーク１、及びトッププレート５が同期して
一体的に回転する。

【００３６】回転カップ３の回転開始後、時刻がＴ₂に
達すると、図４（ｂ）に示すように、ワーク１上には、
遠心力により、回転軸と同心円形状に拡がったフォトレ
ジスト膜１２と、フォトレジスト膜１２の周囲からワー
ク１の周辺端部に至る溶剤被膜１３とが形成されてい
る。このとき、フォトレジストの粘度か１０〜２０ｃＰ
程度と高粘度であるのに対し、溶剤の粘度は３ｃＰ以下
程度と低粘度であるので、フォトレジストが拡がる速度
に比べて、溶剤は、充分に速く、ワーク１の周辺部に向
かって均一に拡がり、膜厚0.１μｍ程度の薄い溶剤被膜
１３を形成することになる。

【００３７】ところで、上記のような回転によるフォト
レジスト膜１２の形成工程においては、時間の経過に伴
い、フォトレジスト中の溶剤が揮発し、フォトレジスト
膜１２の粘度が上昇するため、ワーク１の周辺部では、
フォトレジストのスベリが悪くなり、フォトレジストは
均一に拡がり難くなる。つまり、上記のようにワーク１
の周辺部に形成された溶剤被膜１３は、フォトレジスト
１２の粘度上昇を防ぐことにより、ワーク１周辺部での
フォトレジスト膜１２のスベリを向上させることを目的
として形成されたものである。

【００３８】次に、図３に示すように、Ｔ₂からＴ₃に
時刻が変化し、回転数がさらに上昇すると、フォトレジ
スト膜１２がワーク１上で拡がるにつれて、溶剤被膜１
３と混ざり、その粘度が低下する。すなわち、一旦上昇
したフォトレジスト膜１２の粘度が、上記溶剤被膜１３
と混ざることで、フォトレジスト用ノズル８から吐出し
た直後の初期粘度に近づくことになる。したがって、フ
ォトレジスト膜１２は、ワーク１の周辺部まで瞬時に拡
がり、図４（ｃ）に示すように、ワーク１全面にフォト
レジスト膜１２が均一に形成される。

【００３９】続いて、図３に示すように、回転カップ３
の回転数が上記した回転数ｎ₂rpmに達すると、所定の時
間、上記の回転数を保持して高速回転が継続され、ワー
ク１全面にフォトレジストによる均一なコーティング膜
（膜厚１〜２μｍ程度）が形成される。このような回転
カップ３の回転時においては、トッププレート５によ
り、回転カップ３内が密閉空間に近い状態で保持されて
いるので、回転カップ３内の空気もほぼ同期して回転す
る。したがって、ワーク１による風切りなど、回転カッ
プ３内の気流の乱れによるコーティング膜への悪影響が
低減され、より均一なコーティング膜の形成が可能にな
る。

【００４０】また、ワーク１上の余剰のフォトレジスト
や、溶剤等は、遠心力によりワーク１から振り飛ばさ
れ、回転カップ３の連通孔３ａ…から廃液として外部カ
ップ４内に排出される。外部カップ４内に排出された廃
液は、外部カップ４の排出口４ａ…から装置外部に排出
される。

【００４１】所定の時間が経過すると、回転カップ３の
回転を停止させ、上記トッププレート５を上方に移動さ
せて、回転カップ３の開口部３ｂを開放する。そして、
ワーク１を取り出して、コーティング膜形成操作が完了
する。

【００４２】上記のように、本実施例のスピン式コーテ
ィング装置では、フォトレジスト用ノズル８を備えたア
ーム１１に、溶剤用ノズル１０が設けられている。した
がって、ワーク１を低速回転させながら、フォトレジス
トをワーク１上に吐出させる際、フォトレジストと所定
の距離をあけて、リング状に溶剤が吐出される。この溶
剤は、フォトレジストの粘度が上昇して拡がり難くなる
ワーク１の周辺部に膜を形成するので、一旦上昇したフ
ォトレジストの粘度は、この溶剤と混じり合うことによ
り、初期粘度に近づき、ワーク１上でのフォトレジスト
のスベリが向上される。

【００４３】したがって、フォトレジストの粘度低下を
目的として、ワーク１上に溶剤を吐出することにより、
フォトレジストの粘度をコーティング膜の均一な形成に
適した範囲に保持できるので、方形状の基板をワーク１
として用い、この基板の短長辺の比が大きな場合でも、
少量のフォトレジストでコーティング不良部等を生じる
ことなく、ワーク１全面に均一なコーティング膜を形成
することが可能になる。この結果、例えばＴＦＴ液晶デ
ィプレイの製造工程におけるフォトレジストの使用量を
大幅に減少できるので、製品コストの低減が可能にな
る。

【００４４】尚、上記実施例においては、フォトレジス
ト用ノズル８と溶剤用ノズル１０とを同一のアーム１１
に設け、フォトレジストと溶剤を同時にワーク１上に吐
出させる場合を例に挙げて説明したが、これに限定され
るものではなく、フォトレジストと溶剤とを吐出させる
タイミングをずらせた場合においても本発明の適用が可
能である。また、フォトレジスト用ノズル８と溶剤用ノ
ズル１０とを異なるアームに設けて、個別に駆動するこ
とも可能であり、さらに、コーティング材および溶剤の
吐出位置についても、形成するコーティング膜の特性
や、膜厚等に応じて変更可能である。

【００４５】

【発明の効果】請求項１の発明に係るスピン式コーティ
ング装置は、以上のように、上記基板上に溶剤を吐出す
る溶剤吐出手段が設けられている構成である。

【００４６】それゆえ、経時的に変化するコーティング
材の粘度を調整することが可能になり、基板全面に均一
なコーティング膜を形成できるので、コーティング材の
使用量を削減し、製品のコストダウンが実現できるとい
う効果を奏する。

【００４７】また、請求項２の発明に係るスピン式コー
ティング装置は、以上のように、上記溶剤吐出手段が、
コーティング材吐出手段による基板上のコーティング材
吐出位置から所定の距離をおいた基板上の領域に溶剤を
吐出する構成である。

【００４８】それゆえ、コーティング材の粘度が上昇し
たときに、タイミングよく溶剤と接触するようになり、
回転によりコーティング膜を拡散していく際に適した粘
度を保持することができるので、少量のコーティング材
でも、基板全面により均一なコーティング膜を形成で
き、製品のコストダウンが実現できるという効果を奏す
る。

【００４９】また、請求項３の発明に係るスピン式コー
ティング装置は、以上のように、上記コーティング材吐
出手段が、基板の中心部付近にコーティング材を吐出す
る一方、上記溶剤吐出手段が、基板周辺部に溶剤被膜を
形成するように溶剤を吐出する構成である。

【００５０】それゆえ、コーティング材を基板中心部付
近に吐出した場合に、コーティング不良部が発生し易い
基板周辺部に溶剤被膜が形成されるので、例えば短長辺
の比が大きい方形状の基板を用いた場合でも、少量のコ
ーティング材で、基板全面に均一なコーティング膜が形
成でき、製品のコストダウンが実現できるという効果を
奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスピン式コーティング装置の概略の構
成を示す断面図である。

【図２】上記スピン式コーティング装置におけるアーム
の回動領域を示す平面図である。

【図３】上記スピン式コーティング装置における各機構
の動作を示すタイミングチャートである。

【図４】上記スピン式コーティング装置においてワーク
上のフォトレジストの拡がりを経時的に示すものであっ
て、（ａ）はフォトレジスト及び溶剤が吐出されたワー
クを示す平面図、（ｂ）はフォトレジスト膜及び溶剤被
膜が形成されたワークを示す平面図、（ｃ）はフォトレ
ジスト膜が全面に形成されたワークを示す平面図であ
る。

【図５】従来のスピン式コーティング装置の概略の構成
を示す断面図である。

【図６】上記従来のスピン式コーティング装置におい
て、（ａ）はワーク上でフォトレジストが拡がっていく
状態を示す平面図、（ｂ）はコーティング不良部が生じ
たワークを示す平面図である。

【符号の説明】

１ワーク（基板）２ワーク保持チャック６駆動シャフト７モータ８フォトレジスト用ノズル（コーティング材吐出手
段）１０溶剤用ノズル（溶剤吐出手段）１１アーム１３溶剤被膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上にコーティング材を吐出するコーテ
ィング材吐出手段が設けられ、コーティング材が吐出さ
れた上記基板を回転させることにより、基板上にコーテ
ィング膜を形成するスピン式コーティング装置におい
て、上記基板上に溶剤を吐出する溶剤吐出手段が設けられて
いることを特徴とするスピン式コーティング装置。
【請求項２】上記溶剤吐出手段は、コーティング材吐出
手段による基板上のコーティング材吐出位置から所定の
距離をおいた基板上の領域に溶剤を吐出することを特徴
とする請求項１記載のスピン式コーティング装置。
【請求項３】上記コーティング材吐出手段は、基板の中
心部付近にコーティング材を吐出する一方、上記溶剤吐
出手段は、基板周辺部に溶剤被膜を形成するように溶剤
を吐出することを特徴とする請求項１記載のスピン式コ
ーティング装置。