JPH07245466A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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Publication number
JPH07245466A
JPH07245466A JP3244894A JP3244894A JPH07245466A JP H07245466 A JPH07245466 A JP H07245466A JP 3244894 A JP3244894 A JP 3244894A JP 3244894 A JP3244894 A JP 3244894A JP H07245466 A JPH07245466 A JP H07245466A
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JP
Japan
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pure water
substrate
developing solution
processing liquid
cup
Prior art date
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Pending
Application number
JP3244894A
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English (en)
Inventor
Eiji Okuno
英治 奥野
Takeshi Fukuchi
毅 福地
Kazuo Kise
一夫 木瀬
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像液、純水等の相互に種類の異なる複数の
処理液を迅速かつ高精度に分離すること。 【構成】 主ノズル6aは、チャック4aに保持された
基板2の表面に向けて現像液を供給する。副ノズル6b
は、主ノズル6aと異なるタイミングで基板2の表面に
向けて純水を供給する。回転駆動装置4bは、各ノズル
6a、6bからの現像液若しくは純水の供給後にチャッ
ク4aを回転させて基板2表面の現像液若しくは純水を
振り切る。ポンプ10bで負圧に保たれたトラップタン
ク10aは、カップ8の底部に形成されているドレン1
8を介して現像液を吸引回収する。ポンプ12bで負圧
に保たれたトラップタンク12aは、カップ8の底部に
形成されているドレン18を介して純水を吸引回収す
る。駆動制御装置14は、現像液と純水の供給タイミン
グに応じて各ポンプ10b、12bを択一的に動作さ
せ、現像液と純水を完全に分離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板(液晶用ガラス角
型基板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用ガラス基板、
フォトマスク用基板、サーマルヘッド用セラミック基
板、プリント基板など)に現像液、エッチング液、剥離
液などの高濃度の処理液を供給した後、純水やリンス液
などの低濃度の処理液を供給して、基板に対して現像、
エッチング、剥離などの表面処理を行う基板処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来の基板処理装置、例えば現像装置で
は、基板保持手段たるスピンチャックに保持された基板
の表面にまず現像液を供給して基板表面の現像処理を開
始し、所定の現像時間経過後にスピンチャックを回転駆
動することでスピンチャック上の基板を回転させて現像
液を振り切り、さらに基板を回転させた状態のままで純
水などの洗浄液を基板表面に供給してリンス処理を行
い、最後に基板の回転速度を上げて洗浄液を振り切るよ
うに構成されている。このような装置においては、互い
に種類の異なる処理液(上記現像装置では現像液と洗浄
液が相当する)を混合させずに別々に回収することが望
ましく、そのために種々の提案がなされている。
【0003】たとえば、図6に示すように、実公平4−
34902号公報において、基板回転時の処理液の飛散
を防止するカップ301、302、303を3重構造と
し、基板304の高さを調節して、回転時に振り切られ
る3種類の処理液(例えば、現像液、エッチング液、及
びリンス液)を内側から順に別々のカップ301、30
2、303で受け、各処理液を自然流下により分離回収
するスピン処理装置が提案されている。しかしながら、
この装置では、3重構造のカップ301、302、30
3と基板304の高さ調整を行うための上下動機構とを
必要とするので、装置が大きくなってしまうとともに装
置内の構造が複雑になるという欠点がある。
【0004】本発明の目的は、装置を大きくしたりその
内部の構造を複雑にしたりすることなく、互いに種類の
異なる複数の処理液を良好に分離して回収することが可
能な基板処理装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この発明の基板処理装置は、基板を保持する基板保
持手段と、基板保持手段に保持された基板の表面に向け
て第1の処理液を供給する第1処理液供給手段と、基板
保持手段に保持された基板の表面に向けて第1の処理液
とは時系列的に異なる時点で第1の処理液とは異なる第
2の処理液を供給する第2処理液供給手段と、第1及び
第2処理液供給手段からの第1若しくは第2の処理液の
供給後に基板保持手段を回転させて基板表面の処理液を
振り切る回転手段と、基板保持手段の回転にともなって
基板表面から振り切られる第1及び第2の処理液を受け
るカップと、カップの底部にそれぞれ接続されるととも
にこのカップに受けられた処理液を吸引して回収する第
1及び第2回収手段と、第1及び第2回収手段を第1及
び第2処理液供給手段の動作と回転手段の動作とに同期
させて選択的に動作させる切換手段とを備えることを特
徴とする。
【0006】
【作用】この発明の基板処理装置では、切換手段が、第
1及び第2回収手段を、第1及び第2処理液供給手段の
動作と回転手段の動作とに同期させて選択的に動作させ
るので、第1及び第2の処理液をそれぞれ第1及び第2
回収手段に分離して迅速に回収することができる。すな
わち、第1の処理液がカップに溜まるときに第1回収手
段を吸引動作させ、第2の処理液がカップに溜まるとき
に第2回収手段を吸引動作させることにより、互いに異
なる第1及び第2の処理液を互いに異なる第1及び第2
回収手段にそれぞれ迅速に回収することができる。しか
も、第1及び第2回収手段がカップの底部に接続されて
いるので、第1及び第2回収手段を選択的に動作させる
ことにより、互いに異なる第1及び第2の処理液を高精
度で分離して第1及び第2回収手段にそれぞれ個別に回
収することができる。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の実施例につ
いて詳細に説明する。
【0008】図1は、本発明の基板処理装置を現像処理
装置に適用した実施例の概略図である。図示のように、
この現像処理装置は、2点鎖線で示す角型基板2(以下
単に基板)を吸引保持するスピンチャック4aと、この
スピンチャック4aを回転駆動してスピンチャック4a
上の基板2を回転させる回転駆動装置4bと、基板2に
第1の処理液である現像液を上方から吐出供給する主ノ
ズル6aと、基板2に第2の処理液であるリンス用の純
水を上方から吐出供給する副ノズル6bと、現像液及び
純水が装置周辺に飛散することを防止するとともに、基
板2の回転によってこの基板2から振り切られる現像液
及び純水を受けて溜めるカップ8と、このカップ8の受
け皿部分8bの底部に溜まった現像液を吸引回収する第
1吸引回収装置10と、受け皿部分8bの底部に溜まっ
た純水を吸引回収する第2吸引回収装置12と、第1及
び第2吸引回収装置10、12を選択的に切り換え動作
させる駆動制御装置14とを備える。
【0009】要部についてより詳細に説明する。カップ
8は、側方で現像液及び純水の処理液を受ける側壁部分
8aと、流下する現像液及び純水の処理液を下向で受け
てこれらの処理液を溜める受け皿部分8bとを備える。
この受け皿部分8bは、側壁部分8aと同心で、垂直断
面が略V字となっている。この結果、この受け皿部分8
bの略V字の底部8cおよびその上部領域に処理液が溜
まる。この底部8cの円周上には、処理液を回収するた
めのドレン18が複数個等間隔で形成されている。各ド
レン18は、互い違いに第1の配管28と第2の配管3
8に接続されている。受け皿部分8bの外側斜面には、
一対の排気管8dが形成され、カップ8内の処理液のミ
ストを排気する。
【0010】図2は、各ドレン18と第1及び第2の配
管28、38との接続を部分的に示した概略図である。
図示のように、カップ8の受け皿部分8bに形成された
ドレン18は、この受け皿部分8bの底部8c近傍に形
成されたエアー弁48を介して交互に第1の配管28と
第2の配管38とに接続されている。第1の配管28
は、現像液の回収のためのもので、現像液用の第1吸引
回収装置10を構成する第1トラップタンク10aに接
続されている。第2の配管38は、純水の回収のための
もので、純水用の第2吸引回収装置12を構成する第2
トラップタンク12aに接続されている。
【0011】図1に戻って、第1及び第2吸引回収装置
10、12について説明する。第1トラップタンク10
aは、第1吸引ポンプ10bに接続されている。この第
1吸引ポンプ10bを動作させることにより、第1トラ
ップタンク10aの内圧が負圧に保たれる。この第1吸
引ポンプ10bは、駆動制御装置14の制御のもとで、
現像液の回収時にのみ動作する。この結果、この第1ト
ラップタンク10a内には、カップ8の受け皿部分8b
の底部8cに溜まった現像液が、ドレン18、エアー弁
48及び第1の配管28を介して迅速に吸引回収され一
時的に第1トラップタンク10a内に貯留される。こう
して第1トラップタンク10aに貯留された現像液は、
現像液タンク10cに適宜収容される。
【0012】一方、第2トラップタンク12aは、第2
吸引ポンプ12bに接続されている。この第2吸引ポン
プ12bは、駆動制御装置14の制御のもとで、純水の
回収時にのみ、第2トラップタンク12aの内圧を負圧
に保つ。この結果、この第2トラップタンク12a内に
は、カップ8の受け皿部分8bの底部8cに溜まった純
水が、ドレン8d、エアー弁48及び第2の配管38を
介して迅速に吸引回収され一時的に第2トラップタンク
12a内に貯留される。第2トラップタンク12aに貯
留された純水は、純水タンク12cに適宜収容される。
【0013】駆動制御装置14は、主ノズル6aからの
現像液の供給タイミングと副ノズル6bからの純水の供
給タイミングとスピンチャック4bを回転させる回転駆
動装置4bの動作タイミングに同期して、第1及び第2
吸引ポンプ10b、12bを選択的に切替えて動作させ
る。この結果、現像液のみを第1トラップタンク10a
に吸引回収させることができ、かつ純水のみを第2トラ
ップタンク12aに吸引回収させることができる。
【0014】図3は、現像処理装置の動作を示すタイミ
ングチャートである。図3(a)は、主ノズル6aから
の現像液の供給を示し、図3(b)は、副ノズル6bか
らのリンス用の純水の供給を示し、図3(c)は、スピ
ンチャック4aの回転数を示し、図3(d)は、第1吸
引ポンプ10bの動作を示し、図3(e)は、第2吸引
ポンプ12bの動作を示す。
【0015】現像処理工程では、予め第1吸引ポンプ1
0bを起動して第1トラップタンク10a内を負圧にす
る。この状態で、現像液を基板2上に供給しつつスピン
チャック4aを所定の回転数になるまで加速し回転数を
維持する。カップ8の受け皿部分8bの底部8cに溜ま
った現像液は、ドレン18を介して第1トラップタンク
10aに吸引されて迅速に回収される。その後、現像液
の供給が停止された後もスピンチャック4aの回転数が
維持されるので、基板2の表面から現像液が完全に振り
切られて、現像液は、残らず第1トラップタンク10a
に回収される。この場合、ドレン18が受け皿部分8b
の底部8cに接続されているので、受け皿部分8bに溜
まった現像液が後のリンス処理で供給される純水に混入
することを有効に防止することができる。また、現像液
を負圧で吸引しているので、ドレン18の配管径を極め
て小さくすることができる。したがって、ドレン18の
配管内に残留する現像液の量を抑えることができ、後の
リンス処理で供給される純水との混合をより効果的に防
止することができる。すなわち、高純度の現像液の再生
循環用の回収率を高めて、原料コスト、廃液処理コスト
を低減することができる。
【0016】次のリンス処理工程では、第1吸引ポンプ
10bを停止し、第2吸引ポンプ12bを起動させて第
2トラップタンク12a内を負圧にする。この状態で、
リンス用の純水を基板2上に供給しつつスピンチャック
4aを所定の回転数になるまで加速し回転数を維持す
る。カップ8の受け皿部分8bの底部8cに溜まった純
水は、ドレン18を介して第2トラップタンク12aに
吸引されて迅速に回収される。その後、純水の供給を停
止し、スピンチャック4aをさらに加速して回転数を高
め、基板2の表面から純水を完全に振り切る。この結
果、振り切られた純水は、残らず第2トラップタンク1
2aに回収される。この場合も、ドレン18が受け皿部
分8bの底部8cに形成されているので、受け皿部分8
bに溜まった純水が次の現像処理で供給される現像液と
混合することを有効に防止することができる。また、純
水を負圧で吸引しているので、ドレン18の配管径を極
めて小さくすることができ、ドレン18の配管内に残留
する純水の量を抑えることができ、次の現像処理で供給
される現像液との混合をより効果的に防止することがで
きる。すなわち、純水の回収率を高めて、原料コスト、
廃液処理コストを低減することができる。
【0017】このようなリンス処理工程で最初の基板の
現像処理を終了する。次に、基板2を交換して、上記の
ような現像処理工程とリンス処理工程とのサイクルを順
次繰返す。
【0018】次に、図4に基づいて第2実施例を説明す
る。各部の詳細は、図1の第1実施例と共通する部分が
多いので、共通部分には同一符号を付し、異なる部分に
ついてのみ説明する。カップ8’は、本質的に第1実施
例と異ならないが、飛散を防止するためのカバーが形成
され、受け皿部分の底部がわずかな領域でほぼ平坦に形
成されている。この受け皿部分の底部に形成された各ド
レン18の直下には、エアー駆動の3方弁58がそれぞ
れ接続されている。これらの3方弁58の排出側の一方
のポートには、現像液回収用の第1の配管28が接続さ
れ、排出側の他方のポートには、純水回収用の第2の配
管38が接続されている。第1の配管28は、現像液用
の第1トラップタンク10aに連通され、第2の配管3
8は、純水用の第2トラップタンク12aに連通され
る。第1及び第2トラップタンク10a、12aは、そ
れぞれ第1及び第2吸引ポンプ10b、12bによっ
て、適宜選択的に負圧に維持される。
【0019】この第2実施例のように、各ドレン18を
現像液と純水とで共通にし、3方弁58で現像液と純水
との排出を切替えるようにした場合、第1実施例の場合
よりも現像液及び純水の分離精度を高めることができ
る。
【0020】すなわち、第1実施例の現像処理装置のド
レン18のうち現像液の回収時に負圧で吸引されていな
いドレンの配管内に現像液がわずかながら溜まって純水
回収時に純水とともに吸引されてしまうおそれがある
(ドレン18の径が極めて細い場合、現像液の表面張力
等によってここに現像液が溜まらない場合もある)。ま
た、第1実施例のドレン18のうち純水の回収時に負圧
で吸引されていないドレンの配管内に純水がわずかなが
ら溜まって現像液回収時に現像液とともに吸引されてし
まうおそれがある(ドレン18の径が極めて細い場合、
上記と同様に純水が溜まらない場合もある)。
【0021】一方、第2実施例の現像処理装置では、現
像液と純水とでドレン18を共通のものとしているの
で、各ドレン18から現像液が完全に回収された後にリ
ンス処理を施すことができ、各ドレン18から純水が完
全に回収された後に現像処理を施すことができるので、
現像液と純水をより完全に分離することができる。この
場合、ドレン18の配管径を小さくすることで、ドレン
18の配管内面に付着する現像液の量を抑えることがで
き、後のリンス処理で供給される純水との混合をより効
果的に防止することができる。
【0022】次に、図5に基づいて第3実施例を説明す
る。カップ8の受け皿部分の底に形成された各ドレン1
8からの配管は、直下で分岐されて、現像液回収用の第
1の配管28と純水回収用の第2の配管38とに直接接
続される。第1の配管28は、現像液用の第1トラップ
タンク10aに連通され、第2の配管38は、純水用の
第2トラップタンク12aに連通される。
【0023】この第3実施例のように、各ドレン18を
第1及び第2の配管28、38に直結した場合、各ドレ
ン18が現像液と純水とで共通になり、上記第2実施例
同様に、第1実施例の場合よりも現像液及び純水の分離
精度を高め得る。ただし、現像液の吸引中に第2の配管
38の内圧を第1の配管28の内圧よりも十分に大きく
保っていなければ、第2の配管38内に現像液が混入し
てしまう。また、純水の吸引中に第1の配管28の内圧
を第2の配管38の内圧よりも十分に大きく保っていな
ければ、第1の配管内に純水が混入してしまう。この場
合、十分な圧力差を確保するため、現像液の吸引中に、
第2の配管38に接続されている第2トラップタンク1
2aに適当な加圧装置からの加圧空気を供給し、純水の
吸引中に、第1の配管28に接続されている第1トラッ
プタンク10aに前述の加圧装置からの加圧空気を供給
することもできる。
【0024】以上、実施例に即して本発明を説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。
【0025】例えば、現像液及び純水の他、プレ現像液
を用いて基板2に現像液がなじみやすいようにする場
合、プレ現像液用の第3トラップタンクと第3吸引ポン
プとをさらに設けることが好ましい。例えば第1実施例
に応用する場合、第1の配管28に接続される側のドレ
ン18を分岐して第3トラップタンクに接続してここに
プレ現像液を吸引させることができる。また、第2実施
例に応用する場合、3方弁58の一方のポートをさらに
別の3方弁で分岐して第3トラップタンクに接続するな
どの方法によって第3トラップタンクにプレ現像液を吸
引させることができる。
【0026】また、純水を純度の高い純水(以下「高純
度純水」という)と現像液が混入した純水(以下「低純
度純水」という)とに分離することもできる。この場
合、第2トラップタンク12aと第2ポンプ12bとが
高純度純水の回収用として機能させる一方、低純度純水
用の第4トラップタンクと第4吸引ポンプとをさらに設
ける。例えば第1実施例に応用する場合、第2の配管3
8に接続される側のドレン18に接続されるエアー弁4
8の代わりにエアー駆動の3方弁を用い、この3方弁の
1つのポートに第4トラップタンクを接続してここに低
純度純水を吸引させることができる。また、第2実施例
に応用する場合、3方弁58の一方のポートをさらに別
の3方弁で分岐して第4トラップタンクに接続するなど
の方法によって第4トラップタンクに低純度純水を吸引
させることができる。このように低純度純水を回収する
ために第4トラップタンク及び吸引ポンプを設けた場合
には、次のようにして低純度純水及び高純度純水を分離
回収可能となる。すなわち、まず、リンス処理工程の初
期段階では、現像液の一部が純水に混入するため、第4
吸引ポンプを作動させて低純度純水を第4トラップタン
クに回収する。リンス処理開始から一定時間が経過する
と、現像液の混入がなくなるので、第4吸引ポンプを停
止させる一方、第2吸引ポンプ12bを作動させて高純
度純水を第2トラップタンク12aに回収する。このよ
うに高純度純水と低純度純水とを分離することにより、
大がかりな処理を必要とする廃液を減らすことができ
る。また、この場合、第4トラップタンクに負圧が供給
されているので、低純度純水と高純度純水の切り換えが
迅速で、リンス処理の開始から短時間後に高純度純水を
取り出すことができる。
【0027】さらに、第1吸引ポンプ10bの動作は純
水が供給されていないときに限られるものでなく、また
第2吸引ポンプ12bの動作も現像液が供給されていな
いときに限られるものでない。例えば、高濃度での現像
液の再利用が優先される場合、現像液の供給開始から少
しずらして第1吸引ポンプ10bを動作させる。また、
回収される純水の純度を高めたい場合、純水の供給開始
から少しずらして第2吸引ポンプ12bを動作させる。
【0028】さらに、第1〜第3実施例では、各トラッ
プタンク10a、12aごとに吸引ポンプを設けたが、
単一の吸引ポンプをエアー駆動の3方弁で分岐してその
分岐ポートを、それぞれ第1及び第2トラップタンク1
0a、12a 接続し、この3方弁の切り換えによって
第1及び第2トラップタンク10a、12aの負圧を切
替えることができる。
【0029】さらに、吸引ポンプの代わりに、ベンチュ
リー作用により負圧を発生する装置などを負圧手段とし
て用いることができる。
【0030】さらに、ドレン18の個数及び形状も任意
である。ただし、ドレンの数が多いほど迅速な吸引が可
能になる。また、ドレンの径を小さくするほど、一般に
現像液と純水との相互の混入を減少させることができ
る。
【0031】さらに、本発明は、現像処理装置のみなら
ず、エッチング処理装置、剥離処理装置等、互いに異な
る種類の複数の処理液を基板に供給して表面処理を行う
基板処理装置全搬に適用することができる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の基板処
理装置では、切換手段が、第1及び第2の処理液をそれ
ぞれ吸引して回収する第1及び第2回収手段を、第1及
び第2処理液供給手段の動作と回転手段の動作とに同期
させて選択的に動作させるので、第1及び第2の処理液
をそれぞれ第1及び第2回収手段に高精度で分離して迅
速に回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例の基板処理装置の構造を示す図であ
る。
【図2】図1の基板処理装置の要部を示した図である。
【図3】図1の基板処理装置の動作を説明するタイミン
グチャートである。
【図4】第2実施例の基板処理装置の構造を示す図であ
る。
【図5】第3実施例の基板処理装置の構造を示す図であ
る。
【図6】従来技術の構造を示す図である。
【符号の説明】
2 基板 4a スピンチャック 4b 回転駆動装置 6a 主ノズル 6b 副ノズル 18 ドレン 10a 第1トラップタンク 10b 第1吸引ポンプ 12a 第2トラップタンク 12b 第2吸引ポンプ 14 駆動制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/304 361 S 21/306 (72)発明者 木瀬 一夫 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の表面に向けて、第
    1の処理液を供給する第1処理液供給手段と、 前記基板保持手段に保持された基板の表面に向けて、第
    1の処理液とは時系列的に異なる時点で第1の処理液と
    は異なる第2の処理液を供給する第2処理液供給手段
    と、 前記第1及び第2処理液供給手段からの第1若しくは第
    2の処理液の供給後に前記基板保持手段を回転させて、
    基板表面の処理液を振り切る回転手段と、 前記基板保持手段の回転にともなって基板表面から振り
    切られる第1及び第2の処理液を受けるカップと、 前記カップの底部にそれぞれ接続されるとともに、当該
    カップに受けられた処理液を吸引して回収する第1及び
    第2回収手段と、 前記第1及び第2の回収手段を、前記第1及び第2処理
    液供給手段の動作と回転手段の動作とに同期させて選択
    的に動作させる切換手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
JP3244894A 1994-03-02 1994-03-02 基板処理装置 Pending JPH07245466A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3244894A JPH07245466A (ja) 1994-03-02 1994-03-02 基板処理装置

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ID=12359253

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09152718A (ja) * 1995-11-28 1997-06-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 現像装置
JPH1057877A (ja) * 1996-05-07 1998-03-03 Hitachi Electron Eng Co Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
KR20120089187A (ko) * 2011-02-01 2012-08-09 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 액 처리 장치 및 액 처리 방법

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