JPH09152718A - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
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- JPH09152718A JPH09152718A JP7309491A JP30949195A JPH09152718A JP H09152718 A JPH09152718 A JP H09152718A JP 7309491 A JP7309491 A JP 7309491A JP 30949195 A JP30949195 A JP 30949195A JP H09152718 A JPH09152718 A JP H09152718A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
出ノズルに対する配管を共通化でき、しかも現像液供給
ユニットの回動アームとリンス液供給ユニットの回動ア
ームとが基板上で干渉することのない現像装置を提供す
ることである。 【解決手段】 プリウエット液吐出ノズル403は、リ
ンス液吐出用ノズル402が設けられたリンス液供給ユ
ニット400側に設けられている。従って、プリウエッ
ト液およびリンス液として同一の液体(例えば、純水)
を使用する場合は、プリウエット液吐出ノズル403お
よびリンス液吐出用ノズル402に対する配管が共通化
でき、設備コストが安くなる。しかも、リンス液供給ユ
ニット400に含まれる回動アーム401は、基板の中
心位置に最も接近する特定角度位置においても、その先
端が基板の中心位置から所定距離だけ引退した状態にあ
るため、現像液供給ユニット300に含まれる回動アー
ム301と干渉することがない。
Description
より特定的には、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラ
ス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の
基板などの表面に形成されたフォトリソグラフィー工程
に使用されるフォトレジストや、層間絶縁膜形成用の感
光性ポリイミド樹脂などの各種感光性樹脂膜への所望の
パターンの露光後、そのパターンを現像するための装置
に関する。
えば、現像液の供給に先立ってプリウエット液を供給す
る現像装置(例えば、特開昭57−136646号公
報)がある。この現像装置は、フォトレジストの薄膜が
形成された基板表面に所望のパターンを露光した後、プ
リウエット液(純水または使用する現像液よりも現像能
力が低い水溶液)を基板表面に塗布し、その後、現像
液、リンス液を順次に供給することによって基板表面に
そのパターンを現像することを特徴としている。この基
板表面へのプリウエット液の供給は、疎水性のフォトレ
ジスト液の薄膜表面に供給される現像液が薄膜の全域に
わたって均一にいきわたるようにするために、フォトレ
ジスト液の薄膜表面の性質を親水性に改質するために行
われている。
示す斜視図である。図6において、図示しない基板支持
部材の上には、現像されるべき半導体ウエハ等の基板2
が載置されている。基板支持部材は、図示しないモータ
によって回転するように構成されている。基板支持部材
の近傍には、現像液供給ユニット3およびリンス液供給
ユニット4が配設されている。現像液供給ユニット3
は、軸AX1の回りに回動可能な回動アーム31を含
む。この回動アーム31の先端部には、垂直下方に向け
て突出する現像液吐出ノズル32およびプリウエット液
吐出ノズル33が設けられている。現像液吐出ノズル3
2は、回動アーム31の中空部を通り、配管5を介し
て、外部の現像液タンク6と連結されている。プリウエ
ット液吐出ノズル33は、回動アーム31の中空部を通
り、配管7を介して、外部の純水タンク8と連結されて
いる。一方、リンス液供給ユニット4は、軸AX2の回
りに回動可能な回動アーム41を含む。この回動アーム
41の先端部には、垂直下方に向けて突出するリンス液
吐出ノズル42が設けられている。このリンス液吐出ノ
ズル42は、回動アーム41の中空部を通り、配管9を
介して、外部の純水タンク8と連結されている。
現像装置では、プリウエット液吐出ノズル33は、リン
ス液吐出ノズル42と同様に純水を使用するにもかかわ
らず、リンス液供給ユニット4側ではなく、現像液供給
ユニット3側に付加されている。そのため、純水タンク
8からの配管が2本(配管7および9)必要となり、設
備費が高くなるという問題点があった。
にするために、プリウエット液吐出ノズル33をリンス
液供給ユニット4側に設けるか、またはリンス液吐出ノ
ズル42をプリウエット液吐出ノズル33として代用す
ることが考えられる。しかしながら、現像液の供給は、
プリウエット終了後、即座に行わなければならない。ま
た、プリウエット液吐出ノズル33は、プリウエット液
供給時に、基板2の中央部に移動させる必要がある。こ
れらの条件を満足させた上で、プリウエット液吐出ノズ
ル33をリンス液供給ユニット4側に設けるか、または
リンス液吐出ノズル42をプリウエット液吐出ノズル3
3として代用した場合、回動アーム3と4が基板2の中
央部で干渉する事態が生じ好ましくない。
液吐出ノズルおよびリンス液吐出ノズルに対する配管を
共通化でき、しかも現像液供給ユニットの回動アームと
リンス液供給ユニットの回動アームとが基板上で干渉す
ることのない現像装置を提供することである。
は、基板表面に対して現像処理を行う現像装置であっ
て、基板を載置し、当該載置された基板を回転させる基
板回転手段、基板回転手段の近傍に設けられ、そこに載
置された基板に対してプリウエット液およびリンス液を
供給する第1の液供給ユニット、および基板回転手段の
近傍に設けられ、そこに載置された基板に対して現像液
を供給する第2の液供給ユニットを備え、第1の液供給
ユニットは、基板と平行な面内を回動自在であり、基板
の中心位置に最も接近する特定角度位置においても、そ
の先端が基板の中心位置から所定距離だけ引退した状態
にある第1の回動アームと、第1の回動アームの先端近
傍に設けられ、当該第1の回動アームが特定角度位置に
あるときに、基板の中心位置を狙うように、斜め下方に
向けて位置決めされたプリウエット液吐出ノズルと、第
1の回動アームの先端近傍に設けられ、垂直下方に向け
て突出するリンス液吐出用ノズルとを含み、第2の液供
給ユニットは、基板と平行な面内を回動自在であり、そ
の先端が基板の中心位置に最も接近する特定角度位置に
おいて、その先端が基板の中心位置のほぼ直上にある第
2の回動アームと、第2の回動アームの先端近傍に設け
られ、垂直下方に向けて突出する現像液吐出ノズルとを
含む。
液吐出ノズルは、リンス液吐出用ノズルが設けられた第
1の液供給ユニット側に設けられている。従って、プリ
ウエット液およびリンス液として同一の液体(例えば、
純水)を使用する場合は、プリウエット液吐出ノズルお
よびリンス液吐出用ノズルに対する配管が共通化でき、
設備コストが安くなる。しかも、第1の液供給ユニット
に含まれる第1の回動アームは、基板の中心位置に最も
接近する特定角度位置においても、その先端が基板の中
心位置から所定距離だけ引退した状態にあるため、第2
の液供給ユニットに含まれる第2の回動アームと干渉す
ることがない。
る現像装置の構成を示す斜視図である。図2は、図1に
示す現像装置の要部斜視図である。図3は、図1に示す
現像装置の要部側面図である。まず、これら図1〜図3
を参照して、本発明の一実施形態の構成を説明する。
半導体ウエハ等の基板2が載置されている。基板支持部
材1は、モータ10によって回転するように構成されて
いる。基板支持部材1の近傍には、現像液供給ユニット
300およびリンス液供給ユニット400が配設されて
いる。現像液供給ユニット300は、軸AX1の回りに
回動可能な回動アーム301を含む。この回動アーム3
01の先端部には、垂直下方に向けて突出する2本の現
像液吐出ノズル302aおよび302bが設けられてい
る。これら現像液吐出ノズル302aおよび302b
は、回動アーム301の中空部を通り、配管5を介し
て、外部の現像液タンク6と連結されている。一方、リ
ンス液供給ユニット400は、軸AX2の回りに回動可
能な回動アーム401を含む。この回動アーム401の
先端部には、垂直下方に向けて突出するリンス液吐出ノ
ズル402および斜め下方に向けて突出するプリウエッ
ト液吐出ノズル403が設けられている。リンス液吐出
ノズル402は、回動アーム401の中空部を通り、配
管9を介して、外部の純水タンク8と連結されている。
プリウエット液吐出ノズル403は、回動アーム401
の中空部を通り、配管9を介して、外部の純水タンク8
と連結されている。
02は、回動アーム401が所定角度位置にきたとき
に、基板2の中心位置Oとその周端部との間のほぼ中央
部直上に位置するように、その取り付け位置が決められ
ている。また、プリウエット液吐出ノズル403は、回
動アーム401が上記所定の角度位置にきたときに、基
板2の中心位置Oを狙うようにその取り付け位置および
傾斜角度が決められている。
体の流路を示す図である。図4において、現像液タンク
6には、現像処理に使用される現像液が貯留されてい
る。また、純水タンク8には、プリウエットおよびリン
ス用の純水が貯留されている。
管5を介して加圧ポンプ11に供給され、この加圧ポン
プ11で所定の圧力がかけられた後、現像液吐出ノズル
302aおよび302bに出力される。なお、本現像装
置において、2本の現像液吐出ノズル302aおよび3
02bを設けたのは、基板2への現像液供給時に、十分
な吐出量を得るためである。もし、1本の現像液吐出ノ
ズルでも、十分な吐出量が得られる場合は、現像液吐出
ノズル302aまたは302bを省略することができ
る。
を介して加圧ポンプ12に供給され、この加圧ポンプで
所定の圧力がかけられた後、切換バルブ13に供給され
る。切換バルブ13は、プリウエット時には、供給され
た純水を、プリウエット液吐出ノズル403のみに出力
する。また、切換バルブ13は、リンス時には、供給さ
れた純水を、リンス液吐出ノズル402およびプリウエ
ット液吐出ノズル403の両方に出力する。
フローチャートである。以下、この図5を参照して、本
実施形態の動作を説明する。まず、初期時において、現
像液供給ユニット300の回動アーム301およびリン
ス液供給ユニット400の回動アーム401は、いずれ
もホームポジション(基板2外の位置)に待避している
ものとする。特に、リンス液吐出ノズル402およびプ
リウエット液吐出ノズル403は、待機ポット14上に
位置しており、配管内のバクテリア繁殖を防ぐために、
純水のスローリーク状態(少しずつ純水が漏れている状
態)にある。また、モータ10は回転しておらず、基板
2は停止している。
ータ10が基板2を回転させる(ステップS1)。次
に、リンス液吐出ノズル402およびプリウエット液吐
出ノズル403における純水のスローリーク状態が停止
される(ステップS2)。次に、リンス液供給ユニット
400の回動アーム401が所定角度位置まで回動され
る(ステップS3)。これによって、プリウエット液吐
出ノズル403は、基板2の中心位置Oを狙うことにな
る。次に、現像液供給ユニット300の回動アーム30
1が所定角度位置まで回動される(ステップS4)。こ
れによって、現像液吐出ノズル302aおよび302b
のいずれか一方が基板2の中位置Oの直上に位置し、い
ずれか他方がその近傍に位置する。このとき、リンス液
吐出ノズル402およびプリウエット液吐出ノズル40
3は、図2に示すように、基板2の中心位置Oから径方
向に引退した状態にあるので、回動アーム301と40
1が干渉することがない。
の供給が開始される(ステップS5)。すなわち、加圧
ポンプ12によって加圧された純水が、流量0.6〜
1.0リットル/min程度で、切換バルブ13を介し
て、プリウエット液吐出ノズル403に供給され、基板
2上に吐出される。このとき、モータ10かつ従って基
板2は、1000rpm程度の回転数で回転している。
このプリウエット処理は、5〜10秒程度、好ましくは
5秒程度行われ、その後、プリウエット液吐出ノズル4
03に対する純水の供給が停止される(ステップS
6)。なお、プリウエット処理は、基板2を回転させず
に停止した状態で行うようにしても良い。
される(ステップS7)。すなわち、加圧ポンプ11に
よって加圧された現像液が、流量0.5〜1.3リット
ル/min程度で、現像液吐出ノズル302aおよび3
02bに供給され、基板2上に吐出される。このとき、
モータ10の回転数が100rpm程度まで低下される
(ステップS8)。現像液の供給は、2〜3秒間行わ
れ、その後停止される(ステップS9)。その後、基板
2の表面に供給された現像液による現像作用を保持する
ために、モータ10による基板2の回転が一定時間(例
えば50秒間)停止される(ステップS10)。このモ
ータ10かつ従って基板2の停止中に、現像液供給ユニ
ット300の回動アーム301が回動し、現像液供給ユ
ニット300は、ホームポジションに待避する(ステッ
プS11)。
モータ10が再び基板2を回転させる(ステップS1
2)。このとき、基板2の回転数は、1000rpm程
度である。次に、基板2に対するリンス用純水の供給が
開始される(ステップS13)。すなわち、加圧ポンプ
12によって加圧された純水が、流量0.6〜0.8リ
ットル/min程度で、切換バルブ13を介して、リン
ス液吐出ノズル402およびプリウエット液吐出ノズル
403に供給され、基板2上に吐出される。このリンス
処理は、例えば10〜15秒程度行われる。
面が乾燥される。すなわち、モータ10が基板2を、4
00〜5000rpm程度で高速に10〜15秒程度回
転駆動することにより、基板2表面に付着しているリン
ス液を飛散させて液切りする(ステップS14)。この
乾燥処理の間に、リンス液供給ユニット400の回動ア
ーム401が回動し、リンス液供給ユニット400は、
ホームポジションに待避する(ステップS15)。リン
ス液供給ユニット400がホームポジションに待避する
と、リンス液吐出ノズル402およびプリウエット液吐
出ノズル403における純水のスローリーク状態が再開
される(ステップS16)。
として、純水を用いるようにしたが、現像液を所定の濃
度まで希釈したものを用いても良い。
ある。
す図である。
トである。
Claims (1)
- 【請求項1】 基板表面に対して現像処理を行う現像装
置であって、 前記基板を載置し、当該載置された前記基板を回転させ
る基板回転手段、 前記基板回転手段の近傍に設けられ、そこに載置された
基板に対してプリウエット液およびリンス液を供給する
第1の液供給ユニット、および前記基板回転手段の近傍
に設けられ、そこに載置された基板に対して現像液を供
給する第2の液供給ユニットを備え、 前記第1の液供給ユニットは、 前記基板と平行な面内を回動自在であり、前記基板の中
心位置に最も接近する特定角度位置においても、その先
端が前記基板の中心位置から所定距離だけ引退した状態
にある第1の回動アームと、 前記第1の回動アームの先端近傍に設けられ、当該第1
の回動アームが前記特定角度位置にあるときに、前記基
板の中心位置を狙うように、斜め下方に向けて位置決め
されたプリウエット液吐出ノズルと、 前記第1の回動アームの先端近傍に設けられ、垂直下方
に向けて突出するリンス液吐出用ノズルとを含み、 前記第2の液供給ユニットは、 前記基板と平行な面内を回動自在であり、その先端が前
記基板の中心位置に最も接近する特定角度位置におい
て、その先端が前記基板の中心位置のほぼ直上にある第
2の回動アームと、 前記第2の回動アームの先端近傍に設けられ、垂直下方
に向けて突出する現像液吐出ノズルとを含む、現像装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30949195A JP3359208B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30949195A JP3359208B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH09152718A true JPH09152718A (ja) | 1997-06-10 |
JP3359208B2 JP3359208B2 (ja) | 2002-12-24 |
Family
ID=17993638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30949195A Expired - Fee Related JP3359208B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 現像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3359208B2 (ja) |
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1995
- 1995-11-28 JP JP30949195A patent/JP3359208B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP3359208B2 (ja) | 2002-12-24 |
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